個人用皮膚トリートメントの方法及び装置
個人用皮膚トリートメントデバイスが開示される。本デバイスは、パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、本デバイスを皮膚全域で連続的に移動させるメカニズムと、デバイス移動速度モニタリング構成とを含む。本デバイスが皮膚に適用されると、光パルス繰り返し周期によって、光放射出力がデバイス移動速度の関数として確立される。本デバイスの脱毛メカニズムは、トリートメントを受けた皮膚セグメントから機械的に脱毛するべく構成される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本方法及び本装置は一般に皮膚トリートメントの分野に関し、詳しくは脱毛に関する。
【背景技術】
【0002】
実際のところ誰にとっても外見は重要である。近年、異なる美容及び皮膚科トリートメントのための方法及び装置が開発されている。中でも、脱毛、血管病変トリートメント、しわ除去、スキンリジュベネーション等がある。これらのトリートメントにおいては、深い皮膚又は組織体積を加熱するべく皮膚表面が、所望の効果を達成するのに十分高い温度を照射される。これは典型的に38−60℃の範囲である。当該効果は、毛幹を弱めること又は毛嚢若しくは毛根までも破壊することである。
【0003】
他の所望の効果は発毛遅延である。これは典型的に、初期に脱毛された皮膚表面をレーザ、LED、キセノンランプ、超短パルス光(Intense Pulsed Light(IPL))、又は白熱ランプ放射で照射することにより達成される。これらは一般に光放射と呼ばれる。光放射は、例えばレーザのような単一波長を有するか、又はいくつかの波長若しくは広帯域スペクトルを有する。かかる波長は、トリートメントを受ける皮膚セグメントの対比される要素の色に対して最適となるように選択され、400から1800nmの範囲となるのが典型的である。通常フラッシュ光又はパルス光である光放射は、所定寸法のアパチャを有するアプリケータの助けにより皮膚に適用される。皮膚表面全体を「カバー」するべくアパチャは、外されるか又は2度トリートメントを受けるエリアが当該皮膚に存在しなくなるように、少なくとも1つのアパチャ寸法に等しいステップに基づく比較的正確な態様で所々に移動する必要がある。これを回避するべく個人は視覚的にアプリケータ位置を追跡する。光パルスが不可避的に彼/彼女の目に到達し、当該個人の妨害をし、アプリケータ位置の追跡及び脱毛工程に影響を与える。かかるデバイスは、当該皮膚組織に所定エネルギー密度が適用される場合にのみ所望の効果を達成する。デバイスが当該皮膚全域をあまりにも速く又は遅く移動すると、当該デバイスは効果がなくなるか又は火傷を引き起こす。
【0004】
いくつかの高周波(RF)を同時に皮膚に適用することに基づく、皮膚又は組織の深層をトリートメントする方法が開発されている。かかる方法では電極が皮膚に適用され、RF電圧がパルス又は連続波形(continuous waveform(CW))で当該電極間に適用される。RF電圧の特性は、トリートメントを受ける所定体積又は層の組織にRF誘導電流を生成するべく選択される。電流は組織を必要な温度まで加熱する。これは典型的に38−60℃の範囲である。当該温度により、毛嚢又は毛根が破壊又は損傷を受け、さらなる発毛が遅延される。
【0005】
光及びRFのトリートメントを組み合わせる機器が存在する。かかる機器は通常、アパチャ表面とほぼ同様又は等しい対象皮膚の画定セグメントを照射するべく構成される。当該アパチャを介して光放射が皮膚セグメントに向けられる。典型的には電極がアパチャ周囲の近傍に配置される。典型的にはRFが光によって加熱されるよりも深い組織層が加熱される。これにより、毛球及び/又は毛嚢が破壊/損傷を受ける。同じ皮膚セグメントに適用されるRFエネルギー量と光放射量との間には繊細な関係が存在する。双方間で光部分が超過すると皮膚火傷が生じる一方、RFエネルギーと光放射との最適比よりも低い適用では所望のトリートメント結果が得られない。
【0006】
市場では、ユーザ自身が以下をできるようにして動作する、サイズが小さく、コストが低く、使用が安全な装置が求められている。i)皮膚火傷又は不十分な皮膚トリートメント結果を回避すること。ii)トリートメントの間中、トリートメントを受けているエリアを長々と見つめることを回避すること。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】米国特許出願公開第2007/0129711(A1)号明細書
【特許文献2】米国特許出願公開第2004/0236269(A1)号明細書
【特許文献3】米国特許出願公開第2004/0143308(A1)号明細書
【特許文献4】米国特許第6,770,069(B1)号明細書
【特許文献5】米国特許出願公開第2008/0215124(A1)号明細書
【特許文献6】米国特許出願公開第2005/0015042(A1)号明細書
【特許文献7】米国特許出願公開第2006/0231568(A1)号明細書
【特許文献8】米国特許出願公開第2008/0221504(A1)号明細書
【発明の概要】
【0008】
皮膚トリートメント及び脱毛のための個人用皮膚トリートメントデバイスである。本デバイスは、パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、脱毛メカニズムと、皮膚全域に当該デバイスを連続的に移動させるメカニズムとを含む。本脱毛メカニズムは、機械的デバイスであってよい。当該デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムはオプションのメカニズムである。ユーザは本デバイスを皮膚に適用し、脱毛メカニズム及び光放射モジュールを動作させ、手動又はビルトイン移動メカニズムの助けを借りて本デバイスを、トリートメントを受ける皮膚セグメント全域で移動させる。オプションの移動速度モニタリング構成が移動速度をモニタリングし、光出力をデバイス移動速度の関数として確立する。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本装置及び本方法は、本明細書の結論部分に具体的に指摘されて明確に請求されている。しかしながら、本装置及び本方法は、動作の構成及び方法の双方について、添付図面とともに読まれる場合の下記の詳細な説明を参照することにより最良の理解が得られる。添付図面では、同様の参照番号は、異なる図面を通して同様の部分を参照する。図面は必ずしも縮尺通りではなく、本方法の原理を説明するに際して強調される。
【0010】
【図1】個人用脱毛装置の一実施例を示す概略図である。
【図2】個人用脱毛アプリケータ又はデバイスのインフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。
【図3】脱毛メカニズムなしで示される、インフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。
【図4】光放射付与モジュールのリフレクタ一実施例及びその冷却方法を示す概略図である。
【図5A】デバイス移動メカニズムの一実施例を示す概略図である。
【図5B】デバイス移動メカニズムの他実施例を示す概略図である。
【図5C】デバイス移動メカニズムの追加実施例を示す概略図である。
【図6】デバイス移動速度検出メカニズムの一実施例を示す概略図である。
【図7】個人用脱毛デバイスの電極の一実施例を示す概略図である。
【図8】本装置とともに使用される例示的な、使い捨て可能かつ交換可能なスキンリジュベネーションデバイスを示す概略図である。
【図9】本デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の他実施例を示す概略図である。
【図10】光放射付与モジュールの他実施例の断面図及びその冷却方法を示す概略図である。
【図11】光放射付与モジュールの追加実施例及びその冷却方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
下記の詳細な説明では、その一部をなす添付図面を参照する。当該参照は、本装置及び方法が実施され得る異なる実施例の図示によって示される。本装置の実施例に係る要素はいくつかの異なる配向にできるため、方向を示す用語は説明を目的とするものであって、決して限定するものではない。なお、本方法及び装置の範囲を逸脱せずに他実施例を使用し、構造的又は論理的変更をなしてよい。したがって、下記の詳細な説明は、限定の意味にとらえてはならない。本装置及び本方法の範囲は添付の特許請求の範囲により画定される。
【0012】
本明細書で使用する用語である「皮膚トリートメント」は、角質層、真皮、表皮のような様々な皮膚層に係る脱毛及びトリートメント、スキンリジュベネーション処置、しわ除去、並びに、コラーゲン収縮又は破壊のような処置を含む。
【0013】
「皮膚表面」という用語は、最外皮膚層を示す。これは角質層であってよい。
【0014】
個人用皮膚トリートメント装置の一実施例を示す概略図である図1を参照する。装置100は、対象皮膚上をスライド移動するべく構成されたアプリケータ又はデバイス104と、コントローラ、電力供給モジュール、及びキャパシタ(図示せず)のような電荷蓄積メカニズムを含むベース108と、アプリケータ104及びベース108間を接続する供給コード112とを含む。電力供給は整流器を有するか又は有しない変圧器を含む。装置100は、標準の給電ネットワークコンセントから又は充電可能若しくは従来バッテリから電力供給を受ける。アプリケータ又はデバイス104は、本体(透明なエンベロープを有するものとして図示)を保持容易に設計される。当該本体は、インフラ構造116と、軸流ファン又はブロワ120のような冷却手段と、装置100の動作を制御する制御回路124と、インフラ構造116に取り付けられるか又は共通フレーム上に組み付けられた脱毛メカニズム128とを含む。脱毛メカニズム又はヘッド128は、シェーバーのヘッド、むしり取り又は毛抜き脱毛器のようなヘッド、又はかみそりの1つであってよい。ヘッド128は取り外し可能ヘッドである。安全上の理由により、ヘッド128の電気的接触は、適切な位置にインサートされたときにのみ脱毛メカニズムへの電源が入るように構成される。一追加実施例では、脱毛メカニズムはスキンリジュベネーションヘッド(図8)によって置換されてもよい。
【0015】
装置の動作状態及び/又は皮膚トリートメント工程パラメータをユーザに通知又は表示するLEDのような少なくとも1つの可視状態インジケータ132がデバイス104に取り付けられる。皮膚トリートメント工程パラメータの状態のシグナルをユーザに送るブザーのような、少なくとも1つのオプションとなる可聴動作状態インジケータ136がデバイス104に取り付けられるか又はベース108に配置される。
【0016】
図2は、個人用皮膚トリートメントのためのアプリケータ又はデバイスのインフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。インフラ構造116に設けられるのは、光放射付与モジュール200と、図5A−5Cに示される皮膚全域でデバイス104を連続移動させるメカニズム又は構成と、移動速度モニタリングメカニズム(図5A)と、インフラ構造フレーム116(図1)に設けられて当該放射付与モジュール200(図2)によりアクティベートされる安全スイッチ(図3)である。脱毛メカニズム128は、トリートメントを受ける又は標的の皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成され、インフラ構造フレーム116に取り付けられる。オプションとして、一対の電極220がインフラ構造フレーム116に取り付けられる。
【0017】
図3は、脱毛メカニズム128(図1)なしで示される、インフラ構造フレーム116アセンブリの一実施例を示す概略図である。図示されるのは、インフラ構造フレーム116に取り付けられた安全スイッチ300と、図5Aに示されるデバイス104の移動方向のセンサ528である。放射付与モジュール200(図2)をフレーム116の当該位置に挿入することで安全スイッチ300がアクティベートされる。これにより、モジュール200の無駄な又は誤った動作を回避することができる。例えば、アプリケータ104の電極において高電圧が存在かつ「活きている」こととはならない。このため、使い捨て可能カートリッジが取り外される場合に誰も高電圧の危険にさらされることがない。
