ベンジリデンヒダントイン誘導体化合物
【課題】いわゆる青色レーザー用に対応する吸収帯を有し、非結晶化、高い耐光性、高融点のいずれの性能についても満足できる有機色素及び紫外線吸収剤として好適に用いることのできる化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式の構造を有するベンジリデンヒダントイン誘導体化合物とする。
（式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアルキル基もしくはアルコキシ基（いずれの位置で枝分かれしているものを含む）などである（ただし、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６にアミノ基またはニトロ基が選ばれる場合、アミノ基またはニトロ基は、いずれか一方が、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６のうち１箇所置換されているものに限る。）。）
【解決手段】下記一般式の構造を有するベンジリデンヒダントイン誘導体化合物とする。
（式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアルキル基もしくはアルコキシ基（いずれの位置で枝分かれしているものを含む）などである（ただし、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６にアミノ基またはニトロ基が選ばれる場合、アミノ基またはニトロ基は、いずれか一方が、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６のうち１箇所置換されているものに限る。）。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なベンジリデンヒダントイン誘導体化合物に関し、また当該新規化合物を含有する有機色素及び紫外線吸収剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ、ＭＯなどへの媒体の書き込み、読み取りには、いわゆる赤色レーザーが普及している。これに使用する媒体には、当該赤色レーザーの波長に対応した波長を吸収する色素が表面にコーティングされている。色素には無機色素と有機色素が存在するが、応答速度が速いなどの利点から有機色素が一般に用いられる。
【０００３】
一方最近、更なる高密度の記録を可能にすべく、いわゆる青色レーザーを用いた機器の開発が進んでいる。青色レーザー用の媒体に用いる色素は、レーザーの波長に対応すべく、４０５ｎｍ付近の波長を効率的に吸収する色素でなければならない。かかる色素として、現在いくつかの無機色素が実用化に向けて開発されている。
【０００４】
しかし、レーザーによる高速度の記録に対応できるものとするためには、媒体に用いる色素として、無機色素ではなく応答の速い有機色素が好ましい。このような波長領域に吸収を持つ化合物としては、例えば、特許文献１〜４に記載されているような有機色素の基本骨格としてピラン化合物の誘導体、ポリアセンジイミド系色素の誘導体、シアニン系有機色素の混合物、メチン基のパラ位に特定のアミノ基を導入したベンゼン誘導体を用いる方法などが提案されている。
【特許文献１】特開２００４−３２２５６４号公報
【特許文献２】特開２００４−０９０３７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６９５４号公報
【特許文献４】特開２００３−２４６１４２号公報
【特許文献５】特開２００３−１０３９３５号公報
【０００５】
これら化合物を有機色素として記録媒体に用いる場合には、スピンコート法など溶媒に溶かして有機色素の薄膜層を形成するのが一般的である。この際、有機色素としてはアモルファス状態を保ったまま、結晶化しないことが求められる。また、記録内容の長期期間保持という点から、耐光性が求められる。さらに、レーザーが当たった際に、有機色素がピットに流れ出ないようにするため、高融点であることが求められる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記材料においては、非結晶化、高い耐光性、高融点のいずれかの性能を満足するものであったとしても、これら全ての性能について十分といえるものではなかった。そこで本発明における課題は、これらの問題がなく、非結晶化、高い耐光性、高融点のいずれの性能についても満足できる有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることのできる化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、下記（化１）に示した一般式（Ａ）で示されるベンジリデンヒダントイン誘導体のうち、（Ａ）式中のＲ１〜Ｒ４がそれぞれ下記の官能基または原子のうちいずれかであるベンジリデンヒダントイン誘導体を含有する新規化合物を、有機色素や紫外線吸収剤として用いることを上記課題の主要な解決手段とする。
【化１】
Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜３のアルキルカルボキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボキシエステル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基のうち、いずれかの官能基または原子である。ただし、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６にアミノ基またはニトロ基が選ばれる場合、アミノ基またはニトロ基は、いずれか一方が、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６のうち１箇所置換されているものに限る。
またＲ４は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかで枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基、ニトロ基のうち、いずれかの官能基または原子である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の化合物は、可視光青色領域から紫外光領域に渡って広い吸収帯域を有する化合物であり、有機色素、紫外線吸収剤として好適に用いることができるものである。また広い吸収帯を有するので、耐光性にも優れた化合物である。
