スルホンアニリド類の除草剤としての利用
【課題】除草剤の有効成分として優れた活性を示すスルホンアニリド類を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は水素、フッ素原子、塩素原子等を示し、Ｒ４は水素、アルキニル等を示し、Ｒ５は水素を示し、Ｒ６はヒドロキシ等を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、ＸはＣＨ又はＮを示す）で表されるスルホンアニリド類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【解決手段】下式（Ｉ）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は水素、フッ素原子、塩素原子等を示し、Ｒ４は水素、アルキニル等を示し、Ｒ５は水素を示し、Ｒ６はヒドロキシ等を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、ＸはＣＨ又はＮを示す）で表されるスルホンアニリド類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スルホンアニリド類の除草剤としての利用、新規なスルホンアニリド類、その製造方法及びその中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種のスルホンアニリド類が除草剤としての作用を示すことは既に知られており（例えば、特許文献１〜５）、また、ある種のスルホンアニリド類が殺菌剤としての作用を示すことも既に知られている（例えば、特許文献６）。
【特許文献１】ＰＣＴ国際公開ＷＯ９３／９０９９パンフレット
【特許文献２】ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／４１７９９パンフレット
【特許文献３】特開平１１−６０５６２号公報
【特許文献４】特開２０００−４４５４６号公報
【特許文献５】特開平２００６−５６８７０号公報
【特許文献６】特開平２００６−５６８７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
除草剤の開発にあたり、近年、重要な課題のひとつとして、従来の除草剤に対して抵抗性を獲得した草種、例えば、ＳＵ抵抗性雑草（スルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草）の防除の問題が挙げられており、これら抵抗性雑草等の難防除雑草を含む広範な雑草種を防除でき、かつ優れた作物−雑草間選択性を有する除草剤有効成分の開発が要望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、スルホンアニリド類について、各種化合物の除草活性につき鋭意研究を行なった結果、今回、一部本願出願日前公知である化合物を包含する下記式（Ｉ）で表されるスルホンアニリド類が優れた除草活性を示し、また、作物に対する安全性を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
かくして、本発明は、式（Ｉ）：
【化７】
式中、
Ｒ１は水素、フッ素原子、塩素原子、Ｃ１−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシ、Ｃ３−６シクロアルキル−Ｃ１−４アルキルオキシ又はＣ１−４ハロアルコキシを示し、
Ｒ２は水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３は水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４は水素、場合によりＣ１−４アルコキシ置換されていてもよいＣ１−４アルキル、Ｃ３−６アルケニル又はＣ３−６アルキニルを示し、
Ｒ５は水素を示し、
Ｒ６はヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸはＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤を提供するものである。
【０００６】
上記式（Ｉ）のスルホンアニリド類は、特許文献６に記載される既知の化合物を包含する。
【０００７】
本発明の前記式（Ｉ）に包含される下記式（ＩＡ）、（ＩＢ）及び（ＩＣ）で表されるスルホンアニリド類は、公知の刊行物に未記載の新規な化合物である。
【０００８】
【化８】
式中、
Ｒ１Ａがメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ａが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ａが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４Ａが水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ａが水素を示し、
Ｒ６Ａがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＡがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａ及びＲ６Ａは一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉｉ）Ｒ１Ａがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示すか、もしくはＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し、且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１Ａがメチルを示し、Ｒ２Ａがフッ素原子を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類。
【０００９】
【化９】
式中、
Ｒ１Ｂがフッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ２Ｂが水素を示し、
Ｒ３Ｂが水素を示し、
Ｒ４Ｂがエチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ｂが水素を示し、
Ｒ６Ｂがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ｂ及びＲ６Ｂが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＢがＮを示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【００１０】
【化１０】
式中、
Ｒ１Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ２Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｃが水素を示し、
Ｒ４Ｃが水素を示し、
Ｒ５Ｃが水素を示し、
Ｒ６Ｃがヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸＣがＣＨ又はＮを示す、
但し
ＸＣがＮを示す場合、Ｒ６Ｃはヒドロキシを示し、そして
ＸＣがＣＨを示す場合、Ｒ６Ｃはフッ素原子又は塩素原子を示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【００１１】
前記式（ＩＡ）で表される化合物は、例えば、下記の製法（ａ）〜（ｄ）のいずれかによって合成することができる：
製法（ａ）： Ｒ４Ａが水素を示し、そしてＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１１】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を過酸化水素及び酢酸中で反応させる方法。
【００１２】
製法（ｂ）： Ｒ４Ａが水素を示し、そしてＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１２】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を酸化剤と反応させる方法。
【００１３】
製法（ｃ）： Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、そしてＲ６Ａがヒドロキシを示す場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１３】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物をアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体と反応させる方法。
【００１４】
製法（ｄ）： Ｒ４Ａがメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示す場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１４】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ５Ａ、Ｒ６Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を
式
Ｒ４Ａｄ−Ｌｄ （ＩＶ）
式中、Ｒ４Ａｄはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、Ｌｄはハロゲンを示す、
で表される化合物と反応させる方法。
【００１５】
前記式（ＩＢ）で表される化合物は、例えば、下記の製法（ｅ）によって合成することができる：
製法（ｅ）：
式：
【化１５】
式中、
Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ｂ、Ｒ５Ｂ、Ｒ６Ｂ及びＸＢは前記と同義である、
で表される化合物を
式
Ｒ４Ｂｅ−Ｌｅ （ＶＩ）
式中、Ｒ４Ｂｅはエチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、Ｌｅはハロゲンを示す、
で表される化合物と反応させる方法。
【００１６】
前記式（ＩＣ）で表される化合物は、例えば、下記の製法（ｆ）又は（ｇ）のいずれかによって合成することができる：
製法（ｆ）： Ｒ４Ｃが水素を示し、Ｒ５Ｃが水素を示し、そしてＲ６Ｃがヒドロキシを示し、ＸＣがＮを示す場合の式（ＩＣ）の化合物の製造：
式：
【化１６】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物をアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体と反応させる方法。
【００１７】
製法（ｇ）： Ｒ４Ｃが水素を示し、Ｒ５Ｃが水素を示し、Ｒ６Ｃがフッ素原子又は塩素原子を示し、そしてＸＣがＣＨを示す場合の式（ＩＣ）の化合物の製造：
式：
【化１７】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物をハロゲン化剤と反応させる方法。
【００１８】
新規な式（ＩＡ）、（ＩＢ）及び（ＩＣ）の化合物を包含してなる式（Ｉ）で表される化合物は強力な除草活性を示す。
【００１９】
本発明による式（Ｉ）のスルホンアニリド類は、前記特許文献１及び２に記載の一般式に概念上包含されるが、前記式（Ｉ）で特定される本発明の化合物は、特許文献１及び２に具体的に開示されていない化合物である。また、先願の特許文献６の一般式に概念上包含され、且つ一部記載されている化合物である。そして、前記式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、意外にも、特許文献１及び２に具体的に記載されている構造類似の既知の化合物に比して、実質的に極めて卓越した除草作用を現すと共に、スルホニルウレア抵抗性雑草に対して優れた除草効果を示す。
【００２０】
本明細書において、
「Ｃ１−４アルキル」は直鎖状又は分岐状であることができ、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉｓｏ−プロピル、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
「Ｃ３−６アルケニル」は直鎖状又は分岐状であることができ、例えば、アリル、２−ブテニル、３−ブテニル等が挙げられる。
「Ｃ３−６アルキニル」は直鎖状又は分岐状であることができ、例えば、プロパルギル、２−ブチニル、３−ブチニル等が挙げられる。
「Ｃ１−４アルコキシ」は、直鎖状又は分岐鎖状であることができ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブトキシ等が挙げられる。
「Ｃ３−６シクロアルキル−Ｃ１−４アルキルオキシ」は、具体的には、例えば、シクロプロピルメチルオキシ等が挙げられる。
「Ｃ１−４ハロアルコキシ」は、ハロゲン、好ましくはフルオル、クロル又はブロムで置換されたアルコキシであり、例えば、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、２−フルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、２−ブロモエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、２，２，２−トリクロロエトキシ、３−クロロプロポキシ等が挙げられる。
「場合によりＣ１−４アルコキシ置換されていてもよいＣ１−４アルキル」における「Ｃ１−４アルコキシ置換されたＣ１−４アルキル」は、アルコキシ部分が前記「アルコキシ」及びアルキル部分が前記「アルキル」と同義であることができ「Ｃ１−４アルコキシ置換されたＣ１−４アルキル」としては、具体的には、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル等が挙げられる。
【００２１】
本発明の好適な群の化合物としては、前記式（Ｉ）において、
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
化合物が挙げられる。
【００２２】
本発明のより好適な群の化合物としては、前記式（Ｉ）において、
Ｒ１がフッ素原子、塩素原子、メチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３が水素を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシを示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合を除く、
化合物が挙げられる。
【００２３】
上記群の化合物は、例えば、直播水稲用除草剤及び／又は移植水稲用除草剤として優れた効果を示す。
【００２４】
同様に、本発明のより好適な群の化合物としては、前記式（Ｉ）において、
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸがＣＨを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１がメチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
化合物が挙げられる。
【００２５】
上記群の化合物は、例えば、直播水稲用除草剤、移植水稲用除草剤及び／又は禾本科畑作用除草剤（例えば、麦類用）として優れた効果を示す。
【００２６】
前記製法（ａ）は、原料として、例えば、３−フルオロ−２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、過酸化水素水と、酢酸とを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００２７】
【化１８】
【００２８】
前記製法（ｂ）は、原料として、例えば、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、酸化剤として、例えば、酸化クロム（ＶＩ）を用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００２９】
【化１９】
【００３０】
前記製法（ｃ）は、原料として、例えば、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、還元剤として、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３１】
【化２０】
【００３２】
前記製法（ｄ）は、原料として、例えば、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、ヨウ化メチルと、酸結合剤として、例えば、炭酸カリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３３】
【化２１】
【００３４】
前記製法（ｅ）は、原料として、例えば、２−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフロロメタンスルホンアニリドと、アリルブロマイドと、酸結合剤として、例えば、炭酸カリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３５】
【化２２】
【００３６】
前記製法（ｆ）は、原料として、例えば、２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、還元剤として、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３７】
【化２３】
【００３８】
前記製法（ｇ）は、原料として、例えば、２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドとハロゲン化剤として、ジエチルアミン硫黄 トリフルオリドを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３９】
【化２４】
【００４０】
前記製法（ａ）で原料として用いられる式（ＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って、式
【００４１】
【化２５】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を、ジフルオロメタンスルホニル クロライドと反応させることによって、製造することができる。
【００４２】
上記式（ＶＩＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、
例えば、ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／４１７９９パンフレット等に記載されている方法に準じて、式：
【００４３】
【化２６】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ及びＲ３Ａは前記と同義である、
で表される化合物を、２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシピリミジン又は２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシトリアジンと、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチルの存在下に反応させることにより容易に製造することができる。
【００４４】
上記のジフルオロメタンスルホニル クロライド、式（ＩＸ）の化合物、２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシピリミジン及び２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシトリアジンは既知の化合物である。
【００４５】
前記式（ＩＩ）の化合物の代表例としては、
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メチル−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−ジフルオロメトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド
等を例示することができる。
【００４６】
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物の代表例としては、
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］アニリン、
３−フルオロ−２−メチル−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］ アニリン、
３−フルオロ−２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］ アニリン、
２−ジフルオロメトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］ アニリン
等を例示することができる。
【００４７】
前記製法（ｂ）で原料として用いられる式（ＩＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って、式：
【００４８】
【化２７】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を、ジフルオロメタンスルホニル クロライドと反応させることによって、製造することができる。
【００４９】
上記式（Ｘ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、
前記特許文献２、前記特許文献６等に記載されている方法に準じて、前記式（ＶＩＩＩ）の化合物を、還元することによって、製造することができる。
【００５０】
前記式（ＩＩＩ）の化合物の代表例としては、
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−エチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メチル−３−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド
等を例示することができる。
【００５１】
前記式（Ｘ）の化合物の代表例としては、
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］ アニリン、
２−エチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］ アニリン、
２−メチル−３−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］ アニリン
等を例示することができる。
【００５２】
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物と反応せしめる還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムと塩化ニッケル（ＩＩ）との組み合わせや、ラネーニッケル等を挙げることができる。
【００５３】
前記製法（ｂ）において用いられる酸化剤としては、例えば、酸化クロム（ＶＩ）、二酸化マンガン、二酸化セレン等を挙げることができる。
【００５４】
前記製法（ｃ）で原料として用いられる式（ＩＡｃ）の化合物は、前記製法（ａ）又は（ｂ）により製造することができる本発明式（ＩＡ）の一部に相当し、その代表例としては下記のものを例示することができる。
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−エチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等。
【００５５】
前記製法（ｃ）において用いられるアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、ジメチルスルフィドボラン、ピリジン―ボラン等を挙げることができる。
【００５６】
前記製法（ｄ）で原料として用いられる式（ＩＡｄ）の化合物は、前記製法（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）により製造することができる本発明式（ＩＡ）の一部に相当し、その代表例としては下記のものを例示することができる。
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メチル−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等。
【００５７】
前記製法（ｅ）で原料として用いられる式（Ｖ）の化合物は、それ自体既知のものであり、例えば、特許文献５に記載の方法に従って、製造することができ、その代表例としては下記のものを例示することができる。
２−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−クロロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−フルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−クロロ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等。
【００５８】
前記製法（ｄ）において上記式（ＩＡｄ）の化合物と反応せしめられる式（ＩＶ）の化合物、及び前記製法（ｅ）において上記式（Ｖ）の化合物と反応せしめられる式（ＶＩ）の化合物は、それ自体既知のものであり、その代表例としては下記のものを例示することができる。
ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化ｎ−プロピル、ヨウ化ｎ−ブチル、クロロメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエーテル、アリルブロマイド、プロパルギルブロマイド等。
