位相差フィルムの製造方法
【課題】フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムの簡便・安価な製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の位相差フィルムの製造方法は、長尺の基材の表面を、該基材の搬送方向に対して所定の角度で配向処理する工程と；一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と該基材の配向処理された表面とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する工程と；該積層体を巻き取り、ロール体にする工程と；該ロール体から該積層体を繰り出し、および、該積層体から該剥離フィルムを剥離する工程と；該基材の配向処理された表面に液晶化合物を塗布する工程と；を含む。ここで、凸部表面と基材の配向処理されていない表面との間の摩擦係数は１．０以上である。
【解決手段】本発明の位相差フィルムの製造方法は、長尺の基材の表面を、該基材の搬送方向に対して所定の角度で配向処理する工程と；一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と該基材の配向処理された表面とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する工程と；該積層体を巻き取り、ロール体にする工程と；該ロール体から該積層体を繰り出し、および、該積層体から該剥離フィルムを剥離する工程と；該基材の配向処理された表面に液晶化合物を塗布する工程と；を含む。ここで、凸部表面と基材の配向処理されていない表面との間の摩擦係数は１．０以上である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムの製造方法に関する。より詳細には、本発明は、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムの簡便・安価な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えばプラスチックフィルム表面に液晶化合物を塗布して配向させることにより位相差フィルムを製造する方法が知られている。このような製造方法においては、液晶化合物をフィルム表面上で配向させるために、例えば起毛布によってフィルム表面を一方向に擦るラビング処理を施すのが一般的である。さらに、このようなラビング処理は、裁断したフィルム単位で施すよりも、長尺状のフィルムにいわゆるロール・ツー・ロール方式で連続的に施すことが好ましいとされている。製造効率およびコストの面で圧倒的に有利だからである。
【０００３】
したがって、光学フィルムを製造するに際し、上記のようなロール・ツー・ロール方式によって長尺のプラスチックフィルムに連続的にラビング処理を施す方法として、種々の方法が提案されている。
【０００４】
例えば、鏡面仕上げされた金属表面を有する搬送ベルトで長尺のプラスチックフィルムを搬送しながら、搬送ベルト上に配置されたラビングロールで上記フィルム表面にラビング処理を施す方法が提案されている（特許文献１参照）。プラスチックフィルムを構成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの直鎖状高分子が用いられている。当該方法においては、ラビング処理の後、重合性液晶化合物をフィルムのラビング処理表面に塗布し、乾燥・配向させ、紫外線などを照射することにより重合性液晶化合物を架橋させ、光学フィルムを製造している。
【０００５】
上記液晶化合物を塗布する前に、ラビング処理面の電荷を均一にするために剥離フィルムを貼り合わせることも公知である（例えば、特許文献２参照）。このようにしてラビング処理面の電荷を均一にすることにより、ラビング処理面に塗布される液晶化合物の配向性が大きく向上する。
【０００６】
一方、上記のような光学フィルムの製造方法において、設備的および時間的な制約から、一連の工程を分割して行う場合がある。例えば、ラビング処理後のラビング処理面に剥離フィルムを貼り合わせて積層体とした後で、当該積層体を搬送方向に直交する軸回りに巻き取ってロール体を形成し、当該ロール体を保管する場合がある。
【０００７】
しかし、上記のようなロール体を形成すると、ラビング処理面に応力がかかってしまう。その結果、ラビング処理面の電荷が不均一となり、剥離フィルムを貼り合わせたにもかかわらず、液晶化合物の配向性が乱れてしまう場合がある。その結果、得られる光学フィルムにスジ状に見える位相差ムラが発生する場合がある。さらに、ロール体を形成する際には、巻きズレを防止することも、得られるフィルムの光学特性への悪影響防止および製造効率の向上の観点からきわめて重要である。
【特許文献１】特開２００４−１７０４５４号公報
【特許文献２】特開２００６−７２２９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムの簡便・安価な製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の位相差フィルムの製造方法は、長尺の基材の表面を配向処理する工程と；一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と該基材の配向処理された表面とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する工程と；該積層体を巻き取り、ロール体にする工程と；該ロール体から該積層体を繰り出し、および、該積層体から該剥離フィルムを剥離する工程と；該基材の配向処理された表面に液晶化合物を塗布する工程と；を含み、該凸部表面と該プラスチックの配向処理されていない表面との間の摩擦係数が１．０以上である。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記剥離フィルムの凸部は、幅方向の両端部近傍に設けられている。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記剥離フィルムの凸部は、平坦なベースフィルムに貼り付けられた粘着テープにより形成されている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、位相差フィルムの製造方法において一旦ロール体を形成する際に、一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを基材の配向処理表面に貼り付けることにより、剥離フィルムの凸部が設けられていない部分では基材の裏面との接触が防止される。したがって、巻き取りにより配向処理表面にかかる応力が凸部のない箇所では生じ難くなる。このことにより、ロール形成による配向処理表面への影響が極力防止され、液晶化合物の配向性への影響が顕著に防止され得る。その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。さらに、凸部表面が基材表面に対して特定の範囲の摩擦係数を有することにより、巻きズレが顕著に防止され得る。加えて、このような凸部は、例えば粘着テープを貼り付けるだけで形成され得るので、コストや製造効率も非常に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
Ａ．配向処理
本発明の位相差フィルムの製造方法における配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体例としては、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。以下、簡単のため、配向処理の好ましい一例として、ラビング処理について説明する。適切な装置を用いることにより、ラビング処理以外の配向処理も行われ得ることはいうまでもない。図１は、本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法におけるラビング処理工程を説明するための模式図である。図１に示すように、本発明においては、長尺の基材Ｆがラビング処理装置１００を搬送されながら、当該基材表面にラビング処理が施される。１つの実施形態においては、ラビング処理は、基材Ｆの搬送方向Ａに対して所定の角度を規定するようにして行われる。所定の角度のラビング処理は、ラビングロール４を、その回転軸が基材搬送方向に対する直交方向から所定の角度ずれるように配置することにより行われる。ラビング処理装置の詳細は後述する。ラビング処理方向（所定の角度）は、目的に応じて適切に設定され得る。本発明におけるラビング処理工程によれば、搬送方向（長尺基材の長手方向）に対して直交でも平行でもない角度でラビング処理を行うことができる。その結果、目的に応じて、長尺フィルム（基材）の長手方向に対して任意の適切な角度を規定する方向に遅相軸を有する位相差フィルムを作成することができる。例えば、円偏光板用の位相差フィルムを作成する場合には、ラビング処理は、基材搬送方向に対して４５°の角度で行われる。４５°の角度でラビング処理を行うことにより、得られる位相差フィルム（代表的には、液晶化合物の配向硬化フィルムまたは固化フィルム）は、当該ラビング処理方向に対応した方向（すなわち、基材の長手方向に対して４５°方向）に遅相軸を有する。偏光子用フィルムは、その製造方法に起因して長手方向に吸収軸を有するので、偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸が４５°の角度を有するようにして、ロール・ツー・ロールで貼り合わせることができる。このような場合、位相差フィルムの面内位相差を可視光の約１／４に設定することにより、良好な円偏光特性を有する円偏光板が、非常に優れた製造効率で得られ得る。なお、位相差フィルムの面内位相差は、液晶化合物の塗布厚みを調整することにより制御され得る。
【００１４】
上記ラビング処理は、基材Ｆに直接施してもよく、基材に配向膜を形成し、当該配向膜に施してもよい。
【００１５】
基材Ｆとしては、ロール形成が可能であり、かつ、表面に塗布された液晶化合物が適切に配向する限り、任意の適切なフィルム（代表的には、プラスチックフィルム）が用いられ得る。基材Ｆを構成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）、ポリノルボルネン等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、およびこれらのアロイが挙げられる。１つの実施形態においては、基材Ｆは、偏光子の保護フィルムとしても機能し得る。このような基材であれば、位相差フィルムを偏光子に積層して位相差層付偏光板を作製する際に、積層工程が簡略化され、かつ、位相差層付偏光板の薄型化に貢献し得る。このような基材を実現し得るフィルムとしては、ＴＡＣフィルム、ポリノルボルネン等のフィルムが挙げられる。このようなフィルムはブロッキングしやすいので、本発明の方法は、このようなフィルムを基材として用いる場合に特に有効である。
【００１６】
基材Ｆの厚みは、目的に応じて適切に設定され得る。基材の厚みは、好ましくは１０〜１００μｍ、さらに好ましくは３０〜７０μｍである。このような範囲であれば、搬送性に優れ、かつ、偏光子の保護フィルムとしても適用可能である。基材Ｆの表面粗さＲｚは、好ましくは１２０ｎｍ〜６００ｎｍ、さらに好ましくは２００ｎｍ〜５００ｎｍ、特に好ましくは３００ｎｍ〜４５０ｎｍである。Ｒｚが小さすぎると、基材搬送時にキズが生じやすくなる。Ｒｚが大きすぎると、凹凸が大きすぎてラビング処理を施すことが困難になる場合があり、また、フィルム表面に異物が付着し易くなる。なお、本明細書において「表面粗さＲｚ」とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１）で規定されている最大高さを意味する。
【００１７】
上記配向膜を構成する材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドが挙げられる。配向膜は、例えば、これらのポリマーの溶液を基材表面に塗布することにより形成される。塗布方法の具体例としては、スピンコート法、バーコート法、スロットダイコート法、ディップコート法が挙げられる。配向膜の厚みは、基材の表面粗さ等に応じて適切に設定され得る。配向膜の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜５μｍ、さらに好ましくは０．２μｍ〜３μｍ、特に好ましくは０．５μｍ〜２．５μｍである。
【００１８】
基材Ｆの搬送速度は、好ましくは１〜５０ｍ／分、さらに好ましくは１〜１０ｍ／分である。ラビングロール４の回転数は、好ましくは１〜３０００ｒｐｍ、さらに好ましくは５００〜２０００ｒｐｍである。ラビングロール４の押し込み量は、好ましくは１００〜２０００μｍ、さらに好ましくは１００〜１０００μｍである。このような条件でラビング処理を行うことにより、基材の特性に悪影響を与えることなく、良好な配向を得ることができる。なお、本明細書において「ラビングロール４の押し込み量」とは、基材Ｆ表面に対してラビングロール４の位置を変動させた場合において、ラビングロールに巻回した起毛布の毛先が最初に基材Ｆ表面に接した位置を原点（０点）とし、当該原点から基材Ｆに向けてラビングロール４を押し込んだ量（毛先の位置の変動量）を意味する。