【０００９】
本発明の化合物は、５−ベンジリデンヒダントイン誘導体と６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノ−ル誘導体との縮合体であるが、単にこれら化合物を混合するのではなく、縮合体として一つの化合物にすることで、混合による融点降下が生じることなく、高い融点を確保できとともに、長期間経過後も結晶化することなく嵩高いアモルファス状態を維持することができる。
【００１０】
なかでも、下記構造式で表されるベンゾトリアゾール誘導体とヒダントイン誘導体による縮合体については、有機溶剤が揮発する際にも結晶化しにくいことが実験的にも明らかとなり、有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることができることが明確となった。
化合物（ａ）
【化３】
化合物（ｂ）
【化４】
【００１１】
さらに、本発明の有機色素は、上記キャスティング法のような湿式塗布以外にも蒸着法、スパッタリング法によっても基板上に成膜させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に本発明につき詳細に説明する。本発明は、有機色素として、下記一般式（Ａ）によって示される有機化合物を用いたものである。以下に前記一般式（Ａ）において表される化合物について説明する。
【００１３】
【化１】
【００１４】
（Ａ）式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子または任意の置換基を表し、任意の置換基はさらに置換されていても良い。該任意の置換基の例としてＲ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６は、水素原子；フッ素、塩素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基などの置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基、；アミノ基、モノメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モノn−プロピルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、モノイソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等の置換されても良い炭素数１〜４の直鎖または分岐のアミノ基；ニトロ基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキルオキシカルボニル基；下記（化７〜化９）の−Ｒ７ＣＯＯＨで表されるアルキルカルボキシル基；下記（化１０〜化１９）の−Ｒ７ＣＯＯＲ８で表される下記のアルキルカルボン酸エステル基が挙げられる。
【００１５】
アルキルカルボキシル基（−Ｒ７ＣＯＯＨ）
【化７】
【化８】
【化９】
【００１６】
アルキルカルボン酸エステル（−Ｒ７ＣＯＯＲ８）
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【００１７】
該任意の置換基の例としてＲ４は水素原子；フッ素、塩素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基；アミノ基、モノメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モノn−プロピルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、モノイソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等の置換されても良い炭素数１〜４の直鎖または分岐のアミノ基；ニトロ基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec-ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００１８】
一般式（Ａ）で示される本発明化合物は、たとえば下記（化５、化６）に示した反応式を経て合成することができる。
【化５】
【化６】
【００１９】
ベンゾトリアゾール誘導体に高沸点溶媒である商品名「ソルベッソ１５０」（エクソンモービル社製）溶媒下、パラホルムアルデヒドとジエチルアミンを反応させてマンニッヒベースとし、該ヒダントイン誘導体と縮合させることで本発明の上記ベンゾトリアゾール誘導体化合物を合成できる。反応の溶媒としては上記ソルベッソ１５０以外に例えばキシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ヘプタン、オクタン等の鎖状炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状炭化水素を用いることができる。また再結晶の際に用いる再結晶溶媒としてはメチルイソブチルケトン以外に例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等の低級エステル類等が挙げられる。
【００２０】
本発明の有機色素を製膜して用いる方法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法などが一般的であるが、コスト面ではスピンコート法が望ましい。
【００２１】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により塗布する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、n−ヘプタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【実施例】
【００２２】
以下に本発明で実施した本発明の有機色素及び紫外線吸収剤に用いる化合物の合成法及び化合物の特性を示す。ただし合成方法はこれに限定されるものではない。
【００２３】
（実施例１）
化合物（ａ）；３‐｛［３‐（２H‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントイン
【化３】
【００２４】
＜化合物の合成＞
