説明

ガスハイドレートの精製方法

【課題】水又は海水と天然ガスとから生成されるガスハイドレート含むスラリーを、簡易な設備で精製して純度の高いガスハイドレートを得ることができるガスハイドレートの精製方法を提供する。
【解決手段】水と天然ガス8とから生成したガスハイドレートを含むスラリー6を、内部温度が0〜10℃である高圧容器2内において、外部から天然ガス8を吹き込みつつピストン3により5〜30MPaの圧力Pで加圧することによりガスハイドレートの結晶18を成長させて結晶18と水との共存状態を形成し、天然ガス8の吹き込みを継続しながら圧力Pを保持することにより結晶18を圧搾して結晶18間に残留する水を絞り出し、高圧容器2内の水を外部へ排出した後に高圧容器2の内部温度を−47〜−5℃に降温して結晶18を安定化する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明はガスハイドレートの精製方法に関し、更に詳しくは水又は海水と天然ガスとの反応により生成されたガスハイドレートから、純度の高いガスハイドレートの固化体を製造するガスハイドレートの精製方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、天然ガスの安全かつ経済的な輸送・貯蔵手段として、天然ガスの固体状の水和物であるガスハイドレートを用いる方法が注目されている。特に、海底に存在する中小規模の天然ガス田においては、製造プラント等に高額の初期投資を要するLNG輸送が経済的に成り立たないため、その利用が有望視されている。
【0003】
一般にガスハイドレートは、原料水と天然ガスを低温・高圧下で反応させることで生成されるが、生成されたガスハイドレートは未反応の原料水との混合物(スラリー)となるため、このスラリーを脱水(精製)してガスハイドレートを固形化することが必要となる。スラリーの精製には、現状では重力脱水方式(例えば、特許文献1を参照)が用いられているが、大規模な設備が必要となるため、中小規模の天然ガス田の海上掘削施設に設置することは困難であるという問題があった。
【0004】
更に、そのような海上掘削施設においては、淡水を入手することが困難であるため、製造コスト低減の観点から、海水を原料水として直接用いることが計画されている。しかし、海水中に含まれる塩分によりガスハイドレートの生成速度が低下したり、生成されたガスハイドレートの分解速度が上昇したりしてしまうことが、これまでの研究から明らかになってきている(例えば、非特許文献2を参照)。
【0005】
そのため、海水と天然ガスからガスハイドレートを生成した場合には、スラリーから水分と共に塩分を分離して精製する必要があるが、上述した重力脱水方式では、塩分を十分に分離することができないという問題もあった。
【0006】
【特許文献1】特開2005−263675号公報
【非特許文献1】松尾、外6名、「NGHシステムのプロセス開発(第2報)−NGHによる天然ガス輸送システムを実証−」、三井造船技報、三井造船株式会社、2005年2月、第184号、p.38−45
【非特許文献2】de Roo, J.L., Peters, C.J., Lichtenthaler, R.N., Dipen, G.A.M., "Occurrence of methane hydrate in saturated and unsaturated solutions of sodium chloride and water in dependence of temperature and pressure", AlChe Journal, 29, 651(1983)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の目的は、水又は海水と天然ガスとから生成されるガスハイドレートを含むスラリーを、簡易な設備で精製して純度の高いガスハイドレートを得ることができるガスハイドレートの精製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記の目的を達成するため、請求項1に係る本発明のガスハイドレートの精製方法は、水と天然ガスとから生成したガスハイドレートを含むスラリーを、内部温度が0〜10℃である高圧容器内において、外部から該天然ガスを吹き込みつつ5〜30MPaの圧力Pで加圧することにより前記ガスハイドレートの結晶を成長させて該結晶と該水との共存状態を形成し、該天然ガスの吹き込みを継続しながら前記圧力Pを保持することにより前記結晶を圧搾して該結晶間に残留する水を絞り出し、前記高圧容器内の水を外部へ排出した後に前記高圧容器の内部温度を−47〜−5℃に降温して前記結晶を安定化することを特徴とするものである。
【0009】
