説明

アルゴンガスの精製方法および精製装置

【課題】アルゴンガスの不純物含有率を効果的に低減することで、その後の吸着処理の負荷を低減し、アルゴンガスを高純度に精製できる方法と装置を提供する。
【解決手段】少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する際に、アルゴンガスにおける酸素モル濃度を一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2を超える値に設定し、次に、酸素を一酸化炭素および水素と反応させ、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、次に、水分含有率を脱水操作により低減する。次に、アルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加し、添加後のアルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定し、次に、酸素と添加された乾燥一酸化炭素とを反応させ、一酸化炭素を残留させた状態で二酸化炭素を生成する。しかる後に、アルゴンガスにおける不純物の含有率を吸着剤を用い低減する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、不純物として少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を含有するアルゴンガスを精製する方法と装置に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、シリコン単結晶引上げ炉、セラミック焼結炉、製鋼用真空脱ガス設備、太陽電池用シリコンプラズマ溶解装置、多結晶シリコン鋳造炉のような設備においては、アルゴンガスが炉内雰囲気ガス等として使用されている。そのような設備から再利用のため回収されたアルゴンガスは、水素、一酸化炭素、空気などの混入により純度が低下している。そこで、回収されたアルゴンガスの純度を高めるため、混入した不純物を吸着剤に吸着させることが行われている。さらに、そのような不純物の吸着を効率良く行うため、吸着処理の前処理として不純物中の酸素と可燃成分とを反応させることが提案されている(特許文献1、2参照)。
【0003】
特許文献1に開示された方法においては、アルゴンガスにおける酸素の量を、水素、一酸化炭素等の可燃成分を完全燃焼させるのに必要な化学量論量よりも僅かに少なくなるよう調節し、次に、一酸化炭素と酸素との反応よりも水素と酸素との反応を優先させるパラジウムまたは金を触媒として、アルゴンガスにおける酸素を一酸化炭素、水素等と反応させることで、一酸化炭素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、次に、アルゴンガスに含有される二酸化炭素と水を常温で吸着剤に吸着させ、しかる後に、アルゴンガスに含有される一酸化炭素と窒素を−10℃〜−50℃の温度で吸着剤に吸着させている。
【0004】
特許文献2に開示された方法においては、アルゴンガスにおけるの酸素の量を、水素、一酸化炭素等の可燃成分を完全燃焼させるのに十分な量とし、次に、パラジウム系の触媒を用いてアルゴンガスにおける酸素を一酸化炭素、水素等と反応させることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、次に、アルゴンガスに含有される二酸化炭素と水を常温で吸着剤に吸着させ、しかる後に、アルゴンガスに含有される酸素と窒素を−170℃程度の温度で吸着剤に吸着させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特許第3496079号公報
【特許文献2】特許第3737900号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献1に記載の方法では、前処理の段階でアルゴンガスにおける酸素の量を水素、一酸化炭素等を完全燃焼させるのに必要な化学量論量よりも少なくし、一酸化炭素と酸素との反応よりも水素と酸素との反応を優先させる触媒を用いることで、一酸化炭素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成している。しかし、未反応の一酸化炭素が水蒸気と水性ガスシフト反応を起こすことで水素が再生成され、水素の低減が要求される場合に対応できないという欠点がある。また、特許文献1に記載の方法では、不純物中の酸素と可燃成分とを反応させた後の吸着処理の段階で、二酸化炭素と水を常温で吸着剤に吸着させた後に、一酸化炭素と窒素を−10℃〜−50℃で吸着剤に吸着させている。そのような低温で一酸化炭素と窒素を吸着した吸着剤を再生する場合、一酸化炭素は窒素に比べて吸着剤から脱離させるのにエネルギーを要することから工業的に不利である。
