レボフロキサシン・１／２水和物の製法
【課題】 レボフロキサシン粗原料を、高収率でレボフロキサシン・１／２水和物に変えることのできる方法を提供すること。
【解決手段】 レボフロキサシンを、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類もしくは１容量％以上５容量％以下の濃アンモニア水を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【解決手段】 レボフロキサシンを、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類もしくは１容量％以上５容量％以下の濃アンモニア水を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は抗菌性化合物である、レボフロキサシン・１／２水和物の製法に関し、更に詳細には、レボフロキサシンを再結晶させ、その１／２水和物を高収率で得るレボフロキサシン・１／２水和物の製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レボフロキサシン（（Ｓ）−９−フルオロ−３−メチル−１０−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−２,３−ジヒドロ−７Ｈ−ピリド［１,２,３−ｄｅ］［１,４］ベンソオキサジン−６−カルボン酸）は高い抗菌力と高い安全性を有する化合物であり（特許文献１参照）、その１／２水和物は、優れた合成抗菌薬として知られている。
【０００３】
このレボフロキサシンには、上記した１／２水和物の他、結晶水の数の異なる１水和物や、水和物から脱水して生成する無水物の結晶の存在が知られているが、抗菌剤として使用するためには、これらを１／２水和物とすることが必要である。
【０００４】
従来、レボフロキサシンの１／２水和物は、前記レボフロキサシンの１水和物や無水物（以下、「レボフロキサシン粗原料」という）の結晶をエタノールとジエチルエーテル若しくは濃アンモニア水とエタノールの混合溶媒（特許文献１参照）、もしくは４−１１％の含水エタノール、含水アセトンで再結晶し、晶析させることにより得ていた。
【０００５】
しかし、前者の混合溶媒を使用する方法では、晶析時に１／２水和物であるレボフロキサシンの他にレボフロキサシン粗原料の１水和物（以下、単に「１水和物」と略す）が析出し、これが混入する場合があった。また、後者の場合においても、１水和物が析出し、混入する場合もあり、高純度のレボフロキサシンを得る方法としては不十分であった。
【０００６】
【特許文献１】特公平３−２７５３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、レボフロキサシン粗原料を、高収率でレボフロキサシン・１／２水和物に変えることのできる方法の開発が求められており、このような方法を提供することが本発明の課題である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決すべく、レボフロキサシン・１／２水和物を得るための再結晶方法に関し、鋭意検討を行っていたところ、ごく低い含水率の溶媒中でレボフロキサシンを再結晶することで、レボフロキサシンの１／２水和物を安定的かつ高収率で取得可能であることを見いだし、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち本発明は、レボフロキサシンを、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【００１０】
また本発明は、レボフロキサシンを、１容量％以上５容量％以下の濃アンモニア水を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、レボフロキサシン粗原料を、高収率でレボフロキサシン・１／２水和物に変えることが可能である。従って、種々の方法で製造したレボフロキサシン粗原料から、レボフロキサシン・１／２水和物を製造する方法として使用できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の一つの態様は、レボフロキサシン粗原料を、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類から再結晶するレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【００１３】
使用するレボフロキサシン粗原料としては、レボフロキサシンの１水和物や無水物が挙げられるが、これに限らず、不純物が含まれていたり、前記１水和物や無水物が混入した１／２水和物を粗原料としても良い。
【００１４】
また、再結晶に使用できる溶媒（以下、「再結晶溶媒」という）は、少量の水と混和する溶媒で、レボフロキサシン粗原料が溶解するものであれば特に制限はなく、例えば無水メタノール、無水エタノール、イソプロパノール、ブタノール類の低級アルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン等の低級ケトンを例示することが出来る。
【００１５】
この再結晶溶媒は、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満であることが必要であり、特に含水率が０.５容量％以上２容量％以下であることが好ましい。
【００１６】
再結晶溶媒として低級アルコール類を使用する場合は、レボフロキサシン粗原料に対しその４−８重量倍の範囲とすれば良く、通常は６−７重量倍が望ましい。また、再結晶溶媒として低級ケトンを使用する場合は、レボフロキサシン粗原料に対しその１０−５０重量倍の範囲とすれば良く、通常は２０−３０重量倍が望ましい。更に、再結晶溶媒の使用量は処理の開始当初から上記の量を使用する必要はなく、あらかじめ上記より多い量の再結晶溶媒に溶解した後に濃縮によって上記の量にしても良い。
【００１７】
この再結晶溶媒にレボフロキサシン粗原料を溶解させるための加熱温度は、５０℃から８０℃の範囲であり、再結晶溶媒が低級アルコールである場合は、通常、７５〜８０℃程度の温度が好ましく、再結晶溶媒が低級ケトンである場合は、通常、５０℃〜６０℃が好ましい。また、溶解後の冷却温度は、２５℃から−５℃の範囲であり、通常は５℃程度が好ましい。冷却時間は２時間から２昼夜の範囲でよく、好ましくは一昼夜である。
【００１８】