【００５９】
前記製法（ｆ）で原料として用いられる式（ＶＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記製法（ｂ）の方法に従って、式：
【００６０】
【化２８】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物を酸化することによって、製造することができる。
【００６１】
前記式（ＸＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って、それ自体既知の化合物である、２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリンをジフルオロメタンスルホニル クロライドと反応させることによって、製造することができる。
【００６２】
前記式（ＶＩＩ）の化合物の代表例としては、２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等を例示することができる。
【００６３】
前記製法（ｆ）において用いられるアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体としては、前記製法（ｃ）における例示と同じものを挙げることができる。
【００６４】
前記製法（ｇ）において用いられる前記式（ＩＣｇ）の化合物は、本発明の式（Ｉ）の化合物の一部に相当するか、もしくは特許文献５又は６に記載の、それ自体既知の化合物であり、例えば、前記製法（ｃ）に従って、式：
【００６５】
【化２９】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物を還元することにより、製造することができる。
【００６６】
前記式（ＩＣｇ）の化合物の代表例としては ２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等を例示することができる。
【００６７】
前記式（ＸＩＩ）の化合物は、それ自体既知の化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って製造することができる。また、前記式（ＸＩＩ）の化合物は、後記参考例４で例示されるとおり、有機化学の分野で知られている、いわゆる、プンメラー（Ｐｕｍｍｅｒｅｒ）転位反応の方法に従い、それ自体既知の化合物である、式：
【００６８】
【化３０】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物を、過酸化水素および酢酸中で反応させることにより、製造することもできる。
【００６９】
前記製法（ｆ）において用いられるハロゲン化剤は、それ自体既知であり、例えば、ジエチルアミン硫黄 トリフルオリド、オキシ塩化リン、塩化チオニル等を挙げることができる。
【００７０】
なお、後記参考例２で示されるとおり、Ｒ４Ａがメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示す場合の式（ＩＡ）の化合物は、前記式（ＩＩ）の化合物１モルに対し、約２モル量ないし約５モル量の酸結合剤存在下、約２モル量ないし約５モル量の前記式（ＩＶ）の化合物と反応させることにより製造することができる。
【００７１】
出発原料又は中間生成物である式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＶＩＩＩ）及び式（Ｘ）の各化合物はいずれも従来の文献に未記載の新規化合物であり、これらをまとめて一般式で示すと、次の２つの式で表すことができる。
すなわち、式：
【００７２】
【化３１】
式中、
Ｒ１Ｄがメチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ｄが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ｄが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｄが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ｄがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ｄが水素を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ｄがメチルを示し、Ｒ２Ｄが水素又はフッ素原子を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素を示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合を除く、
で表わされる化合物、及び
式：
【００７３】
【化３２】
式中、
Ｒ１Ｅがメチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２Ｅが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｅが水素を示し、
Ｒ６Ｅが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｅが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
で表わされる化合物。
【００７４】
上記製法（ａ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
有機酸類、例えば、酢酸等を挙げることができる。
製法（ａ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約１５℃〜約１２０℃、好ましくは、約１５℃〜約１００℃の範囲内の温度で実施される。
また、該反応は常圧の下で行うことができるが、加圧または減圧下で操作することもできる。
製法（ａ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＩ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えば酢酸中、約１モル量ないし約５モル量の過酸化水素水を、反応させることに目的化合物を得ることができる。
【００７５】
上記製法（ｂ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
水；
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、トルエン、キシレン、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチル−イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等；
ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等；
エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等；
スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；
有機酸類、例えば、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等；
塩基、例えば、ピリジン等を挙げることができる。
製法（ｂ）は、酸の存在下で行うことができ、斯かる酸触媒の例としては、鉱酸類、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸、亜硫酸水素ナトリウム等；有機酸類、例えば、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
製法（ｂ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約−１００〜約１５０℃、好ましくは、約２０〜約１２０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
製法（ｂ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えば酢酸中、１モル量乃至１０モル量の酸化クロム（ＶＩ）を、
反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００７６】
上記製法（ｃ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
水；
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エ−テル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等；
アルコ−ル類、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、ブタノ−ル、エチレングリコ−ル等；
エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等；
スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；および
塩基、例えば、ピリジン等を挙げることができる。
【００７７】
製法（ｃ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約−１００〜約６０℃、好ましくは、約−８０〜約４０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
【００７８】
製法（ｃ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＡｃ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばメタノール中、０．２５モル量乃至２モル量の水素化ホウ素ナトリウムを反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００７９】
製法（ｃ）を実施するに際して、式（ＩＩＩ）の化合物から出発し、式（ＩＡｃ）の化合物を単離精製することなく連続して反応を行ない、式（ＩＡ）の化合物を得ることもできる。
【００８０】
上記製法（ｄ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチル−イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等；
ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等；
エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等；
スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；および
塩基、例えば、ピリジン等を挙げることができる。
【００８１】
製法（ｄ）は、酸結合剤の存在下で行うことができ、斯かる酸結合剤としては、無機塩基としてアルカリ金属並びにアルカリ土類金属の、水素化物、水酸化物、炭酸塩及び重炭酸塩等、例えば、
水素化ナトリウム、水素化リチウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等；
無機アルカリ金属アミド類、例えば、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド等；
有機塩基としてアルコラート、第３級アミン類、ジアルキルアミノアニリン類及びピリジン類、例えば、トリエチルアミン、１，１，４，４−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）及び１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）等；
有機リチウム化合物、例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、ジメチルカッパ−リチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムシクロヘキシルイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、ｎ−ブチルリチウム・ＤＡＢＣＯ、ｎ−ブチルリチウム・ＤＢＵ、ｎ−ブチルリチウム・ＴＭＥＤＡ等を挙げることができる。
【００８２】
製法（ｄ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約−１００〜約１３０℃、好ましくは、約−８０〜約１３０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
【００８３】
製法（ｄ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＡｄ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばアセトニトリル中、１モル量乃至５モル量の式（ＩＶ）の化合物を、炭酸カリウム存在下で反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００８４】
上記製法（ｅ）の反応は前記製法（ｄ）における製法条件と同様の条件で実施することができる。
【００８５】
上記製法（ｆ）の反応は前記製法（ｃ）における製法条件と同様の条件で実施することができる。
【００８６】
上記製法（ｇ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
ハロゲン化剤として、フッ素化剤、例えば、前記のジエチルアミン硫黄 トリフルオリド等を用いる場合、
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等を挙げることができ、そして
ハロゲン化剤として、クロル化剤、例えば、前記のオキシ塩化リン、塩化チオニル等を用いる場合、
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等を挙げることができる。
【００８７】
製法（ｇ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
ハロゲン化剤として、前記のフッ素化剤を用いる場合、一般には、約−１００〜約３０℃、好ましくは、約−８０〜約３０℃の間で実施できる。また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
ハロゲン化剤として、前記のクロル化剤を用いる場合、一般には、約−１００〜約１３０℃、好ましくは、約−８０〜約１３０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
【００８８】
製法（ｇ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＣｇ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばジクロロメタン中、１モル量乃至５モル量のジエチルアミン硫黄 トリフルオリドを、反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００８９】
製法（ｇ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＣｇ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばジクロロメタン中、１モル量乃至それ自身溶媒として用いることのできる塩化チオニルを反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００９０】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、後記生物試験例に示す如く、各種雑草に対して優れた除草活性を示し、除草剤として使用することができる。本明細書において、雑草とは広義に望ましくない場所に生育するすべての植物を意味する。本発明の化合物は、使用濃度に依存して選択性除草剤として作用する。本発明の活性化合物は、例えば、下記の雑草を栽培植物の間で使用することができる。
【００９１】
双子葉雑草の属：カラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ）、マメグンバイナズナ（Ｌｅｉｐｉｄｉｕｍ）、ヤエムグラキヌタソウ（Ｇａｌｉｕｍ）、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ）、アカザ・アリタソウ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ）、イラクサ（Ｕｒｔｉｃａ）、ハンゴウソウ・ノボロギク・キオン（Ｓｅｎｅｃｉｏ）、ヒユ・ハゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ）、スベリヒユ・マツバボタン（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ）、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ）、アサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ）、ミチヤナギ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ）、ノアザミ・フジアザミ（Ｃｉｒｓｉｕｍ）、ノゲシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ）、ナス・ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ）、イヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐａ）、オドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ）、クワガタソウ・イヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ）、チョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ）、スミレパンジー（Ｖｉｏｌａ）、チシマオドロ（Ｇａｌｅｏｐｓｉｓ）、ケシ（Ｐａｐａｖｅｒ）、ヤグルマギク（Ｃｅｎｔａｕｒｅａ）、ハキダメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ）、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ）、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ）、アルバアサガオ（Ｐｈａｒｂｉｔｉｓ）等。
【００９２】
双子葉栽培植物の属：ワタ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ）、ダイズ（Ｇｌｙｃｉｎｅ）、フダンソウ・サトウダイコン（Ｂｅｔａ）、ニンジン（Ｄａｕｃｕｓ）、インゲンマメ・アオイマダ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ）、エンドウ（Ｐｉｓｕｍ）、ナス・ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ）、アマ（Ｌｉｎｕｍ）、サツマイモ・アサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ）、ソラマメ・ナンテンハギ（Ｖｉｃｉａ）、タバコ（Ｎｉｃｏｔｉａｎａ）、トマト（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ）、ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｓ）、アブラナ・ハクサイ・カブラ・キャベツ（Ｂｒａｓｓｉｃａ）、アキノノゲシ（Ｌａｃｔｕｃａ）、キュウリ・メロン（Ｃｕｃｕｍｉｓ）、カボチャ（Ｃｕｃｕｒｂｉｔａ）等。
【００９３】
単子葉雑草の属：ヒエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏｎａ）、エノコロ・アワ（Ｓｅｔａｒｉａ）、キビ（Ｐａｎｉｃｕｍ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）、アワガリエ・チモシー（Ｐｈｌｅｕｍ）、イチゴツナギ・スズメノカタビラ（Ｐｏａ）、ウシノケグサ・トボシガラ（Ｆｅｓｔｕｃａ）、オヒシバ・シコクビエ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ）、ドクムギ（Ｌｏｌｉｕｍ）、キツネガヤ・イヌムギ（Ｂｒｏｍｕｓ）、カラスムギ・オートムギ（エンバク）（Ａｖｅｎａ）、カヤツリグサ・パピルス・シチトウイ・ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、モロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、カモジグサ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ）、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テンツキ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）、オモダカ・クワイ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ハリイ・クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ）、ホタルイ・ウキヤグラ・フトイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、スズメノヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍ）、カモノハシ（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ）、ヌカボ（Ａｇｒｏｓｔｉｓ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ）、ギヨウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ）、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ）、ニクキビ（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）等。
【００９４】
単子葉栽培植物の属：イネ（Ｏｒｙｚａ）、トウモロコシ・ホップコーン（Ｚｅａ）、コムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ）、オオムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍ）、カラスムギ・オートムギ（エンバク）（Ａｖｅｎａ）、ライムギ（Ｓｅｃａｌｅ）、モロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、キビ（Ｐａｎｉｃｕｍ）、サトウキビ・ワセオバナ（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ）、パイナップル（Ａｎａｎａｓ）、アスパラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓ）、ネギ・ニラ（Ａｌｌｉｕｍ）等。
【００９５】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、水田雑草に対して使用することができる。本発明の活性化合物を用いて防除することができる水田雑草の例としては以下に述べるものが挙げられる。：
【００９６】
次の属の双子葉植物：タデ属（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、イヌガラシ属（Ｒｏｒｉｐｐａ）、キカシグサ属（Ｒｏｔａｌａ）、アゼナ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、タコウギ属（Ｂｉｄｅｎｓ）、アブノメ属（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍ）、タカサブロウ属（Ｅｃｌｉｐｔａ）、ミゾハコベ属（Ｅｌａｔｉｎｅ）、オオアブノメ属（Ｇｒａｔｉｏｌａ）、アゼトウガラシ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、ミズキンバイ属（Ｌｕｄｗｉｇｉａ）、セリ属（Ｏｅｎａｎｔｈｅ）、キンポウゲ属（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ）、サワトウガラシ属（Ｄｅｉｎｏｓｔｅｍａ）など。
【００９７】
