ガスハイドレートの製造方法とその製造装置
【課題】原料ガスと原料水とを気液接触させてガスハイドレートスラリーを生成し、これを脱水してガスハイドレートを製造する方法において、その生成条件（攪拌速度や温度等）と脱水条件（脱水時間や移送圧力など）により製造されるガスハイドレートの含水量が変化してしまい、最終製品として、例えば、圧縮成型されたガスハイドレートペレットの品質（平滑性、堅さ、耐分解性）が不均一となる問題を解決するガスハイドレートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させる。
【解決手段】ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスハイドレートの生成する雰囲気において原料水と原料ガスとを水和反応させて得られたガスハイドレートスラリーを脱水し、高濃度のガスハイドレートを生成する製造方法とその製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、クリーンなエネルギー源として、メタン等を主成分とする天然ガスが注目されている。このような天然ガスを効率よく輸送し又は貯蔵するために、この天然ガスを原料ガスとして、原料水と反応させてガスハイドレートを製造することが知られている。
【０００３】
ガスハイドレートを製造する方法としては、原料水中に原料ガスを吹き込みながら攪拌する気液攪拌方式（例えば、特許文献１）と、原料ガス中に原料水をスプレーする水スプレー方式（例えば、特許文献２）がある。
【０００４】
前記気液攪拌方式や水スプレー方式により生成したガスハイドレートは、その粒径が小さく（例えば３０〜５０ｍμ程度）、かつ未反応の水と混合したスラリーとして生成される。よって、このスラリーを後流側に配置された脱水塔で未反応の水を分離して比較的含水率の低い（すなわち高濃度の）シャーベット状のガスハイドレートとし、さらにこのシャーベット状のガスハイドレートを造粒機等でペレット化し、ペレット状のガスハイドレートとして貯蔵又は輸送することが知られている（例えば、特許文献３）。
【０００５】
この特許文献３記載のガスハイドレートの製造装置においては、スラリー中のガスハイドレートの濃度は、生成器でのガスハイドレートの生成効率や後流側へ配置された機器への輸送効率などから約１０％以下の範囲から選択され、その選択されたガスハイドレート濃度が得られるように各機器が設計されかつその運転条件が設定されている。そして、脱水塔でガスハイドレートの濃度が約１０〜５０パーセントの広い範囲の濃度のシャーベット状のガスハイドレートが生成され、そして、この粉末状のガスハイドレートは、一対の成形ロールを有する圧縮成型機でペレット化される過程で、さらに未反応の水が分離され約８０〜９０％のガスハイドレートの濃度を有するペレット状のガスハイドレートが製造される。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３０２７０１号公報
【特許文献２】特開２０００−２６４８５２号広報
【特許文献３】特開２００２―２２０３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、前記したようなガスハイドレート製造装置においては、ガスハイドレートペレットの品質が不揃いになるという虞があった。すなわち、脱水塔から圧縮成型機に供給されるガスハイドレートスラリーの濃度は、この脱水塔に供給される生成器からのスラリーの濃度や脱水塔の脱水性能等により変化する。従って、濃度の異なるガスハイドレートが圧縮成型機に供給された場合、ガスハイドレート充填率や硬度等の品質に不揃いが生じる。さらに、このような品質の不揃いは、ガスハイドレートペレットの輸送や貯蔵にも悪影響を与えるという虞があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記したような従来の問題点を解決するためのガスハイドレートの製造方法であって、
１）ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させることを特徴としている。
２）ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌して反応させてガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくすることを特徴としている。
３）前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴としている。
４）前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴としている。
５）前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内にインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレート中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴としている。
【０００９】
また、ガスハイドレートスラリーの製造装置は、
６）原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記生成器における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記生成器における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させるように構成したことを特徴としている。
