光学フィルム
【課題】従来の光学フィルムでは、フラットパネル表示装置に黒表示すると青味や赤味を帯びて見えたり、白表示すると黄色味を帯びて見えたりするなど、いわゆる色抜けについて、必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５を充足する光学フィルム。溶液（ａ）：重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液。
【解決手段】重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５を充足する光学フィルム。溶液（ａ）：重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム等に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板等の光学フィルムを用いた部材が含まれている。光学フィルムには、例えば、重合性液晶化合物を溶剤に溶かして得られる溶液を、支持基材に塗布後、重合して得られる光学フィルム等が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−３１２２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の光学フィルムでは、フラットパネル表示装置に黒表示すると青味や赤味を帯びて見えたり、白表示すると黄色味を帯びて見えたりするなど、いわゆる色抜けについて、必ずしも十分に満足できない場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は以下の［１］〜［８］を提供するものである。
［１］重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５を充足する光学フィルムである。
ここで、溶液（ａ）は、重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液である。
［２］溶液（ａ）の極大吸収波長が、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である［１］記載の光学フィルムである。
［３］−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足する波長範囲が４０ｎｍ以上である［１］又は［２］記載の光学フィルムである。
【０００６】
［４］重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である［１］〜［３］のいずれか記載の光学フィルムである。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−又は−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１は、重合性基又は１価の有機基を表す。
Ｌ２は、重合性基を表す。］
［５］Ｇ１及びＧ２が、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である［４］記載の光学フィルムである。
【０００７】
［６］重合性液晶化合物を含む組成物を基板に塗布し、重合性液晶化合物を配向させ、該組成物に含まれる重合性成分を重合してなる［１］〜［５］のいずれか記載の光学フィルムである。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板。
［８］［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムを含むフラットパネル表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学フィルムによれば、フラットパネル表示装置における色抜けを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る偏光板の一例の断面図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の一例の断面図である。
【図３】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の一例の断面図である。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの一例の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の光学フィルムは、重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５である光学フィルムである。ここで、溶液（ａ）とは、重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液である。
【００１１】
本明細書において、波長λｎｍにおける光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）は、式（１）で表される値である。
Ｓ（λ）＝（Ａｐ−Ａｖ）／（Ａｐ＋２Ａｖ） （１）
［式（１）中、Ａｐは、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の配向方向に対して平行方向に偏光した光に対する吸光度を表す。Ａｖは、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の配向方向に対して垂直方向に偏光した光に対する吸光度を示す。］
【００１２】
光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）は、偏光吸収測定により求めることができる。
光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）は、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の分子が完全に１軸配向している場合には１を示し、該液晶化合物の分子がランダムな向きに存在している場合には０を示し、該液晶化合物の分子長軸が配向軸に垂直な面内に分布する場合には−０．５を示す。
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０より大きく−０．１５より小さい範囲にあると、該光学フィルムは優れた光学補償が可能となり、色抜けが低減される。
【００１３】
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長は、３００〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。該極大吸収波長が上記範囲内にあると、得られる光学フィルムの着色が少なく透明性が高い。
【００１４】
光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）が、４０ｎｍ以上の波長範囲で、−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足することが好ましく、３００〜４００ｎｍのうち４０ｎｍ以上の波長範囲で、−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足することがより好ましい。−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足する波長範囲が広いほど、光学フィルムの色抜けはより低減される。
【００１５】
本発明の光学フィルムは、重合性液晶化合物が配向しているため複屈折を有する。本発明の光学フィルムをλ／４板として使用する場合には、その位相差値を１１３〜１６３ｎｍに、λ／２板として使用する場合にはその位相差値を２５０〜３００ｎｍに調整することにより、色抜けをさらに低減させることができる。
【００１６】
本発明の光学フィルムは、重合性液晶化合物を含む組成物（以下「組成物（Ａ）」という場合がある）を用いて形成される。
重合性液晶化合物としては、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）であることが好ましい。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−又は−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１は、重合性基又は１価の有機基を表す。
Ｌ２は、重合性基を表す。］
【００１７】
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、−ＣＲ１Ｒ２−ＮＲ３−、−ＣＯ−ＮＲ１−、又は−ＮＲ１−ＣＯ−である。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
Ｄ１及びＤ２は、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、＊−ＮＲ５−ＣＲ１Ｒ２−又は＊−ＮＲ５−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表わす。）であることが好ましい。Ｄ１及びＤ２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−又は＊−ＮＲ５−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表す。）であることがより好ましい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。Ｒ５は、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
【００１８】
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である。該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基は、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフッ化アルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を有していてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
【００１９】
炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基等が挙げられる。置換基を有する該芳香族炭化水素基としては、クロロフェニレン基、メチルフェニレン基、トリフルオロメチルフェニレン基、シアノフェニレン基、ニトロフェニレン基、メトキシナフタレンジイル基等が挙げられる。
炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−４）で表される基が挙げられ、−ＣＨ２−が置き換わっている該脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−５）〜式（ｇ−１０）で表される基が挙げられる。
【００２０】
【００２１】
上記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で表される基は、前記例示された基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフッ化アルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフッ化アルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００２２】
Ｇ１及びＧ２としては、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、５員環又は６員環の脂環式炭化水素基であることがより好ましく、シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。Ｇ１及びＧ２が上記の基であると、色抜けが低減される傾向がある。
【００２３】
Ａｒは、芳香環を有する２価の基であり、該芳香環は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種である。該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下であり、好ましくは１３以上２２以下である。
【００２４】
Ａｒとしては、式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表される基等が挙げられ、好ましくは式（Ａｒ−６）で表される基である。
【００２５】
【００２６】
［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ１は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ１及びＱ３は、それぞれ独立に、−ＣＲ９Ｒ１０−、−Ｓ−、−ＮＲ９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
Ｗａ及びＷｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
【００２７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【００２８】
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００２９】
炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。
【００３０】
炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。
【００３１】
炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【００３２】
炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【００３３】
炭素数１〜６のアルキルスルファニル基としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルファニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基がより好ましく、メチルスルファニル基が特に好ましい。
【００３４】
炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。
【００３５】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。
【００３６】
炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００３７】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００３８】
Ｚ１は、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。
【００３９】
Ｒ９及びＲ１０における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
【００４０】
Ｑ１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ３）−であることが好ましく、Ｑ３は、−Ｓ−又は−ＣＯ−であることが好ましい。
【００４１】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３を表す芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基としては、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が挙げられる。
【００４２】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含み、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基が好ましい。
【００４３】
かかる芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルチオ基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。
【００４４】
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記におけるものと同様のものが挙げられる。
【００４５】
単環の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基としては、式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表される基が挙げられる。
【００４６】
【００４７】
［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、＊は結合手を表す。Ｚ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ１は、０〜５の整数を表し、ａ２は、０〜４の整数を表し、ｂ１は、０〜３の整数を表し、ｂ２は、０〜２の整数を表し、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］
【００４８】
Ｚ２としては、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、製造工程やコストの点で好ましい。
【００４９】
多環の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基としては、式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）で表される基が挙げられる。
【００５０】
【００５１】
［式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）中、＊は結合手を表し、Ｚ３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基又は炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基を表す。
Ｖ１及びＶ２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ１１−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ２−を表す。
Ｗ１〜Ｗ５は、それぞれ独立に、−ＣＲ１１＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１〜Ｗ５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。］
【００５２】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３としては、式（Ｙ３−１）〜式（Ｙ３−６）で表される基であることが好ましい。
【００５３】
【００５４】
［式（Ｙ３−１）〜式（Ｙ３−６）中、＊、Ｚ３、ａ、ｂ、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１は、上記と同じ意味を表す。］
【００５５】
Ｚ３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、ニトロソ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。
【００５６】
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記におけるものと同様のものが挙げられる。
【００５７】
Ｖ１及びＶ２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ１１−又は−Ｏ−であることが好ましい。
Ｗ１〜Ｗ５は、それぞれ独立に、−ＣＲ１１＝又は−Ｎ＝であることが好ましい。
Ｖ１、Ｖ２及びＷ１〜Ｗ５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ又はＯを含む基であることが好ましい。
ａは０又は１であることが好ましい。ｂは０であることが好ましい。
【００５８】
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。
【００５９】
【００６０】
【００６１】
【００６２】
【００６３】
【００６４】
【００６５】
式（Ａｒ−５）で表される基の具体例として、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基が挙げられる。
【００６６】
【００６７】
【００６８】
式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例として、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−９９）で表される基が挙げられる。
【００６９】
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
【００７５】
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１００）〜式（ａｒ−１０９）で表される基が挙げられる。
【００８２】
【００８３】
【００８４】
式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１１０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基が挙げられる。
【００８５】
【００８６】
【００８７】
【００８８】
【００８９】
式（Ａｒ−１１）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１３９）で表される基が挙げられる。
【００９０】
【００９１】
【００９２】
式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１４０）〜式（ａｒ−１５９）で表される基が挙げられる。
【００９３】
【００９４】
【００９５】
【００９６】
【００９７】
式（Ａｒ−１３）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１６９）で表される基が挙げられる。
【００９８】
【００９９】
【０１００】
化合物（Ａ）において、Ｌ１が式（Ｄ）で表される基であり、かつＬ２が式（Ｅ）で表される基であることが好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１− （Ｄ）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２− （Ｅ）
［式（Ｄ）中、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−又は単結合を表す。
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ１及びＡ２は、置換基を有していてもよい炭素数６〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ１及びＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ２及びＡ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ１及びＦ２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ１は、重合性基を表す。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表す。］
【０１０１】
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数６〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である。該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基は、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフッ化アルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、炭素数１〜４フッ化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を有していてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
【０１０２】