【0007】
特許文献2に記載の方法では、前処理の段階でアルゴンガスにおけるの酸素の量を水素、一酸化炭素等を完全燃焼させるのに十分な量とすることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成している。しかし、酸素を吸着するには吸着時の温度を−170℃程度まで低下させる必要がある。すなわち、吸着処理の前処理で酸素を残留させるため、吸着処理の際の冷却エネルギーが増大し、精製負荷が大きくなるという問題がある。
【0008】
本発明は、上記のような従来技術の問題を解決できるアルゴンガスの精製方法および精製装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明方法は、少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する方法であって、前記アルゴンガスにおける酸素モル濃度が一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2以下である場合は、酸素を添加することで1/2を超える値に設定し、次に、前記アルゴンガスにおける酸素を一酸化炭素および水素と触媒を用いて反応させることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、次に、前記アルゴンガスにおける水分含有率を脱水操作により低減し、次に、前記アルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加することで、その添加後の前記アルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定し、次に、前記アルゴンガスにおける酸素を添加された乾燥一酸化炭素と触媒を用いて反応させることで、一酸化炭素を残留させた状態で二酸化炭素を生成し、しかる後に、前記アルゴンガスにおける不純物の含有率を吸着剤を用いて低減することを特徴とする。
本発明によれば、アルゴンガスにおける酸素を一酸化炭素および水素と反応させることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、次に、脱水操作によりアルゴンガスの水分含有率を低減している。よって、その後に添加する乾燥一酸化炭素は、水蒸気と水性ガスシフト反応を生じることなく、残留させた酸素と反応して二酸化炭素を生成する。これにより、水素を再生成することなくアルゴンガスの主な不純物を一酸化炭素、二酸化炭素、および窒素とすることができ、その後の吸着剤による不純物の吸着負荷を低減できる。
【0010】
前記アルゴンガスにおける不純物の含有率を吸着剤を用いて低減する際に、その不純物の中の少なくとも一酸化炭素と二酸化炭素を圧力スイング吸着法により吸着した後に、その不純物の中の少なくとも窒素を−10℃〜−50℃でのサーマルスイング吸着法により吸着するのが好ましい。
本発明によれば、脱水操作によりアルゴンガスの水分含有率を低減し、その後に酸素と反応させる一酸化炭素を乾燥ガスとしているので、圧力スイング吸着法により水分を吸着する必要はなく、圧力スイング吸着法による一酸化炭素の吸着を促進できる。これにより、サーマルスイング吸着法において、窒素に比べて吸着剤から脱離させるのにエネルギーを要する一酸化炭素の吸着を低減または不要にし、吸着処理の負荷を低減できる。
【0011】
本発明装置は、少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する装置であって、前記アルゴンガスが導入される第1反応器と、前記第1反応器に導入される前記アルゴンガスにおける酸素モル濃度が一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2以下である場合は、酸素を添加することで1/2を超える値に設定する第1濃度調節装置と、前記第1反応器から流出する前記アルゴンガスの水分含有率を脱水操作を行うことで低減する乾燥機と、前記乾燥機により水分含有率を低減された前記アルゴンガスが導入される第2反応器と、前記第2反応器に導入