【0018】
本開示のいくつかの実施例によれば、RFIDデバイスが制御回路124(図1)に接続される。RFIDデバイスには、放射付与モジュール200を交換する必要が生じる前に放出されるべき最大数のパルスがプリロードされ、放出されたパルスごとにカウントを減少させる必要がある。代替的にRFIDデバイスには、放射付与モジュール200(図2)を交換する必要が生じる前に一のトリートメントで皮膚に適用される全エネルギーがプリロードされる。RFIDデバイスは、追加安全対策としても機能する。RFIDが識別できない場合、すなわち放射付与モジュール200が正確に設置されていない場合、制御回路124は放射付与モジュール200にパルスを放出させないようにする。
【0019】
一追加実施例では、米国CA 94086、SunnyvaleのMaxim/Dallas Semiconductors社から商業的に入手可能なDS2431のような1024ビットの1−Wire(登録商標)EEPROMである。カウンタとして動作する1−Wire EEPROMは、とりわけ放射付与モジュール200を制御する制御プリント回路124上に組み付けることができる。RFIDと同様に、カウンタに所望の情報をプリロードしてもよい。同じ1−Wire EEPROMが、放射付与モジュール200の信頼性識別を目的として機能できる。
【0020】
図4は、光放射付与モジュールのリフレクタの一実施例及びその冷却方法を示す概略図である。モジュール200は、光放射源400と、リフレクタ404と、誘電体被覆保護ウィンドウ408とを含む使い捨て可能カートリッジとして実装される。リフレクタ404は、放出された光放射をトリートメントを受ける皮膚セグメントに反射するべく構成される。ウィンドウ408はアパチャを画定する。当該アパチャを通って、光放射が皮膚に放出される。破線で示される光放射源400は、例えば独国65199Wiesbaden、Wenzel−Jaksch通り31番のPerkinElmer Optoelectronics社から商業的に入手可能なAGAC4627高出力密度キセノンフラッシュランプのような白熱ランプ、又は、LED、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、キセノンIPL(Intense Pulsed Light)ランプの群の任意の1つであってよい。
【0021】
リフレクタ404は平坦な切子面及び多角形断面を有するプリズムケース又はプリズム体である。または、2乗以上のオプション曲率を有する管状ケース又は管状体である。光放射がウィンドウ408のアパチャ全域に均一に集中かつ分布することができる単純な円筒断面、放物断面、又は他の任意断面であってよい。当該光放射はウィンドウ408のアパチャを通って皮膚に放出される。ウィンドウ408の誘電体被覆は、光放射スペクトルの関連セクションをトリートメントを受ける皮膚セグメントに透過させ、かつ、他セクションを反射するように選択される。リフレクタ404は、当該リフレクタの内側で空気が通ることを許容する複数の開口412を有する。開口412は、リフレクタ404の頂部付近に配置される。リフレクタ404の開放長手方向部位の近傍に配置又は当該部位に取り付けられた誘電体被覆保護ウィンドウ408は、当該リフレクタ404とともに空気導通チャネル420を形成する。空気導通チャネル420は一側がリフレクタ404と及び他側がウィンドウ408と境界をなす。軸流ファン120(図1)のような冷却要素により生成された冷却空気424の流れの一部が開口412を通ってチャネル420に入る。これは破線で示される光放射源400に沿って空気導通チャネル420内に向けられ、当該光放射源400を冷却する。リフレクタ404の突合わせ端開口428が、空気導通チャネルをその両端で終端させ、冷却空気排気口として機能する。突合わせ開口又は排気口428の面積は、リフレクタ404内部及び空気導通チャネル420に空気が通ることを可能とする開口412の面積と少なくとも等しいか又は大きい。冷却空気流424の他の部分は、リフレクタ404の外部セクションまわりを流れ、リフレクタ404の当該外側セクションを冷却する。
【0022】
図10に概略的に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、冷却手段はロータリーブロワ1000を含む。ブロワ1000は、矢印1010に示される空気を光放射付与モジュール200(図2)の一側内に吹き込む。当該空気は、光放射源400及びリフレクタ404(図4)に平行に(沿って)流れ、矢印1020に示されるように光放射付与モジュール200の反対側から出現する。
【0023】
またも図10に概略的に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、第2ガラスウィンドウ1030がウィンドウ408に平行に設置される。ブロワ1000が吹き込む矢印1040が付けられた冷却空気の一部は、2つのウィンドウ408及び1030の間を流れる。図11に示されるように、傾斜ランプ電極1100が光放射源400の空気取り入れ側に設置され、当該ウィンドウに向かう空気流を促進する。矢印1130は、リフレクタ404の内側及び外側並びにウィンドウ408及び1030の間を流れる冷却空気流を概略的に示す。リフレクタ404はプリズム構造として図11に示される。
【0024】
本開示のいくつかの実施例によれば、図1に示されるファン120は、2つのガラスウィンドウの間の空気を冷却するべく使用されてもよい。ウィンドウ408に平行な3以上のウィンドウがこれらの間に冷却空気流を有することで良好な熱絶縁が得られ、デバイスの皮膚と接触する部分の温度がほとんど変化しないことは実験的に証明されている。
【0025】
本開示のいくつかの実施例によれば、サーミスタのような熱センサ1050、又は他の任意タイプの温度測定手段が、当該冷却手段が機能障害の場合に過熱することへの安全対策として、冷却空気の流入端又は流出端のいずれかに設置される。
【0026】
ウィンドウ408及び1030は、パイレックス(登録商標)、サファイア、石英、又は特殊加工ホウケイ酸ガラスから作られる。ウィンドウ1030又は双方のウィンドウは誘電体被覆でコーティングされる。当該誘電体被覆は、光放射源400から放出されるUV及び所定のIR波長のような望ましくない波長を反射するフィルタとして機能する。
【0027】
またも図11に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、2つのリフレクタ(1110、1120)が2つのウィンドウ(1030、408)間のその両側面上に設けられる。これにより、トリートメント面積の外側への光の散乱が防止される。
【0028】
光放射付与モジュール200のアーキテクチャ及びこれを冷却する方法により、コンパクトかつ効率的な光放射源を製造することが可能となり、皮膚トリートメントに対して十分な出力が与えられる。モジュール200は、パルス又は連続動作モードで動作する。光放射又は光パルスの繰り返し周期が低いと、アプリケータ位置を常に視覚的に追跡するユーザにとって気に障ることがわかっている。ユーザの感覚を和らげるべく光放射源は、高出力トリートメントパルス間に介在配列されたいくつかの低出力光パルスを放出する。これにより、光パルスの繰り返し周期が増大し、繰り返し周期が低い光パルスの、気に障る効果及び目にかく乱を与える効果が軽減される。
【0029】
図5Aは、デバイス移動メカニズムの一実施例を示す概略図である。これは、デバイス104を皮膚全域で連続移動させる例示的なメカニズムの底面図である。本メカニズムは、適切なサイズ及び出力のDCモータ500を含む。DCモータ500は、一以上のギア504によって一以上の駆動ホイール508又は一のキャタピラタイプトラック(caterpillar type track)にカップリングされる。ユーザはデバイス104を皮膚512(図5B)に付着させ、当該デバイスが皮膚から落下しないような最小限の力を適用する。デバイス104は必要に応じて、追加の補助ホイール516を任意の適切量有してよい。DCモータ500の動作によりデバイス104は、皮膚512全域を可変速度で移動することができる。直径が既知のホイール又はローラ528が皮膚と接触する。当該デバイスの移動に応じてローラ528が回転する。ローラ528の回転速度を測定することにより、当業者に周知の方法でデバイス移動速度を決定することができる。代替的に、複数のホイール508又は516の1つの直径が既知であってよい。
【0030】
図5Bに示されるデバイス移動メカニズムの他実施例では、キャタピラタイプトラックとして実装された蠕動圧電セラミックモータ516が、矢印540で示されるようにデバイス104を皮膚512全域で移動させる。図5Cに示されるデバイス移動メカニズムのさらなる追加実施例では、圧電セラミックモータ524又は他のタイプのモータにより駆動されるベルト520が、矢印544で示されるようにデバイス104を皮膚512全域で移動させる。
【0031】
上述のデバイス移動メカニズムにより、異なる皮膚トリートメント条件に適合させるべくデバイス104を可変速度で移動させることができる。しかしながら、このためにはデバイス移動速度を検出又はモニタリングして修正する能力が必要となる。図6は、デバイス移動速度及び移動方向の検出構成の一実施例を示す概略図である。デバイス104(図1及び5)移動速度モニタリング構成600では、直径が既知の回転ホイール602又はローラが皮膚512と永久接触する。ホイール602は、ホイール602の周囲に張力をかけられたOリング604を有する。移動速度モニタリング構成600は、開口606を有するホイール602−I(図6B)として実装される。ホイール602−Iは、LED608と検出器612との間に配置されて、当該間を開口が通過するときにパルスが発生するように構成される。代替的に、ホイールは例えば、制御回路124と通信するタコメータのような速度測定デバイスに接続されてよい。速度読み取りに応じて制御回路124(図1)は、デバイス104の移動速度を変化させる。一代替実施例では、光学マウスと同様の構成がデバイス104移動速度をモニタリングする。
【0032】
デバイス移動速度及び進行方向の連続検出が、トリートメント状態をユーザに知らせる可視又は可聴信号と組み合わせられて、ユーザは、アプリケータ位置を視覚的に常に追跡するという煩わしい作業から開放される。それでもなおユーザは、アプリケータ移動速度が、少なくとも放射源パルス繰り返し周期に対応する所望のアプリケータ速度に従っていることを確認する必要がある。当該放射源パルス繰り返し周期は、光放射出力及びアパチャの活性サイズを確立する。可視信号インジケータ及び可聴信号インジケータがユーザに、皮膚トリートメント状態に関する決定のために必要な情報を与える。ユーザは、以前にトリートメントを受けた単数又は複数のストリップ(strip)の位置を記憶しなくてよい。
【0033】
方向移動センサは、非対称開口614を有するホイール528(図5)、検出器612、及びLED608である。検出器612及びLED608は、その間を開口が通過するときにパルスが発生するように構成される。代替的に、ホイール508又は516の1つが非対称開口を有してよい。移動方向に応じて、開口612によるLED放射の変調によって生じるパルスが、異なる立ち上がり時間を有する。これにより移動方向が示される。皮膚セグメントのトリートメントが完了するとオペレータは、アプリケータの移動方向を変える。
【0034】
図7は、個人用脱毛デバイスの電極の一実施例を示す概略図である。皮膚トリートメントデバイス104は、オプションとして取り外し可能な一対の電極220(図2)をオプションとして含む。電極220は、RFエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成される。RF電極220は、保護ウィンドウ又はアパチャ408(図4)の少なくとも一側に沿って構成された細長い本体を有する。RF電極220は、インフラ構造フレーム116に対してばね700上にて浮遊される。代替的に電極220は、光放射付与モジュール200のハウジングの外部側面に取り付けられた中実の金属ストリップ710を含んでよい。モジュール200の、プラスチックであってよい表面に適切に堆積された金属被覆もまた電極200として機能できる。皮膚トリートメント中、RF電極220は、皮膚と堅固に接触して当該皮膚の表面形態に正確に追従する。RF電極220又は710は、むき出しの金属表面を有して皮膚との導電カップリングをなしてよい。または、誘電体被覆電極であって皮膚との容量カップリングをなしてよい。
