光導電性部材
【課題】例えば、青色光照射に対して優れた感光性を有する光伝導性部材用の材料を提供する。
【解決手段】次の構造式を持つ化合物であって、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、および炭化水素から成る群より独立して選ばれる。
（１）
【解決手段】次の構造式を持つ化合物であって、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、および炭化水素から成る群より独立して選ばれる。
（１）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、ビスベンゾイミダゾールペリノン（bisbenzamidazoleperinones）類またはビスベンゾイミダゾールペリノンダイマー類を含む多層型光導電性画像形成部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
本明細書は、適当な青色波長の光に同時または逐次的に露光可能なこの光発生層は、優れたサイクル安定性、独立した層放電、良好な暗減衰特性を示し、画像形成部材の電気的性質を変えることができ、また長期に亘って性能が殆ど劣化しない。
【０００３】
本件に示す多層型光導電性画像形成部材は、マルチコピー／ファクス装置、電子写真画像形成法、特に、負または正に荷電した画像を適当な電荷極性のトナー組成物で可視像化する電子写真画像形成および印刷法など、多くの様々な公知の画像形成および印刷法に用いることができる。この画像形成部材は、実施の形態において、例えば、約９００〜約３００ｎｍ、約３５０〜約４５０ｎｍ、または約３７０〜約４２５ｎｍの波長域に感度を持つ。この画像形成部材は、１回の通過で多色刷りが可能なカラー電子写真画像形成法に用いることができる。
【０００４】
【特許文献１】米国特許第４，２６５，９９０号明細書
【特許文献２】米国特許第４，４１９，４２７号明細書
【特許文献３】米国特許第４，４２９，０２９号明細書
【特許文献４】米国特許第４，５０１，９０６号明細書
【特許文献５】米国特許第４，５５５，４６３号明細書
【特許文献６】米国特許第４，５８７，１８９号明細書
【特許文献７】米国特許第４，７０９，０２９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
画像形成部材は、例えば、青色光照射に対して優れた感光性を有する感光性画像形成物が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
青色光の放射に対して優れた感光性を持つ感光性画像形成部材、青色光に感度を持つ多層型感光性画像形成部材であって、実施の形態において、電気的性質が調節可能であって所定の性質とすることができ、良好な暗減衰特性と高い感光性を持つ部材を提示する。青色光、例えば約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの波長域に感光性を持つ、ビスベンゾイミダゾールペリノン類またはビスベンゾイミダゾールペリノンダイマー類を含む多層型感光性画像形成部材を提示する。更に、ビスベンゾイミダゾールペリノン光発生成分を含む光発生層を備え、この層を支持基材上に設けることのできる、光導電性画像形成部材を提示する。本件に開示の感光性または光導電性画像形成部材は電子写真などの画像形成法に使用することができる。
【０００７】
支持基材とその上の光発生層とを含む光導電性部材コンポーネントであって、光発生層は、次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンまたはそのダイマー（二量体）類を含む。
【化１】
（１）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは飽和または不飽和の環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じて、アルキル成分を、単環または多環系を成すような形に配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
記録媒体上に画像を形成するための画像形成装置は、以下のコンポーネントを含むものである。
【０００９】
ａ）その上に静電潜像を受けるための電荷保持面を備えた感光体部材。前記感光体部材は、支持基材とその上の光発生層とを含む光導電性部材コンポーネントを含み、光発生層は、次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含む。
【化２】
（１）
【００１０】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは飽和または不飽和の環を形成するよう配置されている。
【００１１】
ｂ）現像剤材料を前記電荷保持面に塗布して前記静電潜像を現像し、前記電荷保持面上に現像した画像を生成するための現像コンポーネント。
【００１２】
ｃ）前記現像画像を前記電荷保持面から別の部材またはコピー被印刷体へ転写するための転写コンポーネント。
【００１３】
ｄ）前記現像画像を前記コピー被印刷体へ定着するための定着部材。
【００１４】
基材とその上の光発生層と電荷輸送層とを含む画像形成部材であって、光発生層は、次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含む。
【化３】
（１）
【００１５】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは飽和または不飽和の環を形成するよう配置されている。電荷輸送層は、その中に分散させた電荷輸送材料を含む。
【００１６】
次の構造式で示される化合物またはそのダイマー類である。
【化４】
（１）
【００１７】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、および炭化水素から成る群より独立して選ばれる。
【００１８】
ビスベンゾイミダゾールペリノン類の例としては、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と３，４−ジアミノトルエンとの縮合より得られた生成物の混合物である、次の構造式で示されるもの、
【化５】
（２）
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と３，４−ジアミノクロロベンゼンとの縮合より得られた生成物の混合物である、次の構造式で示されるもの、
【化６】
（３）