Ａ１及びＡ２における２価の芳香族炭化水素基としては、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される基等が挙げられ、２価の脂環式炭化水素基としては、前記の式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される基等が挙げられる。
【０１０３】
Ａ１及びＡ２が同じ種類の基であると、化合物（Ａ）の製造が容易であるため好ましい。またＡ１及びＡ２としては、１，４−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基が好ましく、化合物（Ａ）の製造が容易であるため、１，４−フェニレン基がより好ましい。
【０１０４】
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−又は単結合である。これらの基は、どちらの向きに結合してもよい。
Ｂ１及びＢ２は、同じ種類の基であると、化合物（Ａ）の製造が容易であるため好ましい。
Ａ１にのみ結合しているＢ１及びＡ２にのみ結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ２−又は単結合であり、かつ、Ｆ１に結合しているＢ１及びＦ２に結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は単結合であることが好ましい。これらの基であると、化合物（Ａ）の製造が容易である。
またＡ１にのみ結合しているＢ１及びＡ２にのみ結合しているＢ２が、−ＣＯ−Ｏ−であると、高い液晶性を示す傾向があるため、より好ましい。
【０１０５】
Ｅ１及びＥ２としては、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−及び単結合が好ましい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。
ｋ及びｌは、液晶性の観点から、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。
【０１０６】
Ｐ１は、重合性基であり、Ｐ２は、水素原子又は重合性基である。重合性基とは、化合物（Ａ）の重合反応に関与し得る基を意味する。Ｐ１及びＰ２がともに重合性基であると、得られる光学フィルムの硬度が優れる傾向がある。
重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシ基、アセチル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基、アミノ基、オキシラニル基、オキセタニル基、ホルミル基、イソシアナト基又はイソチオシアナト基等が挙げられる。中でも、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基、カチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、化合物（Ａ）の製造も容易であるという点でアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
【０１０７】
−Ｄ１−Ｇ１−Ｅ１−（Ａ１−Ｂ１）ｋ−Ｆ１−Ｐ１及び−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２の具体例としては、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基が挙げられる。＊は、Ａｒとの結合手を示す。また式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。
【０１０８】
【０１０９】
【０１１０】
【０１１１】
【０１１２】
【０１１３】
【０１１４】
【０１１５】
【０１１６】
【０１１７】
【０１１８】
【０１１９】
【０１２０】
さらに化合物（Ａ）としては、化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｖｉ）が挙げられる。表１中のＲ１は、−Ｄ１−Ｇ１−Ｅ１−（Ａ１−Ｂ１）ｋ−Ｆ１−Ｐ１を、Ｒ２は、−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２を表す。
【０１２１】
【表１】
【０１２２】
なお、化合物（ｘｘｖ）及び化合物（ｘｘｖｉ）においては、Ｒ１で表される基及び式Ｒ２で表される基のうちのいずれか一方は、（Ｒ−５７）〜（Ｒ−１３１）のいずれかである。
上記表１中、化合物（ｘｖ）は、Ａｒが式（ａｒ−７４）で表される基である化合物、Ａｒが式（ａｒ−７５）で表される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−７４）で表される基である化合物と式（ａｒ−７５）で表される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
【０１２３】
さらに表１の化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｖｉ）、化合物（ｘｖｉｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉ）、化合物（ｘｘｉｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）、化合物（ｘｘｖ）及び化合物（ｘｘｖｉ）の代表的な構造式を下記に例示する。本発明の光学フィルムの作製に用いられる重合性液晶化合物として、化合物（Ａ）は単独で用いても、異なる複数種を併用してもよい。
【０１２４】
【０１２５】
【０１２６】
【０１２７】
【０１２８】
【０１２９】
【０１３０】
【０１３１】
【０１３２】
【０１３３】
【０１３４】
【０１３５】
【０１３６】
【０１３７】
【０１３８】
【０１３９】
【０１４０】
また、化合物（Ａ）としては、式（Ａ１−１）〜式（Ａ６４−８）で表される化合物が挙げられる。＊は結合手を表し、例えば式（Ａ１−１）で表される化合物は、下記のように表される化合物である。
【０１４１】
【０１４２】
【０１４３】
【０１４４】
【０１４５】
【０１４６】
【０１４７】
【０１４８】
【０１４９】
【０１５０】
【０１５１】
【０１５２】
【０１５３】
【０１５４】
【０１５５】
【０１５６】
【０１５７】
【０１５８】
【０１５９】
【０１６０】
【０１６１】
【０１６２】
【０１６３】
【０１６４】
【０１６５】
【０１６６】
【０１６７】
【０１６８】
【０１６９】
【０１７０】
【０１７１】
【０１７２】
【０１７３】
【０１７４】
【０１７５】
【０１７６】
【０１７７】
【０１７８】
【０１７９】
【０１８０】
【０１８１】
【０１８２】
【０１８３】
【０１８４】
【０１８５】
【０１８６】
【０１８７】
【０１８８】
【０１８９】
【０１９０】
【０１９１】
【０１９２】
【０１９３】
【０１９４】
【０１９５】
【０１９６】
【０１９７】
【０１９８】
【０１９９】
【０２００】
【０２０１】
【０２０２】
【０２０３】
【０２０４】
【０２０５】
【０２０６】
【０２０７】
【０２０８】
【０２０９】
化合物（Ａ）の製造方法について以下説明する。
化合物（Ａ）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応等）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。
【０２１０】
例えば、Ｄ１及びＤ２が＊−Ｏ−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表す）である化合物（Ａ）の場合には、式（１−１）
【０２１１】
（式中、Ａｒは上記と同一の意味を表す。）
で表される化合物と式（１−２）
【０２１２】
（式中、Ｇ１、Ｅ１、Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｐ１及びｋは上記と同一の意味を表す。）
で表される化合物とを反応させることにより、式（１−３）
【０２１３】
（式中、Ａｒ、Ｇ１、Ｅ１、Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｐ１及びｋは上記と同一の意味を表わす。）
で表される化合物を得、得られた式（１−３）で表される化合物と式（１−４）
【０２１４】
（式中、Ｇ２、Ｅ２、Ａ２、Ｂ２、Ｆ２、Ｐ２及びｌは上記と同一の意味を表わす。）
で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
【０２１５】
式（１−１）で表される化合物と式（１−２）で表される化合物との反応及び式（１−３）で表される化合物と式（１−４）で表される化合物との反応は、縮合剤の存在下に実施することが好ましい。
【０２１６】
縮合剤としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、等のカルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステル、が挙げられる。反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールがより好ましい。
【０２１７】
組成物（Ａ）は、重合性液晶化合物として、重合性基を有し、かつ化合物（Ａ）とは異なる液晶化合物（以下「液晶化合物（Ａ１）」という場合がある）を含んでいてもよい。液晶化合物（Ａ１）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物等が挙げられる。
【０２１８】
液晶化合物（Ａ１）としては、例えば、式（Ｆ）で表される化合物（以下「化合物（Ｆ）」という場合がある）等が挙げられる。
【０２１９】
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ−Ｂ１２−Ｇ （Ｆ）
［式（Ｆ）中、Ａ１１は、炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基又は炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又はで置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）又は単結合を表す。Ｒ１６は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のＮ−アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基又は−Ｅ１２−Ｐ１２を表す。
Ｅ１１及びＥ１２は、炭素数１〜１８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｐ１１及びＰ１２は、重合性基を表す。
ｔは、１〜５の整数を表す。ｔが２以上の整数である場合、複数のＢ１１及びＡ１１は、互いに同一であっても異なっていてもよい。］
【０２２０】
Ｐ１１及びＰ１２としては、化合物（Ａ）のＰ１及びＰ２と同様の基が挙げられる。より低温での硬化が可能であることから光重合性基が好ましく、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、化合物（Ｆ）の製造も容易であることから、式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）で表される基が好ましく、ビニル基、イソプロペニル基、オキシラニル基、３−メチルオキシラン−２−イル基、３−メチルオキセタン−３−イル基、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が特に好ましい。
【０２２１】
【０２２２】
［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、Ｒ１７〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ１１との結合手を表す。］
【０２２３】
Ａ１１の芳香族炭化水素基及び脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基又は１，４−フェニレン基が好ましい。
【０２２４】
Ｅ１１及びＥ１２としては、炭素数１〜１８のアルカンジイル基であり、直鎖状であるか分岐が１箇所である炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
【０２２５】
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基、ドデカンジイル基、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−及び−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−等が挙げられる。
【０２２６】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが４であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２である化合物の具体例として式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）で表される化合物が挙げられる。
下記式において、式中ｋ１及びｋ２は、２〜１２の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されている等、入手が容易である。
【０２２７】
【０２２８】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが４であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２以外の基である化合物の具体例として式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）で表される化合物が挙げられる。
【０２２９】
【０２３０】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが３であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２である化合物の具体例として式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）で表される化合物が挙げられる。
【０２３１】
【０２３２】
【０２３３】
【０２３４】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが３であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２以外の基である化合物の具体例として式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１９）表される化合物が挙げられる。
【０２３５】
【０２３６】
【０２３７】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが２であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２である化合物の具体例として式（Ｖ−１）及び式（Ｖ−２）で表される化合物が挙げられ、ｔが２であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２以外の基である化合物の具体例として式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表される化合物等が挙げられる。
【０２３８】
【０２３９】
化合物（Ａ）の含有量は、液晶化合物（Ａ１）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、１０〜１００質量部が好ましく、より好ましくは３０〜１００質量部である、さらに好ましくは６０〜１００質量部である。液晶化合物（Ａ１）の含有量は、液晶化合物（Ａ１）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、０〜９０質量部が好ましく、より好ましくは０〜７０質量部である、さらに好ましくは０〜４０質量部である。化合物（Ａ）及び液晶化合物（Ａ１）の含有量が上記範囲内であると、優れた偏光変換が可能となる。
本発明の光学フィルムは、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量が多いほど、色抜けは低減される。
【０２４０】
組成物（Ａ）は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、光や熱の作用により、ラジカルや酸を発生し、組成物（Ａ）に含まれる重合性液晶化合物の重合を開始しうる化合物である。重合開始剤としては、低温で重合反応することができる点で、光重合開始剤であることが好ましく、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤がより好ましい。重合開始剤を含有することで、光学フィルムの耐久性が向上する。
【０２４１】
熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の過酸化物等が挙げられる。
光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ベンジルケタール等のベンジルケタール類；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシ−１−エタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類；２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン等のα−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てＢＡＳＦジャパン（株）製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学（株）製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬（株）製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て（株）ＡＤＥＫＡ製）等市販されている光重合開始剤を使用することもできる。
重合開始剤の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、より好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。上記範囲内であれば、化合物（Ａ）や液晶化合物（Ａ１）等の重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４２】
組成物（Ａ）は、光増感剤を含んでもよい。光増感剤としては、例えばキサントン又はチオキサントン等のキサントン系化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等）、アントラセン又はアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン系化合物(例えば、ジブトキシアントラセン等)、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。
【０２４３】
光増感剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、０．５質量部〜１０質量部がより好ましい。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４４】
組成物（Ａ）は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。
【０２４５】
重合禁止剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合を制御することができ、さらに組成物の安定性を向上させることができる。
重合禁止剤の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、０．５質量部〜１０質量部がより好ましい。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４６】
組成物（Ａ）は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、組成物（Ａ）を構成する成分を溶解し、重合性液晶化合物の重合に関与しない溶媒であれば特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；
酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素含有溶媒等が挙げられる。
これら溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。かかる溶媒は、水を含んでいてもよい。
【０２４７】
溶媒の含有量は、組成物（Ａ）に対して、５０〜９５質量％であることが好ましい。
さらに、組成物（Ａ）の粘度は、１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、０．１〜７ｍＰａ・ｓがより好ましい。粘度が上記範囲内であると、塗布しやすく、本発明の光学フィルムを所望の膜厚に調整することができる。粘度は溶媒の含有量で調整することができる。
【０２４８】
組成物（Ａ）は、レベリング剤を含んでもよい。
レベリング剤としては、放射線硬化塗料用添加剤（例えば、ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ；ビックケミージャパン製）、塗料添加剤（例えば、ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ；東レ・ダウコーニング（株）製）、塗料添加剤（例えば、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１；信越化学工業（株）製）又はフッ素系添加剤（例えば、Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７７、Ｆ−４７９；ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
レベリング剤を用いることにより、本発明の光学フィルムを平滑にすることができる。さらに、組成物（Ａ）の流動性を制御したり、本発明の光学フィルムの架橋密度を調整したりすることもできる。レベリング剤の含有量は、液晶化合物（Ａ１）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４９】
本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
本発明の光学フィルムは、組成物（Ａ）を基板に塗布し、溶媒を除去し、該組成物に含まれる重合性成分を重合することにより得られる。
【０２５０】
基板への塗布方法としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法又はダイコーティング法等が挙げられる。またディップコーター、バーコーター又はスピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等が挙げられる。
【０２５１】
基板としては、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルム等を挙げることができる。板状でもフィルム状でもよい。前記透光性フィルムとしては、ポリオレフィンフィルム（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等）、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。
基板を用いると、本発明の光学フィルムを製造したり、運搬したり、保管したりする際に破れ等なく容易に取り扱うことができる。
【０２５２】
本発明の光学フィルムを製造する際、基板には配向膜が形成されていることが好ましい。好ましくは、基板上に配向膜を形成した後、配向膜の上に組成物（Ａ）を塗布することが好ましい。配向膜は、組成物（Ａ）の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有することが好ましい。また、溶剤の除去や液晶の配向ための加熱処理において耐熱性を有することが好ましい。さらに、ラビングによる摩擦等による剥がれ等が生じない配向膜であることが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーまたは配向性ポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。配向膜を用いることにより、重合性液晶化合物の配向が容易になり、得られる光学フィルムの複屈折の面内ばらつきが小さくなる。また、配向の制御が容易でなり、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な配向を得ることができる。
【０２５３】