i） ２‐［３‐（ジエチルアミノ）メチル‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾールの合成
【化２０】
200mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、２‐（2‐ヒドロキシ‐５‐tert-オクチルフェニル）‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾール（シプロ化成（株）製、商品名「SEESORB709」）32.3g(0.10mol)、92%パラホルム9.8g(0.30mol)、ジエチルアミン21.9g(0.30mol)を混合して70〜80℃で11〜12時間撹拌した後、ｎ‐ヘキサン
80mLを加え抽出させた後水洗した。冷却後固体を濾過し取りｎ‐ヘキサンで洗浄後、60℃の乾燥機にて黄白色の結晶を収率77.7%で31.7g得た。得られた結晶の融点102.4〜103.3℃であった。またＨＰＬＣ分析を行い、ＨＰＬＣ面百純度を測定したところ、ＨＰＬＣ面百純度は９９．４％であった。測定条件は以下の通りである。
＜測定条件＞
装置：ＬＣ−６Ａ（（株）島津製作所製）
使用カラム：ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２ ５μｍ ６ｍｍφ×１５ｃｍ
カラム温度：４０℃
移動相：メタノ−ル：水＝９５：５
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
なお、下記ii)のＨＰＬＣ面百純度も上記と同様の条件で行った。
【００２５】
ii) ３‐｛［３‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントインの合成
100mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、２‐｛３‐（ジエチルアミノ）メチル‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル｝‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾール8.2g(0.02mol)、４−ヒドロキシベンジリデンヒダントイン4.1g(0.02mol)、28%ナトリウムメチラートメタノール溶液0.8g(0.004mol)、N,N-ジメチルアセトアミド50mLを混合して115〜125℃で、減圧にして溶媒を回収しつつ10〜12時間撹拌した。４−メチル‐２‐ペンタノン60mL、酢酸0.3mLを追加して冷却後固体を濾過し取った。濾液を減圧下にて溶媒を溜去して2-ペンタノールを100mL追加して晶析した。冷却後固体を濾過し取り、微黄白色の結晶を収率10.4%で1.1g得た。分解点276.7℃、HPLC面百純度９４．６％であった。
【００２６】
＜紫外〜可視吸収スペクトル＞
化合物（ａ）の紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λmaxは、３４３ｎｍであり、この時の吸光度εmaxは、４６９００であった。スペクトルを図１に示す。スペクトルの測定条件は次のとおりである。
＜測定条件>
装置：UV-2450((株)島津製作所製)
測定波長：250〜500nm
また以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で紫外〜可視吸収スペクトルの測定を行った。
【００２７】
＜ＩＲ吸収スペクトル＞
また化合物（ａ）の赤外線吸収スペクトルも測定した。測定条件は次のとおりである。
装置：ＦＴＩＲ−８４００Ｓ（（株）島津製作所製）
検体：１／２００（ＫＢｒ）
上記条件で測定した化合物（ａ）の赤外線吸収スペクトルを図２に示す。なお、以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で赤外線吸収スペクトル測定を行った。
【００２８】
＜溶解性評価＞
化合物（ａ）について、2-プロパノール及びエチルセロソルブに溶解させたときの溶解度、及塗布膜とした場合の結晶析出性を調べた。化合物（ａ）2-プロパノール溶解度は0.1wt%未満、エチルセロソルブ溶解度は2.1wt%であった。
【００２９】
＜ＮＣＨ定量分析＞
化合物（ａ）を高感度Ｃ，Ｈ，Ｎにて定量した。
＜測定装置＞
酸素循環燃焼・ＴＣＤ検出方式 ＮＣＨ定量装置
スミグラフ ＮＣＨ−２１型（住化分析センター製）
＜測定結果＞
Ｃ３１Ｈ３３Ｎ５Ｏ４としての計算値
Ｃ（％）６９．０；Ｈ（％）６．２；Ｎ（％）１１．９
実測値 Ｃ（％）６７．８；Ｈ（％）６．７；Ｎ（％）１２．３
【００３０】
＜ＮＭＲ分析＞
化合物（ａ）については、更にＮＭＲ解析を行った。
＜測定条件＞
装置：ＪＭＭ−ＥＣＡ４００
共振周波数：４００ＭＨｚ（１Ｈ−ＮＭＲ）
測定温度：室温
溶媒：クロロホルム−ｄ
内部基準物質：ＴＭＳ（０ｐｐｍ）
積算回数：１６回
得られたスペクトル（拡大図）を図３に示す。スペクトルの内容を表１に整理した。
【００３１】
【表１】
【００３２】
表１から推定される化合物の構造を（化２２）（化２３）に示す。
【化２２】
【化２３】
以上ＮＭＲの結果から、２つの構造の可能性が示されたが、立体障害の観点から、化合物（ａ）は、（化２２）の構造である３‐｛［３‐（２H‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデンヒダントインであると推察される。
【００３３】
＜塗布膜としたときの評価＞
上記で得られた化合物（ａ）をエチルセロソルブに対して2.0wt%になるよう調整した。次にガラス板(7.5cmx2.5cm，厚さ約1mm)をポリカーボネート円盤(直径12cm，厚さ約1.2mm)に貼り付け、回転数500〜600rpmで回転させた。回転しているガラス板上にガラス板上に調製した上記化合物（ａ）のメチルセロソルブ溶液を滴下し、スピナー法により塗布した。塗布後、風乾させることで、化合物（ａ）が膜化して付着しているガラス板を得た。得られたガラス板上に膜化した化合物（ａ）の紫外線〜可視光吸収スペクトルの測定を行い、最大吸収波長を求めたところ、λmaxは、３８０ｎｍであった。
【００３４】
（実施例２）
化合物（ｂ）；３‐｛［３‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントイン
【化４】
【００３５】
＜化合物の合成＞