次の属の単子葉植物：ヒエ属（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、キビ属（Ｐａｎｉｃｕｍ）、スズメノカタビラ属（Ｐｏａ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、ミズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テンツキ属（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）、オモダカ属（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ハリイ属（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ）、ホタルイ属（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、サジオモダカ属（Ａｌｉｓｍａ）、イボクサ属（Ａｎｅｉｌｅｍａ）、スブタ属（Ｂｌｙｘａ）、ホシクサ属（Ｅｒｉｏｃａｕｌｏｎ）、ヒルムシロ属（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ）、ニクキビ属（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、アゼガヤ属（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）、スフェノクレア属（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ）など。
【００９８】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、具体的に、例えば、次の代表的な水田雑草に関して使用することができる。
植物名 ラテン名
双子葉植物
キカシグサ Ｒｏｔａｌａ ｉｎｄｉｃａ Ｋｏｅｈｎｅ
アゼナ Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ Ｐｈｉｌｃｏｘ
アメリカアゼナ Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｄｕｂｉａ Ｌ． Ｐｅｎｎ．
アゼトウガラシ Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ａｎｇｕｓｔｉｆｏｌｉａ
チヨウジタデ Ｌｕｄｗｉｇｉａ ｐｒｏｓｔｒａｔａ Ｒｏｘｂｕｒｇｈ
ヒルムシロ Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ Ａ． Ｂｅｎｎ
ミゾハコベ Ｅｌａｔｉｎｅ ｔｒｉａｎｄｒａ Ｓｃｈｋ
セリ Ｏｅｎａｎｔｈｅ ｊａｖａｎｉｃａ
単子葉植物
タイヌビエ Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｏｒｙｚｉｃｏｌａ Ｖａｓｉｎｇ
マツバイ Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ Ｌ．
クログワイ Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ｋｕｒｏｇｕｗａｉ Ｏｈｗｉ
タマガヤツリ Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ Ｌ．
ミズガヤツリ Ｃｙｐｅｒｕｓ ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ Ｒｏｔｔｂｏｅｌ
ホタルイ Ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ Ｒｏｘｂｕｒｇｈ
コナギ Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｖａｇｉｎａｌｉｓ Ｐｒｅｓｌ
ウリガワ Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｐｙｇｍａｅａ Ｍｉｑ
ヘラオモダカ Ａｌｉｓｍａ ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ Ａ． Ｂｒ．
ｅｔ Ｂｏｕｃｈｅ
オモダカ Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ
ミズアオイ Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ
ニクキビ Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ ｐｌａｎｔａｇｉｎｅａ
アゼガヤ Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ
【００９９】
また、本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、スルホニルウレア系除草剤に対し抵抗性を示し、例えば、前記例示の雑草に対しても有効に使用することができる。
【０１００】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物の使用は、これらの草種の雑草に対する使用に限定されるものではなく、他の草種の雑草に対しても同様に適用することができる。
【０１０１】
更に、本発明の活性化合物は、多年生植物栽培において、雑草防除のために使用することができ、例えば、植林、観賞用植林、果樹園、ブドウ園、カンキツ果樹園、ナッツ果樹園、バナナ栽培場、コーヒー栽培場、茶栽培場、ゴム栽培場、ギネアアブラヤシ栽培場、ココア栽培場、小果樹園、ホップ栽培地等に適用することができ、また、一年生植物栽培において、選択的雑草防除のために適用することもできる。
【０１０２】
本発明の活性化合物は、実際に使用するにあたり、通常の製剤形態に製剤化することができる。その製剤形態としては、例えば、液剤、水和剤、エマルジョン、懸濁剤、粉剤、顆粒性水和剤、錠剤、粒剤、懸濁エマルジョン濃厚物、重合体物質中のマイクロカプセル、ジャンボ剤等を挙げることができる。
【０１０３】
これらの製剤は、それ自体既知の方法で調製することができ、例えば、活性化合物を、展開剤、即ち、液体又は固体の希釈剤又は担体、及び場合によっては界面活性剤、即ち、乳化剤及び／又は分散剤及び／又は泡沫形成剤と混合することによって調製することができる。
【０１０４】
液体の希釈剤又は担体としては、例えば、芳香族炭化水素（例えば、キシレン、トルエン、アルキルナフタレン等）、クロル化芳香族又はクロル化脂肪族炭化水素（例えば、クロロベンゼン類、塩化エチレン類、塩化メチレン等）、脂肪族炭化水素［例えば、シクロヘキサン等、パラフィン類（例えば、鉱油留分等）］、アルコール類（例えば、ブタノール、グリコール等）及びそれらのエーテル、エステル等、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、強極性溶媒（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等）、水等を挙げることができる。展開剤として水を用いる場合には、例えば、有機溶媒を補助溶媒として使用することができる。
【０１０５】
固体の希釈剤又は担体としては、例えば、粉砕天然鉱物（例えば、カオリン、クレー、タルク、チョーク、石英、アタパルガイド、モンモリロナイト、珪藻土等）、粉砕合成鉱物（例えば、高分散ケイ酸、アルミナ、ケイ酸塩等）等を挙げることができる。粒剤のための固体担体としては、粉砕且つ分別された岩石（例えば、方解石、大理石、軽石、海泡石、白雲石等）、無機及び有機物粉の合成粒、有機物質（例えば、おがくず、ココやしの実のから、とうもろこしの穂軸、タバコの茎等）の細粒体等を挙げることができる。
【０１０６】
乳化剤及び／又は泡沫剤としては、例えば、非イオン及び陰イオン乳化剤［例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アルコールエーテル（例えば、アルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、アリールスルホン酸塩）］、アルブミン加水分解生成物等を挙げることができる。
【０１０７】
分解剤には、例えば、リグニンサルファイト廃液やメチルセルロース等が包含される。
【０１０８】
固着剤も製剤（粉剤、粒剤、乳剤）に使用することができ、該固着剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、天然及び合成ポリマー（例えば、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート等）を挙げることができる。
【０１０９】
着色剤を使用することもでき、該着色剤としては、例えば、無機顔料（例えば、酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルー等）、アリザリン染料、アゾ染料又は金属フタロシアニン染料のような有機染料、更に、鉄、マンガン、ボロン、銅、コバルト、モリブデン、亜鉛等の金属の塩のような微量要素を挙げることができる。
【０１１０】
該製剤は、一般に、式（Ｉ）の活性化合物を０．０１〜９５重量％、好ましくは０．１〜９０重量％の範囲内で含有することができる。
【０１１１】
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、それ自体で又はそれらの製剤形態で、雑草防除のために使用することができる。また、本発明の式（Ｉ）の活性化合物は既知の除草剤と組み合わせて使用することもできる。既知の除草剤との混合除草剤組成物は、予め最終的製剤形態に調製されていてもよく、又は使用時にタンクミックスすることによって調製することもできる。混合除草剤組成物として本発明の式（Ｉ）の化合物と組合わせて使用しうる除草剤としては、例えば、一般名で表される下記の除草剤を具体例として例示することができる。
【０１１２】
アセトアミド系除草剤：例えば、プレチラクロール、ブタクロール、テニルクロール、アラクロール等；
アミド系除草剤：例えば、クロメプロップ、エトベンザニド等；
ベンゾフラン系除草剤：例えば、ベンフレセート等；
インダンジオン系除草剤：例えば、インダノファン等；
ピラゾール系除草剤；例えば、ピラゾレート、ベンゾフェナップ、ピラゾキシフェン等；
オキサジノン系除草剤；例えば、オキサジクロメホン等；
スルホニルウレア系除草剤：例えば、ベンスルフロンメチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、ハロスルフロンメチル、オルソスルファムロン、フルセトスルフロン等；
チオカーバメート系除草剤：例えば、チオベンカルブ、モリネート、ピリブチカルブ等；
トリアゾロピリミジン系除草剤：例えば、ペノキスラム、フルメトスラム、フロラスラム等；
ピラゾールカルボニトリル系除草剤：例えば、ピラクロニル等
トリアジン系除草剤：例えば、ジメタメトリン、シメトリン等；
トリアゾール系除草剤：例えば、カフェンストロール等；
キノリン系除草剤：例えば、キンクロラック等；
イソキサゾール系除草剤：例えば、イソキサフルトール等；
ジチオホスフェート系除草剤：例えば、アニロホス等；
オキシアセトアミド系除草剤：例えば、メフェナセット、フルフェナセット等；
テトラゾリノン系除草剤：例えば、フェントラザミド等；
ジカルボキシイミド系除草剤：例えば、ペントキサゾン等；
オキサジアゾロン系除草剤：例えば、オキサジアルギル、オキサジアゾン等；
トリオン系除草剤：例えば、スルコトリオン、ベンゾビシクロン、メゾトリオン、ＡＶＨ３０１等；
フェノキシプロピオネート系除草剤：例えば、シハロホップブチル等；
ベンゾイックアシッド系除草剤：例えば、ピリミノバックメチル、ビスピリバックナトリウム塩、ピリフタリド、ピリミスルファン等；
ジフェニルエーテル系除草剤：例えば、クロメトキシニル、オキシフルオルフェン等；
ピリジンジカルボチオエート系除草剤：例えば、ジチオピル等；
フェノキシ系除草剤：例えば、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ等；
ウレア系除草剤：例えば、ダイムロン、クミルロン等；
ナフタレンジオン系除草剤：例えば、キノクラミン等；
イソキサゾリジノン系除草剤：例えば、クロマゾン等；
イミダゾリノン系除草剤：例えば、イマゼタピル、イマザモックス等。
【０１１３】
上記の活性化合物は、“Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ”、２０００年、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔ Ｃｏｕｎｃｉｌ発行に記載された既知の除草剤である。
【０１１４】
また、本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、薬害軽減剤と混合すると、この混合により、薬害が軽減され、より広い雑草防除のスペクトルが提供され、選択性除草剤としての適用をより広くすることができる。
【０１１５】
該薬剤軽減剤としては、例えば、一般名又は開発コードで表される次の化合物を挙げることができる。
【０１１６】
ＡＤ−６７、ＢＡＳ−１４５１３８、ベノキサコル、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、２、４−Ｄ、ＤＫＡ−２４、ジクロルミッド、ダイムロン、フェンクロリム、フェンクロラゾールエチル、フルラゾール、フルキソフェニム、フリラゾール、イソキサジフェンエチル、メフェンピルジエチル、ＭＧ−１９１、ナフタリックアンハイドライド、オキサベトリニル、ＰＰＧ−１２９２、Ｒ−２９１４８等。
【０１１７】
上記の薬害軽減剤もまた、“Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ”、２０００年、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔ Ｃｏｕｎｃｉｌ発行に記載されている。
【０１１８】
更に、本発明の式（Ｉ）の化合物と上記除草剤とからなる混合除草剤組成物には、さらに、上記薬害軽減剤を混合することも可能であり、この混合により、薬害が軽減され且つより広い雑草防除のスペクトルが提供され、選択性除草剤としての適用をより広くすることができる。
【０１１９】
驚くべきことに、本発明の化合物と既知の除草剤及び／又は薬害軽減剤とのいくつかの混合除草剤組成物はまた、相乗効果を現すことができる。
【０１２０】
本発明の式（ｉ）の活性化合物を使用する場合、そのまま直接使用するか、又は散布用調製液、乳剤、錠剤、懸濁剤、粉剤、ペースト、粒剤のような製剤形態で使用するか、又は更に希釈して調製された使用形態で使用することができる。本発明の活性化合物は、例えば、液剤散布（ｗａｔｅｒｉｎｇ）、噴霧（ｓｐｒａｙｉｎｇ、ａｔｏｍｉｚｉｎｇ）、散粒等の方法で施用することができる。
【０１２１】
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、植物の発芽前及び発芽後のいずれの段階でも使用することができる。また、それらは播種前に土壌中に取り込ませることもできる。
【０１２２】
本発明の活性化合物の施用量は実質的範囲内でかえることができ、それは望むべく効果の性質に依存して基本的に異なる。除草剤として使用する場合、施用量としては、例えば、１ヘクタール当たり、活性化合物として約０．０００１〜約４ｋｇ、好ましくは約０．００１〜約１ｋｇの範囲内を例示することができる。
【実施例】
【０１２３】
次に、本発明の化合物の製造及び用途を下記の実施例によりさらに具体例を示すが、本発明はこれのみに限定されるべきものではない。
【０１２４】
＜化合物実施例＞
【０１２５】
合成例１
【０１２６】
【化３３】
２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２ ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）をジクロロエタン（５ｍｌ）に溶解し、アルゴン置換した後、０℃に冷却した。その溶液にジエチルアミン硫黄 トリフルオリド（０．１６ｇ，０．９７ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（２ｍｌ）溶液を滴下し、滴下後室温で３時間撹拌した。水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、減圧留去し、得られる油状物をヘキサン：酢酸エチル＝２：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製分離し、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−フルオロメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドを（０．１２ｇ、収率６０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ４．００（６Ｈ，ｓ）， ６．０２（１Ｈ，ｓ）， ６．５０（１Ｈ，ｄ）， ６．５６（１Ｈ，ｔ）， ７．１３−７．１９（１Ｈ，ｍ）， ７．３１−７．３６（１Ｈ，ｍ）， １０．７１（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１２７】
合成例２
【０１２８】
【化３４】
２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２１ｇ、０．５１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解し、塩化チオニル（０．２４ｇ、２．０３ｍｍｏｌ）を室温で加え、４時間撹拌した。反応液を減圧留去し、得られる油状物をヘキサン：酢酸エチル＝６：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製分離し、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−クロロメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドを（０．２ｇ、収率９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ４．０１（６Ｈ，ｓ）， ６．０２（２Ｈ，ｓ）， ６．６０（１Ｈ，ｔ）， ７．０４−７．３３（２Ｈ，ｍ）， １１．３１（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１２９】
合成例３
【０１３０】
【化３５】
Ｎ−｛６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシフェニル｝−１，１−ジフルオロメタンスルホンアミド（７０５ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）を酢酸（４ｍｌ）で希釈し、３１％過酸化水素水（２０５ｍｇ）を室温下加え、８０℃で３時間撹拌した。その反応溶液を室温に戻し、溶媒を減圧留去した後、水で希釈後、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：２混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とするＮ−｛６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−３−フルオロ−２−メトキシフェニル｝−１，１−ジフルオロメタンスルホンアミド（４９９ ｍｇ、収率７６％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．９８（６Ｈ， ｓ）， ４．１０（３Ｈ， ｓ）， ６．１８（１Ｈ， ｓ）， ６．７０（１Ｈ， ｔ）， ７．００（１Ｈ， ｍ）， ７．４５（１Ｈ， ｍ）．
【０１３１】
合成例４
【０１３２】
【化３６】
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．７２ｇ、１．８４ｍｍｏｌ）を酢酸（１０ｍｌ）に懸濁し、酸化クロム（ＶＩ）（０．３１ｇ、３．０５ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を８０℃に加熱した。６時間撹拌した後、さらに室温にて昼夜撹拌した。その反応溶液を水で希釈し、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの２：１混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製分離し、目的とする２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．１０ｇ、収率１３％）を油状物として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ３．９５（３Ｈ，ｓ）， ４．１０（６Ｈ，ｓ）， ６．５２（１Ｈ，ｔ）， ７．２２−７．３７（３Ｈ，ｍ）， ８．６２（１Ｈ，ｂｒ） ．
合成例５
【０１３３】
【化３７】
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．０５ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解し、５℃に冷却し、撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム（０．１ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。その後室温にて２時間撹拌した。反応液を水で希釈し、クエン酸で中和した後、酢酸エチルにより３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．０４ｇ、収率８０％）を得た。
Ｈ１ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ３．９０（３Ｈ，ｓ）， ４．０７（６Ｈ，ｓ）， ４．６１（１Ｈ，ｄ）， ６．１１（１Ｈ，ｄ）， ６．６８（１Ｈ，ｔ）， ６．９２−６．９５（１Ｈ，ｍ）， ７．２４−７．２９（２Ｈ，ｍ）， ８．６２（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１３４】
合成例６
【０１３５】
【化３８】
２−フルオロ‐６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフロロメタンスルホンアニリド（０．３３ｇ，０．８４ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（０．１６ｇ，１．１８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）溶液に室温でアリルブロミド（０．０９５ｍｌ，１．０９ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。反応液を６時間撹拌した後、酢酸エチルと水を加え有機層を分取しさらに水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状物をヘキサン、酢酸エチル３：２の混合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする２−フルオロ‐６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−（２−プロペニル）−Ｎ−ジフロロメタンスルホンアニリド（０．２７ｇ、収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３）４．０８（６Ｈ，ｓ）， ４．２２（１Ｈ）， ４．４０（１Ｈ）， ５．０９−５．１２（２Ｈ）， ５．８０−６．００（１Ｈ，ｍ）， ６．３５（１Ｈ，ｔ）， ７．３４−７．５１（３Ｈ）．
【０１３６】
参考例１
【０１３７】
【化３９】
２−フルオロ−３−クロロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却し、撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム（０．０４ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）を加えた後、室温にて２時間撹拌した。反応液を減圧留去し、残渣に水をとエーテルを加え、水層を分離した。得られた水層を希釈塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、目的の２−フルオロ−３−クロロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２ ｇ、収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ４．００（６Ｈ，ｓ）， ４．９６（１Ｈ，ｄ）， ６．０２（１Ｈ，ｓ）， ６．０９（１Ｈ，ｄ）， ６．５９（１Ｈ，ｔ）， ７．３２−７．５０（２Ｈ，ｍ）， １０．７３（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１３８】
参考例２ （別法）
【０１３９】
【化４０】
２−フルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルフォンアニリド（１．９６ｇ，４．６２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド（２０ｍｌ）溶液に， 炭酸カリウム（１．９５ｇ，１３．８５ｍｍｏｌ）を加え室温で撹拌しながらヨウ化メチル（０．８６ｍｌ、１３．８５ｍｍｏｌ）を加えた。その後室温にて４８時間撹拌した。反応液に酢酸エチルと水を加え有機層を分取し、水層をさらに酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。得られた油状物をヘキサンと酢酸エチルの３：２混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする２−フルオロ−６−［４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−メチル−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（１．０８ｇ、収率５７．５％）を白色結晶（ｍｐ １０４−１０７℃）として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ３．２６（３Ｈ，ｓ）， ４．１２（６Ｈ，ｓ）， ６．２１（１Ｈ，ｔ）， ７．３９−７．４５（１Ｈ，ｍ）， ７．５０−７．５７（１Ｈ，ｍ）， ７．６４−７．６７（１Ｈ，ｍ）．