７）原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくするように構成したことを特徴としている。
８）前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴としている。
９）前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴としている。
１０）前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明した本発明によるガスハイドレートの製造方法によれば、次のような効果を生ずる。
【００１１】
ガスハイドレートスラリーの濃度をインライン計測型ガスハイドレート濃度計を用いてリアルタイムで計測できるようになり、生成されるガスハイドレートの濃度が予め設定した濃度となり、そのバラツキが抑制され、ガスハイドレートペレットの品質が安定する。
【００１２】
また、従来のように、生成されたガスハイドレートスラリーやガスハイドレートペレットを作業者が取り出して濃度を計測することが不要となり、計測する手間が省かれると同時に計量に伴う引火等の危険性がなくなる。
【００１３】
更に、濃度の計測に近赤外線水分計を用いたので、測定が迅速且つ正確であり、そのため、生成器の攪拌速度やスラリーの導入速度等の各種制御が迅速且つ正確になされ、均一な品質のガスハイドレートが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図１乃至図４に基づき本発明によるガスハイドレートの製造方法について説明する。
【００１５】
（実施例１）
図１は、本発明に係るガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の系統図である。この図において、ガスハイドレート製造装置は、気液攪拌方式によるガスハイドレートの生成器１が用いられている。この生成器１は、耐圧容器５と、この耐圧容器５内の原料水を冷却する熱交換器７、耐圧容器５の内部に配置された攪拌翼６ａ及びガス噴出管９（スページャ）と、攪拌翼６ａが設けられた軸６ｂを回転させる電動機等の駆動機Ｍ１とより構成されている。
【００１６】
前記生成器１には、メタン等の原料ガスＧ１を導入するガス供給ラインＬ５と、原料水Ｗ１を導入する水供給ラインＬ６と、ガス循環ブロワＢ１を有する原料ガスＧ１のガス循環ラインＬ１と、熱交換器７を有するブライン循環ラインＬ１０と、後述する脱水塔２にそれぞれ一端が接続されたスラリーラインＬ２及び未反応の水Ｗ２の戻しラインＬ３がそれぞれ接続されている。前記スラリーラインＬ２にはスラリーポンプＰ１が設けられており、戻しラインＬ３にはポンプＰ２が設けられている。
【００１７】
脱水塔２は、筒状本体１１で構成され、上部に排水孔１１ａが設けられるとともにこの排水孔１１ａを覆いかつ筒状本体１１の周囲に排水室１２が形成されている。そして、この脱水塔２には、前記したスラリーラインＬ２と未反応の水Ｗ２の戻しラインＬ３と、ガスハイドレートｈ１の取り出しラインＬ４とが接続されると共に、排水室１２に排気管Ｌ７が取り付けられている。更に、脱水塔２の上部には、インライン計測形水分計Ｋ３が取り付けられ、この水分計Ｋ３の信号Ｖ１は、演算装置４０に入力されるようになっている。演算装置４０は、演算器４１と記憶装置４３と比較器４２より構成されている。４４は表示器、４５は出力紙である。
【００１８】
前記インライン計測形水分計Ｋ３は近赤外線水分計であり、例えば、防爆等級がＥｘｄIIＢ Ｔ４以上の耐圧防爆構造のものを使用し、メタンガス等の爆発性ガスを原料ガスとして使用するガスハイドレートの製造装置において安全に使用できるようになっている。
【００１９】
この近赤外線水分計は、ガスハイドレートに波長の異なる少なくとも２つの光線を照射し、ガスハイドレートからの反射光を検出器に集光してこのガスハイドレートに含まれる未反応水の濃度に応じた赤外線の吸収量から含水量を計測している。よって、応答性がよく、計測時間が非常に短いという特徴がある。
【００２０】
また、脱水塔２においては、排気管Ｌ７から排水室１２内のガスＧ２の一部が排出されるためこの排水室１２内の圧力Ａ２は、脱水塔２内の圧力Ａ１より低くなっている。そのため、排水孔１１ａより未反応水Ｗ２が吸引されるので濾過効率と脱水率が高められるようになっている。
【００２１】
そして、インライン計測形水分計Ｋ３により、得られたシャーベット状のガスハイドレートｈ１の水分量は、ガスハイドレート濃度の信号Ｖ１に変換され、該ガスハイドレート濃度信号Ｖ１は、演算装置４０を構成する演算器４１に入力されここでその濃度ｄ１が求められる。この濃度ｄ１は、比較器４２に入力されここで記憶装置４３に予め入力されている所定の濃度ｄ２と比較され、その結果が表示器２９や出力紙３０に出力される。したがって、作業者等はこの表示器４４や出力紙４５を目視することにより継続し、かつ正確にガスハイドレートｈ１の濃度を知ることが出来る。そして、この測定された濃度ｄ１が異常に変化したときは、この濃度を変化させる要因を調整する。
【００２２】
すなわち、この測定した濃度ｄ１が設定した濃度ｄ２より高いとき（測定された含水量が設定よりも低いとき）は、脱水塔２内に供給されるスラリーＳの供給量を多くするか、又は排水室１２内の圧力Ａ２を高めて脱水塔２内の圧力Ａ１との圧力差を小さくする。もちろん、この測定した濃度ｄ１が設定した濃度ｄ２よりも低いときは、前記と逆の調整が行われる。
