クリーンベンチ
【課題】 ワークに対する異物の付着を効果的に抑制するクリーンベンチを提供する。
【解決手段】 クリーンベンチ１は、作業面１１ａを有する作業台１１と、作業面１１ａ上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部１２と、を備える。清浄気体供給部１２は、清浄気体が垂直に吹き出す吹出面１１ｃを有し、吹出面１１ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さい。
【解決手段】 クリーンベンチ１は、作業面１１ａを有する作業台１１と、作業面１１ａ上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部１２と、を備える。清浄気体供給部１２は、清浄気体が垂直に吹き出す吹出面１１ｃを有し、吹出面１１ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、清浄な作業空間を確保するクリーンベンチに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置（例えば、集積回路や発光装置）に代表される精密な装置は、塵埃等の異物が付着すると、正常な動作を行うことができなくなる可能性がある。そのため、このような装置の製造や検査などの各種作業は、クリーンベンチを用いて行われることが多い。
【０００３】
クリーンベンチは、異物を排除した清浄な気体（以下、清浄気体とする）を、作業の対象物（以下、ワークとする）が置かれる作業空間に向かって吹き出すことで、当該作業空間を清浄に保ち、ワークに異物が付着することを抑制する。なお、清浄気体は、例えば異物を除去するフィルタに空気を通過させることで得られる。
【０００４】
また、清浄気体が吹き出す吹出面と作業面とは、平行または垂直である（例えば、特許文献１及び２参照）。即ち、吹出面と作業面とが成す角度が、０度または９０度となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１−７５８３５号公報
【特許文献２】特開平６−１７８９０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のようなクリーンベンチでは、ワークに付着する異物の数を十分に低減することができないため、問題となる。この問題について、図面を参照して説明する。図８は、吹出面と作業面とが平行（成す角度が０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図である。また、図９は、吹出面と作業面とが垂直（成す角度が９０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図である。なお、図８及び図９中に示す黒い矢印は、清浄気体の流れを示すものである。
【０００７】
図８に示すクリーンベンチ１００は、ワークＷが置かれる作業面１０１ａを有するとともに貫通穴１０１ｂが設けられている作業台１０１と、空気を通過させることで清浄気体を生成するフィルタ１０２と、フィルタ１０２に空気を供給する気流発生部１０３と、清浄気体が垂直に吹き出す吹出面１０４と、を備える。また、吹出面１０４と作業面１０１ａとが平行（成す角度が０度）であり、吹出面１０４から吹き出した清浄気体は、作業面１０１ａに対して垂直な流れになる。
【０００８】
図８に示すように、このようなクリーンベンチ１００では、吹出面１０４とワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることで乱流が生じ、例えば作業者Ｈに付着していた異物が剥離してワークＷに付着し得るため、問題となる。
【０００９】
一方、図９に示すクリーンベンチ２００は、ワークＷが置かれる作業面２０１ａを有する作業台２０１と、空気を通過させることで清浄気体を生成するフィルタ２０２と、フィルタ２０２に空気を供給する気流発生部２０３と、清浄気体が垂直に吹き出す吹出面２０４と、を備える。また、吹出面２０４と作業面２０１ａとが垂直（成す角度が９０度）であり、吹出面２０４から吹き出した清浄気体は、作業面２０１ａに対して平行な流れになる。
【００１０】
図９に示すように、このようなクリーンベンチ２００では、図８に示したクリーンベンチ１００とは異なり、吹出面２０４とワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることは抑制される。しかしながら、作業者Ｈが吹出面２０４と対向すると、作業者Ｈに清浄気体が正面衝突することで乱流が生じ、例えば作業者Ｈに付着していた異物が剥離してワークＷに付着し得るため、問題となる。
【００１１】
なお、特許文献１には、作業面と平行（成す角度が０度）になる吹出面と、作業面と垂直（成す角度が９０度）になる吹出面と、の２つの吹出面を有するクリーンベンチが提案されている。しかしながら、このようなクリーンベンチでは、それぞれの吹出面から吹き出した清浄気体の２つの流れが衝突することで乱流が生じ、流れに巻き込まれた異物が排出され難くなるため、問題となる。
【００１２】
そこで、本発明は、ワークに対する異物の付着を効果的に抑制するクリーンベンチを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明は、作業面を有する作業台と、前記作業面上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部と、を備え、前記清浄気体供給部は、前記清浄気体が垂直に吹き出す吹出面を有し、前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さいことを特徴とするクリーンベンチを提供する。当該クリーンベンチによれば、吹出面とワークとの間に作業者の手や腕が差し込まれて乱流が生じることや、作業者に清浄気体が正面衝突して乱流が生じることを、抑制することができ、ワークへの異物の付着を効果的に抑制することが可能になる。
【００１４】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、６０度以上８０度以下であると、好ましい。この場合、特に効果的にワークへの異物の付着を抑制することができる。
【００１５】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記作業空間を囲う部材の少なくとも一部に貫通穴が形成され、前記清浄気体が前記貫通穴を介して前記作業空間から流出すると、好ましい。この場合、作業空間に吹き付けられた清浄気体が作業空間を囲う部材に衝突して乱流が発生することを、抑制することが可能になる。
【００１６】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記作業台が、複数の前記貫通穴が形成された穴あき平板であると、好ましい。作業面には、所定の角度から清浄気体が吹き付けられる。そのため、少なくとも作業台を穴あき平板にすると、乱流の発生を効果的に抑制することが可能になる。
【００１７】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記吹出面に対して垂直な天板を、さらに備え、前記天板は、前記吹出面の上端の直上領域と、前記作業面の直上領域の少なくとも一部と、を覆うように設けられると、好ましい。この場合、天板と作業面との間隔が、清浄気体の流れの下流ほど小さくなる。そのため、清浄気体の流れの下流において、清浄気体の流速を大きくすることが可能になる。したがって、作業空間中の異物を、効果的に排除することが可能になる。
【００１８】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記吹出面と前記作業面とが成す角度を変更する角度変更機構を、さらに備えると、好ましい。この場合、作業者が、自身の体格や作業のし易さ等に応じて、吹出面と作業面とが成す角度を変更することが可能になる。そのため、作業者の作業効率を、向上することが可能になる。
【００１９】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記作業面の高さを変更する高さ変更機構を、さらに備えると、好ましい。この場合、作業者が、自身の体格や作業のし易さ等に応じて、作業面の高さを変更することが可能になる、そのため、作業者の作業効率を、向上することが可能になる。
【００２０】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記清浄気体にイオンを含ませるイオナイザを、さらに備えると、好ましい。この場合、ワークが帯電して異物を引き寄せることを、抑制することが可能になる。
【００２１】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記清浄気体に接触する部材の少なくとも一部に、帯電防止処理が施されていると、好ましい。この場合、清浄気体が通過する領域に異物が引き寄せられることを、抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図。
【図２】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な上面図。
【図３】各種クリーンベンチにおける、ワークへの異物の付着性について示すグラフ。
【図４】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図。
【図５】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な上面図。
【図６】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図。
【図７】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図。
【図８】吹出面と作業面とが平行（成す角度が０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図。
【図９】吹出面と作業面とが垂直（成す角度が９０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
最初に、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図１は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図である。また、図２は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な上面図である。なお、図１及び図２に示す黒い矢印は、清浄気体の流れを示すものである。
【００２４】
図１及び図２に示すように、本実施形態に係るクリーンベンチ１は、作業面１１ａを有する作業台１１と、作業面１１ａ上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部１２と、清浄気体供給部１２を支持する上流側支持部１３と、清浄気体供給部１２と作業台１１との間に設けられるフレーム１４と、作業台１１を支持する下流側支持部１５と、作業空間の上方に設けられる天板１６と、作業空間の側方に設けられる側板１７と、を備える。なお、図示の明確化のため、図１では側板１７を省略し、図２では天板１６を省略している。
【００２５】
作業台１１は、平板状であるとともに、その上面が作業面１１ａになっている。また、作業空間は、作業面１１ａ上の空間であり、作業台１１（作業面１１ａ）、天板１６及び側板１７に囲まれている。作業者Ｈは、作業空間よりも清浄気体の流れの下流側に位置し、作業面１１ａ上にワークＷを置いて作業を行う。なお、図１及び図２では、ワークＷの一例として、ウエハやウエハホルダ、ウエハカセットを示している。
【００２６】
清浄気体供給部１２は、空気を通過させることで清浄気体を生成するフィルタ１２ａと、フィルタ１２ａに空気を供給する気流発生部１２ｂと、フィルタで生成された清浄気体が垂直に吹き出す吹出面１２ｃと、を備える。フィルタ１２ａは、例えばＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタやＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタなどから成る。また、気流発生部１２ｂは、例えば送風機や圧縮機から成る。また、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、層流になり、作業空間に吹き付けられる。
【００２７】
フレーム１４は、吹出面１２ｃと垂直になるように、その一方の端部が清浄気体供給部１２に接続される。さらに、この接続部分が、上流側支持部１３の上部に接続される。また、フレーム１４の他方の端部には、作業台１１の一方の端部が接続される。さらに、作業台１１の他方の端部には、下流側支持部１５の上部が接続される。
【００２８】
天板１６は、吹出面１２ｃに対して垂直であるとともに、吹出面１２ｃの直上領域と、作業面１１ａの直上領域の少なくとも一部と、を覆うように設けられる。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、天板１６の下方を流れて、作業空間に到達する。また、天板１６の一方の端部は、清浄気体供給部１２の上面に接続される。
【００２９】
側板１７は、作業空間の一方の側面側に設けられる。作業空間の他方の側面側には、クリーンベンチ１に隣接して、ウエハの処理装置Ｐ（一部のみ図示）が置かれている。ワークＷ（例えば、ウエハや、ウエハがセットされたウエハホルダ）は、作業空間から処理装置Ｐ内に自動または手動で搬入され、処理装置Ｐにおいて処理される。また、処理装置Ｐで処理された後のワークＷは、処理装置Ｐから自動または手動で作業空間に搬出される。
【００３０】
本実施形態のクリーンベンチ１では、上記の処理装置Ｐに対するワークＷの搬入及び搬出を簡易化するために、作業空間の他方の側面側に、側板１７を設けていない。ただし、この構造は一例に過ぎず、クリーンベンチ１の使用態様等に応じて、側板１７などの部材をどのように設けてもよい。
【００３１】
本実施形態のクリーンベンチ１では、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さくなる。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体が、作業面１１ａに対して斜めに吹き付けられる。特に、本実施形態のクリーンベンチ１では、吹出面１２ｃが、上側ほど作業面１１ａに近づくように傾斜する。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、作業面１１ａに対して斜め上から吹き付けられる。
