光学シート、面光源装置及び画像表示装置
【課題】凸状の光学単位を有する光学機能発現部を設けた光学シートの当該光学機能発現部に優れた耐指跡性（指跡付着防止性）を付与する。
【解決手段】透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする光学シート。
【解決手段】透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする光学シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐指跡性に優れる光学シート、並びに当該光学シートを備える面光源装置及び画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等のディスプレイにおいては、光を屈折、回折、干渉又は分散等させることにより、集光、収束、拡散、偏向又は反射等させる機能を有する光学シートが用いられている。このような光学シートとしては、例えば、液晶表示装置等のバックライト（面光源装置）に用いられるプリズムシート、オーバーヘッドプロジェクターのコンデンサーレンズ等に用いられるフレネルレンズシート等を挙げることができる。
上記光学シートとしては、基材と、当該基材上に、所定の屈折率を備えた単位プリズム又は単位レンズ等の凸状の光学単位を複数配列した凹凸形状の光学機能発現部と、光学機能発現部と反対側の基材上にバインダー樹脂を含む裏面層（例えば、マット層、ハードコート層など）を有する光学シートが広く知られている。
【０００３】
従来、光学シートを生産・梱包する過程、所定形状に切り抜く過程、重ね合わせる過程、或いは、装置の組立作業を行うときなど様々な場面において、不注意にも光学シートを手で掴むと、その表面に指跡（指紋）が付着しやすいという問題がある。また、光学シートを手で掴まないように気をつけたとしても、偶然に光学シートが人体に直接接触すると、光学シートの表面に皮膚が接触した痕跡（皮膚接触痕）が残る場合がある。
光学シート表面に指跡等の皮膚接触痕が付着するのを防止するための従来の方法としては、防汚剤を光学シートに含有させることが知られている。特許文献１には、光学積層体に用いられるハードコート層に、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤として、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物を含有させ、その含有量を、当該ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上となるようにすることを記載している（請求項１）。また、特許文献１の実施例では、ハードコート層の表面に対する人工指紋液（ＪＩＳ Ｋ２２４６）と水の接触角を測定し、その測定値に基づいて防汚性を評価している（段落０１０２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６４２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記実情を鑑みたものであり、凸状の光学単位を有する光学機能発現部を設けた光学シートの当該光学機能発現部に優れた耐指跡性（指跡付着防止性）を付与することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光学シートは、透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、
前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする。
【０００７】
本発明に係る面光源装置は、面光源の光放出面側に前記本発明に係る光学シートを備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る画像表示装置は、画像表示装置本体の背面側に、前記本発明に係る面光源装置を配置してなることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、凸状の光学単位を有する光学機能発現部の耐指跡性（指跡付着防止性）に優れる光学シート、並びに当該光学シートを備える面光源装置及び画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る光学シートの一例を示した模式的な斜視図である。
【図２】本発明に係る光学シートの層構成の一例を示した模式的な断面図である。
【図３】本発明に係る面光源装置の一例を示した模式的な断面図である。
【図４】本発明に係る液晶表示装置の一例を示した模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１２】
本発明において、（メタ）アクリル樹脂は、アクリル樹脂及び／又はメタクリル樹脂を表し、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念である。
なお、フィルムとシートのＪＩＳ−Ｋ６９００での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅のわりには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。したがって、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの及び薄いものの両方の意味を含めて、「シート」と定義する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ＴＨＦ溶剤におけるゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
【００１３】
（光学シート）
本発明に係る光学シートは、透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、
前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする。
【００１４】
本発明者らは、光学シートの指跡付着性を調査したところ、凸状の光学単位を有する光学機能発現部は、裏面層と比べて指跡が付着しやすく、光学機能発現部に含有される防汚剤の量が、裏面層の指跡付着を防止できる防汚剤の量と同じでも、光学機能発現部に指跡が付着することが判明した。
そこで、本発明者らは光学シートの表裏で指跡付着性の程度に差が生じた理由について、その原因を鋭意分析検討した結果、指跡には主に皮脂の付着と加圧による永久変形の二種類の原因があると考えた。つまり、光学シートの光学機能発現部側を手で掴もうとすると、凸状の光学単位の尖った頂上付近だけに指が接触し、接触面積が限定され、光学機能発現部に対する指の接触圧力が裏面層に対する指の接触圧力よりも大きくなるため、特に光学機能発現部の指紋と思われていた痕跡は、表面に皮脂が強く付着するいわゆる狭義の指紋だけでは無く、これに加えて、指跡の凹凸形状が、指が接触した際の加圧によって転写して永久変形することも一因となっている、と考えた。これは、光学機能発現部は、稜線が最外部に突出した三角柱プリズムに代表されるような突起部(稜線乃至頂点)を有し、該突起部は狭い面積で指の加圧力を受ける為、応力が集中し、変形が予想外に顕著に残るためである。それゆえ、単に防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を添加するのみでは十分に指跡を解消し得なかったことが判明した。
そして、光学機能発現部側を手で掴もうとしたときに、光学機能発現部が指の形に合わせて変形し接触圧力を軽減できる柔軟性と、指が離れた後に元の凸状に戻れる復元性を有していれば、加圧による永久変形を防ぐことができ、耐指跡性（指跡付着防止性）の向上に貢献することを突き止めた。
本発明は、かかる知見に基づいて成し遂げられたものである。
【００１５】
以下、本発明に係る光学シートについて図面を用いて詳細に説明する。なお、図１以下の図面では、説明の便宜上、縦横の寸法比及び各層間の寸法比は適宜、実寸とは変えて誇張して図示してある。
図１は、本発明に係る光学シートの一例を示した模式的な斜視図であり、図２は、本発明に係る光学シートの層構成の一例を示した模式的な断面図であり、三角柱プリズムの延在する方向に直角な横断面（主切断面）を示す。尚、本発明において主切断面とは、透明基材の平面の法線方向（以下、単に「厚さ方向」と称することがある。）を含み、且つ光学単位の稜線方向と直交する切断面を意味する。
図１及び図２に示す光学シート１０は、透明基材１１上に光学機能発現部１２が設けられており、透明基材１１の光学機能発現部１２が無い側に、裏面層１３が設けられている。光学機能発現部１２は、凸状の光学単位１２ａが複数配列してなり、図１及び図２では、光学単位１２ａの一例として、三角柱形状のプリズム単位を備える光学シートを示す。
【００１６】
以下、本発明に係る光学シートの必須の構成要素である透明基材、光学機能発現部及び裏面層、並びに必要に応じて適宜設けることができる光拡散層について説明する。
【００１７】
（透明基材）
透明基材は、特に限定されず、従来公知の光学シートに用いられている透明基材を用いることができる。透明基材は、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のものを用いることができる。
透明基材は、所望の透明性、機械的強度等の要求適性を勘案の上、材料及び厚さを適宜選択すればよい。
透明基材は、通常、樹脂基材とする。透明基材の樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）樹脂及びシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）樹脂等が好ましい。
【００１８】
透明基材は、長尺形状であっても良いし、所定の大きさからなる枚葉形状であっても良い。
透明基材の厚さは、通常は５０〜５００μｍが好ましいが、これに限定されない。
透明基材の光透過率としては、画像表示装置の前面設置用としては、１００％が理想であり、透過率８５％以上であることが好ましい。
【００１９】
（光学機能発現部）
光学機能発現部は、頂点または稜線を有する凸状の光学単位が複数配列してなる。当該光学機能発現部は、通常、透明基材の上に形成されるが、透明基材と光学機能発現部とが一体成形されていても良い。この場合、特に限定されないが、後述する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて、透明基材上に光学機能発現部を積層成形することが好ましい。
本発明に係る光学シートは、例えば、光学機能発現部の凹凸形状において、光を屈折又は反射等の幾何光学的作用によって変調させて、集光、拡散、屈折又は反射等の所望の機能を発現するプリズムシート又はレンズシート等として用いることができ、光学機能発現部を構成する光学単位の形状は、要求される性能に応じて適宜選択又は設定することができる。
以下、本発明に係る光学シートをプリズムシート又はレンズシートとして用いる場合の光学機能発現部の具体的な形状（構造）を説明する。
【００２０】
プリズムシートとしての光学機能発現部の具体的な形状（構造）を例示すると、三角柱（図１参照）、四角柱、五角柱等の角柱状の単位プリズム（光学単位）をその稜線方向（延在方向）と直交する方向に多数配列したもの（プリズム線状配列）が挙げられる。
上述したような角柱状の単位プリズム（光学単位）の場合、光学機能発現部の厚さＴ（図２に示すように凹凸形状の凸状頂部から透明基材側の面までの距離）は、その稜線方向で均一であっても良いし、均一でなくとも良い。例えば、周縁部に近いほど高く、中央部に近いほどが低いというように稜線方向で異なっていても良い。
【００２１】
この他、プリズムシートとしての光学機能発現部の凹凸形状の具体的な形状の一例としては、円錐、又は三角、四角、五角若しくは六角等の角錐等の光学単位を透明基材表面に二次元的に複数配列したものが挙げられる。
【００２２】
単位プリズム（光学単位）の主切断面における形状は、頂点を有すれば特に限定されないが、図２のように二等辺三角形としても良いし、図示しないが不等辺三角形としても良い。
主切断面における三角形の単位プリズム（光学単位）の頂角の値は、４０〜１２０°の範囲で調節することができる。
【００２３】
レンズシートとしては、例えば、光学機能発現部を構成する光学単位の凸部に頂点を有する環状又は線状のフレネルレンズ等が挙げられる。
【００２４】
本発明において、光学単位の頂部は図１及び図２のような典型的に尖った形状でも良いし、図示しないが厚さ方向の断面の頂部近傍が曲率半径１〜２０μｍの面取りされた鈍い頂点でも良い。
【００２５】
光学機能発現部の厚さＴ（図２参照）は、要求される性能に応じて適宜調節すれば良く、通常、２０〜１０００μｍである。尚、当該厚さＴは、稜線方向で厚さが異なる場合は最大となる箇所の厚さとする。
【００２６】
また、前記光学機能発現部は、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定される押し込み深さが０．６μｍ以上であり、好ましくは０．８μｍ以上である。これにより、当該光学単位は優れた形状復元性を有するため、指が接触した際等の加圧によって永久変形せず、光学機能発現部の耐指跡性が向上する。
上記押し込み深さは、（株）フィッシャー・インストルメンツ製の微小硬さ試験機（商品名ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ５００、圧子はダイヤモンド製の四角錐型、対面角９０°）で測定することができる。
【００２７】
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、単に「組成物」ということがある。）を、活性エネルギー線の照射により硬化して形成することができる。
なお、本発明において「活性エネルギー線」とは、可視光並びに紫外線及びＸ線等の非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線及びα線のような粒子線を総称する、活性エネルギー線硬化性基を有する分子に架橋反応乃至重合反応を生じせしめるに足るエネルギー量子を持った放射線が含まれる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましい。
【００２８】
前記組成物のバインダー樹脂としては、例えば、従来公知の光学シート形成用の（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能若しくは多官能のモノマー、オリゴマー又はプレポリマー等を用いることができる。
単官能のモノマーとしては、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のビニルモノマー、（メタ）アクリル酸エステルモノマー及び（メタ）アクリルアミド誘導体が挙げられる。
多官能のモノマーとしては、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジオールジ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
反応性プレポリマーとしては、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
また、前記組成物は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有する。これにより、光学機能発現部は、皮脂に起因する指跡がつき難くなり、耐指跡性が向上する。
【００３０】
前記ケイ素系化合物としては、その化合物の末端または側鎖が、変性されたものが好ましくは挙げられる。そのようなケイ素系化合物としては、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表わされるものが挙げられる。
【００３１】
【化１】
（上記式中、Ｒは、疎水基として、メチル基、フッ素原子、アクリル基、又はメタクリル基であり、親水基として、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、或いはこれらの混合基であってよく、Ｒ１はアルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｘは０〜１２００であり、Ｙは０〜１２００である。）
【００３２】
また、前記ケイ素系化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、東芝シリコーン社製のＴＳＦシリーズ、信越化学社製のＸ２２シリーズ及びＫＦシリーズ、チッソ社製のサイラプレーンシリーズ等の反応基を有しないケイ素系化合物や、新中村化学社製のＳＵＡ１９００Ｌ１０（重量平均分子量４２００）及びＳＵＡ１９００Ｌ６（重量平均分子量２４７０）、信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００、ＧＥ東芝シリコーン社製のＵＶＨＣ１１０５及びＵＶＨＣ８５５０等の反応基を有するケイ素系化合物を用いることができる。