【００２３】
また、測定した濃度ｄ１が、設定された濃度ｄ２よりも高いとき（測定された含水量が設定よりも低いとき）は、生成器１内の攪拌速度を速くするか、又は生成器１内の温度を低下させる。もちろん、この測定した濃度ｄ１が設定された濃度ｄ２よりも低いとき、前記と逆の調整が行われる。
【００２４】
かかる構成において、所定の温度と圧力、例えば、圧力が３〜１０ＭＰａ、温度が０〜１０℃の範囲から選択された所定の圧力Ａ１と温度Ｔ１が保持されている生成器１の耐圧容器５内にガス供給ラインＬ５から原料ガスＧ１と、水供給ラインＬ６から原料水Ｗ１とがそれぞれ導入される。そして、原料ガスＧ１は、ガス循環ブロワＢ１によりガス循環ラインＬ１を経てスページャ９に供給され、ここから原料水Ｗ１中に噴出され駆動機Ｍ１により回転される攪拌翼６ａにより攪拌されてガスハイドレートと未反応の水Ｗ２とよりなるスラリーＳ１（混合ハイドレート）が生成される。このスラリーＳのガスハイドレートの濃度は、生成器１でのガスハイドレートの生成効率や後流側に配置された機器への輸送効率などから約１０％以下となるように制御されるのが好ましい。
【００２５】
このガスハイドレートの生成工程において発生する反応熱は、ブライン循環ラインＬ１０に設けられた熱交換器７により除去され、耐圧容器５内は選択された所定の温度Ｔ１に保持される。
【００２６】
このようにして生成されたスラリーＳは、スラリーポンプＰ１によりスラリーラインＬ２を経て脱水塔２に供給され、この脱水塔２内を上昇する過程において排水孔１１ａで未反応の水Ｗ２が分離（脱水）されてガスハイドレートの濃度が上昇したシャーベット状のガスハイドレートｈ１が生成され、このシャーベット状のガスハイドレートｈ１は、取り出しラインＬ４から圧縮成型機３に供給されここで一対の成型ロール２３ａ，２３ｂにより圧縮成形されガスハイドレートペレットｈ２が製造される。
【００２７】
本実施例により、品質が均一なガスハイドレートを安定的に連続して製造することができ、このガスハイドレートを用いたガスハイドレートペレットの品質が安定する。更に、ガスハイドレート含有率の高いものを製造することもできるので、ペレットのガスハイドレート含有率が従来よりも高い製品を製造することができる。
【００２８】
（実施例２）
図３は、本発明に係るガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の他の実施態様を示す系統図であって、図１と同一符号は同一名称を示し説明を省略する。
【００２９】
この図３において１７は、脱水塔２の上部に設けられたガスハイドレートを攪拌する攪拌装置であって、この攪拌装置１７の近傍、即ち、脱水塔２の排出部近傍にはインライン計測形水分計Ｋ３が設けられ、このインライン計測形水分計Ｋ３の信号Ｖ１が前記実施態様と同じく演算装置４０に入力されかつ処理される。他方、脱水塔２内の上部に達したシャーベット状のガスハイドレートｈ１の含水量は、図４に示すように中心Ｏに向かって順次高くなると考えられる。従って、この攪拌装置１７の撹拌翼１７ａによりシャーベット状のガスハイドレートｈ１を攪拌することにより、その水分分布が均一なものとなるため正確な含水量を測定することができる。これにより、生成器１内の攪拌速度やスラリーポンプＰ１の運転を制御して、均一な品質のガスハイドレートｈ１を製造することができる。
【００３０】
本実施例により、前記実施例１よりも正確な含水量を計測することができるようになり、ガスハイドレートの品質のバラツキが抑制されると共に所定の品質のガスハイドレートが容易に得られるようになる。
【００３１】
（実施例３）
本実施例は、図５に示すように、生成器１で生成したガスハイドレートスラリーＳを脱水塔２に導入するスラリーラインＬ２に水分計Ｋ１を設置したことを特徴としている。
【００３２】
これにより、生成器１の攪拌速度や温度を調整し脱水塔２に導入されるスラリーＳの含水量を所定の範囲となるように制御することで、前記脱水塔２における脱水時間を調節することなく一定の含水量のガスハイドレートが得られるようになる。脱水時間のバラツキが小さくなると、装置全体としての処理時間が一定となるので、作業効率がよくなる。
【００３３】
（実施例４）
本実施例は、図６に示すようにインライン計測形水分計をスラリーラインＬ２と、脱水塔の排水室１２の近傍と、この脱水塔の排出部側に設けたものである。本実施例において、前記実施例と同一符号は同一名称であり説明を省略する。
【００３４】
スラリーラインＬ２に設けた水分計Ｋ１により生成器１で生成されるガスハイドレートスラリーＳの含水量を計測すると共に、計測されたガスハイドレートの含水量の信号Ｖ１に基づいて前記生成器１のガスハイドレート濃度が所定の範囲となるように温度と攪拌速度が制御されるようになっている。
【００３５】
水分計Ｋ３は、脱水塔２の排出部側に設けられ、排出される直前のガスハイドレートの含水量を計測している。この水分計Ｋ３で計測された含水量の信号Ｖ３により、スラリーポンプの動作が制御されたり、生成器１の攪拌速度や温度が制御されたりするようになっている。
【００３６】
また、前述の実施例のように計測値が表示器４４に表示されると共に出力紙４５に印字され、印刷された計測値は、管理記録として保管される。
【００３７】
そして、生成器１で生成されたガスハイドレートスラリーＳの含水量と、脱水されたガスハイドレートｈ１の含水量とが計測され、それぞれの水分計Ｋ１，Ｋ３からの信号により生成器１やスラリーポンプＰ１の運転条件が調整される。
【００３８】