および、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と２，３−ジアミノナフタレンとの縮合より得られた生成物の混合物である、次の構造式で示されるものが挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。
【化７】
（４）
【００１９】
ビスベンゾイミダゾールペリノン類は、多くの方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１，２−アリーレンジアミンとを反応させて粗生成物を生成する方法で調製できる。これを単離および／または精製後、結晶化および／またはトレイン（train）昇華などの処理を行って、光発生体成分とする。これらの化合物の構造変異体は容易に調製可能である。所望ならばこれを、真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次のような反応スキームを用いることができる。
【化８】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２０】
このような化合物は、適当な方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と等モル量（無水物に対し）または僅かに過剰量（無水物に対し）の１，２−ジアミノアリーレン化合物との、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度での、１工程、１容器反応で製造できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に、例えば、分別またはトレイン昇華および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの精製処理を行っても良い。
【００２１】
支持基材とその上の光発生層とを含み、光発生層が、次の構造式で示される１，８−ナフタレンベンゾイミダゾール（1,8-naphthalenebenzimidazole）またはそのダイマー類を含む光導電性部材コンポーネントを開示する。
【化９】
（４）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２２】
１，８−ナフタレンベンゾイミダゾール類の例としては、次の構造式で示されるものが挙げられる。
【化１０】
（５）
（６）
【００２３】
１，８−ナフタレンベンゾイミダゾール類は、多くの方法、例えば、１，８−ナフタレンジカルボン酸二無水物と１，２−アリーレンジアミンとを反応させて粗生成物を生成する方法で調製できる。これを単離および／または精製後、トレイン昇華による結晶化および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの処理を行って、光発生体成分とする。これらの化合物は多くの構造変異体が容易に調製可能である。所望ならばこれを、例えば真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次のような反応スキームを用いることができる。
【化１１】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２４】
このような化合物は、適当な方法、例えば、１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物と等モル量（無水物に対し）または僅かに過剰量の４，５−ジハロ−１，２−フェニレンジアミン化合物との、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（典型的に、例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度での、１工程、１容器反応で製造できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に、例えば、分別またはトレイン昇華および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの精製処理を行っても良い。
【００２５】
更に、支持基材とその上の光発生層とを含み、光発生層が、次の構造式で示されるイミドベンゾイミダゾールペリノン（imidobenzamidazoleperinone）またはそのダイマー類を含む光導電性部材コンポーネントを開示する。
【化１２】
（７）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２６】
イミドベンゾイミダゾールペリノン類の例としては次の構造式で示されるものが挙げられる。
【化１３】
（８）
（９）
【００２７】
イミドベンゾイミダゾールペリノン類は、多くの方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１，２−アリーレンジアミンとを反応させて、一無水物−モノイミダゾールを含む中間生成物を生成し、これを必要に応じて単離および精製する方法で調製できる。一無水物−モノイミダゾールを更に、例えば過剰の１級アルキルアミンとＮＭＰ中で反応させて粗生成物とし、一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に精製処理を行っても良い。これらの化合物は多くの構造変異体が容易に調製可能である。所望ならばこれを、例えば真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次の反応スキームを用いることができる。
【化１４】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２８】
このような化合物は一般に、適当な方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と等モル量または僅かに過剰の１，２−アリーレンジアミンとを、塩基、例えば水酸化カリウム水溶液中で反応させて、中間体の一無水物−モノイミダゾールを生成する、２工程反応で製造できる。一無水物−モノイミダゾールを過剰の１級アルキルアミンと、例えば、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミン、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度で反応させて、所望のイミドベンゾイミダゾールペリノンを生成する。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に精製処理を行っても良い。
