【課題】液晶表示装置の正面コントラストを低下させることなく、従来技術と比較して、視野角の拡大並びに黒表示及び白表示〜中間調表示時の表示特性の改善に寄与する偏光板を提供する。
【解決手段】偏光層１０、第１の光学異方性層１４及び第２の光学異方性層１２、及び光拡散層１８を有する偏光板であって、第１の光学異方性層１４が液晶組成物から形成された層であり、波長４５０ｎｍにおけるＲｅと波長５５０ｎｍにおけるＲｅの比Ｒｅ／Ｒｅが０．９〜１．１であり、第２の光学異方性層１２のＲｅが４０〜１２０ｎｍであり、且つ波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈが４０〜１００ｎｍであり、及び光拡散層１８の極角３０°方向の散乱光強度が０．０１〜０．２％であることを特徴とする偏光板である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＴＮモード液晶表示装置用の光学補償フィルムとして、透明支持体上に、液晶組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償フィルムが種々提案されている。この構成の光学補償フィルムでは、一般的には、液晶組成物から形成された光学異方性層にＴＮモード液晶セルの光学補償に必要なレターデーションを持たせ、液晶セルを補償して視野角を拡大している。一方、液晶組成物から形成された光学異方性層を支持するポリマーフィルム等からなる透明支持体の光学特性を所定の範囲とした光学補償シートとしては、例えば、特許文献１及び２に記載の光学補償シートが挙げられる。
また、ＴＮモード液晶表示装置の視野角をさらに拡大するために、所定の光拡散フィルムを利用する技術も提案されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１６９０２３号公報
【特許文献２】特開２００３−２１７１８号公報
【特許文献３】特開２００３−４３２１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、テレビ（ＴＶ）やＴＶ機能付きパーソナルコンピューター（ＰＣ）では、その表示画面を複数の観察者が様々な位置から観察する場合が多く、従来のＰＣの表示モニターが満足する視野角特性では、ＴＶ（又はＴＶ機能付きＰＣ用の表示モニター）では、充分ではない。また、黒表示時のみならず、白〜中間調表示時にも、広視野角特性が求められる。
さらに、広視野角化する一つの手段として、上記した通り、光拡散フィルムを利用することが挙げられるが、本発明者が種々検討した結果、上記従来のＴＮモード液晶表示装置の視野角をＴＶ用途にも充分な程度に拡大するために、光拡散フィルムを利用すると、正面コントラストが顕著に低下することがわかった。
【０００５】
本発明は、液晶表示装置の正面コントラストを低下させることなく、従来技術と比較して、視野角の拡大並びに黒表示及び白表示〜中間調表示時の表示特性の改善に寄与する偏光板を提供することを課題とする。
また、本発明は、正面のみならず、広視野角範囲において高コントラストを達成し、並びに黒表示時及び白〜中間調表示時の表示特性が良好な液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 偏光層、第１及び第２の光学異方性層、及び光拡散層を有する偏光板であって、前記第１の光学異方性層が液晶組成物から形成された層であり、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９〜１．１であり、前記第２の光学異方性層のＲｅ（５５０）が４０〜１２０ｎｍであり、且つ波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が４０〜１００ｎｍであり、及び前記光拡散層のゴニオフォトメータの散乱光プロファイルが、出射角０°（層面に対して法線方向）の光強度に対して、散乱強度が最大となる方位角において極角３０°方向の散乱光強度が０．０１〜０．２％であることを特徴とする偏光板。
［２］ 前記第１の光学異方性層が、少なくとも一種のディスコティック液晶化合物を含有する液晶組成物から形成された層であることを特徴とする［１］の偏光板。
【０００７】
［３］ 前記少なくとも一種のディスコティック液晶化合物が、下記一般式（ＤＩ）で表される液晶化合物であることを特徴とする［１］又は［２］の偏光板：
【化１】

［式中、
Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；
Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；
Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³は、それぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ａ）：
【０００８】
【化２】

（一般式（ＤＩ−Ａ）中、
ＹＡ¹及びＹＡ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す。）
又は一般式（ＤＩ−Ｂ）：
【化３】

（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、
ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す。）を表し；
Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）：
【０００９】
一般式（ＤＩ−Ｒ）
−（−Ｌ²¹−Ｑ²）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、
は一般式（ＤＩ）におけるＨ¹〜Ｈ³側と結合する位置を表し；
Ｌ²¹は単結合又は二価の連結基を表し；
Ｑ²は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基を表し；
ｎ¹は、０〜４の整数を表し、Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、ここで、＊＊はＱ²側と結合する位置を表し；
Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ¹⁰¹）−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ¹⁰¹は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、＊＊はＱ²側と結合する位置を表し；
Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及びＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；
Ｑ¹は重合性基又は水素原子を表す）
を表す。］
【００１０】
［４］ 前記第１の光学異方性層が、下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物を含有する、又は下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有することを特徴とする［１］又は［２］の偏光板：
【化４】

式中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し、ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；ｎは０〜２の整数を表し；
【化５】

式中、ＭＧ¹及びＭＧ²はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ¹及びＭＧ²を構成する環状基の１つは、Ｌ¹¹及びＬ¹²で置換され；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ¹¹及びＬ¹²はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ¹及びＭＧ²に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
【化６】

式中、＊はＭＧ¹を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ¹と連結する位置を表し；Ａ¹¹、Ａ¹³及びＡ¹⁴はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ₂−を表し；Ａ¹²は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ¹は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ¹は、＊＝ＣＨ−Ｐ¹¹−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ¹¹−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ¹¹は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ¹は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ¹¹−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ¹¹−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ¹¹−Ｎ＝を表し；Ｐ¹¹は上記Ｐ¹¹と同義である。
【００１１】
［５］ 前記第２の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの偏光板。
［６］ 前記第２の光学異方性層が、シクロオレフィン系ポリマーフィルム又はポリカーボネートフィルムであることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの偏光板。
［７］ 前記第２の光学異方性層の面内の遅相軸と前記偏光層の面内の透過軸との交差角が略０度であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの偏光板。
［８］ 少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持され、ネマチック液晶材料を含み、黒表示時に該ネマチック液晶材料の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して略垂直に配向し、厚さｄ（ミクロン）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．１〜１．５μｍである液晶層とを有する液晶セル、及び［１］〜［７］のいずれかの偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
［９］ 前記偏光板が、前記液晶セルに対して表示面側に配置される偏光板であることを特徴とする［８］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、液晶表示装置の正面コントラストを低下させることなく、従来技術と比較して、視野角の拡大並びに黒表示及び白表示〜中間調表示時の表示特性の改善に寄与する偏光板を提供することができる。
また、本発明は、正面のみならず、広視野角範囲において高コントラストを達成し、並びに黒表示時及び白〜中間調表示時の表示特性が良好な液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の偏光板の一例の断面模式図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
まず、本明細書における、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、チルト角及び平均チルト角の詳細について以下に記す。
（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向レターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、あるチルト角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、そのチルト角度より大きいチルト角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１５】
【数１】