【００３２】
以上より、図１及び図２に示すように、本実施形態のクリーンベンチ１では、吹出面１２ｃとワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることで乱流が生じることを、抑制することができる。さらに、本実施形態のクリーンベンチ１では、作業者Ｈに清浄気体が正面衝突することで乱流が生じることを、抑制することができる。したがって、本実施形態のクリーンベンチ１では、作業空間に乱流が生じることを抑制することができるため、ワークへの異物の付着を効果的に抑制することが可能になる。
【００３３】
また、本実施形態のクリーンベンチ１では、天板１６と作業面１１ａとの間隔が、清浄気体の流れの下流ほど小さくなる。そのため、清浄気体の流れの下流において、清浄気体の流速を大きくすることが可能になる。したがって、作業空間中の異物を、効果的に排除することが可能になる。
【００３４】
また、本実施形態のクリーンベンチ１における、ワークＷへの異物の付着の抑制効果について、図面を参照して説明する。図３は、各種クリーンベンチにおける、ワークへの異物の付着性について示すグラフである。なお、図３に示すグラフは、横軸が作業時間、縦軸がワークに付着した異物の数を示している。また、吹出面と作業面とが平行であるクリーンベンチ（図８参照）におけるワークＷへの異物の付着性を破線で示し、吹出面と作業面とが垂直であるクリーンベンチ（図９参照）におけるワークＷへの異物の付着性を一点鎖線で示し、本実施形態のクリーンベンチ１におけるワークＷへの異物の付着性を太い実線で示す。ただし、図３では、本実施形態のクリーンベンチ１の吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、７０度である場合を例示する。
【００３５】
図３に示すように、吹出面と作業面とが平行であるクリーンベンチが、最もワークに異物が付着しやすく、吹出面と作業面とが垂直であるクリーンベンチが、これに次いでワークに異物が付着しやすくなっている。そして、本実施形態のクリーンベンチ１が、最もワークに異物が付着し難くなっている。
【００３６】
このように、本実施形態のクリーンベンチ１では、他のクリーンベンチと比較して、ワークＷへの異物の付着を効果的に抑制することができる。
【００３７】
なお、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を、６０度以上８０度以下にすると、特に効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。さらに、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を７０度にすると、さらに効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。
【００３８】
＜変形例＞
本実施形態のクリーンベンチ１の変形例について、以下説明する。なお、それぞれの変形例は、単独で適用するだけでなく、組み合わせて適用することも可能である。
【００３９】
［１］ 上述のクリーンベンチ１において、作業空間を囲う部材の少なくとも一部に貫通穴を形成し、清浄気体が貫通穴を介して作業空間から流出する構造にしてもよい。この場合におけるクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図４は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図である。図５は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な上面図である。なお、図４は、図１と同様の方法で、本例のクリーンベンチ１Ａについて図示したものであり、図５は、図２と同様の方法で、本例のクリーンベンチ１Ａについて図示したものである。また、以下では、図４及び図５に示すクリーンベンチ１Ａについて、図１及び図２に示すクリーンベンチ１と異なる部分を中心に説明し、同様となる部分は説明を省略する。
【００４０】
図４及び図５に示すように、本例のクリーンベンチ１Ａでは、作業台１１Ａ及び側板１７Ａに複数の貫通穴が設けられて、それぞれが穴あき平板になっている。また、清浄気体は、これらの貫通穴を介して、作業空間から流出する。
【００４１】
このような構造にすると、作業空間に吹き付けられた清浄気体が作業空間を囲う部材に衝突して乱流が発生することを、抑制することが可能になる。
【００４２】
特に、本例のクリーンベンチ１では、作業面１１Ａａに対して、所定の角度（例えば、１０度以上３０度以下）から清浄気体が吹き付けられる。そのため、少なくとも作業台１１Ａを穴あき平板にすることで、乱流の発生を効果的に抑制することが可能になる。
【００４３】
［２］ 上述のクリーンベンチ１において、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体が、作業空間に対して斜め下から吹き付けられる構造としてもよい。この場合におけるクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図６は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図である。なお、図６は、図１と同様の方法で、クリーンベンチ１Ｂについて図示したものである。また、以下では、図６に示すクリーンベンチ１Ｂについて、図１に示すクリーンベンチ１と異なる部分を中心に説明し、同様となる部分は説明を省略する。
【００４４】
図６に示すように、本例のクリーンベンチ１Ｂでは、吹出面１２ｃが、上側ほど作業面１１ａから遠ざかるように傾斜する。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、作業空間に対して斜め下から吹き付けられる。ただし、本例のクリーンベンチ１Ｂでも、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さくなるものとする。
【００４５】
このような構造であっても、上述したクリーンベンチ１と同様に、吹出面１２ｃとワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることで乱流が生じることや、作業者Ｈに清浄気体が正面衝突することで乱流が生じることを、抑制することができる。したがって、本例のクリーンベンチ１Ｂでも、作業空間に乱流が生じることを抑制することができるため、ワークＷへの異物の付着を効果的に抑制することが可能になる。
【００４６】
なお、本例のクリーンベンチ１Ｂにおいても、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を、６０度以上８０度以下にすると、特に効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。さらに、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を７０度にすると、さらに効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。
【００４７】