【００３３】
前記フッ素系化合物の具体例としては、下記一般式：
（Ａ）ｗ−（Ｂ）ｘ−（Ｄ）ｙ−ＣＦ３
（上記式中、Ａは、ＣＦ２、ＣＦＣＦ２、Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｂは、ＯＣＦ２ＣＦ２、ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ２）２、ＯＣＦ（ＣＦ２）ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ（ＣＦ２）Ｃ（ＣＦ２）２、ＯＣ（ＣＦ２）２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣ（ＣＦ２）２Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｄは、ＯＣＨ２ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ２）ｚからなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚは０超過５０以下の数を表す。）
で表わされるものが挙げられる。
【００３４】
また、前記フッ素系化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、大日本インキ社製のメガファックシリーズ、例えば、ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４４５、Ｆ４５５、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等の反応基を有しないフッ素系化合物や、大日本インキ社製のディフェンサＴＦ３００１、ディフェンサＴＦ３０００及びディフェンサＴＦ３０２８等の反応基を有するフッ素系化合物を用いることができる。
【００３５】
前記防汚剤の数平均分子量は、特に限定されないが、通常５００以上１０万以下であり、好ましくは下限が７５０以上であり、より好ましくは１０００以上であり、好ましくは上限が７万以下であり、より好ましくは５万以下である。
【００３６】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記防汚剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する２官能以上の多官能アクリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アクリレートとしては、例えば、２官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、２官能ウレタンアクリレート、２官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。３官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。４官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。５官能以上のアクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００３７】
前記組成物中における前記防汚剤の含有量は、光学機能発現部の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上となるように適宜定め、好ましくは４％以上となるように適宜定める。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記下限値未満であると、光学機能発現部の耐指跡性が不十分となる。また、防汚剤の含有量は、光学機能発現部の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２８％以下となるように定めることが好ましく、２０％以下となるように定めることがより好ましい。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記上限値を超えると、防汚剤による耐指跡性の向上が頭打ちになることが多く、また、光学機能発現部の表面からの防汚剤のブリードアウト量が多くなってしまう。
尚、光学機能発現部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率を上記のようにするために実際に含有される防汚剤の含有量は、用いる防汚剤によって異なり、適宜調整されるが、一般的に、組成物の全固形分質量に対して、４〜２０質量％である。
【００３８】
ＸＰＳ解析とは、試料（光学機能発現部又は裏面層）を、角度により測定するものであり、具体的には、「最大エントロピー法」により角度プロファイルを深さプロファイルに容易に変換して行われるものである。ＸＰＳとは、Ｘ線光電子分光により試料表面に存在する元素及びその組成を分析する方法である。ＸＰＳの測定条件の一例を挙げると、Thermo Electron社製（VG Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolvedにて行うことができ、測定角度も任意に変更させて行うことができる。本発明では、５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行う。
【００３９】
本発明に係る光学シートの好適な態様では、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、上記防汚剤以外に、（Ａ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を１個有する（メタ）アクリル樹脂（以下、単に「（Ａ）成分」ということがある。）、及び／又は（Ｂ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリル樹脂（以下、単に「（Ｂ）成分」ということがある。）、（Ｃ）ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（以下、単に「（Ｃ）成分」ということがある。）及び（Ｄ）一般式（４）で表わされる化合物（以下、単に「（Ｄ）成分」ということがある。）を含み、かつ、当該（Ａ）及び（Ｂ）の合計質量が当該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の全固形分質量に対して５０質量％以上であることが、光学機能発現部が上述した特定範囲の押し込み深さを発現し易い点から好ましい。
以下、これら（Ａ）〜（Ｄ）成分について順に説明する。
【００４０】
（Ａ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を１個有する（メタ）アクリル樹脂
（Ａ）成分は、活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を１個有する（メタ）アクリル樹脂であり、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子若しくは窒素原子等のヘテロ原子を含む鎖状の脂肪族又は環状の脂環式若しくは芳香族の（メタ）アクリル樹脂であっても良く、例えば、上述した特開２００９−３７２０４号公報に記載の単官能の（メタ）アクリル樹脂を用いることができる。
【００４１】
（Ａ）成分は好ましくは、フェノキシエチル（メタ）アクリレート（別名（メタ）アクリル酸２−フェノキシエチル）及び下記一般式（１）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４２】
【化２】
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、Ｘは、水素原子又は炭素数１〜１０の鎖状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素若しくは芳香族炭化水素であり、ｋは２〜６の整数である。）
【００４３】
上記一般式（１）で表わされる化合物は、上記フェノキシエチル（メタ）アクリレートと共に組成物中に含有されることにより、その組成物の硬化物である光学機能発現部に柔軟性が付与され、光学機能発現部に外力が加わって形状が変形した場合でも、元の形状に復元可能な復元性を付与することができ、耐指跡性を向上させる。
上記一般式（１）において、ｋは２〜６の正の整数であり、光学機能発現部の柔軟性を高める観点から、好ましくは２、３又は４であり、さらに好ましくは２又は３である。
【００４４】
（Ａ）成分は１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
（Ａ）成分は組成物の全固形分質量に対して、２０〜５０質量％が好ましい。
そして、組成物の全固形分質量に対してフェノキシエチル（メタ）アクリレートが、１５〜３０質量％であることが好ましく、２２〜２７質量％であることがより好ましい。
また、組成物の全固形分質量に対して上記一般式（１）で表わされる化合物が、５〜２０質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることがより好ましい。
【００４５】
上記（Ａ）成分と後述する（Ｂ）成分は、その合計質量（（Ａ）＋（Ｂ））が組成物の全固形分質量に対して５０質量％以上であることが好ましく、８５〜９５質量％であることがより好ましい。当該合計質量を組成物の全固形分質量に対して５０質量％以上とすることにより、光学機能発現部が上述した特定範囲の押し込み深さを発現し易い。
【００４６】
（Ｂ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリル樹脂
（Ｂ）成分は、活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリル樹脂であり、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子若しくは窒素原子等のヘテロ原子を含む鎖状の脂肪族又は環状の脂環式若しくは芳香族の（メタ）アクリル樹脂であっても良く、例えば、上述した特開２００９−３７２０４号公報に記載の２官能の（メタ）アクリル樹脂を用いることができる。
（Ｂ）成分は好ましくは、下記一般式（２）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４７】
【化３】
（一般式（２）中、Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、ｎ及びｍは、ｎ＋ｍ＝２〜２０を満たす正の整数である。）
【００４８】
上記一般式（２）で表わされる化合物は、上述したフェノキシエチル（メタ）アクリレート及び一般式（１）で表わされる化合物と共に組成物中に含有されることにより、光学機能発現部の柔軟性がさらに高まり、光学機能発現部の復元性を優れたものとし、耐指跡性を向上することができる。
【００４９】
一般式（２）において、ｎ及びｍは、ｎ＋ｍ＝２〜２０を満たす正の整数である。ｎ、ｍの個々の値及び両者の組合せの例としては、例えば、ｍ＝１、ｎ＝１でｍ＋ｎ＝２、ｍ＝３、ｎ＝１でｍ＋ｎ＝４、ｍ＝２、ｎ＝２でｍ＋ｎ＝４、ｍ＝６、ｎ＝４でｍ＋ｎ＝１０、ｍ＝８、ｎ＝２でｍ＋ｎ＝１０、ｍ＝５、ｎ＝５でｍ＋ｎ＝１０、ｍ＝１２、ｎ＝８でｍ＋ｎ＝２０、ｍ＝１０、ｎ＝１０でｍ＋ｎ＝２０等である。また、硬化物の柔軟性を高める観点から、ｎ及びｍは、好ましくはｍ＋ｎ＝２〜１２、さらに好ましくはｍ＋ｎ＝４〜１０となるように選ばれる。
【００５０】
一般式（２）表わされる化合物の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、２５〜５０質量％であることが好ましく、さらに３０〜５０質量％であることが好ましく、特に３５〜４５質量％であることが好ましい。
【００５１】
（Ｃ）ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン
（Ｃ）成分は、光学機能発現部に滑り性を付与し、光学機能発現部の凹凸形状に他部材等が接触した際の外力が加わりを緩和する働きを有する。
この他、非反応性の（Ｃ）成分は、組成物が硬化した際に、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び後述する（Ｄ）成分が架橋した網目状の組織の中で、当該網目の隙間を埋める働きもしていると推測される。
【００５２】
（Ｃ）成分は、重量平均分子量が５０００〜２５０００であることが好ましい。
このような（Ｃ）成分としては、例えば、下記一般式（３）で表わされる化合物が挙げられる。
【００５３】
【化４】
（一般式（３）中、ａは１〜５の整数、ｂは１〜５の整数、ｃは１〜３０の整数及びｄは１〜７０の整数であり、かつ、ｃ≦ｄを満たし、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。）
【００５４】
一般式（３）中、ａ、ｂ、ｃ及びｄが上記範囲を満たすことにより、高分子としての性質を発現し、組成物における適度な溶解乃至分散性が得られ、光学機能発現部にレベリング剤としての性質や滑り性を付与し易いという利点がある。
【００５５】
（Ｃ）成分の市販品としては、例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７及びＢＹＫ−３３０並びに信越化学工業（株）製の商品名ＫＦ−６１８及びＫＦ−６４０等が挙げられる。
（Ｃ）成分の誘導体として、水酸基を導入したビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７等も好ましく用いることができる。
【００５６】
（Ｃ）成分の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、好ましくは０．１〜１質量％であり、より好ましくは０．２〜０．７質量％である。
【００５７】
（Ｄ）一般式（４）で表わされる化合物
（Ｄ）成分は、下記一般式（４）で表わされる化合物（グリセリンエポキシトリアクリレート）であり、１分子内に３つの活性エネルギー線硬化性基を有するため、組成物の硬化時に上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分との架橋が可能であり、多くの架橋点を生じる働きを有する。
この他、（Ｄ）成分は、そのＣＨＯ−（ＣＨ２Ｏ−）２部分に由来した柔軟性を有する。
したがって、（Ｄ）成分は、光学機能発現部に、複数の架橋点及びＣＨＯ−（ＣＨ２Ｏ−）２部分に由来した柔軟性による強靭性を付与する働きを有する。
【００５８】
【化５】
【００５９】
（Ｄ）成分の市販品としては、例えば、ナガセケムテックス（株）製の商品名ＤＡ−３１４が挙げられる。
（Ｄ）成分の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、好ましくは１〜１０質量％であり、より好ましくは２〜７質量％である。
【００６０】
なお、本発明の組成物には、上記成分以外に必要に応じて、シリコーン、酸化防止剤、重合禁止剤、増粘剤、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、溶剤、非反応性アクリル樹脂、非反応性ウレタン樹脂、非反応性ポリエステル樹脂、顔料、染料又は拡散剤等も併用することができる。
なお、本発明の組成物は、通常、当該組成物中に含まれる上記必須成分と当該必須成分以外の硬化後に光学シートのマトリクスを形成する成分の合計量が、当該組成物の全質量に対して、通常、９０質量％以上となるように適宜調製される。
【００６１】
また、前記光学機能発現部は、動的粘弾性測定で測定される平衡弾性率を２．０×１０７Ｐａ未満とすることができる。光学機能発現部の平衡弾性率は、より好ましくは、０．５×１０７Ｐａ〜１．７×１０７Ｐａ、さらに好ましくは０．８×１０７Ｐａ〜１．７×１０７Ｐａである。これにより、光学機能発現部の復元性が向上するため、耐指跡性が向上する。
【００６２】
光学機能発現部は、動的粘弾性測定で測定される損失弾性率（以下、単に「Ｅ”」という。）と貯蔵弾性率（以下、単に「Ｅ’」という。）の比である損失正接（以下、単に「ｔａｎδ」という。）の極大値を０．６〜３．０にすることができる。光学機能発現部のｔａｎδの極大値は、より好ましくは０．７〜３．０、さらに好ましくは０．８〜２．０である。光学機能発現部のｔａｎδの極大値を０．６〜３．０とすることにより、光学機能発現部のガラス転移温度（以下、単に「Ｔｇ」という。）を１０〜４０℃、より好ましくは１０〜３０℃、さらに好ましくは１５〜２８℃とすることができる。
Ｔｇを上記範囲内とすることにより、光学機能発現部の光学単位の形状を変形させるものの磨耗性に優れたものとすることができる。