すなわち、生成器１と脱水塔２のそれぞれにおけるハイドレートの含水量をリアルタイムに測定しているので、さらに効率よく正確に運転条件（攪拌速度、温度、ポンプの運転等）を調整することができる。
【００３９】
実施例１乃至４において、図示しない自動制御装置により、生成器や脱水塔の各種運転条件を自動的に制御することができ、運転者が計測値を確認しながら調整する手間が省かれ、また、均一かつ所定濃度のガスハイドレートを安定的に製造することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の概略図である。
【図２】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の系統図である。
【図３】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の他の実施例を示す脱水塔の概略図である。
【図４】脱水塔内のガスハイドレート濃度の分布を模擬的に表した図である。
【図５】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置のさらに他の実施例を示す概略図である。
【図６】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置のさらに他の実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４１】
１ 生成装置
２ 脱水装置
３ 成形装置
５ 耐圧容器
６ 攪拌機
６ａ 攪拌翼
６ｂ 軸
７ 熱交換器
９ スページャ
１１ 筒状本体
１１ａ 排水孔
１２ 排水室
１５ スクリューコンベア
１７ 攪拌装置
１７ａ 攪拌翼
１７ｂ 回転軸
２１ａ スクリュー翼
２１ｂ 軸
２２ ホッパー
２３ａ，２３ｂ 成型ロール
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスハイドレートの生成する雰囲気において原料水と原料ガスとを水和反応させて得られたガスハイドレートスラリーを脱水し、高濃度のガスハイドレートを生成する製造方法とその製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、クリーンなエネルギー源として、メタン等を主成分とする天然ガスが注目されている。このような天然ガスを効率よく輸送し又は貯蔵するために、この天然ガスを原料ガスとして、原料水と反応させてガスハイドレートを製造することが知られている。
【０００３】
ガスハイドレートを製造する方法としては、原料水中に原料ガスを吹き込みながら攪拌する気液攪拌方式（例えば、特許文献１）と、原料ガス中に原料水をスプレーする水スプレー方式（例えば、特許文献２）がある。
【０００４】
前記気液攪拌方式や水スプレー方式により生成したガスハイドレートは、その粒径が小さく（例えば３０〜５０ｍμ程度）、かつ未反応の水と混合したスラリーとして生成される。よって、このスラリーを後流側に配置された脱水塔で未反応の水を分離して比較的含水率の低い（すなわち高濃度の）シャーベット状のガスハイドレートとし、さらにこのシャーベット状のガスハイドレートを造粒機等でペレット化し、ペレット状のガスハイドレートとして貯蔵又は輸送することが知られている（例えば、特許文献３）。
【０００５】
この特許文献３記載のガスハイドレートの製造装置においては、スラリー中のガスハイドレートの濃度は、生成器でのガスハイドレートの生成効率や後流側へ配置された機器への輸送効率などから約１０％以下の範囲から選択され、その選択されたガスハイドレート濃度が得られるように各機器が設計されかつその運転条件が設定されている。そして、脱水塔でガスハイドレートの濃度が約１０〜５０パーセントの広い範囲の濃度のシャーベット状のガスハイドレートが生成され、そして、この粉末状のガスハイドレートは、一対の成形ロールを有する圧縮成型機でペレット化される過程で、さらに未反応の水が分離され約８０〜９０％のガスハイドレートの濃度を有するペレット状のガスハイドレートが製造される。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３０２７０１号公報
【特許文献２】特開２０００−２６４８５２号広報
【特許文献３】特開２００２―２２０３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、前記したようなガスハイドレート製造装置においては、ガスハイドレートペレットの品質が不揃いになるという虞があった。すなわち、脱水塔から圧縮成型機に供給されるガスハイドレートスラリーの濃度は、この脱水塔に供給される生成器からのスラリーの濃度や脱水塔の脱水性能等により変化する。従って、濃度の異なるガスハイドレートが圧縮成型機に供給された場合、ガスハイドレート充填率や硬度等の品質に不揃いが生じる。さらに、このような品質の不揃いは、ガスハイドレートペレットの輸送や貯蔵にも悪影響を与えるという虞があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記したような従来の問題点を解決するためのガスハイドレートの製造方法であって、
１）ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させることを特徴としている。
２）ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌して反応させてガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくすることを特徴としている。