【0035】
図8は、本装置とともに使用される例示的な、使い捨て可能かつ交換可能なスキンリジュベネーションデバイスを示す概略図である。デバイス800は、脱毛メカニズム128の代わりに設けられる。デバイス800は、円筒又は他の3次元形状のキャリア802である。キャリア802の表面にあるのは、ドーム形状の導電要素804である。導電要素804は、ドーム804がキャリア802の外部表面から突出するように構成される。キャリア802は、カーカス(carcass)上に可撓性基板を引き伸ばすことによって製造される。これは、中実円筒又はかご形構造であってよい。キャリア802の側部816は、接触ストリップ820を支承する。接触ストリップ820を通ってRF電圧がドーム804に供給され得る。かかるキャリア構成により、当該キャリアを比較的大きな皮膚セグメント上に適用かつ並進移動させることができる。本開示の文脈において、「大きな皮膚セグメント」とは、キャリア表面又は接触電極キャリア表面の周囲の寸法を超える皮膚セグメントの寸法を意味する。キャリア802は回転対称であって、皮膚上で転がすことにより、最初にトリートメントを受けた皮膚セグメントの合理的な熱緩和時間を得て、隣接する皮膚セグメントにトリートメントを与えるべく容易に再配置することができる。また、以前にトリートメントを受けた同じ皮膚セグメントに戻ることができる。キャリアの再配置は、トリートメントがされなかった皮膚セグメント又は皮膚パッチを残すことがない。そして、残留するパッチワークタイプの皮膚パターンをなくす。かかるタイプの皮膚トリートメントは実際には、連続皮膚表面トリートメント工程のことである。キャリア802は、再使用可能又は使い捨て可能な部品であってよい。
【0036】
図9は、本デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の一実施例を示す概略図である。皮膚トリートメントに対し、トリートメントを受ける皮膚セグメント900にデバイス104が適用される。RF電極220(図2)と皮膚との間には堅固な又は少なくともほとんど堅固な接触が可能となる。光放射付与モジュール200がアクティベートされると、皮膚全域でデバイスを連続移動させるメカニズムがデバイスを所望方向に、例えばトリートメントを受ける皮膚セグメントに沿って、移動させる。一実施例では、トリートメントを受ける皮膚セグメントを一定の光放射出力により照射するべく、光放射がアパチャ408を通して向けられる。光放射は、連続又はパルスモードで供給される。移動速度モニタリング構成600(図6)が適切な移動速度を設定する。移動速度と光放射出力との依存性は、ルックアップテーブル(LUT)として用意されて制御回路124にロードされる。トリートメントが進行してデバイス104が皮膚全域を進行すると、デバイス104はトリートメントを受ける皮膚セグメントの境界に到達する。トリートメント又はシェービングを受けた皮膚セグメントの終端にデバイス104が到達すると、ユーザは、トリートメントを受ける次の皮膚セグメント上に又はトリートメントを受けていない皮膚セグメント上にデバイス104を手動で再配置して、同じ又は反対の方向に移動させるべく設定する。同じ皮膚セグメントにトリートメントを2回与えることにより皮膚火傷を生じさせるという危険性が低減される。デバイス104による連続した皮膚セグメント間で皮膚冷却のための時間が存在するからである。光放射は毛嚢を加熱することにより、トリートメントを受けた皮膚セグメント上の将来の発毛を遅らせる。同じ皮膚セグメントに適用されるRFエネルギーは、毛球及び毛嚢が存在する深い皮膚層を加熱する。RFエネルギーによって発生した熱がこれらを破壊して、光放射によって行われた脱毛工程が増強される。
【0037】
本デバイス及び本装置を使用する皮膚トリートメント方法の一追加実施例において、ユーザは、脱毛すべき皮膚セグメントに皮膚トリートメントデバイス104を適用する。機械的手段、例えばシェービング又はむしり取りによって皮膚セグメントが脱毛される。機械的脱毛に引き続き、適切な出力及び波長の光放射が、トリートメントを受けたのと同じ皮膚セグメントに適用される。オプションとして、RFエネルギーが同じ皮膚セグメントに適用されてもよい。光放射及びRFエネルギーの適用により発毛がさらに遅らされ、トリートメントを受けた皮膚セグメントから機械的脱毛後に残っていた残毛が除去される。最初に開示した方法と同様に、皮膚セグメントにトリートメントを与えるデバイス自身が、トリートメントを受けた皮膚セグメントから、トリートメントを受けていない他の皮膚セグメントへ自動的に移動する。
【0038】
複数の実施例が記載された。それにもかかわらず、本方法の要旨及び範囲を逸脱することなく様々な変形例が可能である。したがって、他実施例も以下の特許請求の範囲の範囲内にある。
【技術分野】
【0001】
本方法及び本装置は一般に皮膚トリートメントの分野に関し、詳しくは脱毛に関する。
【背景技術】
【0002】
実際のところ誰にとっても外見は重要である。近年、異なる美容及び皮膚科トリートメントのための方法及び装置が開発されている。中でも、脱毛、血管病変トリートメント、しわ除去、スキンリジュベネーション等がある。これらのトリートメントにおいては、深い皮膚又は組織体積を加熱するべく皮膚表面が、所望の効果を達成するのに十分高い温度を照射される。これは典型的に38−60℃の範囲である。当該効果は、毛幹を弱めること又は毛嚢若しくは毛根までも破壊することである。
【0003】
他の所望の効果は発毛遅延である。これは典型的に、初期に脱毛された皮膚表面をレーザ、LED、キセノンランプ、超短パルス光(Intense Pulsed Light(IPL))、又は白熱ランプ放射で照射することにより達成される。これらは一般に光放射と呼ばれる。光放射は、例えばレーザのような単一波長を有するか、又はいくつかの波長若しくは広帯域スペクトルを有する。かかる波長は、トリートメントを受ける皮膚セグメントの対比される要素の色に対して最適となるように選択され、400から1800nmの範囲となるのが典型的である。通常フラッシュ光又はパルス光である光放射は、所定寸法のアパチャを有するアプリケータの助けにより皮膚に適用される。皮膚表面全体を「カバー」するべくアパチャは、外されるか又は2度トリートメントを受けるエリアが当該皮膚に存在しなくなるように、少なくとも1つのアパチャ寸法に等しいステップに基づく比較的正確な態様で所々に移動する必要がある。これを回避するべく個人は視覚的にアプリケータ位置を追跡する。光パルスが不可避的に彼/彼女の目に到達し、当該個人の妨害をし、アプリケータ位置の追跡及び脱毛工程に影響を与える。かかるデバイスは、当該皮膚組織に所定エネルギー密度が適用される場合にのみ所望の効果を達成する。デバイスが当該皮膚全域をあまりにも速く又は遅く移動すると、当該デバイスは効果がなくなるか又は火傷を引き起こす。
【0004】
いくつかの高周波(RF)を同時に皮膚に適用することに基づく、皮膚又は組織の深層をトリートメントする方法が開発されている。かかる方法では電極が皮膚に適用され、RF電圧がパルス又は連続波形(continuous waveform(CW))で当該電極間に適用される。RF電圧の特性は、トリートメントを受ける所定体積又は層の組織にRF誘導電流を生成するべく選択される。電流は組織を必要な温度まで加熱する。これは典型的に38−60℃の範囲である。当該温度により、毛嚢又は毛根が破壊又は損傷を受け、さらなる発毛が遅延される。
【0005】
光及びRFのトリートメントを組み合わせる機器が存在する。かかる機器は通常、アパチャ表面とほぼ同様又は等しい対象皮膚の画定セグメントを照射するべく構成される。当該アパチャを介して光放射が皮膚セグメントに向けられる。典型的には電極がアパチャ周囲の近傍に配置される。典型的にはRFが光によって加熱されるよりも深い組織層が加熱される。これにより、毛球及び/又は毛嚢が破壊/損傷を受ける。同じ皮膚セグメントに適用されるRFエネルギー量と光放射量との間には繊細な関係が存在する。双方間で光部分が超過すると皮膚火傷が生じる一方、RFエネルギーと光放射との最適比よりも低い適用では所望のトリートメント結果が得られない。
【0006】
市場では、ユーザ自身が以下をできるようにして動作する、サイズが小さく、コストが低く、使用が安全な装置が求められている。i)皮膚火傷又は不十分な皮膚トリートメント結果を回避すること。ii)トリートメントの間中、トリートメントを受けているエリアを長々と見つめることを回避すること。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】米国特許出願公開第2007/0129711(A1)号明細書
【特許文献2】米国特許出願公開第2004/0236269(A1)号明細書
【特許文献3】米国特許出願公開第2004/0143308(A1)号明細書
【特許文献4】米国特許第6,770,069(B1)号明細書
【特許文献5】米国特許出願公開第2008/0215124(A1)号明細書
【特許文献6】米国特許出願公開第2005/0015042(A1)号明細書
【特許文献7】米国特許出願公開第2006/0231568(A1)号明細書
【特許文献8】米国特許出願公開第2008/0221504(A1)号明細書
【発明の概要】
【0008】
皮膚トリートメント及び脱毛のための個人用皮膚トリートメントデバイスである。本デバイスは、パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、脱毛メカニズムと、皮膚全域に当該デバイスを連続的に移動させるメカニズムとを含む。本脱毛メカニズムは、機械的デバイスであってよい。当該デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムはオプションのメカニズムである。ユーザは本デバイスを皮膚に適用し、脱毛メカニズム及び光放射モジュールを動作させ、手動又はビルトイン移動メカニズムの助けを借りて本デバイスを、トリートメントを受ける皮膚セグメント全域で移動させる。オプションの移動速度モニタリング構成が移動速度をモニタリングし、光出力をデバイス移動速度の関数として確立する。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本装置及び本方法は、本明細書の結論部分に具体的に指摘されて明確に請求されている。しかしながら、本装置及び本方法は、動作の構成及び方法の双方について、添付図面とともに読まれる場合の下記の詳細な説明を参照することにより最良の理解が得られる。添付図面では、同様の参照番号は、異なる図面を通して同様の部分を参照する。図面は必ずしも縮尺通りではなく、本方法の原理を説明するに際して強調される。
【0010】
【図1】個人用脱毛装置の一実施例を示す概略図である。
【図2】個人用脱毛アプリケータ又はデバイスのインフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。
【図3】脱毛メカニズムなしで示される、インフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。
【図4】光放射付与モジュールのリフレクタ一実施例及びその冷却方法を示す概略図である。
【図5A】デバイス移動メカニズムの一実施例を示す概略図である。
【図5B】デバイス移動メカニズムの他実施例を示す概略図である。
【図5C】デバイス移動メカニズムの追加実施例を示す概略図である。
【図6】デバイス移動速度検出メカニズムの一実施例を示す概略図である。
【図7】個人用脱毛デバイスの電極の一実施例を示す概略図である。
【図8】本装置とともに使用される例示的な、使い捨て可能かつ交換可能なスキンリジュベネーションデバイスを示す概略図である。
【図9】本デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の他実施例を示す概略図である。