上記配向性ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。
【０２５４】
配向性ポリマーは、溶媒に溶解して、塗布することができる。溶媒は、特に制限はないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン
、メチルイソブチルケトンなどのケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン又はキシレンなどの非塩素系芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリルなどのニトリル溶媒；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル溶媒；クロロホルム又はクロロベンゼンなどの塩素含有溶媒；などが挙げられる。これら溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
【０２５５】
また配向膜を形成するために、市販の配向膜材料を使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。
【０２５６】
前記基板上に、市販の配向膜材料や配向性ポリマーまたは配向性ポリマーを含有する組成物を塗布し、その後、アニールすることにより、前記基板上に配向膜を形成することができる。市販の配向膜材料や配向性ポリマーまたは配向性ポリマーを含有する組成物を基板に塗布する方法としては、組成物（Ａ）を基板に塗布する方法として挙げたものと同じ方法が挙げられる。
このようにして得られる配向膜の厚さは、例えば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。上記範囲であれば、重合性液晶化合物を該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。
【０２５７】
また配向膜は、必要に応じてラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行うことができる。これらにより重合性液晶化合物を所望の方向に配向させることができる。
配向膜をラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられて搬送されている基板上の配向膜に接触させる方法が挙げられる。ラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行う時に、マスキングを行えば、パターンを有する光学フィルムを作製することもできる。
【０２５８】
波長λｎｍの光に対する位相差値（Ｒｅ（λ））は、複屈折率Δｎと本発明の光学フィルムの厚みｄとの積で表される（Ｒｅ（λ）＝Δｎ×ｄ）。本発明の光学フィルムにおいて、位相差値（Ｒｅ（λ））は、本発明の光学フィルム中に含まれる化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を適宜選択し、さらに本発明の光学フィルムの厚みｄを調整することにより、所望の値を得ることができる。位相差値（Ｒｅ（λ））は、その用途により、３０〜３００ｎｍの範囲で適宜選択すればよい。
【０２５９】
具体的に位相差値を調整するには、化合物（Ａ）の含有量が異なる組成物を２〜５種類調製し、それぞれの組成物について、同じ膜厚の本発明の光学フィルムを製造してこれらの位相差値を求め、その結果から、組成物中の化合物（Ａ）の含有量と本発明の光学フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における本発明の光学フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（Ａ）の含有量を決定することができる。
また、化合物（Ａ）の含有量が決定している組成物について、得られる光学フィルムの厚みｄを適宜変更することによっても、位相差値を調整することができる。
【０２６０】
本発明の光学フィルムを位相差板として用いる場合、厚みｄは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜３μｍであることがより好ましい。
λ／４板として用いる場合は、得られる位相差板のＲｅ（５５０）を１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは、１３０〜１５０ｎｍに調整すればよく、λ／２板として用いる場合は、得られる位相差板のＲｅ（５５０）を２５０〜３００ｎｍ、好ましくは、２６５〜２８５ｎｍとなるように調整すればよい。
また、本発明の光学フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）モード用の光学フィルムとして用いる場合、Ｒｅ（５５０）が例えば、４０〜１００ｎｍ、好ましくは６０〜８０ｎｍとなるように調整すればよい。
【０２６１】
組成物（Ａ）を基板に塗布後、溶媒を除去する。溶媒を除去する方法としては、自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥等の方法が挙げられる。溶媒を除去する温度としては、１０〜１５０℃であることが好ましく、２５〜１２０℃であることがより好ましい。溶媒を除去する時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。除去する温度及び除去する時間が、上記範囲内であれば、耐熱性の低い基板及び配向膜を用いても、本発明の光学フィルムを製造することができる。
【０２６２】
組成物（Ａ）を基板した塗膜は、重合性液晶化合物を０〜１５０℃、好ましくは２５〜１２０℃で配向させる。モノドメイン配向した重合性液晶化合物は、複屈折性を有する。加熱して重合性液晶化合物を配向させる場合、溶媒を除去するのと同時に行ってもよいし、溶媒を除去した後さらに加熱して配向させてもよい。
【０２６３】
重合性液晶化合物を配向させた状態で、塗膜中の重合性液晶化合物等を重合させることにより、本発明の光学フィルムが得られる。重合させることにより、重合性液晶化合物の配向が固定されるため、光学フィルムは熱によって複屈折が変化しにくくなる。
重合性液晶化合物を重合する方法は、重合性液晶化合物の重合性基の種類に応じて、選択すればよい。重合性液晶化合物の重合性基が光重合性基であれば光重合法が用いられ、該重合性基が熱重合性基であれば熱重合法が用いられる。光重合法によれば、低温で重合性液晶化合物を重合することができ、基板の耐熱性の選択幅が広がるという点および工業的にも製造が容易であるという点で、光重合性基を有する重合性液晶化合物を用いることが好ましい。光重合反応は、組成物（Ａ）を塗布し重合性液晶化合物を配向させた膜に、可視光、紫外光またはレーザー光を照射することにより行われる。取り扱いの点で、紫外光が特に好ましい。
【０２６４】
本発明の光学フィルムは、単層で用いてもよいし、基板及び／又は配向膜等と積層させて用いてもよい。なお、本発明の光学フィルムを複数層積層する場合、それらは互いに、同一であってもよいし、異なるものを組み合わせて用いてもよい。
【０２６５】
本発明の光学フィルムは、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルム等の反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルム及び透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルム等に用いられる。
本発明の光学フィルムと、偏光フィルムとを含む偏光板として用いることが好ましい。本発明の光学フィルムと偏光フィルムとを貼合することにより、楕円偏光板が得られ、該楕円偏光板にさらに本発明の光学フィルムを貼合することにより、広帯域λ／４板が得られる。
【０２６６】
以下の図の説明において、本発明の光学フィルムとしては、本発明の光学フィルムのみであってもよいし、本発明の光学フィルムと配向膜とが積層しているものであってもよいし、本発明の光学フィルムと配向膜と支持基材とが積層しているものであってもよい。
【０２６７】
本発明の偏光板としては、図１（ａ）〜図１（ｅ）に示すように、（１）本発明の光学フィルム１と、偏光フィルム層２とが、直接積層された偏光板４ａ（図１（ａ））、（２）本発明の光学フィルム１と偏光フィルム層２とが、接着剤層３を介して貼り合わされた偏光板４ｂ（図１（ｂ））、（３）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを積層させ、さらに、本発明の光学フィルム１’と偏光フィルム層２とを積層させた偏光板４ｃ（図１（ｃ））、（４）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本発明の光学フィルム１’上に偏光フィルム層２を積層させた偏光板４ｄ（図１（ｄ））、及び（５）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本発明の光学フィルム１’と偏光フィルム層２とを接着剤層３’を介して貼り合せた偏光板４ｅ（図１（ｅ））等が挙げられる。ここで接着剤とは、接着剤及び／又は粘着剤のことを総称していう。
【０２６８】
偏光フィルム層は、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムに沃素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して沃素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられる。また、偏光フィルム層は、必要に応じて、保護フィルムとなるフィルムを備えていてもよい。
たとえば保護フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム及びポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。
接着剤層３及び接着剤層３’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤あるいはウレタン系接着剤等が用いられる。
また、偏光フィルムにおいて、図１（ｃ）〜図１（ｅ）に示すように、２以上の本発明の光学フィルムを直接または接着剤層を介して貼り合わせてもよい。
【０２６９】
本発明のフラットパネル表示装置は、本発明の光学フィルムを備えるものであり、例えば、本発明の光学フィルムと、液晶パネルとを備える液晶表示装置や、本発明の光学フィルムと、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）パネルとを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。
本発明のフラットパネル表示装置の実施形態として、液晶表示装置と、有機ＥＬ表示装置とについて、以下詳細に述べる。
【０２７０】
〔液晶表示装置〕
液晶表示装置としては、例えば、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すような液晶表示装置等が挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置１０ａは、本発明の偏光板４と液晶パネル６とを、接着層５を介して貼り合わせてなるものであり、図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ｂは、本発明の偏光板４と本発明の偏光板４’とを液晶パネル６の両面に接着層５及び接着層５’を介して貼り合わせたものである。上記構成によれば、図示しない駆動回路から液晶パネルに印加する電圧で、液晶分子の配向を変化させることにより、液晶表示装置に白黒表示させることができる。液晶パネルは、アレイ基板とカラーフィルタとを貼り合わせ、両者の間に液晶を注入及び封止したものである。
【０２７１】
〔有機ＥＬ表示装置〕
有機ＥＬ表示装置としては、図３に示す有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。上記有機ＥＬ表示装置としては、本発明の偏光板４と、有機ＥＬパネル７とを、接着層５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬ表示装置１１が挙げられる。上記有機ＥＬパネル７は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層である。上記構成によれば、図示しない駆動回路から有機ＥＬパネルに印加する電圧で、有機ＥＬパネルに含まれる発光性化合物を発光させることにより、有機ＥＬ表示装置に白黒表示させることができる。有機ＥＬパネルは、発光層等の有機層、画素電極、スイッチング素子等を積層したものである。
なお、上記有機ＥＬ表示装置１１において、偏光板４は、広帯域円偏光板として機能するものであることが好ましい。広帯域円偏光板として機能するものであると、有機ＥＬ表示装置１１の表面において外光の反射を防止することができる。
【０２７２】
〔カラーフィルタ〕
図４は、本発明のカラーフィルタ１４を示す概略図である。
カラーフィルタ１４は、本発明の光学フィルム１２の上にカラーフィルタ層１３が形成されてなるカラーフィルタである。カラーフィルタ層とは、可視光領域の特定の光を吸収する機能を有する層であり、例えば、白色光を赤、青、緑等の色の光に変換する層である。
カラーフィルタ１４の製造方法の一例を説明する。まず、支持基材上に、配向膜材料を塗布し、ラビング処理又は偏光ＵＶ処理を施して、配向膜を形成する。次に得られた配向膜上に、組成物（Ａ）を、得られる光学フィルムが所望の位相差値になるよう厚みを調製しながら塗布して、膜を形成する。膜に含まれる重合性液晶化合物を配向させて得られた本発明の光学フィルム１２上に、カラーフィルタ層１３を形成する。本発明の光学フィルム１２は、重合性液晶化合物が配向する向きが異なる領域を複数有するパターン形成された光学フィルムであってもよい。パターン形成された光学フィルムは、前記のラビング処理又は偏光ＵＶ処理を行う際にマスクを介して行うことにより、得ることができる。
【実施例】
【０２７３】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
【０２７４】
合成例１
＜化合物（Ａ１１−１）の合成＞
化合物（Ａ１１−１）は下記のスキームに従って合成した。
【０２７５】
【０２７６】
［４，６−ジメチルベンゾフランの合成］
３，５−ジメチルフェノール２５ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０．０ｇに溶解させた。溶液を氷浴により冷却した後に、水酸化ナトリウム９．８２を加えた。室温で１時間攪拌し、クロロアセトアルデヒドジメチルアセタール２５．４９ｇを滴下した。１００℃で１５時間攪拌し、反応液を水１０００ｍＬ、メチルイソブチルケトン４００ｍＬに加えて分液した。有機層を回収し、２回５００ｍＬの１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で、さらに２回８００ｍＬの純水で有機層を洗浄した。有機層を回収後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレータにて減圧濃縮させ淡赤色粘長液体を得た。一方で、４００ｇのトルエンと、オルトリン酸３．０１ｇを混合し１１０℃に加熱した。該溶液に淡赤色粘長液体をトルエン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。３時間１１０℃で攪拌した後、室温まで冷却した。反応液を１Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液で二回洗浄し、最後に純水５００ｍＬで洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させて、４，６−ジメチルベンゾフランを１６．５ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は３，５−ジメチルフェノール基準で５５％であった。
【０２７７】
［２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランの合成］
４，６−ジメチルベンゾフラン２１．６２ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド２８．４ｇに溶解させた。溶液を水浴により冷却した後に、オキシ塩化リン２５ｇを滴下した。ピンク色溶液を室温で１時間攪拌した後、１００℃で１０時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、純水１００ｍＬを加えて一時間攪拌後、１Ｎ炭酸水素ナトリウムで中和した。ｐＨを８に調節後、トルエンと分液した。有機層を回収し、活性炭を２．６ｇ加えて濾過した。エバポレータにて減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解させ、ヘプタンにて結晶化させた。結晶を濾取、真空乾燥して、２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランを１９．５ｇ淡黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルベンゾフラン基準で７６％であった。
【０２７８】
［４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成］
２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン１９．５０ｇ、アミド硫酸１３．０４ｇを１００ｍＬの純水と混合した。氷浴で冷却し、亜塩素酸ナトリウム１２．１５ｇの水１００ｍＬ溶液を滴下した。水浴で３６時間反応させた。反応溶液にトルエン１００ｍＬ、水酸化カリウム２５ｇを加えてｐＨを１２に調整した。分液し、水層を回収し水層をさらに２００ｍＬのトルエンで洗浄した。水層を回収し、２Ｎ−塩酸にてｐＨを２にした後、トルエン４００ｍＬを加えて分液した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥して、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を１４．２７ｇ黄色粉末として得た。収率は２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン基準で６７％であった。
【０２７９】
［化合物（１１−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン１１．４９ｇ、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸１４．２７ｇ、トリエチルアミン７．５９ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノピリジン１．８３ｇ及び脱水Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１００．０ｇを混合した。得られた溶液を氷浴にて冷却した後、ＢＯＰ試薬３４．８５ｇを加えて室温で２４時間反応させた。得られた混合液に水、メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水―メタノールの混合溶液（水３体積部、メタノール２体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１１−ａ）を１６．２ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で６６％であった。
【０２８０】
［化合物（１１−ｂ）の合成］
化合物（１１−ａ）１６．０ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して１２時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（１１−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０２８１】
［化合物（１１−ｃ）の合成例］
前項で得られた化合物（１１−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム１１．８ｇ（２６２ｍｍｏｌ）及び水２５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム４４．１７ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。６０℃で１２時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、トルエンで結晶化させた。得られた黄色を真空乾燥して、化合物（１１−ｃ）を主成分とする黄土色固体４．１ｇを得た。収率は化合物（１１−ａ）基準で２５％であった。
【０２８２】
［化合物（１１−ｄ）の合成例］
化合物（１１−ｃ）４．０ｇ及び塩化ピリジニウム４０．０ｇ（１０倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して３時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物（１１−ｄ）を主成分とする黄土色固体３．４ｇを得た。収率は化合物（１１−ｃ）基準で９３％であった。
【０２８３】
［化合物（Ａ１１−１）の合成例］
化合物（１１−ｄ）３．００ｇ、化合物（Ａ）８．４７ｇ、ジメチルアミノピリジン０．１２ｇ及びクロロホルム４０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド２．９２ｇを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させ０．３ｇの活性炭を加えて、室温で一時間攪拌した。溶液を濾過して濾液をエバポレータにて１／３まで減圧濃縮後、攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ１１−１）を白色粉末として７．６０ｇ得た。収率は化合物（１１−ｄ）基準で７１％であった。
【０２８４】
化合物（Ａ１１−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．８５（ｍ、２４Ｈ）、２．３６〜２．８７（ｍ、１８Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４５（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０１（ｍ、９Ｈ）、７．２０（ｓ，１Ｈ）、７．２３（ｓ、２Ｈ）、７．５３（ｓ，１Ｈ）
【０２８５】
得られた化合物（Ａ１１−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ１１−１）は、昇温時において、１０５℃から１３７℃まで粘性の高い中間相を示した。液晶相の判別は困難であったが、１３７℃以上で明確なネマチック液晶相を呈した。ネマチック液晶相は１８０℃以上まであり、降温時においては、６１℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０２８６】
合成例２
＜化合物（Ａ５−１）の合成＞
化合物（Ａ５−１）は下記のスキームに従って合成した。
【０２８７】
【０２８８】
［化合物（５−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン１８．９ｇ、ベンゾフラン−２−カルボン酸２０．０ｇ及び脱水クロロホルム１２５．０ｇを混合し反応させた。得られた混合液にＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．５１ｇを加えた。得られた混合液を氷浴で冷却して、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド２８．０ｇを加えて一時間反応させた。その後室温まで戻し、終夜反応させた。得られた混合液をシリカゲルを通して濾過して白色沈殿及び褐色成分を除去後、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチル−ヘプタンの１／２（ｖ／ｖ）溶液を加えて結晶化させた。析出した結晶を濾過、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（５−ａ）を１４．４ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で３９％であった。
【０２８９】
［化合物（５−ｂ）の合成］
化合物（５−ａ）１３．０ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して５時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（５−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０２９０】
［化合物（５−ｃ）の合成］