注記：
上記式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。
【００１６】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【００１７】
（チルト角の測定）
ディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出する。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層はディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（ディスコティック液晶性化合物又は棒状液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。
【００１８】
また、本明細書において、測定波長を特に付記しない場合は、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈであるとする。また、本明細書において、光学特性等を示す数値及び数値範囲については、液晶表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値又は数値範囲であると解釈されるものとする。光学的な軸（偏光子の透過軸や光学異方性層の遅相軸等の関係（「平行」及び「直交」等）やその軸間の角度（例えば、「０度」等）についても同様である。
【００１９】
［偏光板］
本発明は、偏光層、第１及び第２の光学異方性層、及び光拡散層を有する偏光板であって、前記第１の光学異方性層が液晶組成物から形成された層であり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９〜１．１であり、前記第２の光学異方性層のＲｅ（５５０）が４０〜１２０ｎｍであり、且つＲｔｈ（５５０）が４０〜１００ｎｍであり、及び前記光拡散層のゴニオフォトメータの散乱光プロファイルが、出射角０°（層面に対して法線方向）の光強度に対して、散乱強度が最大となる方位角において極角３０°方向の散乱光強度が０．０１〜０．２％であることを特徴とする偏光板に関する。本発明では、前記光学特性を満足する第１及び第２の光学異方性層と、前記所定の特性を満足する光拡散層とを組み合わせることで、光拡散層によって液晶表示装置の正面コントラストを損なうことなく、視野角化の拡大に寄与するとともに、黒表示時のみならず、白〜中間調表示時において表示特性の改善に寄与する偏光板を提供している。
【００２０】
図１に、本発明の偏光板の一例の断面模式図を示す。図１の偏光板Ｐは、偏光層１０の一方の表面に、ポリマーフィルムからなる第２の光学異方性層１２と、液晶組成物から形成された第１の光学異方性層１４とを有するとともに、他方の表面に、偏光層１０の保護層１６と、光拡散層１８とを有する。第１及び第２の光学異方性層１４及び１２は、上記所定の光学特性を満足し、用いられる液晶表示装置の液晶セルの斜め方向に発生する複屈折を補償し、広視野角化に寄与するとともに、黒表示時の表示特性の改善に寄与する。光拡散層１８は、上記所定の特性を満足し、入射光を光拡散することによって、広視野角化に寄与するとともに、白〜中間調表示の表示特性の改善に寄与する。
【００２１】
図１の偏光板Ｐは、表示面側に配置される偏光板として液晶表示装置に用いられるのが好ましい。また、液晶表示装置に用いられる際は、光拡散層が、偏光板の最表面に配置された構成を示したが、光拡散層は、偏光層１０と保護層１６の間、光学異方性層１２と偏光層１０の間、光学異方性層１４と光学異方性層１２の間、及び液晶セルと光学異方性層１４の間に配置されていてもよく、また１０〜１６の各層が光拡散層を兼ねたものであってもよい。また、図１では、光拡散層と偏光層との間に偏光層を保護するための保護層を配置した態様を示したが、光拡散層が自己支持性のあるポリマーフィルムからなる場合等は、光拡散層が偏光層の保護層として、偏光層の表面に貼り合せられていてもよい。また、光散乱層は、保護層（図１では保護層１６）がポリマーフィルムからなる場合は、ポリマーフィルムの表面に塗布により形成された層であってもよい。
【００２２】
また、図１の偏光板Ｐでは、第２の光学異方性層が、偏光層の表面に貼り合せられ、偏光層を保護する保護層としても機能する態様を示したが、偏光層と第２の光学異方性層との間には、勿論、別途、低透湿性ポリマーフィルムからなる保護層が配置されていてもよい。但し、その態様では、偏光層と第２の光学異方性層との間に配置される保護層は、第１及び第２の光学異方性層の光学補償能に影響を与えない程度の、光学的に等方性なポリマーフィルムを用いるのが好ましい。
【００２３】
以下、本発明の偏光板の各部材について詳細に説明する。
（光拡散層）
本発明に用いる光拡散層は、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルが、出射角０°（層面に対して法線方向）の光強度Ｉに対して、散乱強度が最大となる方位角において極角３０°方向の散乱光強度Ｉ₃₀の比、即ちＩ₃₀／Ｉが、０．０１〜０．２％である。極角３０°方向の散乱光強度Ｉ₃₀を上記範囲とすることにより、正面コントラストを低下させずに、具体的には正面コントラストを光拡散層を使用しない形態と比べて９０％以上に維持しつつ、広視野角化及び白〜中間調表示の表示特性改善に寄与する。同観点から、Ｉ₃₀／Ｉは、０．０２〜０．１８％が好ましく、０．０３〜０．１６％がより好ましく、０．０４〜０．１４％がさらに好ましい。Ｉ₃₀／Ｉが０．０２％よりも小さい場合、散乱光強度が弱いため所望の表示特性改善効果が得られない。一方で、Ｉ₃₀／Ｉが０．１８％よりも大きい場合、散乱光強度が強すぎるために光拡散層を使用しない形態と比べて正面コントラストを９０％以上に保つことができない。
本発明の偏光板を利用した液晶表示装置は、正面コントラストを光拡散層を使用しない形態と比べて９０％以上を達成可能であり、好ましくは９５％以上を達成する。
【００２４】
また、本発明では、内部ヘイズが４５％以上の光拡散層を用いるのが好ましく、５０％〜９０％が好ましく、５５％〜８０％が特に好ましい。上記範囲の内部ヘイズの光拡散層を用いると、外光がある中での黒しまりを保ちつつ、極角３０°方向の散乱強度を効率的に増加できるので好ましい。
【００２５】
光拡散層は、透光性樹脂と、透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性粒子とを含む層であってもよい。透光性粒子と透光性樹脂の屈折率差、透光性粒子の粒子径、透光性粒子の含有量により散乱光プロファイル及びヘイズ値を調整することができる。透光性粒子として、同一粒径及び同一材質の透光性粒子のみを用いてもよいし、粒径及び／又は材質の異なる複数種の透光性粒子を用いてもよい。後者のほうが、散乱光プロファイル及びヘイズ値を調整できる点で好ましい。
【００２６】
透光性粒子の屈折率と、光拡散層の主成分である透光性樹脂の屈折率（後述する、層の屈折率調整のために無機微粒子等を透光性樹脂に添加した場合は、その光学的な平均屈折率）との差が０．０３〜０．３０であることが好ましい。屈折率差が０．０３未満の場合は、両者の屈折率の差が小さ過ぎて、光拡散効果を得にくく、屈折率差が０．３０よりも大きい場合は、光拡散性が大き過ぎて、フィルム全体が白化する。屈折率差は、０．０６〜０．２５がより好ましく、０．０９〜０．２０がよりさらに好ましい。
【００２７】
本発明においては、視角特性改善ために適度な散乱性を得るために、透光性粒子（第１の透光性粒子）の粒子径は、０．５〜３．５μｍが好ましく、０．５〜２．０μｍであることがより好ましく、０．６〜１．８μｍであることがさらに好ましい。拡散効果が大きければ大きい程、視角特性は向上する。しかし、表示品位という点で正面の明るさを維持するためには、出来る限り透過率を高めることも必要である。前記粒子径を０．５μｍ未満とした場合、拡散の効果が大きく、視角特性は向上するが、後方散乱が大きくなり明るさの減少が大きい。一方、３．５μｍを超える場合は、拡散効果が小さくなり、視角特性の向上は小さくなっていく。
【００２８】
また、拡散効果付与を主目的としない透光性粒子（第２の透光性粒子）をさらに添加することも好ましい。拡散層の表面に凹凸を設け、映り込み防止機能を設ける等に用いられる。第２の透光性粒子の粒子径は第１の透光性粒子の粒子径より大きいことが好ましく、２．５μｍ〜１０．０μｍであることが更に好ましい。これにより、好適な表面散乱を付与することができる。良好な表示品位を達成するには、外光の写り込みを防止することも重要である。表面のヘイズ値が低いほど外光による白茶け感が小さくなり、明瞭なディスプレイ表示を得ることができるが、表面ヘイズ値が低すぎると、映り込みが大きくなるため、最外層に光拡散層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を設け、低反射率化することも好ましい。表面ヘイズ値を制御するには、第２の透光性粒子により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることが好ましいが、この限りではない。粒子径を２．５μｍ以下にした場合、所望の表面凹凸を設ける場合に、層の厚みを薄くせざるを得ず、膜硬度の点で好ましくなく、一方、１０μｍ以上にした場合、粒子１個１個の重量が大きくなるため、塗布液中の粒子沈降安定性の点で必ずしも好ましくない。従って、第２の透光性粒子の粒子径は、２．７〜９．０μｍが好ましく、３．０〜８．０μｍがより好ましい。
【００２９】
第２の透光性粒子の屈折率は、光拡散層の主成分である透光性樹脂の屈折率との差が第１の透光性粒子より小さいことが好ましい。
【００３０】
前記光拡散層の表面凸凹は、表面粗さＲａが０．５μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以下であることが更に好ましく、０．２μｍ以下であるのがよりさらに好ましい。表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）の測定は、ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて行うことができる。
【００３１】
光拡散層のヘイズ値、特に透過光の拡散に寄与が大きい内部散乱へイズ（内部ヘイズ）は、視角特性改良効果と強い相関関係がある。バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光拡散層で拡散されることにより、視角特性が改善される。しかし、拡散され過ぎると正面輝度が減少するため、光拡散層の内部ヘイズは、４５％以上が好ましく、５０％〜９０％がより好ましく、５５％〜８０％が特に好ましい。内部散乱へイズを上昇させる方法として、拡散性付与を目的とする透光性粒子の塗布量を上げる、同一塗布量の場合は粒子径を下げる、膜厚を厚くする、さらには、粒子と樹脂の屈折率差を大きくするなどの方法がある。
【００３２】
前記光拡散層の表面散乱起因のヘイズ（表面ヘイズ）は、映り込み低減と白茶け感低減の両立の観点から、０．１〜３０％が好ましく、１０％以下が好ましく、５％以下が特に好ましい。外光による白茶け感低減を重視するのであれば、４％以下が好ましく、２％以下が更に好ましい。表面ヘイズを低減すると映り込みが大きくなるため、低屈折率層を設け、５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値を３．０％以下にすることが好ましく、２．０％以下がより好ましく、さらに好ましくは１．０％以下である。本発明における、表示品位を上げる（視角特性改善）ことに関しては、前述の内部散乱性の調整が必要であるが、同時に表面ヘイズ及び／又は反射率を好適な範囲にすることで、明室下でのコントラストが改善され、より好ましい効果を発現できる。
【００３３】
前記透光性粒子は、単分散の有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズの設計が容易となる。前記透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、透光性樹脂との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５２〜１．５７）、メラミンビーズ（屈折率１．５７〜１．６５）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．６８）等が用いられる。無機微粒子としては、シリカビーズ（屈折率１．４４〜１．４６）、アルミナビーズ（屈折率１．６３）等が用いられる。透光性粒子は、透光性樹脂１００質量部に対して５〜３０質量部含有させるのが好ましい。
【００３４】
透光性粒子の中には、樹脂組成物（透光性樹脂）中で沈降し易いものもあるので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【００３５】
透光性樹脂としては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。ハードコート性を付与するためには、電離放射線硬化型樹脂が主成分であることが好ましい。光拡散層の厚さは通常１．５〜３０μｍ、好ましくは３〜２０μｍとするとよい。光拡散層がハードコート層としての機能を兼ねる場合が一般的であるが、光拡散層の厚さが１．５μｍよりも薄くなると、ハードコート性が十分でなくなる方向であり、一方、３０μｍよりも厚くなると、カールや脆性の点で好ましくない方向である。透光性樹脂の屈折率は、低屈折率層を設ける場合は、好ましくは１．４６〜２．００であり、より好ましくは１．４８〜１．９０であり、更に好ましくは１．５０〜１．８０である。なお、透光性樹脂の屈折率は、透光性粒子を含まずに測定した光拡散層平均の値である。光拡散層の屈折率が小さすぎると反射防止性が低下する。大きすぎると、反射光の色味が強くなり、好ましくない方向である。この点から上記範囲が好ましい。光拡散層の屈折率の設定は、反射防止性と反射光色味の点から所望の値に設定することができる。
【００３６】
該透光性樹脂に用いるバインダーは、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、分子内に二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００３７】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。これらの中でも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。
【００３８】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解して調製した塗布液を、表面に塗布及び乾燥後、電離放射線又は熱による重合反応を進行させて、硬化させることができる。
【００３９】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わり又はそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００４０】
透光性樹脂は、上記バインダポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマー及び／又は高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成されることが好ましい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｉｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。
【００４１】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化させる方法が挙げられる。
【００４２】
上記光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号公報等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。これらの開始剤は単独で使用しても、混合して使用してもよい。その他、「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。また、市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（１２７，１８４，５００，６５１， ８１９，９０７，３６９，１１７３，１８７０，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【００４３】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【００４４】
（低屈折率層）
本発明の偏光板は、光拡散層とともに、該光拡散層よりも屈折率が低い低屈折率層を有していてもよい。低屈折率層は、光拡散層のより外側であって、光拡散層に隣接させて配置されるのが好ましい。低屈折率層を形成することで、反射防止性能が得られ、外光の映り込みが抑えられ、明室環境下でのコントラストをより向上させることができる。
【００４５】
前記低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５０であるのが好ましく、１．２５〜１．４５であるのがより好ましく、１．３０〜１．４０であるのが更に好ましい。前記低屈折率層の形成に用いる材料については特に制限はない。例えば、含フッ素化合物を主成分として含有する硬化性組成物、又は分子内に複数個の結合性基を有するモノマーと低屈折率の粒子とを含有する硬化組成物等を硬化させて形成することができる。より具体的には、好ましい硬化物組成の例には、（１）架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、などが含まれる。
【００４６】
（透明基板）
本発明の偏光板は、前記光拡散層を支持する透明基板を有していてもよい。例えば、透明基板の表面に、光拡散層形成用塗布液を塗布して、前記光拡散層を形成することができる。透明基板には、透明ポリマーフィルム、及び透明ガラス板などを用いることができる。透明ポリマーフィルムとしては、セルロースエステルフィルム（例、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、代表的には富士フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム（例、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム）、ポリスチレンフィルム、ポリオレフィンフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィンフィルム（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムが好ましく、特にトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。透明基板の厚みは、薄型化ニーズ及びハンドリング性（搬送適性）の観点から、２０〜２００μｍが好ましく、３０〜１００μｍがより好ましく、３５〜９０μｍがさらに好ましく、４０〜８０μｍよりさらに好ましい。
なお、透明基板がポリマーフィルムからなる場合は、本発明では、透明基板を、偏光層である直線偏光膜の保護フィルムとして利用することもできる。具体的には、ポリマーフィルムとその上に光拡散層とを有する光拡散フィルムを、そのポリマーフィルムの裏面（光拡散層が形成されていない側の面）を直線偏光膜の表面と貼り合せて、該ポリマーフィルムを保護フィルムとして利用してもよい。また、前記透明基板の配置によっては、第２の光学異方性層である所定の光学特性を満足するポリマーフィルムであってもよい。
【００４７】
また、本発明では、異方性光散乱フィルムを、光拡散層として利用してもよい。異方性光散乱フィルムとは、方位角により拡散角が相違するものであり、これを用いることで斜視での黒浮きを抑制できてコントラストを向上させることができ、下方向等の補償不足を生じやすい方向での階調反転を生じない角度を拡大することができる。また複屈折層に基づく色付きも低減することができる。散乱異方性フィルムは、例えばルミスティ（商品名、住友化学社製）やスペックルを記録したフィルムからなるスペックルグラムとして得ることができ、また複屈折特性が相違する微小領域を分散含有する透光性樹脂からなるフィルムとして得ることができる。
【００４８】
以下代表的な異方性光散乱フィルムの態様について説明する。特に好ましくは第１の態様である。
（異方性光散乱フィルムの第１の態様）
本発明において、光拡散層として利用可能な異方性光散乱フィルムの第１の態様は、フィルム内部に屈折率が互いに異なる部分が不規則な形状・厚さで分布したフィルムである。例えば、屈折率の高低が濃淡模様に形成された部分（屈折率の異なる部分）を有し、且つその部分が、フィルムの厚さ方向に対して傾斜して層状に分布しているフィルムが好適に用いられる。この例の異方性光散乱フィルムは、上記傾斜方向に沿った角度で入射する光に対しては光散乱が生じ、上記傾斜方向に対して垂直な角度で入射する光に対しては、単なる透明フィルムとして機能するので、光散乱性に入射角度選択性を持つ。前記屈折率が異なる部分が、層状に傾斜している方向においては、屈折率の分布が一様であってもよいし、また、層状に傾斜している方向においては、屈折率の分布が不規則であってもよい。また屈折率の異なる部分が、それぞれ大きさが不規則であり、それぞれの形状が、縦長（あるいは、横長）となっており、それぞれの部分による光散乱特性が、横長（あるいは、縦長）となることで、光散乱特性に異方性を持つことが好ましい。かかる異方性光散乱フィルムは、特開２０００−１７１６１９号公報に開示されている。
【００４９】
前述の通り、前記第１の態様の異方性光散乱フィルムに入射した光は、入射角度によって散乱光として透過する。異方性光散乱フィルムへの入射光は、散乱光として出射されるが、当該散乱光の最大散乱方向を示す透過光と異方性光散乱フィルムの法線方向とのなす最大散乱角度θは、２０°〜５０°の範囲にあることが好ましい。
【００５０】
前記第１の態様の異方性光散乱フィルムに用いる材料は、屈折率差が０．００１〜０．２の範囲で適宜選択され、同様にフィルム厚みも前記屈折率差に応じて１０００μｍ〜１μｍの範囲で適宜選択されるであろう。屈折率の異なる部分の大きさは、光散乱を生じさせるためにランダムで規則性はないが、必要な散乱性を持たせるために、その平均の大きさは直径で０．１μｍ〜３００μｍの範囲内で適宜選択される。
【００５１】
前記第１の態様の異方性光散乱フィルムは、例えば、ランダムマスクパターンを利用して作製することができる。具体的には、ＵＶ光源から出た紫外光を、コリメート光学系により平行光とし、マスク原版を照射する。マスク原版は、ガラス基板とランダムパターンであるクロムパターンとからなる。マスク原版のＵＶ照射側と反対の面には、感光材料を密着させて配置し、マスク原版のパターンを感光材料に露光照射する。この際、ＵＶ平行光とマスク原版とは所定角度αだけ傾いて配置されているため、パターン露光は感光材料中で、所定角度傾いてなされることになる。この角度が、光散乱フィルム中の屈折率の異なる部分の傾斜角度（すなわち、入射角度依存性の最大散乱角度θ）に相当することになる。使用する感光材料は、ＵＶ光の露光部と未露光部とに屈折率の変化が生じる形態で記録可能な感光材料であり、記録しようとする濃淡模様より高い解像力を持ち、その厚みの方向にもパターンを記録できるような材料である。このような記録材料としては、体積型ホログラム用感光材料が利用でき、アグファ社製ホログラム用銀塩感光材料８Ｅ５６乾板、デュポン社製ホログラム用感光材料ＨＲＦフィルム又は重クロム酸ゼラチン、ポラロイド社製ＤＭＰ−１２８記録材料などが挙げられる。またランダムパターンを持つマスク原版は、計算機を用いた乱数計算から作製した白黒パターンデータを、所謂フォトリソグラフィーの手法によりガラス基板上の金属クロムパターンとしてエッチングしたものを用いることができる。もちろんマスク原版の作成方法としては、上記方式に限定されるものではなく、リス乾板を使った写真手法などにより作製しても同様なマスクを作製できる。
【００５２】
また、前記第１の態様の異方性光散乱フィルムは、スペックルパターンを利用して作製することができる。具体的には、レーザー光源から出たレーザー光で、すりガラスを照射する。すりガラスのレーザー照射側と反対の面には、所定距離をおいて感光材料を配置し、すりガラスで透過散乱したレーザー光が作り出す複雑な干渉パターンであるスペックルパターンが感光材料に露光照射される。この際、すりガラスと感光材料は所定角度αだけ傾いて配置されているため、スペックルパターンは感光材料中で、所定角度傾いて露光されることになる。この角度が、光散乱フィルム中の屈折率の異なる部分の傾き（すなわち、入射角度依存性の最大散乱角度θ）に相当することになる。記録に使用するレーザー光源は、アルゴンイオンレーザーの５１４．５ｎｍ、４８８ｎｍ及び４５７．９ｎｍの波長のうち、感光材料の感度に応じて適宜選択して使用することができる。また、アルゴンイオンレーザー以外でもコヒーレント性のよいレーザー光源であれば使用可能であり、例えばヘリウムネオンレーザーやクリプトンイオンレーザーなどが使用できる。
【００５３】
（異方性光散乱フィルムの第２の態様）
本発明において、光拡散層として利用可能な異方性光散乱フィルムの第２の態様は、透光性ポリマーの１種又は２種以上と、微小領域を形成するための前記透光性ポリマーとは複屈折特性が相違する材料、例えばポリマー類や液晶類等の透明性に優れる適宜な材料、の１種又は２種以上を混合して、透光性ポリマー中に当該材料を微小領域の状態で分散含有するフィルムを形成した後、必要に応じ延伸処理等による適宜な配向処理で複屈折性が相違する領域を形成して作製されるフィルムである。第２の態様の異方性光散乱フィルムでは、透光性ポリマーとその中に分散された微小領域との屈折率差、及び配向処理によって形成する複屈折性の分布を調整することで、上記条件を満足する散乱プロファイルを示す異方性光散乱フィルムを作製することができる。
【００５４】
前記の透光性ポリマーとしては、透明性であればいずれも使用することができる。例えば、ポリエステル類；ポリスチレン及びアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳポリマー類）等のポリスチレン類；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、シクロ系又はノルボルネン構造を有するポリオレフィン等のポリオレフィン類；ポリカーボネート類；ポリ（メタ）アクリル類；塩化ポリビニル類；セルロースアシレート類；ポリアミド類；ポリイミド類；ポリスルホン類；ポリエーテルスルホン類；ポリエーテルエーテルケトン類；ポリフェニレンスルフィド類；ポリビニルアルコール類；塩化ポリビニリデン類；ポリビニルブチラール類；ポリアリレート類；ポリオキシメチレン類；シリコーン系樹脂；ポリウレタン類；それらの２種以上のブレンド；物；及びフェノール系やメラミン系、アクリル系やウレタン系、ウレタンアクリル系やエポキシ系やシリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型のポリマー類；等が挙げられる。
【００５５】
前記透光性ポリマーは、成形歪み等による配向複屈折を生じ難い材料であってもよいし（等方性ポリマー）、生じやすい材料であってもよい（異方性ポリマー）。可視光域での透明性に優れるポリマーを用いるのが好ましい。
【００５６】
（第１の光学異方性層）
本発明の偏光板は、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９〜１．１である、第１の光学異方性層を有する。前記第１の光学異方性層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、１〜１．１であるのがより好ましい。
なお、第１の光学異方性層のＲｅ（５５０）は、用いられる液晶表示装置のモードに応じて、その好ましい範囲も変動するが、ＴＮモード液晶表示装置に用いられる偏光板の態様では、第１の光学異方性層のＲｅ（５５０）は、２０〜５５ｎｍであるのが好ましく、２２〜４５ｎｍであるのがより好ましい。
【００５７】
前記第１の光学異方性層は、液晶組成物から形成された層である。前記第１の光学異方性層の形成に用いる液晶組成物は、ネマチック相及びスメクチック相を形成し得る液晶組成物であるのが好ましい。液晶化合物は、一般的に、その分子の形状に基づいて、棒状及び円盤状液晶化合物に分類されるが、本発明ではいずれの形状の液晶化合物を用いてもよい。前記第１の光学異方性層に要求される特性を満足するためには、用いる液晶化合物は、その分子の配向により複屈折性を発現した際に、複屈折性の波長分散性が低い化合物が好ましい。
【００５８】
棒状液晶化合物を用いる場合は、前記第１の光学異方性層に要求される特性を満足するためには、２種以上の棒状液晶化合物を用いるのが好ましい。好ましい組み合わせとしては、下記式（Ｉ）で表される棒状液晶の少なくとも一種と、下記式（II）で表される棒状液晶の少なくとも一種との組み合わせが挙げられる。
【００５９】
【化７】