i） ２‐［３‐（ジエチルアミノ）メチル‐２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの合成
【化２１】
200mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、２‐（２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル)‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾール（シプロ化成（株）社製 商品名「SEESORB701」）22.5g(0.10mol)、92%パラホルム9.8g(0.30mol)、ジエチルアミン
21.9g(0.30mol)を混合して70〜80℃で11〜12時間撹拌した後、トルエン100mLを加え抽出させた後水洗した。トルエンを減圧回収して黄色のオイルを収率98.2%で30.5g得た。
【００３６】
ii) ３‐｛［３‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントインの合成
100mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、2-［3-(ジエチルアミノ)メチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル］-2H-ベンゾトリアゾール6.2g(0.02mol)、4-ヒドロキシベンジリデンヒダントイン4.1g(0.02mol)、28%ナトリウムメチラートメタノール溶液0.8g(0.004mol)、N,N-ジメチルアセトアミド
50mLを混合して115〜125℃で、減圧にして溶媒を回収しつつ10〜12時間撹拌した。４−メチル‐２‐ペンタノン60mL、酢酸0.3mLを追加して冷却後、不溶分を濾過し取った。濾液を減圧下にて溶媒を溜去して２‐ペンタノールを100mL追加して晶析した。冷却後固体を濾過し取り、褐色の結晶を収率14.7%で1.3g得た。得られた化合物のＨＰＬＣ面百純度は９３．４％であった。測定条件は以下の通りである。
<測定条件>
移動相:メタノール:水=90:10
その他の条件は実施例１と同じである。
【００３７】
化合物（ｂ）の溶媒への溶解度を調べたところ、２‐プロパノール溶解度は0.1wt%未満、エチルセロソルブ溶解度は0.1wt%未満であった。また紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λmaxは、３４４ｎｍであり、この時の吸光度εmaxは、２６０００であった。紫外線〜可視光吸収スペクトルを図４に示す。また、実施例１と同様の条件で測定したＩＲスペクトルを図５に示す。
【００３８】
＜塗布膜としたときの評価＞
上記で得られた化合物（ｂ）をエチルセロソルブに対して0.3wt%になるよう調整した。次にガラス板(7.5cmx2.5cm，厚さ約1mm)をポリカーボネート円盤(直径12cm，厚さ約1.2mm)に貼り付け、回転数500〜600rpmで回転させた。回転しているガラス板上にガラス板上に調製した上記化合物（ｂ）のメチルセロソルブ溶液を滴下し、スピナー法により塗布した。塗布後、風乾させることで、化合物（ｂ）が膜化して付着しているガラス板を得た。得られたガラス板上に膜化した化合物（ｂ）の紫外線〜可視光吸収スペクトルの測定を行い、最大吸収波長を求めたところ、λmaxは、３５５ｎｍであった。
【００３９】
上記化合物（ａ）及び（ｂ）の特性をまとめて表２に示す。なお、塗布膜としたときの結晶性の有無も併せて示す。評価基準は下記のとおりである。
○：結晶析出が認められない
△：塗布面の縁にわずかに結晶析出が認められる
×：塗布膜の縁に明確に結晶析出が認められるか、または塗布膜の縁以外の部分に（わずかであっても）結晶析出が認められる。
【００４０】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明の化合物は、可視光低波長領域から紫外領域に吸収を持ち、かつ非結晶性が高いので、有機色素として塗料や写真薬など一般の色材、また紫外線吸収剤として好適に使用できる。なかでも、いわゆる青色レーザーを用いる光記録媒体用に添加する色素として好適に利用できる。また、本発明の化合物は、金属錯体の配位子としても利用でき、本発明の化合物を配位子とした有機金属錯体もまた有機色素として好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】化合物（ａ）の紫外〜可視吸収スペクトルである。
【図２】化合物（ａ）の赤外吸収スペクトルである。
【図３】化合物（ａ）のＮＭＲスペクトルである。
【図４】化合物（ｂ）の紫外〜可視吸収スペクトルである。
【図５】化合物（ｂ）の赤外吸収スペクトルである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なベンジリデンヒダントイン誘導体化合物に関し、また当該新規化合物を含有する有機色素及び紫外線吸収剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ、ＭＯなどへの媒体の書き込み、読み取りには、いわゆる赤色レーザーが普及している。これに使用する媒体には、当該赤色レーザーの波長に対応した波長を吸収する色素が表面にコーティングされている。色素には無機色素と有機色素が存在するが、応答速度が速いなどの利点から有機色素が一般に用いられる。
【０００３】
一方最近、更なる高密度の記録を可能にすべく、いわゆる青色レーザーを用いた機器の開発が進んでいる。青色レーザー用の媒体に用いる色素は、レーザーの波長に対応すべく、４０５ｎｍ付近の波長を効率的に吸収する色素でなければならない。かかる色素として、現在いくつかの無機色素が実用化に向けて開発されている。
【０００４】
しかし、レーザーによる高速度の記録に対応できるものとするためには、媒体に用いる色素として、無機色素ではなく応答の速い有機色素が好ましい。このような波長領域に吸収を持つ化合物としては、例えば、特許文献１〜４に記載されているような有機色素の基本骨格としてピラン化合物の誘導体、ポリアセンジイミド系色素の誘導体、シアニン系有機色素の混合物、メチン基のパラ位に特定のアミノ基を導入したベンゼン誘導体を用いる方法などが提案されている。
【特許文献１】特開２００４−３２２５６４号公報
【特許文献２】特開２００４−０９０３７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６９５４号公報