なお、レボフロキサシン・１／２水和物の再結晶は、レボフロキサシン粗原料が再結晶溶媒に加熱溶解した後、直ちに冷却し、静置して晶析させることが好ましい。
【００１９】
一方、本発明の別の態様は、レボフロキサシン粗原料を、１容量％以上５容量％以下、好ましくは、１.５容量％以上２.５容量％以下で濃アンモニア水（２７％アンモニア水）を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶するレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【００２０】
この態様による発明は、再結晶溶媒として、上記のアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類を使用する以外は、第一の態様の発明と同様にして実施することができる。すなわち、使用溶媒量、加熱温度および冷却温度も、前記した条件とほぼ同一でよい。
【００２１】
なお、上記のように濃アンモニア水を含有させたアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類（以下、「アンモニア含有再結晶溶媒」という）の含水量は、上記量の濃アンモニア水を加えることにより、概ね最初の態様の発明の条件をも満たすことができる。
【００２２】
以上説明した本発明のレボフロキサシン・１／２水和物の製法は、その再結晶、晶析に先立って、精製工程を加えることもできる。例えば、レボフロキサシン粗原料の溶解後に、活性炭などを使用して脱色等の精製処理の工程を加えることも出来る。
【００２３】
更に、本発明法で得られたレボフロキサシン・１／２水和物は、乾燥され、最終製品とされる。この結晶の乾燥は、目的物から溶媒のみを除去できる条件で行うことが好ましく、例えば、乾燥温度は２０−４５℃程度、好ましくは３５−４０℃程度であり、減圧度は５−１００ｍｍＨｇ程度、好ましくは５−１０ｍｍＨｇ程度である。また、乾燥時間はおよそ８時間程度が好ましく、乾燥法としては、逆円錐型スクリュー攪拌式真空乾燥機、縦型振動式真空乾燥機、あるいは棚段式箱形真空乾燥機などの各種の真空乾燥機を使用する乾燥法を挙げることができる。
【００２４】
かくして得られたレボフロキサシン・１／２水和物は、これを公知の医薬品担体と組み合わせることにより、種々の形態の抗菌剤とすることができる。
【実施例】
【００２５】
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれにより何ら制約されるものではない。
【００２６】
実 施 例 １
１００ｍＬナス型フラスコに、レボフロキサシン粗原料（無水物；水分量０.９９４％）１０ｇを秤取し、これに無水エタノール（含水量０．１４ｖ／ｖ％）に２ｖ／ｖ％の水を加えて６５ｍＬとした溶液を加え、水浴で加熱した。レボフロキサシン粗原料は、７７.３℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物９.５１ｇを得た。
【００２７】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.５６％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００５カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.９°、１３.５°、１９.２°
【００２８】
実 施 例 ２
１００ｍＬナス型フラスコに、レボフロキサシン粗原料（１／２水和物；水分量２.４６２％）１０.００ｇを秤取し、これに無水エタノール（含水量０.１４ｖ／ｖ％）７０ｍＬを加え、水浴で加熱した。レボフロキサシンは７９℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下で濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物
９.４１ｇを得た。
【００２９】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.６９％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００６カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.９°、１３.５°、１９.２°
【００３０】
実 施 例 ３
１００ｍＬナス型フラスコに、レボフロキサシン粗原料（無水物；水分量０.９９４１％）１０.００ｇを秤取し、これに無水エタノール（含水量０．１４ｖ／ｖ％）に２ｖ／ｖ％の濃アンモニア水を加えて６０ｍＬとした溶液を加え、水浴で加熱した。レボフロキサシン粗原料は７７.５℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下で濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物９.２４ｇを得た。
【００３１】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.３６％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００６カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.９°、１３.５°、１９.２°
【００３２】
実 施 例 ４
５００ｍＬナス型フラスコにレボフロキサシン粗原料（無水物；水分量０.９９４１％）１０.００ｇを秤取し、これに、アセトン（含水量０.０７％）に水２％を含有させた溶媒２６０ｍＬを加え、水浴で加熱した。レボフロキサシン粗原料は５１.６℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下で濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物を６．８０ｇ得た。
【００３３】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.６８８％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００６カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.８°、１３.５°、１９.１°
【産業上の利用可能性】
【００３４】