【図10】光放射付与モジュールの他実施例の断面図及びその冷却方法を示す概略図である。
【図11】光放射付与モジュールの追加実施例及びその冷却方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
下記の詳細な説明では、その一部をなす添付図面を参照する。当該参照は、本装置及び方法が実施され得る異なる実施例の図示によって示される。本装置の実施例に係る要素はいくつかの異なる配向にできるため、方向を示す用語は説明を目的とするものであって、決して限定するものではない。なお、本方法及び装置の範囲を逸脱せずに他実施例を使用し、構造的又は論理的変更をなしてよい。したがって、下記の詳細な説明は、限定の意味にとらえてはならない。本装置及び本方法の範囲は添付の特許請求の範囲により画定される。
【0012】
本明細書で使用する用語である「皮膚トリートメント」は、角質層、真皮、表皮のような様々な皮膚層に係る脱毛及びトリートメント、スキンリジュベネーション処置、しわ除去、並びに、コラーゲン収縮又は破壊のような処置を含む。
【0013】
「皮膚表面」という用語は、最外皮膚層を示す。これは角質層であってよい。
【0014】
個人用皮膚トリートメント装置の一実施例を示す概略図である図1を参照する。装置100は、対象皮膚上をスライド移動するべく構成されたアプリケータ又はデバイス104と、コントローラ、電力供給モジュール、及びキャパシタ(図示せず)のような電荷蓄積メカニズムを含むベース108と、アプリケータ104及びベース108間を接続する供給コード112とを含む。電力供給は整流器を有するか又は有しない変圧器を含む。装置100は、標準の給電ネットワークコンセントから又は充電可能若しくは従来バッテリから電力供給を受ける。アプリケータ又はデバイス104は、本体(透明なエンベロープを有するものとして図示)を保持容易に設計される。当該本体は、インフラ構造116と、軸流ファン又はブロワ120のような冷却手段と、装置100の動作を制御する制御回路124と、インフラ構造116に取り付けられるか又は共通フレーム上に組み付けられた脱毛メカニズム128とを含む。脱毛メカニズム又はヘッド128は、シェーバーのヘッド、むしり取り又は毛抜き脱毛器のようなヘッド、又はかみそりの1つであってよい。ヘッド128は取り外し可能ヘッドである。安全上の理由により、ヘッド128の電気的接触は、適切な位置にインサートされたときにのみ脱毛メカニズムへの電源が入るように構成される。一追加実施例では、脱毛メカニズムはスキンリジュベネーションヘッド(図8)によって置換されてもよい。
【0015】
装置の動作状態及び/又は皮膚トリートメント工程パラメータをユーザに通知又は表示するLEDのような少なくとも1つの可視状態インジケータ132がデバイス104に取り付けられる。皮膚トリートメント工程パラメータの状態のシグナルをユーザに送るブザーのような、少なくとも1つのオプションとなる可聴動作状態インジケータ136がデバイス104に取り付けられるか又はベース108に配置される。
【0016】
図2は、個人用皮膚トリートメントのためのアプリケータ又はデバイスのインフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。インフラ構造116に設けられるのは、光放射付与モジュール200と、図5A−5Cに示される皮膚全域でデバイス104を連続移動させるメカニズム又は構成と、移動速度モニタリングメカニズム(図5A)と、インフラ構造フレーム116(図1)に設けられて当該放射付与モジュール200(図2)によりアクティベートされる安全スイッチ(図3)である。脱毛メカニズム128は、トリートメントを受ける又は標的の皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成され、インフラ構造フレーム116に取り付けられる。オプションとして、一対の電極220がインフラ構造フレーム116に取り付けられる。
【0017】
図3は、脱毛メカニズム128(図1)なしで示される、インフラ構造フレーム116アセンブリの一実施例を示す概略図である。図示されるのは、インフラ構造フレーム116に取り付けられた安全スイッチ300と、図5Aに示されるデバイス104の移動方向のセンサ528である。放射付与モジュール200(図2)をフレーム116の当該位置に挿入することで安全スイッチ300がアクティベートされる。これにより、モジュール200の無駄な又は誤った動作を回避することができる。例えば、アプリケータ104の電極において高電圧が存在かつ「活きている」こととはならない。このため、使い捨て可能カートリッジが取り外される場合に誰も高電圧の危険にさらされることがない。
【0018】
本開示のいくつかの実施例によれば、RFIDデバイスが制御回路124(図1)に接続される。RFIDデバイスには、放射付与モジュール200を交換する必要が生じる前に放出されるべき最大数のパルスがプリロードされ、放出されたパルスごとにカウントを減少させる必要がある。代替的にRFIDデバイスには、放射付与モジュール200(図2)を交換する必要が生じる前に一のトリートメントで皮膚に適用される全エネルギーがプリロードされる。RFIDデバイスは、追加安全対策としても機能する。RFIDが識別できない場合、すなわち放射付与モジュール200が正確に設置されていない場合、制御回路124は放射付与モジュール200にパルスを放出させないようにする。
【0019】
一追加実施例では、米国CA 94086、SunnyvaleのMaxim/Dallas Semiconductors社から商業的に入手可能なDS2431のような1024ビットの1−Wire(登録商標)EEPROMである。カウンタとして動作する1−Wire EEPROMは、とりわけ放射付与モジュール200を制御する制御プリント回路124上に組み付けることができる。RFIDと同様に、カウンタに所望の情報をプリロードしてもよい。同じ1−Wire EEPROMが、放射付与モジュール200の信頼性識別を目的として機能できる。
【0020】
図4は、光放射付与モジュールのリフレクタの一実施例及びその冷却方法を示す概略図である。モジュール200は、光放射源400と、リフレクタ404と、誘電体被覆保護ウィンドウ408とを含む使い捨て可能カートリッジとして実装される。リフレクタ404は、放出された光放射をトリートメントを受ける皮膚セグメントに反射するべく構成される。ウィンドウ408はアパチャを画定する。当該アパチャを通って、光放射が皮膚に放出される。破線で示される光放射源400は、例えば独国65199Wiesbaden、Wenzel−Jaksch通り31番のPerkinElmer Optoelectronics社から商業的に入手可能なAGAC4627高出力密度キセノンフラッシュランプのような白熱ランプ、又は、LED、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、キセノンIPL(Intense Pulsed Light)ランプの群の任意の1つであってよい。
【0021】
リフレクタ404は平坦な切子面及び多角形断面を有するプリズムケース又はプリズム体である。または、2乗以上のオプション曲率を有する管状ケース又は管状体である。光放射がウィンドウ408のアパチャ全域に均一に集中かつ分布することができる単純な円筒断面、放物断面、又は他の任意断面であってよい。当該光放射はウィンドウ408のアパチャを通って皮膚に放出される。ウィンドウ408の誘電体被覆は、光放射スペクトルの関連セクションをトリートメントを受ける皮膚セグメントに透過させ、かつ、他セクションを反射するように選択される。リフレクタ404は、当該リフレクタの内側で空気が通ることを許容する複数の開口412を有する。開口412は、リフレクタ404の頂部付近に配置される。リフレクタ404の開放長手方向部位の近傍に配置又は当該部位に取り付けられた誘電体被覆保護ウィンドウ408は、当該リフレクタ404とともに空気導通チャネル420を形成する。空気導通チャネル420は一側がリフレクタ404と及び他側がウィンドウ408と境界をなす。軸流ファン120(図1)のような冷却要素により生成された冷却空気424の流れの一部が開口412を通ってチャネル420に入る。これは破線で示される光放射源400に沿って空気導通チャネル420内に向けられ、当該光放射源400を冷却する。リフレクタ404の突合わせ端開口428が、空気導通チャネルをその両端で終端させ、冷却空気排気口として機能する。突合わせ開口又は排気口428の面積は、リフレクタ404内部及び空気導通チャネル420に空気が通ることを可能とする開口412の面積と少なくとも等しいか又は大きい。冷却空気流424の他の部分は、リフレクタ404の外部セクションまわりを流れ、リフレクタ404の当該外側セクションを冷却する。
【0022】
図10に概略的に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、冷却手段はロータリーブロワ1000を含む。ブロワ1000は、矢印1010に示される空気を光放射付与モジュール200(図2)の一側内に吹き込む。当該空気は、光放射源400及びリフレクタ404(図4)に平行に(沿って)流れ、矢印1020に示されるように光放射付与モジュール200の反対側から出現する。
【0023】
またも図10に概略的に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、第2ガラスウィンドウ1030がウィンドウ408に平行に設置される。ブロワ1000が吹き込む矢印1040が付けられた冷却空気の一部は、2つのウィンドウ408及び1030の間を流れる。図11に示されるように、傾斜ランプ電極1100が光放射源400の空気取り入れ側に設置され、当該ウィンドウに向かう空気流を促進する。矢印1130は、リフレクタ404の内側及び外側並びにウィンドウ408及び1030の間を流れる冷却空気流を概略的に示す。リフレクタ404はプリズム構造として図11に示される。
【0024】
本開示のいくつかの実施例によれば、図1に示されるファン120は、2つのガラスウィンドウの間の空気を冷却するべく使用されてもよい。ウィンドウ408に平行な3以上のウィンドウがこれらの間に冷却空気流を有することで良好な熱絶縁が得られ、デバイスの皮膚と接触する部分の温度がほとんど変化しないことは実験的に証明されている。
【0025】
本開示のいくつかの実施例によれば、サーミスタのような熱センサ1050、又は他の任意タイプの温度測定手段が、当該冷却手段が機能障害の場合に過熱することへの安全対策として、冷却空気の流入端又は流出端のいずれかに設置される。
【0026】
ウィンドウ408及び1030は、パイレックス(登録商標)、サファイア、石英、又は特殊加工ホウケイ酸ガラスから作られる。ウィンドウ1030又は双方のウィンドウは誘電体被覆でコーティングされる。当該誘電体被覆は、光放射源400から放出されるUV及び所定のIR波長のような望ましくない波長を反射するフィルタとして機能する。
【0027】
またも図11に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、2つのリフレクタ(1110、1120)が2つのウィンドウ(1030、408)間のその両側面上に設けられる。これにより、トリートメント面積の外側への光の散乱が防止される。
【0028】
光放射付与モジュール200のアーキテクチャ及びこれを冷却する方法により、コンパクトかつ効率的な光放射源を製造することが可能となり、皮膚トリートメントに対して十分な出力が与えられる。モジュール200は、パルス又は連続動作モードで動作する。光放射又は光パルスの繰り返し周期が低いと、アプリケータ位置を常に視覚的に追跡するユーザにとって気に障ることがわかっている。ユーザの感覚を和らげるべく光放射源は、高出力トリートメントパルス間に介在配列されたいくつかの低出力光パルスを放出する。これにより、光パルスの繰り返し周期が増大し、繰り返し周期が低い光パルスの、気に障る効果及び目にかく乱を与える効果が軽減される。
【0029】