前項で得られた化合物（５−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム１０．５ｇ及び水２５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム３９．３ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。室温で１２時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、エタノールで洗浄して、真空乾燥して、化合物（５−ｃ）を主成分とする淡黄色固体９．３ｇを得た。収率は化合物（５−ａ）基準で６９％であった。
【０２９１】
［化合物（５−ｄ）の合成］
化合物（５−ｃ）７．０ｇ及び塩化ピリジニウム３５．０ｇ（５倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して２時間反応させた。得られた混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾取し、水、ヘキサンで洗浄して、化合物（５−ｄ）を主成分とする固体６．５ｇを得た。収率は化合物（５−ｃ）基準で１００％であった。
【０２９２】
［化合物（Ａ５−１）の合成］
化合物（５−ｄ）１．６０ｇ、化合物（Ａ）４．９６ｇ、ジメチルアミノピリジン０．０７ｇ及びクロロホルム３０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド１．７１ｇを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、エタノールで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ５−１）を白色粉末として４．７３ｇ得た。収率は化合物（５−ｄ）基準で７７％であった。
【０２９３】
化合物（Ａ５−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．９１（ｍ、２４Ｈ）、２．３５〜２．８３（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０１（ｍ、８Ｈ）、７．２５（ｓ、２Ｈ）、７．３１〜７．３４（ｔ、１Ｈ）、７．４０〜７．４２（ｔ、１Ｈ）、７．５５〜７．６０（ｍ、２Ｈ）、７．６８〜７．７１（ｄ、１Ｈ）
【０２９４】
得られた化合物（Ａ５−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ５−１）は、昇温時において、１３９℃から１８０℃以上までネマチック相を呈し、降温時において、９３℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０２９５】
合成例３
＜化合物（Ａ１０−１）の合成＞
化合物（Ａ１０−１）は下記のスキームに従って合成した。
【０２９６】
【０２９７】
［５−イソブチルベンゾフランの合成］
４−イソプロピルフェノール４０ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド２４０．０ｇに溶解させた。溶液を氷浴により冷却した後に、水素化ナトリウム１０．９ｇを１０回に分けて加えた。室温で１時間攪拌し、水素発生が終了したら、クロロアセトアルデヒドジメチルアセタール３３．１７ｇを滴下した。８０℃で５時間攪拌し、反応終了を確認したら、反応液を水１０００ｍＬ、メチルイソブチルケトン４００ｍＬに加えて分液した。有機層を回収し、さらに２回８００ｍＬの純水で有機層を洗浄した。有機層を回収後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレータにて減圧濃縮させ赤色粘長液体を得た。一方で、４００ｇのトルエンと、オルトリン酸２．６１ｇを混合し１１０℃に加熱した。該溶液に赤色粘長液体をトルエン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。３時間１１０℃で攪拌した後、室温まで冷却した。反応液を１Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液で二回洗浄し、最後に純水５００ｍＬで洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させて、５−イソブチルベンゾフランを４１．９ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は４−イソプロピルフェノール基準で９０％であった。
【０２９８】
［２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフランの合成］
５−イソブチルベンゾフラン２５．７７ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド２８．４ｇに溶解させた。溶液を水浴により冷却した後に、オキシ塩化リン２５ｇを滴下した。ピンク色溶液を室温で１時間攪拌した後、１００℃で１０時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、純水１００ｍＬを加えて一時間攪拌後、１Ｎ炭酸水素ナトリウムで中和した。ｐＨを８に調節後、トルエンと分液した。有機層を回収し、活性炭を２．６ｇ加えて濾過した。エバポレータにて減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：クロロホルムーヘプタン１：１ｖｏｌ／ｖｏｌ→クロロホルム１００ｖｏｌ％）にかけた。先頭成分を取りエバポレータにて濃縮、真空乾燥して、２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフランを８．５ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は５−イソブチルベンゾフラン基準で２８％であった。
【０２９９】
［５−イソブチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成］
２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフラン１６．４０ｇ、アミド硫酸９．４３ｇを６０ｍＬの純水と混合した。氷浴で冷却し、亜塩素酸ナトリウム８．７８ｇの水５０ｍＬ溶液を滴下した。水浴で３６時間反応させた。反応溶液にトルエン１００ｍＬ、水酸化カリウム５ｇを加えてｐＨを１２に調整した。分液し、水層を回収し水層をさらに３００ｍＬのトルエンで洗浄した。水層を回収し、２Ｎ−塩酸にてｐＨを２にした後、トルエン３００ｍＬを加えて分液した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥して、５−イソブチルベンゾフラン−２−カルボン酸を６．７ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフラン基準で３８％であった。
【０３００】
［化合物（１０−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン４．７１ｇ、５−イソブチルベンゾフラン−２−カルボン酸８．７１ｇ、トリエチルアミン３．１１ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノピリジン０．７５ｇ及び脱水Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド３５．０ｇを混合した。得られた溶液を氷浴にて冷却した後、ＢＯＰ試薬１４．２８ｇを加えて室温で２４時間反応させた。得られた混合液に水、メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水―メタノールの混合溶液（水１体積部、メタノール１体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１０−ａ）を５．７ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で５３％であった。
【０３０１】
［化合物（１０−ｂ）の合成］
化合物（１０−ａ）４．７ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して５時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（１０−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０３０２】
［化合物（１０−ｃ）の合成］
前項で得られた化合物（１０−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム３．１ｇ及び水５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム１１．９４ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。室温で２４時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、メタノールで洗浄した。黄色粉末をヘプタン−酢酸エチル１：１（体積比）の溶媒を加えて、室温で１時間攪拌後、氷浴で終夜静置した。得られた淡黄色粉末を濾取、真空乾燥させて、化合物（１０−ｃ）を主成分とする淡黄色固体２．５ｇを得た。収率は化合物（１０−ａ）基準で５１％であった。
【０３０３】
［化合物（１０−ｄ）の合成］
化合物（１０−ｃ）２．５ｇ及び塩化ピリジニウム１２．５ｇ（５倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して２時間反応させた。得られた混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾取し、水、トルエン、ヘキサンで洗浄して、化合物（１０−ｄ）を主成分とする固体１．８ｇを得た。収率は化合物（１０−ｃ）基準で７７％であった。
【０３０４】
［化合物（Ａ１０−１）の合成］
化合物（１０−ｄ）１．８０ｇ、化合物（Ａ）４．９２ｇ、ジメチルアミノピリジン０．０７ｇ及びクロロホルム３０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド１．７０ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、エタノールで洗浄、シリカゲルカラムクロマトグラフィーでクロロホルム８０ｖｏｌ％−アセトン２０ｖｏｌ％で溶出する第一成分を回収、エバポレータにて減圧濃縮後、冷メタノールで結晶化させた。生成した淡黄色粉末を濾取、真空乾燥して化合物（Ａ１０−１）を白色粉末として４．６０ｇ得た。収率は化合物（１０−ｄ）基準で７２％であった。
【０３０５】
化合物（Ａ１０−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）０．８１〜０．８７（ｔ、３Ｈ）、１．２９〜１．３１（ｄ、３Ｈ）、１．４８〜１．７９（ｍ、２６Ｈ）、２．３５〜２．４７（ｍ、８Ｈ）、２．６３〜２．８３（ｍ、５Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｍ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．２３（ｍ、３Ｈ）、７．４８〜７．５０（ｍ、３Ｈ）
【０３０６】
得られた化合物（Ａ１０−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ１０−１）は、昇温時において、１４４℃から粘性の高い相を示し１６９℃で透明点を示した。降温時において、１６７℃から明確なネマチック相を有し、１０５℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０３０７】
合成例４
＜化合物（ｚ−１）の合成＞
化合物（ｚ−１）は以下のスキームで合成した。
【０３０８】
［化合物（ｚ−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン５２．３ｇ、トリエチルアミン６９．０ｇ及び脱水クロロホルム３６５．７ｇを混合し攪拌し、さらに得られた混合液に３−チオフェンカルボン酸クロリド５０．０ｇを加えた。その後氷冷下で攪拌後、混合液を水中に投入した。分離した有機層を水及び塩酸で洗浄した。得られた有機層を、減圧濃縮し、得られた固体をヘキサンで洗浄して、化合物（ｚ−ａ）を主成分とする固体８２．１ｇを得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９１％であった。
【０３０９】
［化合物（ｚ−ｂ）の合成］
化合物（ｚ−ａ）を８１．０ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）６４．７ｇ及びトルエン２３４ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して攪拌した。冷却後濃縮し、化合物（ｚ−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０３１０】
［化合物（ｚ−ｃ）の合成］
前項で得られた化合物（ｚ−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム７３．８ｇ及び水７５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム２５７．８ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。室温で２４時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、エタノールで洗浄し、加熱還流して溶解させて、氷浴で終夜静置した。得られた淡黄色粉末を濾取、真空乾燥させて、化合物（ｚ−ｃ）を主成分とする黄緑色固体４９．１ｇを得た。収率は化合物（ｚ−ａ）基準で５８％であった。
【０３１１】
［化合物（ｚ−ｄ）の合成］
化合物（ｚ−ｃ）４０．０ｇ及び塩化ピリジニウム２００ｇを混合し、１８０℃に昇温して６時間反応させた。得られた混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾取し、水、トルエン、ヘキサンで洗浄して、化合物（ｚ−ｄ）を主成分とする固体３６．４ｇを得た。収率は化合物（ｚ−ｃ）基準で１０１％であった。
【０３１２】
［化合物（ｚ−１）の合成］
化合物（ｚ−ｄ）３．００ｇ、化合物（Ａ）１２．０９ｇ、ジメチルアミノピリジン０．１５ｇ及びクロロホルム１８１ｇを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド５．０７ｇを室温下で加えた。得られた反応溶液を室温で２時間反応させ、反応液にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらエタノールを加えて、生成した粉末を濾取、真空乾燥して化合物（ｚ−１）を白色粉末として６．９７ｇ得た。収率は化合物（ｚ−ｄ）基準で５５％であった。
【０３１３】
化合物（ｚ−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）δ（ｐｐｍ）１．４３〜１．８３（ｍ、２４Ｈ）、２．２９〜２．８２（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．８１〜５．８５（ｄｄ、２Ｈ）、６．０８〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４５（ｍ、２Ｈ）、６．８６〜７．０３（ｍ、８Ｈ）、７．１２（ｄｔ、１Ｈ）、７．１９（ｓ、２Ｈ）、７．４４（ｄｄ、１Ｈ）、７．６２（ｄｄ、１Ｈ）、７．９８（ｄｄ、１Ｈ）
【０３１４】
得られた化合物（ｚ−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｚ−１）は、昇温時において、１１１℃から１２５℃までスメクチック相を呈し、１２５℃から２４２℃までネマチック相を呈し、降温時において、２４２℃から８２℃までネマチック相を呈した。
【０３１５】
合成例５
＜化合物（ｚ−２）の合成＞
原料の化合物（ｚ−ａ）を、２，５−ジメトキシアニリンと４−フルオロ安息香酸クロリドとの反応で得られる化合物（ｚ−２ａ）に変える以外は合成例４と同様の方法にて、化合物（ｚ−２）を得た。収率は化合物（ｚ−２ａ）基準で４６％であった。
【０３１６】
化合物（ｚ−２）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４４〜１．９０（ｍ、２４Ｈ）、２．３４〜２．８１（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜４．００（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｍ、２Ｈ）、６．０７〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３６〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８６〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．１４〜７．２１（ｍ、４Ｈ）、８．００〜８．０７（ｍ、２Ｈ）
【０３１７】
得られた化合物（ｚ−２）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｚ−２）は、昇温時において、１３７℃から１４６℃までスメクチック相を呈し、１４６℃から１７０℃以上までネマチック相を呈し、降温時において、７８℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０３１８】
＜組成物の調整＞
表２に記載される成分をそれぞれ混合し、８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して組成物１〜６を調製した。
【０３１９】
【表２】
【０３２０】
重合性液晶化合物；
（Ａ１１−１）：合成例１で得られた化合物
（Ａ５−１）：合成例２で得られた化合物
（Ａ１０−１）：合成例３で得られた化合物
（ｚ−０）：下記式で表される化合物（特表平１１−５１３０１９号公報に記載される化合物）
（ｚ−１）：合成例４で得られた化合物
（ｚ−２）：合成例５で得られた化合物
重合開始剤；
イルガキュア３６９；２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製）
イルガキュア８１９；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン社製）
レベリング剤；ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製）
溶媒：シクロペンタノン
【０３２１】
＜吸光度測定＞
表２に記載の重合性液晶化合物をクロロホルムにそれぞれ溶解し、濃度１０−４ｍｏｌ／ｌの溶液を得た。溶液を石英セル（１０ｍｍ長四角セル）に入れ、紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所製）を用いて溶液の吸光度を３００〜８００ｎｍの範囲で測定した。４００ｎｍにおける吸光度を表２に示す。
重合性液晶化合物の極大吸収波長λ０を表３に示す。
【０３２２】
（実施例１〜３、比較例１〜３）
＜光学フィルムの作製＞
ガラス基板に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２質量％水溶液を塗布した後、１２０℃で６０分加熱乾燥し、ガラス基板上に厚さ８９ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施し、配向膜及びガラス基板の積層体を得た。得られた積層体のラビング処理を施した面に、表１の組成の溶液をスピンコート法により塗布した。溶液が塗布された積層体を、ホットプレート上で１分間乾燥させた後、加熱しながらで２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光学フィルムを得た。
【０３２３】
＜配向秩序度Ｓ（λ）の測定＞
得られた光学フィルムを紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所製）に偏光子付サンプルホルダー（島津製作所製）を設置し、光学フィルムに対して偏光を射出できるように、光学フィルムを前記サンプルホルダーにセットした。次いで、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の配向方向と偏光の振動方向とが平行になる時の吸光度Ａｐ、前記配向方向と偏光の振動方向とが垂直となる時の吸光度Ａｖを測定した。測定された吸光度Ａｐ及び吸光度Ａｖから、式（１）を用いて配向秩序度Ｓ（λ）を算出した。また、−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０.１５を満たす波長範囲を算出した。結果を表３に示す。
【０３２４】
【表３】
【０３２５】
＜位相差板（λ／２板）の作製＞
得られる位相差板の位相差値が２７０±５ｎｍとなるように膜厚を調整し、光学フィルムの製造と同様の方法で、位相差板（λ／２板）を作製した。作製した位相差板の波長５５０ｎｍにおける正面位相差値を、分光エリプソメータ（Ｍ−２２０型、日本分光株式会社製）を用いて測定した。また、組成物層の膜厚を、レーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ ＯＬＳ３０００、オリンパス社製）を用いて測定した。結果を表４に示す。
【０３２６】
＜色抜けの評価＞
紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所製）に設置した偏光子付サンプルホルダー（島津製作所製）に、作製した位相差板を平行ニコルになるようにセットして測定した透過率を１００％とし、遮蔽板を入れて測定した透過率をバックグラウンドとした。入射偏光の振動方向と位相差板に含まれる重合性液晶化合物の配向方向とが４５°となるように、前記サンプルホルダーに作製した位相差板を設置して、透過率を測定した。測定した透過率からバックグラウンドの値を引いた値から、Ｃ光源の等色関数を用いて、Ｌ＊ａ＊ｂ＊（ＣＩＥ）表色系における色度ａ＊及びｂ＊、並びにこれらの絶対値である|ａ＊|及び|ｂ＊|を算出した。|ａ＊|及び|ｂ＊|は値が小さいほど、透過する光は無彩色により近いことを表すことから、色抜けが少なく優れた黒表示を示すと判断できる。結果を表４に示す。
【０３２７】
【表４】
【０３２８】
表３及び表４に示すように、配向秩序度Ｓ０が−０．５＜Ｓ０＜−０.１５を充足する光学フィルムであると、|ａ＊|及び|ｂ＊|の値は小さいことから、色抜けは低減されることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０３２９】
本発明の光学フィルムによれば、フラットパネル表示装置における色抜けを低減することができる。
【符号の説明】
【０３３０】
１、１’、１２ 本発明の光学フィルム
２、２’ 偏光フィルム層
３、３’、３’’ 接着剤層
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４、４’ 本発明の偏光板
５、５’ 接着層
６ 液晶パネル
１０ａ、１０ｂ 液晶表示装置
７ 有機ＥＬパネル
１１ 有機ＥＬ表示装置
１３ カラーフィルタ層
１４ カラーフィルタ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム等に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板等の光学フィルムを用いた部材が含まれている。光学フィルムには、例えば、重合性液晶化合物を溶剤に溶かして得られる溶液を、支持基材に塗布後、重合して得られる光学フィルム等が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−３１２２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の光学フィルムでは、フラットパネル表示装置に黒表示すると青味や赤味を帯びて見えたり、白表示すると黄色味を帯びて見えたりするなど、いわゆる色抜けについて、必ずしも十分に満足できない場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は以下の［１］〜［８］を提供するものである。
［１］重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５を充足する光学フィルムである。
ここで、溶液（ａ）は、重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液である。
［２］溶液（ａ）の極大吸収波長が、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である［１］記載の光学フィルムである。
［３］−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足する波長範囲が４０ｎｍ以上である［１］又は［２］記載の光学フィルムである。