【特許文献４】特開２００３−２４６１４２号公報
【特許文献５】特開２００３−１０３９３５号公報
【０００５】
これら化合物を有機色素として記録媒体に用いる場合には、スピンコート法など溶媒に溶かして有機色素の薄膜層を形成するのが一般的である。この際、有機色素としてはアモルファス状態を保ったまま、結晶化しないことが求められる。また、記録内容の長期期間保持という点から、耐光性が求められる。さらに、レーザーが当たった際に、有機色素がピットに流れ出ないようにするため、高融点であることが求められる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記材料においては、非結晶化、高い耐光性、高融点のいずれかの性能を満足するものであったとしても、これら全ての性能について十分といえるものではなかった。そこで本発明における課題は、これらの問題がなく、非結晶化、高い耐光性、高融点のいずれの性能についても満足できる有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることのできる化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、下記（化１）に示した一般式（Ａ）で示されるベンジリデンヒダントイン誘導体のうち、（Ａ）式中のＲ１〜Ｒ４がそれぞれ下記の官能基または原子のうちいずれかであるベンジリデンヒダントイン誘導体を含有する新規化合物を、有機色素や紫外線吸収剤として用いることを上記課題の主要な解決手段とする。
【化１】
Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜３のアルキルカルボキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボキシエステル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基のうち、いずれかの官能基または原子である。ただし、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６にアミノ基またはニトロ基が選ばれる場合、アミノ基またはニトロ基は、いずれか一方が、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６のうち１箇所置換されているものに限る。
またＲ４は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかで枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基、ニトロ基のうち、いずれかの官能基または原子である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の化合物は、可視光青色領域から紫外光領域に渡って広い吸収帯域を有する化合物であり、有機色素、紫外線吸収剤として好適に用いることができるものである。また広い吸収帯を有するので、耐光性にも優れた化合物である。
【０００９】
本発明の化合物は、５−ベンジリデンヒダントイン誘導体と６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノ−ル誘導体との縮合体であるが、単にこれら化合物を混合するのではなく、縮合体として一つの化合物にすることで、混合による融点降下が生じることなく、高い融点を確保できとともに、長期間経過後も結晶化することなく嵩高いアモルファス状態を維持することができる。
【００１０】
なかでも、下記構造式で表されるベンゾトリアゾール誘導体とヒダントイン誘導体による縮合体については、有機溶剤が揮発する際にも結晶化しにくいことが実験的にも明らかとなり、有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることができることが明確となった。
化合物（ａ）
【化３】
化合物（ｂ）
【化４】
【００１１】
さらに、本発明の有機色素は、上記キャスティング法のような湿式塗布以外にも蒸着法、スパッタリング法によっても基板上に成膜させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に本発明につき詳細に説明する。本発明は、有機色素として、下記一般式（Ａ）によって示される有機化合物を用いたものである。以下に前記一般式（Ａ）において表される化合物について説明する。
【００１３】
【化１】
【００１４】
（Ａ）式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子または任意の置換基を表し、任意の置換基はさらに置換されていても良い。該任意の置換基の例としてＲ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６は、水素原子；フッ素、塩素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基などの置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基、；アミノ基、モノメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モノn−プロピルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、モノイソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等の置換されても良い炭素数１〜４の直鎖または分岐のアミノ基；ニトロ基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキルオキシカルボニル基；下記（化７〜化９）の−Ｒ７ＣＯＯＨで表されるアルキルカルボキシル基；下記（化１０〜化１９）の−Ｒ７ＣＯＯＲ８で表される下記のアルキルカルボン酸エステル基が挙げられる。
【００１５】
アルキルカルボキシル基（−Ｒ７ＣＯＯＨ）
【化７】
【化８】
【化９】
【００１６】
アルキルカルボン酸エステル（−Ｒ７ＣＯＯＲ８）
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【００１７】