される前記アルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加することで、その添加後の前記アルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定する第2濃度調節装置と、前記第2反応器に接続される吸着装置とを備え、前記第1反応器内で前記アルゴンガスにおける酸素が一酸化炭素および水素と反応することで、酸素が残留した状態で二酸化炭素と水が生成されるように、前記第1反応器に触媒が充填され、前記第2反応器内で前記アルゴンガスにおける酸素が一酸化炭素と反応することで、一酸化炭素が残留した状態で二酸化炭素が生成されるように、前記第2反応器に触媒が充填され、前記吸着装置は、前記第2反応器から流出する前記アルゴンガスにおける不純物の含有率を低減するための吸着剤を有することを特徴とする。
本発明装置によれば本発明方法を実施できる。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、アルゴンガスの不純物含有率を効果的に低減することで、その後の吸着処理の負荷を低減し、精製に要するエネルギーを少なくしてアルゴンガスを高純度に精製できる方法と装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明の実施形態に係るアルゴンガスの精製装置の構成説明図
【図2】本発明の実施形態に係るアルゴンガスの精製装置における圧力スイング吸着装置の構成説明図
【図3】本発明の実施形態に係るアルゴンガスの精製装置における温度スイング吸着装置の構成説明図
【発明を実施するための形態】
【0014】
図1に示すアルゴンガスの精製装置αは、例えば多結晶シリコン鋳造炉のようなアルゴンガス供給源1から供給される使用済アルゴンガスを回収して再利用できるように精製するもので、加熱器2、第1反応器3、第1濃度調節装置4、乾燥機5、第2反応器6、第2濃度調節装置7、冷却器8、および吸着装置9を備える。
【0015】
供給源αから供給されるアルゴンガスは、図外フィルター等により除塵され、ブロワ等のガス送り手段(図示省略)を介して加熱器2に導入される。精製対象のアルゴンガスに含有される不純物は少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素とされるが、二酸化炭素、炭化水素、水等の他の不純物を含有していてもよい。精製されるアルゴンガスにおける不純物の濃度は特に限定されず、例えば5モルppm〜40000モルppm程度とされる。加熱器2によるアルゴンガスの加熱温度は、各反応器3、6における反応を完結するためには250℃以上にするのが好ましく、触媒の寿命短縮を防止する観点から450℃以下とするのが好ましい。
【0016】
加熱器2により加熱されたアルゴンガスは第1反応器3に導入される。第1濃度調節装置4は、第1反応器3に導入されるアルゴンガスにおける酸素モル濃度が一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2以下である場合は、酸素を添加することで1/2を超える値に設定する。本実施形態の第1濃度調節装置4は、濃度測定器4a、酸素供給源4b、酸素量調整器4c、及びコントローラ4dを有する。濃度測定器4aは、第1反応器3に導入されるアルゴンガスにおける酸素モル濃度、一酸化炭素モル濃度、および水素モル濃度を測定し、その測定信号をコントローラ4dに送る。コントローラ4dは、測定された酸素モル濃度が一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度の和の1/2以下である場合は、1/2を超える値にするのに必要な酸素量に対応する制御信号を酸素量調整器4cに送る。酸素量調整器4cは、酸素供給源4bから第1反応器3へ到る流路を、制御信号に応じた量の酸素が供給されるように開度調整する。これにより、精製対象のアルゴンガスにおける酸素モル濃度は一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2を超える値に設定される。
【0017】