【００６０】
式中、Ａ及びＢはそれぞれ、芳香族もしくは脂肪族炭化水素環、又はヘテロ環の基を表し；Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ、置換もしくは無置換の、Ｃ１〜１２（好ましくはＣ３〜７）のアルキレン基、又はＣ１〜１２（好ましくはＣ３〜７）のアルキレン鎖を含むアルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基もしくはアルコキシカルボニルオキシ基を表し；Ｒ^a、Ｒ^b及びＲ^cはそれぞれ置換基を表し；ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ、１〜４の整数を表す。
【００６１】
前記式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴に含まれるアルキル鎖は、直鎖状及び分岐状のいずれであってもよい。直鎖状であるのがより好ましい。また、組成物を硬化させるために、Ｒ¹〜Ｒ⁴は末端に重合性基を有しているのが好ましく、該重合性基の例には、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基等が含まれる。
【００６２】
前記式（Ｉ）中、ｘ及びｚは０で、且つｙが１であるのが好ましく、１個のＲ^bは、オキシカルボニル基又はアシルオキシ基に対してメタ位もしくはオルト位の置換基であるのが好ましい。Ｒ^bはＣ１〜１２のアルキル基（例えばメチル基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子）等が好ましい。
【００６３】
前記式（II）中、Ａ及びＢはそれぞれ、フェニレン基又はシクロへキシレン基であるのが好ましく、Ａ及びＢの双方がフェニレン基でありか、又は一方がシクロへキシレン基で且つ他方がフェニレン基であるのが好ましい。
【００６４】
以下に前記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例、及び一般式（II）で表される化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に限定されるものではない。
【００６５】
【化８】