図5Aは、デバイス移動メカニズムの一実施例を示す概略図である。これは、デバイス104を皮膚全域で連続移動させる例示的なメカニズムの底面図である。本メカニズムは、適切なサイズ及び出力のDCモータ500を含む。DCモータ500は、一以上のギア504によって一以上の駆動ホイール508又は一のキャタピラタイプトラック(caterpillar type track)にカップリングされる。ユーザはデバイス104を皮膚512(図5B)に付着させ、当該デバイスが皮膚から落下しないような最小限の力を適用する。デバイス104は必要に応じて、追加の補助ホイール516を任意の適切量有してよい。DCモータ500の動作によりデバイス104は、皮膚512全域を可変速度で移動することができる。直径が既知のホイール又はローラ528が皮膚と接触する。当該デバイスの移動に応じてローラ528が回転する。ローラ528の回転速度を測定することにより、当業者に周知の方法でデバイス移動速度を決定することができる。代替的に、複数のホイール508又は516の1つの直径が既知であってよい。
【0030】
図5Bに示されるデバイス移動メカニズムの他実施例では、キャタピラタイプトラックとして実装された蠕動圧電セラミックモータ516が、矢印540で示されるようにデバイス104を皮膚512全域で移動させる。図5Cに示されるデバイス移動メカニズムのさらなる追加実施例では、圧電セラミックモータ524又は他のタイプのモータにより駆動されるベルト520が、矢印544で示されるようにデバイス104を皮膚512全域で移動させる。
【0031】
上述のデバイス移動メカニズムにより、異なる皮膚トリートメント条件に適合させるべくデバイス104を可変速度で移動させることができる。しかしながら、このためにはデバイス移動速度を検出又はモニタリングして修正する能力が必要となる。図6は、デバイス移動速度及び移動方向の検出構成の一実施例を示す概略図である。デバイス104(図1及び5)移動速度モニタリング構成600では、直径が既知の回転ホイール602又はローラが皮膚512と永久接触する。ホイール602は、ホイール602の周囲に張力をかけられたOリング604を有する。移動速度モニタリング構成600は、開口606を有するホイール602−I(図6B)として実装される。ホイール602−Iは、LED608と検出器612との間に配置されて、当該間を開口が通過するときにパルスが発生するように構成される。代替的に、ホイールは例えば、制御回路124と通信するタコメータのような速度測定デバイスに接続されてよい。速度読み取りに応じて制御回路124(図1)は、デバイス104の移動速度を変化させる。一代替実施例では、光学マウスと同様の構成がデバイス104移動速度をモニタリングする。
【0032】
デバイス移動速度及び進行方向の連続検出が、トリートメント状態をユーザに知らせる可視又は可聴信号と組み合わせられて、ユーザは、アプリケータ位置を視覚的に常に追跡するという煩わしい作業から開放される。それでもなおユーザは、アプリケータ移動速度が、少なくとも放射源パルス繰り返し周期に対応する所望のアプリケータ速度に従っていることを確認する必要がある。当該放射源パルス繰り返し周期は、光放射出力及びアパチャの活性サイズを確立する。可視信号インジケータ及び可聴信号インジケータがユーザに、皮膚トリートメント状態に関する決定のために必要な情報を与える。ユーザは、以前にトリートメントを受けた単数又は複数のストリップ(strip)の位置を記憶しなくてよい。
【0033】
方向移動センサは、非対称開口614を有するホイール528(図5)、検出器612、及びLED608である。検出器612及びLED608は、その間を開口が通過するときにパルスが発生するように構成される。代替的に、ホイール508又は516の1つが非対称開口を有してよい。移動方向に応じて、開口612によるLED放射の変調によって生じるパルスが、異なる立ち上がり時間を有する。これにより移動方向が示される。皮膚セグメントのトリートメントが完了するとオペレータは、アプリケータの移動方向を変える。
【0034】
図7は、個人用脱毛デバイスの電極の一実施例を示す概略図である。皮膚トリートメントデバイス104は、オプションとして取り外し可能な一対の電極220(図2)をオプションとして含む。電極220は、RFエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成される。RF電極220は、保護ウィンドウ又はアパチャ408(図4)の少なくとも一側に沿って構成された細長い本体を有する。RF電極220は、インフラ構造フレーム116に対してばね700上にて浮遊される。代替的に電極220は、光放射付与モジュール200のハウジングの外部側面に取り付けられた中実の金属ストリップ710を含んでよい。モジュール200の、プラスチックであってよい表面に適切に堆積された金属被覆もまた電極200として機能できる。皮膚トリートメント中、RF電極220は、皮膚と堅固に接触して当該皮膚の表面形態に正確に追従する。RF電極220又は710は、むき出しの金属表面を有して皮膚との導電カップリングをなしてよい。または、誘電体被覆電極であって皮膚との容量カップリングをなしてよい。
【0035】
図8は、本装置とともに使用される例示的な、使い捨て可能かつ交換可能なスキンリジュベネーションデバイスを示す概略図である。デバイス800は、脱毛メカニズム128の代わりに設けられる。デバイス800は、円筒又は他の3次元形状のキャリア802である。キャリア802の表面にあるのは、ドーム形状の導電要素804である。導電要素804は、ドーム804がキャリア802の外部表面から突出するように構成される。キャリア802は、カーカス(carcass)上に可撓性基板を引き伸ばすことによって製造される。これは、中実円筒又はかご形構造であってよい。キャリア802の側部816は、接触ストリップ820を支承する。接触ストリップ820を通ってRF電圧がドーム804に供給され得る。かかるキャリア構成により、当該キャリアを比較的大きな皮膚セグメント上に適用かつ並進移動させることができる。本開示の文脈において、「大きな皮膚セグメント」とは、キャリア表面又は接触電極キャリア表面の周囲の寸法を超える皮膚セグメントの寸法を意味する。キャリア802は回転対称であって、皮膚上で転がすことにより、最初にトリートメントを受けた皮膚セグメントの合理的な熱緩和時間を得て、隣接する皮膚セグメントにトリートメントを与えるべく容易に再配置することができる。また、以前にトリートメントを受けた同じ皮膚セグメントに戻ることができる。キャリアの再配置は、トリートメントがされなかった皮膚セグメント又は皮膚パッチを残すことがない。そして、残留するパッチワークタイプの皮膚パターンをなくす。かかるタイプの皮膚トリートメントは実際には、連続皮膚表面トリートメント工程のことである。キャリア802は、再使用可能又は使い捨て可能な部品であってよい。
【0036】
図9は、本デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の一実施例を示す概略図である。皮膚トリートメントに対し、トリートメントを受ける皮膚セグメント900にデバイス104が適用される。RF電極220(図2)と皮膚との間には堅固な又は少なくともほとんど堅固な接触が可能となる。光放射付与モジュール200がアクティベートされると、皮膚全域でデバイスを連続移動させるメカニズムがデバイスを所望方向に、例えばトリートメントを受ける皮膚セグメントに沿って、移動させる。一実施例では、トリートメントを受ける皮膚セグメントを一定の光放射出力により照射するべく、光放射がアパチャ408を通して向けられる。光放射は、連続又はパルスモードで供給される。移動速度モニタリング構成600(図6)が適切な移動速度を設定する。移動速度と光放射出力との依存性は、ルックアップテーブル(LUT)として用意されて制御回路124にロードされる。トリートメントが進行してデバイス104が皮膚全域を進行すると、デバイス104はトリートメントを受ける皮膚セグメントの境界に到達する。トリートメント又はシェービングを受けた皮膚セグメントの終端にデバイス104が到達すると、ユーザは、トリートメントを受ける次の皮膚セグメント上に又はトリートメントを受けていない皮膚セグメント上にデバイス104を手動で再配置して、同じ又は反対の方向に移動させるべく設定する。同じ皮膚セグメントにトリートメントを2回与えることにより皮膚火傷を生じさせるという危険性が低減される。デバイス104による連続した皮膚セグメント間で皮膚冷却のための時間が存在するからである。光放射は毛嚢を加熱することにより、トリートメントを受けた皮膚セグメント上の将来の発毛を遅らせる。同じ皮膚セグメントに適用されるRFエネルギーは、毛球及び毛嚢が存在する深い皮膚層を加熱する。RFエネルギーによって発生した熱がこれらを破壊して、光放射によって行われた脱毛工程が増強される。
【0037】
本デバイス及び本装置を使用する皮膚トリートメント方法の一追加実施例において、ユーザは、脱毛すべき皮膚セグメントに皮膚トリートメントデバイス104を適用する。機械的手段、例えばシェービング又はむしり取りによって皮膚セグメントが脱毛される。機械的脱毛に引き続き、適切な出力及び波長の光放射が、トリートメントを受けたのと同じ皮膚セグメントに適用される。オプションとして、RFエネルギーが同じ皮膚セグメントに適用されてもよい。光放射及びRFエネルギーの適用により発毛がさらに遅らされ、トリートメントを受けた皮膚セグメントから機械的脱毛後に残っていた残毛が除去される。最初に開示した方法と同様に、皮膚セグメントにトリートメントを与えるデバイス自身が、トリートメントを受けた皮膚セグメントから、トリートメントを受けていない他の皮膚セグメントへ自動的に移動する。
【0038】
複数の実施例が記載された。それにもかかわらず、本方法の要旨及び範囲を逸脱することなく様々な変形例が可能である。したがって、他実施例も以下の特許請求の範囲の範囲内にある。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
・前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させるメカニズムと
を含む皮膚トリートメントデバイス。
【請求項2】
標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムをさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項3】
前記脱毛メカニズムは、シェーバー、脱毛器、及びかみそりの少なくとも1つである、請求項2に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項4】
前記光放射付与モジュールは、
・光放射源と、
・放出された光放射を皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタと、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と、
・少なくとも1つの誘電体被覆保護ウィンドウと
を含む使い捨て可能カートリッジである、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項5】
前記冷却手段は、ファン及びブロワの1つである、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項6】
前記リフレクタは、前記リフレクタの頂部まわりに開口が配置されるべく構成された管状ケース又はプリズムケースであり、前記光放射源に対して垂直方向に空気が通ることを可能とし、前記空気の排気口は前記リフレクタの開いた突合わせ端に配置される、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項7】
前記冷却手段は、前記光放射源に沿った空気流を形成する動作が可能に構成される、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項8】
前記光放射源は、白熱ランプ、LED、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、キセノンIPLランプの1つである、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項9】
前記光放射付与モジュールは使い捨て可能モジュールである、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項10】