【０１４０】
上記合成例１〜６及び参考例１〜２と同様にして得られる化合物を、合成例１〜６で合成した化合物及び参考例１〜２の化合物と共に下記第１表に示し、それらの物理化学的性質を第２表に示す。
【０１４１】
下記第１表において、ＯＰｒはｎ−プロピルオキシを示し、ＯｉＰｒはイソプロピルオキシを示し、ＯＢｕはｎ−ブチルオキシを示し、ＯＣＨ２ｃＰｒはシクロプロピルメチルオキシを示し、ＯｉＢｕはｉｓｏ−ブチルオキシを示し、ｐｒｏｐａｒｇｙｌはプロパルギルを示し、２−ｂｕｔｙｎｙｌは２−ブチニルを示し、（Ｅ）及び（Ｚ）はＥ，Ｚ命名法による幾何異性を示す。
【０１４２】
【表１】
【０１４３】
【表２】
＊１： 化合物番号９は、回転異性体、Ａ対Ｂが約３．０対１の割合の混合物である。
＊２： 化合物番号４６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約１．９対１の割合の混合物である。
＊３： 化合物番号４９は、回転異性体、Ａ対Ｂが約２．５対１の割合の混合物である。
＊４： 化合物番号７６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約３．２対１の割合の混合物である。
＊５： 化合物番号７７は、回転異性体、Ａ対Ｂが約２．２対１の割合の混合物である。
＊６： 化合物番号８０は、回転異性体、Ａ対Ｂが約６．８対１の割合の混合物である。
＊７： 化合物番号８６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約４．６対１の割合の混合物である。
＊８： 化合物番号１６６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約３．０対１の割合の混合物である。
【０１４４】
参考例３ 原料の製造
【０１４５】
【化３９】
【０１４６】
２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン（３．６７ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）とピリジン（１．６５ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２５ｍｌ）の溶液にジフルオロメタンスルホニルクロリド（３．１３ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を−３０ｏＣ以下で滴下し１時間撹拌した。反応溶液を室温にし２日間撹拌した。反応溶液に水で洗浄し，有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後，減圧濃縮した。得られた残渣をアセトンとヘキサンの１：３混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（１．５４ｇ、収率 ２９．９％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） ４．０５（６Ｈ，ｓ）， ４．１８（２Ｈ，ｓ）， ６．５５（１Ｈ，ｔ）， ７．０−７．１８ （２Ｈ，ｍ）．
【０１４７】
参考例４ 原料の製造
【０１４８】
【化４０】
２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．３２ｇ、０．７３ｍｍｏｌ）を酢酸（４ｍｌ）で希釈し、３３％過酸化水素水（１．５ｇ）を室温加え、室温で２時間撹拌後、８０℃でさらに３時間撹拌した。その反応溶液を室温に戻し、水で希釈後、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：２混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２５ｇ、収率８４．３％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．９８（６Ｈ，ｓ）， ４．７４（２Ｈ，ｓ）， ６．２１（１Ｈ，ｓ）， ６．５１（１Ｈ，ｔ）， ７．１４（１Ｈ，ｍ）， ７．６１（１Ｈ，ｍ）．
【０１４９】
合成例７ （中間体）
【０１５０】
【化４１】
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン（０．９０ｇ、３．２６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解し、ピリジン（０．２８ｇ、３．５８ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を−５oＣに冷却し、そこへジフルオロメタンスルホニルクロライド（０．５４ｇ、３．５８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１ｍｌ）溶液を加えた。その反応溶液を室温にて２日間撹拌し、水を加え、ジクロロメタンで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：１混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルフォンアニリド（０．８ｇ、収率６３％）を油状物として得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．８９（３Ｈ，ｓ）， ４．０４（６Ｈ，ｓ）， ４．２１（２Ｈ，ｓ）， ６．６８（１Ｈ，ｔ）， ６．９０（１Ｈ，ｄｄ）， ７．００（１Ｈ，ｄｄ）， ７．２０（１Ｈ，ｔ）， ９．８６（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１５１】
合成例８ （中間体）
【０１５２】
【化４２】
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］アニリン（３．２０ｇ、９．９３ｍｍｏｌ）と塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物（４．７２ｇ、１９．８５ｍｍｏｌ）をメタノール（３０ｍｌ）に溶解し、０oＣに冷却した。その溶液に水素化ホウ素ナトリウム（１．５０ｇ、３９．７０ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。その反応溶液を室温にて２時間撹拌後、メタノールを減圧留去した。得られる固体物をアンモニア水と酢酸エチルに溶解し、沈殿物をろ過した。ろ液の有機層を分取し、さらに水層を酢酸エチルで２回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：１混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン（１．００ｇ、収率３６％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．８４（３Ｈ，ｓ）， ３．９８（２Ｈ，ｓ）， ４．００（６Ｈ，ｓ）， ４．７１（２Ｈ，ｂｒ）， ６．６６−６．７４（２Ｈ，ｍ）， ６．８８−６．９１（１Ｈ，ｍ）．
【０１５３】
合成例９ （中間体）
【０１５４】
【化４３】
６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシアニリン（１．９３ｇ、５．６９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）で希釈し、氷冷下、ジフロロメタンスルフォニルクロライド（１．２８ｇ、８．５３ｍｍｏｌ）、続いてピリジン（０．９ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。再度氷冷下、ジフロロメタンスルフォニルクロライド（０．４３ｇ、２．８４ｍｍｏｌ）、続いてピリジン（０．４５ｇ、５．６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。飽和塩化アンモニア水溶液で希釈後、ジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：５混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とするＮ−｛６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシフェニル］−１，１−ジフルオロメタンスルホンアミド（０．７５ｇ、収率２７％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ２．０６（３Ｈ， ｓ）， ３．９８（６Ｈ， ｓ）， ４．００（３Ｈ， ｓ）， ５．２５（１Ｈ， ｓ）， ５．９５（１Ｈ， ｓ）， ６．７３（１Ｈ， ｔ）， ７．００（１Ｈ， ｍ）， ７．３５（１Ｈ， ｍ）， １０．８（１Ｈ， ｍ）．
【０１５５】
合成例１０ （中間体）
【０１５６】
【化４４】
３−フルオロ−２−メトキシアニリン（１．２８ｇ、９．０８ｍｍｏｌ）と４，６−ジメトキシ−２−［（メチルチオ）メチル］ピリミジン（２．００ｇ、９．９９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍｌ）で希釈し、ドライアイス−メタノールバスでマイナス６０度に冷却し、ｔ−ブトキシハイポクロライド （１．１８ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）を加え、そのまま１時間攪拌した。２８％ナトリウムメトキサイドメタノール溶液（３．５０ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）を加え、室温まで自然昇温させながら３時間攪拌した。飽和塩化アンモニア水溶液で希釈後、ジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：５混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシアニリン（１．９２ｇ、収率６２％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ２．０４（３Ｈ， ｓ）， ３．９１（３Ｈ， ｓ）， ３．９２（６Ｈ， ｓ）， ４．９１（２Ｈ， ｂｒ ｓ）， ５．０８（１Ｈ， ｓ）， ５．９０（１Ｈ， ｓ）， ６．４５（１Ｈ， ｍ）， ７．１７（１Ｈ， ｍ）．
【０１５７】
上記合成例７と同様にして得られる化合物を、合成例７で合成した化合物と共に下記第３表に示し、
上記合成例８と同様にして得られる化合物を、合成例８で合成した化合物と共に下記第４表に示し、
上記合成例９と同様にして得られる化合物を、合成例９で合成した化合物と共に下記第５表に示し、
上記合成例１０と同様にして得られる化合物を、合成例１０で合成した化合物と共に下記第６表に示し、それらの物理化学的性質を第７表に示す。
【０１５８】
下記第３〜６表において、ＯＰｒはｎ−プロピルオキシを示し、ＯｉＰｒはイソプロピルオキシを示し、ＯＢｕはｎ−ブチルオキシを示し、ＯＣＨ２ｃＰｒはシクロプロピルメチルオキシを示し、ＯｉＢｕはｉｓｏ−ブチルオキシを示す。
【０１５９】
【表３】
【０１６０】
【表４】
【０１６１】
【表５】
【０１６２】
【表６】
【０１６３】
【表７】
【０１６４】
＜生物試験例＞
比較化合物
【０１６５】
【化４５】
（Ｃ−１は特許文献２に開示される類似化合物）
【０１６６】
【化４６】
（Ｃ−２は特許文献４に開示される類似化合物）
Ｃ−３ エトキシスルフロン（一般名）
Ｃ−４ ベンスルフロンメチル（一般名）
【０１６７】
試験例１ スルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対する除草効果試験
活性化合物の調合剤の調製
担体：ＤＭＦ ５重量部
乳化剤：ベンジルオキシポリグリコールエーテル １重量部
活性化合物の調合剤は、１重量部の活性化合物と、上記分量の担体および乳化剤とを混合することにより、乳剤として得られる。その調合剤の所定薬量を水で希釈する。
【０１６８】
温室内において、水田土壌を詰めた５００ｃｍ２ポットに、スルホニルウレア系除草剤抵抗性が確認されている、イヌホタルイ（北海道産）、アゼナ（埼玉産）の各種子を、各々接種し、約２〜３ｃｍの湛水条件とした。各雑草の発生初めに、前記調製法に従って調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を水面施用した。処理後、３ｃｍの湛水状態を保ち、処理３週間後に除草効果を調査した。なお、除草効果の評価は、完全枯死を１００％とし、０％を除草効果なしとした。除草効果８０％以上を示す場合が除草剤として実用性があると評価される。代表例として、化合物番号１、３、４、５、６、７、１３、７０、１２７、１２８および１３０の化合物における調査結果を下記第８表に示す。
【０１６９】
【表８】
【０１７０】
試験例２ 移植水稲に対する薬害
温室内において、水田土壌を詰めた５００ｃｍ２ポットに、水稲苗（品種：日本晴）を１ポットあたり１株３本で移植し（移植深度２ｃｍ）、約２〜３ｃｍの湛水条件とした。水稲移植５日後、上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を水面施用した。処理後、３ｃｍの湛水状態を保ち、処理３週間後に水稲薬害を調査した。なお、水稲薬害の評価は、完全枯死を１００％とし、０％を薬害なしとした。薬害２０％以下を示す場合が、水稲用除草剤として安全性が優れていると評価される。代表例として、化合物番号３、４、５、６、７、７０、１１５、１２７、および１２８の化合物ならびに比較化合物Ｃ−２の化合物における調査結果を下記第９表に示す。
【０１７１】
【表９】
【０１７２】
試験例３ 湛水直播水稲に対する安全性および除草効果
温室内において、水田土壌を詰めた１００ｃｍ２ポットに、イネ（品種：バリーラ（Ｂａｌｉｌｌａ））および雑草（ニクキビ、ショクヨウガヤツリ、コゴメガヤツリ、コヒメビエ、アゼガヤ、マルバアサガオ、アメリカツノクサネム）の種子を表層に播種・覆土した。水を添加して湿潤条件（水位０ｃｍ）とした後、一部ポットは播種後速やかに上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を土壌に散布処理し、残りのポットは温室内にて供試植物を１−３葉期まで生育させた後、植物体上方より散布処理した。化合物処理１日後に３ｃｍの湛水条件とした。処理３週間後に各化合物の除草効果ならびに水稲への薬害を調査した。なお、除草効果と水稲薬害の評価は、完全枯死を１００％とし、０％を除草効果なし、あるいは薬害なしとした。除草効果８０％以上を示す場合が除草剤として実用性があると評価され、薬害２０％以下を示す場合が、除草剤として安全性が優れていると評価される。代表例として、化合物番号１、２および９の化合物における調査結果を下記第１０表および第１１表に示す。
【０１７３】
【表１０】
【０１７４】
【表１１】
【０１７５】
試験例４ 畑雑草に対する除草効果および畑作物に対する薬害試験（発生前土壌散布処理）
温室内において、畑土壌（砂壤土）を詰めた１６ｃｍ２ポットに、畑作物（コムギ、ダイズ）および雑草（イヌビエ、エノコログサ）の種子を１ポットに１草種ずつ、表層に播種し、覆土した。播種後速やかに上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を土壌に散布処理した。処理３週間後に各化合物の除草効果ならびに作物への薬害を調査した。なお、除草効果と作物薬害の評価は、上記試験例３と同様にして行なった。代表例として、化合物番号１、２４の化合物および比較化合物Ｃ−１の化合物における調査結果を下記第１２表に示す。
【０１７６】
【表１２】
【０１７７】
試験例５ 畑雑草に対する除草効果および畑作物に対する薬害試験（発生後茎葉散布処理）
温室内において、畑土壌（砂壤土）を詰めた１６ｃｍ２ポットに、畑作物（コムギ）および雑草（オオイヌノフグリ、スミレ）の種子を１ポットに１草種ずつ、表層に播種し、覆土した。温室内にて供試植物を２−３葉期まで生育させた後、上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を植物体上方より散布処理した。処理３週間後に各化合物の除草効果ならびに作物への薬害を調査した。なお、除草効果と作物薬害の評価は、上記試験例３と同様にして行なった。代表例として、化合物番号１３の化合物および比較化合物Ｃ−１の化合物における調査結果を下記第１３表に示す。
【０１７８】
【表１３】
【０１７９】
＜製剤例＞
製剤例１（粒剤）
本発明化合物番号３（１０部）、ベントナイト（モンモリロナイト）（３０部）、タルク（滑石）（５８部）及びリグニンスルホン酸塩（２部）の混合物に水（２５部）を加え、良く捏化し、押し出し式造粒機により１０〜４０メッシュの粒状とし、４０〜５０℃で乾燥して粒剤とする。
【０１８０】
製剤例２（粒剤）
０．２〜２ｍｍに粒度分布を有する粘土鉱物粒（９５部）を回転混合機に入れ、回転下、液体希釈剤とともに本発明化合物番号５（５部）を噴霧し均等に湿らせた後、４０〜５０℃で乾燥し粒剤とする。
【０１８１】
製剤例３（乳剤）
本発明化合物番号１３（３０部）、キシレン（５５部）、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル（８部）及びアルキルベンゼンンスルホン酸カルシウム（７部）を混合攪拌して乳剤とする。
【０１８２】
製剤例４（水和剤）
本発明化合物番号１（１５部）、ホワイトカーボン（含水無結晶酸化ケイ素微粉末）と粉末クレーとの混合物（１：５）（８０部）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（２部）及びアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン重合物（３部）を粉末混合し、水和剤とする。
【０１８３】
製剤例５（水和顆粒）
本発明化合物番号１（２０部）、リグニンスルホン酸ナトリウム（３０部）、ベントナイト（１５部）及び焼成ケイソウ土粉末（３５部）を十分に混合し、水を加え、０．３ｍｍのスクリーンで押し出し乾燥して、水和顆粒とする。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スルホンアニリド類の除草剤としての利用、新規なスルホンアニリド類、その製造方法及びその中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種のスルホンアニリド類が除草剤としての作用を示すことは既に知られており（例えば、特許文献１〜５）、また、ある種のスルホンアニリド類が殺菌剤としての作用を示すことも既に知られている（例えば、特許文献６）。
【特許文献１】ＰＣＴ国際公開ＷＯ９３／９０９９パンフレット
【特許文献２】ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／４１７９９パンフレット
【特許文献３】特開平１１−６０５６２号公報
【特許文献４】特開２０００−４４５４６号公報
【特許文献５】特開平２００６−５６８７０号公報
【特許文献６】特開平２００６−５６８７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
除草剤の開発にあたり、近年、重要な課題のひとつとして、従来の除草剤に対して抵抗性を獲得した草種、例えば、ＳＵ抵抗性雑草（スルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草）の防除の問題が挙げられており、これら抵抗性雑草等の難防除雑草を含む広範な雑草種を防除でき、かつ優れた作物−雑草間選択性を有する除草剤有効成分の開発が要望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、スルホンアニリド類について、各種化合物の除草活性につき鋭意研究を行なった結果、今回、一部本願出願日前公知である化合物を包含する下記式（Ｉ）で表されるスルホンアニリド類が優れた除草活性を示し、また、作物に対する安全性を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
かくして、本発明は、式（Ｉ）：
【化７】
式中、
Ｒ１は水素、フッ素原子、塩素原子、Ｃ１−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシ、Ｃ３−６シクロアルキル−Ｃ１−４アルキルオキシ又はＣ１−４ハロアルコキシを示し、
Ｒ２は水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３は水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４は水素、場合によりＣ１−４アルコキシ置換されていてもよいＣ１−４アルキル、Ｃ３−６アルケニル又はＣ３−６アルキニルを示し、
Ｒ５は水素を示し、
Ｒ６はヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸはＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤を提供するものである。
【０００６】
上記式（Ｉ）のスルホンアニリド類は、特許文献６に記載される既知の化合物を包含する。
【０００７】
本発明の前記式（Ｉ）に包含される下記式（ＩＡ）、（ＩＢ）及び（ＩＣ）で表されるスルホンアニリド類は、公知の刊行物に未記載の新規な化合物である。
【０００８】
【化８】
式中、
Ｒ１Ａがメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ａが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ａが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４Ａが水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ａが水素を示し、
Ｒ６Ａがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＡがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａ及びＲ６Ａは一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉｉ）Ｒ１Ａがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示すか、もしくはＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し、且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１Ａがメチルを示し、Ｒ２Ａがフッ素原子を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類。
【０００９】
【化９】
式中、
Ｒ１Ｂがフッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ２Ｂが水素を示し、
Ｒ３Ｂが水素を示し、
Ｒ４Ｂがエチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ｂが水素を示し、
Ｒ６Ｂがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ｂ及びＲ６Ｂが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＢがＮを示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【００１０】
【化１０】
式中、
Ｒ１Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ２Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｃが水素を示し、
Ｒ４Ｃが水素を示し、
Ｒ５Ｃが水素を示し、
Ｒ６Ｃがヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸＣがＣＨ又はＮを示す、
但し
ＸＣがＮを示す場合、Ｒ６Ｃはヒドロキシを示し、そして
ＸＣがＣＨを示す場合、Ｒ６Ｃはフッ素原子又は塩素原子を示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【００１１】
前記式（ＩＡ）で表される化合物は、例えば、下記の製法（ａ）〜（ｄ）のいずれかによって合成することができる：
製法（ａ）： Ｒ４Ａが水素を示し、そしてＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１１】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を過酸化水素及び酢酸中で反応させる方法。
【００１２】
製法（ｂ）： Ｒ４Ａが水素を示し、そしてＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１２】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を酸化剤と反応させる方法。
【００１３】
製法（ｃ）： Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、そしてＲ６Ａがヒドロキシを示す場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１３】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物をアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体と反応させる方法。
【００１４】
製法（ｄ）： Ｒ４Ａがメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示す場合の式（ＩＡ）の化合物の製造：
式：
【化１４】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ５Ａ、Ｒ６Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を