【００６６】
【化９】

【００６７】
前記一般式（Ｉ）及び（II）の化合物の割合については特に制限はない。前記特性を満足するために、等量使用しても、いずれか一方を主成分として、他方を副成分として使用してもよい。
【００６８】
円盤状液晶化合物としては、前記第１の光学異方性層に要求される特性を満足するためには、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物を用いるのが好ましい。これらは、高い複屈折性を示すので好ましい。下記一般式（ＤＩ）表される化合物の中でも、ディスコティック液晶性を示す化合物が好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示す化合物が好ましい。
【００６９】
【化１０】

【００７０】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³は、それぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表す。Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
【００７１】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましく、炭素原子数（置換基が有する炭素原子数をいう、以下、ディスコティック液晶化合物が有していてもよい置換基について同じ）１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましい。
【００７２】
Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。
【００７３】
一般式（ＤＩ）中、Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基である。前記２価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、２価の環状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００７４】
Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³で表される２価の環状基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環及びナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環及び複素環を含んでいるのが好ましい。
【００７５】
前記２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００７６】
Ｌ¹、Ｌ²又はＬ³で表される前記２価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００７７】
Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−２価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−２価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−２価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−、＊−２価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−２価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−２価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−２価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−又は＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³を含む６員環に結合する位置を表す。
【００７８】
一般式（ＤＩ）中、Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
【００７９】
【化１１】

【００８０】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。ＹＡ¹及びＹＡ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＡは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。
【００８１】
【化１２】

【００８２】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。ＹＢ¹及びＹＢ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＢは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。
【００８３】
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
【００８４】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²又はＨ³に結合する位置を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ²¹は単結合又は２価の連結基を表す。Ｌ²¹が２価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００８５】
Ｌ²¹は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²¹の左側を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。
【００８６】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＦ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の環状連結基を表す。環状構造は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状構造は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。
【００８７】
Ｆ¹のうち、ベンゼン環を有するものとしては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有するものとしては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有するものとしては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有するものとしてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有するものとしては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。Ｆ¹は、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレンナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【００８８】
Ｆ¹は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。該置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。
【００８９】
ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１又は２が好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²が直接、前記一般式（Ｄ１）中のＨ¹〜Ｈ³と結合する。ｎ１が２以上の場合、それぞれの−Ｌ²¹−Ｆ¹は同一でも異なっていてもよい。
【００９０】
Ｌ²²は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ₂−である。
ここで、上記のうち水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。
【００９１】
Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができ、容易に、塗布液として本発明の組成物を調製することができる。
【００９２】
Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる連結基であることが好ましい。Ｌ²³は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ²³は−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがより好ましい。
【００９３】
Ｑ¹は重合性基又は水素原子である。一般式（ＤＩ）で表される化合物を、光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないことを必要とする光学フィルム等の作製に用いる場合には、Ｑ¹は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００９４】
【化１３】

【００９５】
【化１４】

【００９６】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
【００９７】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００９８】
【化１５】

【００９９】
式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子又はメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【０１００】
開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基又はオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【０１０１】
また、本発明では、ディスコティック液晶化合物として下記一般式（ＤＩＩ）で表される化合物又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を用いることも好ましい。
【０１０２】
【化１６】

（一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）
【０１０３】
一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｙ³¹、Ｙ³²及びＹ³³は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³の定義とそれぞれ同一であり、好ましい範囲も同義である。
【０１０４】
Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。
【０１０５】
【化１７】

【０１０６】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ³¹及びＡ³²としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。
Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表す。Ｘ³としては、酸素原子であることが好ましい。
【０１０７】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。Ｆ²に含まれる６員環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。Ｆ²に含まれる６員環は、芳香族環、脂肪族環及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。
【０１０８】
２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基及び１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基及びナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。２価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【０１０９】
Ｆ²は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。２価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がより好ましい。
【０１１０】
ｎ３は、１〜３整数を表す。ｎ３としては、１又は２が好ましい。ｎ３が２以上の場合、それぞれのＦ²は同一でも異なっていてもよい。
【０１１１】
Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³¹の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²と同一である。
【０１１２】
Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³²の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²³と同一である。
【０１１３】
Ｑ³は重合性基又は水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。
【０１１４】
次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。
【０１１５】
【化１８】

【０１１６】
一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基が特に好ましい。
Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。
【０１１７】
Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）又は一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表されるものが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表されるものがより好ましい。
【０１１８】
【化１９】

【０１１９】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ⁴¹及びＡ⁴²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵及びＡ⁴⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵及びＡ⁴⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有する置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１２０】
【化２０】

【０１２１】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ⁵¹及びＡ⁵²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１２２】
【化２１】

【０１２３】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ⁶⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ⁶¹及びＡ⁶²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ⁶⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ³⁶がそれぞれメチンの場合、該メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１２４】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶¹はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ₂−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１２５】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１２６】
Ｌ⁴²、Ｌ⁵²及びＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましい。Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個含有することがより好ましい。さらに、Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。
【０１２７】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ⁴、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ⁵及び一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ⁶は、それぞれ独立して、重合性基又は水素原子を表す。これらの好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。
【０１２８】
以下に、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２９】
【化２２】

【０１３０】
【化２３】

【０１３１】
【化２４】

【０１３２】
【化２５】

【０１３３】
以下一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を示す。
【０１３４】
【化２６】

【０１３５】
上記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。
【０１３６】
本発明では、円盤状液晶化合物として、上記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の１種のみを使用してよいし、２種以上を使用してもよい。
【０１３７】
また、前記円盤状液晶化合物の好ましい例には、特開２００５−３０１２０６号公報に記載の化合物も含まれる。
【０１３８】
第１の光学異方性層が、０．９≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１を満足するためには、第１の光学異方性層中に、異常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移よりも、常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移の方が長波長であり、且つ常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向（光軸方向）に対して、７０〜９０°傾いている分子を存在させるのが好ましい。常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向（光軸方向）に対して、７０〜９０°傾けるためには、６員環と奇数員環（３員環、５員環、７員環、９員環等）が縮環した部分構造を有することが好ましい。具体的には、下記一般式（Ｉ）又は後述する一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物が挙げられる。これらの液晶性化合物は、添加剤として光学異方性層中に単分子構造のまま含有されていてもよいし、これらの液晶性化合物が重合性基を有する場合は、これらの液晶性化合物から誘導される繰り返し単位を有する高分子の状態で、前記光学異方性層中に含有されていてもよい。
【０１３９】
【化２７】

【０１４０】
式中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は各々独立に置換基を表す。Ｘは第１４
〜１６族の非金属原子を表す（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい）。ｎは０〜２の整数を表す。
【０１４１】
特に下記一般式（Ｉ'）で表される液晶化合物が好ましい。
【０１４２】
【化２８】

【０１４３】
一般式（Ｉ'）中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は各々独立に置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。
【０１４４】
一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）において、Ｌ¹及びＬ²が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【化２９】

【０１４５】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【０１４６】
一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）において、Ｒ¹は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。
【０１４７】
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、
【０１４８】
アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、
【０１４９】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、
【０１５０】
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【０１５１】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、
【０１５２】
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
【０１５３】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ'−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、
【０１５４】
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
【０１５５】
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【０１５６】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１５７】
Ｒ¹は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【０１５８】
Ｒ²、Ｒ³は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ¹の例があげられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
【０１５９】
Ｒ⁴、Ｒ⁵は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ¹の例が挙げられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σｐ値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ⁴とＲ⁵とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσｐ、σｍに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【０１６０】
Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ¹の例が挙げられる。）又は−Ｓ−である。
Ｒ⁵及びＲ⁶の好ましい例には、シアノ基（ＣＮ）、アシル基（−ＣＯＲ：Ｒは置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す）、置換もしくは無置換のアルコキシキカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基（Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ：Ｒは置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す）、又は置換もしくは無置換のカルバモイル基（Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹¹Ｒ¹²：Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成していてもよい）が含まれる。Ｒ、Ｒ¹¹及びＲ¹²が表す置換もしくは無置換のアルキル基は、Ｃ₁〜Ｃ₁₀の置換もしくは無置換のアルキル基であるのが好ましく、Ｃ₂〜Ｃ₈の置換もしくは無置換のアルキル基であるのがより好ましく、Ｃ₂〜Ｃ₆の置換もしくは無置換のアルキル基であるのがさらに好ましい。また、アルキル基中の隣接しない炭素原子の一方が酸素原子もしくは硫黄原子に置換されていてもよい。Ｒ、Ｒ¹¹及びＲ¹²が表す置換もしくは無置換のアリール基の例には、Ｒ¹の例として挙げたアリール基の具体例が含まれる。前記アルキル基及びアリール基の置換基の例は、Ｒ¹が表す置換基の例と同様である。後述する重合性基を置換基として有しているのも好ましい。また、Ｒ¹¹及びＲ¹²が互いに結合して形成される環の例には、ピペラジン環が含まれる。
中でも、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち、一方がシアノ基であり、及び他方が置換もしくは無置換のアルコキシキカルボニル基であるのが好ましい。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。
【０１６１】
前記一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物が、重合性基を有していると、光学異方性層の光学特性が熱等によって変動しないので、好ましい。重合性基としては、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が有する置換基Ｑの例示と同様である。なお、前記一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物は、例えば、Ｒ²及び／又はＲ³の置換基として重合性基を有していてもよい。
【０１６２】
以下に、一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（ ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【０１６３】
【化３０】