前記誘電体被覆保護ウィンドウはフィルタとして機能して、皮膚に向けられた前記放射のスペクトルと、前記放射が皮膚に放射されるときに通るアパチャとを画定する、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項11】
前記誘電体被覆保護ウィンドウと平行に設けられた少なくとも1つの追加ウィンドウをさらに含む、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項12】
前記冷却手段は、2つの前記ウィンドウ間に空気流を形成するべく構成される、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項13】
前記光放射源の空気取り入れ側に設けられた傾斜ランプ電極をさらに含み、
前記傾斜ランプ電極は、2つの前記ウィンドウ間に空気流を誘発させる動作が可能である、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項14】
少なくとも1つのウィンドウは、前記光放射源から放出された望ましくない波長を反射するべく構成された誘電体被覆によってコーティングされる、請求項11に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項15】
2つの前記ウィンドウ間においてその両側面に設けられた2つのリフレクタをさらに含み、
前記リフレクタは光の散乱を防止するべく構成される、請求項11に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項16】
RFエネルギーを皮膚セグメントへ適用する動作が可能に構成された1対の電極をさらに含む、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項17】
前記1対の電極は、金属ストリップ又は金属被覆非導電材料の1つであり、前記RF電極は、前記保護ウィンドウの少なくとも1側面に沿って配置される細長い本体を有する、請求項16に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項18】
前記RF電極は、未被覆又は誘電体被覆の電極の少なくとも1つである、請求項17に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項19】
インフラ構造フレームをさらに含み、
前記インフラ構造フレームは、
・前記放射付与モジュールと、
・前記インフラ構造フレームに取り付けられた皮膚全域のデバイス移動速度モニタリング構成と移動方向センサと、
・前記インフラ構造フレームに設けられて前記放射付与モジュールの挿入によりアクティベートされる安全スイッチと
を含む、請求項1又は2に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項20】
少なくとも1つの可視状態インジケータ及び少なくとも1つの可聴状態インジケータをさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項21】
前記RF電極は、前記インフラ構造フレームに対して浮遊される、請求項19に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項22】
前記RF電極は、未被覆又は誘電体被覆の電極の少なくとも1つである、請求項16に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項23】
前記RF電極は、皮膚と永久接触して皮膚表面形態に追従する、請求項19に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項24】
前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させる前記メカニズムは、ギアを有するDCモータ、蠕動圧電セラミックモータ、又は圧電セラミックモータ駆動キャタピラの少なくとも1つである、請求項19に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項25】
前記放射付与モジュールはパルス又は連続動作モードで動作し、
前記放射付与モジュールは、パルスモードで動作する場合に低出力パルスが介在配列された高出力パルスを放射する、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項26】
前記光放射付与モジュールから放出されたパルスの数を計数するべく構成された、RFID又はEEPROMの少なくとも1つであるデバイスをさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項27】
冷却空気温度測定手段をさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項28】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
・デバイス移動速度モニタリング構成と
を含み、
光放射出力及び光放射パルス繰り返し周期によってデバイス移動速度が確立される、皮膚トリートメントデバイス。
【請求項29】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
・前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させるメカニズムと、デバイス移動速度モニタリング構成と、
・スキンリジュベネーションヘッドと
を含み、
光パルス繰り返し周期によって、光放射出力がデバイス移動速度の関数として確立される、皮膚トリートメントデバイス。
【請求項30】
前記スキンリジュベネーションヘッドは突出したドーム形状接触部を有する回転ローラである、請求項29に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項31】
皮膚トリートメントの方法であって、
・デバイスであって、少なくとも1対のRF電極と、光放射付与モジュールと、前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させる動作が可能に構成されたメカニズムと、移動速度モニタリング構成と、移動方向センサとを含むデバイスを皮膚セグメントに適用することと、
・皮膚セグメントを照射するべく前記光放射付与モジュールを動作させることと、
・前記デバイスの移動速度をモニタリングして前記デバイスを制御するユーザへ速度フィードバックを与えることと
を含み、
前記デバイスは、前記速度フィードバックに基づいて、前記デバイスを移動させる動作が可能に構成された前記メカニズムを動作させ、
前記メカニズムは、少なくとも前記光放射の出力の関数として自動的に前記デバイスを皮膚全域で移動させる方法。
【請求項32】
前記デバイスの移動は、トリートメントを受ける皮膚セグメントに沿う、請求項31に記載の方法。
【請求項33】
前記デバイスは、トリートメントを受ける皮膚セグメントの境界に到達すると、次の皮膚セグメントにトリートメントを与えるべく前記ユーザによって移動される、請求項31に記載の方法。
【請求項34】
前記RF電極と皮膚との接触を可能にしてRFエネルギーを当該皮膚にカップリングすることをさらに含む、請求項31に記載の方法。
【請求項35】
移動方向センサによって前記デバイスの移動方向を検出することと、
前記デバイスを適切な方向に移動させるべく前記メカニズムを設定することと
をさらに含む、請求項31に記載の方法。
【請求項36】
前記皮膚セグメントから脱毛することをさらに含み、
前記脱毛は皮膚トリートメントの前に行われる、請求項31に記載の方法。
【請求項37】
前記光放射付与モジュールは、連続又はパルスモードで皮膚を照射し、
前記放射付与モジュールはパルスモードにおいて、低出力パルスが介在配列された高出力パルスにより皮膚を照射するべく動作する、請求項31に記載の方法。
【請求項38】
安全な皮膚トリートメント方法であって、
・脱毛するべき皮膚セグメントに皮膚トリートメントデバイスを適用することと、
・機械的手段によって前記皮膚セグメントから脱毛することと、
・適切な出力及び波長の光放射並びにオプションとしてのRFエネルギーを前記皮膚セグメントに適用することと、
・機械的脱毛後に残っていた残毛を前記皮膚セグメントから除去することと
を含み、
前記皮膚セグメントにトリートメントを与える前記デバイス自身が、トリートメントを受けた皮膚セグメントから、トリートメントを受けていない他の皮膚セグメントへ自動的に移動する皮膚トリートメント方法。
【請求項39】
前記皮膚セグメントから機械的に脱毛する手段は、シェーバー又は脱毛器の少なくとも1つである、請求項38に記載の皮膚トリートメント方法。
【請求項40】
適切な出力及び波長の光放射が、機械的脱毛後に残っていた残毛を除去する、請求項38に記載の皮膚トリートメント方法。
【請求項41】
放射付与モジュールを冷却する冷却構成であって、
・放射源と、
・細長いリフレクタであって、前記リフレクタの内側を空気が通るようにする空気通路開口を有するリフレクタと、
・前記リフレクタの突合わせ端に配置された空気排気口と
を含み、
前記開口は、前記リフレクタの頂部まわりであって前記リフレクタの長手軸に沿って配置される冷却構成。
【請求項42】
前記空気排気口の面積は、前記リフレクタの長手軸に沿って配置された空気通路開口の面積以上である、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項43】
前記細長いリフレクタの開口部位の近傍において誘電体被覆保護ウィンドウをさらに有する、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項44】
前記細長いリフレクタ及び前記誘電体被覆ウィンドウは空気導通チャネルを形成する、請求項43に記載の冷却構成。
【請求項45】
前記細長いリフレクタは、曲線又は多角形断面を有する、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項46】
空気が、長手方向の空気通路開口を通って前記空気導通チャネル内を流れ、前記チャネルに沿って流れて前記空気排気口に排気される、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項47】
光放射付与モジュールの冷却方法であって、
・光放射付与モジュールのリフレクタに冷却空気流を向けることと、
・前記冷却空気流を当該空気の一部が前記リフレクタの外部を冷却し、当該空気の一部が空気通路開口を通って前記リフレクタの内側に入るように分割することと、
・前記空気流を前記放射源に沿って前記リフレクタの内側に向けることにより前記放射源を冷却することと、前記リフレクタの突合わせ端を通って前記空気を排気することと
を含む冷却方法。
【請求項48】
前記リフレクタにガラスウィンドウを取り付けることにより空気導通チャネルを形成することをさらに含む、請求項47に記載の冷却方法。
【請求項49】
前記空気流と前記放射源及びガラスウィンドウとの相互作用により前記空気流が前記放射源に沿って前記リフレクタの内側に向けられる、請求項48に記載の冷却方法。
【請求項50】
前記空気排気口の表面は、前記リフレクタ内の長手方向空気通路開口の表面以上の大きさである、請求項48に記載の冷却方法。
【請求項51】
個人用スキンリジュベネーションデバイスであって、
・ユーザの気に障ることのない周波数で低出力パルスが介在配列された高出力パルスを与える光放射源を含むスキンリジュベネーションヘッドと、
・トリートメントを受けた皮膚セグメントにRFエネルギーを適用する動作が可能に構成された少なくとも1対のRF電極と、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却構成と、前記冷却を行う空気の温度を検出する動作が可能に構成された温度センサと
を含むスキンリジュベネーションデバイス。
【請求項52】
前記デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムをさらに含む、請求項51に記載のスキンリジュベネーションデバイス。