【００１９】
以下、上記ラビング処理に用いられるラビング処理装置について説明する。ラビング処理装置１００は、駆動ロール１、２と、駆動ロール１、２間に架設され、長尺の基材Ｆを支持して搬送する無限軌道の搬送ベルト３と、搬送ベルト３の上方において上下方向に昇降可能に配設されたラビングロール４と、基材Ｆを支持する搬送ベルト３の下面を支持するバックアップロール機構５とを備える。ラビング処理装置１００の前後には、必要に応じて適切な静電気除去装置および／または除塵装置を設置してもよい。
【００２０】
ラビングロール４は、その外周面に起毛布４ａが巻回されている。起毛布の材質は、ラビング処理される基材Ｆの材質や所望の配向状態（結果として、得られる位相差フィルムの光学特性）等に応じて適切に選択され得る。代表的には、起毛布の材質としては、レーヨン、コットン、ナイロン、トリアセテートまたはこれらの混合物が挙げられる。本発明の製造方法においては、ラビングロール４の回転軸は、基材の搬送方向Ａに対して所定の角度を規定するように（すなわち、基材の長手方向に対して任意の軸角度に設定できるように）構成されている。
【００２１】
図２（ａ）は、図１の工程に用いるラビング処理装置におけるバックアップロール機構の概略を示す平面図であり、図２（ｂ）は、バックアップロール近傍の斜視図であり、図２（ｃ）は、バックアップロール機構を基材搬送方向から見た概略図である。バックアップロール機構５は、図２（ａ）〜図２（ｃ）に示すように、搬送ベルト３の搬送方向（図２（ａ）の矢印Ａ方向）に沿ってそれぞれ回転する複数のバックアップロール５１を備える。各バックアップロール５１は、ラビングロール４の直下であって、ラビングロール４の回転軸と略平行な直線に沿って配設されている。このような構成によれば、ラビングロール４の回転軸が搬送ベルト３の搬送方向に対して所定の角度を規定する場合（図２（ａ）の直線Ｃ１がラビングロール４の回転軸である場合：すなわち、ラビング処理を基材長手方向に対して直交でも平行でもない方向に行う場合）であっても、各バックアップロール５１は、基材Ｆおよび搬送ベルト３を介して、傾斜したラビングロール４の直下に配設されることになる。さらに、各バックアップロール５１が、搬送ベルト３の搬送方向（基材Ｆの搬送方向）に沿ってそれぞれ回転するので、各バックアップロール５１が搬送ベルト３の搬送方向への移動ひいては基材Ｆの搬送を阻害することもない。したがって、仮にラビングロール４の回転軸が搬送ベルト３の搬送方向に対して所定の角度を規定する状態でラビングロール４の押し込み量を大きくしたとしても、搬送ベルト３に緩みが生じ難く且つ搬送ベルト３の移動が阻害されることもないので、安定した状態でラビング処理を施すことが可能となる。その結果、基材Ｆに均一な配向特性を付与することができ、結果として、均一な光学特性を有する位相差フィルムを製造することができる。
【００２２】
好ましくは、バックアップロール機構５は、ラビングロール４の回転軸と略平行な直線に沿って配設された台座部５２と、搬送ベルト３表面の法線回りに回転可能に台座部５２上に軸支された複数の支持部５３とを備え、各バックアップロール５１は、各支持部５３に搬送ベルト３の搬送方向に沿って回転可能に軸支されている。より詳細には、支持部５３は、軸部材５４によって台座部５２に軸支されており、軸部材５４回りに回転可能とされている。また、バックアップロール５１は、軸部材５５によって支持部５３に軸支されており、軸部材５５回りに回転可能とされている。このような構成によれば、ラビングロール４の回転軸が搬送ベルト３の搬送方向に対して直交方向（図２（ａ）の直線Ｃ０方向）からずれたとしても、台座部５２を同じように（すなわち、ラビングロールの平行軸と略平行な直線に沿うように）ずらすことができる。その結果、搬送ベルト３の移動に伴って（搬送ベルト３下面の摩擦力によって）、支持部５３に軸支されたバックアップロール５１が搬送ベルト３の搬送方向に沿って回転する向きとなるように、台座部５２に軸支された支持部５３が自然と回転することになる。言い換えれば、ラビングロールの角度（ラビング処理方向）が固定ではなく、ラビング処理方向の設定を変更したとしても、それに合わせて、各バックアップロール５１がラビングロール４の直下に配設され且つ搬送ベルト３の搬送方向に沿って回転させることが可能である。その結果、１つのロール（基材）から、それぞれ異なる方向に遅相軸を有する位相差フィルムを取り出すことが可能となる。
【００２３】
好ましくは、バックアップロール機構５は、ラビングロール４の回転軸を搬送ベルト３の搬送方向に対して直交方向からずらした場合に、これに伴って台座部５２もずれるようにラビングロール４と台座部５２とを連結する連結機構５６を備える。より詳細には、連結機構５６は、ラビングロール４を回転軸回りに回転可能に且つ上下方向に昇降可能に支持すると共に、台座部５２を支持する断面略コの字状の枠体とされており、その頂部に取り付けられたモーターＭによって、図２（ｃ）の矢印Ｂの方向に回転可能とされている。連結機構５６が図２（ｃ）の矢印Ｂの方向に回転することにより、連結機構５６に支持されたラビングロール４および台座部５２は、同じ方向に同じ角度だけ回転する（すなわち、搬送方向に対する直交方向から同じ角度だけずれる）ことになる。したがって、ラビングロール４と台座部５２とを個別に搬送方向から所定の角度ずらす構成に比べて、設定がきわめて容易となる。連結機構５６は、図示例のようにモーターで回転させてもよく、手動で回転させてもよい。
【００２４】
Ｂ．積層体の形成および該積層体のロール化
上記ラビング処理工程の後、一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と上記基材Ｆのラビング処理された表面（以下、ラビング処理表面と称することもある）とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する。さらに、当該積層体を巻き取り、ロール体を形成する。代表的には、積層体の形成およびロール化は、連続的に行われる。以下、図面を参照して具体的に説明する。
【００２５】
図３は、本発明の好ましい実施形態による製造方法における積層体の形成およびロール化を説明する概念斜視図である。図３に示すように、剥離フィルムＧは、ベースフィルムＧ１と該ベースフィルムの一方の表面に形成された凸部Ｇ２とを有する。図示例では、凸部Ｇ２は、ベースフィルムＧ１に貼り付けられた粘着テープで構成される。凸部Ｇ２の構成は、図示例に限定されず、例えば、幅方向の両端部が中央部よりも厚いフィルムを一体成形することにより形成してもよく、フィルムにエンボス加工を施して形成してもよい。凸部Ｇ２の形成位置は、目的に応じて適切に選択され得る。図示例では、凸部Ｇ２は、ベースフィルムの幅方向（搬送方向Ａに直交する方向）の両端部近傍に設けられている。凸部Ｇ２は、図示例のようにベースフィルムの長手方向に連続して設けられてもよく、所定の間隔をあけて設けられてもよい。
【００２６】
本実施形態においては、まず、基材Ｆのラビング処理表面にベースフィルムＧ１が貼り付けられる。貼り付けは、任意の適切な手段（図示せず）を用いて行われる。好ましくは、ベースフィルムの貼り付けは、上記ラビング処理に引き続いて行われる。ラビング処理とベースフィルムの貼り付けを連続的に行うことにより、ラビング処理表面の汚染が防止され得る。
【００２７】
ベースフィルムＧ１は、ベース層と粘着層とを有する。粘着層は、基材のラビング処理表面に対して貼着可能で且つ剥離可能な程度の粘着性（剥離力）を有する。ベースフィルムＧ１の製造方法としては、代表的には、ベース層と粘着層とを共押出しする方法が挙げられる。共押出し法は、ベース層成分および粘着層成分をそれぞれ押し出す金型を用いて、インフレーション法、Ｔダイ法などに準じて行うことができる。その他の製造方法として、例えば、ベース層に粘着層を塗布する方法、ベース層に粘着層を転写する方法が挙げられる。
【００２８】
ベース層を構成する材料としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂が挙げられる。ポリオレフィン系樹脂は、オレフィン系モノマーの単独重合体であってもよく、複数のオレフィン系モノマーおよび／またはオレフィン系モノマーと他のモノマーとの共重合体であってもよい。共重合体は、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。ポリオレフィン系樹脂の具体例としては、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン等のエチレン系ポリマー；ポリプロピレン等のプロピレン系ポリマー；エチレン・プロピレン共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体等のオレフィン系共重合体；リアクターＴＰＯ；エチレン・メタクリル酸メチル共重合体等のオレフィン系モノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
【００２９】
ベース層は、必要に応じて、各種添加剤を含んでもよい。添加剤の具体例としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤（例えば、ヒンダードアミン系）、帯電防止剤、充填剤（例えば、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化チタン）、顔料、目ヤニ防止剤、滑剤、アンチブロッキング剤が挙げられる。
【００３０】
ベース層の厚みは、好ましくは２０〜３００μｍ、さらに好ましくは３０〜２５０μｍ、特に好ましくは４０〜２００μｍである。このような厚みであれば、基材に積層してロール状に巻き取る際の巻き取り性に優れる。
【００３１】
粘着層を構成する材料としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。代表例としては、ゴム系、ウレタン系、アクリル系の粘着剤、エチレン・酢酸ビニル共重合体が挙げられる。ゴム系粘着剤のベースポリマーの具体例としては、天然ゴム、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、ポリブタジエン等のジエン系ポリマーおよびその水素添加物、エチレンプロピレンゴム、エチレン−α−オレフィン、エチレン−プロピレン−α−オレフィン、プロピレン−α−オレフィン等のオレフィン系ゴム、スチレン・ブタジエン・スチレン（ＳＢＳ）、スチレン・イソプレン・スチレン（ＳＩＳ）、スチレン・エチレン−ブチレン・スチレン（ＳＥＢＳ）、スチレン・エチレン−プロピレン・スチレン（ＳＥＰＳ）等のＡ−Ｂ−Ａ型ブロックコポリマー、スチレン・ブタジエン（ＳＢ）、スチレン・イソプレン（ＳＩ）、スチレン・エチレン−ブチレン共重合体（ＳＥＢ）、スチレン・エチレン−プロピレン共重合体（ＳＥＰ）等のＡ−Ｂ型ブロックコポリマー、スチレン・ブタジエンラバー（ＳＢＲ）等のスチレン系ランダム共重合体、水添スチレン系ランダム共重合体（ＨＳＢＲ）、スチレン・エチレン−ブチレン共重合体・オレフィン結晶（ＳＥＢＣ）等のＡ・Ｂ・Ｏ型のスチレン・オレフィン結晶系ブロックコポリマー、オレフィン結晶・エチレン−ブチレン共重合体・オレフィン結晶（ＣＥＢＣ）等のＣ・Ｂ・Ｃ型のオレフィン結晶系ブロックコポリマーが挙げられる。
【００３２】
粘着層を構成する粘着剤は、粘着特性の制御等の目的に応じて適切な添加剤を含み得る。添加剤の具体例としては、軟化剤、オレフィン系樹脂、シリコーン系ポリマー、液状アクリル系共重合体、リン酸エステル系化合物、粘着付与剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤（例えば、ヒンダードアミン系）、充填剤（例えば、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化チタン）、顔料が挙げられる。
【００３３】
粘着層のラビング処理表面に対する剥離力は、好ましくは０．５Ｎ／５０ｍｍ以下であり、さらに好ましくは０．１〜０．５Ｎ／５０ｍｍであり、特に好ましくは０．２〜０．４Ｎ／５０ｍｍである。このような範囲の剥離力であれば、剥離フィルムを剥離する際にラビング処理面に悪影響を与えることがなく、かつ、糊残り等も発生しない。加えて、このような範囲の剥離力であれば、適切な剥離操作を行うことにより、剥離後のラビング処理表面が正または負のいずれかの電荷に一様に帯電し得る。
【００３４】
粘着層の厚みは、剥離力等に応じて適切に設定され得る。粘着層の厚みは、好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは２〜４０μｍ、特に好ましくは５〜２０μｍである。粘着層は、必要に応じて、実用に供されるまでの間セパレーターなどを仮着して保護してもよい。
【００３５】