【０１６４】
【化３１】

【０１６５】
【化３２】

【０１６６】
【化３３】

【０１６７】
【化３４】

【０１６８】
一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【０１６９】
【化３５】

【０１７０】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、"Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ"（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【０１７１】
また、前記光学異方性層の形成には、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を用いるのも好ましい。
【０１７２】
【化３６】

式中、ＭＧ¹及びＭＧ²はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ¹及びＭＧ²を構成する環状基の１つは、Ｌ¹¹及びＬ¹²で置換され；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ¹¹及びＬ¹²はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ¹及びＭＧ²に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
【０１７３】
【化３７】

【０１７４】
【化３８】

式中、＊はＭＧ¹を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ¹と連結する位置を表し；Ａ¹¹、Ａ¹³及びＡ¹⁴はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ₂−を表し；Ａ¹²は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ¹は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ¹は、＊＝ＣＨ−Ｐ¹¹−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ¹¹−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ¹¹は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ¹は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ¹¹−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ¹¹−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ¹¹−Ｎ＝を表し；Ｐ¹¹は上記Ｐ¹¹と同義である。
【０１７５】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物については、特開２００５−２８９９８０号公報の［００２６］〜［００８３］詳細な説明があり、またその例示化合物も同公報の［００８５］〜［００９８］に例示があり、それらを使用することができる。
【０１７６】
前記第１の光学異方性層は、液晶化合物（好ましくは式（ＤＩ）の円盤状液晶化合物）、及び所望により上記式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される添加剤の少なくとも一種、を含有する組成物を、第２の光学異方性層として用いられるポリマーフィルムの表面（例えば、配向膜表面）に配置し、液晶化合物の分子を所望の配向状態とし、重合により硬化させ、その配向状態を固定して形成するのが好ましい。液晶化合物の分子（棒状及び円盤状分子の双方を含む）をハイブリッド配向状態に固定するのが好ましい。
なお、ハイブリッド配向とは、層の厚み方向で液晶分子のダイレクタの方向が連続的に変化する配向状態をいう。棒状分子の場合は、ダイレクタは長軸方向、円盤状分子の場合はダイレクタは円盤面の法線方向となる。
【０１７７】
また、液晶性化合物の分子を所望の配向状態とするため、及び組成物の塗布性もしくは硬化性の良化のために、前記組成物は一種以上の添加剤を含んでいてもよい。
液晶化合物（特に棒状液晶化合物）の分子をハイブリッド配向させるために、層の空気界面側の配向を制御し得る添加剤（以下、「空気界面配向制御剤」という）を添加してもよい。該添加剤として、フッ化アルキル基及びスルホニル基等の親水性基を有する低分子量もしくは高分子量の化合物が挙げられる。使用可能な空気界面配向制御剤の具体例には、特開２００６−２６７１７１号公報等に記載の化合物が含まれる。
【０１７８】
また、前記組成物を塗布液として調製し、塗布により前記第１の光学異方性層を形成する場合は、塗布性の良化のために界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系化合物が好ましく、具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。また市販の「メガファックＦ７８０」（大日本インキ製）などを用いてもよい。
【０１７９】
また、前記組成物は、重合開始剤を含有しているのが好ましい。前記重合開始剤は、熱重合開始剤であっても光重合開始剤であってもよいが、制御が容易である等の観点から、光重合開始剤が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる光重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種又は２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。
【０１８０】
光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
【０１８１】
前記組成物は、重合性液晶化合物とは別に、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレートを用いると、耐久性が改善されるので好ましい。
前記非液晶性の重合性モノマーは、非液晶性成分であるので、その添加量が、液晶化合物に対して１５質量％を超えることはなく、０〜１０質量％程度であるのが好ましい。
【０１８２】
前記第１の光学異方性層は、前記組成物を塗布液として調製し、該塗布液を、例えば、支持体上に形成された配向膜の表面に塗布し、乾燥して溶媒を除去するとともに、液晶化合物の分子を配向させ、その後、重合により硬化させて、形成することができる。
塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
塗膜を乾燥する際には、加熱してもよい。塗膜を乾燥して溶媒を除去すると同時に、塗膜中の液晶化合物の分子を配向させて、所望の配向状態を得る。
【０１８３】
次に、紫外線照射等によって重合を進行させて、配向状態を固定化し、第１の光学異方性層を形成する。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ²〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１８４】
第１の光学異方性層の厚さについては特に制限されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。
【０１８５】
前記第１の光学異方性層は、配向膜を利用して形成するのが好ましい。利用可能な配向膜の例としては、ポリビニルアルコール膜やポリイミド膜等が挙げられる。
【０１８６】
（第２の光学異方性層）
本発明の偏光板は、Ｒｅ（５５０）が４０〜１１０ｎｍであり、且つ波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が４０〜１００ｎｍである第２の光学異方性層を有する。即ち、前記第２の光学異方性層は、光学的に二軸性である。Ｒｅ（５５０）は５０〜１００ｎｍであるのが好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は５０〜８０ｎｍであるのが好ましい。
【０１８７】
前記第２の光学異方性層は、光透過性、具体的には可視光域の光に対して透過率８０％以上、のポリマーフィルムであるのが好ましい。第２の光学異方性層がポリマーフィルムであると、偏光子の表面に貼り合わせることができる。前記ポリマーフィルムの材料としては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましいが、上述の条件を満たす範囲であればどのような材料を用いてもよい。例えば、変性ポリカーボネートや変性シクロオレフィンポリマーや、側鎖にアセチル基を有するセルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）等が、延伸等により上記Ｒｅを発現するものとして好ましく用いられる。
【０１８８】
第２の光学異方性層用のセルロースアシレートフィルムの材料として用いられるセルロースアシレートのアシル置換基は、例えばアセチル基単独からなるセルロースアシレートであっても、複数のアシル置換基を有するセルロースアシレートを含む組成物を用いてもよい。セルロースアシレートの好ましい例は、全アシル化度が２.３〜３．０であり、２.４〜２．９５がより好ましい。
また、アセチル基とともに、他の脂肪酸エステル残基を有する混合脂肪酸エステルも好ましい。脂肪酸エステル残基の脂肪族アシル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。中でも、アセチル基とともに、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、及びヘキサノイル基から選ばれるアシル基を有するセルロースアシレートを用いるのが好ましく、その置換度が、下記式（１）〜（３）を満足するセルロースアシレートを用いるのがより好ましい。
（１） ２．０ ≦Ｘ＋Ｙ ≦３．０
（２） ０ ≦Ｘ ≦２．０
（３） １．２ ≦Ｙ ≦２．９
式（１）〜（３）中、Ｘはセルロースアシレート中のアセチル基の置換度を示し、Ｙは、セルロースアシレート中のプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、及びヘキサノイル基から選ばれるアシル基の置換度の総和を示す。
【０１８９】
前記セルロースアシレートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。
【０１９０】
前記セルロースアシレートフィルムは、溶液流延法、または溶融流延法により製造されるのが好ましい。溶液流延法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、 米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の記載を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施すことによって、Ｒｅ、Ｒｅ逆波長分散性を発現する。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号 等に記載の例を参考にすることができる。
【０１９１】
前記第２の光学異方性層は、可視光域において、Ｒｅが逆分散波長依存性を示していてもよい。かかる性質のポリマーフィルムを作製するためには、セルロースアセテートプロピオネートとセルロースアセテートとを含む組成物を溶融製膜法で製膜した後、延伸処理を施すのが好ましい。
また、セルロースアシレート（好ましくはセルロースアセテート）と、Ｒｅ発現剤とを含有する組成物を、溶液製膜法にて製膜し、所望により延伸処理して作製するのが好ましい。ここで、「Ｒｅ発現剤」とはフィルム面内の複屈折を発現する性質を有する化合物である。Ｒｅ発現剤としては、第１の光学異方性層の作製に利用可能な例として挙げた、上記式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
【０１９２】
また、前記第２の光学異方性層の作製には、前記式（Ｉ）で表される化合物に代えて、又はそれとともに、下記式（Ｖ）で表される化合物をＲｅ発現剤として用いてもよい。
（Ｖ） Ａｒ¹−Ｌ¹−Ａｒ²
式（Ｖ）において、Ａｒ¹及びＡｒ²は、それぞれ独立に、芳香族基である。
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。芳香族性へテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【０１９３】
置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ）、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基（例、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、スルファモイル、アルキルスルファモイル基（例、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル）、ウレイド、アルキルウレイド基（例、Ｎ−メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルウレイド）、アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、オクチル、イソプロピル、ｓ−ブチル、ｔ−アミル、シクロヘキシル、シクロペンチル）、アルケニル基（例、ビニル、アリル、ヘキセニル）、アルキニル基（例、エチニル、ブチニル）、アシル基（例、ホルミル、アセチル、ブチリル、ヘキサノイル、ラウリル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ラウリルオキシ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ）、アリールオキシ基（例、フェノキシ）、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニルアミノ基（例、ブトキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ）、アリールチオ基（例、フェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル）、アミド基（例、アセトアミド、ブチルアミド基、ヘキシルアミド、ラウリルアミド）および非芳香族性複素環基（例、モルホリル、ピラジニル）が含まれる。
【０１９４】
置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。
【０１９５】
式（Ｖ）において、Ｌ¹ は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、二価の飽和ヘテロ環基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１５であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８であることがさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。
【０１９６】
アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましく、２〜８であることがより好ましく、２〜６であることがさらに好ましく、２〜４であることがさらにまた好ましく、２（ビニレンまたはエチニレン）であることが最も好ましい。
二価の飽和ヘテロ環基は、３員〜９員のヘテロ環を有することが好ましい。ヘテロ環のヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、ホウ素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子またはゲルマニウム原子が好ましい。飽和ヘテロ環の例には、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピロリジン環、イミダゾリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、１，３−ジオキサン環、１，４−ジオキサン環、テトラヒドロチオフェン環、１，３−チアゾリジン環、１，３−オキサゾリジン環、１，３−ジオキソラン環、１，３−ジチオラン環および１，３，２−ジオキサボロランが含まれる。特に好ましい二価の飽和ヘテロ環基は、ピペラジン−１，４−ジイレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイレンおよび１，３，２−ジオキサボロラン−２，５−ジイレンである。
【０１９７】
組み合わせからなる二価の連結基の例を示す。
Ｌ−１：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−アルケニレン基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−５：−Ｏ−ＣＯ−アルキニレン基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−アルキニレン基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−Ｏ−ＣＯ−二価の飽和ヘテロ環基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−８：−ＣＯ−Ｏ−二価の飽和ヘテロ環基−Ｏ−ＣＯ−
【０１９８】
式（Ｖ）の分子構造において、Ｌ¹ を挟んで、Ａｒ¹ とＡｒ² とが形成する角度は、１４０度以上であることが好ましい。
棒状化合物としては、下記式（ＶＩ）で表される化合物がさらに好ましい。
（ＶＩ） Ａｒ¹ −Ｌ² −Ｘ−Ｌ³ −Ａｒ²
式（Ｖ）において、Ａｒ¹ およびＡｒ² は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義および例は、式（Ｖ）のＡｒ¹ およびＡｒ² と同様である。
【０１９９】
式（ＶＩ）において、Ｌ² およびＬ³ は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましく、１〜８であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることがさらにまた好ましく、１または２（メチレンまたはエチレン）であることが最も好ましい。
Ｌ² およびＬ³ は、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。
【０２００】
式（ＶＩ）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレンまたはエチニレンである。
以下に、式（Ｖ）で表される化合物の具体例を示す。
【０２０１】
【化３９】