なお、本発明では、引っ張り正弦波、周波数１Ｈｚにて測定したときの、損失正接（ｔａｎδ）の極大値を示す温度をＴｇとし、８０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）を平衡弾性率とする。
【００６３】
ここで、上記平衡弾性率、ｔａｎδ及びＴｇは、動的粘弾性測定装置で測定することができる。当該動的粘弾性測定装置では、弾性に相当するＥ’、粘性に相当するＥ”、Ｅ”とＥ’の比であって振動吸収性を反映するｔａｎδの温度依存性や周波数依存性等を測定することができ、その測定結果により、光学機能発現部（光学単位の頂部）を構成する樹脂硬化物の分子内構造に起因するＴｇや平衡弾性率等を評価できる。
なお、動的粘弾性測定装置としては、エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の商品名粘弾性スペクトロメータ ＤＭＳ６１００を挙げることができる。
【００６４】
透明基材に光学機能発現部を形成する方法としては、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開２００９−３７２０４号公報の図２に示すように、所望の光学機能発現部の形状の型に上記組成物を入れ、そこに透明基材を重ね、ラミネーター等を用いて透明基材をその組成物に圧着し、紫外線等で組成物を硬化させ、前記型を剥離乃至除去する方法等が挙げられる。
【００６５】
（裏面層）
本発明に係る光学シートは、光学機能発現部の無い透明基材上に、バインダー樹脂及びケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含む裏面層を備える。裏面層としては、例えば、マット層やハードコート層等が挙げられる。
【００６６】
マット層とは、微細凹凸形状を有する層であり、視野角を拡大する為の拡散性の付与や他の部材との密着による干渉防止あるいは、キズ等外観の不具合を隠す等の為に、形成される。さらには、微細凹凸形状をランダムに形成することによって、光学シートを液晶表示パネルと組み合わせた際に、光学シートの導光板の配列と、液晶表示パネルの画素配列と、に起因したモアレの発生を防止することもできる。また、バックライト用のアクリル板に印刷される反射用ドットを見えにくくすることも可能となる。
マット層は、例えば、マット剤のコーティング、熱プレスによるエンボス（型押）加工、サンドブラスト加工等の機械的加工、透明樹脂の注型（キャスティング）法等によって形成することができる。
マット剤のコーティングは、例えば、マット剤を樹脂及び溶剤等からなるバインダーに含有させたマット剤塗料を、プリズム層のプリズム列と反対側表面にコーティングすることによって行う。
マット剤としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル（アクリル）系ビーズ、ポリメタクリル酸ブチル系ビーズ、ポリカーボネート系ビーズ、ポリウレタン系ビーズ、炭酸カルシウム系ビーズ、シリコーン系ビーズ及びシリカ系ビーズ等の微粒子が挙げられる。前記微粒子は、特に限定されないが、平均粒径が１〜３０μｍ、屈折率が１．３０〜１．６５程度の範囲であることが好ましく、また、ビーズの濃度はバインダー樹脂分の２〜５％であることが好ましい。
マット層のバインダーに用いられる樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などから適宜自由に選択して用いることができる。前記樹脂の屈折率はマット剤と極力一致させても良いし、出光特性をコントロールするために、樹脂とマット剤の屈折率を一致させなくても構わない。
マット剤塗料のコーティング方法としては、ダイコーティング、グラビヤコーティング、スリットリバースコーティング等各種公知のコーティング方法を選択することが可能である。
なお、マット層の厚さは通常１〜２０μｍである。
【００６７】
ハードコート層とは、物体表面に耐擦傷性及び耐摩耗性を付与する層であり、本発明においては、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で示される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものをいう。
【００６８】
ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂を使用して形成する。ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくはアクリレート系の官能基を有するものを挙げることができる。具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール等を挙げることができる。また、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の４官能以上の多官能（メタ）アクリレート；等の多官能化合物のモノマー類やエポキシアクリレートやウレタンアクリレート等のオリゴマー等を挙げることもできる。
また、透明性を損なわない範囲で表面が被覆されたシリカ、アルミナ等から成る無機粒子又はポリアミド樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等から成る有機粒子を用い、粒子とハードコート成分に共有結合を形成し、硬度を向上させたハードコート層を用いても良い。
【００６９】
ハードコート層を形成する手段は、特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用材料を透明基材上に塗布し、適当な電離放射線によって硬化する方法等が挙げられる。
【００７０】
ハードコート層は硬化後の膜厚は、好ましくは０．１μｍ以上、さらに好ましくは０．８μｍ以上とし、一方、当該膜厚は、好ましくは１００μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以下とする。膜厚を０．１μｍ以上とすれば十分なハードコート性能が得られやすくなり、１００μｍ以下とすれば、外部からの衝撃に対しても十分な強度を得やすい。
【００７１】
尚、本発明の裏面層としては、上記のハードコート層に上記マット層を形成したものを用いることもできる。この場合は、マット層が最外層（透明基材と反対側の面）となるように裏面層を形成することが好ましい。その他、帯電防止層、低屈折層などを設けても良い。
【００７２】
本発明の裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有している。裏面層に含有されるケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤は、上述したものと同様のものを用いることができる。
裏面層に含まれる防汚剤の量は、裏面層の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上となるように適宜定め、好ましくは４％以上となるように適宜定める。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記下限値未満であると、裏面層の耐指跡性が不十分となる。また、裏面層に含まれる防汚剤の含有量は、裏面層の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２８％以下となるように定めることが好ましく、２０％以下となるように定めることがより好ましい。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記上限値を超えると、防汚剤による耐指跡性の向上が頭打ちになることが多く、また、光学機能発現部の表面からの防汚剤のブリードアウト量が多くなってしまう。
【００７３】
（光拡散層）
本発明に係る光学シートは、図示はしないが、必要に応じて光拡散機能を付与するために光拡散層を設けても良い。
光拡散層は、好ましく設けられる任意の層であって、光を拡散させる作用があればよく、一般的な光拡散シートに形成されているものを用いることができる。
例えば、光拡散性微粒子が透光性樹脂中に分散した層を適用できる。光拡散層は、透明基材と裏面層の間に面に設けられていても良いし、裏面層の透明基材とは反対側の面に設けられていても良いし、透明基材と光学機能発現部の間に設けられていても良い。あるいはプリズムシート（光学シート）を形成するプリズム樹脂部分（光学機能発現部）に光拡散性微粒子を内添しても良い。
【００７４】
光拡散層を構成する透光性樹脂としては、上記透明基材と同様の樹脂を挙げることができる。
また、光拡散性微粒子としては、一般的に光拡散シートに用いられる光拡散性の微粒子が用いられ、例えば、ポリメタクリル酸メチル（アクリル）系ビーズ、ポリメタクリル酸ブチル系ビーズ、ポリカーボネート系ビーズ、ポリウレタン系ビーズ、炭酸カルシウム系ビーズ及びシリカ系ビーズ等が挙げられる。
なお、光拡散層の厚さは、通常、１〜２０μｍである。
【００７５】
（光学シートの用途）
本発明に係る光学シートは、例えば、液晶表示装置等のバックライトに用いられるプリズムシート、プロジェクションテレビ等の投影スクリーンに用いられるフレネルレンズシート等に用いることができる。本発明に係る光学シートはこれらのいずれにおいても好適に用いることができるが、中でも液晶表示装置用バックライトのプリズムシートとして好適に用いることができる。
【００７６】
（面光源装置）
本発明に係る面光源装置は、面光源の光放出面側に、上述した本発明の光学シートを備えることを特徴とする。本発明に係る面光源装置に用いられる面光源としては、各種の仕様（形態）のものが使用でき、特に制限は無い。従来公知の、いわゆる、エッジライト型、直下型、ＥＬ（電場発光）型等の形態の面光源の光放出面側に上記の本発明の光学シートを載置して本発明の面光源装置が構成される。
図３は、本発明に係る光学シートを備える面光源装置の一例として、エッジライト型面光源を用いた本発明に係る面光源装置の形態を示した模式的な断面図である。図３の面光源装置２０は、導光板２１の光放出面２２側に、光放出面２２側から、裏面層１３、透明基材１１及び光学機能発現部１２が設けられている。
なお、図３の面光源装置２０は、導光板２１の少なくとも一つの側端面２３に設けられた光源２４から光が導光板２１内に入射され、光放出面２２から光が放出されるエッジライト型面光源２６を用いたエッジライト型面光源装置である。
【００７７】
導光板は、透光性材料からなる板状体である。図３の導光板２１は、左側の側端面２３から導入された光を、上側の光放出面２２から放出するように構成されている。
導光板は、従来公知の導光板とすれば良く、光学シートや透明基材と同様の透光性材料で形成しても良い。
導光板は通常、アクリル樹脂又はポリカーボネート樹脂で形成される。
導光板の厚さは通常１〜１０ｍｍであり、その厚さは全範囲で一定であっても良いし、図３に示すように、一端側に光源２４を設ける場合は、光源２４を設ける側端面２３側が最も厚く、側端面２３の反対側ほどに徐々に薄くなるテーパ形状であっても良い。
導光板には、光放出面から光を放出させるために、その内部又は表面に光散乱機能が付加されていることが好ましい。
【００７８】
光源は、エッジライト型面光源装置の場合、その少なくとも１つの側端面から内部に光を入射させるものであり、導光板の側端面に沿って配置される。
光源としては、特に限定されず、冷陰極管等の線状光源を用いても良いし、白熱電球、ＬＥＤ（発光ダイオード）等の点光源を側端面に沿ってライン状に配置しても良いし、小形の平面蛍光ランプを側端面に沿って複数個配置するようにしても良い。
【００７９】
導光板の光放出面とは反対側の面又は光放出面以外の面には、図３に示すように導光板２１の光放出面２２とは反対側等から放出される光を導光板２１内に戻し、光放出面２２から放出させるための光反射板２５が設けられていても良い。
光反射板は、薄い金属板にアルミニウム等を蒸着したもの、又は、白色の発泡ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等が用いられる。
【００８０】
（画像表示装置）
本発明に係る画像表示装置は、画像表示装置本体の背面側に、上述した本発明に係る面光源装置を配置していることを特徴とする。
前記画像表示装置としては、例えば、画像表示装置本体として液晶セルを用いた液晶表示装置が挙げられる。本発明において液晶セルとは、液晶化合物をガラス等により封入したモジュールをいい、偏光板又はカラーフィルター等のその他の部材が含まれたモジュールであっても良い。
【００８１】
図４は、図３で示したエッジライト型の面光源装置を備えた液晶表示装置の一例を示した模式的な断面図である。図４に示す液晶表示装置３０は、液晶セル３１とその一面側（背面（液晶表示装置における映像表示を観察する面とは反対側の面）側）に上記光学シート１０を備えた面光源装置２０を備えている。
【００８２】
液晶表示装置は、液晶セルの背面側に面光源装置（バックライト）を有する透過型の液晶表示装置であっても良いし、外光による反射光の表示とともに背面側のバックライトによる表示の両方が可能な半透過型の液晶表示装置であっても良い。
【００８３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８４】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００８５】
まず、以下の成分を混合して、プリズム部（光学機能発現部）の材料となるプリズム部用組成物ベース処方Ａ、Ｂ、Ｃ（以下、単に「ベース処方Ａ、Ｂ、Ｃ」と称することがある。）を調製した。各ベース処方の配合は、硬化後のプリズム部において、押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さの値が、ベース処方Ａでは０．８μｍ、ベース処方Ｂでは１．５μｍ、ベース処方Ｃでは０．４μｍとなるように調整されている。各プリズム部用組成物ベース処方が含有する成分及びその含有量（質量部）を表１に示す。
【００８６】
（プリズム部用組成物ベース処方Ａ：押し込み深さ０．８μｍ）
フェノキシエチルアクリレート（サートマー社製の商品名ＳＲ３３９Ａ）：１４．６質量部
オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート（別名アクリル酸２−（２−ビフェニリルオキシ）エチル）：２８質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝２、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−４ＥＡ）：１２質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ１０モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝５、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、ＭＩＷＯＮ社製の商品名ＭＩＲＡＭＥＲ Ｍ２１００）：３５質量部
ビスフェノールＡエポキシジアクリレート（共栄社化学（株）製の商品名ＦＬＥＡ−ＰＯＡ、（全質量に対するビスフェノールＡエポキシジアクリレートの含有量４９質量％、フェノキシエチルアクリレートの含有量５１質量％）、重量平均分子量２０００）：２質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７）、一般式（３）において、ａ＝５、ｂ＝５、ｃ＝３０、ｄ＝１０、Ｒ１及びＲ２がメチル基、重量平均分子量１０８００）：０．５質量部
グリセリンエポキシトリアクリレート（上記一般式（４）、ナガセケムテックス（株）製の商品名ＤＡ−３１４）：５質量部
イソシアヌル酸トリアクリレート（ＥＯ３モル変性、東亞合成（株）製の商品名アロニックス Ｍ−３１５）：３質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
リン酸エステル系離型剤（ＳＣ有機化学（株）製の商品名Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ）：０．１質量部
【００８７】
（プリズム部用組成物ベース処方Ｂ：押し込み深さ１．５μｍ）
フェノキシエチルアクリレート（サートマー社製の商品名ＳＲ３３９Ａ）：１２質量部
オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート（別名アクリル酸２−（２−ビフェニリルオキシ）エチル）：３２質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝２、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−４ＥＡ）：８質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ１０モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝５、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、ＭＩＷＯＮ社製の商品名ＭＩＲＡＭＥＲ Ｍ２１００）：４２質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７）、一般式（３）において、ａ＝５、ｂ＝５、ｃ＝３０、ｄ＝１０、Ｒ１及びＲ２がメチル基、重量平均分子量１０８００）：０．５質量部