本実施形態においては、次いで、ベースフィルムＧ１の基材と反対側の表面に凸部Ｇ２が形成される。本実施形態においては、凸部Ｇ２は、ベースフィルムＧ１に粘着テープを貼り付けることにより形成される。上記のように、凸部Ｇ２の形成位置（粘着テープの貼り付け位置）は、目的に応じて適切に選択されるので、図示例（ベースフィルムの幅方向の両端部近傍）には限定されない。粘着テープＧ２の貼り付けは、例えば、以下の手順で行われる：図３に示すように、搬送方向Ａに対して略直交する軸線を有する粘着テープ繰り出し軸６１から粘着テープＧ２を繰り出し、繰り出された粘着テープの先端部がベースフィルムＧ１表面の搬送方向Ａの下流側端部に貼着された状態で、ベースフィルムＧ１が貼り合わされた基材Ｆを搬送することにより、ベースフィルムＧ１の幅方向両端部近傍に粘着テープＧ２が貼り付けられる。このような貼り付けを行う装置としては、任意の適切なスリッターが採用され得る。上述したように、粘着テープは、図示例のように搬送方向Ａに沿って連続的に貼り付けてもよく（すなわち、凸部をベースフィルム長手方向に沿って連続して設けてもよく）、搬送方向Ａの所定ピッチ毎に間隔をあけて貼り付けてもよい（すなわち、島状の凸部を所定の間隔で設けてもよい）。
【００３６】
本発明においては、凸部Ｇ２表面と基材Ｆのラビング処理されていない表面（以下、裏面とも称する）との間の摩擦係数は１．０以上であり、好ましくは１．０〜１．２であり、より好ましくは１．０２〜１．１８であり、さらに好ましくは１．０４〜１．１８である。凸部表面が基材Ｆの裏面に対してこのような範囲の摩擦係数を有することにより、ロール状に巻き取った際の巻き締まりが顕著に防止され、その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムが得られ得る。加えて、巻きズレも顕著に防止され得る。摩擦係数が１．０未満である場合には、巻きズレが良好に防止できない場合がある。摩擦係数が大きすぎると、フィルムの滑り性が悪くなり、ブロッキングが生じる場合がある。例えばベースフィルムを一体成形で形成する場合およびベースフィルムにエンボス加工を施す場合には、凸部表面の摩擦係数は、任意の適切な表面処理を行うことにより、基材Ｆの裏面に対して特定の値を有するように制御され得る。粘着テープを貼り付けて凸部を形成する場合には、適切な摩擦係数を有する市販のテープを用いてもよく、市販のテープに適切な表面処理を施して用いてもよい。なお、摩擦係数は、ＪＩＳ Ｋ ７１２５にしたがって求められる。
【００３７】
凸部の厚みは、凸部表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数、凸部の幅、凸部の形成個数、積層体（したがって、ロール体）の幅、積層体の長さ（したがって、ロール体の径）等に応じて適切に設定され得る。凸部の厚みは、好ましくは３０〜７０μｍであり、さらに好ましくは３５〜６５μｍであり、特に好ましくは４０〜６０μｍである。凸部がこのような範囲の厚みを有することにより、表面の摩擦係数に起因する効果と相乗して、ロール状に巻き取った際の巻き締まりが顕著に防止され、その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムが得られ得る。
【００３８】
凸部の幅は、凸部表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数、凸部の厚み、凸部の形成個数、積層体（したがって、ロール体）の幅、積層体の長さ（したがって、ロール体の径）等に応じて適切に設定され得る。１つの実施形態においては、凸部の幅は、基材Ｆの幅に対して、好ましくは１／４０〜１／１０であり、さらに好ましくは１／２５〜１／１５である。１つの実施形態においては、凸部の幅は、好ましくは３０〜７０ｍｍであり、さらに好ましくは４０〜６０ｍｍである。凸部の幅を適切に設定することにより、表面の摩擦係数および厚みに起因する効果と相乗して、ロール状に巻き取った際の巻き締まりが顕著に防止され、その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムが得られ得る。
【００３９】
凸部として粘着テープを用いる実施形態においては、粘着テープを構成する材料としては、上記所望の摩擦係数が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンが挙げられる。１つの実施形態においては、粘着テープとしては、市販のＯＰＰテープ（二軸延伸ポリプロピレンテープ）が用いられ得る。別の実施形態においては、市販のポリエチレンテープが用いられ得る。
【００４０】
以上のようにして、ベースフィルムＧ１と粘着テープＧ２とを貼り付けることにより、剥離フィルムＧが基材Ｆの表面に形成され、積層体Ｈが形成される。なお、図示例ではベースフィルムＧ１と粘着テープＧ２とを順次貼り付ける形態について説明したが、ベースフィルムＧ１と粘着テープＧ２とを予め貼り付けて剥離フィルムＧを形成し、当該剥離フィルムＧを基材Ｆの表面に貼り付けてもよいことはいうまでもない。
【００４１】
次に、積層体Ｈを巻き取り、ロール体Ｈ’を形成する。巻き取りは、例えば、以下の手順により行われる：図３に示すように、搬送方向Ａの粘着テープ繰り出し軸６１のさらに下流側に、搬送方向Ａに対して略直交する方向に軸心を有するロール体回転軸６２が配設され、当該ロール体回転軸６２が回転することにより積層体Ｈが巻き取られ、ロール体Ｈ’が形成される。ロール体Ｈ’は、位相差フィルムの製造ラインから外して保管することができるので、位相差フィルムの製造工程をいったん中断し、所望の時期に最終の位相差フィルムを製造することができる。
【００４２】
図４は、本実施形態において巻き取られたロール体のロール体回転軸を含む概略断面図である。ロール体Ｈ’は、剥離フィルムＧの凸部（粘着テープ）Ｇ２が基材Ｆの裏面に当接した状態となり、剥離フィルムＧの凸部Ｇ２が設けられていない部分に空間部Ｊが形成される。
【００４３】
図示例では、凸部Ｇ２が内側になるように巻き取られているが、凸部Ｇ２が外側になるように巻き取ってもよい。好ましくは、凸部Ｇ２が内側になるように巻き取られる。基材Ｆのすべての面に空間部Ｊが形成されるので、外側に巻き取る場合よりも、ラビング処理表面のより広い範囲で配向性への悪影響を防止することができる。
【００４４】
このように、剥離フィルムＧのラビング処理表面と対向する面とは反対側の面に凸部Ｇ２を設けることにより、積層体Ｈの巻き取り時に、剥離フィルムＧの大部分（凸部が設けられていない部分）で基材Ｆの裏面との接触が防止される。その結果、巻き取りによりラビング処理表面にかかる応力が、凸部が設けられていない部分では生じ難くなる。言い換えれば、積層体Ｈを巻き取ることによる応力が上記空間部Ｊにより積層体Ｈの長手方向に拡散する（すなわち、巻き締まりが防止される）。したがって、ラビング処理後の基材を一時巻き取って保管する場合であっても、当該巻き取りによるラビング処理表面における液晶の配向性への影響を顕著に防止することができる。その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。加えて、凸部Ｇ２の表面が基材Ｆの裏面に対して特定の摩擦係数を有することにより、巻きズレが良好に防止され、かつ、ブロッキングが生じることもない。
【００４５】
図示した実施形態においては、凸部Ｇ２がフィルムの幅方向両端部近傍に設けられるので、特に基材Ｆの幅方向中央部分においてラビング処理表面への応力を生じ難くすることができる。したがって、フィルムの中央部分における液晶の配向性を特に良好にすることができる。最終的な位相差フィルムは中央部分から切り出すことが多いので、光学特性の均一性にさらに優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００４６】
上記のように、ロール体Ｈ’は、所望の時期まで保管することができる。位相差フィルムの製造を再開する際には、ロール体Ｈ’から積層体Ｈを繰り出し、および、当該積層体Ｈから剥離フィルムＧを剥離する。剥離フィルムＧの剥離は、液晶化合物を塗布する直前に行うのが好ましい。基材Ｆのラビング処理表面の汚染が防止され得るからである。剥離フィルムＧの剥離方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、剥離フィルムＧは、ラビング処理表面の配向性を損なわないように一定速度で剥離される。剥離方法の具体例としては、１８０°ピールで行う方法が挙げられる。
【００４７】
次いで、基材Ｆのラビング処理表面に液晶化合物が塗布される。塗布された液晶化合物を固化または硬化させることにより、当該液晶化合物の配向状態が固定され、位相差フィルムが得られる。固化は、例えば、液晶化合物をラビング処理表面に塗布した後、液晶化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、乾燥させた後、液晶相を示す状態で室温まで急冷することにより行われる。硬化は、例えば、重合性液晶モノマーを用い、液晶モノマーが液晶相を示す温度まで加熱し、乾燥させた後、液晶相を示す状態で室温まで冷却し、紫外線などを照射することにより行うことができる。このようにして得られる位相差フィルムは、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する。位相差フィルムの面内位相差は、上記のように、液晶化合物の塗布厚みを調整することにより制御され得る。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差フィルムのｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができる。その結果、所望の面内位相差を得るための位相差フィルムの厚みを格段に小さくすることができる。例えば、１３０〜１５０ｎｍの面内位相差が所望される場合、１．３〜１．５μｍの厚みでこのような位相差が実現され得る。
【００４８】
液晶化合物は、ポリマーであってもよく、オリゴマーであってもよく、低分子化合物またはモノマーであってもよい。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶化合物は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。液晶化合物が液晶モノマーである場合、例えば、重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーであることが好ましい。これは、液晶モノマーを重合または架橋させることによって、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差フィルムは、例えば、液晶化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差フィルムは、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差フィルムとなる。上記液晶モノマーの具体例としては、下記式（１）〜（１６）で表される化合物が挙げられる。
【化１】
【００４９】
代表的には、上記液晶化合物は、当該液晶化合物を適切な溶媒に溶解または分散した溶液または分散液（以下、塗布液とも称する）として塗布される。
【００５０】
上記溶媒としては、上記液晶化合物を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶化合物の種類等に応じて適宜選択され得る。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ等が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００５１】
上記塗布液は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶化合物として重合性および／または架橋性液晶モノマーを用いる場合に特に好適に用いられる。上記重合開始剤の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらもまた、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００５２】
上記塗布液における液晶化合物の含有量は、液晶化合物の種類や目的とする位相差フィルムの厚み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶化合物の含有量は、好ましくは５〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０〜４０重量％であり、最も好ましくは１５〜３０重量％である。
【００５３】
塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。塗布効率の観点から、ワイヤーバーコート法、スピンコート法およびエクストルージョン法が好ましい。
【００５４】
塗布液の加熱温度は、液晶化合物の種類に応じて適宜決定され得る。具体的には、加熱温度は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６５〜９５℃である。このような温度範囲であれば、液晶化合物を十分に配向させることができ、かつ、基材Ｆの選択範囲が広い。また、加熱時間は、好ましくは３０秒以上であり、さらに好ましくは１分以上であり、特に好ましくは２分以上である。加熱時間が３０秒未満である場合には、液晶化合物が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、加熱時間は、好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは８分以下であり、最も好ましくは７分以下である。加熱時間が１０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。