式
Ｒ４Ａｄ−Ｌｄ （ＩＶ）
式中、Ｒ４Ａｄはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、Ｌｄはハロゲンを示す、
で表される化合物と反応させる方法。
【００１５】
前記式（ＩＢ）で表される化合物は、例えば、下記の製法（ｅ）によって合成することができる：
製法（ｅ）：
式：
【化１５】
式中、
Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ｂ、Ｒ５Ｂ、Ｒ６Ｂ及びＸＢは前記と同義である、
で表される化合物を
式
Ｒ４Ｂｅ−Ｌｅ （ＶＩ）
式中、Ｒ４Ｂｅはエチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、Ｌｅはハロゲンを示す、
で表される化合物と反応させる方法。
【００１６】
前記式（ＩＣ）で表される化合物は、例えば、下記の製法（ｆ）又は（ｇ）のいずれかによって合成することができる：
製法（ｆ）： Ｒ４Ｃが水素を示し、Ｒ５Ｃが水素を示し、そしてＲ６Ｃがヒドロキシを示し、ＸＣがＮを示す場合の式（ＩＣ）の化合物の製造：
式：
【化１６】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物をアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体と反応させる方法。
【００１７】
製法（ｇ）： Ｒ４Ｃが水素を示し、Ｒ５Ｃが水素を示し、Ｒ６Ｃがフッ素原子又は塩素原子を示し、そしてＸＣがＣＨを示す場合の式（ＩＣ）の化合物の製造：
式：
【化１７】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物をハロゲン化剤と反応させる方法。
【００１８】
新規な式（ＩＡ）、（ＩＢ）及び（ＩＣ）の化合物を包含してなる式（Ｉ）で表される化合物は強力な除草活性を示す。
【００１９】
本発明による式（Ｉ）のスルホンアニリド類は、前記特許文献１及び２に記載の一般式に概念上包含されるが、前記式（Ｉ）で特定される本発明の化合物は、特許文献１及び２に具体的に開示されていない化合物である。また、先願の特許文献６の一般式に概念上包含され、且つ一部記載されている化合物である。そして、前記式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、意外にも、特許文献１及び２に具体的に記載されている構造類似の既知の化合物に比して、実質的に極めて卓越した除草作用を現すと共に、スルホニルウレア抵抗性雑草に対して優れた除草効果を示す。
【００２０】
本明細書において、
「Ｃ１−４アルキル」は直鎖状又は分岐状であることができ、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉｓｏ−プロピル、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
「Ｃ３−６アルケニル」は直鎖状又は分岐状であることができ、例えば、アリル、２−ブテニル、３−ブテニル等が挙げられる。
「Ｃ３−６アルキニル」は直鎖状又は分岐状であることができ、例えば、プロパルギル、２−ブチニル、３−ブチニル等が挙げられる。
「Ｃ１−４アルコキシ」は、直鎖状又は分岐鎖状であることができ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブトキシ等が挙げられる。
「Ｃ３−６シクロアルキル−Ｃ１−４アルキルオキシ」は、具体的には、例えば、シクロプロピルメチルオキシ等が挙げられる。
「Ｃ１−４ハロアルコキシ」は、ハロゲン、好ましくはフルオル、クロル又はブロムで置換されたアルコキシであり、例えば、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、２−フルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、２−ブロモエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、２，２，２−トリクロロエトキシ、３−クロロプロポキシ等が挙げられる。
「場合によりＣ１−４アルコキシ置換されていてもよいＣ１−４アルキル」における「Ｃ１−４アルコキシ置換されたＣ１−４アルキル」は、アルコキシ部分が前記「アルコキシ」及びアルキル部分が前記「アルキル」と同義であることができ「Ｃ１−４アルコキシ置換されたＣ１−４アルキル」としては、具体的には、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル等が挙げられる。
【００２１】
本発明の好適な群の化合物としては、前記式（Ｉ）において、
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
化合物が挙げられる。
【００２２】
本発明のより好適な群の化合物としては、前記式（Ｉ）において、
Ｒ１がフッ素原子、塩素原子、メチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３が水素を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシを示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合を除く、
化合物が挙げられる。
【００２３】
上記群の化合物は、例えば、直播水稲用除草剤及び／又は移植水稲用除草剤として優れた効果を示す。
【００２４】
同様に、本発明のより好適な群の化合物としては、前記式（Ｉ）において、
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸがＣＨを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１がメチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
化合物が挙げられる。
【００２５】
上記群の化合物は、例えば、直播水稲用除草剤、移植水稲用除草剤及び／又は禾本科畑作用除草剤（例えば、麦類用）として優れた効果を示す。
【００２６】
前記製法（ａ）は、原料として、例えば、３−フルオロ−２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、過酸化水素水と、酢酸とを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００２７】
【化１８】
【００２８】
前記製法（ｂ）は、原料として、例えば、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、酸化剤として、例えば、酸化クロム（ＶＩ）を用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００２９】
【化１９】
【００３０】
前記製法（ｃ）は、原料として、例えば、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、還元剤として、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３１】
【化２０】
【００３２】
前記製法（ｄ）は、原料として、例えば、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、ヨウ化メチルと、酸結合剤として、例えば、炭酸カリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３３】
【化２１】
【００３４】
前記製法（ｅ）は、原料として、例えば、２−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフロロメタンスルホンアニリドと、アリルブロマイドと、酸結合剤として、例えば、炭酸カリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３５】
【化２２】
【００３６】
前記製法（ｆ）は、原料として、例えば、２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドと、還元剤として、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３７】
【化２３】
【００３８】
前記製法（ｇ）は、原料として、例えば、２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドとハロゲン化剤として、ジエチルアミン硫黄 トリフルオリドを用いる場合、下記反応式で表すことができる。
【００３９】
【化２４】
【００４０】
前記製法（ａ）で原料として用いられる式（ＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って、式
【００４１】
【化２５】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を、ジフルオロメタンスルホニル クロライドと反応させることによって、製造することができる。
【００４２】
上記式（ＶＩＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、
例えば、ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／４１７９９パンフレット等に記載されている方法に準じて、式：
【００４３】
【化２６】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ及びＲ３Ａは前記と同義である、
で表される化合物を、２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシピリミジン又は２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシトリアジンと、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチルの存在下に反応させることにより容易に製造することができる。
【００４４】
上記のジフルオロメタンスルホニル クロライド、式（ＩＸ）の化合物、２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシピリミジン及び２−メチルチオメチル−４，６−ジメトキシトリアジンは既知の化合物である。
【００４５】
前記式（ＩＩ）の化合物の代表例としては、
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メチル−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−ジフルオロメトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド
等を例示することができる。
【００４６】
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物の代表例としては、
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］アニリン、
３−フルオロ−２−メチル−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］ アニリン、
３−フルオロ−２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］ アニリン、
２−ジフルオロメトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］ アニリン
等を例示することができる。
【００４７】
前記製法（ｂ）で原料として用いられる式（ＩＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って、式：
【００４８】
【化２７】
式中、
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ及びＸＡは前記と同義である、
で表される化合物を、ジフルオロメタンスルホニル クロライドと反応させることによって、製造することができる。
【００４９】
上記式（Ｘ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、
前記特許文献２、前記特許文献６等に記載されている方法に準じて、前記式（ＶＩＩＩ）の化合物を、還元することによって、製造することができる。
【００５０】
前記式（ＩＩＩ）の化合物の代表例としては、
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−エチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メチル−３−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド
等を例示することができる。
【００５１】
前記式（Ｘ）の化合物の代表例としては、
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］ アニリン、
２−エチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］ アニリン、
２−メチル−３−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］ アニリン
等を例示することができる。
【００５２】
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物と反応せしめる還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムと塩化ニッケル（ＩＩ）との組み合わせや、ラネーニッケル等を挙げることができる。
【００５３】
前記製法（ｂ）において用いられる酸化剤としては、例えば、酸化クロム（ＶＩ）、二酸化マンガン、二酸化セレン等を挙げることができる。
【００５４】
前記製法（ｃ）で原料として用いられる式（ＩＡｃ）の化合物は、前記製法（ａ）又は（ｂ）により製造することができる本発明式（ＩＡ）の一部に相当し、その代表例としては下記のものを例示することができる。
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
３−フルオロ−２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−エチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等。
【００５５】
前記製法（ｃ）において用いられるアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、ジメチルスルフィドボラン、ピリジン―ボラン等を挙げることができる。
【００５６】
前記製法（ｄ）で原料として用いられる式（ＩＡｄ）の化合物は、前記製法（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）により製造することができる本発明式（ＩＡ）の一部に相当し、その代表例としては下記のものを例示することができる。
２−メチル−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メチル−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等。
【００５７】
前記製法（ｅ）で原料として用いられる式（Ｖ）の化合物は、それ自体既知のものであり、例えば、特許文献５に記載の方法に従って、製造することができ、その代表例としては下記のものを例示することができる。
２−フルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−クロロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−フルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド、
２−クロロ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等。
【００５８】
前記製法（ｄ）において上記式（ＩＡｄ）の化合物と反応せしめられる式（ＩＶ）の化合物、及び前記製法（ｅ）において上記式（Ｖ）の化合物と反応せしめられる式（ＶＩ）の化合物は、それ自体既知のものであり、その代表例としては下記のものを例示することができる。
ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化ｎ−プロピル、ヨウ化ｎ−ブチル、クロロメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエーテル、アリルブロマイド、プロパルギルブロマイド等。
【００５９】
前記製法（ｆ）で原料として用いられる式（ＶＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記製法（ｂ）の方法に従って、式：
【００６０】
【化２８】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物を酸化することによって、製造することができる。
【００６１】
前記式（ＸＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って、それ自体既知の化合物である、２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリンをジフルオロメタンスルホニル クロライドと反応させることによって、製造することができる。
【００６２】
前記式（ＶＩＩ）の化合物の代表例としては、２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等を例示することができる。
【００６３】
前記製法（ｆ）において用いられるアルカリ金属水素錯化合物又はボラン錯体としては、前記製法（ｃ）における例示と同じものを挙げることができる。
【００６４】
前記製法（ｇ）において用いられる前記式（ＩＣｇ）の化合物は、本発明の式（Ｉ）の化合物の一部に相当するか、もしくは特許文献５又は６に記載の、それ自体既知の化合物であり、例えば、前記製法（ｃ）に従って、式：
【００６５】
【化２９】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物を還元することにより、製造することができる。
【００６６】
前記式（ＩＣｇ）の化合物の代表例としては ２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド等を例示することができる。
【００６７】
前記式（ＸＩＩ）の化合物は、それ自体既知の化合物であり、例えば、前記特許文献５又は前記特許文献６のいずれかに記載の方法に従って製造することができる。また、前記式（ＸＩＩ）の化合物は、後記参考例４で例示されるとおり、有機化学の分野で知られている、いわゆる、プンメラー（Ｐｕｍｍｅｒｅｒ）転位反応の方法に従い、それ自体既知の化合物である、式：
【００６８】
【化３０】
式中、
Ｒ１Ｃ、Ｒ２Ｃ及びＲ３Ｃは前記と同義である、
で表される化合物を、過酸化水素および酢酸中で反応させることにより、製造することもできる。
【００６９】
前記製法（ｆ）において用いられるハロゲン化剤は、それ自体既知であり、例えば、ジエチルアミン硫黄 トリフルオリド、オキシ塩化リン、塩化チオニル等を挙げることができる。
【００７０】
なお、後記参考例２で示されるとおり、Ｒ４Ａがメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示す場合の式（ＩＡ）の化合物は、前記式（ＩＩ）の化合物１モルに対し、約２モル量ないし約５モル量の酸結合剤存在下、約２モル量ないし約５モル量の前記式（ＩＶ）の化合物と反応させることにより製造することができる。
【００７１】
出発原料又は中間生成物である式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＶＩＩＩ）及び式（Ｘ）の各化合物はいずれも従来の文献に未記載の新規化合物であり、これらをまとめて一般式で示すと、次の２つの式で表すことができる。
すなわち、式：
【００７２】
【化３１】
式中、
Ｒ１Ｄがメチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ｄが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ｄが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｄが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ｄがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ｄが水素を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ｄがメチルを示し、Ｒ２Ｄが水素又はフッ素原子を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素を示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合を除く、
で表わされる化合物、及び
式：
【００７３】
【化３２】
式中、
Ｒ１Ｅがメチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２Ｅが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｅが水素を示し、
Ｒ６Ｅが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｅが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
で表わされる化合物。
【００７４】
上記製法（ａ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
有機酸類、例えば、酢酸等を挙げることができる。
製法（ａ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約１５℃〜約１２０℃、好ましくは、約１５℃〜約１００℃の範囲内の温度で実施される。
また、該反応は常圧の下で行うことができるが、加圧または減圧下で操作することもできる。
製法（ａ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＩ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えば酢酸中、約１モル量ないし約５モル量の過酸化水素水を、反応させることに目的化合物を得ることができる。
【００７５】
上記製法（ｂ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
水；
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、トルエン、キシレン、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチル−イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等；
ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等；
エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等；
スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；
有機酸類、例えば、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等；
塩基、例えば、ピリジン等を挙げることができる。
製法（ｂ）は、酸の存在下で行うことができ、斯かる酸触媒の例としては、鉱酸類、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸、亜硫酸水素ナトリウム等；有機酸類、例えば、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
製法（ｂ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約−１００〜約１５０℃、好ましくは、約２０〜約１２０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
製法（ｂ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えば酢酸中、１モル量乃至１０モル量の酸化クロム（ＶＩ）を、
反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００７６】
上記製法（ｃ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
水；
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エ−テル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等；
アルコ−ル類、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、ブタノ−ル、エチレングリコ−ル等；
エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等；
スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；および