第1反応器3に、酸素を水素および一酸化炭素と反応させる触媒が充填される。これにより、第1反応器3内でアルゴンガスにおける酸素が一酸化炭素および水素と反応することにより、酸素が残留した状態で二酸化炭素と水が生成される。なお、多結晶シリコン鋳造炉等から回収されるアルゴンガスは可燃成分として炭化水素を含むが、そのモル濃度は水素と一酸化炭素の合計モル濃度の通常は1/100以下である。よって、通常は一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2を僅かに超えるように酸素モル濃度を設定すれば、酸素が残留した状態で二酸化炭素と水を生成できる。第1反応器3に充填される触媒は、酸素を一酸化炭素および水素と反応させるものであれば特に限定されず、例えば、白金、白金合金、パラジウム等をアルミナ等に担持した触媒を用いることができる。
【0018】
乾燥機5は、第1反応器3から流出するアルゴンガスの水分含有率を脱水操作を行うことで低減する。乾燥機5としては市販のものを用いればよく、例えばアルゴンガスを加圧して吸着剤により水分を除去し、吸着剤を減圧下で再生させる加圧式脱水装置、アルゴンガスを加圧冷却して凝縮された水分を除去する冷凍式脱水装置、アルゴンガスに含まれる水分を脱水剤により除去し、脱水剤を加熱して再生させる加熱再生式脱水装置等を用いることができ、加熱再生式脱水装置が水分含有率を効果的に低減する上で好ましい。
【0019】
乾燥機5により脱水処理されて水分含有率を低減されたアルゴンガスは第2反応器6に導入される。第2濃度調節装置7は、第2反応器6に導入される脱水処理されたアルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加することで、その添加後のアルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定する。本実施形態の第2濃度調節装置7は、濃度測定器7a、乾燥一酸化炭素供給源7b、一酸化炭素量調整器7c、及びコントローラ7dを有する。濃度測定器7aは、第2反応器6に導入されるアルゴンガスにおける酸素モル濃度と一酸化炭素モル濃度を測定し、その測定信号をコントローラ7dに送る。コントローラ7dは、測定された一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値にするのに必要な一酸化炭素量に対応する制御信号を一酸化炭素量調整器7cに送る。一酸化炭素量調整器7cは、乾燥一酸化炭素供給源7bから第2反応器6へ到る流路を、制御信号に応じた量の乾燥一酸化炭素が供給されるように開度調整する。これにより、精製対象のアルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度は酸素モル濃度の2倍を超える値に設定される。
【0020】
第2反応器6に、酸素を一酸化炭素と反応させる触媒が充填される。これにより、第2反応器6内でアルゴンガスにおける酸素が一酸化炭素と反応することにより、一酸化炭素が残留した状態で二酸化炭素が生成される。第2反応器6に充填される触媒は酸素を一酸化炭素と反応させるものであれば特に限定されず、例えば、白金、白金合金、パラジウム等をアルミナ等に担持した触媒を用いることができる。
【0021】
冷却器8は第2反応器6に接続され、第2反応器6から流出するアルゴンガスを冷却する。冷却器8によって冷却されたアルゴンガスが吸着装置9に導入される。
【0022】
吸着装置9は、第2反応器6から流出するアルゴンガスにおける不純物の含有率を低減するための吸着剤を有する。本実施形態の吸着装置9は、アルゴンガスにおける不純物の吸着を常温での圧力スイング吸着法により行なうPSAユニット10と、−10℃〜−50℃でのサーマルスイング吸着法により行うTSAユニット20を有し、圧力スイング吸着法での吸着後にサーマルスイング吸着法による吸着を行う。
【0023】
PSAユニット10は公知のものを用いることができる。例えば図2に示すPSAユニット10は4塔式であり、第2反応器6から流出するアルゴンガスを圧縮する圧縮機12と、4つの第1〜第4吸着塔13を有し、各吸着塔13に吸着剤が充填されている。その吸着剤としては一酸化炭素および二酸化炭素の吸着に適したものが用いられ、例えばゼオライト系ではCaA型がよくカーボン系ではカーボンモレキュラーシーブが好ましい。
圧縮機12は、各吸着塔13の入口13aに切替バルブ13bを介して接続される。吸着塔13の入口13aそれぞれは、切替バルブ13eおよびサイレンサー13fを介して大気中に接続される。
吸着塔13の出口13kそれぞれは、切替バルブ13lを介して流出配管13mに接続され、切替バルブ13nを介して昇圧配管13oに接続され、切替バルブ13pを介して均圧・洗浄出側配管13qに接続され、流量制御バルブ13rを介して均圧・洗浄入側配管13sに接続される。