【００５５】
以上のようにして、基材Ｆ上に位相差フィルム（液晶配向固化フィルムまたは硬化フィルム）が形成される。得られた位相差フィルムは、基材Ｆから所望の光学部材に転写して用いてもよく、基材Ｆと位相差フィルムの積層体をそのまま用いてもよい。
【００５６】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００５７】
（実施例１）
１．ラビング処理
基材Ｆとして、親水化処理を施した易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用し、その表面に厚み２．５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜を形成した。当該フィルム（の配向膜）に対して、図１および図２に示すようなラビング処理装置を用いてラビング処理を施した。搬送ベルト３表面の鏡面仕上げは表面粗さＲａ＝０．０１μｍ、駆動ロール１および２の外径は５５０ｍｍ、フィルムの搬送速度は５ｍ／分、各バックアップロール５１の外径はすべて９０ｍｍ、隣接する各バックアップロール５１の回転軸方向の中心間距離Ｌ１はすべて８０ｍｍ、各バックアップロール５１の回転軸方向の幅Ｌ２はすべて３０ｍｍとした。また、ラビングロール４（起毛布４ａを含む）の半径は７６．８９ｍｍとし、レーヨン製の起毛布を巻回したものを用いた。ラビングロール４の回転軸はフィルムの搬送方向Ａに対して直交方向から４５°ずらし、各バックアップロール５１は、ラビングロール４の直下であって、上記回転軸と平行な直線に沿って配置した。ラビングロール４の回転数は１５００ｒｐｍ、押し込み量は０．４ｍｍとした。なお、配向膜の厚み測定には、大塚電子製の分光光度計：ＭＣＰＤ２０００を用いた。
【００５８】
２．ロール体の作製
次いで、基材Ｆのラビング処理表面に、ベースフィルムＧ１として６０μｍの厚みを有するポリオレフィン系フィルム（サンエー化研社製、サニテクトＰＡＣ−３）を貼り合わせ、当該ベースフィルムＧ１の幅方向両端部近傍に凸部Ｇ２として厚み５０μｍおよび幅５０ｍｍの粘着テープ（日東電工製：商品名「ダンプロンテープ（Ｎｏ．３２００）」）を貼り付けて、基材Ｆのラビング処理表面に剥離フィルムＧを設けた。このようにして、積層体Ｈを作製した。当該積層体Ｈを巻き取り、ロール体Ｈ’とした。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．０４であった。
【００５９】
３．位相差フィルムの作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名「Paliocolor LC242」）１０ｇと、この重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」）０．５ｇと、レベリング剤０．０６ｇとを、シクロペンタノン４０ｇに溶解して、塗布液を調製した。上記で得られたロール体Ｈ’を繰り出し、剥離フィルムＧを積層体Ｈから剥離し、基材Ｆのラビング処理表面に、上記塗布液をバーコーターにより塗布した。次いで、９０℃で２分間加熱処理し、液晶化合物を配向させた。このようにして得られた液晶層に、メタルハライドランプを用いて２０ｍＪ／ｃｍ２の光を照射し、該液晶層を硬化させることによってｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する正の一軸性位相差フィルム（コーティングＡプレート）を形成した。位相差フィルムの厚みおよび面内位相差は、塗布液の塗布量を変えることにより調整し、厚みを１．４μｍ、目標とする面内位相差Ｒｅ（５９０）を１４０ｎｍとした。ここで、Ｒｅ（５９０）は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム面内の位相差をいい、Ｒｅ（５９０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで求められる。ｎｘは面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、ｎｙは面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みである。なお、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５９０）はＲｔｈ（５９０）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄで求められ、本実施例においてはｎｙ＝ｎｚであるので、Ｒｔｈ（５９０）もまた１４０ｎｍである。ｎｚは、フィルム厚み方向の屈折率である。
【００６０】
（実施例２）
基材Ｆとして、ケン化処理を施したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．１８であった。
【００６１】
（比較例１）
粘着テープＧ２として、日東電工製、商品名「ＨＲ３０１」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は０．５６であった。
【００６２】
（比較例２）
粘着テープＧ２として、日東電工製、商品名「ＨＲ３０１」を用いたこと以外は実施例２と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は０．６９であった。
【００６３】
（比較例３）
粘着テープＧ２として、サンエー化研社製、商品名「サニテクトＰＡＣ−３」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．３２であった。
【００６４】
（比較例４）
粘着テープＧ２として、サンエー化研社製、商品名「サニテクトＰＡＣ−３」を用いたこと以外は実施例２と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．４５であった。
【００６５】
（比較例５）
粘着テープを用いず（すなわち、凸部Ｇ２を設けず）にロール体Ｈ’を形成したこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
【００６６】
（比較例６）
粘着テープを用いず（すなわち、凸部Ｇ２を設けず）にロール体Ｈ’を形成したこと以外は実施例２と同様にして、位相差フィルムを作製した。
【００６７】
（評価結果）
（１）ムラレベル
実施例および比較例の位相差フィルムについて、１ｍｍピッチ幅方向２点間の位相差を原反幅１０００ｍｍにわたって測定した。この測定には、大塚電子製ＲＥＴＳ−１２００ＶＡを用いた。隣接する測定点の位相差の差から、下記式によって位相差の差の平均値δ（Δｎｄ）を算出し、評価した。
【数１】
式中、χｉは、幅方向ｉ番目の測定点の位相差値である。この平均値δ（Δｎｄ）が小さいほどムラが小さい（すなわち、目標とする面内位相差Ｒｅ（５９０）＝１４０ｎｍからのズレが小さい）と評価することができる。
【００６８】
（２）凸部の摩擦係数
基材Ｆの裏面と粘着テープＧ２の背面との摩擦係数を、新東化学製トライボギアミューズ９４ｉを用いて測定した。この装置は、物体間の静摩擦係数を測定することが可能である。具体的には、以下の手順で測定した：測定装置のスライダーに粘着テープＧ２を貼り付け、粘着テープＧ２の背面が基材Ｆの裏面に接触するようにスライダーを設置した。この状態でスライダーを摺動させて摩擦係数を測定した。摩擦係数（本実施例および比較例では静摩擦係数）が大きいほど、摩擦抵抗が大きいことを意味する。
【００６９】
（３）コントラスト
実施例および比較例で得られた位相差フィルムをソニー社製：商品名「プレイステーションポータブル（ＰＳＰ）」液晶セルに図５の概念図に示すように実装して、トプコン社製ＢＭ５を用いて黒輝度および白輝度を測定した上でコントラスト比を算出し、評価した。実装の具体的手順については下記の通りである。
【００７０】
ネマチック液晶相を示す重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名「Paliocolor LC242」）９０重量部、カイラル剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「Paliocolor LC756」）１０重量部、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」）５重量部、およびメチルエチルケトン３００重量部を均一に混合し、液晶組成物を調製した。この液晶組成物を基材（二軸延伸ＰＥＴフィルム）上にスピンコーティング法を用いてコーティングした。次いで、８０℃で３分間加熱処理し、さらに紫外線（２０ｍＪ／ｃｍ２、波長３６５ｎｍ）を照射して重合処理し、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有するネガティブＣプレート（コレステリック配向硬化層）を基材上に形成した。ネガティブＣプレートの厚みは２．０μｍ、面内位相差Ｒｅ（５９０）は０ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５９０）は１２０ｎｍであった。このようにして得られたネガティブＣプレートを、上記ＰＳＰから取り出した液晶セルの両面にそれぞれアクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。
【００７１】
次いで、上記貼り付けられたネガティブＣプレートの外側（液晶セルと反対側）にそれぞれ、実施例または比較例で得られた位相差フィルムを、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介して貼り付けた。
【００７２】
さらに、上記貼り付けられた位相差フィルムの外側（ネガティブＣプレートと反対側）にそれぞれ、偏光板（日東電工製、ＴＥＧ５４５６ＤＵ）を、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介して貼り付けて、液晶パネルを作製した。このとき、位相差フィルムの遅相軸と偏光板の偏光子の吸収軸との軸角度が図５に示すような関係となるように、各フィルムを貼り付けた。
【００７３】
評価結果を下記表１に示す。
【表１】
【００７４】
表１から明らかなように、実施例１および２では、基材の裏面に対して特定の摩擦係数を有する凸部を設けることにより、ムラレベルが小さく（すなわち、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有し）、液晶パネルに実装した場合に非常に高いコントラストを示す位相差フィルムが得られる。しかも、ロール体の巻きズレもブロッキングも発生しない。凸部の摩擦係数が小さい比較例１および２では、ムラレベルが有意に低下し、ロール体の巻きズレも発生した。凸部の摩擦係数が大きい比較例３および４では、ブロッキングが発生した。凸部を設けない比較例５および６では、ムラレベルおよびコントラストとも実用レベルに至らなかった。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の製造方法により得られる位相差フィルムは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種画像表示装置に好適に用いられ得る。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法におけるラビング処理工程を説明するための模式図である。
【図２】（ａ）は、図１の工程に用いるラビング処理装置におけるバックアップロール機構の概略を示す平面図であり、（ｂ）は、バックアップロール近傍の斜視図であり、（ｃ）は、バックアップロール機構を基材搬送方向から見た概略図である。
【図３】図３は、本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法における積層体の形成およびロール化を説明する概念斜視図である。
【図４】本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法において巻き取られたロール体のロール体回転軸を含む概略断面図である。
【図５】実施例におけるコントラスト評価で用いた位相差フィルムの実装状態を説明する側方概念図である。
【符号の説明】
【００７７】
５ バックアップロール機構
６ 巻き取り機構
１００ ラビング処理装置
Ａ 搬送方向
Ｆ 基材
Ｇ 剥離フィルム
Ｇ１ ベースフィルム
Ｇ２ 粘着テープ
Ｈ 積層体
Ｈ’ ロール体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムの製造方法に関する。より詳細には、本発明は、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムの簡便・安価な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えばプラスチックフィルム表面に液晶化合物を塗布して配向させることにより位相差フィルムを製造する方法が知られている。このような製造方法においては、液晶化合物をフィルム表面上で配向させるために、例えば起毛布によってフィルム表面を一方向に擦るラビング処理を施すのが一般的である。さらに、このようなラビング処理は、裁断したフィルム単位で施すよりも、長尺状のフィルムにいわゆるロール・ツー・ロール方式で連続的に施すことが好ましいとされている。製造効率およびコストの面で圧倒的に有利だからである。
