光反応の特性を利用する高選択的新規ベンゾ四環系化合物の一段階合成法の開発
【課題】 天然に存在する各種生理活性物質と同様の構造の化合物を効率よく、また選択性よく化学合成法で合成するための手段が必要とされている。
【解決手段】
このような複雑な反応系において、紫外光を用いて光を十分に照射し反応を行うことによって、副反応を抑え選択的に天然に存在する各種生理活性物質と同様の構造の化合物を効率よく一段階で合成できることが確認された。
【解決手段】
このような複雑な反応系において、紫外光を用いて光を十分に照射し反応を行うことによって、副反応を抑え選択的に天然に存在する各種生理活性物質と同様の構造の化合物を効率よく一段階で合成できることが確認された。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を用いた有機合成反応において、複雑な骨格をもつ新規ベンゾ四環系化合物を一段階で効率よく選択的に合成できることに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機合成化学の分野において光反応による複雑な環状の炭素骨格の構築に関する検討が活発に進められている。
しかし光反応を利用する場合、熱反応では合成が困難な骨格形成が可能である反面、生成物への過剰な光照射により、原料への逆反応や副反応および二次反応による複雑な反応系になる場合が少なくない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、以上のような光反応によって一段階で複雑な多環系化合物を合成した例は少なく、特にベンゼン環に３つの連続したシクロペンタン環がつながった骨格をもつ化合物の合成法の検討はほとんど行われていない。
【０００４】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、光反応の特性を利用して高効率・高選択的に合成する方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、 一般式（Ｉ）で表される化学反応式において、紫外光を十分に照射する方法に関する。
【化１】
一般式（Ｉ）
【０００６】
本発明は、一般式（ＩＩ）で表される副反応が溶媒の極性によって抑制されること、また可逆的に出発物質に戻ることを利用して、十分に紫外光を照射することによって副反応を抑え選択性を向上させ、反応効率も向上させることで、初期の目的を達成しようとするものである。
【化２】
一般式（ＩＩ）
【発明の効果】
【０００７】
すなわち、請求項１に記載の発明によれば、一般式（Ｉ）で表される化学反応式において、紫外光を十分に照射することによって、一般式（ＩＩ）の可逆的な副反応を抑え、一般式（Ｉ）の反応を高収率で得ることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、実施例をもって本発明を説明するが、これらに限定されるものではない。
（実施例１〜６）
【０００９】
光反応装置は、内径８ｍｍのパイレックス（登録商標）ガラス製反応管を用いた。出発物質はＥＷＧがＣＮ基およびＣＯ２Ｍｅ基、ＸはＯ、Ｃ（ＣＯ２Ｍｅ）２およびＣ(ＣＮ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はＨまたはＭｅ基である。また使用した溶媒、光照射時間および収率を表１に示した。
【表１】
ｂ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｃ(ＣＯ２Ｍｅ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｃ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｄ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ
ｅ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｆ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
（比較例１〜６）
比較例１〜６において、紫外光を照射する時間および溶媒以外は実施例１〜６とまったく同様にして紫外光を照射する時間を短くして反応を行った。結果は表２に示す。
【表２】
100%にならない場合はその他の生成物が副生
ａ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｃ(ＣＮ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ
ｂ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｃ(ＣＯ２Ｍｅ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｃ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｄ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ
ｅ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｆ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
【産業上の利用可能性】
【００１０】
本発明は、天然に存在する生理活性物質と同様の構造をもつ化合物を効率よく合成するための手段として最適である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を用いた有機合成反応において、複雑な骨格をもつ新規ベンゾ四環系化合物を一段階で効率よく選択的に合成できることに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機合成化学の分野において光反応による複雑な環状の炭素骨格の構築に関する検討が活発に進められている。
しかし光反応を利用する場合、熱反応では合成が困難な骨格形成が可能である反面、生成物への過剰な光照射により、原料への逆反応や副反応および二次反応による複雑な反応系になる場合が少なくない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、以上のような光反応によって一段階で複雑な多環系化合物を合成した例は少なく、特にベンゼン環に３つの連続したシクロペンタン環がつながった骨格をもつ化合物の合成法の検討はほとんど行われていない。