３）前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴としている。
４）前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴としている。
５）前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内にインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレート中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴としている。
【０００９】
また、ガスハイドレートスラリーの製造装置は、
６）原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記生成器における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記生成器における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させるように構成したことを特徴としている。
７）原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくするように構成したことを特徴としている。
８）前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴としている。
９）前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴としている。
１０）前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明した本発明によるガスハイドレートの製造方法によれば、次のような効果を生ずる。
【００１１】
ガスハイドレートスラリーの濃度をインライン計測型ガスハイドレート濃度計を用いてリアルタイムで計測できるようになり、生成されるガスハイドレートの濃度が予め設定した濃度となり、そのバラツキが抑制され、ガスハイドレートペレットの品質が安定する。
【００１２】
また、従来のように、生成されたガスハイドレートスラリーやガスハイドレートペレットを作業者が取り出して濃度を計測することが不要となり、計測する手間が省かれると同時に計量に伴う引火等の危険性がなくなる。
【００１３】
更に、濃度の計測に近赤外線水分計を用いたので、測定が迅速且つ正確であり、そのため、生成器の攪拌速度やスラリーの導入速度等の各種制御が迅速且つ正確になされ、均一な品質のガスハイドレートが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図１乃至図４に基づき本発明によるガスハイドレートの製造方法について説明する。
【００１５】
（実施例１）
図１は、本発明に係るガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の系統図である。この図において、ガスハイドレート製造装置は、気液攪拌方式によるガスハイドレートの生成器１が用いられている。この生成器１は、耐圧容器５と、この耐圧容器５内の原料水を冷却する熱交換器７、耐圧容器５の内部に配置された攪拌翼６ａ及びガス噴出管９（スページャ）と、攪拌翼６ａが設けられた軸６ｂを回転させる電動機等の駆動機Ｍ１とより構成されている。
【００１６】
前記生成器１には、メタン等の原料ガスＧ１を導入するガス供給ラインＬ５と、原料水Ｗ１を導入する水供給ラインＬ６と、ガス循環ブロワＢ１を有する原料ガスＧ１のガス循環ラインＬ１と、熱交換器７を有するブライン循環ラインＬ１０と、後述する脱水塔２にそれぞれ一端が接続されたスラリーラインＬ２及び未反応の水Ｗ２の戻しラインＬ３がそれぞれ接続されている。前記スラリーラインＬ２にはスラリーポンプＰ１が設けられており、戻しラインＬ３にはポンプＰ２が設けられている。
【００１７】
脱水塔２は、筒状本体１１で構成され、上部に排水孔１１ａが設けられるとともにこの排水孔１１ａを覆いかつ筒状本体１１の周囲に排水室１２が形成されている。そして、この脱水塔２には、前記したスラリーラインＬ２と未反応の水Ｗ２の戻しラインＬ３と、ガスハイドレートｈ１の取り出しラインＬ４とが接続されると共に、排水室１２に排気管Ｌ７が取り付けられている。更に、脱水塔２の上部には、インライン計測形水分計Ｋ３が取り付けられ、この水分計Ｋ３の信号Ｖ１は、演算装置４０に入力されるようになっている。演算装置４０は、演算器４１と記憶装置４３と比較器４２より構成されている。４４は表示器、４５は出力紙である。
【００１８】
前記インライン計測形水分計Ｋ３は近赤外線水分計であり、例えば、防爆等級がＥｘｄIIＢ Ｔ４以上の耐圧防爆構造のものを使用し、メタンガス等の爆発性ガスを原料ガスとして使用するガスハイドレートの製造装置において安全に使用できるようになっている。
【００１９】
この近赤外線水分計は、ガスハイドレートに波長の異なる少なくとも２つの光線を照射し、ガスハイドレートからの反射光を検出器に集光してこのガスハイドレートに含まれる未反応水の濃度に応じた赤外線の吸収量から含水量を計測している。よって、応答性がよく、計測時間が非常に短いという特徴がある。
【００２０】
また、脱水塔２においては、排気管Ｌ７から排水室１２内のガスＧ２の一部が排出されるためこの排水室１２内の圧力Ａ２は、脱水塔２内の圧力Ａ１より低くなっている。そのため、排水孔１１ａより未反応水Ｗ２が吸引されるので濾過効率と脱水率が高められるようになっている。