流出配管13mは、圧力調節バルブ13tを介してTSAユニット20に接続され、TSAユニット20に導入されるアルゴンガスの圧力が一定とされる。
昇圧配管13oは、流量制御バルブ13u、流量指示調節計13vを介して流出配管13mに接続され、昇圧配管13oでの流量が一定に調節されることにより、TSAユニット20に導入されるアルゴンガスの流量変動が防止される。
均圧・洗浄出側配管13qと均圧・洗浄入側配管13sは、一対の連結配管13wを介して互いに接続され、各連結配管13wに流量制御バルブ13xが設けられている。
【0024】
PSAユニット10の第1〜第4吸着塔13それぞれにおいて、吸着工程、洗浄出工程、均圧出工程、脱着工程、洗浄工程、均圧工程、昇圧工程が順次行われる。
すなわち、反応器3から供給されるアルゴンガスは圧縮機12から切替バルブ13bを介して第1吸着塔13に導入され、また、第1吸着塔13では切替バルブ13lのみが切替バルブ13bと同時に開けられる。これにより、第1吸着塔13において導入されたアルゴンガス中の少なくとも二酸化炭素および水分が吸着剤に吸着されることで吸着工程が行われ、不純物の含有率が低減されたアルゴンガスが第1吸着塔13から流出配管13mを介してTSAユニット20に送られる。この際、流出配管13mに送られたアルゴンガスの一部は、昇圧配管13o、流量制御バルブ13uを介して別の吸着塔(本実施形態では第2吸着塔13)に送られ、第2吸着塔13において昇圧工程が行われる。
次に、第1吸着塔13の切替バルブ13b、13lを閉じ、切替バルブ13pを開け、別の吸着塔(本実施形態では第3吸着塔13)の流量制御バルブ13rを開け、切替バルブ13xの中の1つを開ける。これにより、第1吸着塔13の上部の比較的不純物含有率の少ないアルゴンガスが、均圧・洗浄入側配管13sを介して第3吸着塔13に送られ、第1吸着塔13において洗浄出工程が行われる。この際、第3吸着塔13においては切替バルブ13eが開かれ、洗浄工程が行われる。
次に、第1吸着塔13の切替バルブ13pと第3吸着塔13の流量制御バルブ13rを開けたまま、第3吸着塔13の切替バルブ13eを閉じることで、第1吸着塔13において内部圧力の均一化を図る均圧出工程が行われる。この際、切替バルブ13xは場合に応じ2つとも開けてもよい。
次に、第1吸着塔13の切替バルブ13eを開け、切替バルブ13pを閉じることにより、吸着剤から不純物を脱着する脱着工程が行われ、不純物はガスと共にサイレンサー13fを介して大気中に放出される。
次に、第1吸着塔13の流量制御バルブ13rを開け、吸着工程を終わった状態の第3吸着塔13の切替バルブ13b、13lを閉じ、切替バルブ13pを開ける。これにより、第3吸着塔13の上部の比較的不純物含有率の少ないアルゴンガスが、均圧・洗浄入側配管13sを介して第1吸着塔13に送られ、第1吸着塔13において洗浄工程が行われる。第1吸着塔13において洗浄工程で用いられたガスは、切替バルブ13e、サイレンサー13fを介して大気中に放出される。この際、第3吸着塔13では洗浄出工程が行われる。次に第3吸着塔の切替バルブ13pと第1吸着塔13の流量制御バルブ13rを開けたまま第1吸着塔の切替バルブ13eを閉じることで均圧工程が行われる。この際、切替バルブ13xは場合に応じ2つとも開けてもよい。
しかる後に、第1吸着塔13の切替バルブ13e、流量制御バルブ13rを閉じ、切替バルブ13nを開き、吸着工程にある別の吸着塔(本実施形態では第4吸着塔13)から流出配管13mに送られたアルゴンガスの一部が、昇圧配管13o、流量制御バルブ13uを介して第1吸着塔13に送られ、第1吸着塔13において昇圧工程が行われる。
上記の各工程が第1〜第4吸着塔13それぞれにおいて順次繰り返されることで、不純物含有率を低減されたアルゴンガスがTSAユニット20に連続して送られる。
なお、PSAユニット10は図2に示すものに限定されず、例えば塔数は4以外、例えば2でも3でもよい。
【0025】
TSAユニット20は公知のものを用いることができる。例えば図3に示すTSAユニット20は2塔式であり、PSAユニット10から送られてくるアルゴンガスを予冷する熱交換型予冷器21と、予冷器21により冷却されたアルゴンガスを更に冷却する熱交換型冷却器22と、2つの吸着塔23、各吸着塔23を覆う熱交換部24を有する。熱交換部24は、吸着工程時には冷媒で吸着剤を冷却し、脱着工程時には熱媒で吸着剤を加熱する。各吸着塔23は、吸着剤が充填された多数の内管を有する。その吸着剤としては窒素の吸着に適したものが用いられ、例えばカルシウム(Ca)またはリチウム(Li)でイオン交換されたゼオライト系吸着剤を用いるのが好ましく、さらに、イオン交換率70%以上、比表面積600m2 以上とするのが特に好ましい。