該任意の置換基の例としてＲ４は水素原子；フッ素、塩素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基；アミノ基、モノメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モノn−プロピルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、モノイソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等の置換されても良い炭素数１〜４の直鎖または分岐のアミノ基；ニトロ基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec-ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００１８】
一般式（Ａ）で示される本発明化合物は、たとえば下記（化５、化６）に示した反応式を経て合成することができる。
【化５】
【化６】
【００１９】
ベンゾトリアゾール誘導体に高沸点溶媒である商品名「ソルベッソ１５０」（エクソンモービル社製）溶媒下、パラホルムアルデヒドとジエチルアミンを反応させてマンニッヒベースとし、該ヒダントイン誘導体と縮合させることで本発明の上記ベンゾトリアゾール誘導体化合物を合成できる。反応の溶媒としては上記ソルベッソ１５０以外に例えばキシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ヘプタン、オクタン等の鎖状炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状炭化水素を用いることができる。また再結晶の際に用いる再結晶溶媒としてはメチルイソブチルケトン以外に例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等の低級エステル類等が挙げられる。
【００２０】
本発明の有機色素を製膜して用いる方法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法などが一般的であるが、コスト面ではスピンコート法が望ましい。
【００２１】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により塗布する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、n−ヘプタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【実施例】
【００２２】
以下に本発明で実施した本発明の有機色素及び紫外線吸収剤に用いる化合物の合成法及び化合物の特性を示す。ただし合成方法はこれに限定されるものではない。
【００２３】
（実施例１）
化合物（ａ）；３‐｛［３‐（２H‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントイン
【化３】
【００２４】
＜化合物の合成＞
i） ２‐［３‐（ジエチルアミノ）メチル‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾールの合成
【化２０】
200mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、２‐（2‐ヒドロキシ‐５‐tert-オクチルフェニル）‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾール（シプロ化成（株）製、商品名「SEESORB709」）32.3g(0.10mol)、92%パラホルム9.8g(0.30mol)、ジエチルアミン21.9g(0.30mol)を混合して70〜80℃で11〜12時間撹拌した後、ｎ‐ヘキサン
80mLを加え抽出させた後水洗した。冷却後固体を濾過し取りｎ‐ヘキサンで洗浄後、60℃の乾燥機にて黄白色の結晶を収率77.7%で31.7g得た。得られた結晶の融点102.4〜103.3℃であった。またＨＰＬＣ分析を行い、ＨＰＬＣ面百純度を測定したところ、ＨＰＬＣ面百純度は９９．４％であった。測定条件は以下の通りである。
＜測定条件＞
装置：ＬＣ−６Ａ（（株）島津製作所製）
使用カラム：ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２ ５μｍ ６ｍｍφ×１５ｃｍ
カラム温度：４０℃
移動相：メタノ−ル：水＝９５：５
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
なお、下記ii)のＨＰＬＣ面百純度も上記と同様の条件で行った。
【００２５】
ii) ３‐｛［３‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントインの合成
100mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、２‐｛３‐（ジエチルアミノ）メチル‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル｝‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾール8.2g(0.02mol)、４−ヒドロキシベンジリデンヒダントイン4.1g(0.02mol)、28%ナトリウムメチラートメタノール溶液0.8g(0.004mol)、N,N-ジメチルアセトアミド50mLを混合して115〜125℃で、減圧にして溶媒を回収しつつ10〜12時間撹拌した。４−メチル‐２‐ペンタノン60mL、酢酸0.3mLを追加して冷却後固体を濾過し取った。濾液を減圧下にて溶媒を溜去して2-ペンタノールを100mL追加して晶析した。冷却後固体を濾過し取り、微黄白色の結晶を収率10.4%で1.1g得た。分解点276.7℃、HPLC面百純度９４．６％であった。
【００２６】
＜紫外〜可視吸収スペクトル＞
化合物（ａ）の紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λmaxは、３４３ｎｍであり、この時の吸光度εmaxは、４６９００であった。スペクトルを図１に示す。スペクトルの測定条件は次のとおりである。
＜測定条件>
装置：UV-2450((株)島津製作所製)
測定波長：250〜500nm
また以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で紫外〜可視吸収スペクトルの測定を行った。
【００２７】