塩基、例えば、ピリジン等を挙げることができる。
【００７７】
製法（ｃ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約−１００〜約６０℃、好ましくは、約−８０〜約４０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
【００７８】
製法（ｃ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＡｃ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばメタノール中、０．２５モル量乃至２モル量の水素化ホウ素ナトリウムを反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００７９】
製法（ｃ）を実施するに際して、式（ＩＩＩ）の化合物から出発し、式（ＩＡｃ）の化合物を単離精製することなく連続して反応を行ない、式（ＩＡ）の化合物を得ることもできる。
【００８０】
上記製法（ｄ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチル−イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等；
ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等；
エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等；
スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；および
塩基、例えば、ピリジン等を挙げることができる。
【００８１】
製法（ｄ）は、酸結合剤の存在下で行うことができ、斯かる酸結合剤としては、無機塩基としてアルカリ金属並びにアルカリ土類金属の、水素化物、水酸化物、炭酸塩及び重炭酸塩等、例えば、
水素化ナトリウム、水素化リチウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等；
無機アルカリ金属アミド類、例えば、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド等；
有機塩基としてアルコラート、第３級アミン類、ジアルキルアミノアニリン類及びピリジン類、例えば、トリエチルアミン、１，１，４，４−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）及び１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）等；
有機リチウム化合物、例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、ジメチルカッパ−リチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムシクロヘキシルイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、ｎ−ブチルリチウム・ＤＡＢＣＯ、ｎ−ブチルリチウム・ＤＢＵ、ｎ−ブチルリチウム・ＴＭＥＤＡ等を挙げることができる。
【００８２】
製法（ｄ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
一般には、約−１００〜約１３０℃、好ましくは、約−８０〜約１３０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
【００８３】
製法（ｄ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＡｄ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばアセトニトリル中、１モル量乃至５モル量の式（ＩＶ）の化合物を、炭酸カリウム存在下で反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００８４】
上記製法（ｅ）の反応は前記製法（ｄ）における製法条件と同様の条件で実施することができる。
【００８５】
上記製法（ｆ）の反応は前記製法（ｃ）における製法条件と同様の条件で実施することができる。
【００８６】
上記製法（ｇ）の反応は適当な希釈剤中で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例としては、
ハロゲン化剤として、フッ素化剤、例えば、前記のジエチルアミン硫黄 トリフルオリド等を用いる場合、
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等を挙げることができ、そして
ハロゲン化剤として、クロル化剤、例えば、前記のオキシ塩化リン、塩化チオニル等を用いる場合、
脂肪族、環脂肪族および芳香族炭化水素類（場合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロルベンゼン等；
エ−テル類、例えば、エチルエ−テル、メチルエチルエ−テル、イソプロピルエ−テル、ブチルエ−テル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル（ＤＧＭ）等；
酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等を挙げることができる。
【００８７】
製法（ｇ）は、実質的に広い温度範囲内において実施することができる。
ハロゲン化剤として、前記のフッ素化剤を用いる場合、一般には、約−１００〜約３０℃、好ましくは、約−８０〜約３０℃の間で実施できる。また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
ハロゲン化剤として、前記のクロル化剤を用いる場合、一般には、約−１００〜約１３０℃、好ましくは、約−８０〜約１３０℃の間で実施できる。
また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもできる。
【００８８】
製法（ｇ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＣｇ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばジクロロメタン中、１モル量乃至５モル量のジエチルアミン硫黄 トリフルオリドを、反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００８９】
製法（ｇ）を実施するにあたっては、例えば、式（ＩＣｇ）の化合物１モルに対し、希釈剤例えばジクロロメタン中、１モル量乃至それ自身溶媒として用いることのできる塩化チオニルを反応させることによって目的化合物を得ることができる。
【００９０】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、後記生物試験例に示す如く、各種雑草に対して優れた除草活性を示し、除草剤として使用することができる。本明細書において、雑草とは広義に望ましくない場所に生育するすべての植物を意味する。本発明の化合物は、使用濃度に依存して選択性除草剤として作用する。本発明の活性化合物は、例えば、下記の雑草を栽培植物の間で使用することができる。
【００９１】
双子葉雑草の属：カラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ）、マメグンバイナズナ（Ｌｅｉｐｉｄｉｕｍ）、ヤエムグラキヌタソウ（Ｇａｌｉｕｍ）、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ）、アカザ・アリタソウ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ）、イラクサ（Ｕｒｔｉｃａ）、ハンゴウソウ・ノボロギク・キオン（Ｓｅｎｅｃｉｏ）、ヒユ・ハゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ）、スベリヒユ・マツバボタン（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ）、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ）、アサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ）、ミチヤナギ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ）、ノアザミ・フジアザミ（Ｃｉｒｓｉｕｍ）、ノゲシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ）、ナス・ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ）、イヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐａ）、オドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ）、クワガタソウ・イヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ）、チョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ）、スミレパンジー（Ｖｉｏｌａ）、チシマオドロ（Ｇａｌｅｏｐｓｉｓ）、ケシ（Ｐａｐａｖｅｒ）、ヤグルマギク（Ｃｅｎｔａｕｒｅａ）、ハキダメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ）、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ）、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ）、アルバアサガオ（Ｐｈａｒｂｉｔｉｓ）等。
【００９２】
双子葉栽培植物の属：ワタ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ）、ダイズ（Ｇｌｙｃｉｎｅ）、フダンソウ・サトウダイコン（Ｂｅｔａ）、ニンジン（Ｄａｕｃｕｓ）、インゲンマメ・アオイマダ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ）、エンドウ（Ｐｉｓｕｍ）、ナス・ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ）、アマ（Ｌｉｎｕｍ）、サツマイモ・アサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ）、ソラマメ・ナンテンハギ（Ｖｉｃｉａ）、タバコ（Ｎｉｃｏｔｉａｎａ）、トマト（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ）、ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｓ）、アブラナ・ハクサイ・カブラ・キャベツ（Ｂｒａｓｓｉｃａ）、アキノノゲシ（Ｌａｃｔｕｃａ）、キュウリ・メロン（Ｃｕｃｕｍｉｓ）、カボチャ（Ｃｕｃｕｒｂｉｔａ）等。
【００９３】
単子葉雑草の属：ヒエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏｎａ）、エノコロ・アワ（Ｓｅｔａｒｉａ）、キビ（Ｐａｎｉｃｕｍ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）、アワガリエ・チモシー（Ｐｈｌｅｕｍ）、イチゴツナギ・スズメノカタビラ（Ｐｏａ）、ウシノケグサ・トボシガラ（Ｆｅｓｔｕｃａ）、オヒシバ・シコクビエ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ）、ドクムギ（Ｌｏｌｉｕｍ）、キツネガヤ・イヌムギ（Ｂｒｏｍｕｓ）、カラスムギ・オートムギ（エンバク）（Ａｖｅｎａ）、カヤツリグサ・パピルス・シチトウイ・ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、モロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、カモジグサ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ）、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テンツキ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）、オモダカ・クワイ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ハリイ・クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ）、ホタルイ・ウキヤグラ・フトイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、スズメノヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍ）、カモノハシ（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ）、ヌカボ（Ａｇｒｏｓｔｉｓ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ）、ギヨウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ）、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ）、ニクキビ（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）等。
【００９４】
単子葉栽培植物の属：イネ（Ｏｒｙｚａ）、トウモロコシ・ホップコーン（Ｚｅａ）、コムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ）、オオムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍ）、カラスムギ・オートムギ（エンバク）（Ａｖｅｎａ）、ライムギ（Ｓｅｃａｌｅ）、モロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、キビ（Ｐａｎｉｃｕｍ）、サトウキビ・ワセオバナ（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ）、パイナップル（Ａｎａｎａｓ）、アスパラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓ）、ネギ・ニラ（Ａｌｌｉｕｍ）等。
【００９５】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、水田雑草に対して使用することができる。本発明の活性化合物を用いて防除することができる水田雑草の例としては以下に述べるものが挙げられる。：
【００９６】
次の属の双子葉植物：タデ属（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、イヌガラシ属（Ｒｏｒｉｐｐａ）、キカシグサ属（Ｒｏｔａｌａ）、アゼナ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、タコウギ属（Ｂｉｄｅｎｓ）、アブノメ属（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍ）、タカサブロウ属（Ｅｃｌｉｐｔａ）、ミゾハコベ属（Ｅｌａｔｉｎｅ）、オオアブノメ属（Ｇｒａｔｉｏｌａ）、アゼトウガラシ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、ミズキンバイ属（Ｌｕｄｗｉｇｉａ）、セリ属（Ｏｅｎａｎｔｈｅ）、キンポウゲ属（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ）、サワトウガラシ属（Ｄｅｉｎｏｓｔｅｍａ）など。
【００９７】
次の属の単子葉植物：ヒエ属（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、キビ属（Ｐａｎｉｃｕｍ）、スズメノカタビラ属（Ｐｏａ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、ミズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テンツキ属（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）、オモダカ属（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ハリイ属（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ）、ホタルイ属（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、サジオモダカ属（Ａｌｉｓｍａ）、イボクサ属（Ａｎｅｉｌｅｍａ）、スブタ属（Ｂｌｙｘａ）、ホシクサ属（Ｅｒｉｏｃａｕｌｏｎ）、ヒルムシロ属（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ）、ニクキビ属（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、アゼガヤ属（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）、スフェノクレア属（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ）など。
【００９８】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、具体的に、例えば、次の代表的な水田雑草に関して使用することができる。
植物名 ラテン名
双子葉植物
キカシグサ Ｒｏｔａｌａ ｉｎｄｉｃａ Ｋｏｅｈｎｅ
アゼナ Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ Ｐｈｉｌｃｏｘ
アメリカアゼナ Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｄｕｂｉａ Ｌ． Ｐｅｎｎ．
アゼトウガラシ Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ａｎｇｕｓｔｉｆｏｌｉａ
チヨウジタデ Ｌｕｄｗｉｇｉａ ｐｒｏｓｔｒａｔａ Ｒｏｘｂｕｒｇｈ
ヒルムシロ Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ Ａ． Ｂｅｎｎ
ミゾハコベ Ｅｌａｔｉｎｅ ｔｒｉａｎｄｒａ Ｓｃｈｋ
セリ Ｏｅｎａｎｔｈｅ ｊａｖａｎｉｃａ
単子葉植物
タイヌビエ Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｏｒｙｚｉｃｏｌａ Ｖａｓｉｎｇ
マツバイ Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ Ｌ．
クログワイ Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ｋｕｒｏｇｕｗａｉ Ｏｈｗｉ
タマガヤツリ Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ Ｌ．
ミズガヤツリ Ｃｙｐｅｒｕｓ ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ Ｒｏｔｔｂｏｅｌ
ホタルイ Ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ Ｒｏｘｂｕｒｇｈ
コナギ Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｖａｇｉｎａｌｉｓ Ｐｒｅｓｌ
ウリガワ Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｐｙｇｍａｅａ Ｍｉｑ
ヘラオモダカ Ａｌｉｓｍａ ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ Ａ． Ｂｒ．
ｅｔ Ｂｏｕｃｈｅ
オモダカ Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ
ミズアオイ Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ
ニクキビ Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ ｐｌａｎｔａｇｉｎｅａ
アゼガヤ Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ
【００９９】
また、本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物は、スルホニルウレア系除草剤に対し抵抗性を示し、例えば、前記例示の雑草に対しても有効に使用することができる。
【０１００】
本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物の使用は、これらの草種の雑草に対する使用に限定されるものではなく、他の草種の雑草に対しても同様に適用することができる。
【０１０１】
更に、本発明の活性化合物は、多年生植物栽培において、雑草防除のために使用することができ、例えば、植林、観賞用植林、果樹園、ブドウ園、カンキツ果樹園、ナッツ果樹園、バナナ栽培場、コーヒー栽培場、茶栽培場、ゴム栽培場、ギネアアブラヤシ栽培場、ココア栽培場、小果樹園、ホップ栽培地等に適用することができ、また、一年生植物栽培において、選択的雑草防除のために適用することもできる。
【０１０２】
本発明の活性化合物は、実際に使用するにあたり、通常の製剤形態に製剤化することができる。その製剤形態としては、例えば、液剤、水和剤、エマルジョン、懸濁剤、粉剤、顆粒性水和剤、錠剤、粒剤、懸濁エマルジョン濃厚物、重合体物質中のマイクロカプセル、ジャンボ剤等を挙げることができる。
【０１０３】
これらの製剤は、それ自体既知の方法で調製することができ、例えば、活性化合物を、展開剤、即ち、液体又は固体の希釈剤又は担体、及び場合によっては界面活性剤、即ち、乳化剤及び／又は分散剤及び／又は泡沫形成剤と混合することによって調製することができる。
【０１０４】
液体の希釈剤又は担体としては、例えば、芳香族炭化水素（例えば、キシレン、トルエン、アルキルナフタレン等）、クロル化芳香族又はクロル化脂肪族炭化水素（例えば、クロロベンゼン類、塩化エチレン類、塩化メチレン等）、脂肪族炭化水素［例えば、シクロヘキサン等、パラフィン類（例えば、鉱油留分等）］、アルコール類（例えば、ブタノール、グリコール等）及びそれらのエーテル、エステル等、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、強極性溶媒（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等）、水等を挙げることができる。展開剤として水を用いる場合には、例えば、有機溶媒を補助溶媒として使用することができる。
【０１０５】
固体の希釈剤又は担体としては、例えば、粉砕天然鉱物（例えば、カオリン、クレー、タルク、チョーク、石英、アタパルガイド、モンモリロナイト、珪藻土等）、粉砕合成鉱物（例えば、高分散ケイ酸、アルミナ、ケイ酸塩等）等を挙げることができる。粒剤のための固体担体としては、粉砕且つ分別された岩石（例えば、方解石、大理石、軽石、海泡石、白雲石等）、無機及び有機物粉の合成粒、有機物質（例えば、おがくず、ココやしの実のから、とうもろこしの穂軸、タバコの茎等）の細粒体等を挙げることができる。
【０１０６】
乳化剤及び／又は泡沫剤としては、例えば、非イオン及び陰イオン乳化剤［例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アルコールエーテル（例えば、アルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、アリールスルホン酸塩）］、アルブミン加水分解生成物等を挙げることができる。
【０１０７】
分解剤には、例えば、リグニンサルファイト廃液やメチルセルロース等が包含される。
【０１０８】
固着剤も製剤（粉剤、粒剤、乳剤）に使用することができ、該固着剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、天然及び合成ポリマー（例えば、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート等）を挙げることができる。
【０１０９】
着色剤を使用することもでき、該着色剤としては、例えば、無機顔料（例えば、酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルー等）、アリザリン染料、アゾ染料又は金属フタロシアニン染料のような有機染料、更に、鉄、マンガン、ボロン、銅、コバルト、モリブデン、亜鉛等の金属の塩のような微量要素を挙げることができる。
【０１１０】
該製剤は、一般に、式（Ｉ）の活性化合物を０．０１〜９５重量％、好ましくは０．１〜９０重量％の範囲内で含有することができる。
【０１１１】
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、それ自体で又はそれらの製剤形態で、雑草防除のために使用することができる。また、本発明の式（Ｉ）の活性化合物は既知の除草剤と組み合わせて使用することもできる。既知の除草剤との混合除草剤組成物は、予め最終的製剤形態に調製されていてもよく、又は使用時にタンクミックスすることによって調製することもできる。混合除草剤組成物として本発明の式（Ｉ）の化合物と組合わせて使用しうる除草剤としては、例えば、一般名で表される下記の除草剤を具体例として例示することができる。