【０００６】
［４］重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である［１］〜［３］のいずれか記載の光学フィルムである。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−又は−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１は、重合性基又は１価の有機基を表す。
Ｌ２は、重合性基を表す。］
［５］Ｇ１及びＧ２が、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である［４］記載の光学フィルムである。
【０００７】
［６］重合性液晶化合物を含む組成物を基板に塗布し、重合性液晶化合物を配向させ、該組成物に含まれる重合性成分を重合してなる［１］〜［５］のいずれか記載の光学フィルムである。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板。
［８］［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムを含むフラットパネル表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学フィルムによれば、フラットパネル表示装置における色抜けを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る偏光板の一例の断面図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の一例の断面図である。
【図３】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の一例の断面図である。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの一例の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の光学フィルムは、重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５である光学フィルムである。ここで、溶液（ａ）とは、重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液である。
【００１１】
本明細書において、波長λｎｍにおける光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）は、式（１）で表される値である。
Ｓ（λ）＝（Ａｐ−Ａｖ）／（Ａｐ＋２Ａｖ） （１）
［式（１）中、Ａｐは、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の配向方向に対して平行方向に偏光した光に対する吸光度を表す。Ａｖは、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の配向方向に対して垂直方向に偏光した光に対する吸光度を示す。］
【００１２】
光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）は、偏光吸収測定により求めることができる。
光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）は、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の分子が完全に１軸配向している場合には１を示し、該液晶化合物の分子がランダムな向きに存在している場合には０を示し、該液晶化合物の分子長軸が配向軸に垂直な面内に分布する場合には−０．５を示す。
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０より大きく−０．１５より小さい範囲にあると、該光学フィルムは優れた光学補償が可能となり、色抜けが低減される。
【００１３】
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長は、３００〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。該極大吸収波長が上記範囲内にあると、得られる光学フィルムの着色が少なく透明性が高い。
【００１４】
光学フィルムの配向秩序度Ｓ（λ）が、４０ｎｍ以上の波長範囲で、−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足することが好ましく、３００〜４００ｎｍのうち４０ｎｍ以上の波長範囲で、−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足することがより好ましい。−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足する波長範囲が広いほど、光学フィルムの色抜けはより低減される。
【００１５】
本発明の光学フィルムは、重合性液晶化合物が配向しているため複屈折を有する。本発明の光学フィルムをλ／４板として使用する場合には、その位相差値を１１３〜１６３ｎｍに、λ／２板として使用する場合にはその位相差値を２５０〜３００ｎｍに調整することにより、色抜けをさらに低減させることができる。
【００１６】
本発明の光学フィルムは、重合性液晶化合物を含む組成物（以下「組成物（Ａ）」という場合がある）を用いて形成される。
重合性液晶化合物としては、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）であることが好ましい。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−又は−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１は、重合性基又は１価の有機基を表す。
Ｌ２は、重合性基を表す。］
【００１７】
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、−ＣＲ１Ｒ２−ＮＲ３−、−ＣＯ−ＮＲ１−、又は−ＮＲ１−ＣＯ−である。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
Ｄ１及びＤ２は、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、＊−ＮＲ５−ＣＲ１Ｒ２−又は＊−ＮＲ５−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表わす。）であることが好ましい。Ｄ１及びＤ２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−又は＊−ＮＲ５−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表す。）であることがより好ましい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。Ｒ５は、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
【００１８】
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である。該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基は、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフッ化アルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を有していてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
【００１９】
炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基等が挙げられる。置換基を有する該芳香族炭化水素基としては、クロロフェニレン基、メチルフェニレン基、トリフルオロメチルフェニレン基、シアノフェニレン基、ニトロフェニレン基、メトキシナフタレンジイル基等が挙げられる。
炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−４）で表される基が挙げられ、−ＣＨ２−が置き換わっている該脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−５）〜式（ｇ−１０）で表される基が挙げられる。
【００２０】
【００２１】
上記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で表される基は、前記例示された基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフッ化アルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフッ化アルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００２２】
Ｇ１及びＧ２としては、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、５員環又は６員環の脂環式炭化水素基であることがより好ましく、シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。Ｇ１及びＧ２が上記の基であると、色抜けが低減される傾向がある。
【００２３】
Ａｒは、芳香環を有する２価の基であり、該芳香環は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種である。該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下であり、好ましくは１３以上２２以下である。
【００２４】
Ａｒとしては、式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表される基等が挙げられ、好ましくは式（Ａｒ−６）で表される基である。
【００２５】
【００２６】
［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ１は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ１及びＱ３は、それぞれ独立に、−ＣＲ９Ｒ１０−、−Ｓ−、−ＮＲ９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
Ｗａ及びＷｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
【００２７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【００２８】
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００２９】
炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。
【００３０】
炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。
【００３１】
炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【００３２】
炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【００３３】
炭素数１〜６のアルキルスルファニル基としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルファニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基がより好ましく、メチルスルファニル基が特に好ましい。
【００３４】
炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。
【００３５】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。
【００３６】
炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００３７】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００３８】
Ｚ１は、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。
【００３９】
Ｒ９及びＲ１０における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
【００４０】
Ｑ１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ３）−であることが好ましく、Ｑ３は、−Ｓ−又は−ＣＯ−であることが好ましい。
【００４１】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３を表す芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基としては、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が挙げられる。
【００４２】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含み、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基が好ましい。
【００４３】
かかる芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルチオ基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。
【００４４】
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記におけるものと同様のものが挙げられる。
【００４５】
単環の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基としては、式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表される基が挙げられる。
【００４６】
【００４７】
［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、＊は結合手を表す。Ｚ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ１は、０〜５の整数を表し、ａ２は、０〜４の整数を表し、ｂ１は、０〜３の整数を表し、ｂ２は、０〜２の整数を表し、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］
【００４８】
Ｚ２としては、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、製造工程やコストの点で好ましい。
【００４９】
多環の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基としては、式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）で表される基が挙げられる。
【００５０】
【００５１】
［式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）中、＊は結合手を表し、Ｚ３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基又は炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基を表す。
Ｖ１及びＶ２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ１１−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ２−を表す。
Ｗ１〜Ｗ５は、それぞれ独立に、−ＣＲ１１＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１〜Ｗ５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。］
【００５２】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３としては、式（Ｙ３−１）〜式（Ｙ３−６）で表される基であることが好ましい。
【００５３】
【００５４】
［式（Ｙ３−１）〜式（Ｙ３−６）中、＊、Ｚ３、ａ、ｂ、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１は、上記と同じ意味を表す。］
【００５５】
Ｚ３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、ニトロソ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。
【００５６】
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記におけるものと同様のものが挙げられる。
【００５７】
Ｖ１及びＶ２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ１１−又は−Ｏ−であることが好ましい。
Ｗ１〜Ｗ５は、それぞれ独立に、−ＣＲ１１＝又は−Ｎ＝であることが好ましい。
Ｖ１、Ｖ２及びＷ１〜Ｗ５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ又はＯを含む基であることが好ましい。
ａは０又は１であることが好ましい。ｂは０であることが好ましい。
【００５８】
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。
【００５９】
【００６０】
【００６１】
【００６２】
【００６３】
【００６４】
【００６５】
式（Ａｒ−５）で表される基の具体例として、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基が挙げられる。
【００６６】
【００６７】
【００６８】
式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例として、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−９９）で表される基が挙げられる。
【００６９】
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
【００７５】
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１００）〜式（ａｒ−１０９）で表される基が挙げられる。
【００８２】
【００８３】
【００８４】
式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１１０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基が挙げられる。
【００８５】
【００８６】
【００８７】
【００８８】
【００８９】
式（Ａｒ−１１）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１３９）で表される基が挙げられる。
【００９０】
【００９１】
【００９２】
式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１４０）〜式（ａｒ−１５９）で表される基が挙げられる。
【００９３】
【００９４】
【００９５】
【００９６】
【００９７】
式（Ａｒ−１３）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１６９）で表される基が挙げられる。
【００９８】
【００９９】
【０１００】
化合物（Ａ）において、Ｌ１が式（Ｄ）で表される基であり、かつＬ２が式（Ｅ）で表される基であることが好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１− （Ｄ）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２− （Ｅ）
［式（Ｄ）中、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−又は単結合を表す。
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ１及びＡ２は、置換基を有していてもよい炭素数６〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ１及びＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ２及びＡ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ１及びＦ２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ１は、重合性基を表す。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表す。］
【０１０１】
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数６〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である。該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基は、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフッ化アルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、炭素数１〜４フッ化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を有していてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
【０１０２】
Ａ１及びＡ２における２価の芳香族炭化水素基としては、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される基等が挙げられ、２価の脂環式炭化水素基としては、前記の式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される基等が挙げられる。
【０１０３】
Ａ１及びＡ２が同じ種類の基であると、化合物（Ａ）の製造が容易であるため好ましい。またＡ１及びＡ２としては、１，４−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基が好ましく、化合物（Ａ）の製造が容易であるため、１，４−フェニレン基がより好ましい。
【０１０４】
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−又は単結合である。これらの基は、どちらの向きに結合してもよい。
Ｂ１及びＢ２は、同じ種類の基であると、化合物（Ａ）の製造が容易であるため好ましい。
Ａ１にのみ結合しているＢ１及びＡ２にのみ結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ２−又は単結合であり、かつ、Ｆ１に結合しているＢ１及びＦ２に結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は単結合であることが好ましい。これらの基であると、化合物（Ａ）の製造が容易である。
またＡ１にのみ結合しているＢ１及びＡ２にのみ結合しているＢ２が、−ＣＯ−Ｏ−であると、高い液晶性を示す傾向があるため、より好ましい。
【０１０５】
Ｅ１及びＥ２としては、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−及び単結合が好ましい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。
ｋ及びｌは、液晶性の観点から、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。
【０１０６】
Ｐ１は、重合性基であり、Ｐ２は、水素原子又は重合性基である。重合性基とは、化合物（Ａ）の重合反応に関与し得る基を意味する。Ｐ１及びＰ２がともに重合性基であると、得られる光学フィルムの硬度が優れる傾向がある。