グリセリンエポキシトリアクリレート（上記一般式（４）、ナガセケムテックス（株）製の商品名ＤＡ−３１４）：５質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
リン酸エステル系離型剤（ＳＣ有機化学（株）製の商品名Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ）：０．１質量部
【００８８】
（プリズム部用組成物ベース処方Ｃ：押し込み深さ０．４μｍ）
フェノキシエチルアクリレート（サートマー社製の商品名ＳＲ３３９Ａ）：１９質量部
イソボルニルアクリレート：８質量部
４−アクリロイルモルホリン：５質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝２、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−４ＥＡ）：１２質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ２モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝１、Ｒ１が全てメチル基、かつ、Ｒ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−２ＥＭ）：２７質量部
ビスフェノールＡエポキシジアクリレート（共栄社化学（株）製の商品名ＦＬＥＡ−ＰＯＡ、（全質量に対するビスフェノールＡエポキシジアクリレートの含有量４９質量％、フェノキシエチルアクリレートの含有量５１質量％）、重量平均分子量２０００）：１６質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７）、一般式（３）において、ａ＝５、ｂ＝５、ｃ＝３０、ｄ＝１０、Ｒ１及びＲ２がメチル基、重量平均分子量１０８００）：０．５質量部
イソシアヌル酸トリアクリレート（ＥＯ３モル変性、東亞合成（株）製の商品名アロニックス Ｍ−３１５）：１３質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
リン酸エステル系離型剤（ＳＣ有機化学（株）製の商品名Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ）：０．１質量部
【００８９】
【表１】
【００９０】
（マット層用材料ベース処方）
綜研化学製、架橋アクリル散粒子（平均粒径５μｍ）１重量％をポリエステル樹脂に混合し、イソシアネート硬化剤を硬化反応適量加えた。メチルエチルケトンとトルエンを等量混合した有機溶剤を用い、前記固形分が３５重量％になるように希釈して、光拡散性微粒子を含むマット層用材料ベース処方を調製した。
【００９１】
（実施例１）
上記プリズム部用組成物ベース処方Ａに、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の１質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の０．８質量％となるように、ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤をそれぞれ添加、混合し、プリズム部用組成物を得た。尚、前記ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤の含有量（質量％）は、得られるプリズム部用組成物中の固形分全体の質量を１００％としたときの値である。
上記マット層用材料ベース処方に、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の１質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の０．８質量％となるように、ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤をそれぞれ添加、混合し、マット層用材料を得た。尚、前記ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤の含有量（質量％）は、得られるマット層用材料中の固形分全体の質量を１００％としたときの値である。
【００９２】
厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の透明基材（東洋紡績（株）製の商品名Ａ４３００）の片面に前述のマット層用材料を塗工し、厚さ約３μｍのマット層を得た。
図１に示すような単位プリズム（光学単位）の線状配列の凹凸形状が形成されたプリズム型に前述のプリズム部用組成物を供給し、マット層を設けていない面のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の透明基材を重ね、ニップローラーで加圧し、高圧水銀灯を用い、７８０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、多数の単位プリズムを有するプリズム部（光学機能発現部）を硬化させ、ＰＥＴ基材と一体化した状態で上記プリズム型を剥離し、光学シートを得た。
ここで、単位プリズム（光学単位）の形状は、主切断面形状が高さ２５μｍ、底辺５０μｍ、頂角９０°となる二等辺三角形の三角柱形状とした。そして、プリズム部（光学機能発現部）は、各単位プリズムの稜線が互いに平衡になるように複数の単位プリズムを配列周期５０μｍで当該稜線と直交する方向に多数隣接して配列した構造とした。
【００９３】
得られた光学シートのプリズム部及びマット層におけるケイ素存在率及びフッ素存在率をＸＰＳ解析によって測定したところ、光学機能発現部のケイ素存在率は２％、フッ素存在率は２％であり、マット層におけるケイ素存在率は２％、フッ素存在率は２％であった。
尚、ＸＰＳ解析は、Thermo Electron社製（VG Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolvedとした。測定角度は、５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行った。
【００９４】
尚、プリズム部用組成物又はマット層用材料中の固形分全体の質量を１００％としたときのケイ素系防汚剤の含有量（質量％）と、ＸＰＳ解析によるプリズム部又はマット層におけるケイ素存在率（％）との相関関係を表２に示し、プリズム部用組成物又はマット層用材料中の固形分全体の質量を１００％としたときのフッ素系防汚剤の含有量（質量％）と、ＸＰＳ解析によるプリズム部又はマット層におけるフッ素存在率（％）との相関関係を表３に示す。尚、得られた光学シートのプリズム部及びマット層におけるＸＰＳ解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率は表４及び表５に示す。
【００９５】
【表２】
【００９６】
【表３】
【００９７】
（実施例２）
プリズム部用組成物ベース処方Ａに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の４質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の３質量％となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
【００９８】
（実施例３）
マット層用材料ベース処方に添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の４質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の３質量％となるようにして得られたマット層用材料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
【００９９】
（実施例４〜７）
プリズム部においてＸＰＳ解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率が、表４に示す値になるように、表２及び表３に従って、プリズム部用組成物ベース処方Ａに、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）及びフッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）を含有させたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１００】
（実施例８〜１１）
マット層においてＸＰＳ解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率が、表４に示す値になるように、表２及び表３に従って、マット層用材料ベース処方に、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）及びフッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）を含有させたマット層材料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０１】
（実施例１２）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０２】
（比較例１）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０３】
（比較例２）
プリズム部用組成物ベース処方Ａに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の０．５質量％（存在率１％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の０．３質量％（存在率１％）となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０４】
（比較例３）
マット層用材料ベース処方に添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の０．５質量％（存在率１％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の０．３質量％（存在率１％）となるようにしして得られたマット層用材料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０５】
（比較例４）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｂを用い、当該プリズム部用組成物ベース処方Ｂに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の０．５質量％（存在率１％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の０．３質量％（存在率１％）となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０６】
（比較例５）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｃを用い、当該プリズム部用組成物ベース処方Ｃに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の６質量％（存在率１５％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の５質量％（存在率１５％）となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０７】
（押し込み深さの測定）
各実施例及び各比較例で得られた光学シートのプリズム部（光学機能発現部）の頂部における押し込み深さを、ＩＳＯ １４５７７−１に準拠し、押し込み荷重０．５ｍＮで測定した。測定機器としては、（株）フィッシャー・インストルメンツ製の微小硬さ試験機（商品名ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ５００、圧子はダイヤモンド製の四角錐型、対面角９０°）を用いた。実施例で得られた光学シートの測定結果を表４に示し、比較例で得られた光学シートの測定結果を表５に示す。
【０１０８】
（指跡の有無の評価）
作製した実施例及び比較例の光学シートをＡ４サイズに切り出し、明室にて、プリズム部表面及びマット層表面の指跡の有無を目視にて観察した。指跡を認識できなかったものを○、指跡を認識できたものを×とし、実施例で得られた光学シートの評価結果を表４に示し、比較例で得られた光学シートの評価結果を表５に示す。
【０１０９】
【表４】
【０１１０】
【表５】
【０１１１】
本発明に係る光学シートは、指が接触した際に、光学機能発現部を構成する光学単位の凸状頂部付近において指跡が付着するという問題を解決するために開発されたものである。
実施例１〜１２で得られた光学シートは、プリズム部（光学機能発現部）及びマット層（裏面層）のいずれにおいても指跡が確認されなかった。プリズム部では、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有し、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計を３％以上とすることで、皮脂の付着がなく、さらに、押し込み荷重０．５ｍＮでの押し込み深さを０．６μｍ以上とすることで、加圧による永久変形もなかったことにより、指跡の付着を防止できたと考えられる。マット層では、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有し、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計を３％以上とすることで、皮脂の付着を防いだことにより、指跡の付着を防止できたと考えられる。
一方、比較例１、２、４及び５で得られた光学シートでは、プリズム部に指跡が確認された。
比較例１では、プリズム部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率が実施例と同等であったため、皮脂の付着はなかったと考えられるが、プリズム部の押し込み荷重０．５ｍＮでの押し込み深さが０．４μｍと小さかったため、加圧によって指跡が形成されたと考えられる。
比較例２及び比較例４では、プリズム部の押し込み深さが実施例と同等であったため、加圧による変形はなかったと考えられるが、プリズム部が含有する防汚剤量が少なく、ケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２％と小さかったため、皮脂による指跡が付着したと考えられる。
比較例５では、プリズム部における防汚剤の含有量が多すぎたため、防汚剤がブリードアウトしたことにより指跡が付着し、プリズム部の表面には艶のムラができた。また、プリズム部の押し込み荷重０．５ｍＮでの押し込み深さが０．４μｍと小さかったことにより、加圧による指跡も形成されたと考えられる。尚、プリズム部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率は実施例と同等であったため、皮脂による指跡の付着はなかったと考えられる。
比較例３で得られた光学シートでは、マット層に指跡が確認された。これは、マット層が含有する防汚剤量が少なく、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２％と小さかったため、皮脂による指跡が付着したと考えられる。
【符号の説明】
【０１１２】
１０ 光学シート
１１ 透明基材
１２ 光学機能発現部
１２ａ 光学単位
１３ 裏面層
２０ 面光源装置
２１ 導光板
２２ 光放出面
２３ 側端面
２４ 高原
２５ 光反射板
２６ 面光源
３０ 液晶表示装置
３１ 液晶セル
１１０ 可動盤
１２０ 偏光フィルム
１３０ 荷重部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐指跡性に優れる光学シート、並びに当該光学シートを備える面光源装置及び画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等のディスプレイにおいては、光を屈折、回折、干渉又は分散等させることにより、集光、収束、拡散、偏向又は反射等させる機能を有する光学シートが用いられている。このような光学シートとしては、例えば、液晶表示装置等のバックライト（面光源装置）に用いられるプリズムシート、オーバーヘッドプロジェクターのコンデンサーレンズ等に用いられるフレネルレンズシート等を挙げることができる。