【００２１】
そして、インライン計測形水分計Ｋ３により、得られたシャーベット状のガスハイドレートｈ１の水分量は、ガスハイドレート濃度の信号Ｖ１に変換され、該ガスハイドレート濃度信号Ｖ１は、演算装置４０を構成する演算器４１に入力されここでその濃度ｄ１が求められる。この濃度ｄ１は、比較器４２に入力されここで記憶装置４３に予め入力されている所定の濃度ｄ２と比較され、その結果が表示器２９や出力紙３０に出力される。したがって、作業者等はこの表示器４４や出力紙４５を目視することにより継続し、かつ正確にガスハイドレートｈ１の濃度を知ることが出来る。そして、この測定された濃度ｄ１が異常に変化したときは、この濃度を変化させる要因を調整する。
【００２２】
すなわち、この測定した濃度ｄ１が設定した濃度ｄ２より高いとき（測定された含水量が設定よりも低いとき）は、脱水塔２内に供給されるスラリーＳの供給量を多くするか、又は排水室１２内の圧力Ａ２を高めて脱水塔２内の圧力Ａ１との圧力差を小さくする。もちろん、この測定した濃度ｄ１が設定した濃度ｄ２よりも低いときは、前記と逆の調整が行われる。
【００２３】
また、測定した濃度ｄ１が、設定された濃度ｄ２よりも高いとき（測定された含水量が設定よりも低いとき）は、生成器１内の攪拌速度を速くするか、又は生成器１内の温度を低下させる。もちろん、この測定した濃度ｄ１が設定された濃度ｄ２よりも低いとき、前記と逆の調整が行われる。
【００２４】
かかる構成において、所定の温度と圧力、例えば、圧力が３〜１０ＭＰａ、温度が０〜１０℃の範囲から選択された所定の圧力Ａ１と温度Ｔ１が保持されている生成器１の耐圧容器５内にガス供給ラインＬ５から原料ガスＧ１と、水供給ラインＬ６から原料水Ｗ１とがそれぞれ導入される。そして、原料ガスＧ１は、ガス循環ブロワＢ１によりガス循環ラインＬ１を経てスページャ９に供給され、ここから原料水Ｗ１中に噴出され駆動機Ｍ１により回転される攪拌翼６ａにより攪拌されてガスハイドレートと未反応の水Ｗ２とよりなるスラリーＳ１（混合ハイドレート）が生成される。このスラリーＳのガスハイドレートの濃度は、生成器１でのガスハイドレートの生成効率や後流側に配置された機器への輸送効率などから約１０％以下となるように制御されるのが好ましい。
【００２５】
このガスハイドレートの生成工程において発生する反応熱は、ブライン循環ラインＬ１０に設けられた熱交換器７により除去され、耐圧容器５内は選択された所定の温度Ｔ１に保持される。
【００２６】
このようにして生成されたスラリーＳは、スラリーポンプＰ１によりスラリーラインＬ２を経て脱水塔２に供給され、この脱水塔２内を上昇する過程において排水孔１１ａで未反応の水Ｗ２が分離（脱水）されてガスハイドレートの濃度が上昇したシャーベット状のガスハイドレートｈ１が生成され、このシャーベット状のガスハイドレートｈ１は、取り出しラインＬ４から圧縮成型機３に供給されここで一対の成型ロール２３ａ，２３ｂにより圧縮成形されガスハイドレートペレットｈ２が製造される。
【００２７】
本実施例により、品質が均一なガスハイドレートを安定的に連続して製造することができ、このガスハイドレートを用いたガスハイドレートペレットの品質が安定する。更に、ガスハイドレート含有率の高いものを製造することもできるので、ペレットのガスハイドレート含有率が従来よりも高い製品を製造することができる。
【００２８】
（実施例２）
図３は、本発明に係るガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の他の実施態様を示す系統図であって、図１と同一符号は同一名称を示し説明を省略する。
【００２９】
この図３において１７は、脱水塔２の上部に設けられたガスハイドレートを攪拌する攪拌装置であって、この攪拌装置１７の近傍、即ち、脱水塔２の排出部近傍にはインライン計測形水分計Ｋ３が設けられ、このインライン計測形水分計Ｋ３の信号Ｖ１が前記実施態様と同じく演算装置４０に入力されかつ処理される。他方、脱水塔２内の上部に達したシャーベット状のガスハイドレートｈ１の含水量は、図４に示すように中心Ｏに向かって順次高くなると考えられる。従って、この攪拌装置１７の撹拌翼１７ａによりシャーベット状のガスハイドレートｈ１を攪拌することにより、その水分分布が均一なものとなるため正確な含水量を測定することができる。これにより、生成器１内の攪拌速度やスラリーポンプＰ１の運転を制御して、均一な品質のガスハイドレートｈ１を製造することができる。
【００３０】
本実施例により、前記実施例１よりも正確な含水量を計測することができるようになり、ガスハイドレートの品質のバラツキが抑制されると共に所定の品質のガスハイドレートが容易に得られるようになる。
【００３１】
（実施例３）
本実施例は、図５に示すように、生成器１で生成したガスハイドレートスラリーＳを脱水塔２に導入するスラリーラインＬ２に水分計Ｋ１を設置したことを特徴としている。
【００３２】
これにより、生成器１の攪拌速度や温度を調整し脱水塔２に導入されるスラリーＳの含水量を所定の範囲となるように制御することで、前記脱水塔２における脱水時間を調節することなく一定の含水量のガスハイドレートが得られるようになる。脱水時間のバラツキが小さくなると、装置全体としての処理時間が一定となるので、作業効率がよくなる。
【００３３】
（実施例４）