重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシ基、アセチル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基、アミノ基、オキシラニル基、オキセタニル基、ホルミル基、イソシアナト基又はイソチオシアナト基等が挙げられる。中でも、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基、カチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、化合物（Ａ）の製造も容易であるという点でアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
【０１０７】
−Ｄ１−Ｇ１−Ｅ１−（Ａ１−Ｂ１）ｋ−Ｆ１−Ｐ１及び−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２の具体例としては、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基が挙げられる。＊は、Ａｒとの結合手を示す。また式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。
【０１０８】
【０１０９】
【０１１０】
【０１１１】
【０１１２】
【０１１３】
【０１１４】
【０１１５】
【０１１６】
【０１１７】
【０１１８】
【０１１９】
【０１２０】
さらに化合物（Ａ）としては、化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｖｉ）が挙げられる。表１中のＲ１は、−Ｄ１−Ｇ１−Ｅ１−（Ａ１−Ｂ１）ｋ−Ｆ１−Ｐ１を、Ｒ２は、−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２を表す。
【０１２１】
【表１】
【０１２２】
なお、化合物（ｘｘｖ）及び化合物（ｘｘｖｉ）においては、Ｒ１で表される基及び式Ｒ２で表される基のうちのいずれか一方は、（Ｒ−５７）〜（Ｒ−１３１）のいずれかである。
上記表１中、化合物（ｘｖ）は、Ａｒが式（ａｒ−７４）で表される基である化合物、Ａｒが式（ａｒ−７５）で表される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−７４）で表される基である化合物と式（ａｒ−７５）で表される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
【０１２３】
さらに表１の化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｖｉ）、化合物（ｘｖｉｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉ）、化合物（ｘｘｉｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）、化合物（ｘｘｖ）及び化合物（ｘｘｖｉ）の代表的な構造式を下記に例示する。本発明の光学フィルムの作製に用いられる重合性液晶化合物として、化合物（Ａ）は単独で用いても、異なる複数種を併用してもよい。
【０１２４】
【０１２５】
【０１２６】
【０１２７】
【０１２８】
【０１２９】
【０１３０】
【０１３１】
【０１３２】
【０１３３】
【０１３４】
【０１３５】
【０１３６】
【０１３７】
【０１３８】
【０１３９】
【０１４０】
また、化合物（Ａ）としては、式（Ａ１−１）〜式（Ａ６４−８）で表される化合物が挙げられる。＊は結合手を表し、例えば式（Ａ１−１）で表される化合物は、下記のように表される化合物である。
【０１４１】
【０１４２】
【０１４３】
【０１４４】
【０１４５】
【０１４６】
【０１４７】
【０１４８】
【０１４９】
【０１５０】
【０１５１】
【０１５２】
【０１５３】
【０１５４】
【０１５５】
【０１５６】
【０１５７】
【０１５８】
【０１５９】
【０１６０】
【０１６１】
【０１６２】
【０１６３】
【０１６４】
【０１６５】
【０１６６】
【０１６７】
【０１６８】
【０１６９】
【０１７０】
【０１７１】
【０１７２】
【０１７３】
【０１７４】
【０１７５】
【０１７６】
【０１７７】
【０１７８】
【０１７９】
【０１８０】
【０１８１】
【０１８２】
【０１８３】
【０１８４】
【０１８５】
【０１８６】
【０１８７】
【０１８８】
【０１８９】
【０１９０】
【０１９１】
【０１９２】
【０１９３】
【０１９４】
【０１９５】
【０１９６】
【０１９７】
【０１９８】
【０１９９】
【０２００】
【０２０１】
【０２０２】
【０２０３】
【０２０４】
【０２０５】
【０２０６】
【０２０７】
【０２０８】
【０２０９】
化合物（Ａ）の製造方法について以下説明する。
化合物（Ａ）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応等）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。
【０２１０】
例えば、Ｄ１及びＤ２が＊−Ｏ−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表す）である化合物（Ａ）の場合には、式（１−１）
【０２１１】
（式中、Ａｒは上記と同一の意味を表す。）
で表される化合物と式（１−２）
【０２１２】
（式中、Ｇ１、Ｅ１、Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｐ１及びｋは上記と同一の意味を表す。）
で表される化合物とを反応させることにより、式（１−３）
【０２１３】
（式中、Ａｒ、Ｇ１、Ｅ１、Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｐ１及びｋは上記と同一の意味を表わす。）
で表される化合物を得、得られた式（１−３）で表される化合物と式（１−４）
【０２１４】
（式中、Ｇ２、Ｅ２、Ａ２、Ｂ２、Ｆ２、Ｐ２及びｌは上記と同一の意味を表わす。）
で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
【０２１５】
式（１−１）で表される化合物と式（１−２）で表される化合物との反応及び式（１−３）で表される化合物と式（１−４）で表される化合物との反応は、縮合剤の存在下に実施することが好ましい。
【０２１６】
縮合剤としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、等のカルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステル、が挙げられる。反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールがより好ましい。
【０２１７】
組成物（Ａ）は、重合性液晶化合物として、重合性基を有し、かつ化合物（Ａ）とは異なる液晶化合物（以下「液晶化合物（Ａ１）」という場合がある）を含んでいてもよい。液晶化合物（Ａ１）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物等が挙げられる。
【０２１８】
液晶化合物（Ａ１）としては、例えば、式（Ｆ）で表される化合物（以下「化合物（Ｆ）」という場合がある）等が挙げられる。
【０２１９】
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ−Ｂ１２−Ｇ （Ｆ）
［式（Ｆ）中、Ａ１１は、炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基又は炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又はで置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）又は単結合を表す。Ｒ１６は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のＮ−アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基又は−Ｅ１２−Ｐ１２を表す。
Ｅ１１及びＥ１２は、炭素数１〜１８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｐ１１及びＰ１２は、重合性基を表す。
ｔは、１〜５の整数を表す。ｔが２以上の整数である場合、複数のＢ１１及びＡ１１は、互いに同一であっても異なっていてもよい。］
【０２２０】
Ｐ１１及びＰ１２としては、化合物（Ａ）のＰ１及びＰ２と同様の基が挙げられる。より低温での硬化が可能であることから光重合性基が好ましく、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、化合物（Ｆ）の製造も容易であることから、式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）で表される基が好ましく、ビニル基、イソプロペニル基、オキシラニル基、３−メチルオキシラン−２−イル基、３−メチルオキセタン−３−イル基、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が特に好ましい。
【０２２１】
【０２２２】
［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、Ｒ１７〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ１１との結合手を表す。］
【０２２３】
Ａ１１の芳香族炭化水素基及び脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基又は１，４−フェニレン基が好ましい。
【０２２４】
Ｅ１１及びＥ１２としては、炭素数１〜１８のアルカンジイル基であり、直鎖状であるか分岐が１箇所である炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
【０２２５】
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基、ドデカンジイル基、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−及び−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−等が挙げられる。
【０２２６】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが４であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２である化合物の具体例として式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）で表される化合物が挙げられる。
下記式において、式中ｋ１及びｋ２は、２〜１２の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されている等、入手が容易である。
【０２２７】
【０２２８】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが４であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２以外の基である化合物の具体例として式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）で表される化合物が挙げられる。
【０２２９】
【０２３０】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが３であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２である化合物の具体例として式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）で表される化合物が挙げられる。
【０２３１】
【０２３２】
【０２３３】
【０２３４】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが３であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２以外の基である化合物の具体例として式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１９）表される化合物が挙げられる。
【０２３５】
【０２３６】
【０２３７】
化合物（Ｆ）のうち、ｔが２であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２である化合物の具体例として式（Ｖ−１）及び式（Ｖ−２）で表される化合物が挙げられ、ｔが２であり、かつＧが−Ｅ１２−Ｐ１２以外の基である化合物の具体例として式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表される化合物等が挙げられる。
【０２３８】
【０２３９】
化合物（Ａ）の含有量は、液晶化合物（Ａ１）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、１０〜１００質量部が好ましく、より好ましくは３０〜１００質量部である、さらに好ましくは６０〜１００質量部である。液晶化合物（Ａ１）の含有量は、液晶化合物（Ａ１）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、０〜９０質量部が好ましく、より好ましくは０〜７０質量部である、さらに好ましくは０〜４０質量部である。化合物（Ａ）及び液晶化合物（Ａ１）の含有量が上記範囲内であると、優れた偏光変換が可能となる。
本発明の光学フィルムは、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量が多いほど、色抜けは低減される。
【０２４０】
組成物（Ａ）は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、光や熱の作用により、ラジカルや酸を発生し、組成物（Ａ）に含まれる重合性液晶化合物の重合を開始しうる化合物である。重合開始剤としては、低温で重合反応することができる点で、光重合開始剤であることが好ましく、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤がより好ましい。重合開始剤を含有することで、光学フィルムの耐久性が向上する。
【０２４１】
熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の過酸化物等が挙げられる。
光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ベンジルケタール等のベンジルケタール類；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシ−１−エタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類；２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン等のα−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てＢＡＳＦジャパン（株）製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学（株）製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬（株）製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て（株）ＡＤＥＫＡ製）等市販されている光重合開始剤を使用することもできる。
重合開始剤の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、より好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。上記範囲内であれば、化合物（Ａ）や液晶化合物（Ａ１）等の重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４２】
組成物（Ａ）は、光増感剤を含んでもよい。光増感剤としては、例えばキサントン又はチオキサントン等のキサントン系化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等）、アントラセン又はアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン系化合物(例えば、ジブトキシアントラセン等)、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。
【０２４３】
光増感剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、０．５質量部〜１０質量部がより好ましい。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４４】
組成物（Ａ）は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。
【０２４５】
重合禁止剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合を制御することができ、さらに組成物の安定性を向上させることができる。
重合禁止剤の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、０．５質量部〜１０質量部がより好ましい。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４６】
組成物（Ａ）は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、組成物（Ａ）を構成する成分を溶解し、重合性液晶化合物の重合に関与しない溶媒であれば特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；
酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素含有溶媒等が挙げられる。
これら溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。かかる溶媒は、水を含んでいてもよい。
【０２４７】
溶媒の含有量は、組成物（Ａ）に対して、５０〜９５質量％であることが好ましい。
さらに、組成物（Ａ）の粘度は、１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、０．１〜７ｍＰａ・ｓがより好ましい。粘度が上記範囲内であると、塗布しやすく、本発明の光学フィルムを所望の膜厚に調整することができる。粘度は溶媒の含有量で調整することができる。
【０２４８】
組成物（Ａ）は、レベリング剤を含んでもよい。
レベリング剤としては、放射線硬化塗料用添加剤（例えば、ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ；ビックケミージャパン製）、塗料添加剤（例えば、ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ；東レ・ダウコーニング（株）製）、塗料添加剤（例えば、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１；信越化学工業（株）製）又はフッ素系添加剤（例えば、Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７７、Ｆ−４７９；ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
レベリング剤を用いることにより、本発明の光学フィルムを平滑にすることができる。さらに、組成物（Ａ）の流動性を制御したり、本発明の光学フィルムの架橋密度を調整したりすることもできる。レベリング剤の含有量は、液晶化合物（Ａ１）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０２４９】
本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
本発明の光学フィルムは、組成物（Ａ）を基板に塗布し、溶媒を除去し、該組成物に含まれる重合性成分を重合することにより得られる。
【０２５０】
基板への塗布方法としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法又はダイコーティング法等が挙げられる。またディップコーター、バーコーター又はスピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等が挙げられる。
【０２５１】
基板としては、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルム等を挙げることができる。板状でもフィルム状でもよい。前記透光性フィルムとしては、ポリオレフィンフィルム（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等）、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。
基板を用いると、本発明の光学フィルムを製造したり、運搬したり、保管したりする際に破れ等なく容易に取り扱うことができる。
【０２５２】
本発明の光学フィルムを製造する際、基板には配向膜が形成されていることが好ましい。好ましくは、基板上に配向膜を形成した後、配向膜の上に組成物（Ａ）を塗布することが好ましい。配向膜は、組成物（Ａ）の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有することが好ましい。また、溶剤の除去や液晶の配向ための加熱処理において耐熱性を有することが好ましい。さらに、ラビングによる摩擦等による剥がれ等が生じない配向膜であることが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーまたは配向性ポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。配向膜を用いることにより、重合性液晶化合物の配向が容易になり、得られる光学フィルムの複屈折の面内ばらつきが小さくなる。また、配向の制御が容易でなり、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な配向を得ることができる。
【０２５３】
上記配向性ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。
【０２５４】
配向性ポリマーは、溶媒に溶解して、塗布することができる。溶媒は、特に制限はないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン
、メチルイソブチルケトンなどのケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン又はキシレンなどの非塩素系芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリルなどのニトリル溶媒；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル溶媒；クロロホルム又はクロロベンゼンなどの塩素含有溶媒；などが挙げられる。これら溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
【０２５５】
また配向膜を形成するために、市販の配向膜材料を使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。
【０２５６】
前記基板上に、市販の配向膜材料や配向性ポリマーまたは配向性ポリマーを含有する組成物を塗布し、その後、アニールすることにより、前記基板上に配向膜を形成することができる。市販の配向膜材料や配向性ポリマーまたは配向性ポリマーを含有する組成物を基板に塗布する方法としては、組成物（Ａ）を基板に塗布する方法として挙げたものと同じ方法が挙げられる。
このようにして得られる配向膜の厚さは、例えば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。上記範囲であれば、重合性液晶化合物を該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。
【０２５７】
また配向膜は、必要に応じてラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行うことができる。これらにより重合性液晶化合物を所望の方向に配向させることができる。
配向膜をラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられて搬送されている基板上の配向膜に接触させる方法が挙げられる。ラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行う時に、マスキングを行えば、パターンを有する光学フィルムを作製することもできる。
