フィルム・パターンド・リターダーの製造方法、並びにフィルム・パターンド・リターダー、及びそれを有する偏光板及び画像表示装置

【課題】高精細な配向パターンを有し、且つ寸法変化によるパターンの位置ズレが抑制されたフィルム・パターンド・リターダーの製造方法の提供。
【解決手段】フィルムと、その上にパターンド・リターダー層とを少なくとも有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法であって、１）フィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する工程、２）上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する工程、及び３）前記塗膜を加熱して液晶を配向させる工程、をこの順で含むことを特徴とするフィルム・パターンド・リターダーの製造方法である。

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムと、その上にパターンド・リターダー層とを少なくとも有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法であって、下記１）〜３）
１）フィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する工程
２）上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する工程、及び
３）前記塗膜を加熱して液晶を配向させる工程、
をこの順で含むことを特徴とするフィルム・パターンド・リターダーの製造方法。
【請求項２】
１）工程が、フィルムの膜面温度Ｔ_1sを、Ｔｇ−１２０℃≦Ｔ_1S℃≦Ｔｇ−２０℃にするする工程である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１）工程が、セルロースアシレートフィルムを加熱し、該フィルムの膜面温度を８０℃〜１５０℃にする工程である請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
１）工程の後に、マスク露光する工程を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
マスク露光に用いられるマスクのトータルピッチＰ₁と、パターンド・リターダーのトータルピッチＰ₂との差ΔＰ（＝Ｐ₁−Ｐ₂）の割合ΔＰ／Ｐ₁が、０．１％未満である請求項４に記載の方法。
【請求項６】
マスク露光する工程が、互いに異なる方向に液晶の長軸を配向させる配向能をそれぞれ有する第１及び第２配向制御領域が交互に配置されたパターン配向膜を形成する工程である請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
３）工程の後に、液晶の配向を固定する工程をさらに含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
互いに面内遅相軸方向が異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターンド・リターダー層を有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。

【図１】