冷却器22は、各吸着塔23の入口23aに流量制御バルブ23bを介して接続される。吸着塔23の入口23aのそれぞれは、流量制御バルブ23cを介して大気へ排出される。
吸着塔23の出口23eのそれぞれは、流量制御バルブ23fを介して流出配管23gに接続され、流量制御バルブ23hを介して第1洗浄用配管23iに接続され、流量制御バルブ23jを介して第2洗浄用配管23kに接続される。
流出配管23gは予冷器21の一部を構成し、流出配管23gから流出する精製されたアルゴンガスによりPSAユニット10から送られてくるアルゴンガスが冷却される。流出配管23gから精製されたアルゴンガスが流量制御バルブ23lを介し流出される。
各洗浄用配管23i、23kは、チェックバルブ23m、流量制御バルブ23n、開閉バルブ23oを介して流出配管23gに接続される。
熱交換部24は多管式とされ、吸着塔23を構成する多数の内管を囲む外管24a、冷媒供給源24b、冷媒用ラジエタ24c、熱媒供給源24d、熱媒用ラジエタ24eで構成される。また、冷媒供給源24bから供給される冷媒を外管24a、冷媒用ラジエタ24cを介して循環させる状態と、熱媒供給源24dから供給される熱媒を外管24a、熱媒用ラジエタ24eを介して循環させる状態とに切り換えるための複数の流量制御バルブ24fが設けられている。さらに、冷媒用ラジエタ24cから分岐する配管により冷却器22の一部が構成され、冷媒供給源24bから供給される冷媒によりアルゴンガスが冷却器22において冷却され、その冷媒はタンク24gに還流される。
【0026】
TSAユニット20において、PSAユニット10から供給されるアルゴンガスは予冷器21、冷却器22において冷却された後に、流量制御バルブ23bを介して一方の吸着塔23に導入される。この際、その吸着塔23は熱交換部24において冷媒が循環することで−10℃〜−50℃に冷却される状態とされ、流量制御バルブ23c、23h、23jは閉じられ、流量制御バルブ23fは開かれ、アルゴンガスに含有される少なくとも窒素は吸着剤に吸着される。これにより、不純物の含有率が低減された精製アルゴンガスが吸着塔23から流量制御バルブ23lを介して流出される。次に、その吸着塔23の流量制御バルブ23b、23fが閉じられ、流量制御バルブ23c、23h、23jが開かれ、その吸着塔23は熱交換部24において熱媒が循環することで加熱される状態とされる。これにより、その吸着塔23に精製アルゴンガスの一部が洗浄ガスとして両洗浄用配管23i、23kを介して導入される。これにより、その吸着塔23内で吸着剤からの不純物の脱着と吸着剤の再生が行われ、吸着塔23から流出する洗浄ガスは大気へ排出される。しかる後に、その吸着塔23に再びPSAユニット10から供給されるアルゴンガスが導入される。これにより、一方の吸着塔13においてアルゴンガスの冷却、不純物の吸着、アルゴンガスの加熱、不純物の脱着、吸着剤の再生の各工程が繰り返される。他方の吸着塔23においても同様に各工程が繰り返される。この際、一方の吸着塔23においてアルゴンガスの冷却と不純物の吸着が行われる間に、他方の吸着塔23においてアルゴンガスの加熱、不純物の脱着、吸着剤の再生が行われることで、アルゴンガスの精製が連続して行われる。
なお、TSAユニット20は図3に示すものに限定されず、例えば塔数は2以上、例えば3でも4でもよい。
【0027】
上記精製装置αによれば、少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を含有するアルゴンガスを精製する際に、そのアルゴンガスにおける酸素モル濃度を一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2を超える値に設定した後に、そのアルゴンガスにおける酸素を、一酸化炭素および水素と触媒を用いて反応させることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成する。これにより、アルゴンガスにおける主な不純物を二酸化炭素、水、酸素、および窒素としている。