【０２５８】
波長λｎｍの光に対する位相差値（Ｒｅ（λ））は、複屈折率Δｎと本発明の光学フィルムの厚みｄとの積で表される（Ｒｅ（λ）＝Δｎ×ｄ）。本発明の光学フィルムにおいて、位相差値（Ｒｅ（λ））は、本発明の光学フィルム中に含まれる化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を適宜選択し、さらに本発明の光学フィルムの厚みｄを調整することにより、所望の値を得ることができる。位相差値（Ｒｅ（λ））は、その用途により、３０〜３００ｎｍの範囲で適宜選択すればよい。
【０２５９】
具体的に位相差値を調整するには、化合物（Ａ）の含有量が異なる組成物を２〜５種類調製し、それぞれの組成物について、同じ膜厚の本発明の光学フィルムを製造してこれらの位相差値を求め、その結果から、組成物中の化合物（Ａ）の含有量と本発明の光学フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における本発明の光学フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（Ａ）の含有量を決定することができる。
また、化合物（Ａ）の含有量が決定している組成物について、得られる光学フィルムの厚みｄを適宜変更することによっても、位相差値を調整することができる。
【０２６０】
本発明の光学フィルムを位相差板として用いる場合、厚みｄは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜３μｍであることがより好ましい。
λ／４板として用いる場合は、得られる位相差板のＲｅ（５５０）を１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは、１３０〜１５０ｎｍに調整すればよく、λ／２板として用いる場合は、得られる位相差板のＲｅ（５５０）を２５０〜３００ｎｍ、好ましくは、２６５〜２８５ｎｍとなるように調整すればよい。
また、本発明の光学フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）モード用の光学フィルムとして用いる場合、Ｒｅ（５５０）が例えば、４０〜１００ｎｍ、好ましくは６０〜８０ｎｍとなるように調整すればよい。
【０２６１】
組成物（Ａ）を基板に塗布後、溶媒を除去する。溶媒を除去する方法としては、自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥等の方法が挙げられる。溶媒を除去する温度としては、１０〜１５０℃であることが好ましく、２５〜１２０℃であることがより好ましい。溶媒を除去する時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。除去する温度及び除去する時間が、上記範囲内であれば、耐熱性の低い基板及び配向膜を用いても、本発明の光学フィルムを製造することができる。
【０２６２】
組成物（Ａ）を基板した塗膜は、重合性液晶化合物を０〜１５０℃、好ましくは２５〜１２０℃で配向させる。モノドメイン配向した重合性液晶化合物は、複屈折性を有する。加熱して重合性液晶化合物を配向させる場合、溶媒を除去するのと同時に行ってもよいし、溶媒を除去した後さらに加熱して配向させてもよい。
【０２６３】
重合性液晶化合物を配向させた状態で、塗膜中の重合性液晶化合物等を重合させることにより、本発明の光学フィルムが得られる。重合させることにより、重合性液晶化合物の配向が固定されるため、光学フィルムは熱によって複屈折が変化しにくくなる。
重合性液晶化合物を重合する方法は、重合性液晶化合物の重合性基の種類に応じて、選択すればよい。重合性液晶化合物の重合性基が光重合性基であれば光重合法が用いられ、該重合性基が熱重合性基であれば熱重合法が用いられる。光重合法によれば、低温で重合性液晶化合物を重合することができ、基板の耐熱性の選択幅が広がるという点および工業的にも製造が容易であるという点で、光重合性基を有する重合性液晶化合物を用いることが好ましい。光重合反応は、組成物（Ａ）を塗布し重合性液晶化合物を配向させた膜に、可視光、紫外光またはレーザー光を照射することにより行われる。取り扱いの点で、紫外光が特に好ましい。
【０２６４】
本発明の光学フィルムは、単層で用いてもよいし、基板及び／又は配向膜等と積層させて用いてもよい。なお、本発明の光学フィルムを複数層積層する場合、それらは互いに、同一であってもよいし、異なるものを組み合わせて用いてもよい。
【０２６５】
本発明の光学フィルムは、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルム等の反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルム及び透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルム等に用いられる。
本発明の光学フィルムと、偏光フィルムとを含む偏光板として用いることが好ましい。本発明の光学フィルムと偏光フィルムとを貼合することにより、楕円偏光板が得られ、該楕円偏光板にさらに本発明の光学フィルムを貼合することにより、広帯域λ／４板が得られる。
【０２６６】
以下の図の説明において、本発明の光学フィルムとしては、本発明の光学フィルムのみであってもよいし、本発明の光学フィルムと配向膜とが積層しているものであってもよいし、本発明の光学フィルムと配向膜と支持基材とが積層しているものであってもよい。
【０２６７】
本発明の偏光板としては、図１（ａ）〜図１（ｅ）に示すように、（１）本発明の光学フィルム１と、偏光フィルム層２とが、直接積層された偏光板４ａ（図１（ａ））、（２）本発明の光学フィルム１と偏光フィルム層２とが、接着剤層３を介して貼り合わされた偏光板４ｂ（図１（ｂ））、（３）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを積層させ、さらに、本発明の光学フィルム１’と偏光フィルム層２とを積層させた偏光板４ｃ（図１（ｃ））、（４）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本発明の光学フィルム１’上に偏光フィルム層２を積層させた偏光板４ｄ（図１（ｄ））、及び（５）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本発明の光学フィルム１’と偏光フィルム層２とを接着剤層３’を介して貼り合せた偏光板４ｅ（図１（ｅ））等が挙げられる。ここで接着剤とは、接着剤及び／又は粘着剤のことを総称していう。
【０２６８】
偏光フィルム層は、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムに沃素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して沃素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられる。また、偏光フィルム層は、必要に応じて、保護フィルムとなるフィルムを備えていてもよい。
たとえば保護フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム及びポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。
接着剤層３及び接着剤層３’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤あるいはウレタン系接着剤等が用いられる。
また、偏光フィルムにおいて、図１（ｃ）〜図１（ｅ）に示すように、２以上の本発明の光学フィルムを直接または接着剤層を介して貼り合わせてもよい。
【０２６９】
本発明のフラットパネル表示装置は、本発明の光学フィルムを備えるものであり、例えば、本発明の光学フィルムと、液晶パネルとを備える液晶表示装置や、本発明の光学フィルムと、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）パネルとを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。
本発明のフラットパネル表示装置の実施形態として、液晶表示装置と、有機ＥＬ表示装置とについて、以下詳細に述べる。
【０２７０】
〔液晶表示装置〕
液晶表示装置としては、例えば、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すような液晶表示装置等が挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置１０ａは、本発明の偏光板４と液晶パネル６とを、接着層５を介して貼り合わせてなるものであり、図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ｂは、本発明の偏光板４と本発明の偏光板４’とを液晶パネル６の両面に接着層５及び接着層５’を介して貼り合わせたものである。上記構成によれば、図示しない駆動回路から液晶パネルに印加する電圧で、液晶分子の配向を変化させることにより、液晶表示装置に白黒表示させることができる。液晶パネルは、アレイ基板とカラーフィルタとを貼り合わせ、両者の間に液晶を注入及び封止したものである。
【０２７１】
〔有機ＥＬ表示装置〕
有機ＥＬ表示装置としては、図３に示す有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。上記有機ＥＬ表示装置としては、本発明の偏光板４と、有機ＥＬパネル７とを、接着層５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬ表示装置１１が挙げられる。上記有機ＥＬパネル７は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層である。上記構成によれば、図示しない駆動回路から有機ＥＬパネルに印加する電圧で、有機ＥＬパネルに含まれる発光性化合物を発光させることにより、有機ＥＬ表示装置に白黒表示させることができる。有機ＥＬパネルは、発光層等の有機層、画素電極、スイッチング素子等を積層したものである。
なお、上記有機ＥＬ表示装置１１において、偏光板４は、広帯域円偏光板として機能するものであることが好ましい。広帯域円偏光板として機能するものであると、有機ＥＬ表示装置１１の表面において外光の反射を防止することができる。
【０２７２】
〔カラーフィルタ〕
図４は、本発明のカラーフィルタ１４を示す概略図である。
カラーフィルタ１４は、本発明の光学フィルム１２の上にカラーフィルタ層１３が形成されてなるカラーフィルタである。カラーフィルタ層とは、可視光領域の特定の光を吸収する機能を有する層であり、例えば、白色光を赤、青、緑等の色の光に変換する層である。
カラーフィルタ１４の製造方法の一例を説明する。まず、支持基材上に、配向膜材料を塗布し、ラビング処理又は偏光ＵＶ処理を施して、配向膜を形成する。次に得られた配向膜上に、組成物（Ａ）を、得られる光学フィルムが所望の位相差値になるよう厚みを調製しながら塗布して、膜を形成する。膜に含まれる重合性液晶化合物を配向させて得られた本発明の光学フィルム１２上に、カラーフィルタ層１３を形成する。本発明の光学フィルム１２は、重合性液晶化合物が配向する向きが異なる領域を複数有するパターン形成された光学フィルムであってもよい。パターン形成された光学フィルムは、前記のラビング処理又は偏光ＵＶ処理を行う際にマスクを介して行うことにより、得ることができる。
【実施例】
【０２７３】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
【０２７４】
合成例１
＜化合物（Ａ１１−１）の合成＞
化合物（Ａ１１−１）は下記のスキームに従って合成した。
【０２７５】
【０２７６】
［４，６−ジメチルベンゾフランの合成］
３，５−ジメチルフェノール２５ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０．０ｇに溶解させた。溶液を氷浴により冷却した後に、水酸化ナトリウム９．８２を加えた。室温で１時間攪拌し、クロロアセトアルデヒドジメチルアセタール２５．４９ｇを滴下した。１００℃で１５時間攪拌し、反応液を水１０００ｍＬ、メチルイソブチルケトン４００ｍＬに加えて分液した。有機層を回収し、２回５００ｍＬの１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で、さらに２回８００ｍＬの純水で有機層を洗浄した。有機層を回収後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレータにて減圧濃縮させ淡赤色粘長液体を得た。一方で、４００ｇのトルエンと、オルトリン酸３．０１ｇを混合し１１０℃に加熱した。該溶液に淡赤色粘長液体をトルエン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。３時間１１０℃で攪拌した後、室温まで冷却した。反応液を１Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液で二回洗浄し、最後に純水５００ｍＬで洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させて、４，６−ジメチルベンゾフランを１６．５ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は３，５−ジメチルフェノール基準で５５％であった。
【０２７７】
［２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランの合成］
４，６−ジメチルベンゾフラン２１．６２ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド２８．４ｇに溶解させた。溶液を水浴により冷却した後に、オキシ塩化リン２５ｇを滴下した。ピンク色溶液を室温で１時間攪拌した後、１００℃で１０時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、純水１００ｍＬを加えて一時間攪拌後、１Ｎ炭酸水素ナトリウムで中和した。ｐＨを８に調節後、トルエンと分液した。有機層を回収し、活性炭を２．６ｇ加えて濾過した。エバポレータにて減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解させ、ヘプタンにて結晶化させた。結晶を濾取、真空乾燥して、２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランを１９．５ｇ淡黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルベンゾフラン基準で７６％であった。
【０２７８】
［４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成］
２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン１９．５０ｇ、アミド硫酸１３．０４ｇを１００ｍＬの純水と混合した。氷浴で冷却し、亜塩素酸ナトリウム１２．１５ｇの水１００ｍＬ溶液を滴下した。水浴で３６時間反応させた。反応溶液にトルエン１００ｍＬ、水酸化カリウム２５ｇを加えてｐＨを１２に調整した。分液し、水層を回収し水層をさらに２００ｍＬのトルエンで洗浄した。水層を回収し、２Ｎ−塩酸にてｐＨを２にした後、トルエン４００ｍＬを加えて分液した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥して、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を１４．２７ｇ黄色粉末として得た。収率は２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン基準で６７％であった。
【０２７９】
［化合物（１１−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン１１．４９ｇ、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸１４．２７ｇ、トリエチルアミン７．５９ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノピリジン１．８３ｇ及び脱水Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１００．０ｇを混合した。得られた溶液を氷浴にて冷却した後、ＢＯＰ試薬３４．８５ｇを加えて室温で２４時間反応させた。得られた混合液に水、メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水―メタノールの混合溶液（水３体積部、メタノール２体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１１−ａ）を１６．２ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で６６％であった。
【０２８０】
［化合物（１１−ｂ）の合成］
化合物（１１−ａ）１６．０ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して１２時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（１１−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０２８１】
［化合物（１１−ｃ）の合成例］
前項で得られた化合物（１１−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム１１．８ｇ（２６２ｍｍｏｌ）及び水２５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム４４．１７ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。６０℃で１２時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、トルエンで結晶化させた。得られた黄色を真空乾燥して、化合物（１１−ｃ）を主成分とする黄土色固体４．１ｇを得た。収率は化合物（１１−ａ）基準で２５％であった。
【０２８２】
［化合物（１１−ｄ）の合成例］
化合物（１１−ｃ）４．０ｇ及び塩化ピリジニウム４０．０ｇ（１０倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して３時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物（１１−ｄ）を主成分とする黄土色固体３．４ｇを得た。収率は化合物（１１−ｃ）基準で９３％であった。
【０２８３】
［化合物（Ａ１１−１）の合成例］
化合物（１１−ｄ）３．００ｇ、化合物（Ａ）８．４７ｇ、ジメチルアミノピリジン０．１２ｇ及びクロロホルム４０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド２．９２ｇを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させ０．３ｇの活性炭を加えて、室温で一時間攪拌した。溶液を濾過して濾液をエバポレータにて１／３まで減圧濃縮後、攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ１１−１）を白色粉末として７．６０ｇ得た。収率は化合物（１１−ｄ）基準で７１％であった。
【０２８４】
化合物（Ａ１１−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．８５（ｍ、２４Ｈ）、２．３６〜２．８７（ｍ、１８Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４５（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０１（ｍ、９Ｈ）、７．２０（ｓ，１Ｈ）、７．２３（ｓ、２Ｈ）、７．５３（ｓ，１Ｈ）
【０２８５】
得られた化合物（Ａ１１−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ１１−１）は、昇温時において、１０５℃から１３７℃まで粘性の高い中間相を示した。液晶相の判別は困難であったが、１３７℃以上で明確なネマチック液晶相を呈した。ネマチック液晶相は１８０℃以上まであり、降温時においては、６１℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０２８６】
合成例２
＜化合物（Ａ５−１）の合成＞
化合物（Ａ５−１）は下記のスキームに従って合成した。
【０２８７】
【０２８８】
［化合物（５−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン１８．９ｇ、ベンゾフラン−２−カルボン酸２０．０ｇ及び脱水クロロホルム１２５．０ｇを混合し反応させた。得られた混合液にＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．５１ｇを加えた。得られた混合液を氷浴で冷却して、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド２８．０ｇを加えて一時間反応させた。その後室温まで戻し、終夜反応させた。得られた混合液をシリカゲルを通して濾過して白色沈殿及び褐色成分を除去後、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチル−ヘプタンの１／２（ｖ／ｖ）溶液を加えて結晶化させた。析出した結晶を濾過、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（５−ａ）を１４．４ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で３９％であった。
【０２８９】
［化合物（５−ｂ）の合成］
化合物（５−ａ）１３．０ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して５時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（５−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０２９０】
［化合物（５−ｃ）の合成］
前項で得られた化合物（５−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム１０．５ｇ及び水２５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム３９．３ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。室温で１２時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、エタノールで洗浄して、真空乾燥して、化合物（５−ｃ）を主成分とする淡黄色固体９．３ｇを得た。収率は化合物（５−ａ）基準で６９％であった。
【０２９１】
［化合物（５−ｄ）の合成］
化合物（５−ｃ）７．０ｇ及び塩化ピリジニウム３５．０ｇ（５倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して２時間反応させた。得られた混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾取し、水、ヘキサンで洗浄して、化合物（５−ｄ）を主成分とする固体６．５ｇを得た。収率は化合物（５−ｃ）基準で１００％であった。
【０２９２】
［化合物（Ａ５−１）の合成］
化合物（５−ｄ）１．６０ｇ、化合物（Ａ）４．９６ｇ、ジメチルアミノピリジン０．０７ｇ及びクロロホルム３０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド１．７１ｇを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、エタノールで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ５−１）を白色粉末として４．７３ｇ得た。収率は化合物（５−ｄ）基準で７７％であった。
【０２９３】
化合物（Ａ５−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．９１（ｍ、２４Ｈ）、２．３５〜２．８３（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０１（ｍ、８Ｈ）、７．２５（ｓ、２Ｈ）、７．３１〜７．３４（ｔ、１Ｈ）、７．４０〜７．４２（ｔ、１Ｈ）、７．５５〜７．６０（ｍ、２Ｈ）、７．６８〜７．７１（ｄ、１Ｈ）
【０２９４】
得られた化合物（Ａ５−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ５−１）は、昇温時において、１３９℃から１８０℃以上までネマチック相を呈し、降温時において、９３℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０２９５】