【０２０２】
【化４０】

【０２０３】
【化４１】

【０２０４】
【化４２】

【０２０５】
【化４３】

【０２０６】
【化４４】

【０２０７】
【化４５】

【０２０８】
【化４６】

【０２０９】
【化４７】

【０２１０】
【化４８】

【０２１１】
具体例（１）〜（３４）、（４１）、（４２）、（４６）、（４７）、（５２）、（５３）は、シクロヘキサン環の１位と４位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例（１）、（４）〜（３４）、（４１）、（４２）、（４６）、（４７）、（５２）、（５３）は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体（光学活性）はなく、幾何異性体（トランス型とシス型）のみ存在する。具体例（１）のトランス型（１-trans）とシス型（１-cis）とを、以下に示す。
【０２１２】
【化４９】

【０２１３】
前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
具体例（２）および（３）は、幾何異性体に加えて光学異性体（合計４種の異性体）を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、Ｄ、Ｌあるいはラセミ体のいずれでもよい。具体例（４３）〜（４５）では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
【０２１４】
また、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記Ｒｅ発現剤として用いてもよい。
また、Ｒｅ発現剤として、一種の化合物を単独で、又は二種類以上の化合物を混合して用いることができる。Ｒｅ発現剤として互いに異なる二種類以上の化合物を用いると、レターデーションの調整範囲が広がり、容易に所望の範囲に調整できるので好ましい。
前記Ｒｅ発現剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記Ｒｅ発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｅ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０２１５】
また、第２の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｔｈ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｔｈ発現剤」とはフィルムの厚み方向に複屈折を発現する性質を有する化合物である。
【０２１６】
前記Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する分極率異方性の大きい化合物が好ましい。前記Ｒｔｈ発現剤としては、下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を特に好ましく使用できる。
【０２１７】
【化５０】

【０２１８】
式中、Ｘ¹は、単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ²は、単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ³は、単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又はＳ−である。また、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。
【０２１９】
以下に前記一般式（VII）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０２２０】
【化５１】

【０２２１】
【化５２】

【０２２２】
【化５３】

【０２２３】
【化５４】

【０２２４】
【化５５】

【０２２５】
【化５６】

【０２２６】
【化５７】

【０２２７】
【化５８】

【０２２８】
【化５９】

【０２２９】
【化６０】

【０２３０】
【化６１】

【０２３１】
【化６２】

【０２３２】
【化６３】

【０２３３】
前記第２の光学異方性層として使用されるセルロースアシレートフィルムは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。特に、前記式（１）〜（３）を満足するセルロースアシレート（より好ましくは、セルロース・アセテート・プロピオネート（ＣＡＰ））と紫外線吸収剤とを含有する組成物から形成されたセルロースアシレートフィルムは、フィルム長手方向に対して直交する方向に延伸処理することで、第２の光学特性を満足するフィルムを作製しやすくなるため好ましい。紫外線吸収剤は、Ｒｔｈ発現剤としても機能し得る。前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。前記第２の光学異方性層として用いるセルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０２３４】
種々のポリマーフィルムに対して、延伸処理を施すことで、前記第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足するポリマーフィルムを作製してもよい。
また、特に、前記式（１）〜（３）を満足するセルロースアシレート（より好ましくは、セルロース・アセテート・プロピオネート（ＣＡＰ））を溶融押出し法で作製したＣＡＰフィルムを、温度１００〜１２０℃でフィルム長手方向に、延伸倍率５０〜７０％で延伸処理を施すことによって、上記光学特性を満足するＣＡＰフィルムを作製することができる。
また、上記式（Ｉ）で表されるＲｅ発現剤と、全アシル化度が２.３〜３．０であるＴＡＣとを含有する組成物を溶液流延法により製膜し、その後、長手方向に対して直交する方向に、温度１４０〜１９０℃で、延伸倍率１５〜３５％で延伸処理を施すことにより、上記光学特性を満足するＴＡＣフィルムを作製することができる。
【０２３５】
前記第２の光学異方性層として用いるポリマーフィルムの厚みについては特に制限されないが、一般的には、３０〜１２０μｍであるのが好ましく、３０〜１００μｍであるのがより好ましい。
【０２３６】
（偏光層）
本発明の偏光板は、偏光層を有する。偏光層は、直線偏光膜からなる。直線偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜があり、本発明にはいずれを使用してもよい。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０２３７】
（保護層）
前記偏光層の表面であって、前記第１及び第２の光学異方性層が配置される側と反対側の表面に貼合される保護層としては、光透過性、具体的には可視光に対する光透過率が８０％以上の、ポリマーフィルムが用いることが好ましい。保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム、及びポリオレフィンを含むポリオレフィンフィルムが好ましい。セルロースアシレートフィルムの中でも、セルローストリアセテートフィルムが好ましい。また、ポリオレフィンフィルムの中でも、環状ポリオレフィンを含むポリノルボルネンフィルムが好ましい。
保護層として用いられるポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０２３８】
（偏光板の作製）
本発明の偏光板は、ロール・トゥ・ロール方式で作製することができる。例えば、以下の方法で作製することができる。
まず、長尺状のセルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルム（第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足するポリマーフィルム）の表面に配向膜形成用塗布液を連続的に塗布し、長手方向に対して所定の交差角、好ましくは０．２〜４．０°、より好ましくは０．３〜２．０°、の方向にラビング処理を実施して、配向膜を連続的に形成する。該ラビング処理面に、重合性円盤状液晶を含有する硬化性液晶組成物の塗布液を連続的に塗布し、乾燥して、円盤状液晶を所望の配向状態とし、その状態で重合を進行させて、光学異方性層（第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する光学異方性層）を連続的に形成して、光学補償フィルム（第１及び第２の光学異方性層の積層体）を連続的に作製する。作製された長尺状の前記光学補償フィルムを一旦ロール形態に巻き取る。長尺状のポリマーフィルム（保護層）の表面に連続的に、光拡散層形成用塗布液を塗布し、乾燥・硬化させて光拡散層（上記所定の特性を満足する光拡散層）を形成し、長尺状の光拡散フィルムを作製する。それを、一旦ロール形態に巻き取る。長尺状の光学補償フィルムのロール、長尺状の直線偏光膜（偏光層）のロール、及び長尺状の光拡散フィルム（保護層）のロールを、ロール・トゥ・ロール方式で貼り合せて、本発明の偏光板を作製することができる。なお、光拡散層が自己支持性を有する光拡散フィルムである場合は、一旦、光学補償フィルム、直線偏光膜及び保護層用ポリマーフィルムをロール・トゥ・ロールで積層して積層体を作製した後、さらに光拡散フィルムロール・トゥ・ロールで形成してもよい。また、一旦、光学補償フィルム、直線偏光膜及び保護層用ポリマーフィルムをロール・トゥ・ロールで積層して積層体を作製した後、さらに光拡散層用塗布液を連続的に塗布して、光拡散層を形成してもよい。
長尺状に作製された偏光板は、ロール形態に巻かれた状態で、搬送・保管等され、実際に液晶表示装置に用いる際に、所定の大きさに切断される。勿論、前記偏光板は、それぞれの部材をあらかじめ所定の大きさに切断し、貼り合せて作製されたものであってもよい。
【０２３９】
［液晶表示装置］
本発明のＴＮモード液晶表示装置は、正面コントラストを低下させることなく、広視野角特性を満足するので、特に、ＴＶやＴＶ機能付きＰＣ用の表示モニターに利用することができる。
本発明のＴＮモード液晶表示装置は、正面コントラストが８００以上である。好ましくは１０００以上、より好ましくは１５００以上である。上限値については制限されないが、ＴＮモード液晶表示装置の正面コントラストの上限値は、一般的には、８００程度といわれている。また、ＴＶ等用の液晶表示装置には、白黒表示のコントラスト比が１０以上の視野角が３２０度を越えること、カラー表示用のＴＶ等では、さらに、画面法線方向を０°とし、極角０〜６０°の視野角において、ΔＣｕ’ｖ’（ｕ’ｖ’（ＣＩＥＬＡＢ空間における色座標）空間上の軌跡から、正面のｕ’ｖ’値と最も距離の離れた地点でのｕ’ｖ’との距離を意味する）が０．０６以下であること、が要求される。また、下方向で階調反転の起こらない領域が極角５０°以上であることが要求される。本発明の液晶表示装置は、いずれの特性も満足し得る優れた視野角特性を示す。
【０２４０】
図２に、本発明の液晶表示装置の一態様の模式図を示す。図１に示す液晶表示装置は、バックライト（ＢＬ）側から順に、保護フィルム（１６ａ）、偏光層（１０ａ）、第２の光学異方性層（１２ａ）、第１の光学異方性層（１４ａ）、液晶セルの下基板（２２ａ）、ネマチック液晶層（２０）、液晶セルの上基板（２２ｂ）、第１の光学異方性層（１４ｂ）、第２の光学異方性層（１２ｂ）、偏光層（１０ｂ）、保護フィルム（１６ｂ）、さらにその外側に光拡散層（１８）を有する。本発明の偏光板Ｐは、表示面側偏光板として配置され、及び光拡散層１８が除かれている以外は、本発明の偏光板Ｐと同一の構成の偏光板Ｐ’が、バックライト側偏光板として配置されている。一対の偏光層（１０ａ及び１０ｂ）は、それぞれの透過軸を直交にして配置され、光学異方性層（１４ａ及び１４ｂ）はそれぞれ、液晶性組成物から形成され、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９〜１．１であり、第２の光学異方性層（１２ａ及び１２ｂ）はそれぞれ、Ｒｅ（５５０）が４０〜１２０ｎｍであり、且つＲｔｈ（５５０）が４０〜１００ｎｍであり、偏光層（１０ａ及び１０ｂ）を保護するとともに、第１の光学異方性層（１４ａ及び１４ｂ）を支持する機能を有する。第１及び第２の光学異方性層は、黒表示時、電圧印加時にネマチック液晶層（２０）に残留する複屈折性を補償する作用を有する。
【０２４１】
ＴＮモード液晶層２０は、ネマチック液晶材料からなり、黒表示時に、ネマチック液晶の分子が基板２２ａ及び２２ｂの表面に対して略垂直に配向する。液晶層２０の厚さｄ（ミクロン）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄについては特に制限はないが、一般的には、０．１〜１．５μｍ程度である。
【０２４２】
表示面側偏光板Ｐの光拡散層１８は、偏光層１０ｂを通過した光を散乱させる。光拡散層１８からの散乱光は、そのプロファイルが、出射角０°（フィルム法線方向）の光強度Ｉに対して、散乱強度が最大となる方位角において極角３０°方向の散乱光強度Ｉ₃₀、即ち、Ｉ₃₀／Ｉ、が０．０１〜０．２％である。図１の液晶表示装置では、表示面側偏光板Ｐにおいて、第１及び第２の光学異方性層（１２ｂ及び１４ｂ）と、所定の特性を満足する光拡散層１８とを組み合わせることにより、光拡散によって正面コントラストを損なうことなく、視野角を拡大するとともに、黒表示時のみならず、白〜中間調表示時の視野角表示特性を改善している。図２の液晶表示装置では、バックライト側偏光板Ｐ’も、第１及び第２の光学異方性層（１４ａ及び１２ａ）を有するので、さらに表示特性が改善されている。
【０２４３】
図２では、ＴＮモード液晶表示装置の態様について説明したが、ＴＮモードに限定されず、ネマチック液晶が黒表示時に垂直配向するモード、例えば、ＯＣＢモード、ＥＣＢモードのいずれであっても、本発明の効果が得られる。
【実施例】
【０２４４】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。以下では、便宜上、「質量部」を単に「部」と、「リットル」を単に「Ｌ」と記すことがある。
【０２４５】
［第２の光学異方性層］
（第２の光学異方性層用のフィルム１の作製）
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、その後、ＴＤ方向に１８５℃で２０％延伸し、フィルム１を作製した。なお、ＴＤ方向とは、フィルムの搬送方向と直交する方向を意味する。延伸後のフィルムの厚さは８０μｍであった。
【０２４６】
【表１】