本発明方法により、レボフロキサシン粗原料からレボフロキサシン・１／２水和物を効率よく得ることができるので、レボフロキサシン・１／２水和物を有効成分とする抗菌剤を経済的に製造する方法として有利に使用することができるものである。
以 上
【技術分野】
【０００１】
本発明は抗菌性化合物である、レボフロキサシン・１／２水和物の製法に関し、更に詳細には、レボフロキサシンを再結晶させ、その１／２水和物を高収率で得るレボフロキサシン・１／２水和物の製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レボフロキサシン（（Ｓ）−９−フルオロ−３−メチル−１０−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−２,３−ジヒドロ−７Ｈ−ピリド［１,２,３−ｄｅ］［１,４］ベンソオキサジン−６−カルボン酸）は高い抗菌力と高い安全性を有する化合物であり（特許文献１参照）、その１／２水和物は、優れた合成抗菌薬として知られている。
【０００３】
このレボフロキサシンには、上記した１／２水和物の他、結晶水の数の異なる１水和物や、水和物から脱水して生成する無水物の結晶の存在が知られているが、抗菌剤として使用するためには、これらを１／２水和物とすることが必要である。
【０００４】
従来、レボフロキサシンの１／２水和物は、前記レボフロキサシンの１水和物や無水物（以下、「レボフロキサシン粗原料」という）の結晶をエタノールとジエチルエーテル若しくは濃アンモニア水とエタノールの混合溶媒（特許文献１参照）、もしくは４−１１％の含水エタノール、含水アセトンで再結晶し、晶析させることにより得ていた。
【０００５】
しかし、前者の混合溶媒を使用する方法では、晶析時に１／２水和物であるレボフロキサシンの他にレボフロキサシン粗原料の１水和物（以下、単に「１水和物」と略す）が析出し、これが混入する場合があった。また、後者の場合においても、１水和物が析出し、混入する場合もあり、高純度のレボフロキサシンを得る方法としては不十分であった。
【０００６】
【特許文献１】特公平３−２７５３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、レボフロキサシン粗原料を、高収率でレボフロキサシン・１／２水和物に変えることのできる方法の開発が求められており、このような方法を提供することが本発明の課題である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決すべく、レボフロキサシン・１／２水和物を得るための再結晶方法に関し、鋭意検討を行っていたところ、ごく低い含水率の溶媒中でレボフロキサシンを再結晶することで、レボフロキサシンの１／２水和物を安定的かつ高収率で取得可能であることを見いだし、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち本発明は、レボフロキサシンを、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【００１０】
また本発明は、レボフロキサシンを、１容量％以上５容量％以下の濃アンモニア水を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、レボフロキサシン粗原料を、高収率でレボフロキサシン・１／２水和物に変えることが可能である。従って、種々の方法で製造したレボフロキサシン粗原料から、レボフロキサシン・１／２水和物を製造する方法として使用できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の一つの態様は、レボフロキサシン粗原料を、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類から再結晶するレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【００１３】
使用するレボフロキサシン粗原料としては、レボフロキサシンの１水和物や無水物が挙げられるが、これに限らず、不純物が含まれていたり、前記１水和物や無水物が混入した１／２水和物を粗原料としても良い。
【００１４】
また、再結晶に使用できる溶媒（以下、「再結晶溶媒」という）は、少量の水と混和する溶媒で、レボフロキサシン粗原料が溶解するものであれば特に制限はなく、例えば無水メタノール、無水エタノール、イソプロパノール、ブタノール類の低級アルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン等の低級ケトンを例示することが出来る。
【００１５】
この再結晶溶媒は、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満であることが必要であり、特に含水率が０.５容量％以上２容量％以下であることが好ましい。
【００１６】
再結晶溶媒として低級アルコール類を使用する場合は、レボフロキサシン粗原料に対しその４−８重量倍の範囲とすれば良く、通常は６−７重量倍が望ましい。また、再結晶溶媒として低級ケトンを使用する場合は、レボフロキサシン粗原料に対しその１０−５０重量倍の範囲とすれば良く、通常は２０−３０重量倍が望ましい。更に、再結晶溶媒の使用量は処理の開始当初から上記の量を使用する必要はなく、あらかじめ上記より多い量の再結晶溶媒に溶解した後に濃縮によって上記の量にしても良い。
【００１７】
この再結晶溶媒にレボフロキサシン粗原料を溶解させるための加熱温度は、５０℃から８０℃の範囲であり、再結晶溶媒が低級アルコールである場合は、通常、７５〜８０℃程度の温度が好ましく、再結晶溶媒が低級ケトンである場合は、通常、５０℃〜６０℃が好ましい。また、溶解後の冷却温度は、２５℃から−５℃の範囲であり、通常は５℃程度が好ましい。冷却時間は２時間から２昼夜の範囲でよく、好ましくは一昼夜である。
【００１８】
なお、レボフロキサシン・１／２水和物の再結晶は、レボフロキサシン粗原料が再結晶溶媒に加熱溶解した後、直ちに冷却し、静置して晶析させることが好ましい。
【００１９】
一方、本発明の別の態様は、レボフロキサシン粗原料を、１容量％以上５容量％以下、好ましくは、１.５容量％以上２.５容量％以下で濃アンモニア水（２７％アンモニア水）を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶するレボフロキサシン・１／２水和物の製法である。
【００２０】