本実施例は、図６に示すようにインライン計測形水分計をスラリーラインＬ２と、脱水塔の排水室１２の近傍と、この脱水塔の排出部側に設けたものである。本実施例において、前記実施例と同一符号は同一名称であり説明を省略する。
【００３４】
スラリーラインＬ２に設けた水分計Ｋ１により生成器１で生成されるガスハイドレートスラリーＳの含水量を計測すると共に、計測されたガスハイドレートの含水量の信号Ｖ１に基づいて前記生成器１のガスハイドレート濃度が所定の範囲となるように温度と攪拌速度が制御されるようになっている。
【００３５】
水分計Ｋ３は、脱水塔２の排出部側に設けられ、排出される直前のガスハイドレートの含水量を計測している。この水分計Ｋ３で計測された含水量の信号Ｖ３により、スラリーポンプの動作が制御されたり、生成器１の攪拌速度や温度が制御されたりするようになっている。
【００３６】
また、前述の実施例のように計測値が表示器４４に表示されると共に出力紙４５に印字され、印刷された計測値は、管理記録として保管される。
【００３７】
そして、生成器１で生成されたガスハイドレートスラリーＳの含水量と、脱水されたガスハイドレートｈ１の含水量とが計測され、それぞれの水分計Ｋ１，Ｋ３からの信号により生成器１やスラリーポンプＰ１の運転条件が調整される。
【００３８】
すなわち、生成器１と脱水塔２のそれぞれにおけるハイドレートの含水量をリアルタイムに測定しているので、さらに効率よく正確に運転条件（攪拌速度、温度、ポンプの運転等）を調整することができる。
【００３９】
実施例１乃至４において、図示しない自動制御装置により、生成器や脱水塔の各種運転条件を自動的に制御することができ、運転者が計測値を確認しながら調整する手間が省かれ、また、均一かつ所定濃度のガスハイドレートを安定的に製造することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の概略図である。
【図２】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の系統図である。
【図３】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置の他の実施例を示す脱水塔の概略図である。
【図４】脱水塔内のガスハイドレート濃度の分布を模擬的に表した図である。
【図５】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置のさらに他の実施例を示す概略図である。
【図６】本発明によるガスハイドレートの製造方法を適用した製造装置のさらに他の実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４１】
１ 生成装置
２ 脱水装置
３ 成形装置
５ 耐圧容器
６ 攪拌機
６ａ 攪拌翼
６ｂ 軸
７ 熱交換器
９ スページャ
１１ 筒状本体
１１ａ 排水孔
１２ 排水室
１５ スクリューコンベア
１７ 攪拌装置
１７ａ 攪拌翼
１７ｂ 回転軸
２１ａ スクリュー翼
２１ｂ 軸
２２ ホッパー
２３ａ，２３ｂ 成型ロール
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
【請求項２】
ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌して反応させてガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくすることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
【請求項３】
前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴とする請求項１又は２記載のガスハイドレートの製造方法。
【請求項４】
前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴とする請求項１，２又は３記載のガスハイドレートの製造方法。
【請求項５】
前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内にインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレート中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴とする請求項１，２，３又は４記載のガスハイドレートの製造方法。
【請求項６】
原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記生成器における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記生成器における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させるように構成したことを特徴とするガスハイドレートスラリーの製造装置。
【請求項７】
原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくするように構成したことを特徴とするガスハイドレートスラリーの製造装置。
【請求項８】
前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴とする請求項６又は７記載のガスハイドレート製造装置。
【請求項９】
前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴とする請求項６，７又は８記載のガスハイドレート製造装置。
【請求項１０】