【０００３】
したがって、光学フィルムを製造するに際し、上記のようなロール・ツー・ロール方式によって長尺のプラスチックフィルムに連続的にラビング処理を施す方法として、種々の方法が提案されている。
【０００４】
例えば、鏡面仕上げされた金属表面を有する搬送ベルトで長尺のプラスチックフィルムを搬送しながら、搬送ベルト上に配置されたラビングロールで上記フィルム表面にラビング処理を施す方法が提案されている（特許文献１参照）。プラスチックフィルムを構成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの直鎖状高分子が用いられている。当該方法においては、ラビング処理の後、重合性液晶化合物をフィルムのラビング処理表面に塗布し、乾燥・配向させ、紫外線などを照射することにより重合性液晶化合物を架橋させ、光学フィルムを製造している。
【０００５】
上記液晶化合物を塗布する前に、ラビング処理面の電荷を均一にするために剥離フィルムを貼り合わせることも公知である（例えば、特許文献２参照）。このようにしてラビング処理面の電荷を均一にすることにより、ラビング処理面に塗布される液晶化合物の配向性が大きく向上する。
【０００６】
一方、上記のような光学フィルムの製造方法において、設備的および時間的な制約から、一連の工程を分割して行う場合がある。例えば、ラビング処理後のラビング処理面に剥離フィルムを貼り合わせて積層体とした後で、当該積層体を搬送方向に直交する軸回りに巻き取ってロール体を形成し、当該ロール体を保管する場合がある。
【０００７】
しかし、上記のようなロール体を形成すると、ラビング処理面に応力がかかってしまう。その結果、ラビング処理面の電荷が不均一となり、剥離フィルムを貼り合わせたにもかかわらず、液晶化合物の配向性が乱れてしまう場合がある。その結果、得られる光学フィルムにスジ状に見える位相差ムラが発生する場合がある。さらに、ロール体を形成する際には、巻きズレを防止することも、得られるフィルムの光学特性への悪影響防止および製造効率の向上の観点からきわめて重要である。
【特許文献１】特開２００４−１７０４５４号公報
【特許文献２】特開２００６−７２２９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムの簡便・安価な製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の位相差フィルムの製造方法は、長尺の基材の表面を配向処理する工程と；一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と該基材の配向処理された表面とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する工程と；該積層体を巻き取り、ロール体にする工程と；該ロール体から該積層体を繰り出し、および、該積層体から該剥離フィルムを剥離する工程と；該基材の配向処理された表面に液晶化合物を塗布する工程と；を含み、該凸部表面と該プラスチックの配向処理されていない表面との間の摩擦係数が１．０以上である。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記剥離フィルムの凸部は、幅方向の両端部近傍に設けられている。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記剥離フィルムの凸部は、平坦なベースフィルムに貼り付けられた粘着テープにより形成されている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、位相差フィルムの製造方法において一旦ロール体を形成する際に、一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを基材の配向処理表面に貼り付けることにより、剥離フィルムの凸部が設けられていない部分では基材の裏面との接触が防止される。したがって、巻き取りにより配向処理表面にかかる応力が凸部のない箇所では生じ難くなる。このことにより、ロール形成による配向処理表面への影響が極力防止され、液晶化合物の配向性への影響が顕著に防止され得る。その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。さらに、凸部表面が基材表面に対して特定の範囲の摩擦係数を有することにより、巻きズレが顕著に防止され得る。加えて、このような凸部は、例えば粘着テープを貼り付けるだけで形成され得るので、コストや製造効率も非常に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
Ａ．配向処理
本発明の位相差フィルムの製造方法における配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体例としては、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。以下、簡単のため、配向処理の好ましい一例として、ラビング処理について説明する。適切な装置を用いることにより、ラビング処理以外の配向処理も行われ得ることはいうまでもない。図１は、本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法におけるラビング処理工程を説明するための模式図である。図１に示すように、本発明においては、長尺の基材Ｆがラビング処理装置１００を搬送されながら、当該基材表面にラビング処理が施される。１つの実施形態においては、ラビング処理は、基材Ｆの搬送方向Ａに対して所定の角度を規定するようにして行われる。所定の角度のラビング処理は、ラビングロール４を、その回転軸が基材搬送方向に対する直交方向から所定の角度ずれるように配置することにより行われる。ラビング処理装置の詳細は後述する。ラビング処理方向（所定の角度）は、目的に応じて適切に設定され得る。本発明におけるラビング処理工程によれば、搬送方向（長尺基材の長手方向）に対して直交でも平行でもない角度でラビング処理を行うことができる。その結果、目的に応じて、長尺フィルム（基材）の長手方向に対して任意の適切な角度を規定する方向に遅相軸を有する位相差フィルムを作成することができる。例えば、円偏光板用の位相差フィルムを作成する場合には、ラビング処理は、基材搬送方向に対して４５°の角度で行われる。４５°の角度でラビング処理を行うことにより、得られる位相差フィルム（代表的には、液晶化合物の配向硬化フィルムまたは固化フィルム）は、当該ラビング処理方向に対応した方向（すなわち、基材の長手方向に対して４５°方向）に遅相軸を有する。偏光子用フィルムは、その製造方法に起因して長手方向に吸収軸を有するので、偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸が４５°の角度を有するようにして、ロール・ツー・ロールで貼り合わせることができる。このような場合、位相差フィルムの面内位相差を可視光の約１／４に設定することにより、良好な円偏光特性を有する円偏光板が、非常に優れた製造効率で得られ得る。なお、位相差フィルムの面内位相差は、液晶化合物の塗布厚みを調整することにより制御され得る。
【００１４】
上記ラビング処理は、基材Ｆに直接施してもよく、基材に配向膜を形成し、当該配向膜に施してもよい。
【００１５】
基材Ｆとしては、ロール形成が可能であり、かつ、表面に塗布された液晶化合物が適切に配向する限り、任意の適切なフィルム（代表的には、プラスチックフィルム）が用いられ得る。基材Ｆを構成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）、ポリノルボルネン等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、およびこれらのアロイが挙げられる。１つの実施形態においては、基材Ｆは、偏光子の保護フィルムとしても機能し得る。このような基材であれば、位相差フィルムを偏光子に積層して位相差層付偏光板を作製する際に、積層工程が簡略化され、かつ、位相差層付偏光板の薄型化に貢献し得る。このような基材を実現し得るフィルムとしては、ＴＡＣフィルム、ポリノルボルネン等のフィルムが挙げられる。このようなフィルムはブロッキングしやすいので、本発明の方法は、このようなフィルムを基材として用いる場合に特に有効である。
【００１６】
基材Ｆの厚みは、目的に応じて適切に設定され得る。基材の厚みは、好ましくは１０〜１００μｍ、さらに好ましくは３０〜７０μｍである。このような範囲であれば、搬送性に優れ、かつ、偏光子の保護フィルムとしても適用可能である。基材Ｆの表面粗さＲｚは、好ましくは１２０ｎｍ〜６００ｎｍ、さらに好ましくは２００ｎｍ〜５００ｎｍ、特に好ましくは３００ｎｍ〜４５０ｎｍである。Ｒｚが小さすぎると、基材搬送時にキズが生じやすくなる。Ｒｚが大きすぎると、凹凸が大きすぎてラビング処理を施すことが困難になる場合があり、また、フィルム表面に異物が付着し易くなる。なお、本明細書において「表面粗さＲｚ」とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１）で規定されている最大高さを意味する。
【００１７】
上記配向膜を構成する材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドが挙げられる。配向膜は、例えば、これらのポリマーの溶液を基材表面に塗布することにより形成される。塗布方法の具体例としては、スピンコート法、バーコート法、スロットダイコート法、ディップコート法が挙げられる。配向膜の厚みは、基材の表面粗さ等に応じて適切に設定され得る。配向膜の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜５μｍ、さらに好ましくは０．２μｍ〜３μｍ、特に好ましくは０．５μｍ〜２．５μｍである。
【００１８】
基材Ｆの搬送速度は、好ましくは１〜５０ｍ／分、さらに好ましくは１〜１０ｍ／分である。ラビングロール４の回転数は、好ましくは１〜３０００ｒｐｍ、さらに好ましくは５００〜２０００ｒｐｍである。ラビングロール４の押し込み量は、好ましくは１００〜２０００μｍ、さらに好ましくは１００〜１０００μｍである。このような条件でラビング処理を行うことにより、基材の特性に悪影響を与えることなく、良好な配向を得ることができる。なお、本明細書において「ラビングロール４の押し込み量」とは、基材Ｆ表面に対してラビングロール４の位置を変動させた場合において、ラビングロールに巻回した起毛布の毛先が最初に基材Ｆ表面に接した位置を原点（０点）とし、当該原点から基材Ｆに向けてラビングロール４を押し込んだ量（毛先の位置の変動量）を意味する。
【００１９】
以下、上記ラビング処理に用いられるラビング処理装置について説明する。ラビング処理装置１００は、駆動ロール１、２と、駆動ロール１、２間に架設され、長尺の基材Ｆを支持して搬送する無限軌道の搬送ベルト３と、搬送ベルト３の上方において上下方向に昇降可能に配設されたラビングロール４と、基材Ｆを支持する搬送ベルト３の下面を支持するバックアップロール機構５とを備える。ラビング処理装置１００の前後には、必要に応じて適切な静電気除去装置および／または除塵装置を設置してもよい。
【００２０】
ラビングロール４は、その外周面に起毛布４ａが巻回されている。起毛布の材質は、ラビング処理される基材Ｆの材質や所望の配向状態（結果として、得られる位相差フィルムの光学特性）等に応じて適切に選択され得る。代表的には、起毛布の材質としては、レーヨン、コットン、ナイロン、トリアセテートまたはこれらの混合物が挙げられる。本発明の製造方法においては、ラビングロール４の回転軸は、基材の搬送方向Ａに対して所定の角度を規定するように（すなわち、基材の長手方向に対して任意の軸角度に設定できるように）構成されている。
【００２１】
図２（ａ）は、図１の工程に用いるラビング処理装置におけるバックアップロール機構の概略を示す平面図であり、図２（ｂ）は、バックアップロール近傍の斜視図であり、図２（ｃ）は、バックアップロール機構を基材搬送方向から見た概略図である。バックアップロール機構５は、図２（ａ）〜図２（ｃ）に示すように、搬送ベルト３の搬送方向（図２（ａ）の矢印Ａ方向）に沿ってそれぞれ回転する複数のバックアップロール５１を備える。各バックアップロール５１は、ラビングロール４の直下であって、ラビングロール４の回転軸と略平行な直線に沿って配設されている。このような構成によれば、ラビングロール４の回転軸が搬送ベルト３の搬送方向に対して所定の角度を規定する場合（図２（ａ）の直線Ｃ１がラビングロール４の回転軸である場合：すなわち、ラビング処理を基材長手方向に対して直交でも平行でもない方向に行う場合）であっても、各バックアップロール５１は、基材Ｆおよび搬送ベルト３を介して、傾斜したラビングロール４の直下に配設されることになる。さらに、各バックアップロール５１が、搬送ベルト３の搬送方向（基材Ｆの搬送方向）に沿ってそれぞれ回転するので、各バックアップロール５１が搬送ベルト３の搬送方向への移動ひいては基材Ｆの搬送を阻害することもない。したがって、仮にラビングロール４の回転軸が搬送ベルト３の搬送方向に対して所定の角度を規定する状態でラビングロール４の押し込み量を大きくしたとしても、搬送ベルト３に緩みが生じ難く且つ搬送ベルト３の移動が阻害されることもないので、安定した状態でラビング処理を施すことが可能となる。その結果、基材Ｆに均一な配向特性を付与することができ、結果として、均一な光学特性を有する位相差フィルムを製造することができる。