【０２４７】
【化６４】

【０２４８】
【化６５】

【０２４９】
上記フィルム１の作製において、レターデーション制御剤（１）、レターデーション制御剤（２）の添加量、及び得られるウェブの延伸倍率を適宜変更することで、フィルム２〜１５をそれぞれ作製した。各レターデーション制御剤の添加量、ウェブ延伸倍率、及び得られた各フィルムの光学特性を、以下の表にまとめた。
【０２５０】
【表２】

【０２５１】
［第１の光学異方性層］
（配向膜の形成）
上記で作製したフィルム１の上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ²塗布した。１００℃の温風で１２０秒乾燥した。次に、光学異方性層２の長手方向（搬送方向）を０°とし、０°方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０２５２】
───────────────────────────────────
配向膜塗布液の組成
───────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール ４０質量部
水 ７２８質量部
メタノール ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）） ０．６９質量部
───────────────────────────────────
【０２５３】
（光学異方性層１（第１の光学異方性層）の形成）
配向膜上に、下記の組成の光学異方性層用塗布液を、＃３．４のワイヤーバーを７８１回転／分でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されている上記ロールフィルムの配向膜面に連続的に塗布した。室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を蒸発させて乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、約１２０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、１００℃の乾燥ゾーンに搬送し、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷して光学異方性層１を得た。円筒状に巻き取ってロール状の光学フィルム１を得た。
【０２５４】
───────────────────────────────────
光学異方性層塗布液組成
───────────────────────────────────
ディスコティック液晶化合物（１） ３８質量部
下記の波長分散制御剤（２） ３質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．１４質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ０．２２質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー
（メガファックＦ７８０、大日本インキ製） ０．４５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
───────────────────────────────────
【０２５５】
【化６６】

【０２５６】
（光学異方性層２〜１５の形成）
光学異方性層１の作製方法において、波長分散制御剤（２）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１）の添加量を適宜変更することで、光学異方性層２〜１５をそれぞれ、フィルム２〜１５の上に形成し、光学フィルム１〜１５をそれぞれ作製した。なお、光学異方性層１０の形成には、ディスコティック液晶化合物（１）の代わりに下記のディスコティック液晶化合物（３）を使用した。各添加剤の添加量、及び得られた光学異方性層の光学特性を、以下の表にまとめた。
【０２５７】
【化６７】

【０２５８】
【表３】

【０２５９】
＜光学フィルム１６の作製＞
（開環重合環状ポリオレフィンドープの調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
【０２６０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液Ａ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アートンＧ（ＪＳＲ株式会社製） １５０質量部
メチレンクロライド ５５０質量部
エタノール ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６１】
次に上記方法で調製した開環重合環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を、分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
【０２６２】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２ 日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド ７５質量部
エタノール ５質量部
環状ポリオレフィン溶液Ａ １０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６３】
上記環状ポリオレフィン溶液を１００質量部と、マット剤分散液を１．１質量とを混合し、製膜用ドープを調製した。
【０２６４】
上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約２２質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、テンターを用いて５０％の延伸率で幅方向に延伸した。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に１２０℃から１４０℃で乾燥し巻き取った。作製してできた環状ポリオレフィンフィルム１６の厚さは８０μｍ、また２５℃、６０％ＲＨ環境下でのＲｅ（５５０）が７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８０ｎｍであった。即ち、このフィルム１６は、第２の光学異方性層としての条件を満足していた。このフィルム１６を真鍮製の上下電極間（アルゴンガス雰囲気）で、グロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）した。
この処理面に、光学異方性層１と同様にして、光学異方性層１６を形成し、光学フィルム１６を作製した。
【０２６５】
（光学特性の測定）
作製した光学フィルム１６から、光学異方性層１６を剥離・ガラス板上に粘着剤を介して転写した。なおガラス板・粘着剤は光学的等方性のものを使用した。
光学異方性層１６を、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨを用いて、波長５５０ｎｍの面内レターデーションンＲｅ（５５０）を測定したところ、Ｒｅ（５５０）は３４ｎｍであった。また、光学異方性層１６中、ディスコティック化合物の分子は、ハイブリッド配向状態に固定されていて、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍになる方向が存在せず、且つＲｅ（５５０）の絶対値が最小となる方向が、層の法線方向にも面内にもないことを、フィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲから確認した。
同様にして波長４５０ｎｍのＲｅ（４５０）を測定したところ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０９であった。
【０２６６】
［光拡散フィルム（高内部散乱フィルム）］
（光拡散層用塗布液１の調製）
下記塗布液１を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液を調製した。
【０２６７】
光拡散層用塗布液１
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ＤＰＨＡ １５ｇ
ＰＥＴＡ ７３ｇ
イルガキュア１８４ １ｇ
イルガキュア１２７ １ｇ
平均粒径５．０μｍスチレン粒子 ８ｇ
平均粒径１．５μｍベンゾグアナミン粒子 ２ｇ
ＭＥＫ ５０ｇ
ＭＩＢＫ ５０ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６８】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート［日本化薬（株）製］
・イルガキュア１２７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
【０２６９】
［光拡散フィルム（高内部散乱フィルム）］
（光拡散層用塗布液２の調製）
下記塗布液２を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光
拡散層用塗布液を調製した。
光拡散層用塗布液２
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ＤＰＨＡ ８０ｇ
イルガキュア１８４ １ｇ
イルガキュア１２７ １ｇ
平均粒径１．５μｍメラミン粒子 １８ｇ
ＭＥＫ ３０ｇ
ＭＩＢＫ ７０ｇ
──────────────────────────────────
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア１２７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・粒径１．５μｍメラミン粒子：オプトビーズ［日産化学（株）製］
【０２７０】
（低屈折率層用塗布液の調製）
・ゾル液の調製
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０２７１】
・分散液の調製
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００ｇに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０ｇ、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５ｇ加え混合した後に、イオン交換水の９ｇを加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８ｇを添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０２７２】
・低屈折率層用塗布液の調製
エチレン性不飽和基含有含フッ素ポリマー（特開２００５−８９５３６号公報製造例３に記載のフッ素ポリマー（Ａ−１））固形分として４１．０ｇをメチルイソブチルケトン５００ｇに溶解し、更に、分散液Ａを２６０質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として５２．０質量部）、ＤＰＨＡ ５．０質量部、イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバスペシャルティーケミカルス製）２．０質量部を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になるようにメチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３６であった。
【０２７３】
（光拡散層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、光拡散層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度０．２％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、光拡散層を形成し、その後、巻き取った。ここで、光拡散層用塗布液および塗布層の厚さを適宜変更することで、光拡散層１１〜１３及び２１〜２３をそれぞれ作製した。
使用した塗布液、及び得られた光拡散層の厚さと光学特性を、以下の表にまとめた。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光拡散層１１ 塗布液１ 厚さ ８．０μｍ Ｉ₃₀／Ｉ ０．１０％
光拡散層１２ 塗布液１ 厚さ ５．０μｍ Ｉ₃₀／Ｉ ０．０５％
光拡散層１３ 塗布液１ 厚さ２０．０μｍ Ｉ₃₀／Ｉ ０．２７％
光拡散層２１ 塗布液２ 厚さ ７．０μｍ Ｉ₃₀／Ｉ ０．０５％
光拡散層２２ 塗布液２ 厚さ １．５μｍ Ｉ₃₀／Ｉ ０．００７％
光拡散層２３ 塗布液２ 厚さ２０．０μｍ Ｉ₃₀／Ｉ ０．２２％
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２７４】
（低屈折率層の形成）
上記の様にして形成した光拡散層の上に、スロットルダイを有するコーターを用いて、低屈折率層用塗布液をバックアップロール上のハードコート層を塗布してある面上に直接押し出して塗布し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、その後巻き取った。この様にして、光拡散フィルム１１〜１３及び２１〜２３を作製した。乾燥・硬化条件を以下に示す。
乾燥：９０℃で６０秒間乾燥した。
硬化：窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した。
【０２７５】
［実施例１〜１０及び比較例１〜６］
（偏光板の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した各光学フィルムの裏面（支持体であるフィルム１〜１６の光学異方性層１〜１６が形成されていない側の表面）を１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
前記のように鹸化処理を行った各光学フィルムを、同じく鹸化処理を行った光拡散フィルム１１と組合せて前記の偏光膜を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて鹸化処理面を貼り合せ、観察者側の偏光板を得た。
また、液晶表示装置のバックライト側の偏光板として、光拡散フィルムの代わりに市販のセルロースアセテートフィルムとしてフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いて、同様に偏光板を得た。このとき、偏光膜及び偏光膜両側の保護膜はロール形態で作製されているため各ロールフィルムの長手方向が平行となっており連続的に貼り合わされる。従って各光学フィルムロール長手方向（フィルムの流延方向）と偏光子吸収軸とは平行な方向となった。
【０２７６】
（ＴＮ型液晶表示装置の作製及び評価）
図１と同様の構成のＴＮモード液晶表示装置を作製した。具体的には、ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記の作製した観察者側及びバックライト側の偏光板を、各光学フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置した。この様にして、ＴＮ型液晶表示装置を作製した。また、光拡散層を使用しない液晶表示装置として、バックライト側用途で作製した偏光板を、観察者側及びバックライト側の両方に配置し、ＴＮ型液晶表示装置を作製した。
【０２７７】
（視野角測定方法）
実施例１〜１０、ならびに比較例１〜６で作製した液晶表示装置について、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ０）から白表示（Ｌ７）までで視野角を測定した。上下横及び正面方位で、極角８０度におけるコントラスト比（白透過率／黒透過率）を求めた。
【０２７８】
【表４】