この請求項1に係る発明においては、高圧容器内の水を外部へ排出した後にその高圧容器の内部温度を−20℃に降温して結晶を安定化することが望ましい。
【0010】
請求項3に係る本発明のガスハイドレートの精製方法は、海水と天然ガスとから生成したガスハイドレートを含むスラリーを、内部温度が−5〜5℃である高圧容器内において、外部から該天然ガスを吹き込みつつ5〜30MPaの圧力Pまで加圧することにより前記ガスハイドレートの結晶を成長させて該結晶と液体との共存状態を形成し、該天然ガスの吹き込みを継続しながら前記圧力Pを保持することにより前記結晶を圧搾して該結晶間に残留する水を絞り出し、前記高圧容器の内部温度を−10〜−5℃に降温して前記液体を氷化し、前記高圧容器内を前記圧力Pに20〜30MPaの圧力を付加した圧力Pまで加圧することにより前記氷化された液体の表面を部分融解し、前記高圧容器内の液体を外部へ排出した後に前記高圧容器の内部温度を−47〜−5℃に降温して前記結晶を安定化することを特徴とするものである。
【0011】
この請求項3に係る発明においては、高圧容器内の液体を外部へ排出した後にその高圧容器の内部温度を−20℃に降温して結晶を安定化することが望ましい。
【発明の効果】
【0012】
請求項1に係る本発明のガスハイドレートの精製方法によれば、水と天然ガスとから生成したガスハイドレートを含むスラリーを、内部温度が0〜10℃である高圧容器内において、外部から天然ガスを吹き込みつつ5〜30MPaの圧力Pで加圧することによりガスハイドレートの結晶を成長させて結晶と該水との共存状態を形成し、天然ガスの吹き込みを継続しながら圧力Pを保持することにより結晶を圧搾して結晶間に残留する水を絞り出し、高圧容器内の水を外部へ排出した後に高圧容器の内部温度を−47〜−5℃に降温して前記結晶を安定化するようにしたので、主にシリンダー状の高圧容器、その内部を上下動するピストン及び高圧容器の底面に脱着可能に固定された下蓋からなる精製容器を用いて、高純度のガスハイドレートを得ることができるため、簡易な設備でガスハイドレートの純度の高い精製を行うことができる。
【0013】
請求項3に係る本発明のガスハイドレートの精製方法によれば、海水と天然ガスとから生成したガスハイドレートを含むスラリーを、内部温度が−5〜5℃である高圧容器内において、外部から天然ガスを吹き込みつつ5〜30MPaの圧力Pまで加圧することによりガスハイドレートの結晶を成長させて結晶と液体との共存状態を形成し、天然ガスの吹き込みを継続しながら圧力Pを保持することにより結晶を圧搾して結晶間に残留する水を絞り出し、高圧容器の内部温度を−10〜−5℃に降温して液体を氷化し、高圧容器内を圧力Pに20〜30MPaの圧力を付加した圧力Pまで加圧することにより氷化された液体の表面を部分融解し、高圧容器内の液体を外部へ排出した後に高圧容器の内部温度を−47〜−5℃に降温して結晶を安定化するようにしたので、請求項1に係る発明と同様に簡易な設備でガスハイドレートの純度の高い精製を行うことができると共に、海水をガスハイドレート生成の原料水として用いることができるため、ガスハイドレートの製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0014】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【0015】
図1は、本発明のガスハイドレートの精製方法を実施するための精製装置を、ガスハイドレートの生成装置と接続した構成の一例を示す。
【0016】
精製装置1は、シリンダー状の高圧容器2と、その内部を図示しない油圧機構により上下動するピストン3から主に構成される。高圧容器2の底部には脱着可能に下蓋4が固定されており、ピストン3の底面との間で晶析室5を形成している。高圧容器2の側面には、晶析室5内にスラリー6を導入するための給液バルブ7と天然ガス8を吹き込むための給気バルブ9、及び晶析室5から液体を排出するための排液バルブ10が接続されている。
【0017】
ガスハイドレートの生成装置11は、いわゆる気液撹拌式と呼ばれるものであり、内部が高圧(例えば、5.1Mpaなど)かつ低温(例えば、1〜5℃など)に維持された耐圧容器12内において、底部に設置されたスページャ13から原料水14中に気泡となって吹き出された天然ガスを撹拌羽根15で撹拌することにより、天然ガス8を水和させてガスハイドレートを生成するものである。生成したガスハイドレートは未反応の原料水14と混合したスラリー6となって送出ポンプ16により耐圧容器12の底部から生成装置11へ送り出される。送り出されたスラリー6の一部は、熱交換器17で反応熱が除去された後に、補充用の原料水14と共に耐圧容器12内へ戻される。なお、ガスハイドレートの生成装置2は、このような気液撹拌式に限るものではなく、例えば反応容器内に充満する天然ガスの上方から原料水を噴霧することによりガスハイドレートを生成する、いわゆる水スプレー式(例えば、特開2000−264852号公報を参照)の生成装置を採用することもできる。