＜ＩＲ吸収スペクトル＞
また化合物（ａ）の赤外線吸収スペクトルも測定した。測定条件は次のとおりである。
装置：ＦＴＩＲ−８４００Ｓ（（株）島津製作所製）
検体：１／２００（ＫＢｒ）
上記条件で測定した化合物（ａ）の赤外線吸収スペクトルを図２に示す。なお、以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で赤外線吸収スペクトル測定を行った。
【００２８】
＜溶解性評価＞
化合物（ａ）について、2-プロパノール及びエチルセロソルブに溶解させたときの溶解度、及塗布膜とした場合の結晶析出性を調べた。化合物（ａ）2-プロパノール溶解度は0.1wt%未満、エチルセロソルブ溶解度は2.1wt%であった。
【００２９】
＜ＮＣＨ定量分析＞
化合物（ａ）を高感度Ｃ，Ｈ，Ｎにて定量した。
＜測定装置＞
酸素循環燃焼・ＴＣＤ検出方式 ＮＣＨ定量装置
スミグラフ ＮＣＨ−２１型（住化分析センター製）
＜測定結果＞
Ｃ３１Ｈ３３Ｎ５Ｏ４としての計算値
Ｃ（％）６９．０；Ｈ（％）６．２；Ｎ（％）１１．９
実測値 Ｃ（％）６７．８；Ｈ（％）６．７；Ｎ（％）１２．３
【００３０】
＜ＮＭＲ分析＞
化合物（ａ）については、更にＮＭＲ解析を行った。
＜測定条件＞
装置：ＪＭＭ−ＥＣＡ４００
共振周波数：４００ＭＨｚ（１Ｈ−ＮＭＲ）
測定温度：室温
溶媒：クロロホルム−ｄ
内部基準物質：ＴＭＳ（０ｐｐｍ）
積算回数：１６回
得られたスペクトル（拡大図）を図３に示す。スペクトルの内容を表１に整理した。
【００３１】
【表１】
【００３２】
表１から推定される化合物の構造を（化２２）（化２３）に示す。
【化２２】
【化２３】
以上ＮＭＲの結果から、２つの構造の可能性が示されたが、立体障害の観点から、化合物（ａ）は、（化２２）の構造である３‐｛［３‐（２H‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐tert‐オクチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデンヒダントインであると推察される。
【００３３】
＜塗布膜としたときの評価＞
上記で得られた化合物（ａ）をエチルセロソルブに対して2.0wt%になるよう調整した。次にガラス板(7.5cmx2.5cm，厚さ約1mm)をポリカーボネート円盤(直径12cm，厚さ約1.2mm)に貼り付け、回転数500〜600rpmで回転させた。回転しているガラス板上にガラス板上に調製した上記化合物（ａ）のメチルセロソルブ溶液を滴下し、スピナー法により塗布した。塗布後、風乾させることで、化合物（ａ）が膜化して付着しているガラス板を得た。得られたガラス板上に膜化した化合物（ａ）の紫外線〜可視光吸収スペクトルの測定を行い、最大吸収波長を求めたところ、λmaxは、３８０ｎｍであった。
【００３４】
（実施例２）
化合物（ｂ）；３‐｛［３‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントイン
【化４】
【００３５】
＜化合物の合成＞
i） ２‐［３‐（ジエチルアミノ）メチル‐２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの合成
【化２１】
200mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、２‐（２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル)‐２Ｈ‐ベンゾトリアゾール（シプロ化成（株）社製 商品名「SEESORB701」）22.5g(0.10mol)、92%パラホルム9.8g(0.30mol)、ジエチルアミン
21.9g(0.30mol)を混合して70〜80℃で11〜12時間撹拌した後、トルエン100mLを加え抽出させた後水洗した。トルエンを減圧回収して黄色のオイルを収率98.2%で30.5g得た。
【００３６】
ii) ３‐｛［３‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐２‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェニル］メチル｝‐５‐（４‐ヒドロキシベンジリデン）ヒダントインの合成
100mLの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌機を取り付け、2-［3-(ジエチルアミノ)メチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル］-2H-ベンゾトリアゾール6.2g(0.02mol)、4-ヒドロキシベンジリデンヒダントイン4.1g(0.02mol)、28%ナトリウムメチラートメタノール溶液0.8g(0.004mol)、N,N-ジメチルアセトアミド
50mLを混合して115〜125℃で、減圧にして溶媒を回収しつつ10〜12時間撹拌した。４−メチル‐２‐ペンタノン60mL、酢酸0.3mLを追加して冷却後、不溶分を濾過し取った。濾液を減圧下にて溶媒を溜去して２‐ペンタノールを100mL追加して晶析した。冷却後固体を濾過し取り、褐色の結晶を収率14.7%で1.3g得た。得られた化合物のＨＰＬＣ面百純度は９３．４％であった。測定条件は以下の通りである。
<測定条件>
移動相:メタノール:水=90:10
その他の条件は実施例１と同じである。
【００３７】
化合物（ｂ）の溶媒への溶解度を調べたところ、２‐プロパノール溶解度は0.1wt%未満、エチルセロソルブ溶解度は0.1wt%未満であった。また紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λmaxは、３４４ｎｍであり、この時の吸光度εmaxは、２６０００であった。紫外線〜可視光吸収スペクトルを図４に示す。また、実施例１と同様の条件で測定したＩＲスペクトルを図５に示す。
【００３８】
＜塗布膜としたときの評価＞
上記で得られた化合物（ｂ）をエチルセロソルブに対して0.3wt%になるよう調整した。次にガラス板(7.5cmx2.5cm，厚さ約1mm)をポリカーボネート円盤(直径12cm，厚さ約1.2mm)に貼り付け、回転数500〜600rpmで回転させた。回転しているガラス板上にガラス板上に調製した上記化合物（ｂ）のメチルセロソルブ溶液を滴下し、スピナー法により塗布した。塗布後、風乾させることで、化合物（ｂ）が膜化して付着しているガラス板を得た。得られたガラス板上に膜化した化合物（ｂ）の紫外線〜可視光吸収スペクトルの測定を行い、最大吸収波長を求めたところ、λmaxは、３５５ｎｍであった。