【００２２】
好ましくは、バックアップロール機構５は、ラビングロール４の回転軸と略平行な直線に沿って配設された台座部５２と、搬送ベルト３表面の法線回りに回転可能に台座部５２上に軸支された複数の支持部５３とを備え、各バックアップロール５１は、各支持部５３に搬送ベルト３の搬送方向に沿って回転可能に軸支されている。より詳細には、支持部５３は、軸部材５４によって台座部５２に軸支されており、軸部材５４回りに回転可能とされている。また、バックアップロール５１は、軸部材５５によって支持部５３に軸支されており、軸部材５５回りに回転可能とされている。このような構成によれば、ラビングロール４の回転軸が搬送ベルト３の搬送方向に対して直交方向（図２（ａ）の直線Ｃ０方向）からずれたとしても、台座部５２を同じように（すなわち、ラビングロールの平行軸と略平行な直線に沿うように）ずらすことができる。その結果、搬送ベルト３の移動に伴って（搬送ベルト３下面の摩擦力によって）、支持部５３に軸支されたバックアップロール５１が搬送ベルト３の搬送方向に沿って回転する向きとなるように、台座部５２に軸支された支持部５３が自然と回転することになる。言い換えれば、ラビングロールの角度（ラビング処理方向）が固定ではなく、ラビング処理方向の設定を変更したとしても、それに合わせて、各バックアップロール５１がラビングロール４の直下に配設され且つ搬送ベルト３の搬送方向に沿って回転させることが可能である。その結果、１つのロール（基材）から、それぞれ異なる方向に遅相軸を有する位相差フィルムを取り出すことが可能となる。
【００２３】
好ましくは、バックアップロール機構５は、ラビングロール４の回転軸を搬送ベルト３の搬送方向に対して直交方向からずらした場合に、これに伴って台座部５２もずれるようにラビングロール４と台座部５２とを連結する連結機構５６を備える。より詳細には、連結機構５６は、ラビングロール４を回転軸回りに回転可能に且つ上下方向に昇降可能に支持すると共に、台座部５２を支持する断面略コの字状の枠体とされており、その頂部に取り付けられたモーターＭによって、図２（ｃ）の矢印Ｂの方向に回転可能とされている。連結機構５６が図２（ｃ）の矢印Ｂの方向に回転することにより、連結機構５６に支持されたラビングロール４および台座部５２は、同じ方向に同じ角度だけ回転する（すなわち、搬送方向に対する直交方向から同じ角度だけずれる）ことになる。したがって、ラビングロール４と台座部５２とを個別に搬送方向から所定の角度ずらす構成に比べて、設定がきわめて容易となる。連結機構５６は、図示例のようにモーターで回転させてもよく、手動で回転させてもよい。
【００２４】
Ｂ．積層体の形成および該積層体のロール化
上記ラビング処理工程の後、一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と上記基材Ｆのラビング処理された表面（以下、ラビング処理表面と称することもある）とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する。さらに、当該積層体を巻き取り、ロール体を形成する。代表的には、積層体の形成およびロール化は、連続的に行われる。以下、図面を参照して具体的に説明する。
【００２５】
図３は、本発明の好ましい実施形態による製造方法における積層体の形成およびロール化を説明する概念斜視図である。図３に示すように、剥離フィルムＧは、ベースフィルムＧ１と該ベースフィルムの一方の表面に形成された凸部Ｇ２とを有する。図示例では、凸部Ｇ２は、ベースフィルムＧ１に貼り付けられた粘着テープで構成される。凸部Ｇ２の構成は、図示例に限定されず、例えば、幅方向の両端部が中央部よりも厚いフィルムを一体成形することにより形成してもよく、フィルムにエンボス加工を施して形成してもよい。凸部Ｇ２の形成位置は、目的に応じて適切に選択され得る。図示例では、凸部Ｇ２は、ベースフィルムの幅方向（搬送方向Ａに直交する方向）の両端部近傍に設けられている。凸部Ｇ２は、図示例のようにベースフィルムの長手方向に連続して設けられてもよく、所定の間隔をあけて設けられてもよい。
【００２６】
本実施形態においては、まず、基材Ｆのラビング処理表面にベースフィルムＧ１が貼り付けられる。貼り付けは、任意の適切な手段（図示せず）を用いて行われる。好ましくは、ベースフィルムの貼り付けは、上記ラビング処理に引き続いて行われる。ラビング処理とベースフィルムの貼り付けを連続的に行うことにより、ラビング処理表面の汚染が防止され得る。
【００２７】
ベースフィルムＧ１は、ベース層と粘着層とを有する。粘着層は、基材のラビング処理表面に対して貼着可能で且つ剥離可能な程度の粘着性（剥離力）を有する。ベースフィルムＧ１の製造方法としては、代表的には、ベース層と粘着層とを共押出しする方法が挙げられる。共押出し法は、ベース層成分および粘着層成分をそれぞれ押し出す金型を用いて、インフレーション法、Ｔダイ法などに準じて行うことができる。その他の製造方法として、例えば、ベース層に粘着層を塗布する方法、ベース層に粘着層を転写する方法が挙げられる。
【００２８】
ベース層を構成する材料としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂が挙げられる。ポリオレフィン系樹脂は、オレフィン系モノマーの単独重合体であってもよく、複数のオレフィン系モノマーおよび／またはオレフィン系モノマーと他のモノマーとの共重合体であってもよい。共重合体は、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。ポリオレフィン系樹脂の具体例としては、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン等のエチレン系ポリマー；ポリプロピレン等のプロピレン系ポリマー；エチレン・プロピレン共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体等のオレフィン系共重合体；リアクターＴＰＯ；エチレン・メタクリル酸メチル共重合体等のオレフィン系モノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
【００２９】
ベース層は、必要に応じて、各種添加剤を含んでもよい。添加剤の具体例としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤（例えば、ヒンダードアミン系）、帯電防止剤、充填剤（例えば、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化チタン）、顔料、目ヤニ防止剤、滑剤、アンチブロッキング剤が挙げられる。
【００３０】
ベース層の厚みは、好ましくは２０〜３００μｍ、さらに好ましくは３０〜２５０μｍ、特に好ましくは４０〜２００μｍである。このような厚みであれば、基材に積層してロール状に巻き取る際の巻き取り性に優れる。
【００３１】
粘着層を構成する材料としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。代表例としては、ゴム系、ウレタン系、アクリル系の粘着剤、エチレン・酢酸ビニル共重合体が挙げられる。ゴム系粘着剤のベースポリマーの具体例としては、天然ゴム、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、ポリブタジエン等のジエン系ポリマーおよびその水素添加物、エチレンプロピレンゴム、エチレン−α−オレフィン、エチレン−プロピレン−α−オレフィン、プロピレン−α−オレフィン等のオレフィン系ゴム、スチレン・ブタジエン・スチレン（ＳＢＳ）、スチレン・イソプレン・スチレン（ＳＩＳ）、スチレン・エチレン−ブチレン・スチレン（ＳＥＢＳ）、スチレン・エチレン−プロピレン・スチレン（ＳＥＰＳ）等のＡ−Ｂ−Ａ型ブロックコポリマー、スチレン・ブタジエン（ＳＢ）、スチレン・イソプレン（ＳＩ）、スチレン・エチレン−ブチレン共重合体（ＳＥＢ）、スチレン・エチレン−プロピレン共重合体（ＳＥＰ）等のＡ−Ｂ型ブロックコポリマー、スチレン・ブタジエンラバー（ＳＢＲ）等のスチレン系ランダム共重合体、水添スチレン系ランダム共重合体（ＨＳＢＲ）、スチレン・エチレン−ブチレン共重合体・オレフィン結晶（ＳＥＢＣ）等のＡ・Ｂ・Ｏ型のスチレン・オレフィン結晶系ブロックコポリマー、オレフィン結晶・エチレン−ブチレン共重合体・オレフィン結晶（ＣＥＢＣ）等のＣ・Ｂ・Ｃ型のオレフィン結晶系ブロックコポリマーが挙げられる。
【００３２】
粘着層を構成する粘着剤は、粘着特性の制御等の目的に応じて適切な添加剤を含み得る。添加剤の具体例としては、軟化剤、オレフィン系樹脂、シリコーン系ポリマー、液状アクリル系共重合体、リン酸エステル系化合物、粘着付与剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤（例えば、ヒンダードアミン系）、充填剤（例えば、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化チタン）、顔料が挙げられる。
【００３３】
粘着層のラビング処理表面に対する剥離力は、好ましくは０．５Ｎ／５０ｍｍ以下であり、さらに好ましくは０．１〜０．５Ｎ／５０ｍｍであり、特に好ましくは０．２〜０．４Ｎ／５０ｍｍである。このような範囲の剥離力であれば、剥離フィルムを剥離する際にラビング処理面に悪影響を与えることがなく、かつ、糊残り等も発生しない。加えて、このような範囲の剥離力であれば、適切な剥離操作を行うことにより、剥離後のラビング処理表面が正または負のいずれかの電荷に一様に帯電し得る。
【００３４】
粘着層の厚みは、剥離力等に応じて適切に設定され得る。粘着層の厚みは、好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは２〜４０μｍ、特に好ましくは５〜２０μｍである。粘着層は、必要に応じて、実用に供されるまでの間セパレーターなどを仮着して保護してもよい。
【００３５】
本実施形態においては、次いで、ベースフィルムＧ１の基材と反対側の表面に凸部Ｇ２が形成される。本実施形態においては、凸部Ｇ２は、ベースフィルムＧ１に粘着テープを貼り付けることにより形成される。上記のように、凸部Ｇ２の形成位置（粘着テープの貼り付け位置）は、目的に応じて適切に選択されるので、図示例（ベースフィルムの幅方向の両端部近傍）には限定されない。粘着テープＧ２の貼り付けは、例えば、以下の手順で行われる：図３に示すように、搬送方向Ａに対して略直交する軸線を有する粘着テープ繰り出し軸６１から粘着テープＧ２を繰り出し、繰り出された粘着テープの先端部がベースフィルムＧ１表面の搬送方向Ａの下流側端部に貼着された状態で、ベースフィルムＧ１が貼り合わされた基材Ｆを搬送することにより、ベースフィルムＧ１の幅方向両端部近傍に粘着テープＧ２が貼り付けられる。このような貼り付けを行う装置としては、任意の適切なスリッターが採用され得る。上述したように、粘着テープは、図示例のように搬送方向Ａに沿って連続的に貼り付けてもよく（すなわち、凸部をベースフィルム長手方向に沿って連続して設けてもよく）、搬送方向Ａの所定ピッチ毎に間隔をあけて貼り付けてもよい（すなわち、島状の凸部を所定の間隔で設けてもよい）。
【００３６】
本発明においては、凸部Ｇ２表面と基材Ｆのラビング処理されていない表面（以下、裏面とも称する）との間の摩擦係数は１．０以上であり、好ましくは１．０〜１．２であり、より好ましくは１．０２〜１．１８であり、さらに好ましくは１．０４〜１．１８である。凸部表面が基材Ｆの裏面に対してこのような範囲の摩擦係数を有することにより、ロール状に巻き取った際の巻き締まりが顕著に防止され、その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムが得られ得る。加えて、巻きズレも顕著に防止され得る。摩擦係数が１．０未満である場合には、巻きズレが良好に防止できない場合がある。摩擦係数が大きすぎると、フィルムの滑り性が悪くなり、ブロッキングが生じる場合がある。例えばベースフィルムを一体成形で形成する場合およびベースフィルムにエンボス加工を施す場合には、凸部表面の摩擦係数は、任意の適切な表面処理を行うことにより、基材Ｆの裏面に対して特定の値を有するように制御され得る。粘着テープを貼り付けて凸部を形成する場合には、適切な摩擦係数を有する市販のテープを用いてもよく、市販のテープに適切な表面処理を施して用いてもよい。なお、摩擦係数は、ＪＩＳ Ｋ ７１２５にしたがって求められる。
【００３７】