【0018】
この精製装置1による水(淡水)を原料水14としたガスハイドレートの精製方法を、図2及び図3に基づき、(a)〜(f)の工程毎に以下に説明する。
【0019】
(a):水と天然ガス8から生成されるガスハイドレートを含むスラリー6を、温度がT(0〜10℃)に保たれた晶析室5内へ給液バルブ7を通じて供給すると、ピストン3が上方へ押し上げられる。
(b):スラリー6の供給が終了した後、晶析室5内に天然ガス8を吹き込みつつ、ピストン3により圧力がP(5〜60MPa)になるまでスラリー6を加圧する。この加圧によりガスハイドレートの結晶18の生成及び成長が開始され、晶析室5内はガスハイドレートの結晶(以下、単に「結晶」という。)18と水の固液共存状態となる。
(c):圧力Pに到達した後は、晶析室5内への天然ガス8の吹き込みを継続しながら圧力Pを保持することにより、結晶18を圧搾して粒界に存在する水を絞り出す。
(d):所定の期間、圧力Pを保持した後は、排液バルブ10を開いて晶析室5内の水を排出して固液分離を行いつつ、固体分である結晶18を圧縮する。
(e):この固液分離及び圧縮に伴い、晶析室5内の液圧が大気圧まで降下したら、排液バルブ10を閉じ、高圧容器2と下蓋4を覆う冷却ジャケット19などを用いて結晶18を−47〜−5℃の範囲の温度であるTまで冷却して、その分解を防止して安定化させる。
(f):安定化された結晶18の塊(ガスハイドレートペレット)20を、下蓋を開けて外部へ取り出し、Tの温度下で保管する。
【0020】
冷却温度Tが−47〜−5℃の範囲を外れると、図4に示すように、ガスハイドレートペレット20の自己保存性が発現しなくなるため、保管中にガスハイドレートペレット20が急激に分解してしまう。
【0021】
以上のような工程(a)〜(f)からなる精製方法により、水と天然ガスから生成されるガスハイドレートを含むスラリーを精製して、純度の高いガスハイドレートを得ることができるため、簡易な設備でガスハイドレートの精製を行うことができる。
【0022】
また、図4の結果から、上記の冷却温度Tは、好ましくは−30〜−10℃、より好ましくは−20℃とするのがよいことが分かる。
【0023】
また、この精製装置による海水を原料水としたガスハイドレートの精製方法を、図5及び図6に基づき、(g)〜(n)の工程毎に以下に説明する。
【0024】
(g):海水と天然ガス8から生成されるガスハイドレートを含むスラリー6を、温度がT(−5〜5℃)に保たれた晶析室5内へ給液バルブ7を通じて供給すると、ピストン3が上方へ押し上げられる。
(h):スラリー6の供給が終了したら、晶析室5内に天然ガス8を吹き込みつつ、ピストン3により圧力がP(5〜30MPa)になるまでスラリー6を加圧する。この加圧によりガスハイドレートの結晶18の生成及び成長が開始されるが、ガスハイドレートの結晶18は天然ガス分子と純水から構成されるため、海水中の塩分は液体中又は結晶粒界に残留することになる。そのため、晶析室5内は結晶18と主に塩水からなる液体との固液共存状態となる。
(i):圧力Pに到達して後は、晶析室5内への天然ガス8の吹き込みを継続しながら圧力Pを保持することにより、結晶18を圧搾して粒界に存在する液体を絞り出す。
(j):所定の期間、圧力Pを保持した後は、冷却ジャケット19を用いて晶析室5内をT(−10〜−5℃)まで冷却して液体を氷化する。このとき、氷化するのは主に水分であり、塩分は氷外に排出される。
(k):そして、ピストン3により更に20〜30MPaの圧力を付加し、圧力がP(25〜60MPa)になるまで晶析室5内を加圧すると、圧力上昇により氷の融点が低下して、塩分濃度の高い液体に接している結晶の表面から優先的に部分結晶融解(発汗現象)が起き、結晶18が高純度化される。
(l):所定の期間、圧力Pを保持して発汗現象を持続させた後に、排液バルブ10を開いて晶析室5内の水を排出して固液分離を行うと共に、固体分である結晶18を圧縮する。
(m):この固液分離及び圧縮に伴い、晶析室5内の液圧が大気圧まで降下したら、排液バルブ10を閉じ、冷却ジャケット19により結晶18を−47〜−5℃の範囲の温度であるTまで冷却して、その分解を防止して安定化させる。
(n):安定化された結晶18からなるガスハイドレートペレット20を、下蓋4を開けて外部へ取り出し、Tの温度下で保管する。
【0025】
上述した水を原料水14とするガスハイドレートの精製方法の場合と同じく、冷却温度Tが−47〜−5℃の範囲を外れると、ガスハイドレートペレット20の自己保存性が発現しなくなるため、保管中にガスハイドレートペレット20が急激に分解してしまう。