【０１１２】
アセトアミド系除草剤：例えば、プレチラクロール、ブタクロール、テニルクロール、アラクロール等；
アミド系除草剤：例えば、クロメプロップ、エトベンザニド等；
ベンゾフラン系除草剤：例えば、ベンフレセート等；
インダンジオン系除草剤：例えば、インダノファン等；
ピラゾール系除草剤；例えば、ピラゾレート、ベンゾフェナップ、ピラゾキシフェン等；
オキサジノン系除草剤；例えば、オキサジクロメホン等；
スルホニルウレア系除草剤：例えば、ベンスルフロンメチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、ハロスルフロンメチル、オルソスルファムロン、フルセトスルフロン等；
チオカーバメート系除草剤：例えば、チオベンカルブ、モリネート、ピリブチカルブ等；
トリアゾロピリミジン系除草剤：例えば、ペノキスラム、フルメトスラム、フロラスラム等；
ピラゾールカルボニトリル系除草剤：例えば、ピラクロニル等
トリアジン系除草剤：例えば、ジメタメトリン、シメトリン等；
トリアゾール系除草剤：例えば、カフェンストロール等；
キノリン系除草剤：例えば、キンクロラック等；
イソキサゾール系除草剤：例えば、イソキサフルトール等；
ジチオホスフェート系除草剤：例えば、アニロホス等；
オキシアセトアミド系除草剤：例えば、メフェナセット、フルフェナセット等；
テトラゾリノン系除草剤：例えば、フェントラザミド等；
ジカルボキシイミド系除草剤：例えば、ペントキサゾン等；
オキサジアゾロン系除草剤：例えば、オキサジアルギル、オキサジアゾン等；
トリオン系除草剤：例えば、スルコトリオン、ベンゾビシクロン、メゾトリオン、ＡＶＨ３０１等；
フェノキシプロピオネート系除草剤：例えば、シハロホップブチル等；
ベンゾイックアシッド系除草剤：例えば、ピリミノバックメチル、ビスピリバックナトリウム塩、ピリフタリド、ピリミスルファン等；
ジフェニルエーテル系除草剤：例えば、クロメトキシニル、オキシフルオルフェン等；
ピリジンジカルボチオエート系除草剤：例えば、ジチオピル等；
フェノキシ系除草剤：例えば、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ等；
ウレア系除草剤：例えば、ダイムロン、クミルロン等；
ナフタレンジオン系除草剤：例えば、キノクラミン等；
イソキサゾリジノン系除草剤：例えば、クロマゾン等；
イミダゾリノン系除草剤：例えば、イマゼタピル、イマザモックス等。
【０１１３】
上記の活性化合物は、“Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ”、２０００年、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔ Ｃｏｕｎｃｉｌ発行に記載された既知の除草剤である。
【０１１４】
また、本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、薬害軽減剤と混合すると、この混合により、薬害が軽減され、より広い雑草防除のスペクトルが提供され、選択性除草剤としての適用をより広くすることができる。
【０１１５】
該薬剤軽減剤としては、例えば、一般名又は開発コードで表される次の化合物を挙げることができる。
【０１１６】
ＡＤ−６７、ＢＡＳ−１４５１３８、ベノキサコル、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、２、４−Ｄ、ＤＫＡ−２４、ジクロルミッド、ダイムロン、フェンクロリム、フェンクロラゾールエチル、フルラゾール、フルキソフェニム、フリラゾール、イソキサジフェンエチル、メフェンピルジエチル、ＭＧ−１９１、ナフタリックアンハイドライド、オキサベトリニル、ＰＰＧ−１２９２、Ｒ−２９１４８等。
【０１１７】
上記の薬害軽減剤もまた、“Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ”、２０００年、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔ Ｃｏｕｎｃｉｌ発行に記載されている。
【０１１８】
更に、本発明の式（Ｉ）の化合物と上記除草剤とからなる混合除草剤組成物には、さらに、上記薬害軽減剤を混合することも可能であり、この混合により、薬害が軽減され且つより広い雑草防除のスペクトルが提供され、選択性除草剤としての適用をより広くすることができる。
【０１１９】
驚くべきことに、本発明の化合物と既知の除草剤及び／又は薬害軽減剤とのいくつかの混合除草剤組成物はまた、相乗効果を現すことができる。
【０１２０】
本発明の式（ｉ）の活性化合物を使用する場合、そのまま直接使用するか、又は散布用調製液、乳剤、錠剤、懸濁剤、粉剤、ペースト、粒剤のような製剤形態で使用するか、又は更に希釈して調製された使用形態で使用することができる。本発明の活性化合物は、例えば、液剤散布（ｗａｔｅｒｉｎｇ）、噴霧（ｓｐｒａｙｉｎｇ、ａｔｏｍｉｚｉｎｇ）、散粒等の方法で施用することができる。
【０１２１】
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、植物の発芽前及び発芽後のいずれの段階でも使用することができる。また、それらは播種前に土壌中に取り込ませることもできる。
【０１２２】
本発明の活性化合物の施用量は実質的範囲内でかえることができ、それは望むべく効果の性質に依存して基本的に異なる。除草剤として使用する場合、施用量としては、例えば、１ヘクタール当たり、活性化合物として約０．０００１〜約４ｋｇ、好ましくは約０．００１〜約１ｋｇの範囲内を例示することができる。
【実施例】
【０１２３】
次に、本発明の化合物の製造及び用途を下記の実施例によりさらに具体例を示すが、本発明はこれのみに限定されるべきものではない。
【０１２４】
＜化合物実施例＞
【０１２５】
合成例１
【０１２６】
【化３３】
２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２ ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）をジクロロエタン（５ｍｌ）に溶解し、アルゴン置換した後、０℃に冷却した。その溶液にジエチルアミン硫黄 トリフルオリド（０．１６ｇ，０．９７ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（２ｍｌ）溶液を滴下し、滴下後室温で３時間撹拌した。水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、減圧留去し、得られる油状物をヘキサン：酢酸エチル＝２：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製分離し、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−フルオロメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドを（０．１２ｇ、収率６０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ４．００（６Ｈ，ｓ）， ６．０２（１Ｈ，ｓ）， ６．５０（１Ｈ，ｄ）， ６．５６（１Ｈ，ｔ）， ７．１３−７．１９（１Ｈ，ｍ）， ７．３１−７．３６（１Ｈ，ｍ）， １０．７１（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１２７】
合成例２
【０１２８】
【化３４】
２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２１ｇ、０．５１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解し、塩化チオニル（０．２４ｇ、２．０３ｍｍｏｌ）を室温で加え、４時間撹拌した。反応液を減圧留去し、得られる油状物をヘキサン：酢酸エチル＝６：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製分離し、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−クロロメチル）−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリドを（０．２ｇ、収率９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ４．０１（６Ｈ，ｓ）， ６．０２（２Ｈ，ｓ）， ６．６０（１Ｈ，ｔ）， ７．０４−７．３３（２Ｈ，ｍ）， １１．３１（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１２９】
合成例３
【０１３０】
【化３５】
Ｎ−｛６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシフェニル｝−１，１−ジフルオロメタンスルホンアミド（７０５ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）を酢酸（４ｍｌ）で希釈し、３１％過酸化水素水（２０５ｍｇ）を室温下加え、８０℃で３時間撹拌した。その反応溶液を室温に戻し、溶媒を減圧留去した後、水で希釈後、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：２混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とするＮ−｛６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−３−フルオロ−２−メトキシフェニル｝−１，１−ジフルオロメタンスルホンアミド（４９９ ｍｇ、収率７６％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．９８（６Ｈ， ｓ）， ４．１０（３Ｈ， ｓ）， ６．１８（１Ｈ， ｓ）， ６．７０（１Ｈ， ｔ）， ７．００（１Ｈ， ｍ）， ７．４５（１Ｈ， ｍ）．
【０１３１】
合成例４
【０１３２】
【化３６】
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．７２ｇ、１．８４ｍｍｏｌ）を酢酸（１０ｍｌ）に懸濁し、酸化クロム（ＶＩ）（０．３１ｇ、３．０５ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を８０℃に加熱した。６時間撹拌した後、さらに室温にて昼夜撹拌した。その反応溶液を水で希釈し、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの２：１混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製分離し、目的とする２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．１０ｇ、収率１３％）を油状物として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ３．９５（３Ｈ，ｓ）， ４．１０（６Ｈ，ｓ）， ６．５２（１Ｈ，ｔ）， ７．２２−７．３７（３Ｈ，ｍ）， ８．６２（１Ｈ，ｂｒ） ．
合成例５
【０１３３】
【化３７】
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．０５ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解し、５℃に冷却し、撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム（０．１ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。その後室温にて２時間撹拌した。反応液を水で希釈し、クエン酸で中和した後、酢酸エチルにより３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．０４ｇ、収率８０％）を得た。
Ｈ１ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ３．９０（３Ｈ，ｓ）， ４．０７（６Ｈ，ｓ）， ４．６１（１Ｈ，ｄ）， ６．１１（１Ｈ，ｄ）， ６．６８（１Ｈ，ｔ）， ６．９２−６．９５（１Ｈ，ｍ）， ７．２４−７．２９（２Ｈ，ｍ）， ８．６２（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１３４】
合成例６
【０１３５】
【化３８】
２−フルオロ‐６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフロロメタンスルホンアニリド（０．３３ｇ，０．８４ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（０．１６ｇ，１．１８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）溶液に室温でアリルブロミド（０．０９５ｍｌ，１．０９ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。反応液を６時間撹拌した後、酢酸エチルと水を加え有機層を分取しさらに水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状物をヘキサン、酢酸エチル３：２の混合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする２−フルオロ‐６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−（２−プロペニル）−Ｎ−ジフロロメタンスルホンアニリド（０．２７ｇ、収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３）４．０８（６Ｈ，ｓ）， ４．２２（１Ｈ）， ４．４０（１Ｈ）， ５．０９−５．１２（２Ｈ）， ５．８０−６．００（１Ｈ，ｍ）， ６．３５（１Ｈ，ｔ）， ７．３４−７．５１（３Ｈ）．
【０１３６】
参考例１
【０１３７】
【化３９】
２−フルオロ−３−クロロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却し、撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム（０．０４ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）を加えた後、室温にて２時間撹拌した。反応液を減圧留去し、残渣に水をとエーテルを加え、水層を分離した。得られた水層を希釈塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、目的の２−フルオロ−３−クロロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−ヒドロキシメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２ ｇ、収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ４．００（６Ｈ，ｓ）， ４．９６（１Ｈ，ｄ）， ６．０２（１Ｈ，ｓ）， ６．０９（１Ｈ，ｄ）， ６．５９（１Ｈ，ｔ）， ７．３２−７．５０（２Ｈ，ｍ）， １０．７３（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１３８】
参考例２ （別法）
【０１３９】
【化４０】
２−フルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルフォンアニリド（１．９６ｇ，４．６２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド（２０ｍｌ）溶液に， 炭酸カリウム（１．９５ｇ，１３．８５ｍｍｏｌ）を加え室温で撹拌しながらヨウ化メチル（０．８６ｍｌ、１３．８５ｍｍｏｌ）を加えた。その後室温にて４８時間撹拌した。反応液に酢酸エチルと水を加え有機層を分取し、水層をさらに酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。得られた油状物をヘキサンと酢酸エチルの３：２混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする２−フルオロ−６−［４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−メチル−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（１．０８ｇ、収率５７．５％）を白色結晶（ｍｐ １０４−１０７℃）として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （３００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３） δ ３．２６（３Ｈ，ｓ）， ４．１２（６Ｈ，ｓ）， ６．２１（１Ｈ，ｔ）， ７．３９−７．４５（１Ｈ，ｍ）， ７．５０−７．５７（１Ｈ，ｍ）， ７．６４−７．６７（１Ｈ，ｍ）．
【０１４０】
上記合成例１〜６及び参考例１〜２と同様にして得られる化合物を、合成例１〜６で合成した化合物及び参考例１〜２の化合物と共に下記第１表に示し、それらの物理化学的性質を第２表に示す。
【０１４１】
下記第１表において、ＯＰｒはｎ−プロピルオキシを示し、ＯｉＰｒはイソプロピルオキシを示し、ＯＢｕはｎ−ブチルオキシを示し、ＯＣＨ２ｃＰｒはシクロプロピルメチルオキシを示し、ＯｉＢｕはｉｓｏ−ブチルオキシを示し、ｐｒｏｐａｒｇｙｌはプロパルギルを示し、２−ｂｕｔｙｎｙｌは２−ブチニルを示し、（Ｅ）及び（Ｚ）はＥ，Ｚ命名法による幾何異性を示す。
【０１４２】
【表１】
【０１４３】
【表２】
＊１： 化合物番号９は、回転異性体、Ａ対Ｂが約３．０対１の割合の混合物である。
＊２： 化合物番号４６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約１．９対１の割合の混合物である。
＊３： 化合物番号４９は、回転異性体、Ａ対Ｂが約２．５対１の割合の混合物である。
＊４： 化合物番号７６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約３．２対１の割合の混合物である。
＊５： 化合物番号７７は、回転異性体、Ａ対Ｂが約２．２対１の割合の混合物である。
＊６： 化合物番号８０は、回転異性体、Ａ対Ｂが約６．８対１の割合の混合物である。
＊７： 化合物番号８６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約４．６対１の割合の混合物である。
＊８： 化合物番号１６６は、回転異性体、Ａ対Ｂが約３．０対１の割合の混合物である。
【０１４４】
参考例３ 原料の製造
【０１４５】
【化３９】
【０１４６】
２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン（３．６７ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）とピリジン（１．６５ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２５ｍｌ）の溶液にジフルオロメタンスルホニルクロリド（３．１３ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を−３０ｏＣ以下で滴下し１時間撹拌した。反応溶液を室温にし２日間撹拌した。反応溶液に水で洗浄し，有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後，減圧濃縮した。得られた残渣をアセトンとヘキサンの１：３混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（１．５４ｇ、収率 ２９．９％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） ４．０５（６Ｈ，ｓ）， ４．１８（２Ｈ，ｓ）， ６．５５（１Ｈ，ｔ）， ７．０−７．１８ （２Ｈ，ｍ）．
【０１４７】
参考例４ 原料の製造
【０１４８】
【化４０】
２，３−ジフルオロ−６−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．３２ｇ、０．７３ｍｍｏｌ）を酢酸（４ｍｌ）で希釈し、３３％過酸化水素水（１．５ｇ）を室温加え、室温で２時間撹拌後、８０℃でさらに３時間撹拌した。その反応溶液を室温に戻し、水で希釈後、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：２混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２，３−ジフルオロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルボニル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルホンアニリド（０．２５ｇ、収率８４．３％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．９８（６Ｈ，ｓ）， ４．７４（２Ｈ，ｓ）， ６．２１（１Ｈ，ｓ）， ６．５１（１Ｈ，ｔ）， ７．１４（１Ｈ，ｍ）， ７．６１（１Ｈ，ｍ）．
【０１４９】
合成例７ （中間体）
【０１５０】
【化４１】
２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン（０．９０ｇ、３．２６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解し、ピリジン（０．２８ｇ、３．５８ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を−５oＣに冷却し、そこへジフルオロメタンスルホニルクロライド（０．５４ｇ、３．５８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１ｍｌ）溶液を加えた。その反応溶液を室温にて２日間撹拌し、水を加え、ジクロロメタンで３回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：１混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］−Ｎ−ジフルオロメタンスルフォンアニリド（０．８ｇ、収率６３％）を油状物として得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．８９（３Ｈ，ｓ）， ４．０４（６Ｈ，ｓ）， ４．２１（２Ｈ，ｓ）， ６．６８（１Ｈ，ｔ）， ６．９０（１Ｈ，ｄｄ）， ７．００（１Ｈ，ｄｄ）， ７．２０（１Ｈ，ｔ）， ９．８６（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１５１】
合成例８ （中間体）
【０１５２】
【化４２】
２−メトキシ−６−［１−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−１−メチルチオメチル］アニリン（３．２０ｇ、９．９３ｍｍｏｌ）と塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物（４．７２ｇ、１９．８５ｍｍｏｌ）をメタノール（３０ｍｌ）に溶解し、０oＣに冷却した。その溶液に水素化ホウ素ナトリウム（１．５０ｇ、３９．７０ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。その反応溶液を室温にて２時間撹拌後、メタノールを減圧留去した。得られる固体物をアンモニア水と酢酸エチルに溶解し、沈殿物をろ過した。ろ液の有機層を分取し、さらに水層を酢酸エチルで２回抽出した。有機層を水で洗浄、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：１混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする２−メトキシ−６−［（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）メチル］アニリン（１．００ｇ、収率３６％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ３．８４（３Ｈ，ｓ）， ３．９８（２Ｈ，ｓ）， ４．００（６Ｈ，ｓ）， ４．７１（２Ｈ，ｂｒ）， ６．６６−６．７４（２Ｈ，ｍ）， ６．８８−６．９１（１Ｈ，ｍ）．
【０１５３】
合成例９ （中間体）
【０１５４】
【化４３】
６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシアニリン（１．９３ｇ、５．６９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）で希釈し、氷冷下、ジフロロメタンスルフォニルクロライド（１．２８ｇ、８．５３ｍｍｏｌ）、続いてピリジン（０．９ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。再度氷冷下、ジフロロメタンスルフォニルクロライド（０．４３ｇ、２．８４ｍｍｏｌ）、続いてピリジン（０．４５ｇ、５．６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。飽和塩化アンモニア水溶液で希釈後、ジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：５混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とするＮ−｛６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシフェニル］−１，１−ジフルオロメタンスルホンアミド（０．７５ｇ、収率２７％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ２．０６（３Ｈ， ｓ）， ３．９８（６Ｈ， ｓ）， ４．００（３Ｈ， ｓ）， ５．２５（１Ｈ， ｓ）， ５．９５（１Ｈ， ｓ）， ６．７３（１Ｈ， ｔ）， ７．００（１Ｈ， ｍ）， ７．３５（１Ｈ， ｍ）， １０．８（１Ｈ， ｍ）．