上記光学シートとしては、基材と、当該基材上に、所定の屈折率を備えた単位プリズム又は単位レンズ等の凸状の光学単位を複数配列した凹凸形状の光学機能発現部と、光学機能発現部と反対側の基材上にバインダー樹脂を含む裏面層（例えば、マット層、ハードコート層など）を有する光学シートが広く知られている。
【０００３】
従来、光学シートを生産・梱包する過程、所定形状に切り抜く過程、重ね合わせる過程、或いは、装置の組立作業を行うときなど様々な場面において、不注意にも光学シートを手で掴むと、その表面に指跡（指紋）が付着しやすいという問題がある。また、光学シートを手で掴まないように気をつけたとしても、偶然に光学シートが人体に直接接触すると、光学シートの表面に皮膚が接触した痕跡（皮膚接触痕）が残る場合がある。
光学シート表面に指跡等の皮膚接触痕が付着するのを防止するための従来の方法としては、防汚剤を光学シートに含有させることが知られている。特許文献１には、光学積層体に用いられるハードコート層に、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤として、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物を含有させ、その含有量を、当該ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上となるようにすることを記載している（請求項１）。また、特許文献１の実施例では、ハードコート層の表面に対する人工指紋液（ＪＩＳ Ｋ２２４６）と水の接触角を測定し、その測定値に基づいて防汚性を評価している（段落０１０２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６４２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記実情を鑑みたものであり、凸状の光学単位を有する光学機能発現部を設けた光学シートの当該光学機能発現部に優れた耐指跡性（指跡付着防止性）を付与することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光学シートは、透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、
前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする。
【０００７】
本発明に係る面光源装置は、面光源の光放出面側に前記本発明に係る光学シートを備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る画像表示装置は、画像表示装置本体の背面側に、前記本発明に係る面光源装置を配置してなることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、凸状の光学単位を有する光学機能発現部の耐指跡性（指跡付着防止性）に優れる光学シート、並びに当該光学シートを備える面光源装置及び画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る光学シートの一例を示した模式的な斜視図である。
【図２】本発明に係る光学シートの層構成の一例を示した模式的な断面図である。
【図３】本発明に係る面光源装置の一例を示した模式的な断面図である。
【図４】本発明に係る液晶表示装置の一例を示した模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１２】
本発明において、（メタ）アクリル樹脂は、アクリル樹脂及び／又はメタクリル樹脂を表し、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念である。
なお、フィルムとシートのＪＩＳ−Ｋ６９００での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅のわりには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。したがって、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの及び薄いものの両方の意味を含めて、「シート」と定義する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ＴＨＦ溶剤におけるゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
【００１３】
（光学シート）
本発明に係る光学シートは、透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、
前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする。
【００１４】
本発明者らは、光学シートの指跡付着性を調査したところ、凸状の光学単位を有する光学機能発現部は、裏面層と比べて指跡が付着しやすく、光学機能発現部に含有される防汚剤の量が、裏面層の指跡付着を防止できる防汚剤の量と同じでも、光学機能発現部に指跡が付着することが判明した。
そこで、本発明者らは光学シートの表裏で指跡付着性の程度に差が生じた理由について、その原因を鋭意分析検討した結果、指跡には主に皮脂の付着と加圧による永久変形の二種類の原因があると考えた。つまり、光学シートの光学機能発現部側を手で掴もうとすると、凸状の光学単位の尖った頂上付近だけに指が接触し、接触面積が限定され、光学機能発現部に対する指の接触圧力が裏面層に対する指の接触圧力よりも大きくなるため、特に光学機能発現部の指紋と思われていた痕跡は、表面に皮脂が強く付着するいわゆる狭義の指紋だけでは無く、これに加えて、指跡の凹凸形状が、指が接触した際の加圧によって転写して永久変形することも一因となっている、と考えた。これは、光学機能発現部は、稜線が最外部に突出した三角柱プリズムに代表されるような突起部(稜線乃至頂点)を有し、該突起部は狭い面積で指の加圧力を受ける為、応力が集中し、変形が予想外に顕著に残るためである。それゆえ、単に防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を添加するのみでは十分に指跡を解消し得なかったことが判明した。
そして、光学機能発現部側を手で掴もうとしたときに、光学機能発現部が指の形に合わせて変形し接触圧力を軽減できる柔軟性と、指が離れた後に元の凸状に戻れる復元性を有していれば、加圧による永久変形を防ぐことができ、耐指跡性（指跡付着防止性）の向上に貢献することを突き止めた。
本発明は、かかる知見に基づいて成し遂げられたものである。
【００１５】
以下、本発明に係る光学シートについて図面を用いて詳細に説明する。なお、図１以下の図面では、説明の便宜上、縦横の寸法比及び各層間の寸法比は適宜、実寸とは変えて誇張して図示してある。
図１は、本発明に係る光学シートの一例を示した模式的な斜視図であり、図２は、本発明に係る光学シートの層構成の一例を示した模式的な断面図であり、三角柱プリズムの延在する方向に直角な横断面（主切断面）を示す。尚、本発明において主切断面とは、透明基材の平面の法線方向（以下、単に「厚さ方向」と称することがある。）を含み、且つ光学単位の稜線方向と直交する切断面を意味する。
図１及び図２に示す光学シート１０は、透明基材１１上に光学機能発現部１２が設けられており、透明基材１１の光学機能発現部１２が無い側に、裏面層１３が設けられている。光学機能発現部１２は、凸状の光学単位１２ａが複数配列してなり、図１及び図２では、光学単位１２ａの一例として、三角柱形状のプリズム単位を備える光学シートを示す。
【００１６】
以下、本発明に係る光学シートの必須の構成要素である透明基材、光学機能発現部及び裏面層、並びに必要に応じて適宜設けることができる光拡散層について説明する。
【００１７】
（透明基材）
透明基材は、特に限定されず、従来公知の光学シートに用いられている透明基材を用いることができる。透明基材は、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のものを用いることができる。
透明基材は、所望の透明性、機械的強度等の要求適性を勘案の上、材料及び厚さを適宜選択すればよい。
透明基材は、通常、樹脂基材とする。透明基材の樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）樹脂及びシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）樹脂等が好ましい。
【００１８】
透明基材は、長尺形状であっても良いし、所定の大きさからなる枚葉形状であっても良い。
透明基材の厚さは、通常は５０〜５００μｍが好ましいが、これに限定されない。
透明基材の光透過率としては、画像表示装置の前面設置用としては、１００％が理想であり、透過率８５％以上であることが好ましい。
【００１９】
（光学機能発現部）
光学機能発現部は、頂点または稜線を有する凸状の光学単位が複数配列してなる。当該光学機能発現部は、通常、透明基材の上に形成されるが、透明基材と光学機能発現部とが一体成形されていても良い。この場合、特に限定されないが、後述する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて、透明基材上に光学機能発現部を積層成形することが好ましい。
本発明に係る光学シートは、例えば、光学機能発現部の凹凸形状において、光を屈折又は反射等の幾何光学的作用によって変調させて、集光、拡散、屈折又は反射等の所望の機能を発現するプリズムシート又はレンズシート等として用いることができ、光学機能発現部を構成する光学単位の形状は、要求される性能に応じて適宜選択又は設定することができる。
以下、本発明に係る光学シートをプリズムシート又はレンズシートとして用いる場合の光学機能発現部の具体的な形状（構造）を説明する。
【００２０】
プリズムシートとしての光学機能発現部の具体的な形状（構造）を例示すると、三角柱（図１参照）、四角柱、五角柱等の角柱状の単位プリズム（光学単位）をその稜線方向（延在方向）と直交する方向に多数配列したもの（プリズム線状配列）が挙げられる。
上述したような角柱状の単位プリズム（光学単位）の場合、光学機能発現部の厚さＴ（図２に示すように凹凸形状の凸状頂部から透明基材側の面までの距離）は、その稜線方向で均一であっても良いし、均一でなくとも良い。例えば、周縁部に近いほど高く、中央部に近いほどが低いというように稜線方向で異なっていても良い。
【００２１】
この他、プリズムシートとしての光学機能発現部の凹凸形状の具体的な形状の一例としては、円錐、又は三角、四角、五角若しくは六角等の角錐等の光学単位を透明基材表面に二次元的に複数配列したものが挙げられる。
【００２２】
単位プリズム（光学単位）の主切断面における形状は、頂点を有すれば特に限定されないが、図２のように二等辺三角形としても良いし、図示しないが不等辺三角形としても良い。
主切断面における三角形の単位プリズム（光学単位）の頂角の値は、４０〜１２０°の範囲で調節することができる。
【００２３】
レンズシートとしては、例えば、光学機能発現部を構成する光学単位の凸部に頂点を有する環状又は線状のフレネルレンズ等が挙げられる。
【００２４】
本発明において、光学単位の頂部は図１及び図２のような典型的に尖った形状でも良いし、図示しないが厚さ方向の断面の頂部近傍が曲率半径１〜２０μｍの面取りされた鈍い頂点でも良い。
【００２５】
光学機能発現部の厚さＴ（図２参照）は、要求される性能に応じて適宜調節すれば良く、通常、２０〜１０００μｍである。尚、当該厚さＴは、稜線方向で厚さが異なる場合は最大となる箇所の厚さとする。
【００２６】
また、前記光学機能発現部は、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定される押し込み深さが０．６μｍ以上であり、好ましくは０．８μｍ以上である。これにより、当該光学単位は優れた形状復元性を有するため、指が接触した際等の加圧によって永久変形せず、光学機能発現部の耐指跡性が向上する。
上記押し込み深さは、（株）フィッシャー・インストルメンツ製の微小硬さ試験機（商品名ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ５００、圧子はダイヤモンド製の四角錐型、対面角９０°）で測定することができる。
【００２７】
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、単に「組成物」ということがある。）を、活性エネルギー線の照射により硬化して形成することができる。
なお、本発明において「活性エネルギー線」とは、可視光並びに紫外線及びＸ線等の非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線及びα線のような粒子線を総称する、活性エネルギー線硬化性基を有する分子に架橋反応乃至重合反応を生じせしめるに足るエネルギー量子を持った放射線が含まれる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましい。
【００２８】
前記組成物のバインダー樹脂としては、例えば、従来公知の光学シート形成用の（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能若しくは多官能のモノマー、オリゴマー又はプレポリマー等を用いることができる。
単官能のモノマーとしては、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のビニルモノマー、（メタ）アクリル酸エステルモノマー及び（メタ）アクリルアミド誘導体が挙げられる。
多官能のモノマーとしては、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジオールジ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
反応性プレポリマーとしては、例えば、特開２００９−３７２０４号公報に記載のエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
また、前記組成物は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有する。これにより、光学機能発現部は、皮脂に起因する指跡がつき難くなり、耐指跡性が向上する。
【００３０】
前記ケイ素系化合物としては、その化合物の末端または側鎖が、変性されたものが好ましくは挙げられる。そのようなケイ素系化合物としては、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表わされるものが挙げられる。
【００３１】
【化１】
（上記式中、Ｒは、疎水基として、メチル基、フッ素原子、アクリル基、又はメタクリル基であり、親水基として、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、或いはこれらの混合基であってよく、Ｒ１はアルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｘは０〜１２００であり、Ｙは０〜１２００である。）
【００３２】
また、前記ケイ素系化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、東芝シリコーン社製のＴＳＦシリーズ、信越化学社製のＸ２２シリーズ及びＫＦシリーズ、チッソ社製のサイラプレーンシリーズ等の反応基を有しないケイ素系化合物や、新中村化学社製のＳＵＡ１９００Ｌ１０（重量平均分子量４２００）及びＳＵＡ１９００Ｌ６（重量平均分子量２４７０）、信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００、ＧＥ東芝シリコーン社製のＵＶＨＣ１１０５及びＵＶＨＣ８５５０等の反応基を有するケイ素系化合物を用いることができる。
【００３３】
前記フッ素系化合物の具体例としては、下記一般式：
（Ａ）ｗ−（Ｂ）ｘ−（Ｄ）ｙ−ＣＦ３
（上記式中、Ａは、ＣＦ２、ＣＦＣＦ２、Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｂは、ＯＣＦ２ＣＦ２、ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ２）２、ＯＣＦ（ＣＦ２）ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ（ＣＦ２）Ｃ（ＣＦ２）２、ＯＣ（ＣＦ２）２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣ（ＣＦ２）２Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｄは、ＯＣＨ２ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ２）ｚからなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚは０超過５０以下の数を表す。）