凸部の厚みは、凸部表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数、凸部の幅、凸部の形成個数、積層体（したがって、ロール体）の幅、積層体の長さ（したがって、ロール体の径）等に応じて適切に設定され得る。凸部の厚みは、好ましくは３０〜７０μｍであり、さらに好ましくは３５〜６５μｍであり、特に好ましくは４０〜６０μｍである。凸部がこのような範囲の厚みを有することにより、表面の摩擦係数に起因する効果と相乗して、ロール状に巻き取った際の巻き締まりが顕著に防止され、その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムが得られ得る。
【００３８】
凸部の幅は、凸部表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数、凸部の厚み、凸部の形成個数、積層体（したがって、ロール体）の幅、積層体の長さ（したがって、ロール体の径）等に応じて適切に設定され得る。１つの実施形態においては、凸部の幅は、基材Ｆの幅に対して、好ましくは１／４０〜１／１０であり、さらに好ましくは１／２５〜１／１５である。１つの実施形態においては、凸部の幅は、好ましくは３０〜７０ｍｍであり、さらに好ましくは４０〜６０ｍｍである。凸部の幅を適切に設定することにより、表面の摩擦係数および厚みに起因する効果と相乗して、ロール状に巻き取った際の巻き締まりが顕著に防止され、その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムが得られ得る。
【００３９】
凸部として粘着テープを用いる実施形態においては、粘着テープを構成する材料としては、上記所望の摩擦係数が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンが挙げられる。１つの実施形態においては、粘着テープとしては、市販のＯＰＰテープ（二軸延伸ポリプロピレンテープ）が用いられ得る。別の実施形態においては、市販のポリエチレンテープが用いられ得る。
【００４０】
以上のようにして、ベースフィルムＧ１と粘着テープＧ２とを貼り付けることにより、剥離フィルムＧが基材Ｆの表面に形成され、積層体Ｈが形成される。なお、図示例ではベースフィルムＧ１と粘着テープＧ２とを順次貼り付ける形態について説明したが、ベースフィルムＧ１と粘着テープＧ２とを予め貼り付けて剥離フィルムＧを形成し、当該剥離フィルムＧを基材Ｆの表面に貼り付けてもよいことはいうまでもない。
【００４１】
次に、積層体Ｈを巻き取り、ロール体Ｈ’を形成する。巻き取りは、例えば、以下の手順により行われる：図３に示すように、搬送方向Ａの粘着テープ繰り出し軸６１のさらに下流側に、搬送方向Ａに対して略直交する方向に軸心を有するロール体回転軸６２が配設され、当該ロール体回転軸６２が回転することにより積層体Ｈが巻き取られ、ロール体Ｈ’が形成される。ロール体Ｈ’は、位相差フィルムの製造ラインから外して保管することができるので、位相差フィルムの製造工程をいったん中断し、所望の時期に最終の位相差フィルムを製造することができる。
【００４２】
図４は、本実施形態において巻き取られたロール体のロール体回転軸を含む概略断面図である。ロール体Ｈ’は、剥離フィルムＧの凸部（粘着テープ）Ｇ２が基材Ｆの裏面に当接した状態となり、剥離フィルムＧの凸部Ｇ２が設けられていない部分に空間部Ｊが形成される。
【００４３】
図示例では、凸部Ｇ２が内側になるように巻き取られているが、凸部Ｇ２が外側になるように巻き取ってもよい。好ましくは、凸部Ｇ２が内側になるように巻き取られる。基材Ｆのすべての面に空間部Ｊが形成されるので、外側に巻き取る場合よりも、ラビング処理表面のより広い範囲で配向性への悪影響を防止することができる。
【００４４】
このように、剥離フィルムＧのラビング処理表面と対向する面とは反対側の面に凸部Ｇ２を設けることにより、積層体Ｈの巻き取り時に、剥離フィルムＧの大部分（凸部が設けられていない部分）で基材Ｆの裏面との接触が防止される。その結果、巻き取りによりラビング処理表面にかかる応力が、凸部が設けられていない部分では生じ難くなる。言い換えれば、積層体Ｈを巻き取ることによる応力が上記空間部Ｊにより積層体Ｈの長手方向に拡散する（すなわち、巻き締まりが防止される）。したがって、ラビング処理後の基材を一時巻き取って保管する場合であっても、当該巻き取りによるラビング処理表面における液晶の配向性への影響を顕著に防止することができる。その結果、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。加えて、凸部Ｇ２の表面が基材Ｆの裏面に対して特定の摩擦係数を有することにより、巻きズレが良好に防止され、かつ、ブロッキングが生じることもない。
【００４５】
図示した実施形態においては、凸部Ｇ２がフィルムの幅方向両端部近傍に設けられるので、特に基材Ｆの幅方向中央部分においてラビング処理表面への応力を生じ難くすることができる。したがって、フィルムの中央部分における液晶の配向性を特に良好にすることができる。最終的な位相差フィルムは中央部分から切り出すことが多いので、光学特性の均一性にさらに優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００４６】
上記のように、ロール体Ｈ’は、所望の時期まで保管することができる。位相差フィルムの製造を再開する際には、ロール体Ｈ’から積層体Ｈを繰り出し、および、当該積層体Ｈから剥離フィルムＧを剥離する。剥離フィルムＧの剥離は、液晶化合物を塗布する直前に行うのが好ましい。基材Ｆのラビング処理表面の汚染が防止され得るからである。剥離フィルムＧの剥離方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、剥離フィルムＧは、ラビング処理表面の配向性を損なわないように一定速度で剥離される。剥離方法の具体例としては、１８０°ピールで行う方法が挙げられる。
【００４７】
次いで、基材Ｆのラビング処理表面に液晶化合物が塗布される。塗布された液晶化合物を固化または硬化させることにより、当該液晶化合物の配向状態が固定され、位相差フィルムが得られる。固化は、例えば、液晶化合物をラビング処理表面に塗布した後、液晶化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、乾燥させた後、液晶相を示す状態で室温まで急冷することにより行われる。硬化は、例えば、重合性液晶モノマーを用い、液晶モノマーが液晶相を示す温度まで加熱し、乾燥させた後、液晶相を示す状態で室温まで冷却し、紫外線などを照射することにより行うことができる。このようにして得られる位相差フィルムは、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する。位相差フィルムの面内位相差は、上記のように、液晶化合物の塗布厚みを調整することにより制御され得る。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差フィルムのｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができる。その結果、所望の面内位相差を得るための位相差フィルムの厚みを格段に小さくすることができる。例えば、１３０〜１５０ｎｍの面内位相差が所望される場合、１．３〜１．５μｍの厚みでこのような位相差が実現され得る。
【００４８】
液晶化合物は、ポリマーであってもよく、オリゴマーであってもよく、低分子化合物またはモノマーであってもよい。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶化合物は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。液晶化合物が液晶モノマーである場合、例えば、重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーであることが好ましい。これは、液晶モノマーを重合または架橋させることによって、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差フィルムは、例えば、液晶化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差フィルムは、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差フィルムとなる。上記液晶モノマーの具体例としては、下記式（１）〜（１６）で表される化合物が挙げられる。
【化１】
【００４９】
代表的には、上記液晶化合物は、当該液晶化合物を適切な溶媒に溶解または分散した溶液または分散液（以下、塗布液とも称する）として塗布される。
【００５０】
上記溶媒としては、上記液晶化合物を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶化合物の種類等に応じて適宜選択され得る。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ等が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００５１】
上記塗布液は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶化合物として重合性および／または架橋性液晶モノマーを用いる場合に特に好適に用いられる。上記重合開始剤の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらもまた、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００５２】
上記塗布液における液晶化合物の含有量は、液晶化合物の種類や目的とする位相差フィルムの厚み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶化合物の含有量は、好ましくは５〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０〜４０重量％であり、最も好ましくは１５〜３０重量％である。
【００５３】
塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。塗布効率の観点から、ワイヤーバーコート法、スピンコート法およびエクストルージョン法が好ましい。
【００５４】
塗布液の加熱温度は、液晶化合物の種類に応じて適宜決定され得る。具体的には、加熱温度は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６５〜９５℃である。このような温度範囲であれば、液晶化合物を十分に配向させることができ、かつ、基材Ｆの選択範囲が広い。また、加熱時間は、好ましくは３０秒以上であり、さらに好ましくは１分以上であり、特に好ましくは２分以上である。加熱時間が３０秒未満である場合には、液晶化合物が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、加熱時間は、好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは８分以下であり、最も好ましくは７分以下である。加熱時間が１０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。
【００５５】
以上のようにして、基材Ｆ上に位相差フィルム（液晶配向固化フィルムまたは硬化フィルム）が形成される。得られた位相差フィルムは、基材Ｆから所望の光学部材に転写して用いてもよく、基材Ｆと位相差フィルムの積層体をそのまま用いてもよい。
【００５６】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００５７】
（実施例１）
１．ラビング処理
基材Ｆとして、親水化処理を施した易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用し、その表面に厚み２．５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜を形成した。当該フィルム（の配向膜）に対して、図１および図２に示すようなラビング処理装置を用いてラビング処理を施した。搬送ベルト３表面の鏡面仕上げは表面粗さＲａ＝０．０１μｍ、駆動ロール１および２の外径は５５０ｍｍ、フィルムの搬送速度は５ｍ／分、各バックアップロール５１の外径はすべて９０ｍｍ、隣接する各バックアップロール５１の回転軸方向の中心間距離Ｌ１はすべて８０ｍｍ、各バックアップロール５１の回転軸方向の幅Ｌ２はすべて３０ｍｍとした。また、ラビングロール４（起毛布４ａを含む）の半径は７６．８９ｍｍとし、レーヨン製の起毛布を巻回したものを用いた。ラビングロール４の回転軸はフィルムの搬送方向Ａに対して直交方向から４５°ずらし、各バックアップロール５１は、ラビングロール４の直下であって、上記回転軸と平行な直線に沿って配置した。ラビングロール４の回転数は１５００ｒｐｍ、押し込み量は０．４ｍｍとした。なお、配向膜の厚み測定には、大塚電子製の分光光度計：ＭＣＰＤ２０００を用いた。
【００５８】
２．ロール体の作製
次いで、基材Ｆのラビング処理表面に、ベースフィルムＧ１として６０μｍの厚みを有するポリオレフィン系フィルム（サンエー化研社製、サニテクトＰＡＣ−３）を貼り合わせ、当該ベースフィルムＧ１の幅方向両端部近傍に凸部Ｇ２として厚み５０μｍおよび幅５０ｍｍの粘着テープ（日東電工製：商品名「ダンプロンテープ（Ｎｏ．３２００）」）を貼り付けて、基材Ｆのラビング処理表面に剥離フィルムＧを設けた。このようにして、積層体Ｈを作製した。当該積層体Ｈを巻き取り、ロール体Ｈ’とした。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．０４であった。