［３］ 上述のクリーンベンチ１において、作業面１１ａに対する吹出面１２ｃの角度（作業空間への清浄気体の吹き付け角度）や、作業面１１ａの高さなどを、変更可能としてもよい。この場合におけるクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図７は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図である。なお、図７は、図１と同様の方法で、クリーンベンチ１Ｃについて図示したものである。また、以下では、図７に示すクリーンベンチ１Ｃについて、図１に示すクリーンベンチ１と異なる部分を中心に説明し、同様となる部分は説明を省略する。
【００４８】
図７に示すように、本例のクリーンベンチ１Ｃは、清浄気体供給部１２及びフレーム１４と上流側支持部１３との取り付け角度を変更可能にする上流側角度調整部１８と、フレーム１４と作業台１１との取り付け角度を変更可能にする下流側角度調整部１９と、上流側支持部１３の長さを変更可能にする上流側高さ調整部２０と、下流側支持部１５の長さを変更可能にする下流側高さ調整部２１と、を備える。
【００４９】
上流側角度調整部１８及び下流側角度調整部１９は、それぞれ固定用のネジ１８ａ，１９ａを備える。上流側角度調整部１８のネジ１８ａが緩められていると、清浄気体供給部１２及びフレーム１４と、上流側支持部１３の上部と、の取り付け角度が変更可能（回転可能）な状態になる。同様に、下流側角度調整部１９のネジ１９ａが緩められていると、フレーム１４と作業台１１との取り付け角度が変更可能（回転可能）な状態となる。
【００５０】
一方、上流側角度調整部１８のネジ１８ａが締め込まれると、清浄気体供給部１２及びフレーム１４と、上流側支持部１３の上部と、の取り付け角度が固定される。同様に、下流側角度調整部１９のネジ１９ａが締め込まれると、フレーム１４と作業台１１との取り付け角度が固定される。
【００５１】
また、上流側高さ調整部２０及び下流側高さ調整部２１は、それぞれ固定用のネジ２０ａ，２１ａを備える。上流側高さ調整部２０のネジ２０ａが緩められていると、上流側支持部１３と上流側高さ調整部２０とを併せた全体の長さが、変更可能な状態となる。同様に、下流側高さ調整部２１のネジ２１ａが緩められていると、下流側支持部１５と下流側高さ調整部２１とを併せた全体の長さが、変更可能な状態となる。
【００５２】
一方、上流側高さ調整部２０のネジ２０ａが締め込まれると、上流側支持部１３と上流側高さ調整部２０とを併せた全体の長さが、固定される。同様に、下流側支持部１５と下流側高さ調整部２１とを併せた全体の長さが、固定される。
【００５３】
作業者Ｈは、ネジ１８ａ，１９ａを緩めて、作業面１１ａに対する吹出面１２ｃの角度が所望の角度となるように各部（例えば、清浄気体供給部１２、上流側支持部１３、フレーム１４）を動かした後、ネジ１８ａ，１９ａを締め込む。これにより、作業面１１ａに対する吹出面１２ｃの角度が、作業者Ｈの望む角度で固定される。
【００５４】
また、作業者Ｈは、ネジ２０ａ，２１ａを緩めて、作業面１１ａの高さが所望の高さとなるように各部（例えば、上流側高さ調整部２０及び下流側高さ調整部２１）を動かした後、ネジ２０ａ，２１ａを締め込む。これにより、作業面１１ａの高さが、作業者Ｈの望む高さで固定される。
【００５５】
このように、本例のクリーンベンチ１Ｃでは、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す角度や、作業面１１ａの高さを、作業者Ｈが変更することが可能になる。そのため、作業者Ｈが、自身の体格や作業のし易さ等に応じて、これらを変更することが可能になる。したがって、作業者Ｈの作業効率を、向上することが可能になる。
【００５６】
なお、本例のクリーンベンチ１Ｃにおいて、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す角度を変更するための機構や、作業面１１ａの高さを変更するための機構は、上記の例に限られず、どのような機構であってもよい。また、本例のクリーンベンチ１Ｃにおいて、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す角度が６０度以上８０度以下の範囲内で変更可能となる機構を、適用してもよい。
【００５７】
［４］ 上述のクリーンベンチ１において、清浄気体にイオンを供給するイオナイザを、さらに備えてもよい。これにより、ワークＷが帯電して異物を引き寄せることを、抑制することが可能になる。
【００５８】
また、上述のクリーンベンチ１において、清浄気体が接触する部材（例えば、作業台１１、フレーム１４、天板１６、側板１７）の少なくとも一部に、帯電防止処理を施してもよい。これにより、清浄気体が通過する領域に異物が引き寄せられることを、抑制することが可能になる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明は、例えば半導体装置の製造や検査などの各種作業を行う際に用いられるクリーンベンチに適用すると、好適である。
【符号の説明】
【００６０】
１，１Ａ〜１Ｃ ： クリーンベンチ
１１，１１Ａ ： 作業台
１１ａ，１１Ａａ ： 作業面
１２ ： 清浄気体供給部
１２ａ ： フィルタ
１２ｂ ： 気流発生部
１２ｃ ： 吹出面
１３ ： 上流側支持部
１４ ： フレーム
１５ ： 下流側支持部
１６ ： 天板
１７，１７Ａ ： 側板
１８ ： 上流側角度調整部
１８ａ ： ネジ
１９ ： 下流側角度調整部
１９ａ ： ネジ
２０ ： 上流高さ調整部
２０ａ ： ネジ
２１ ： 下流高さ調整部
２１ａ ： ネジ
Ｗ ： ワーク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、清浄な作業空間を確保するクリーンベンチに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置（例えば、集積回路や発光装置）に代表される精密な装置は、塵埃等の異物が付着すると、正常な動作を行うことができなくなる可能性がある。そのため、このような装置の製造や検査などの各種作業は、クリーンベンチを用いて行われることが多い。
【０００３】
クリーンベンチは、異物を排除した清浄な気体（以下、清浄気体とする）を、作業の対象物（以下、ワークとする）が置かれる作業空間に向かって吹き出すことで、当該作業空間を清浄に保ち、ワークに異物が付着することを抑制する。なお、清浄気体は、例えば異物を除去するフィルタに空気を通過させることで得られる。
【０００４】
また、清浄気体が吹き出す吹出面と作業面とは、平行または垂直である（例えば、特許文献１及び２参照）。即ち、吹出面と作業面とが成す角度が、０度または９０度となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１−７５８３５号公報
【特許文献２】特開平６−１７８９０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のようなクリーンベンチでは、ワークに付着する異物の数を十分に低減することができないため、問題となる。この問題について、図面を参照して説明する。図８は、吹出面と作業面とが平行（成す角度が０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図である。また、図９は、吹出面と作業面とが垂直（成す角度が９０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図である。なお、図８及び図９中に示す黒い矢印は、清浄気体の流れを示すものである。