次に、そのアルゴンガスにおける水分含有率を脱水操作により低減した後に、そのアルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加することで、その添加後のアルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定し、その添加された乾燥一酸化炭素を酸素と触媒を用いて反応させることで、一酸化炭素を残留させた状態で二酸化炭素を生成している。これにより、アルゴンガスにおける主な不純物を二酸化炭素、一酸化炭素、および窒素としている。すなわち、アルゴンガスにおける酸素を一酸化炭素および水素と反応させることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、次に、脱水操作によりアルゴンガスの水分含有率を低減している。よって、その後に添加する乾燥一酸化炭素は、水蒸気と水性ガスシフト反応を生じることなく、残留させた酸素と反応して二酸化炭素を生成する。これにより、水素を再生成することなくアルゴンガスの主な不純物を一酸化炭素、二酸化炭素、および窒素とすることができ、その後の吸着剤による不純物の吸着負荷を低減できる。また、アルゴンガスにおける不純物の含有率を吸着剤を用いて低減する際に、不純物の中の少なくとも一酸化炭素と二酸化炭素を圧力スイング吸着法により吸着した後に、その不純物の中の少なくとも窒素を−10℃〜−50℃でのサーマルスイング吸着法により吸着している。その圧力スイング吸着法による吸着処理の前処理段階で、脱水操作によりアルゴンガスの水分含有率を低減し、その後に酸素と反応させる一酸化炭素を乾燥ガスとしているので、圧力スイング吸着法により水分を吸着する必要はなく、圧力スイング吸着法による一酸化炭素の吸着を促進できる。これにより、サーマルスイング吸着法において、窒素に比べて吸着剤から脱離させるのにエネルギーを要する一酸化炭素の吸着を低減または不要にし、吸着処理の負荷を低減できる。
【実施例1】
【0028】
上記精製装置αを用いてアルゴンガスの精製を行った。アルゴンガスは不純物として酸素を500モルppm、水素を20モルppm、一酸化炭素を1800モルppm、窒素を1000モルppm、二酸化炭素を20モルppm、水分を20モルppmそれぞれ含有する。このアルゴンガスを標準状態で3.74L/minの流量で第1反応器3に導入し、さらに、そのアルゴンガスに酸素を標準状態で3.4mL/minの流量で添加した。第1反応器3に、アルミナ担持のプラチナ触媒を45mL充填し、反応条件は温度300℃、大気圧、空間速度5000/hとした。
第1反応器3から流出するアルゴンガスにおける水分含有率を、モレキュラーシーブ4Aを吸着剤とする吸着式乾燥機5による脱水操作により低減した。
吸着式乾燥機から流出するアルゴンガスを第2反応器6に導入し、さらに、そのアルゴンガスに乾燥一酸化炭素を標準状態で3.4mL/minの流量で添加した。第2反応器6においては、アルミナ担持のプラチナ触媒を45mL充填し、反応条件は温度300℃、大気圧、空間速度5000/hとした。
第2反応器6から流出するアルゴンガスを冷却器8で冷却後に、吸着装置9により不純物の含有率を低減した。PSAユニット10は3塔式とし、各塔に吸着剤としてCaA型ゼオライトを1.25L充填し、吸着圧力は0.9MPa、脱着圧力は0.1MPaとした。
PSAユニット10により精製されたアルゴンガスをTSAユニット20に導入した。TSAユニット20は2塔式とし、各塔に吸着剤としてCaX型ゼオライト(イオン交換率90%以上、BET表面積600m2 /g)を1.5L充填し、吸着圧力は0.8MPa、吸着温度は−35℃、脱着圧力は0.1MPa、脱着温度は40℃とした。
TSAユニット20から流出する精製されたアルゴンガスの組成を以下の表1に示す。なお、精製されたアルゴンガスにおける酸素濃度はTeledyne社製微量酸素濃度計型式311により、一酸化炭素および二酸化炭素の濃度は島津製作所製GC-FIDを用いてメタナイザーを介して測定した。水素濃度についてはGLscience 社製GC-PIDを用いて測定した。
【実施例2】
【0029】
PSAユニット10で用いる吸着剤をカーボンモレキュラーシーブにした以外は実施例1と同様にしてアルゴンガスを精製した。その精製されたアルゴンガスの組成を以下の表1に示す。
【実施例3】
【0030】
TSAユニット20で用いる吸着剤をLiX型ゼオライトにした以外は実施例1と同様にしてアルゴンガスを精製した。その精製されたアルゴンガスの組成を以下の表1に示す。
【実施例4】
【0031】
TSAユニット20で用いる吸着剤を調製したCaX型ゼオライト(イオン交換率68%、BET表面積450m2 /g)にした以外は実施例1と同様にしてアルゴンガスを精製した。その精製されたアルゴンガスの組成を以下の表1に示す。