この態様による発明は、再結晶溶媒として、上記のアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類を使用する以外は、第一の態様の発明と同様にして実施することができる。すなわち、使用溶媒量、加熱温度および冷却温度も、前記した条件とほぼ同一でよい。
【００２１】
なお、上記のように濃アンモニア水を含有させたアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類（以下、「アンモニア含有再結晶溶媒」という）の含水量は、上記量の濃アンモニア水を加えることにより、概ね最初の態様の発明の条件をも満たすことができる。
【００２２】
以上説明した本発明のレボフロキサシン・１／２水和物の製法は、その再結晶、晶析に先立って、精製工程を加えることもできる。例えば、レボフロキサシン粗原料の溶解後に、活性炭などを使用して脱色等の精製処理の工程を加えることも出来る。
【００２３】
更に、本発明法で得られたレボフロキサシン・１／２水和物は、乾燥され、最終製品とされる。この結晶の乾燥は、目的物から溶媒のみを除去できる条件で行うことが好ましく、例えば、乾燥温度は２０−４５℃程度、好ましくは３５−４０℃程度であり、減圧度は５−１００ｍｍＨｇ程度、好ましくは５−１０ｍｍＨｇ程度である。また、乾燥時間はおよそ８時間程度が好ましく、乾燥法としては、逆円錐型スクリュー攪拌式真空乾燥機、縦型振動式真空乾燥機、あるいは棚段式箱形真空乾燥機などの各種の真空乾燥機を使用する乾燥法を挙げることができる。
【００２４】
かくして得られたレボフロキサシン・１／２水和物は、これを公知の医薬品担体と組み合わせることにより、種々の形態の抗菌剤とすることができる。
【実施例】
【００２５】
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれにより何ら制約されるものではない。
【００２６】
実 施 例 １
１００ｍＬナス型フラスコに、レボフロキサシン粗原料（無水物；水分量０.９９４％）１０ｇを秤取し、これに無水エタノール（含水量０．１４ｖ／ｖ％）に２ｖ／ｖ％の水を加えて６５ｍＬとした溶液を加え、水浴で加熱した。レボフロキサシン粗原料は、７７.３℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物９.５１ｇを得た。
【００２７】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.５６％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００５カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.９°、１３.５°、１９.２°
【００２８】
実 施 例 ２
１００ｍＬナス型フラスコに、レボフロキサシン粗原料（１／２水和物；水分量２.４６２％）１０.００ｇを秤取し、これに無水エタノール（含水量０.１４ｖ／ｖ％）７０ｍＬを加え、水浴で加熱した。レボフロキサシンは７９℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下で濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物
９.４１ｇを得た。
【００２９】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.６９％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００６カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.９°、１３.５°、１９.２°
【００３０】
実 施 例 ３
１００ｍＬナス型フラスコに、レボフロキサシン粗原料（無水物；水分量０.９９４１％）１０.００ｇを秤取し、これに無水エタノール（含水量０．１４ｖ／ｖ％）に２ｖ／ｖ％の濃アンモニア水を加えて６０ｍＬとした溶液を加え、水浴で加熱した。レボフロキサシン粗原料は７７.５℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下で濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物９.２４ｇを得た。
【００３１】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.３６％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００６カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.９°、１３.５°、１９.２°
【００３２】
実 施 例 ４
５００ｍＬナス型フラスコにレボフロキサシン粗原料（無水物；水分量０.９９４１％）１０.００ｇを秤取し、これに、アセトン（含水量０.０７％）に水２％を含有させた溶媒２６０ｍＬを加え、水浴で加熱した。レボフロキサシン粗原料は５１.６℃で溶解したので、その後放冷した。１昼夜室温で放冷後、減圧下で濾取し、風乾した。レボフロキサシン・１／２水和物を６．８０ｇ得た。
【００３３】
水分値（カールフィッシャー法 平沼産業（株）製 ＡＱ−５５Ｃ）：
２.６８８％（理論値 ２.４３％）
赤外線吸収スペクトル（日本分光（株）製 ＩＲ−５０００）：
１７２４, １００６カイザー
粉末Ｘ線結晶回折（２θ）：
６.５°、９.５°、１２.８°、１３.５°、１９.１°
【産業上の利用可能性】
【００３４】
本発明方法により、レボフロキサシン粗原料からレボフロキサシン・１／２水和物を効率よく得ることができるので、レボフロキサシン・１／２水和物を有効成分とする抗菌剤を経済的に製造する方法として有利に使用することができるものである。
以 上
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レボフロキサシンを、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項２】
含水低級アルコール類または含水低級ケトン類の含水率が０.５容量％以上２容量％以下である請求項第１項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項３】
レボフロキサシンに対し、その４〜８重量倍の含水低級アルコール類を使用する請求項第１項または第２項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項４】