【請求項53】
個人用スキンリジュベネーションデバイスであって、
・ユーザの気に障ることのない周波数で低出力パルスが介在配列された高出力パルスを与える光放射源を含むスキンリジュベネーションヘッドと、
・少なくとも前記高出力を計数するカウンタと、
・デバイス移動速度モニタリング構成と
を含むスキンリジュベネーションデバイス。
【請求項54】
放射付与モジュールを冷却する美容皮膚トリートメント冷却構成の使い捨て可能カートリッジであって、
前記構成は、
・放射源と、
・曲線又は多角形断面を有する細長い管状リフレクタ又はプリズムリフレクタであって、前記リフレクタの頂部まわりに、かつ、前記リフレクタの長手軸に沿って配置されて、空気が前記リフレクタの内側を通ることを許容する空気通路開口を有するプリズムリフレクタと、
・前記リフレクタの突合わせ端に配置された空気排気口と、
・前記リフレクタの開口部位の近傍にある誘電体被覆保護ウィンドウと、
・トリートメントを受けた皮膚セグメントにRFエネルギーを与える動作が可能に構成された1対の電極と
を含む使い捨て可能カートリッジ。
【請求項55】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射源と、
・RFエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成された1対の電極と、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と、
・標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムと
を含む皮膚トリートメントデバイス。
【請求項56】
前記脱毛メカニズムは、シェーバー、脱毛器、及びかみそりの少なくとも1つである、請求項55に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項57】
前記デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムをさらに含む、請求項55に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項58】
前記光放射源は、
・放出された光放射を皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタと、
・少なくとも1つの誘電体被覆保護ウィンドウと
を含む使い捨て可能カートリッジである、請求項55に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項59】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・ランプ、放出された光放射を皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタ、及び少なくとも1つの誘電体被覆保護ウィンドウを含む光放射源と、
・RFエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成された1対の電極と、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と
を含む皮膚トリートメントデバイス。
【請求項60】
標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムをさらに含む、請求項59に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項61】
前記デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムをさらに含む、請求項59に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項62】
標的皮膚セグメント全域における前記デバイスの移動速度を連続的にモニタリングするメカニズムをさらに含む、請求項59に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項1】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
・前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させるメカニズムと
を含む皮膚トリートメントデバイス。
【請求項2】
標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムをさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項3】
前記脱毛メカニズムは、シェーバー、脱毛器、及びかみそりの少なくとも1つである、請求項2に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項4】
前記光放射付与モジュールは、
・光放射源と、
・放出された光放射を皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタと、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と、
・少なくとも1つの誘電体被覆保護ウィンドウと
を含む使い捨て可能カートリッジである、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項5】
前記冷却手段は、ファン及びブロワの1つである、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項6】
前記リフレクタは、前記リフレクタの頂部まわりに開口が配置されるべく構成された管状ケース又はプリズムケースであり、前記光放射源に対して垂直方向に空気が通ることを可能とし、前記空気の排気口は前記リフレクタの開いた突合わせ端に配置される、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項7】
前記冷却手段は、前記光放射源に沿った空気流を形成する動作が可能に構成される、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項8】
前記光放射源は、白熱ランプ、LED、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、キセノンIPLランプの1つである、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項9】
前記光放射付与モジュールは使い捨て可能モジュールである、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項10】
前記誘電体被覆保護ウィンドウはフィルタとして機能して、皮膚に向けられた前記放射のスペクトルと、前記放射が皮膚に放射されるときに通るアパチャとを画定する、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項11】
前記誘電体被覆保護ウィンドウと平行に設けられた少なくとも1つの追加ウィンドウをさらに含む、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項12】
前記冷却手段は、2つの前記ウィンドウ間に空気流を形成するべく構成される、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項13】
前記光放射源の空気取り入れ側に設けられた傾斜ランプ電極をさらに含み、
前記傾斜ランプ電極は、2つの前記ウィンドウ間に空気流を誘発させる動作が可能である、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項14】
少なくとも1つのウィンドウは、前記光放射源から放出された望ましくない波長を反射するべく構成された誘電体被覆によってコーティングされる、請求項11に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項15】
2つの前記ウィンドウ間においてその両側面に設けられた2つのリフレクタをさらに含み、
前記リフレクタは光の散乱を防止するべく構成される、請求項11に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項16】
RFエネルギーを皮膚セグメントへ適用する動作が可能に構成された1対の電極をさらに含む、請求項4に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項17】
前記1対の電極は、金属ストリップ又は金属被覆非導電材料の1つであり、前記RF電極は、前記保護ウィンドウの少なくとも1側面に沿って配置される細長い本体を有する、請求項16に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項18】
前記RF電極は、未被覆又は誘電体被覆の電極の少なくとも1つである、請求項17に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項19】
インフラ構造フレームをさらに含み、
前記インフラ構造フレームは、
・前記放射付与モジュールと、
・前記インフラ構造フレームに取り付けられた皮膚全域のデバイス移動速度モニタリング構成と移動方向センサと、
・前記インフラ構造フレームに設けられて前記放射付与モジュールの挿入によりアクティベートされる安全スイッチと
を含む、請求項1又は2に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項20】
少なくとも1つの可視状態インジケータ及び少なくとも1つの可聴状態インジケータをさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項21】
前記RF電極は、前記インフラ構造フレームに対して浮遊される、請求項19に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項22】
前記RF電極は、未被覆又は誘電体被覆の電極の少なくとも1つである、請求項16に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項23】
前記RF電極は、皮膚と永久接触して皮膚表面形態に追従する、請求項19に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項24】
前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させる前記メカニズムは、ギアを有するDCモータ、蠕動圧電セラミックモータ、又は圧電セラミックモータ駆動キャタピラの少なくとも1つである、請求項19に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項25】
前記放射付与モジュールはパルス又は連続動作モードで動作し、
前記放射付与モジュールは、パルスモードで動作する場合に低出力パルスが介在配列された高出力パルスを放射する、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項26】
前記光放射付与モジュールから放出されたパルスの数を計数するべく構成された、RFID又はEEPROMの少なくとも1つであるデバイスをさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項27】
冷却空気温度測定手段をさらに含む、請求項1に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項28】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
・デバイス移動速度モニタリング構成と
を含み、
光放射出力及び光放射パルス繰り返し周期によってデバイス移動速度が確立される、皮膚トリートメントデバイス。
【請求項29】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