【０００４】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、光反応の特性を利用して高効率・高選択的に合成する方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、 一般式（Ｉ）で表される化学反応式において、紫外光を十分に照射する方法に関する。
【化１】
一般式（Ｉ）
【０００６】
本発明は、一般式（ＩＩ）で表される副反応が溶媒の極性によって抑制されること、また可逆的に出発物質に戻ることを利用して、十分に紫外光を照射することによって副反応を抑え選択性を向上させ、反応効率も向上させることで、初期の目的を達成しようとするものである。
【化２】
一般式（ＩＩ）
【発明の効果】
【０００７】
すなわち、請求項１に記載の発明によれば、一般式（Ｉ）で表される化学反応式において、紫外光を十分に照射することによって、一般式（ＩＩ）の可逆的な副反応を抑え、一般式（Ｉ）の反応を高収率で得ることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、実施例をもって本発明を説明するが、これらに限定されるものではない。
（実施例１〜６）
【０００９】
光反応装置は、内径８ｍｍのパイレックス（登録商標）ガラス製反応管を用いた。出発物質はＥＷＧがＣＮ基およびＣＯ２Ｍｅ基、ＸはＯ、Ｃ（ＣＯ２Ｍｅ）２およびＣ(ＣＮ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はＨまたはＭｅ基である。また使用した溶媒、光照射時間および収率を表１に示した。
【表１】
ｂ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｃ(ＣＯ２Ｍｅ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｃ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｄ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ
ｅ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｆ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
（比較例１〜６）
比較例１〜６において、紫外光を照射する時間および溶媒以外は実施例１〜６とまったく同様にして紫外光を照射する時間を短くして反応を行った。結果は表２に示す。
【表２】
100%にならない場合はその他の生成物が副生
ａ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｃ(ＣＮ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ
ｂ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｃ(ＣＯ２Ｍｅ) ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｃ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｄ：ＥＷＧ＝ＣＮ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ
ｅ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
ｆ：ＥＷＧ＝ＣＯ２Ｍｅ、Ｘ＝Ｏ、Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２、Ｒ３＝ＣＨ３
【産業上の利用可能性】
【００１０】
本発明は、天然に存在する生理活性物質と同様の構造をもつ化合物を効率よく合成するための手段として最適である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）で表される化学反応式において、紫外光を用いる高選択的な新規ベンゾ四環系化合物の一段階合成法。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）において、ＥＷＧはＣＮ基、ＣＯ２ＣＨ３基であり、ＸはＯ、ＮＲ、ＳｉＲ′Ｒ″、Ｃ（ＣＮ）２、Ｃ（ＣＯ２Ｒ）２であり、Ｒはアシル基またはアルコキシカルボニル基、Ｒ′、Ｒ″はアルキル基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はＨ、ＣＨ３からなる群から選択されたいずれかの基であることを特徴とする、請求項１に記載の反応方法。
【請求項１】
一般式（Ｉ）で表される化学反応式において、紫外光を用いる高選択的な新規ベンゾ四環系化合物の一段階合成法。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）において、ＥＷＧはＣＮ基、ＣＯ２ＣＨ３基であり、ＸはＯ、ＮＲ、ＳｉＲ′Ｒ″、Ｃ（ＣＮ）２、Ｃ（ＣＯ２Ｒ）２であり、Ｒはアシル基またはアルコキシカルボニル基、Ｒ′、Ｒ″はアルキル基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はＨ、ＣＨ３からなる群から選択されたいずれかの基であることを特徴とする、請求項１に記載の反応方法。
【公開番号】特開２００７−７０２８８（Ｐ２００７−７０２８８Ａ）
【公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２５９０９０（Ｐ２００５−２５９０９０）
【出願日】平成１７年９月７日（２００５．９．７）
【出願人】（５０５１２７７２１）公立大学法人大阪府立大学 (688)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月７日（２００５．９．７）
【出願人】（５０５１２７７２１）公立大学法人大阪府立大学 (688)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]