【００２９】
更に、支持基材とその上の光発生層とを含み、光発生層が、次の構造式で示される一無水物−モノベンゾイミダゾールペリノンまたはそのダイマー類を含む光導電性部材コンポーネントを開示する。
【化１５】
（１０）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を形成するように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００３０】
一無水物−モノベンゾイミダゾールペリノン類の例としては、次の構造式で示されるものが挙げられる。
【化１６】
（１１）
（１２）
【００３１】
一無水物−モノベンゾイミダゾールペリノン類は、多くの方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１モル当量（無水物に対して）の１，２−アリーレンジアミンとを、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミン、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（典型的に、例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度で反応させて粗生成物を生成する方法で調製できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術、例えば、まず粗生成物を水酸化カリウムなどの水酸化物塩基の水溶液に溶解して濾過し、適当なプロトン酸（例えば塩酸、硝酸など）で酸性化して一定時間加熱後、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に、分別またはトレイン昇華および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの精製処理を行っても良い。これらの化合物は多くの構造変異体が容易に調製可能である。所望ならばこれを、真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次の反応スキームを用いることができる。
【化１７】
【００３２】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００３３】
このような化合物は一般に、適当な方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１モル当量（無水物に対して）の１，２−アリーレンジアミンとを、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミン、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（典型的に、例えば約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度で反応させて粗生成物を生成する方法で製造できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術、例えば、まず粗生成物を水酸化カリウムなどの水酸化物塩基の水溶液に溶解して濾過し、適当なプロトン酸（例えば、塩酸、硝酸など）で酸性化して一定時間加熱後、通常の濾過技術で取り出すことができる。あるいは、例えば、この化合物を光発生体として用いる前に精製処理を行っても良い。実施の形態では、以下のものを提示する。光発生層の厚さが約０．１〜約６０μｍまたは１〜約３０μｍであり、光発生体成分の量がバインダの約０．０５〜約９０重量％または約２０〜約９０重量％であり（成分の合計は約１００％）、光発生体成分が約１０〜約７５重量％のポリマーバインダ中に分散している部材。；約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの波長の光を吸収し、支持基材が金属を含む伝導性基材から成り、伝導性基材が、アルミニウム、アルミニウム化ポリエチレンテレフタラートまたはチタン化ポリエチレンテレフタラート、あるいは、金属層が１種類の金属または金属混合物から成る金属化プラスチックフィルムであって、プラスチックフィルムが、支持基材として作用するのに適した機械的性質を備えたフィルムであり、光発生体バインダが、ポリエステル類、ポリビニルブチラール類、ポリカーボネート類、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン、およびポリビニルホルミル（formyl）類から成る群より選ばれる部材。；電荷輸送層がアリールアミン分子を含む正孔輸送層であり、この層が約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの放射に対して透明である画像形成部材。；画像形成部材上に静電潜像を生成する工程と、潜像を現像する工程と、現像した静電画像を適当な被印刷体に転写する工程と、を含む画像形成法であって、画像形成部材を約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの波長の光に露光する画像形成法。
【００３４】
光発生層の厚さは、約０．１〜約６０μｍまたは約１〜約３０μｍ、電荷輸送層の厚さは、約５〜約２００μｍ、約１０〜約１００μｍ、または約１５〜約３０μｍとすることができ、それぞれの層は、約１０〜約７５重量％のポリマーバインダを含むものとすることができ、光発生層（光発生成分）は、約１０〜約７０重量％の量とすることができ、バインダは、約３０〜約９０重量％の量とすることができる。
【００３５】
光発生成分および電荷輸送成分は、適当なバインダ、例えば、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリビニルブチラール、ポリシロキサン類、およびポリウレタン類などのポリマーバインダ中に分散している。光発生顔料は、様々な含有量、例えば約０．０５〜約９０重量％、約１０〜約９０重量％、または約１５〜約５０重量％とすることができ、ポリマーバインダの含有量は、約１０〜約９０重量％、約２５〜約７５重量％、または約２５〜約５０重量％とすることができる。この層の厚さは、例えば約０．１〜約６０μｍまたは約１〜約３０μｍとすることができる。
【００３６】
更に、適当な接着層を用いても良く、この層は、例えば基材と単一層の間に設けることができる。接着剤の例としては、ＶＩＴＥＬ（登録商標）ＰＥ１００およびＰＥ２００（グッドイヤー・ケミカルズ（Goodyear Chemicals）製）またはＭＯＲ−ＥