説明

光とフッ化水素酸による高所の洗浄。

【課題】 高いビル等、危険な場所の洗浄作業を安全に行なう。
【解決手段】 レーザー光線とフッ化水素及びフッ化水素酸により、安全に高いビル等の洗浄作業を行なう。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
レーザー光線や電磁波の発信部分に、フッ化水素及びフッ化水素酸を塗付する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
高所の安全な洗浄作業。
【課題を解決するための手段】
レーザー光線や電磁波の発信部分に、フッ化水素又はフッ化水素酸を塗付して、照射する事により、ビル等の高所作業を安全に行なう。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
フッ化水素及びフッ化水素酸はレーザー光線に照射される事により、数十メートル以上移動して、レーザー光線と共に、目標物に到達する。
【請求項2】
フッ化水素及びフッ化水素酸は電磁波に照射される事により、数十メートル以上移動して、電磁波と共に、目標物に到達する。

【公開番号】特開2012−143738(P2012−143738A)
【公開日】平成24年8月2日(2012.8.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−36417(P2011−36417)
【出願日】平成23年1月12日(2011.1.12)
【出願人】(511047332)
【Fターム(参考)】