【比較例】
【0032】
乾燥機による脱水操作を行わなかった以外は実施例1と同様にしてアルゴンガスを精製した。その精製されたアルゴンガスの組成を以下の表1に示す。
【0033】
【表1】

【0034】
上記表1から、各実施例によれば比較例よりもアルゴンガスにおける水素濃度が低く、水蒸気と一酸化炭素との水性ガスシフト反応による水素の再生成を防止できることを確認でき、また、実施例1と比較例から脱水操作を行うことでアルゴンガスの純度を高めることができるのを確認できる。
【符号の説明】
【0035】
α…精製装置、3…第1反応器、4…第1濃度調節装置、5…乾燥機、6…第2反応器、7…第2濃度調節装置、9…吸着装置、10…PSAユニット、20…TSAユニット

【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する方法であって、
前記アルゴンガスにおける酸素モル濃度が一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2以下である場合は、酸素を添加することで1/2を超える値に設定し、
次に、前記アルゴンガスにおける酸素を一酸化炭素および水素と触媒を用いて反応させることで、酸素を残留させた状態で二酸化炭素と水を生成し、
次に、前記アルゴンガスにおける水分含有率を脱水操作により低減し、
次に、前記アルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加することで、その添加後の前記アルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定し、
次に、前記アルゴンガスにおける酸素を添加された乾燥一酸化炭素と触媒を用いて反応させることで、一酸化炭素を残留させた状態で二酸化炭素を生成し、
しかる後に、前記アルゴンガスにおける不純物の含有率を吸着剤を用いて低減することを特徴とするアルゴンガスの精製方法。
【請求項2】
前記アルゴンガスにおける不純物の含有率を吸着剤を用いて低減する際に、その不純物の中の少なくとも一酸化炭素と二酸化炭素を圧力スイング吸着法により吸着した後に、その不純物の中の少なくとも窒素を−10℃〜−50℃でのサーマルスイング吸着法により吸着する請求項1に記載のアルゴンガスの精製方法。
【請求項3】
少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する装置であって、
前記アルゴンガスが導入される第1反応器と、
前記第1反応器に導入される前記アルゴンガスにおける酸素モル濃度が一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の1/2以下である場合は、酸素を添加することで1/2を超える値に設定する第1濃度調節装置と、
前記第1反応器から流出する前記アルゴンガスの水分含有率を脱水操作を行うことで低減する乾燥機と、
前記乾燥機により水分含有率を低減された前記アルゴンガスが導入される第2反応器と、
前記第2反応器に導入される前記アルゴンガスに乾燥一酸化炭素を添加することで、その添加後の前記アルゴンガスにおける一酸化炭素モル濃度を酸素モル濃度の2倍を超える値に設定する第2濃度調節装置と、
前記第2反応器に接続される吸着装置とを備え、
前記第1反応器内で前記アルゴンガスにおける酸素が一酸化炭素および水素と反応することで、酸素が残留した状態で二酸化炭素と水が生成されるように、前記第1反応器に触媒が充填され、
前記第2反応器内で前記アルゴンガスにおける酸素が一酸化炭素と反応することで、一酸化炭素が残留した状態で二酸化炭素が生成されるように、前記第2反応器に触媒が充填され、
前記吸着装置は、前記第2反応器から流出する前記アルゴンガスにおける不純物の含有率を低減するための吸着剤を有することを特徴とするアルゴンガスの精製装置。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate


【公開番号】特開2011−173769(P2011−173769A)
【公開日】平成23年9月8日(2011.9.8)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−40209(P2010−40209)
【出願日】平成22年2月25日(2010.2.25)
【出願人】(000195661)住友精化株式会社 (352)
【Fターム(参考)】