【０１５５】
合成例１０ （中間体）
【０１５６】
【化４４】
３−フルオロ−２−メトキシアニリン（１．２８ｇ、９．０８ｍｍｏｌ）と４，６−ジメトキシ−２−［（メチルチオ）メチル］ピリミジン（２．００ｇ、９．９９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍｌ）で希釈し、ドライアイス−メタノールバスでマイナス６０度に冷却し、ｔ−ブトキシハイポクロライド （１．１８ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）を加え、そのまま１時間攪拌した。２８％ナトリウムメトキサイドメタノール溶液（３．５０ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）を加え、室温まで自然昇温させながら３時間攪拌した。飽和塩化アンモニア水溶液で希釈後、ジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた油状物を酢酸エチルとヘキサンの１：５混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、目的とする６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）（メチルチオ）メチル］−３−フルオロ−２−メトキシアニリン（１．９２ｇ、収率６２％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ３００ＭＨｚ） δ ２．０４（３Ｈ， ｓ）， ３．９１（３Ｈ， ｓ）， ３．９２（６Ｈ， ｓ）， ４．９１（２Ｈ， ｂｒ ｓ）， ５．０８（１Ｈ， ｓ）， ５．９０（１Ｈ， ｓ）， ６．４５（１Ｈ， ｍ）， ７．１７（１Ｈ， ｍ）．
【０１５７】
上記合成例７と同様にして得られる化合物を、合成例７で合成した化合物と共に下記第３表に示し、
上記合成例８と同様にして得られる化合物を、合成例８で合成した化合物と共に下記第４表に示し、
上記合成例９と同様にして得られる化合物を、合成例９で合成した化合物と共に下記第５表に示し、
上記合成例１０と同様にして得られる化合物を、合成例１０で合成した化合物と共に下記第６表に示し、それらの物理化学的性質を第７表に示す。
【０１５８】
下記第３〜６表において、ＯＰｒはｎ−プロピルオキシを示し、ＯｉＰｒはイソプロピルオキシを示し、ＯＢｕはｎ−ブチルオキシを示し、ＯＣＨ２ｃＰｒはシクロプロピルメチルオキシを示し、ＯｉＢｕはｉｓｏ−ブチルオキシを示す。
【０１５９】
【表３】
【０１６０】
【表４】
【０１６１】
【表５】
【０１６２】
【表６】
【０１６３】
【表７】
【０１６４】
＜生物試験例＞
比較化合物
【０１６５】
【化４５】
（Ｃ−１は特許文献２に開示される類似化合物）
【０１６６】
【化４６】
（Ｃ−２は特許文献４に開示される類似化合物）
Ｃ−３ エトキシスルフロン（一般名）
Ｃ−４ ベンスルフロンメチル（一般名）
【０１６７】
試験例１ スルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対する除草効果試験
活性化合物の調合剤の調製
担体：ＤＭＦ ５重量部
乳化剤：ベンジルオキシポリグリコールエーテル １重量部
活性化合物の調合剤は、１重量部の活性化合物と、上記分量の担体および乳化剤とを混合することにより、乳剤として得られる。その調合剤の所定薬量を水で希釈する。
【０１６８】
温室内において、水田土壌を詰めた５００ｃｍ２ポットに、スルホニルウレア系除草剤抵抗性が確認されている、イヌホタルイ（北海道産）、アゼナ（埼玉産）の各種子を、各々接種し、約２〜３ｃｍの湛水条件とした。各雑草の発生初めに、前記調製法に従って調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を水面施用した。処理後、３ｃｍの湛水状態を保ち、処理３週間後に除草効果を調査した。なお、除草効果の評価は、完全枯死を１００％とし、０％を除草効果なしとした。除草効果８０％以上を示す場合が除草剤として実用性があると評価される。代表例として、化合物番号１、３、４、５、６、７、１３、７０、１２７、１２８および１３０の化合物における調査結果を下記第８表に示す。
【０１６９】
【表８】
【０１７０】
試験例２ 移植水稲に対する薬害
温室内において、水田土壌を詰めた５００ｃｍ２ポットに、水稲苗（品種：日本晴）を１ポットあたり１株３本で移植し（移植深度２ｃｍ）、約２〜３ｃｍの湛水条件とした。水稲移植５日後、上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を水面施用した。処理後、３ｃｍの湛水状態を保ち、処理３週間後に水稲薬害を調査した。なお、水稲薬害の評価は、完全枯死を１００％とし、０％を薬害なしとした。薬害２０％以下を示す場合が、水稲用除草剤として安全性が優れていると評価される。代表例として、化合物番号３、４、５、６、７、７０、１１５、１２７、および１２８の化合物ならびに比較化合物Ｃ−２の化合物における調査結果を下記第９表に示す。
【０１７１】
【表９】
【０１７２】
試験例３ 湛水直播水稲に対する安全性および除草効果
温室内において、水田土壌を詰めた１００ｃｍ２ポットに、イネ（品種：バリーラ（Ｂａｌｉｌｌａ））および雑草（ニクキビ、ショクヨウガヤツリ、コゴメガヤツリ、コヒメビエ、アゼガヤ、マルバアサガオ、アメリカツノクサネム）の種子を表層に播種・覆土した。水を添加して湿潤条件（水位０ｃｍ）とした後、一部ポットは播種後速やかに上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を土壌に散布処理し、残りのポットは温室内にて供試植物を１−３葉期まで生育させた後、植物体上方より散布処理した。化合物処理１日後に３ｃｍの湛水条件とした。処理３週間後に各化合物の除草効果ならびに水稲への薬害を調査した。なお、除草効果と水稲薬害の評価は、完全枯死を１００％とし、０％を除草効果なし、あるいは薬害なしとした。除草効果８０％以上を示す場合が除草剤として実用性があると評価され、薬害２０％以下を示す場合が、除草剤として安全性が優れていると評価される。代表例として、化合物番号１、２および９の化合物における調査結果を下記第１０表および第１１表に示す。
【０１７３】
【表１０】
【０１７４】
【表１１】
【０１７５】
試験例４ 畑雑草に対する除草効果および畑作物に対する薬害試験（発生前土壌散布処理）
温室内において、畑土壌（砂壤土）を詰めた１６ｃｍ２ポットに、畑作物（コムギ、ダイズ）および雑草（イヌビエ、エノコログサ）の種子を１ポットに１草種ずつ、表層に播種し、覆土した。播種後速やかに上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を土壌に散布処理した。処理３週間後に各化合物の除草効果ならびに作物への薬害を調査した。なお、除草効果と作物薬害の評価は、上記試験例３と同様にして行なった。代表例として、化合物番号１、２４の化合物および比較化合物Ｃ−１の化合物における調査結果を下記第１２表に示す。
【０１７６】
【表１２】
【０１７７】
試験例５ 畑雑草に対する除草効果および畑作物に対する薬害試験（発生後茎葉散布処理）
温室内において、畑土壌（砂壤土）を詰めた１６ｃｍ２ポットに、畑作物（コムギ）および雑草（オオイヌノフグリ、スミレ）の種子を１ポットに１草種ずつ、表層に播種し、覆土した。温室内にて供試植物を２−３葉期まで生育させた後、上記試験例１と同様にして調製した各活性化合物の調合剤の所定希釈液を植物体上方より散布処理した。処理３週間後に各化合物の除草効果ならびに作物への薬害を調査した。なお、除草効果と作物薬害の評価は、上記試験例３と同様にして行なった。代表例として、化合物番号１３の化合物および比較化合物Ｃ−１の化合物における調査結果を下記第１３表に示す。
【０１７８】
【表１３】
【０１７９】
＜製剤例＞
製剤例１（粒剤）
本発明化合物番号３（１０部）、ベントナイト（モンモリロナイト）（３０部）、タルク（滑石）（５８部）及びリグニンスルホン酸塩（２部）の混合物に水（２５部）を加え、良く捏化し、押し出し式造粒機により１０〜４０メッシュの粒状とし、４０〜５０℃で乾燥して粒剤とする。
【０１８０】
製剤例２（粒剤）
０．２〜２ｍｍに粒度分布を有する粘土鉱物粒（９５部）を回転混合機に入れ、回転下、液体希釈剤とともに本発明化合物番号５（５部）を噴霧し均等に湿らせた後、４０〜５０℃で乾燥し粒剤とする。
【０１８１】
製剤例３（乳剤）
本発明化合物番号１３（３０部）、キシレン（５５部）、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル（８部）及びアルキルベンゼンンスルホン酸カルシウム（７部）を混合攪拌して乳剤とする。
【０１８２】
製剤例４（水和剤）
本発明化合物番号１（１５部）、ホワイトカーボン（含水無結晶酸化ケイ素微粉末）と粉末クレーとの混合物（１：５）（８０部）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（２部）及びアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン重合物（３部）を粉末混合し、水和剤とする。
【０１８３】
製剤例５（水和顆粒）
本発明化合物番号１（２０部）、リグニンスルホン酸ナトリウム（３０部）、ベントナイト（１５部）及び焼成ケイソウ土粉末（３５部）を十分に混合し、水を加え、０．３ｍｍのスクリーンで押し出し乾燥して、水和顆粒とする。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
式中、
Ｒ１は水素、フッ素原子、塩素原子、Ｃ１−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシ、Ｃ３−６シクロアルキル−Ｃ１−４アルキルオキシ又はＣ１−４ハロアルコキシを示し、
Ｒ２は水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３は水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４は水素、場合によりＣ１−４アルコキシ置換されていてもよいＣ１−４アルキル、Ｃ３−６アルケニル又はＣ３−６アルキニルを示し、
Ｒ５は水素を示し、
Ｒ６はヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸはＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【請求項２】
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
請求項１記載の除草剤。
【請求項３】
Ｒ１がフッ素原子、塩素原子、メチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３が水素を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシを示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合を除く、
請求項１記載の除草剤。
【請求項４】
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸがＣＨを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１がメチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
請求項１記載の除草剤。
【請求項５】
式：
【化２】
式中、
Ｒ１Ａがメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ａが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ａが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４Ａが水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ａが水素を示し、
Ｒ６Ａがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＡがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａ及びＲ６Ａは一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉｉ）Ｒ１Ａがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示すか、もしくはＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し、且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１Ａがメチルを示し、Ｒ２Ａがフッ素原子を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類。
【請求項６】
式：
【化３】
式中、
Ｒ１Ｂがフッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ２Ｂが水素を示し、
Ｒ３Ｂが水素を示し、
Ｒ４Ｂがエチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ｂが水素を示し、
Ｒ６Ｂがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ｂ及びＲ６Ｂが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＢがＮを示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【請求項７】
式：
【化４】
式中、
Ｒ１Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ２Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｃが水素を示し、
Ｒ４Ｃが水素を示し、
Ｒ５Ｃが水素を示し、
Ｒ６Ｃがヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸＣがＣＨ又はＮを示す、
但し
ＸＣがＮを示す場合、Ｒ６Ｃはヒドロキシを示し、そして
ＸＣがＣＨを示す場合、Ｒ６Ｃはフッ素原子又は塩素原子を示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【請求項８】
式：
【化５】
式中、
Ｒ１Ｄがメチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ｄが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ｄが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｄが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ｄがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ｄが水素を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ｄがメチルを示し、Ｒ２Ｄが水素又はフッ素原子を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素を示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合を除く、
で表わされる化合物。
【請求項９】
式：
【化６】
式中、
Ｒ１Ｅがメチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２Ｅが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｅが水素を示し、
Ｒ６Ｅが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｅが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
で表わされる化合物。
【請求項１】
式：
【化１】
式中、
Ｒ１は水素、フッ素原子、塩素原子、Ｃ１−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシ、Ｃ３−６シクロアルキル−Ｃ１−４アルキルオキシ又はＣ１−４ハロアルコキシを示し、
Ｒ２は水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３は水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４は水素、場合によりＣ１−４アルコキシ置換されていてもよいＣ１−４アルキル、Ｃ３−６アルケニル又はＣ３−６アルキニルを示し、
Ｒ５は水素を示し、
Ｒ６はヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸはＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がＣ１−４アルキルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【請求項２】
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合、
（ｉｉｉ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１がメチル又はエチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
請求項１記載の除草剤。
【請求項３】
Ｒ１がフッ素原子、塩素原子、メチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３が水素を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシを示し、
Ｒ５及びＲ６が一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸがＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、
（ｉｉ）Ｒ１がフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し且つＲ５及びＲ６は一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成する場合を除く、
請求項１記載の除草剤。
【請求項４】
Ｒ１が水素、フッ素原子、塩素原子、メチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３が水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４が水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５が水素を示し、
Ｒ６がヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸがＣＨを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１が水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し且つＲ６がヒドロキシを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１がメチルを示し、Ｒ２が水素を示し、Ｒ３が水素を示し、Ｒ４が水素を示し、Ｒ５が水素を示し、Ｒ６がヒドロキシを示し且つＸがＣＨを示す場合を除く、
請求項１記載の除草剤。
【請求項５】
式：
【化２】
式中、
Ｒ１Ａがメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ａが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ａが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ４Ａが水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ａが水素を示し、
Ｒ６Ａがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＡがＣＨ又はＮを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａ及びＲ６Ａは一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｉｉ）Ｒ１Ａがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ａが水素を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示すか、もしくはＲ５Ａ及びＲ６Ａが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成し、且つＸＡがＣＨを示す場合、及び
（ｉｖ）Ｒ１Ａがメチルを示し、Ｒ２Ａがフッ素原子を示し、Ｒ３Ａが水素を示し、Ｒ４Ａが水素を示し、Ｒ５Ａが水素を示し、Ｒ６Ａがヒドロキシを示し且つＸＡがＣＨを示す場合を除く、
で表されるスルホンアニリド類。
【請求項６】
式：
【化３】
式中、
Ｒ１Ｂがフッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ２Ｂが水素を示し、
Ｒ３Ｂが水素を示し、
Ｒ４Ｂがエチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、メトキシメチル、アリル、２−ブテニル、プロパルギル又は２−ブチニルを示し、
Ｒ５Ｂが水素を示し、
Ｒ６Ｂがヒドロキシを示し、
Ｒ５Ｂ及びＲ６Ｂが一緒になって、それらが結合している炭素原子と共にＣ＝Ｏを形成していてもよく、そして
ＸＢがＮを示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【請求項７】
式：
【化４】
式中、
Ｒ１Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ２Ｃがフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｃが水素を示し、
Ｒ４Ｃが水素を示し、
Ｒ５Ｃが水素を示し、
Ｒ６Ｃがヒドロキシ、フッ素原子又は塩素原子を示し、そして
ＸＣがＣＨ又はＮを示す、
但し
ＸＣがＮを示す場合、Ｒ６Ｃはヒドロキシを示し、そして
ＸＣがＣＨを示す場合、Ｒ６Ｃはフッ素原子又は塩素原子を示す、
で表されるスルホンアニリド類。
【請求項８】
式：
【化５】
式中、
Ｒ１Ｄがメチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、シクロプロピルメチルオキシ又はジフルオロメトキシを示し、
Ｒ２Ｄが水素、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３Ｄが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｄが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
但し、
（ｉ）Ｒ１Ｄがメトキシ又はジフルオロメトキシを示し、Ｒ２Ｄが水素を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素又はメチルチオを示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合、及び
（ｉｉ）Ｒ１Ｄがメチルを示し、Ｒ２Ｄが水素又はフッ素原子を示し、Ｒ３Ｄが水素を示し、Ｒ６Ｄが水素を示し、且つＲ７Ｄがジフルオロメタンスルホニルを示す場合を除く、
で表わされる化合物。
【請求項９】
式：
【化６】
式中、
Ｒ１Ｅがメチル、エチル又はメトキシを示し、
Ｒ２Ｅが水素又はフッ素原子を示し、
Ｒ３Ｅが水素を示し、
Ｒ６Ｅが水素又はメチルチオを示し、そして
Ｒ７Ｅが水素又はジフルオロメタンスルホニルを示す、
で表わされる化合物。
【公開番号】特開２００７−１０６７４５（Ｐ２００７−１０６７４５Ａ）
【公開日】平成１９年４月２６日（２００７．４．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１８４１０１（Ｐ２００６−１８４１０１）
【出願日】平成１８年７月４日（２００６．７．４）
【出願人】（３０２０６３９６１）バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト (524)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月２６日（２００７．４．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年７月４日（２００６．７．４）
【出願人】（３０２０６３９６１）バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト (524)
【Ｆターム（参考）】
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