前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴とする請求項６，７，８又は９記載のガスハイドレート製造装置。
【請求項１】
ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記ガスハイドレートの生成工程における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
【請求項２】
ガスハイドレートの生成雰囲気の高圧・低温にある生成器にて原料ガスと原料水とを攪拌して反応させてガスハイドレートスラリーを生成する工程と、このガスハイドレートスラリーを導入する筒状本体と該本体周囲に設けた排水室とを有する脱水塔で該ガスハイドレートスラリーを脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する工程とを有するガスハイドレートスラリーの製造方法であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水工程に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくすることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
【請求項３】
前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴とする請求項１又は２記載のガスハイドレートの製造方法。
【請求項４】
前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴とする請求項１，２又は３記載のガスハイドレートの製造方法。
【請求項５】
前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内にインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設け、ガスハイドレート中のガスハイドレート濃度をインライン計測することを特徴とする請求項１，２，３又は４記載のガスハイドレートの製造方法。
【請求項６】
原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記生成器における攪拌速度を低下させると共に温度を上昇させ、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記生成器における攪拌速度を上昇させると共に温度を低下させるように構成したことを特徴とするガスハイドレートスラリーの製造装置。
【請求項７】
原料ガスと原料水とをガスハイドレートの生成雰囲気下の高圧・低温で攪拌してガスハイドレートスラリーを生成する生成器と、この生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを筒状本体に導入し該筒状本体周囲に設けた排水室より脱水してより高濃度のガスハイドレートスラリーを製造する脱水塔とを備えたガスハイドレートスラリーの製造装置であって、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも高いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を低下させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を小さくし、
前記ガスハイドレートスラリーの濃度が所定の濃度よりも低いときは、前記脱水塔に供給されるガスハイドレートスラリーの供給量を増加させると共に筒状本体内圧力と排水室内圧力との差圧を大きくするように構成したことを特徴とするガスハイドレートスラリーの製造装置。
【請求項８】
前記生成器内のガスハイドレートスラリーを前記脱水塔に移送するスラリーラインに、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴とする請求項６又は７記載のガスハイドレート製造装置。
【請求項９】
前記脱水塔の排水孔の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴とする請求項６，７又は８記載のガスハイドレート製造装置。
【請求項１０】
前記脱水塔の排出部の近傍の円筒状本体内に、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート濃度をインライン計測する近赤外線式のインライン計測型ガスハイドレート濃度計を設けたことを特徴とする請求項６，７，８又は９記載のガスハイドレート製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００９−９１５１８（Ｐ２００９−９１５１８Ａ）
【公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２６５８０６（Ｐ２００７−２６５８０６）
【出願日】平成１９年１０月１１日（２００７．１０．１１）
【出願人】（０００００５９０２）三井造船株式会社 (1,723)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月１１日（２００７．１０．１１）
【出願人】（０００００５９０２）三井造船株式会社 (1,723)
【Ｆターム（参考）】
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