で表わされるものが挙げられる。
【００３４】
また、前記フッ素系化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、大日本インキ社製のメガファックシリーズ、例えば、ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４４５、Ｆ４５５、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等の反応基を有しないフッ素系化合物や、大日本インキ社製のディフェンサＴＦ３００１、ディフェンサＴＦ３０００及びディフェンサＴＦ３０２８等の反応基を有するフッ素系化合物を用いることができる。
【００３５】
前記防汚剤の数平均分子量は、特に限定されないが、通常５００以上１０万以下であり、好ましくは下限が７５０以上であり、より好ましくは１０００以上であり、好ましくは上限が７万以下であり、より好ましくは５万以下である。
【００３６】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記防汚剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する２官能以上の多官能アクリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アクリレートとしては、例えば、２官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、２官能ウレタンアクリレート、２官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。３官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。４官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。５官能以上のアクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００３７】
前記組成物中における前記防汚剤の含有量は、光学機能発現部の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上となるように適宜定め、好ましくは４％以上となるように適宜定める。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記下限値未満であると、光学機能発現部の耐指跡性が不十分となる。また、防汚剤の含有量は、光学機能発現部の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２８％以下となるように定めることが好ましく、２０％以下となるように定めることがより好ましい。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記上限値を超えると、防汚剤による耐指跡性の向上が頭打ちになることが多く、また、光学機能発現部の表面からの防汚剤のブリードアウト量が多くなってしまう。
尚、光学機能発現部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率を上記のようにするために実際に含有される防汚剤の含有量は、用いる防汚剤によって異なり、適宜調整されるが、一般的に、組成物の全固形分質量に対して、４〜２０質量％である。
【００３８】
ＸＰＳ解析とは、試料（光学機能発現部又は裏面層）を、角度により測定するものであり、具体的には、「最大エントロピー法」により角度プロファイルを深さプロファイルに容易に変換して行われるものである。ＸＰＳとは、Ｘ線光電子分光により試料表面に存在する元素及びその組成を分析する方法である。ＸＰＳの測定条件の一例を挙げると、Thermo Electron社製（VG Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolvedにて行うことができ、測定角度も任意に変更させて行うことができる。本発明では、５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行う。
【００３９】
本発明に係る光学シートの好適な態様では、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、上記防汚剤以外に、（Ａ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を１個有する（メタ）アクリル樹脂（以下、単に「（Ａ）成分」ということがある。）、及び／又は（Ｂ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリル樹脂（以下、単に「（Ｂ）成分」ということがある。）、（Ｃ）ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（以下、単に「（Ｃ）成分」ということがある。）及び（Ｄ）一般式（４）で表わされる化合物（以下、単に「（Ｄ）成分」ということがある。）を含み、かつ、当該（Ａ）及び（Ｂ）の合計質量が当該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の全固形分質量に対して５０質量％以上であることが、光学機能発現部が上述した特定範囲の押し込み深さを発現し易い点から好ましい。
以下、これら（Ａ）〜（Ｄ）成分について順に説明する。
【００４０】
（Ａ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を１個有する（メタ）アクリル樹脂
（Ａ）成分は、活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を１個有する（メタ）アクリル樹脂であり、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子若しくは窒素原子等のヘテロ原子を含む鎖状の脂肪族又は環状の脂環式若しくは芳香族の（メタ）アクリル樹脂であっても良く、例えば、上述した特開２００９−３７２０４号公報に記載の単官能の（メタ）アクリル樹脂を用いることができる。
【００４１】
（Ａ）成分は好ましくは、フェノキシエチル（メタ）アクリレート（別名（メタ）アクリル酸２−フェノキシエチル）及び下記一般式（１）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４２】
【化２】
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、Ｘは、水素原子又は炭素数１〜１０の鎖状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素若しくは芳香族炭化水素であり、ｋは２〜６の整数である。）
【００４３】
上記一般式（１）で表わされる化合物は、上記フェノキシエチル（メタ）アクリレートと共に組成物中に含有されることにより、その組成物の硬化物である光学機能発現部に柔軟性が付与され、光学機能発現部に外力が加わって形状が変形した場合でも、元の形状に復元可能な復元性を付与することができ、耐指跡性を向上させる。
上記一般式（１）において、ｋは２〜６の正の整数であり、光学機能発現部の柔軟性を高める観点から、好ましくは２、３又は４であり、さらに好ましくは２又は３である。
【００４４】
（Ａ）成分は１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
（Ａ）成分は組成物の全固形分質量に対して、２０〜５０質量％が好ましい。
そして、組成物の全固形分質量に対してフェノキシエチル（メタ）アクリレートが、１５〜３０質量％であることが好ましく、２２〜２７質量％であることがより好ましい。
また、組成物の全固形分質量に対して上記一般式（１）で表わされる化合物が、５〜２０質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることがより好ましい。
【００４５】
上記（Ａ）成分と後述する（Ｂ）成分は、その合計質量（（Ａ）＋（Ｂ））が組成物の全固形分質量に対して５０質量％以上であることが好ましく、８５〜９５質量％であることがより好ましい。当該合計質量を組成物の全固形分質量に対して５０質量％以上とすることにより、光学機能発現部が上述した特定範囲の押し込み深さを発現し易い。
【００４６】
（Ｂ）活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリル樹脂
（Ｂ）成分は、活性エネルギー線硬化性基として（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリル樹脂であり、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子若しくは窒素原子等のヘテロ原子を含む鎖状の脂肪族又は環状の脂環式若しくは芳香族の（メタ）アクリル樹脂であっても良く、例えば、上述した特開２００９−３７２０４号公報に記載の２官能の（メタ）アクリル樹脂を用いることができる。
（Ｂ）成分は好ましくは、下記一般式（２）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４７】
【化３】
（一般式（２）中、Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、ｎ及びｍは、ｎ＋ｍ＝２〜２０を満たす正の整数である。）
【００４８】
上記一般式（２）で表わされる化合物は、上述したフェノキシエチル（メタ）アクリレート及び一般式（１）で表わされる化合物と共に組成物中に含有されることにより、光学機能発現部の柔軟性がさらに高まり、光学機能発現部の復元性を優れたものとし、耐指跡性を向上することができる。
【００４９】
一般式（２）において、ｎ及びｍは、ｎ＋ｍ＝２〜２０を満たす正の整数である。ｎ、ｍの個々の値及び両者の組合せの例としては、例えば、ｍ＝１、ｎ＝１でｍ＋ｎ＝２、ｍ＝３、ｎ＝１でｍ＋ｎ＝４、ｍ＝２、ｎ＝２でｍ＋ｎ＝４、ｍ＝６、ｎ＝４でｍ＋ｎ＝１０、ｍ＝８、ｎ＝２でｍ＋ｎ＝１０、ｍ＝５、ｎ＝５でｍ＋ｎ＝１０、ｍ＝１２、ｎ＝８でｍ＋ｎ＝２０、ｍ＝１０、ｎ＝１０でｍ＋ｎ＝２０等である。また、硬化物の柔軟性を高める観点から、ｎ及びｍは、好ましくはｍ＋ｎ＝２〜１２、さらに好ましくはｍ＋ｎ＝４〜１０となるように選ばれる。
【００５０】
一般式（２）表わされる化合物の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、２５〜５０質量％であることが好ましく、さらに３０〜５０質量％であることが好ましく、特に３５〜４５質量％であることが好ましい。
【００５１】
（Ｃ）ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン
（Ｃ）成分は、光学機能発現部に滑り性を付与し、光学機能発現部の凹凸形状に他部材等が接触した際の外力が加わりを緩和する働きを有する。
この他、非反応性の（Ｃ）成分は、組成物が硬化した際に、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び後述する（Ｄ）成分が架橋した網目状の組織の中で、当該網目の隙間を埋める働きもしていると推測される。
【００５２】
（Ｃ）成分は、重量平均分子量が５０００〜２５０００であることが好ましい。
このような（Ｃ）成分としては、例えば、下記一般式（３）で表わされる化合物が挙げられる。
【００５３】
【化４】
（一般式（３）中、ａは１〜５の整数、ｂは１〜５の整数、ｃは１〜３０の整数及びｄは１〜７０の整数であり、かつ、ｃ≦ｄを満たし、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。）
【００５４】
一般式（３）中、ａ、ｂ、ｃ及びｄが上記範囲を満たすことにより、高分子としての性質を発現し、組成物における適度な溶解乃至分散性が得られ、光学機能発現部にレベリング剤としての性質や滑り性を付与し易いという利点がある。
【００５５】
（Ｃ）成分の市販品としては、例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７及びＢＹＫ−３３０並びに信越化学工業（株）製の商品名ＫＦ−６１８及びＫＦ−６４０等が挙げられる。
（Ｃ）成分の誘導体として、水酸基を導入したビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７等も好ましく用いることができる。
【００５６】
（Ｃ）成分の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、好ましくは０．１〜１質量％であり、より好ましくは０．２〜０．７質量％である。
【００５７】
（Ｄ）一般式（４）で表わされる化合物
（Ｄ）成分は、下記一般式（４）で表わされる化合物（グリセリンエポキシトリアクリレート）であり、１分子内に３つの活性エネルギー線硬化性基を有するため、組成物の硬化時に上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分との架橋が可能であり、多くの架橋点を生じる働きを有する。
この他、（Ｄ）成分は、そのＣＨＯ−（ＣＨ２Ｏ−）２部分に由来した柔軟性を有する。
したがって、（Ｄ）成分は、光学機能発現部に、複数の架橋点及びＣＨＯ−（ＣＨ２Ｏ−）２部分に由来した柔軟性による強靭性を付与する働きを有する。
【００５８】
【化５】
【００５９】
（Ｄ）成分の市販品としては、例えば、ナガセケムテックス（株）製の商品名ＤＡ−３１４が挙げられる。
（Ｄ）成分の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、好ましくは１〜１０質量％であり、より好ましくは２〜７質量％である。
【００６０】
なお、本発明の組成物には、上記成分以外に必要に応じて、シリコーン、酸化防止剤、重合禁止剤、増粘剤、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、溶剤、非反応性アクリル樹脂、非反応性ウレタン樹脂、非反応性ポリエステル樹脂、顔料、染料又は拡散剤等も併用することができる。
なお、本発明の組成物は、通常、当該組成物中に含まれる上記必須成分と当該必須成分以外の硬化後に光学シートのマトリクスを形成する成分の合計量が、当該組成物の全質量に対して、通常、９０質量％以上となるように適宜調製される。
【００６１】
また、前記光学機能発現部は、動的粘弾性測定で測定される平衡弾性率を２．０×１０７Ｐａ未満とすることができる。光学機能発現部の平衡弾性率は、より好ましくは、０．５×１０７Ｐａ〜１．７×１０７Ｐａ、さらに好ましくは０．８×１０７Ｐａ〜１．７×１０７Ｐａである。これにより、光学機能発現部の復元性が向上するため、耐指跡性が向上する。
【００６２】
光学機能発現部は、動的粘弾性測定で測定される損失弾性率（以下、単に「Ｅ”」という。）と貯蔵弾性率（以下、単に「Ｅ’」という。）の比である損失正接（以下、単に「ｔａｎδ」という。）の極大値を０．６〜３．０にすることができる。光学機能発現部のｔａｎδの極大値は、より好ましくは０．７〜３．０、さらに好ましくは０．８〜２．０である。光学機能発現部のｔａｎδの極大値を０．６〜３．０とすることにより、光学機能発現部のガラス転移温度（以下、単に「Ｔｇ」という。）を１０〜４０℃、より好ましくは１０〜３０℃、さらに好ましくは１５〜２８℃とすることができる。
Ｔｇを上記範囲内とすることにより、光学機能発現部の光学単位の形状を変形させるものの磨耗性に優れたものとすることができる。
なお、本発明では、引っ張り正弦波、周波数１Ｈｚにて測定したときの、損失正接（ｔａｎδ）の極大値を示す温度をＴｇとし、８０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）を平衡弾性率とする。
【００６３】
ここで、上記平衡弾性率、ｔａｎδ及びＴｇは、動的粘弾性測定装置で測定することができる。当該動的粘弾性測定装置では、弾性に相当するＥ’、粘性に相当するＥ”、Ｅ”とＥ’の比であって振動吸収性を反映するｔａｎδの温度依存性や周波数依存性等を測定することができ、その測定結果により、光学機能発現部（光学単位の頂部）を構成する樹脂硬化物の分子内構造に起因するＴｇや平衡弾性率等を評価できる。
なお、動的粘弾性測定装置としては、エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の商品名粘弾性スペクトロメータ ＤＭＳ６１００を挙げることができる。
【００６４】
透明基材に光学機能発現部を形成する方法としては、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開２００９−３７２０４号公報の図２に示すように、所望の光学機能発現部の形状の型に上記組成物を入れ、そこに透明基材を重ね、ラミネーター等を用いて透明基材をその組成物に圧着し、紫外線等で組成物を硬化させ、前記型を剥離乃至除去する方法等が挙げられる。