・前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させるメカニズムと、デバイス移動速度モニタリング構成と、
・スキンリジュベネーションヘッドと
を含み、
光パルス繰り返し周期によって、光放射出力がデバイス移動速度の関数として確立される、皮膚トリートメントデバイス。
【請求項30】
前記スキンリジュベネーションヘッドは突出したドーム形状接触部を有する回転ローラである、請求項29に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項31】
皮膚トリートメントの方法であって、
・デバイスであって、少なくとも1対のRF電極と、光放射付与モジュールと、前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させる動作が可能に構成されたメカニズムと、移動速度モニタリング構成と、移動方向センサとを含むデバイスを皮膚セグメントに適用することと、
・皮膚セグメントを照射するべく前記光放射付与モジュールを動作させることと、
・前記デバイスの移動速度をモニタリングして前記デバイスを制御するユーザへ速度フィードバックを与えることと
を含み、
前記デバイスは、前記速度フィードバックに基づいて、前記デバイスを移動させる動作が可能に構成された前記メカニズムを動作させ、
前記メカニズムは、少なくとも前記光放射の出力の関数として自動的に前記デバイスを皮膚全域で移動させる方法。
【請求項32】
前記デバイスの移動は、トリートメントを受ける皮膚セグメントに沿う、請求項31に記載の方法。
【請求項33】
前記デバイスは、トリートメントを受ける皮膚セグメントの境界に到達すると、次の皮膚セグメントにトリートメントを与えるべく前記ユーザによって移動される、請求項31に記載の方法。
【請求項34】
前記RF電極と皮膚との接触を可能にしてRFエネルギーを当該皮膚にカップリングすることをさらに含む、請求項31に記載の方法。
【請求項35】
移動方向センサによって前記デバイスの移動方向を検出することと、
前記デバイスを適切な方向に移動させるべく前記メカニズムを設定することと
をさらに含む、請求項31に記載の方法。
【請求項36】
前記皮膚セグメントから脱毛することをさらに含み、
前記脱毛は皮膚トリートメントの前に行われる、請求項31に記載の方法。
【請求項37】
前記光放射付与モジュールは、連続又はパルスモードで皮膚を照射し、
前記放射付与モジュールはパルスモードにおいて、低出力パルスが介在配列された高出力パルスにより皮膚を照射するべく動作する、請求項31に記載の方法。
【請求項38】
安全な皮膚トリートメント方法であって、
・脱毛するべき皮膚セグメントに皮膚トリートメントデバイスを適用することと、
・機械的手段によって前記皮膚セグメントから脱毛することと、
・適切な出力及び波長の光放射並びにオプションとしてのRFエネルギーを前記皮膚セグメントに適用することと、
・機械的脱毛後に残っていた残毛を前記皮膚セグメントから除去することと
を含み、
前記皮膚セグメントにトリートメントを与える前記デバイス自身が、トリートメントを受けた皮膚セグメントから、トリートメントを受けていない他の皮膚セグメントへ自動的に移動する皮膚トリートメント方法。
【請求項39】
前記皮膚セグメントから機械的に脱毛する手段は、シェーバー又は脱毛器の少なくとも1つである、請求項38に記載の皮膚トリートメント方法。
【請求項40】
適切な出力及び波長の光放射が、機械的脱毛後に残っていた残毛を除去する、請求項38に記載の皮膚トリートメント方法。
【請求項41】
放射付与モジュールを冷却する冷却構成であって、
・放射源と、
・細長いリフレクタであって、前記リフレクタの内側を空気が通るようにする空気通路開口を有するリフレクタと、
・前記リフレクタの突合わせ端に配置された空気排気口と
を含み、
前記開口は、前記リフレクタの頂部まわりであって前記リフレクタの長手軸に沿って配置される冷却構成。
【請求項42】
前記空気排気口の面積は、前記リフレクタの長手軸に沿って配置された空気通路開口の面積以上である、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項43】
前記細長いリフレクタの開口部位の近傍において誘電体被覆保護ウィンドウをさらに有する、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項44】
前記細長いリフレクタ及び前記誘電体被覆ウィンドウは空気導通チャネルを形成する、請求項43に記載の冷却構成。
【請求項45】
前記細長いリフレクタは、曲線又は多角形断面を有する、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項46】
空気が、長手方向の空気通路開口を通って前記空気導通チャネル内を流れ、前記チャネルに沿って流れて前記空気排気口に排気される、請求項41に記載の冷却構成。
【請求項47】
光放射付与モジュールの冷却方法であって、
・光放射付与モジュールのリフレクタに冷却空気流を向けることと、
・前記冷却空気流を当該空気の一部が前記リフレクタの外部を冷却し、当該空気の一部が空気通路開口を通って前記リフレクタの内側に入るように分割することと、
・前記空気流を前記放射源に沿って前記リフレクタの内側に向けることにより前記放射源を冷却することと、前記リフレクタの突合わせ端を通って前記空気を排気することと
を含む冷却方法。
【請求項48】
前記リフレクタにガラスウィンドウを取り付けることにより空気導通チャネルを形成することをさらに含む、請求項47に記載の冷却方法。
【請求項49】
前記空気流と前記放射源及びガラスウィンドウとの相互作用により前記空気流が前記放射源に沿って前記リフレクタの内側に向けられる、請求項48に記載の冷却方法。
【請求項50】
前記空気排気口の表面は、前記リフレクタ内の長手方向空気通路開口の表面以上の大きさである、請求項48に記載の冷却方法。
【請求項51】
個人用スキンリジュベネーションデバイスであって、
・ユーザの気に障ることのない周波数で低出力パルスが介在配列された高出力パルスを与える光放射源を含むスキンリジュベネーションヘッドと、
・トリートメントを受けた皮膚セグメントにRFエネルギーを適用する動作が可能に構成された少なくとも1対のRF電極と、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却構成と、前記冷却を行う空気の温度を検出する動作が可能に構成された温度センサと
を含むスキンリジュベネーションデバイス。
【請求項52】
前記デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムをさらに含む、請求項51に記載のスキンリジュベネーションデバイス。
【請求項53】
個人用スキンリジュベネーションデバイスであって、
・ユーザの気に障ることのない周波数で低出力パルスが介在配列された高出力パルスを与える光放射源を含むスキンリジュベネーションヘッドと、
・少なくとも前記高出力を計数するカウンタと、
・デバイス移動速度モニタリング構成と
を含むスキンリジュベネーションデバイス。
【請求項54】
放射付与モジュールを冷却する美容皮膚トリートメント冷却構成の使い捨て可能カートリッジであって、
前記構成は、
・放射源と、
・曲線又は多角形断面を有する細長い管状リフレクタ又はプリズムリフレクタであって、前記リフレクタの頂部まわりに、かつ、前記リフレクタの長手軸に沿って配置されて、空気が前記リフレクタの内側を通ることを許容する空気通路開口を有するプリズムリフレクタと、
・前記リフレクタの突合わせ端に配置された空気排気口と、
・前記リフレクタの開口部位の近傍にある誘電体被覆保護ウィンドウと、
・トリートメントを受けた皮膚セグメントにRFエネルギーを与える動作が可能に構成された1対の電極と
を含む使い捨て可能カートリッジ。
【請求項55】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・パルス又は連続動作モードで動作する光放射源と、
・RFエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成された1対の電極と、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と、
・標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムと
を含む皮膚トリートメントデバイス。
【請求項56】
前記脱毛メカニズムは、シェーバー、脱毛器、及びかみそりの少なくとも1つである、請求項55に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項57】
前記デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムをさらに含む、請求項55に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項58】
前記光放射源は、
・放出された光放射を皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタと、
・少なくとも1つの誘電体被覆保護ウィンドウと
を含む使い捨て可能カートリッジである、請求項55に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項59】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
・ランプ、放出された光放射を皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタ、及び少なくとも1つの誘電体被覆保護ウィンドウを含む光放射源と、
・RFエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成された1対の電極と、
・前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と
を含む皮膚トリートメントデバイス。
【請求項60】
標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムをさらに含む、請求項59に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項61】
前記デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムをさらに含む、請求項59に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項62】
標的皮膚セグメント全域における前記デバイスの移動速度を連続的にモニタリングするメカニズムをさらに含む、請求項59に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公表番号】特表2012−502723(P2012−502723A)
【公表日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−527468(P2011−527468)
【出願日】平成21年8月20日(2009.8.20)
【国際出願番号】PCT/IL2009/000817
【国際公開番号】WO2010/032235
【国際公開日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【出願人】(504359488)シネロン メディカル リミテッド (25)
【Fターム(参考)】
【公表日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【国際特許分類】
【出願日】平成21年8月20日(2009.8.20)
【国際出願番号】PCT/IL2009/000817
【国際公開番号】WO2010/032235
【国際公開日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【出願人】(504359488)シネロン メディカル リミテッド (25)
【Fターム(参考)】
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