【０００７】
図８に示すクリーンベンチ１００は、ワークＷが置かれる作業面１０１ａを有するとともに貫通穴１０１ｂが設けられている作業台１０１と、空気を通過させることで清浄気体を生成するフィルタ１０２と、フィルタ１０２に空気を供給する気流発生部１０３と、清浄気体が垂直に吹き出す吹出面１０４と、を備える。また、吹出面１０４と作業面１０１ａとが平行（成す角度が０度）であり、吹出面１０４から吹き出した清浄気体は、作業面１０１ａに対して垂直な流れになる。
【０００８】
図８に示すように、このようなクリーンベンチ１００では、吹出面１０４とワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることで乱流が生じ、例えば作業者Ｈに付着していた異物が剥離してワークＷに付着し得るため、問題となる。
【０００９】
一方、図９に示すクリーンベンチ２００は、ワークＷが置かれる作業面２０１ａを有する作業台２０１と、空気を通過させることで清浄気体を生成するフィルタ２０２と、フィルタ２０２に空気を供給する気流発生部２０３と、清浄気体が垂直に吹き出す吹出面２０４と、を備える。また、吹出面２０４と作業面２０１ａとが垂直（成す角度が９０度）であり、吹出面２０４から吹き出した清浄気体は、作業面２０１ａに対して平行な流れになる。
【００１０】
図９に示すように、このようなクリーンベンチ２００では、図８に示したクリーンベンチ１００とは異なり、吹出面２０４とワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることは抑制される。しかしながら、作業者Ｈが吹出面２０４と対向すると、作業者Ｈに清浄気体が正面衝突することで乱流が生じ、例えば作業者Ｈに付着していた異物が剥離してワークＷに付着し得るため、問題となる。
【００１１】
なお、特許文献１には、作業面と平行（成す角度が０度）になる吹出面と、作業面と垂直（成す角度が９０度）になる吹出面と、の２つの吹出面を有するクリーンベンチが提案されている。しかしながら、このようなクリーンベンチでは、それぞれの吹出面から吹き出した清浄気体の２つの流れが衝突することで乱流が生じ、流れに巻き込まれた異物が排出され難くなるため、問題となる。
【００１２】
そこで、本発明は、ワークに対する異物の付着を効果的に抑制するクリーンベンチを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明は、作業面を有する作業台と、前記作業面上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部と、を備え、前記清浄気体供給部は、前記清浄気体が垂直に吹き出す吹出面を有し、前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さいことを特徴とするクリーンベンチを提供する。当該クリーンベンチによれば、吹出面とワークとの間に作業者の手や腕が差し込まれて乱流が生じることや、作業者に清浄気体が正面衝突して乱流が生じることを、抑制することができ、ワークへの異物の付着を効果的に抑制することが可能になる。
【００１４】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、６０度以上８０度以下であると、好ましい。この場合、特に効果的にワークへの異物の付着を抑制することができる。
【００１５】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記作業空間を囲う部材の少なくとも一部に貫通穴が形成され、前記清浄気体が前記貫通穴を介して前記作業空間から流出すると、好ましい。この場合、作業空間に吹き付けられた清浄気体が作業空間を囲う部材に衝突して乱流が発生することを、抑制することが可能になる。
【００１６】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記作業台が、複数の前記貫通穴が形成された穴あき平板であると、好ましい。作業面には、所定の角度から清浄気体が吹き付けられる。そのため、少なくとも作業台を穴あき平板にすると、乱流の発生を効果的に抑制することが可能になる。
【００１７】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記吹出面に対して垂直な天板を、さらに備え、前記天板は、前記吹出面の上端の直上領域と、前記作業面の直上領域の少なくとも一部と、を覆うように設けられると、好ましい。この場合、天板と作業面との間隔が、清浄気体の流れの下流ほど小さくなる。そのため、清浄気体の流れの下流において、清浄気体の流速を大きくすることが可能になる。したがって、作業空間中の異物を、効果的に排除することが可能になる。
【００１８】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記吹出面と前記作業面とが成す角度を変更する角度変更機構を、さらに備えると、好ましい。この場合、作業者が、自身の体格や作業のし易さ等に応じて、吹出面と作業面とが成す角度を変更することが可能になる。そのため、作業者の作業効率を、向上することが可能になる。
【００１９】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記作業面の高さを変更する高さ変更機構を、さらに備えると、好ましい。この場合、作業者が、自身の体格や作業のし易さ等に応じて、作業面の高さを変更することが可能になる、そのため、作業者の作業効率を、向上することが可能になる。
【００２０】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記清浄気体にイオンを含ませるイオナイザを、さらに備えると、好ましい。この場合、ワークが帯電して異物を引き寄せることを、抑制することが可能になる。
【００２１】
さらに、上記特徴のクリーンベンチにおいて、前記清浄気体に接触する部材の少なくとも一部に、帯電防止処理が施されていると、好ましい。この場合、清浄気体が通過する領域に異物が引き寄せられることを、抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図。
【図２】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な上面図。
【図３】各種クリーンベンチにおける、ワークへの異物の付着性について示すグラフ。
【図４】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図。
【図５】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な上面図。
【図６】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図。
【図７】本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図。
【図８】吹出面と作業面とが平行（成す角度が０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図。