【００５９】
３．位相差フィルムの作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名「Paliocolor LC242」）１０ｇと、この重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」）０．５ｇと、レベリング剤０．０６ｇとを、シクロペンタノン４０ｇに溶解して、塗布液を調製した。上記で得られたロール体Ｈ’を繰り出し、剥離フィルムＧを積層体Ｈから剥離し、基材Ｆのラビング処理表面に、上記塗布液をバーコーターにより塗布した。次いで、９０℃で２分間加熱処理し、液晶化合物を配向させた。このようにして得られた液晶層に、メタルハライドランプを用いて２０ｍＪ／ｃｍ２の光を照射し、該液晶層を硬化させることによってｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する正の一軸性位相差フィルム（コーティングＡプレート）を形成した。位相差フィルムの厚みおよび面内位相差は、塗布液の塗布量を変えることにより調整し、厚みを１．４μｍ、目標とする面内位相差Ｒｅ（５９０）を１４０ｎｍとした。ここで、Ｒｅ（５９０）は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム面内の位相差をいい、Ｒｅ（５９０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで求められる。ｎｘは面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、ｎｙは面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みである。なお、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５９０）はＲｔｈ（５９０）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄで求められ、本実施例においてはｎｙ＝ｎｚであるので、Ｒｔｈ（５９０）もまた１４０ｎｍである。ｎｚは、フィルム厚み方向の屈折率である。
【００６０】
（実施例２）
基材Ｆとして、ケン化処理を施したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．１８であった。
【００６１】
（比較例１）
粘着テープＧ２として、日東電工製、商品名「ＨＲ３０１」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は０．５６であった。
【００６２】
（比較例２）
粘着テープＧ２として、日東電工製、商品名「ＨＲ３０１」を用いたこと以外は実施例２と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は０．６９であった。
【００６３】
（比較例３）
粘着テープＧ２として、サンエー化研社製、商品名「サニテクトＰＡＣ−３」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．３２であった。
【００６４】
（比較例４）
粘着テープＧ２として、サンエー化研社製、商品名「サニテクトＰＡＣ−３」を用いたこと以外は実施例２と同様にして、位相差フィルムを作製した。凸部Ｇ２表面と基材Ｆの裏面との間の摩擦係数は１．４５であった。
【００６５】
（比較例５）
粘着テープを用いず（すなわち、凸部Ｇ２を設けず）にロール体Ｈ’を形成したこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
【００６６】
（比較例６）
粘着テープを用いず（すなわち、凸部Ｇ２を設けず）にロール体Ｈ’を形成したこと以外は実施例２と同様にして、位相差フィルムを作製した。
【００６７】
（評価結果）
（１）ムラレベル
実施例および比較例の位相差フィルムについて、１ｍｍピッチ幅方向２点間の位相差を原反幅１０００ｍｍにわたって測定した。この測定には、大塚電子製ＲＥＴＳ−１２００ＶＡを用いた。隣接する測定点の位相差の差から、下記式によって位相差の差の平均値δ（Δｎｄ）を算出し、評価した。
【数１】
式中、χｉは、幅方向ｉ番目の測定点の位相差値である。この平均値δ（Δｎｄ）が小さいほどムラが小さい（すなわち、目標とする面内位相差Ｒｅ（５９０）＝１４０ｎｍからのズレが小さい）と評価することができる。
【００６８】
（２）凸部の摩擦係数
基材Ｆの裏面と粘着テープＧ２の背面との摩擦係数を、新東化学製トライボギアミューズ９４ｉを用いて測定した。この装置は、物体間の静摩擦係数を測定することが可能である。具体的には、以下の手順で測定した：測定装置のスライダーに粘着テープＧ２を貼り付け、粘着テープＧ２の背面が基材Ｆの裏面に接触するようにスライダーを設置した。この状態でスライダーを摺動させて摩擦係数を測定した。摩擦係数（本実施例および比較例では静摩擦係数）が大きいほど、摩擦抵抗が大きいことを意味する。
【００６９】
（３）コントラスト
実施例および比較例で得られた位相差フィルムをソニー社製：商品名「プレイステーションポータブル（ＰＳＰ）」液晶セルに図５の概念図に示すように実装して、トプコン社製ＢＭ５を用いて黒輝度および白輝度を測定した上でコントラスト比を算出し、評価した。実装の具体的手順については下記の通りである。
【００７０】
ネマチック液晶相を示す重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名「Paliocolor LC242」）９０重量部、カイラル剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「Paliocolor LC756」）１０重量部、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」）５重量部、およびメチルエチルケトン３００重量部を均一に混合し、液晶組成物を調製した。この液晶組成物を基材（二軸延伸ＰＥＴフィルム）上にスピンコーティング法を用いてコーティングした。次いで、８０℃で３分間加熱処理し、さらに紫外線（２０ｍＪ／ｃｍ２、波長３６５ｎｍ）を照射して重合処理し、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有するネガティブＣプレート（コレステリック配向硬化層）を基材上に形成した。ネガティブＣプレートの厚みは２．０μｍ、面内位相差Ｒｅ（５９０）は０ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５９０）は１２０ｎｍであった。このようにして得られたネガティブＣプレートを、上記ＰＳＰから取り出した液晶セルの両面にそれぞれアクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。
【００７１】
次いで、上記貼り付けられたネガティブＣプレートの外側（液晶セルと反対側）にそれぞれ、実施例または比較例で得られた位相差フィルムを、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介して貼り付けた。
【００７２】
さらに、上記貼り付けられた位相差フィルムの外側（ネガティブＣプレートと反対側）にそれぞれ、偏光板（日東電工製、ＴＥＧ５４５６ＤＵ）を、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介して貼り付けて、液晶パネルを作製した。このとき、位相差フィルムの遅相軸と偏光板の偏光子の吸収軸との軸角度が図５に示すような関係となるように、各フィルムを貼り付けた。
【００７３】
評価結果を下記表１に示す。
【表１】
【００７４】
表１から明らかなように、実施例１および２では、基材の裏面に対して特定の摩擦係数を有する凸部を設けることにより、ムラレベルが小さく（すなわち、フィルム全体にわたって均一な光学特性を有し）、液晶パネルに実装した場合に非常に高いコントラストを示す位相差フィルムが得られる。しかも、ロール体の巻きズレもブロッキングも発生しない。凸部の摩擦係数が小さい比較例１および２では、ムラレベルが有意に低下し、ロール体の巻きズレも発生した。凸部の摩擦係数が大きい比較例３および４では、ブロッキングが発生した。凸部を設けない比較例５および６では、ムラレベルおよびコントラストとも実用レベルに至らなかった。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の製造方法により得られる位相差フィルムは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種画像表示装置に好適に用いられ得る。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法におけるラビング処理工程を説明するための模式図である。
【図２】（ａ）は、図１の工程に用いるラビング処理装置におけるバックアップロール機構の概略を示す平面図であり、（ｂ）は、バックアップロール近傍の斜視図であり、（ｃ）は、バックアップロール機構を基材搬送方向から見た概略図である。
【図３】図３は、本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法における積層体の形成およびロール化を説明する概念斜視図である。
【図４】本発明の好ましい実施形態による位相差フィルムの製造方法において巻き取られたロール体のロール体回転軸を含む概略断面図である。
【図５】実施例におけるコントラスト評価で用いた位相差フィルムの実装状態を説明する側方概念図である。
【符号の説明】
【００７７】
５ バックアップロール機構
６ 巻き取り機構
１００ ラビング処理装置
Ａ 搬送方向
Ｆ 基材
Ｇ 剥離フィルム
Ｇ１ ベースフィルム
Ｇ２ 粘着テープ
Ｈ 積層体
Ｈ’ ロール体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の基材の表面を配向処理する工程と、
一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と該基材の配向処理された表面とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する工程と、
該積層体を巻き取り、ロール体にする工程と、
該ロール体から該積層体を繰り出し、および、該積層体から該剥離フィルムを剥離する工程と、
該基材の配向処理された表面に液晶化合物を塗布する工程と、を含み
該凸部表面と該プラスチックの配向処理されていない表面との間の摩擦係数が１．０以上である
位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記剥離フィルムの凸部が、幅方向の両端部近傍に設けられている、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記剥離フィルムの凸部が、平坦なベースフィルムに貼り付けられた粘着テープにより形成されている、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項１】
長尺の基材の表面を配向処理する工程と、
一方の表面に凸部を有する剥離フィルムを、該凸部を有さない表面と該基材の配向処理された表面とが対向するようにして貼り合わせ、積層体を形成する工程と、
該積層体を巻き取り、ロール体にする工程と、
該ロール体から該積層体を繰り出し、および、該積層体から該剥離フィルムを剥離する工程と、
該基材の配向処理された表面に液晶化合物を塗布する工程と、を含み
該凸部表面と該プラスチックの配向処理されていない表面との間の摩擦係数が１．０以上である
位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記剥離フィルムの凸部が、幅方向の両端部近傍に設けられている、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記剥離フィルムの凸部が、平坦なベースフィルムに貼り付けられた粘着テープにより形成されている、請求項１または２に記載の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−１０９５３８（Ｐ２００９−１０９５３８Ａ）
【公開日】平成２１年５月２１日（２００９．５．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２７８５１７（Ｐ２００７−２７８５１７）
【出願日】平成１９年１０月２６日（２００７．１０．２６）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年５月２１日（２００９．５．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月２６日（２００７．１０．２６）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]