【００６５】
（裏面層）
本発明に係る光学シートは、光学機能発現部の無い透明基材上に、バインダー樹脂及びケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含む裏面層を備える。裏面層としては、例えば、マット層やハードコート層等が挙げられる。
【００６６】
マット層とは、微細凹凸形状を有する層であり、視野角を拡大する為の拡散性の付与や他の部材との密着による干渉防止あるいは、キズ等外観の不具合を隠す等の為に、形成される。さらには、微細凹凸形状をランダムに形成することによって、光学シートを液晶表示パネルと組み合わせた際に、光学シートの導光板の配列と、液晶表示パネルの画素配列と、に起因したモアレの発生を防止することもできる。また、バックライト用のアクリル板に印刷される反射用ドットを見えにくくすることも可能となる。
マット層は、例えば、マット剤のコーティング、熱プレスによるエンボス（型押）加工、サンドブラスト加工等の機械的加工、透明樹脂の注型（キャスティング）法等によって形成することができる。
マット剤のコーティングは、例えば、マット剤を樹脂及び溶剤等からなるバインダーに含有させたマット剤塗料を、プリズム層のプリズム列と反対側表面にコーティングすることによって行う。
マット剤としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル（アクリル）系ビーズ、ポリメタクリル酸ブチル系ビーズ、ポリカーボネート系ビーズ、ポリウレタン系ビーズ、炭酸カルシウム系ビーズ、シリコーン系ビーズ及びシリカ系ビーズ等の微粒子が挙げられる。前記微粒子は、特に限定されないが、平均粒径が１〜３０μｍ、屈折率が１．３０〜１．６５程度の範囲であることが好ましく、また、ビーズの濃度はバインダー樹脂分の２〜５％であることが好ましい。
マット層のバインダーに用いられる樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などから適宜自由に選択して用いることができる。前記樹脂の屈折率はマット剤と極力一致させても良いし、出光特性をコントロールするために、樹脂とマット剤の屈折率を一致させなくても構わない。
マット剤塗料のコーティング方法としては、ダイコーティング、グラビヤコーティング、スリットリバースコーティング等各種公知のコーティング方法を選択することが可能である。
なお、マット層の厚さは通常１〜２０μｍである。
【００６７】
ハードコート層とは、物体表面に耐擦傷性及び耐摩耗性を付与する層であり、本発明においては、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で示される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものをいう。
【００６８】
ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂を使用して形成する。ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくはアクリレート系の官能基を有するものを挙げることができる。具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール等を挙げることができる。また、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の４官能以上の多官能（メタ）アクリレート；等の多官能化合物のモノマー類やエポキシアクリレートやウレタンアクリレート等のオリゴマー等を挙げることもできる。
また、透明性を損なわない範囲で表面が被覆されたシリカ、アルミナ等から成る無機粒子又はポリアミド樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等から成る有機粒子を用い、粒子とハードコート成分に共有結合を形成し、硬度を向上させたハードコート層を用いても良い。
【００６９】
ハードコート層を形成する手段は、特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用材料を透明基材上に塗布し、適当な電離放射線によって硬化する方法等が挙げられる。
【００７０】
ハードコート層は硬化後の膜厚は、好ましくは０．１μｍ以上、さらに好ましくは０．８μｍ以上とし、一方、当該膜厚は、好ましくは１００μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以下とする。膜厚を０．１μｍ以上とすれば十分なハードコート性能が得られやすくなり、１００μｍ以下とすれば、外部からの衝撃に対しても十分な強度を得やすい。
【００７１】
尚、本発明の裏面層としては、上記のハードコート層に上記マット層を形成したものを用いることもできる。この場合は、マット層が最外層（透明基材と反対側の面）となるように裏面層を形成することが好ましい。その他、帯電防止層、低屈折層などを設けても良い。
【００７２】
本発明の裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有している。裏面層に含有されるケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤は、上述したものと同様のものを用いることができる。
裏面層に含まれる防汚剤の量は、裏面層の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上となるように適宜定め、好ましくは４％以上となるように適宜定める。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記下限値未満であると、裏面層の耐指跡性が不十分となる。また、裏面層に含まれる防汚剤の含有量は、裏面層の表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２８％以下となるように定めることが好ましく、２０％以下となるように定めることがより好ましい。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記上限値を超えると、防汚剤による耐指跡性の向上が頭打ちになることが多く、また、光学機能発現部の表面からの防汚剤のブリードアウト量が多くなってしまう。
【００７３】
（光拡散層）
本発明に係る光学シートは、図示はしないが、必要に応じて光拡散機能を付与するために光拡散層を設けても良い。
光拡散層は、好ましく設けられる任意の層であって、光を拡散させる作用があればよく、一般的な光拡散シートに形成されているものを用いることができる。
例えば、光拡散性微粒子が透光性樹脂中に分散した層を適用できる。光拡散層は、透明基材と裏面層の間に面に設けられていても良いし、裏面層の透明基材とは反対側の面に設けられていても良いし、透明基材と光学機能発現部の間に設けられていても良い。あるいはプリズムシート（光学シート）を形成するプリズム樹脂部分（光学機能発現部）に光拡散性微粒子を内添しても良い。
【００７４】
光拡散層を構成する透光性樹脂としては、上記透明基材と同様の樹脂を挙げることができる。
また、光拡散性微粒子としては、一般的に光拡散シートに用いられる光拡散性の微粒子が用いられ、例えば、ポリメタクリル酸メチル（アクリル）系ビーズ、ポリメタクリル酸ブチル系ビーズ、ポリカーボネート系ビーズ、ポリウレタン系ビーズ、炭酸カルシウム系ビーズ及びシリカ系ビーズ等が挙げられる。
なお、光拡散層の厚さは、通常、１〜２０μｍである。
【００７５】
（光学シートの用途）
本発明に係る光学シートは、例えば、液晶表示装置等のバックライトに用いられるプリズムシート、プロジェクションテレビ等の投影スクリーンに用いられるフレネルレンズシート等に用いることができる。本発明に係る光学シートはこれらのいずれにおいても好適に用いることができるが、中でも液晶表示装置用バックライトのプリズムシートとして好適に用いることができる。
【００７６】
（面光源装置）
本発明に係る面光源装置は、面光源の光放出面側に、上述した本発明の光学シートを備えることを特徴とする。本発明に係る面光源装置に用いられる面光源としては、各種の仕様（形態）のものが使用でき、特に制限は無い。従来公知の、いわゆる、エッジライト型、直下型、ＥＬ（電場発光）型等の形態の面光源の光放出面側に上記の本発明の光学シートを載置して本発明の面光源装置が構成される。
図３は、本発明に係る光学シートを備える面光源装置の一例として、エッジライト型面光源を用いた本発明に係る面光源装置の形態を示した模式的な断面図である。図３の面光源装置２０は、導光板２１の光放出面２２側に、光放出面２２側から、裏面層１３、透明基材１１及び光学機能発現部１２が設けられている。
なお、図３の面光源装置２０は、導光板２１の少なくとも一つの側端面２３に設けられた光源２４から光が導光板２１内に入射され、光放出面２２から光が放出されるエッジライト型面光源２６を用いたエッジライト型面光源装置である。
【００７７】
導光板は、透光性材料からなる板状体である。図３の導光板２１は、左側の側端面２３から導入された光を、上側の光放出面２２から放出するように構成されている。
導光板は、従来公知の導光板とすれば良く、光学シートや透明基材と同様の透光性材料で形成しても良い。
導光板は通常、アクリル樹脂又はポリカーボネート樹脂で形成される。
導光板の厚さは通常１〜１０ｍｍであり、その厚さは全範囲で一定であっても良いし、図３に示すように、一端側に光源２４を設ける場合は、光源２４を設ける側端面２３側が最も厚く、側端面２３の反対側ほどに徐々に薄くなるテーパ形状であっても良い。
導光板には、光放出面から光を放出させるために、その内部又は表面に光散乱機能が付加されていることが好ましい。
【００７８】
光源は、エッジライト型面光源装置の場合、その少なくとも１つの側端面から内部に光を入射させるものであり、導光板の側端面に沿って配置される。
光源としては、特に限定されず、冷陰極管等の線状光源を用いても良いし、白熱電球、ＬＥＤ（発光ダイオード）等の点光源を側端面に沿ってライン状に配置しても良いし、小形の平面蛍光ランプを側端面に沿って複数個配置するようにしても良い。
【００７９】
導光板の光放出面とは反対側の面又は光放出面以外の面には、図３に示すように導光板２１の光放出面２２とは反対側等から放出される光を導光板２１内に戻し、光放出面２２から放出させるための光反射板２５が設けられていても良い。
光反射板は、薄い金属板にアルミニウム等を蒸着したもの、又は、白色の発泡ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等が用いられる。
【００８０】
（画像表示装置）
本発明に係る画像表示装置は、画像表示装置本体の背面側に、上述した本発明に係る面光源装置を配置していることを特徴とする。
前記画像表示装置としては、例えば、画像表示装置本体として液晶セルを用いた液晶表示装置が挙げられる。本発明において液晶セルとは、液晶化合物をガラス等により封入したモジュールをいい、偏光板又はカラーフィルター等のその他の部材が含まれたモジュールであっても良い。
【００８１】
図４は、図３で示したエッジライト型の面光源装置を備えた液晶表示装置の一例を示した模式的な断面図である。図４に示す液晶表示装置３０は、液晶セル３１とその一面側（背面（液晶表示装置における映像表示を観察する面とは反対側の面）側）に上記光学シート１０を備えた面光源装置２０を備えている。
【００８２】
液晶表示装置は、液晶セルの背面側に面光源装置（バックライト）を有する透過型の液晶表示装置であっても良いし、外光による反射光の表示とともに背面側のバックライトによる表示の両方が可能な半透過型の液晶表示装置であっても良い。
【００８３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８４】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００８５】
まず、以下の成分を混合して、プリズム部（光学機能発現部）の材料となるプリズム部用組成物ベース処方Ａ、Ｂ、Ｃ（以下、単に「ベース処方Ａ、Ｂ、Ｃ」と称することがある。）を調製した。各ベース処方の配合は、硬化後のプリズム部において、押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さの値が、ベース処方Ａでは０．８μｍ、ベース処方Ｂでは１．５μｍ、ベース処方Ｃでは０．４μｍとなるように調整されている。各プリズム部用組成物ベース処方が含有する成分及びその含有量（質量部）を表１に示す。
【００８６】
（プリズム部用組成物ベース処方Ａ：押し込み深さ０．８μｍ）
フェノキシエチルアクリレート（サートマー社製の商品名ＳＲ３３９Ａ）：１４．６質量部
オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート（別名アクリル酸２−（２−ビフェニリルオキシ）エチル）：２８質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝２、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−４ＥＡ）：１２質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ１０モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝５、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、ＭＩＷＯＮ社製の商品名ＭＩＲＡＭＥＲ Ｍ２１００）：３５質量部
ビスフェノールＡエポキシジアクリレート（共栄社化学（株）製の商品名ＦＬＥＡ−ＰＯＡ、（全質量に対するビスフェノールＡエポキシジアクリレートの含有量４９質量％、フェノキシエチルアクリレートの含有量５１質量％）、重量平均分子量２０００）：２質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７）、一般式（３）において、ａ＝５、ｂ＝５、ｃ＝３０、ｄ＝１０、Ｒ１及びＲ２がメチル基、重量平均分子量１０８００）：０．５質量部
グリセリンエポキシトリアクリレート（上記一般式（４）、ナガセケムテックス（株）製の商品名ＤＡ−３１４）：５質量部
イソシアヌル酸トリアクリレート（ＥＯ３モル変性、東亞合成（株）製の商品名アロニックス Ｍ−３１５）：３質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
リン酸エステル系離型剤（ＳＣ有機化学（株）製の商品名Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ）：０．１質量部
【００８７】
（プリズム部用組成物ベース処方Ｂ：押し込み深さ１．５μｍ）
フェノキシエチルアクリレート（サートマー社製の商品名ＳＲ３３９Ａ）：１２質量部
オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート（別名アクリル酸２−（２−ビフェニリルオキシ）エチル）：３２質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝２、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−４ＥＡ）：８質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ１０モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝５、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、ＭＩＷＯＮ社製の商品名ＭＩＲＡＭＥＲ Ｍ２１００）：４２質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７）、一般式（３）において、ａ＝５、ｂ＝５、ｃ＝３０、ｄ＝１０、Ｒ１及びＲ２がメチル基、重量平均分子量１０８００）：０．５質量部
グリセリンエポキシトリアクリレート（上記一般式（４）、ナガセケムテックス（株）製の商品名ＤＡ−３１４）：５質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
リン酸エステル系離型剤（ＳＣ有機化学（株）製の商品名Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ）：０．１質量部
【００８８】
（プリズム部用組成物ベース処方Ｃ：押し込み深さ０．４μｍ）
フェノキシエチルアクリレート（サートマー社製の商品名ＳＲ３３９Ａ）：１９質量部
イソボルニルアクリレート：８質量部