【図９】吹出面と作業面とが垂直（成す角度が９０度）であるクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
最初に、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図１は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な側面図である。また、図２は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の一例を示す模式的な上面図である。なお、図１及び図２に示す黒い矢印は、清浄気体の流れを示すものである。
【００２４】
図１及び図２に示すように、本実施形態に係るクリーンベンチ１は、作業面１１ａを有する作業台１１と、作業面１１ａ上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部１２と、清浄気体供給部１２を支持する上流側支持部１３と、清浄気体供給部１２と作業台１１との間に設けられるフレーム１４と、作業台１１を支持する下流側支持部１５と、作業空間の上方に設けられる天板１６と、作業空間の側方に設けられる側板１７と、を備える。なお、図示の明確化のため、図１では側板１７を省略し、図２では天板１６を省略している。
【００２５】
作業台１１は、平板状であるとともに、その上面が作業面１１ａになっている。また、作業空間は、作業面１１ａ上の空間であり、作業台１１（作業面１１ａ）、天板１６及び側板１７に囲まれている。作業者Ｈは、作業空間よりも清浄気体の流れの下流側に位置し、作業面１１ａ上にワークＷを置いて作業を行う。なお、図１及び図２では、ワークＷの一例として、ウエハやウエハホルダ、ウエハカセットを示している。
【００２６】
清浄気体供給部１２は、空気を通過させることで清浄気体を生成するフィルタ１２ａと、フィルタ１２ａに空気を供給する気流発生部１２ｂと、フィルタで生成された清浄気体が垂直に吹き出す吹出面１２ｃと、を備える。フィルタ１２ａは、例えばＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタやＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタなどから成る。また、気流発生部１２ｂは、例えば送風機や圧縮機から成る。また、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、層流になり、作業空間に吹き付けられる。
【００２７】
フレーム１４は、吹出面１２ｃと垂直になるように、その一方の端部が清浄気体供給部１２に接続される。さらに、この接続部分が、上流側支持部１３の上部に接続される。また、フレーム１４の他方の端部には、作業台１１の一方の端部が接続される。さらに、作業台１１の他方の端部には、下流側支持部１５の上部が接続される。
【００２８】
天板１６は、吹出面１２ｃに対して垂直であるとともに、吹出面１２ｃの直上領域と、作業面１１ａの直上領域の少なくとも一部と、を覆うように設けられる。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、天板１６の下方を流れて、作業空間に到達する。また、天板１６の一方の端部は、清浄気体供給部１２の上面に接続される。
【００２９】
側板１７は、作業空間の一方の側面側に設けられる。作業空間の他方の側面側には、クリーンベンチ１に隣接して、ウエハの処理装置Ｐ（一部のみ図示）が置かれている。ワークＷ（例えば、ウエハや、ウエハがセットされたウエハホルダ）は、作業空間から処理装置Ｐ内に自動または手動で搬入され、処理装置Ｐにおいて処理される。また、処理装置Ｐで処理された後のワークＷは、処理装置Ｐから自動または手動で作業空間に搬出される。
【００３０】
本実施形態のクリーンベンチ１では、上記の処理装置Ｐに対するワークＷの搬入及び搬出を簡易化するために、作業空間の他方の側面側に、側板１７を設けていない。ただし、この構造は一例に過ぎず、クリーンベンチ１の使用態様等に応じて、側板１７などの部材をどのように設けてもよい。
【００３１】
本実施形態のクリーンベンチ１では、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さくなる。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体が、作業面１１ａに対して斜めに吹き付けられる。特に、本実施形態のクリーンベンチ１では、吹出面１２ｃが、上側ほど作業面１１ａに近づくように傾斜する。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、作業面１１ａに対して斜め上から吹き付けられる。
【００３２】
以上より、図１及び図２に示すように、本実施形態のクリーンベンチ１では、吹出面１２ｃとワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることで乱流が生じることを、抑制することができる。さらに、本実施形態のクリーンベンチ１では、作業者Ｈに清浄気体が正面衝突することで乱流が生じることを、抑制することができる。したがって、本実施形態のクリーンベンチ１では、作業空間に乱流が生じることを抑制することができるため、ワークへの異物の付着を効果的に抑制することが可能になる。
【００３３】
また、本実施形態のクリーンベンチ１では、天板１６と作業面１１ａとの間隔が、清浄気体の流れの下流ほど小さくなる。そのため、清浄気体の流れの下流において、清浄気体の流速を大きくすることが可能になる。したがって、作業空間中の異物を、効果的に排除することが可能になる。
【００３４】
また、本実施形態のクリーンベンチ１における、ワークＷへの異物の付着の抑制効果について、図面を参照して説明する。図３は、各種クリーンベンチにおける、ワークへの異物の付着性について示すグラフである。なお、図３に示すグラフは、横軸が作業時間、縦軸がワークに付着した異物の数を示している。また、吹出面と作業面とが平行であるクリーンベンチ（図８参照）におけるワークＷへの異物の付着性を破線で示し、吹出面と作業面とが垂直であるクリーンベンチ（図９参照）におけるワークＷへの異物の付着性を一点鎖線で示し、本実施形態のクリーンベンチ１におけるワークＷへの異物の付着性を太い実線で示す。ただし、図３では、本実施形態のクリーンベンチ１の吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、７０度である場合を例示する。
【００３５】
図３に示すように、吹出面と作業面とが平行であるクリーンベンチが、最もワークに異物が付着しやすく、吹出面と作業面とが垂直であるクリーンベンチが、これに次いでワークに異物が付着しやすくなっている。そして、本実施形態のクリーンベンチ１が、最もワークに異物が付着し難くなっている。
【００３６】
このように、本実施形態のクリーンベンチ１では、他のクリーンベンチと比較して、ワークＷへの異物の付着を効果的に抑制することができる。
【００３７】