【０２７９】
上記表に示す結果から、実施例１〜１０では、光拡散層１１を利用した液晶表示装置の正面コントラストが、光拡散層を使用しない形態の正面コントラストに対して９０％以上で、高コントラストを維持することが分かった。一方、比較例１〜６の液晶表示装置では正面コントラスが９０％未満となり、低コントラストとなることが分かった。
即ち、本発明の実施例１〜１０の液晶表示装置では、正面コントラストを過度に低下させることなく、光拡散層による広視野角化を達成できることを理解できる。
【０２８０】
［実施例１２及び２１ならびに比較例１３、２２及び２３］
観察者側の偏光板として、光拡散フィルム１１のかわりに光拡散フィルム１２〜１３及び２１〜２３をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１２及び２１ならびに比較例１３、２２及び２３を得た。
【０２８１】
（ＴＮ型液晶表示装置の作製及び評価）
図１と同様の構成のＴＮモード液晶表示装置を作製した。評価は実施例１〜１０、比較例１〜６と同様にして行った。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上ＣＲ 下ＣＲ 横ＣＲ 正面未使用 正面使用
実施例１ 光拡散フィルム１１ ５３ １０４ １４２ １００４ ９５４
実施例１２ 光拡散フィルム１２ ４７ ９３ １３２ １００４ ９７９
比較例１３ 光拡散フィルム１３ ６８ １２９ １７５ １００４ ８３３
実施例２１ 光拡散フィルム２１ ５６ １０７ １４９ １００４ ９４６
比較例２２ 光拡散フィルム２２ ３９ ７０ １０３ １００４ ９９１
比較例２３ 光拡散フィルム２３ ６２ １２１ １７１ １００４ ７８４
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２８２】
上記表に示す結果から、実施例１、１２及び２１では、光拡散層を利用した液晶表示装置の正面コントラストが、光拡散層を使用しない形態の正面コントラストに対して９０％以上で、高コントラストを維持することが分かった。一方、比較例２２の液晶表示装置では正面コントラストは９０％以上であるものの、上下方向および横方向のコントラストが低く、広視野角化を達成できない。また、比較例１３及び２３の液晶表示装置は正面コントラストが光拡散層を使用しない形態の正面コントラストに対して９０％未満となり、低コントラストとなることが分かった。
即ち、Ｉ₃₀／Ｉが０．０１〜０．２％である光拡散フィルムを用いた本発明の実施例１２及び２１１１〜２３の液晶表示装置では、正面コントラストを過度に低下させることなく、光拡散層による広視野角化を達成できることを理解できる。
【０２８３】
（実施例１−ａ〜１−ｇ）
実施例１の第１の光学異方性層の形成に用いる塗布液の調製において、ディスコティック液晶化合物（１） ３８質量部の代わりに、下記表に示すディスコティック液晶化合物Ａ ３４質量部及びディスコティック液晶化合物Ｂ ４質量部を用いた以外は、同様に調製した各塗布液を用いて、第１の光学異方性層をそれぞれ形成した。表５において、例えば「Ｄ-112（特開2006-76992号公報）」という記載は、特開2006-76992号公報に記載の例示化合物Ｄ-112を表す。
【０２８４】
【表５】

【０２８５】
形成したいずれの第１の光学異方性層も、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９〜１．１の範囲内であり、及びＲｅ（５５０）が２０〜５５ｎｍの範囲であった。
それ以外は、実施例１と同様にして各偏光板を作製し、さらに、当該偏光板を用いて、実施例１と同様にして、各液晶表示装置を作製し、評価した。
実施例１−ａ〜１−ｇの液晶表示装置も、実施例１の液晶表示装置と同様、正面コントラストが、光拡散層を使用しない形態の正面コントラストに対して９０％以上で、高コントラストを維持することが分かった。より具体的には、本発明の実施例１−ａ〜１−ｇの液晶表示装置では、正面コントラストを過度に低下させることなく、光拡散層による広視野角化を達成できることがわかった。
【符号の説明】
【０２８６】
１０、１０ａ、１０ｂ 偏光層
１２、１２ａ、１２ｂ 第２の光学異方性層
１４、１４ａ、１４ｂ 第１の光学異方性層
１６、１６ａ、１６ｂ 保護フィルム
１８ 光拡散層
Ｐ、Ｐ’ 偏光板

【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光層、第１及び第２の光学異方性層、及び光拡散層を有する偏光板であって、前記第１の光学異方性層が液晶組成物から形成された層であり、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９〜１．１であり、前記第２の光学異方性層のＲｅ（５５０）が４０〜１２０ｎｍであり、且つ波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が４０〜１００ｎｍであり、及び前記光拡散層のゴニオフォトメータの散乱光プロファイルが、出射角０°（層面に対して法線方向）の光強度に対して、散乱強度が最大となる方位角において極角３０°方向の散乱光強度が０．０１〜０．２％であることを特徴とする偏光板。
【請求項２】
前記第１の光学異方性層が、少なくとも一種のディスコティック液晶化合物を含有する液晶組成物から形成された層であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記少なくとも一種のディスコティック液晶化合物が、下記一般式（ＤＩ）で表される液晶化合物であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板：
【化１】

［式中、
Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；
Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；
Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³は、それぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ａ）：
【化２】

（一般式（ＤＩ−Ａ）中、
ＹＡ¹及びＹＡ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す。）
又は一般式（ＤＩ−Ｂ）：
【化３】

（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、
ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す。）を表し；
Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）：
一般式（ＤＩ−Ｒ）
−（−Ｌ²¹−Ｑ²）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、
は一般式（ＤＩ）におけるＨ¹〜Ｈ³側と結合する位置を表し；
Ｌ²¹は単結合又は二価の連結基を表し；
Ｑ²は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基を表し；
ｎ¹は、０〜４の整数を表し、Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、ここで、＊＊はＱ²側と結合する位置を表し；
Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ¹⁰¹）−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ¹⁰¹は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、＊＊はＱ²側と結合する位置を表し；
Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及びＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；
Ｑ¹は重合性基又は水素原子を表す）
を表す。］
【請求項４】
前記第１の光学異方性層が、下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物を含有する、又は下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板：
【化４】

式中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し、ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；ｎは０〜２の整数を表し；
【化５】

式中、ＭＧ¹及びＭＧ²はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ¹及びＭＧ²を構成する環状基の１つは、Ｌ¹¹及びＬ¹²で置換され；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ¹¹及びＬ¹²はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ¹及びＭＧ²に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
【化６】

式中、＊はＭＧ¹を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ¹と連結する位置を表し；Ａ¹¹、Ａ¹³及びＡ¹⁴はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ₂−を表し；Ａ¹²は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ¹は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ¹は、＊＝ＣＨ−Ｐ¹¹−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ¹¹−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ¹¹は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ¹¹及びＬ¹²の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ¹は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ¹¹−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ¹¹−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ¹¹−Ｎ＝を表し；Ｐ¹¹は上記Ｐ¹¹と同義である。
【請求項５】
前記第２の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項６】
前記第２の光学異方性層が、シクロオレフィン系ポリマーフィルム又はポリカーボネートフィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項７】
前記第２の光学異方性層の面内の遅相軸と前記偏光層の面内の透過軸との交差角が０度であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項８】
少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持され、ネマチック液晶材料を含み、黒表示時に該ネマチック液晶材料の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して略垂直に配向し、厚さｄ（ミクロン）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．１〜１．５μｍである液晶層とを有する液晶セル、及び請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
前記偏光板が、前記液晶セルに対して表示面側に配置される偏光板であることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２００９−１９９０７０（Ｐ２００９−１９９０７０Ａ）
【公開日】平成２１年９月３日（２００９．９．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１０６７４（Ｐ２００９−１０６７４）
【出願日】平成２１年１月２１日（２００９．１．２１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】