４−アクリロイルモルホリン：５質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝２、かつ、Ｒ１及びＲ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−４ＥＡ）：１２質量部
ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ２モル変性）（一般式（２）においてｍ＝ｎ＝１、Ｒ１が全てメチル基、かつ、Ｒ３が全て水素原子、共栄社化学（株）製の商品名ライトアクリレート ＢＰ−２ＥＭ）：２７質量部
ビスフェノールＡエポキシジアクリレート（共栄社化学（株）製の商品名ＦＬＥＡ−ＰＯＡ、（全質量に対するビスフェノールＡエポキシジアクリレートの含有量４９質量％、フェノキシエチルアクリレートの含有量５１質量％）、重量平均分子量２０００）：１６質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン（ビックケミー・ジャパン（株）製の商品名ＢＹＫ−３７７）、一般式（３）において、ａ＝５、ｂ＝５、ｃ＝３０、ｄ＝１０、Ｒ１及びＲ２がメチル基、重量平均分子量１０８００）：０．５質量部
イソシアヌル酸トリアクリレート（ＥＯ３モル変性、東亞合成（株）製の商品名アロニックス Ｍ−３１５）：１３質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
リン酸エステル系離型剤（ＳＣ有機化学（株）製の商品名Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ）：０．１質量部
【００８９】
【表１】
【００９０】
（マット層用材料ベース処方）
綜研化学製、架橋アクリル散粒子（平均粒径５μｍ）１重量％をポリエステル樹脂に混合し、イソシアネート硬化剤を硬化反応適量加えた。メチルエチルケトンとトルエンを等量混合した有機溶剤を用い、前記固形分が３５重量％になるように希釈して、光拡散性微粒子を含むマット層用材料ベース処方を調製した。
【００９１】
（実施例１）
上記プリズム部用組成物ベース処方Ａに、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の１質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の０．８質量％となるように、ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤をそれぞれ添加、混合し、プリズム部用組成物を得た。尚、前記ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤の含有量（質量％）は、得られるプリズム部用組成物中の固形分全体の質量を１００％としたときの値である。
上記マット層用材料ベース処方に、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の１質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の０．８質量％となるように、ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤をそれぞれ添加、混合し、マット層用材料を得た。尚、前記ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤の含有量（質量％）は、得られるマット層用材料中の固形分全体の質量を１００％としたときの値である。
【００９２】
厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の透明基材（東洋紡績（株）製の商品名Ａ４３００）の片面に前述のマット層用材料を塗工し、厚さ約３μｍのマット層を得た。
図１に示すような単位プリズム（光学単位）の線状配列の凹凸形状が形成されたプリズム型に前述のプリズム部用組成物を供給し、マット層を設けていない面のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の透明基材を重ね、ニップローラーで加圧し、高圧水銀灯を用い、７８０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、多数の単位プリズムを有するプリズム部（光学機能発現部）を硬化させ、ＰＥＴ基材と一体化した状態で上記プリズム型を剥離し、光学シートを得た。
ここで、単位プリズム（光学単位）の形状は、主切断面形状が高さ２５μｍ、底辺５０μｍ、頂角９０°となる二等辺三角形の三角柱形状とした。そして、プリズム部（光学機能発現部）は、各単位プリズムの稜線が互いに平衡になるように複数の単位プリズムを配列周期５０μｍで当該稜線と直交する方向に多数隣接して配列した構造とした。
【００９３】
得られた光学シートのプリズム部及びマット層におけるケイ素存在率及びフッ素存在率をＸＰＳ解析によって測定したところ、光学機能発現部のケイ素存在率は２％、フッ素存在率は２％であり、マット層におけるケイ素存在率は２％、フッ素存在率は２％であった。
尚、ＸＰＳ解析は、Thermo Electron社製（VG Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolvedとした。測定角度は、５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行った。
【００９４】
尚、プリズム部用組成物又はマット層用材料中の固形分全体の質量を１００％としたときのケイ素系防汚剤の含有量（質量％）と、ＸＰＳ解析によるプリズム部又はマット層におけるケイ素存在率（％）との相関関係を表２に示し、プリズム部用組成物又はマット層用材料中の固形分全体の質量を１００％としたときのフッ素系防汚剤の含有量（質量％）と、ＸＰＳ解析によるプリズム部又はマット層におけるフッ素存在率（％）との相関関係を表３に示す。尚、得られた光学シートのプリズム部及びマット層におけるＸＰＳ解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率は表４及び表５に示す。
【００９５】
【表２】
【００９６】
【表３】
【００９７】
（実施例２）
プリズム部用組成物ベース処方Ａに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の４質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の３質量％となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
【００９８】
（実施例３）
マット層用材料ベース処方に添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）が固形分全体の４質量％となるように、且つ、フッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）が固形分全体の３質量％となるようにして得られたマット層用材料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
【００９９】
（実施例４〜７）
プリズム部においてＸＰＳ解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率が、表４に示す値になるように、表２及び表３に従って、プリズム部用組成物ベース処方Ａに、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）及びフッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）を含有させたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１００】
（実施例８〜１１）
マット層においてＸＰＳ解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率が、表４に示す値になるように、表２及び表３に従って、マット層用材料ベース処方に、ケイ素系防汚剤（日本合成化学工業（株）製、ＵＴ３９７１）及びフッ素系防汚剤（大日本インキ社製、ディフェンサＴＦ３００１）を含有させたマット層材料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０１】
（実施例１２）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０２】
（比較例１）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０３】
（比較例２）
プリズム部用組成物ベース処方Ａに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の０．５質量％（存在率１％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の０．３質量％（存在率１％）となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０４】
（比較例３）
マット層用材料ベース処方に添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の０．５質量％（存在率１％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の０．３質量％（存在率１％）となるようにしして得られたマット層用材料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０５】
（比較例４）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｂを用い、当該プリズム部用組成物ベース処方Ｂに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の０．５質量％（存在率１％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の０．３質量％（存在率１％）となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０６】
（比較例５）
プリズム部用組成物ベース処方Ａの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Ｃを用い、当該プリズム部用組成物ベース処方Ｃに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の６質量％（存在率１５％）、フッ素系防汚剤が固形分全体の５質量％（存在率１５％）となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
【０１０７】
（押し込み深さの測定）
各実施例及び各比較例で得られた光学シートのプリズム部（光学機能発現部）の頂部における押し込み深さを、ＩＳＯ １４５７７−１に準拠し、押し込み荷重０．５ｍＮで測定した。測定機器としては、（株）フィッシャー・インストルメンツ製の微小硬さ試験機（商品名ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ５００、圧子はダイヤモンド製の四角錐型、対面角９０°）を用いた。実施例で得られた光学シートの測定結果を表４に示し、比較例で得られた光学シートの測定結果を表５に示す。
【０１０８】
（指跡の有無の評価）
作製した実施例及び比較例の光学シートをＡ４サイズに切り出し、明室にて、プリズム部表面及びマット層表面の指跡の有無を目視にて観察した。指跡を認識できなかったものを○、指跡を認識できたものを×とし、実施例で得られた光学シートの評価結果を表４に示し、比較例で得られた光学シートの評価結果を表５に示す。
【０１０９】
【表４】
【０１１０】
【表５】
【０１１１】
本発明に係る光学シートは、指が接触した際に、光学機能発現部を構成する光学単位の凸状頂部付近において指跡が付着するという問題を解決するために開発されたものである。
実施例１〜１２で得られた光学シートは、プリズム部（光学機能発現部）及びマット層（裏面層）のいずれにおいても指跡が確認されなかった。プリズム部では、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有し、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計を３％以上とすることで、皮脂の付着がなく、さらに、押し込み荷重０．５ｍＮでの押し込み深さを０．６μｍ以上とすることで、加圧による永久変形もなかったことにより、指跡の付着を防止できたと考えられる。マット層では、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有し、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計を３％以上とすることで、皮脂の付着を防いだことにより、指跡の付着を防止できたと考えられる。
一方、比較例１、２、４及び５で得られた光学シートでは、プリズム部に指跡が確認された。
比較例１では、プリズム部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率が実施例と同等であったため、皮脂の付着はなかったと考えられるが、プリズム部の押し込み荷重０．５ｍＮでの押し込み深さが０．４μｍと小さかったため、加圧によって指跡が形成されたと考えられる。
比較例２及び比較例４では、プリズム部の押し込み深さが実施例と同等であったため、加圧による変形はなかったと考えられるが、プリズム部が含有する防汚剤量が少なく、ケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２％と小さかったため、皮脂による指跡が付着したと考えられる。
比較例５では、プリズム部における防汚剤の含有量が多すぎたため、防汚剤がブリードアウトしたことにより指跡が付着し、プリズム部の表面には艶のムラができた。また、プリズム部の押し込み荷重０．５ｍＮでの押し込み深さが０．４μｍと小さかったことにより、加圧による指跡も形成されたと考えられる。尚、プリズム部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率は実施例と同等であったため、皮脂による指跡の付着はなかったと考えられる。
比較例３で得られた光学シートでは、マット層に指跡が確認された。これは、マット層が含有する防汚剤量が少なく、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が２％と小さかったため、皮脂による指跡が付着したと考えられる。
【符号の説明】
【０１１２】
１０ 光学シート
１１ 透明基材
１２ 光学機能発現部
１２ａ 光学単位
１３ 裏面層
２０ 面光源装置
２１ 導光板
２２ 光放出面
２３ 側端面
２４ 高原
２５ 光反射板
２６ 面光源
３０ 液晶表示装置
３１ 液晶セル
１１０ 可動盤
１２０ 偏光フィルム
１３０ 荷重部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、
前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする光学シート。
【請求項２】
面光源の光放出面側に前記請求項１に記載の光学シートを備えることを特徴とする、面光源装置。
【請求項３】
画像表示装置本体の背面側に、前記請求項４に記載の面光源装置を配置した、画像表示装置。
【請求項１】
透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、
前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ＩＳＯ１４５７７−１に準拠して押し込み荷重０．５ｍＮで測定したときの押し込み深さが０．６μｍ以上であり、
前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をＸＰＳ解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が３％以上であることを特徴とする光学シート。
【請求項２】
面光源の光放出面側に前記請求項１に記載の光学シートを備えることを特徴とする、面光源装置。
【請求項３】
画像表示装置本体の背面側に、前記請求項４に記載の面光源装置を配置した、画像表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１２−２０８３７６（Ｐ２０１２−２０８３７６Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７４８３０（Ｐ２０１１−７４８３０）
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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