なお、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を、６０度以上８０度以下にすると、特に効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。さらに、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を７０度にすると、さらに効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。
【００３８】
＜変形例＞
本実施形態のクリーンベンチ１の変形例について、以下説明する。なお、それぞれの変形例は、単独で適用するだけでなく、組み合わせて適用することも可能である。
【００３９】
［１］ 上述のクリーンベンチ１において、作業空間を囲う部材の少なくとも一部に貫通穴を形成し、清浄気体が貫通穴を介して作業空間から流出する構造にしてもよい。この場合におけるクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図４は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図である。図５は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な上面図である。なお、図４は、図１と同様の方法で、本例のクリーンベンチ１Ａについて図示したものであり、図５は、図２と同様の方法で、本例のクリーンベンチ１Ａについて図示したものである。また、以下では、図４及び図５に示すクリーンベンチ１Ａについて、図１及び図２に示すクリーンベンチ１と異なる部分を中心に説明し、同様となる部分は説明を省略する。
【００４０】
図４及び図５に示すように、本例のクリーンベンチ１Ａでは、作業台１１Ａ及び側板１７Ａに複数の貫通穴が設けられて、それぞれが穴あき平板になっている。また、清浄気体は、これらの貫通穴を介して、作業空間から流出する。
【００４１】
このような構造にすると、作業空間に吹き付けられた清浄気体が作業空間を囲う部材に衝突して乱流が発生することを、抑制することが可能になる。
【００４２】
特に、本例のクリーンベンチ１では、作業面１１Ａａに対して、所定の角度（例えば、１０度以上３０度以下）から清浄気体が吹き付けられる。そのため、少なくとも作業台１１Ａを穴あき平板にすることで、乱流の発生を効果的に抑制することが可能になる。
【００４３】
［２］ 上述のクリーンベンチ１において、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体が、作業空間に対して斜め下から吹き付けられる構造としてもよい。この場合におけるクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図６は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図である。なお、図６は、図１と同様の方法で、クリーンベンチ１Ｂについて図示したものである。また、以下では、図６に示すクリーンベンチ１Ｂについて、図１に示すクリーンベンチ１と異なる部分を中心に説明し、同様となる部分は説明を省略する。
【００４４】
図６に示すように、本例のクリーンベンチ１Ｂでは、吹出面１２ｃが、上側ほど作業面１１ａから遠ざかるように傾斜する。そのため、吹出面１２ｃから吹き出した清浄気体は、作業空間に対して斜め下から吹き付けられる。ただし、本例のクリーンベンチ１Ｂでも、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さくなるものとする。
【００４５】
このような構造であっても、上述したクリーンベンチ１と同様に、吹出面１２ｃとワークＷとの間に作業者Ｈの手や腕が差し込まれることで乱流が生じることや、作業者Ｈに清浄気体が正面衝突することで乱流が生じることを、抑制することができる。したがって、本例のクリーンベンチ１Ｂでも、作業空間に乱流が生じることを抑制することができるため、ワークＷへの異物の付着を効果的に抑制することが可能になる。
【００４６】
なお、本例のクリーンベンチ１Ｂにおいても、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を、６０度以上８０度以下にすると、特に効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。さらに、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す鋭角の角度を７０度にすると、さらに効果的にワークＷへの異物の付着を抑制することができるため、好ましい。
【００４７】
［３］ 上述のクリーンベンチ１において、作業面１１ａに対する吹出面１２ｃの角度（作業空間への清浄気体の吹き付け角度）や、作業面１１ａの高さなどを、変更可能としてもよい。この場合におけるクリーンベンチの構造の一例について、図面を参照して説明する。図７は、本発明の実施形態に係るクリーンベンチの構造の別例を示す模式的な側面図である。なお、図７は、図１と同様の方法で、クリーンベンチ１Ｃについて図示したものである。また、以下では、図７に示すクリーンベンチ１Ｃについて、図１に示すクリーンベンチ１と異なる部分を中心に説明し、同様となる部分は説明を省略する。
【００４８】
図７に示すように、本例のクリーンベンチ１Ｃは、清浄気体供給部１２及びフレーム１４と上流側支持部１３との取り付け角度を変更可能にする上流側角度調整部１８と、フレーム１４と作業台１１との取り付け角度を変更可能にする下流側角度調整部１９と、上流側支持部１３の長さを変更可能にする上流側高さ調整部２０と、下流側支持部１５の長さを変更可能にする下流側高さ調整部２１と、を備える。
【００４９】
上流側角度調整部１８及び下流側角度調整部１９は、それぞれ固定用のネジ１８ａ，１９ａを備える。上流側角度調整部１８のネジ１８ａが緩められていると、清浄気体供給部１２及びフレーム１４と、上流側支持部１３の上部と、の取り付け角度が変更可能（回転可能）な状態になる。同様に、下流側角度調整部１９のネジ１９ａが緩められていると、フレーム１４と作業台１１との取り付け角度が変更可能（回転可能）な状態となる。
【００５０】
一方、上流側角度調整部１８のネジ１８ａが締め込まれると、清浄気体供給部１２及びフレーム１４と、上流側支持部１３の上部と、の取り付け角度が固定される。同様に、下流側角度調整部１９のネジ１９ａが締め込まれると、フレーム１４と作業台１１との取り付け角度が固定される。
【００５１】
また、上流側高さ調整部２０及び下流側高さ調整部２１は、それぞれ固定用のネジ２０ａ，２１ａを備える。上流側高さ調整部２０のネジ２０ａが緩められていると、上流側支持部１３と上流側高さ調整部２０とを併せた全体の長さが、変更可能な状態となる。同様に、下流側高さ調整部２１のネジ２１ａが緩められていると、下流側支持部１５と下流側高さ調整部２１とを併せた全体の長さが、変更可能な状態となる。
【００５２】
一方、上流側高さ調整部２０のネジ２０ａが締め込まれると、上流側支持部１３と上流側高さ調整部２０とを併せた全体の長さが、固定される。同様に、下流側支持部１５と下流側高さ調整部２１とを併せた全体の長さが、固定される。
【００５３】
作業者Ｈは、ネジ１８ａ，１９ａを緩めて、作業面１１ａに対する吹出面１２ｃの角度が所望の角度となるように各部（例えば、清浄気体供給部１２、上流側支持部１３、フレーム１４）を動かした後、ネジ１８ａ，１９ａを締め込む。これにより、作業面１１ａに対する吹出面１２ｃの角度が、作業者Ｈの望む角度で固定される。