レボフロキサシンに対し、その１０〜５０重量倍の含水低級ケトン類を使用する請求項第１項または第２項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項５】
レボフロキサシンが、レボフロキサシンの無水物または一水和物である請求項第１項ないし第４項の何れかの項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項６】
レボフロキサシンを、１容量％以上５容量％以下の濃アンモニア水を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項７】
アンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類が、濃アンモニア水を１.５容量％以上２.５容量％以下で含有するものである請求項第６項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項８】
レボフロキサシンに対し、その４〜８重量倍のアンモニア水含有低級アルコール類を使用する請求項第６項または第７項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項９】
レボフロキサシンに対し、その１０〜５０重量倍のアンモニア水含有低級ケトン類を使用する請求項第６項または第７項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１０】
レボフロキサシンが、レボフロキサシンの無水物または一水和物である請求項第６項ないし第９項の何れかの項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１１】
レボフロキサシンを、その重量に対して６〜７倍で、含水率が０.５容量％以上２容量％以下である含水エタノールに７５〜８０℃の温度で溶解し、溶解後に室温まで冷却することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１２】
レボフロキサシンを、その重量に対して６〜７倍で、濃アンモニア水を１.５容量％以上２.５容量％以下で含有するアンモニア水含有エタノールに７５〜８０℃の温度で溶解し、溶解後に室温まで冷却することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１】
レボフロキサシンを、含水率が０.１４容量％以上４容量％未満である含水低級アルコール類または含水低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項２】
含水低級アルコール類または含水低級ケトン類の含水率が０.５容量％以上２容量％以下である請求項第１項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項３】
レボフロキサシンに対し、その４〜８重量倍の含水低級アルコール類を使用する請求項第１項または第２項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項４】
レボフロキサシンに対し、その１０〜５０重量倍の含水低級ケトン類を使用する請求項第１項または第２項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項５】
レボフロキサシンが、レボフロキサシンの無水物または一水和物である請求項第１項ないし第４項の何れかの項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項６】
レボフロキサシンを、１容量％以上５容量％以下の濃アンモニア水を含むアンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類から再結晶することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項７】
アンモニア水含有低級アルコール類またはアンモニア水含有低級ケトン類が、濃アンモニア水を１.５容量％以上２.５容量％以下で含有するものである請求項第６項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項８】
レボフロキサシンに対し、その４〜８重量倍のアンモニア水含有低級アルコール類を使用する請求項第６項または第７項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項９】
レボフロキサシンに対し、その１０〜５０重量倍のアンモニア水含有低級ケトン類を使用する請求項第６項または第７項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１０】
レボフロキサシンが、レボフロキサシンの無水物または一水和物である請求項第６項ないし第９項の何れかの項記載のレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１１】
レボフロキサシンを、その重量に対して６〜７倍で、含水率が０.５容量％以上２容量％以下である含水エタノールに７５〜８０℃の温度で溶解し、溶解後に室温まで冷却することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【請求項１２】
レボフロキサシンを、その重量に対して６〜７倍で、濃アンモニア水を１.５容量％以上２.５容量％以下で含有するアンモニア水含有エタノールに７５〜８０℃の温度で溶解し、溶解後に室温まで冷却することを特徴とするレボフロキサシン・１／２水和物の製法。
【公開番号】特開２００６−２７３７１８（Ｐ２００６−２７３７１８Ａ）
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−９０４８５（Ｐ２００５−９０４８５）
【出願日】平成１７年３月２８日（２００５．３．２８）
【出願人】（３９００２８５０９）シオノケミカル株式会社 (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月２８日（２００５．３．２８）
【出願人】（３９００２８５０９）シオノケミカル株式会社 (6)
【Ｆターム（参考）】
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