【0026】
以上のような工程(g)〜(n)からなる精製方法により、海水と天然ガスから生成されるガスハイドレートを含むスラリーを精製して、純度の高いガスハイドレートを得ることができるため、簡易な設備でガスハイドレートの精製を行うことができる。更に、海水をガスハイドレート生成の原料水として用いることができるため、ガスハイドレートの製造コストを低減することができる。
【0027】
また、図4の結果から、上記の冷却温度Tは、好ましくは−30〜−10℃、より好ましくは−20℃とするのがよいことが分かる。
【0028】
上述したいずれの精製方法においても、精製装置に供給するスラリーのガスハイドレート濃度は、5〜15重量%であることが望ましい。5重量%未満だと精製効率が低下し、15重量%を超えるとガスハイドレートの流動性が悪くなるため精製装置内へ供給することが困難となる。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】本発明のガスハイドレートの精製方法を実施する精製装置をガスハイドレート生成装置と接続した構成の一例である。
【図2】水と天然ガスから生成されるガスハイドレートを含むスラリーを精製する方法の説明図である。
【図3】図2に対応する精製装置の圧力及び温度変化を示した図である。
【図4】天然ガスに近い成分を原料とするガスハイドレートペレットの分解速度の温度依存性を示すグラフである。
【図5】海水と天然ガスから生成されるガスハイドレートを含むスラリーを精製する方法の説明図である。
【図6】図5に対応する精製装置の圧力及び温度変化を示した図である。
【符号の説明】
【0030】
1 精製装置
2 高圧容器
3 ピストン
4 下蓋
5 晶析室
6 スラリー
7 給液バルブ
8 天然ガス
9 給気バルブ
10 排液バルブ
11 ガスハイドレート生成装置
12 耐圧容器
13 スページャ
14 原料水
15 撹拌羽根
16 送出ポンプ
17 熱交換器
18 ガスハイドレートの結晶
19 冷却ジャケット
20 ガスハイドレートペレット

【特許請求の範囲】
【請求項1】
水と天然ガスとから生成したガスハイドレートを含むスラリーを、内部温度が0〜10℃である高圧容器内において、外部から該天然ガスを吹き込みつつ5〜30MPaの圧力Pで加圧することにより前記ガスハイドレートの結晶を成長させて該結晶と該水との共存状態を形成し、該天然ガスの吹き込みを継続しながら前記圧力Pを保持することにより前記結晶を圧搾して該結晶間に残留する水を絞り出し、前記高圧容器内の水を外部へ排出した後に前記高圧容器の内部温度を−47〜−5℃に降温して前記結晶を安定化するガスハイドレートの精製方法。
【請求項2】
前記高圧容器内の水を外部へ排出した後に前記高圧容器の内部温度を−20℃に降温して前記結晶を安定化する請求項1に記載のガスハイドレートの精製方法。
【請求項3】
海水と天然ガスとから生成したガスハイドレートを含むスラリーを、内部温度が−5〜5℃である高圧容器内において、外部から該天然ガスを吹き込みつつ5〜30MPaの圧力Pまで加圧することにより前記ガスハイドレートの結晶を成長させて該結晶と液体との共存状態を形成し、該天然ガスの吹き込みを継続しながら前記圧力Pを保持することにより前記結晶を圧搾して該結晶間に残留する水を絞り出し、前記高圧容器の内部温度を−10〜−5℃に降温して前記液体を氷化し、前記高圧容器内を前記圧力Pに20〜30MPaの圧力を付加した圧力Pまで加圧することにより前記氷化された液体の表面を部分融解し、前記高圧容器内の液体を外部へ排出した後に前記高圧容器の内部温度を−47〜−5℃に降温して前記結晶を安定化するガスハイドレートの精製方法。
【請求項4】
前記高圧容器内の液体を外部へ排出した後に前記高圧容器の内部温度を−20℃に降温して前記結晶を安定化する請求項3に記載のガスハイドレートの精製方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2009−221458(P2009−221458A)
【公開日】平成21年10月1日(2009.10.1)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−225849(P2008−225849)
【出願日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】(出願人による申告)平成17年〜平成18年度、独立行政法人石油天然ガス・金属鉱物資源機構「海水を用いた天然ガスハイドレート(NGH)製造の研究」委託事業、産業技術力強化法第19条の適用を受ける特許出願
【出願人】(000144049)株式会社三井造船昭島研究所 (27)
【出願人】(301021533)独立行政法人産業技術総合研究所 (6,529)