【００５４】
また、作業者Ｈは、ネジ２０ａ，２１ａを緩めて、作業面１１ａの高さが所望の高さとなるように各部（例えば、上流側高さ調整部２０及び下流側高さ調整部２１）を動かした後、ネジ２０ａ，２１ａを締め込む。これにより、作業面１１ａの高さが、作業者Ｈの望む高さで固定される。
【００５５】
このように、本例のクリーンベンチ１Ｃでは、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す角度や、作業面１１ａの高さを、作業者Ｈが変更することが可能になる。そのため、作業者Ｈが、自身の体格や作業のし易さ等に応じて、これらを変更することが可能になる。したがって、作業者Ｈの作業効率を、向上することが可能になる。
【００５６】
なお、本例のクリーンベンチ１Ｃにおいて、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す角度を変更するための機構や、作業面１１ａの高さを変更するための機構は、上記の例に限られず、どのような機構であってもよい。また、本例のクリーンベンチ１Ｃにおいて、吹出面１２ｃと作業面１１ａとが成す角度が６０度以上８０度以下の範囲内で変更可能となる機構を、適用してもよい。
【００５７】
［４］ 上述のクリーンベンチ１において、清浄気体にイオンを供給するイオナイザを、さらに備えてもよい。これにより、ワークＷが帯電して異物を引き寄せることを、抑制することが可能になる。
【００５８】
また、上述のクリーンベンチ１において、清浄気体が接触する部材（例えば、作業台１１、フレーム１４、天板１６、側板１７）の少なくとも一部に、帯電防止処理を施してもよい。これにより、清浄気体が通過する領域に異物が引き寄せられることを、抑制することが可能になる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明は、例えば半導体装置の製造や検査などの各種作業を行う際に用いられるクリーンベンチに適用すると、好適である。
【符号の説明】
【００６０】
１，１Ａ〜１Ｃ ： クリーンベンチ
１１，１１Ａ ： 作業台
１１ａ，１１Ａａ ： 作業面
１２ ： 清浄気体供給部
１２ａ ： フィルタ
１２ｂ ： 気流発生部
１２ｃ ： 吹出面
１３ ： 上流側支持部
１４ ： フレーム
１５ ： 下流側支持部
１６ ： 天板
１７，１７Ａ ： 側板
１８ ： 上流側角度調整部
１８ａ ： ネジ
１９ ： 下流側角度調整部
１９ａ ： ネジ
２０ ： 上流高さ調整部
２０ａ ： ネジ
２１ ： 下流高さ調整部
２１ａ ： ネジ
Ｗ ： ワーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業面を有する作業台と、
前記作業面上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部と、を備え、
前記清浄気体供給部は、前記清浄気体が垂直に吹き出す吹出面を有し、
前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さいことを特徴とするクリーンベンチ。
【請求項２】
前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、６０度以上８０度以下であることを特徴とする請求項１に記載のクリーンベンチ。
【請求項３】
前記作業空間を囲う部材の少なくとも一部に貫通穴が形成され、前記清浄気体が前記貫通穴を介して前記作業空間から流出することを特徴とする請求項１または２に記載のクリーンベンチ。
【請求項４】
前記作業台が、複数の前記貫通穴が形成された穴あき平板であることを特徴とする請求項３に記載のクリーンベンチ。
【請求項５】
前記吹出面に対して垂直な天板を、さらに備え、
前記天板は、前記吹出面の上端の直上領域と、前記作業面の直上領域の少なくとも一部と、を覆うように設けられることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項６】
前記吹出面と前記作業面とが成す角度を変更する角度変更機構を、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項７】
前記作業面の高さを変更する高さ変更機構を、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項８】
前記清浄気体にイオンを含ませるイオナイザを、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項９】
前記清浄気体に接触する部材の少なくとも一部に、帯電防止処理が施されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項１】
作業面を有する作業台と、
前記作業面上の作業空間に向かって清浄気体を吹き出す清浄気体供給部と、を備え、
前記清浄気体供給部は、前記清浄気体が垂直に吹き出す吹出面を有し、
前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、０度より大きく９０度より小さいことを特徴とするクリーンベンチ。
【請求項２】
前記吹出面と前記作業面とが成す鋭角の角度が、６０度以上８０度以下であることを特徴とする請求項１に記載のクリーンベンチ。
【請求項３】
前記作業空間を囲う部材の少なくとも一部に貫通穴が形成され、前記清浄気体が前記貫通穴を介して前記作業空間から流出することを特徴とする請求項１または２に記載のクリーンベンチ。
【請求項４】
前記作業台が、複数の前記貫通穴が形成された穴あき平板であることを特徴とする請求項３に記載のクリーンベンチ。
【請求項５】
前記吹出面に対して垂直な天板を、さらに備え、
前記天板は、前記吹出面の上端の直上領域と、前記作業面の直上領域の少なくとも一部と、を覆うように設けられることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項６】
前記吹出面と前記作業面とが成す角度を変更する角度変更機構を、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項７】
前記作業面の高さを変更する高さ変更機構を、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項８】
前記清浄気体にイオンを含ませるイオナイザを、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【請求項９】
前記清浄気体に接触する部材の少なくとも一部に、帯電防止処理が施されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のクリーンベンチ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１３−５７４５１（Ｐ２０１３−５７４５１Ａ）
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９６１０６（Ｐ２０１１−１９６１０６）
【出願日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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