合成例３
＜化合物（Ａ１０−１）の合成＞
化合物（Ａ１０−１）は下記のスキームに従って合成した。
【０２９６】
【０２９７】
［５−イソブチルベンゾフランの合成］
４−イソプロピルフェノール４０ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド２４０．０ｇに溶解させた。溶液を氷浴により冷却した後に、水素化ナトリウム１０．９ｇを１０回に分けて加えた。室温で１時間攪拌し、水素発生が終了したら、クロロアセトアルデヒドジメチルアセタール３３．１７ｇを滴下した。８０℃で５時間攪拌し、反応終了を確認したら、反応液を水１０００ｍＬ、メチルイソブチルケトン４００ｍＬに加えて分液した。有機層を回収し、さらに２回８００ｍＬの純水で有機層を洗浄した。有機層を回収後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレータにて減圧濃縮させ赤色粘長液体を得た。一方で、４００ｇのトルエンと、オルトリン酸２．６１ｇを混合し１１０℃に加熱した。該溶液に赤色粘長液体をトルエン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。３時間１１０℃で攪拌した後、室温まで冷却した。反応液を１Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液で二回洗浄し、最後に純水５００ｍＬで洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させて、５−イソブチルベンゾフランを４１．９ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は４−イソプロピルフェノール基準で９０％であった。
【０２９８】
［２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフランの合成］
５−イソブチルベンゾフラン２５．７７ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド２８．４ｇに溶解させた。溶液を水浴により冷却した後に、オキシ塩化リン２５ｇを滴下した。ピンク色溶液を室温で１時間攪拌した後、１００℃で１０時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、純水１００ｍＬを加えて一時間攪拌後、１Ｎ炭酸水素ナトリウムで中和した。ｐＨを８に調節後、トルエンと分液した。有機層を回収し、活性炭を２．６ｇ加えて濾過した。エバポレータにて減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：クロロホルムーヘプタン１：１ｖｏｌ／ｖｏｌ→クロロホルム１００ｖｏｌ％）にかけた。先頭成分を取りエバポレータにて濃縮、真空乾燥して、２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフランを８．５ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は５−イソブチルベンゾフラン基準で２８％であった。
【０２９９】
［５−イソブチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成］
２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフラン１６．４０ｇ、アミド硫酸９．４３ｇを６０ｍＬの純水と混合した。氷浴で冷却し、亜塩素酸ナトリウム８．７８ｇの水５０ｍＬ溶液を滴下した。水浴で３６時間反応させた。反応溶液にトルエン１００ｍＬ、水酸化カリウム５ｇを加えてｐＨを１２に調整した。分液し、水層を回収し水層をさらに３００ｍＬのトルエンで洗浄した。水層を回収し、２Ｎ−塩酸にてｐＨを２にした後、トルエン３００ｍＬを加えて分液した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥して、５−イソブチルベンゾフラン−２−カルボン酸を６．７ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は２−ホルミル−５−イソブチルベンゾフラン基準で３８％であった。
【０３００】
［化合物（１０−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン４．７１ｇ、５−イソブチルベンゾフラン−２−カルボン酸８．７１ｇ、トリエチルアミン３．１１ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノピリジン０．７５ｇ及び脱水Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド３５．０ｇを混合した。得られた溶液を氷浴にて冷却した後、ＢＯＰ試薬１４．２８ｇを加えて室温で２４時間反応させた。得られた混合液に水、メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水―メタノールの混合溶液（水１体積部、メタノール１体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１０−ａ）を５．７ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で５３％であった。
【０３０１】
［化合物（１０−ｂ）の合成］
化合物（１０−ａ）４．７ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して５時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（１０−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０３０２】
［化合物（１０−ｃ）の合成］
前項で得られた化合物（１０−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム３．１ｇ及び水５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム１１．９４ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。室温で２４時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、メタノールで洗浄した。黄色粉末をヘプタン−酢酸エチル１：１（体積比）の溶媒を加えて、室温で１時間攪拌後、氷浴で終夜静置した。得られた淡黄色粉末を濾取、真空乾燥させて、化合物（１０−ｃ）を主成分とする淡黄色固体２．５ｇを得た。収率は化合物（１０−ａ）基準で５１％であった。
【０３０３】
［化合物（１０−ｄ）の合成］
化合物（１０−ｃ）２．５ｇ及び塩化ピリジニウム１２．５ｇ（５倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して２時間反応させた。得られた混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾取し、水、トルエン、ヘキサンで洗浄して、化合物（１０−ｄ）を主成分とする固体１．８ｇを得た。収率は化合物（１０−ｃ）基準で７７％であった。
【０３０４】
［化合物（Ａ１０−１）の合成］
化合物（１０−ｄ）１．８０ｇ、化合物（Ａ）４．９２ｇ、ジメチルアミノピリジン０．０７ｇ及びクロロホルム３０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド１．７０ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、エタノールで洗浄、シリカゲルカラムクロマトグラフィーでクロロホルム８０ｖｏｌ％−アセトン２０ｖｏｌ％で溶出する第一成分を回収、エバポレータにて減圧濃縮後、冷メタノールで結晶化させた。生成した淡黄色粉末を濾取、真空乾燥して化合物（Ａ１０−１）を白色粉末として４．６０ｇ得た。収率は化合物（１０−ｄ）基準で７２％であった。
【０３０５】
化合物（Ａ１０−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）０．８１〜０．８７（ｔ、３Ｈ）、１．２９〜１．３１（ｄ、３Ｈ）、１．４８〜１．７９（ｍ、２６Ｈ）、２．３５〜２．４７（ｍ、８Ｈ）、２．６３〜２．８３（ｍ、５Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｍ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．２３（ｍ、３Ｈ）、７．４８〜７．５０（ｍ、３Ｈ）
【０３０６】
得られた化合物（Ａ１０−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ１０−１）は、昇温時において、１４４℃から粘性の高い相を示し１６９℃で透明点を示した。降温時において、１６７℃から明確なネマチック相を有し、１０５℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０３０７】
合成例４
＜化合物（ｚ−１）の合成＞
化合物（ｚ−１）は以下のスキームで合成した。
【０３０８】
［化合物（ｚ−ａ）の合成］
２，５−ジメトキシアニリン５２．３ｇ、トリエチルアミン６９．０ｇ及び脱水クロロホルム３６５．７ｇを混合し攪拌し、さらに得られた混合液に３−チオフェンカルボン酸クロリド５０．０ｇを加えた。その後氷冷下で攪拌後、混合液を水中に投入した。分離した有機層を水及び塩酸で洗浄した。得られた有機層を、減圧濃縮し、得られた固体をヘキサンで洗浄して、化合物（ｚ−ａ）を主成分とする固体８２．１ｇを得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９１％であった。
【０３０９】
［化合物（ｚ−ｂ）の合成］
化合物（ｚ−ａ）を８１．０ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）６４．７ｇ及びトルエン２３４ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して攪拌した。冷却後濃縮し、化合物（ｚ−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。
【０３１０】
［化合物（ｚ−ｃ）の合成］
前項で得られた化合物（ｚ−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム７３．８ｇ及び水７５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム２５７．８ｇを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。室温で２４時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、エタノールで洗浄し、加熱還流して溶解させて、氷浴で終夜静置した。得られた淡黄色粉末を濾取、真空乾燥させて、化合物（ｚ−ｃ）を主成分とする黄緑色固体４９．１ｇを得た。収率は化合物（ｚ−ａ）基準で５８％であった。
【０３１１】
［化合物（ｚ−ｄ）の合成］
化合物（ｚ−ｃ）４０．０ｇ及び塩化ピリジニウム２００ｇを混合し、１８０℃に昇温して６時間反応させた。得られた混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾取し、水、トルエン、ヘキサンで洗浄して、化合物（ｚ−ｄ）を主成分とする固体３６．４ｇを得た。収率は化合物（ｚ−ｃ）基準で１０１％であった。
【０３１２】
［化合物（ｚ−１）の合成］
化合物（ｚ−ｄ）３．００ｇ、化合物（Ａ）１２．０９ｇ、ジメチルアミノピリジン０．１５ｇ及びクロロホルム１８１ｇを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド５．０７ｇを室温下で加えた。得られた反応溶液を室温で２時間反応させ、反応液にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらエタノールを加えて、生成した粉末を濾取、真空乾燥して化合物（ｚ−１）を白色粉末として６．９７ｇ得た。収率は化合物（ｚ−ｄ）基準で５５％であった。
【０３１３】
化合物（ｚ−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）δ（ｐｐｍ）１．４３〜１．８３（ｍ、２４Ｈ）、２．２９〜２．８２（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．８１〜５．８５（ｄｄ、２Ｈ）、６．０８〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４５（ｍ、２Ｈ）、６．８６〜７．０３（ｍ、８Ｈ）、７．１２（ｄｔ、１Ｈ）、７．１９（ｓ、２Ｈ）、７．４４（ｄｄ、１Ｈ）、７．６２（ｄｄ、１Ｈ）、７．９８（ｄｄ、１Ｈ）
【０３１４】
得られた化合物（ｚ−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｚ−１）は、昇温時において、１１１℃から１２５℃までスメクチック相を呈し、１２５℃から２４２℃までネマチック相を呈し、降温時において、２４２℃から８２℃までネマチック相を呈した。
【０３１５】
合成例５
＜化合物（ｚ−２）の合成＞
原料の化合物（ｚ−ａ）を、２，５−ジメトキシアニリンと４−フルオロ安息香酸クロリドとの反応で得られる化合物（ｚ−２ａ）に変える以外は合成例４と同様の方法にて、化合物（ｚ−２）を得た。収率は化合物（ｚ−２ａ）基準で４６％であった。
【０３１６】
化合物（ｚ−２）の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４４〜１．９０（ｍ、２４Ｈ）、２．３４〜２．８１（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜４．００（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｍ、２Ｈ）、６．０７〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３６〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８６〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．１４〜７．２１（ｍ、４Ｈ）、８．００〜８．０７（ｍ、２Ｈ）
【０３１７】
得られた化合物（ｚ−２）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｚ−２）は、昇温時において、１３７℃から１４６℃までスメクチック相を呈し、１４６℃から１７０℃以上までネマチック相を呈し、降温時において、７８℃までネマチック相を呈し結晶化した。
【０３１８】
＜組成物の調整＞
表２に記載される成分をそれぞれ混合し、８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して組成物１〜６を調製した。
【０３１９】
【表２】
【０３２０】
重合性液晶化合物；
（Ａ１１−１）：合成例１で得られた化合物
（Ａ５−１）：合成例２で得られた化合物
（Ａ１０−１）：合成例３で得られた化合物
（ｚ−０）：下記式で表される化合物（特表平１１−５１３０１９号公報に記載される化合物）
（ｚ−１）：合成例４で得られた化合物
（ｚ−２）：合成例５で得られた化合物
重合開始剤；
イルガキュア３６９；２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製）
イルガキュア８１９；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン社製）
レベリング剤；ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製）
溶媒：シクロペンタノン
【０３２１】
＜吸光度測定＞
表２に記載の重合性液晶化合物をクロロホルムにそれぞれ溶解し、濃度１０−４ｍｏｌ／ｌの溶液を得た。溶液を石英セル（１０ｍｍ長四角セル）に入れ、紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所製）を用いて溶液の吸光度を３００〜８００ｎｍの範囲で測定した。４００ｎｍにおける吸光度を表２に示す。
重合性液晶化合物の極大吸収波長λ０を表３に示す。
【０３２２】
（実施例１〜３、比較例１〜３）
＜光学フィルムの作製＞
ガラス基板に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２質量％水溶液を塗布した後、１２０℃で６０分加熱乾燥し、ガラス基板上に厚さ８９ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施し、配向膜及びガラス基板の積層体を得た。得られた積層体のラビング処理を施した面に、表１の組成の溶液をスピンコート法により塗布した。溶液が塗布された積層体を、ホットプレート上で１分間乾燥させた後、加熱しながらで２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光学フィルムを得た。
【０３２３】
＜配向秩序度Ｓ（λ）の測定＞
得られた光学フィルムを紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所製）に偏光子付サンプルホルダー（島津製作所製）を設置し、光学フィルムに対して偏光を射出できるように、光学フィルムを前記サンプルホルダーにセットした。次いで、光学フィルムに含まれる重合性液晶化合物の配向方向と偏光の振動方向とが平行になる時の吸光度Ａｐ、前記配向方向と偏光の振動方向とが垂直となる時の吸光度Ａｖを測定した。測定された吸光度Ａｐ及び吸光度Ａｖから、式（１）を用いて配向秩序度Ｓ（λ）を算出した。また、−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０.１５を満たす波長範囲を算出した。結果を表３に示す。
【０３２４】
【表３】
【０３２５】
＜位相差板（λ／２板）の作製＞
得られる位相差板の位相差値が２７０±５ｎｍとなるように膜厚を調整し、光学フィルムの製造と同様の方法で、位相差板（λ／２板）を作製した。作製した位相差板の波長５５０ｎｍにおける正面位相差値を、分光エリプソメータ（Ｍ−２２０型、日本分光株式会社製）を用いて測定した。また、組成物層の膜厚を、レーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ ＯＬＳ３０００、オリンパス社製）を用いて測定した。結果を表４に示す。
【０３２６】
＜色抜けの評価＞
紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所製）に設置した偏光子付サンプルホルダー（島津製作所製）に、作製した位相差板を平行ニコルになるようにセットして測定した透過率を１００％とし、遮蔽板を入れて測定した透過率をバックグラウンドとした。入射偏光の振動方向と位相差板に含まれる重合性液晶化合物の配向方向とが４５°となるように、前記サンプルホルダーに作製した位相差板を設置して、透過率を測定した。測定した透過率からバックグラウンドの値を引いた値から、Ｃ光源の等色関数を用いて、Ｌ＊ａ＊ｂ＊（ＣＩＥ）表色系における色度ａ＊及びｂ＊、並びにこれらの絶対値である|ａ＊|及び|ｂ＊|を算出した。|ａ＊|及び|ｂ＊|は値が小さいほど、透過する光は無彩色により近いことを表すことから、色抜けが少なく優れた黒表示を示すと判断できる。結果を表４に示す。
【０３２７】
【表４】
【０３２８】
表３及び表４に示すように、配向秩序度Ｓ０が−０．５＜Ｓ０＜−０.１５を充足する光学フィルムであると、|ａ＊|及び|ｂ＊|の値は小さいことから、色抜けは低減されることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０３２９】
本発明の光学フィルムによれば、フラットパネル表示装置における色抜けを低減することができる。
【符号の説明】
【０３３０】
１、１’、１２ 本発明の光学フィルム
２、２’ 偏光フィルム層
３、３’、３’’ 接着剤層
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４、４’ 本発明の偏光板
５、５’ 接着層
６ 液晶パネル
１０ａ、１０ｂ 液晶表示装置
７ 有機ＥＬパネル
１１ 有機ＥＬ表示装置
１３ カラーフィルタ層
１４ カラーフィルタ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５を充足する光学フィルム。
溶液（ａ）：重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液。
【請求項２】
溶液（ａ）の極大吸収波長が、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項３】
−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足する波長範囲が４０ｎｍ以上である請求項１又は２記載の光学フィルム。
［Ｓ（λ）は波長λｎｍにおける光学フィルムの配向秩序度を表す。］
【請求項４】
重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である請求項１〜３のいずれか記載の光学フィルム。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−又は−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１は、重合性基又は１価の有機基を表す。
Ｌ２は、重合性基を表す。］
【請求項５】
Ｇ１及びＧ２が、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である請求項４記載の光学フィルム。
【請求項６】
重合性液晶化合物を含む組成物を基板に塗布し、重合性液晶化合物を配向させ、該組成物に含まれる重合性成分を重合してなる請求項１〜５のいずれか記載の光学フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを含むフラットパネル表示装置。
【請求項１】
重合性液晶化合物が配向してなる光学フィルムであり、
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の４００ｎｍにおける吸光度Ａが０．１以下であり、
溶液（ａ）を用いて測定される重合性液晶化合物の極大吸収波長における光学フィルムの配向秩序度Ｓ０が、−０．５０＜Ｓ０＜−０．１５を充足する光学フィルム。
溶液（ａ）：重合性液晶化合物を１０−４ｍｏｌ／ｌの濃度になるようにクロロホルムに溶解させた溶液。
【請求項２】
溶液（ａ）の極大吸収波長が、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項３】
−０．５０＜Ｓ（λ）＜−０．１５を充足する波長範囲が４０ｎｍ以上である請求項１又は２記載の光学フィルム。
［Ｓ（λ）は波長λｎｍにおける光学フィルムの配向秩序度を表す。］
【請求項４】
重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である請求項１〜３のいずれか記載の光学フィルム。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−又は−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１は、重合性基又は１価の有機基を表す。
Ｌ２は、重合性基を表す。］
【請求項５】
Ｇ１及びＧ２が、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基である請求項４記載の光学フィルム。
【請求項６】
重合性液晶化合物を含む組成物を基板に塗布し、重合性液晶化合物を配向させ、該組成物に含まれる重合性成分を重合してなる請求項１〜５のいずれか記載の光学フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを含むフラットパネル表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−２５６３０４（Ｐ２０１１−２５６３０４Ａ）
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１３２９４５（Ｐ２０１０−１３２９４５）
【出願日】平成２２年６月１０日（２０１０．６．１０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月１０日（２０１０．６．１０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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