【００３９】
上記化合物（ａ）及び（ｂ）の特性をまとめて表２に示す。なお、塗布膜としたときの結晶性の有無も併せて示す。評価基準は下記のとおりである。
○：結晶析出が認められない
△：塗布面の縁にわずかに結晶析出が認められる
×：塗布膜の縁に明確に結晶析出が認められるか、または塗布膜の縁以外の部分に（わずかであっても）結晶析出が認められる。
【００４０】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明の化合物は、可視光低波長領域から紫外領域に吸収を持ち、かつ非結晶性が高いので、有機色素として塗料や写真薬など一般の色材、また紫外線吸収剤として好適に使用できる。なかでも、いわゆる青色レーザーを用いる光記録媒体用に添加する色素として好適に利用できる。また、本発明の化合物は、金属錯体の配位子としても利用でき、本発明の化合物を配位子とした有機金属錯体もまた有機色素として好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】化合物（ａ）の紫外〜可視吸収スペクトルである。
【図２】化合物（ａ）の赤外吸収スペクトルである。
【図３】化合物（ａ）のＮＭＲスペクトルである。
【図４】化合物（ｂ）の紫外〜可視吸収スペクトルである。
【図５】化合物（ｂ）の赤外吸収スペクトルである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（Ａ）で示されるベンジリデンヒダントイン誘導体化合物のうち、
（Ａ）式中のＲ１〜Ｒ６がそれぞれ下記の官能基または原子のうちいずれかであるベンジリデンヒダントイン誘導体化合物。
【化１】
Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜３のアルキルカルボキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボキシエステル基または炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基であり、
（ただし、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６にアミノ基またはニトロ基が選ばれる場合、アミノ基またはニトロ基は、いずれか一方が、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６のうち１箇所置換されているものに限る。）
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかで枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基またはニトロ基である。
【請求項２】
前記一般式（Ａ）におけるＲ１〜Ｒ６が、下記（ａ）〜（ｂ）記載の組み合わせのいずれかであるベンジリデンヒダントイン誘導体化合物。
（ａ） Ｒ１,Ｒ２,Ｒ４,Ｒ５＝Ｈ、Ｒ３＝ＯＨ、
【化２】
（ｂ） Ｒ１,Ｒ２,Ｒ４,Ｒ５＝Ｈ、Ｒ３＝ＯＨ、Ｒ６＝ＣＨ３
【請求項３】
請求項１記載のベンジリデンヒダントイン誘導体化合物を含有する有機色素。
【請求項４】
請求項１記載のベンジリデンヒダントイン誘導体化合物を含有する紫外線吸収剤。
【請求項１】
下記の一般式（Ａ）で示されるベンジリデンヒダントイン誘導体化合物のうち、
（Ａ）式中のＲ１〜Ｒ６がそれぞれ下記の官能基または原子のうちいずれかであるベンジリデンヒダントイン誘導体化合物。
【化１】
Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜３のアルキルカルボキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボキシエステル基または炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基であり、
（ただし、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６にアミノ基またはニトロ基が選ばれる場合、アミノ基またはニトロ基は、いずれか一方が、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６のうち１箇所置換されているものに限る。）
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜２０のアルキル基（いずれかで枝分かれしているものを含む）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基（いずれかの位置で枝分かれしているものを含む）、アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のモノ置換アミノ基、炭素数１〜４の直鎖または分鎖のジ置換アミノ基またはニトロ基である。
【請求項２】
前記一般式（Ａ）におけるＲ１〜Ｒ６が、下記（ａ）〜（ｂ）記載の組み合わせのいずれかであるベンジリデンヒダントイン誘導体化合物。
（ａ） Ｒ１,Ｒ２,Ｒ４,Ｒ５＝Ｈ、Ｒ３＝ＯＨ、
【化２】
（ｂ） Ｒ１,Ｒ２,Ｒ４,Ｒ５＝Ｈ、Ｒ３＝ＯＨ、Ｒ６＝ＣＨ３
【請求項３】
請求項１記載のベンジリデンヒダントイン誘導体化合物を含有する有機色素。
【請求項４】
請求項１記載のベンジリデンヒダントイン誘導体化合物を含有する紫外線吸収剤。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００７−２３０８９０（Ｐ２００７−２３０８９０Ａ）
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５２７６８（Ｐ２００６−５２７６８）
【出願日】平成１８年２月２８日（２００６．２．２８）
【出願人】（３０１０００６７５）シプロ化成株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月２８日（２００６．２．２８）
【出願人】（３０１０００６７５）シプロ化成株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
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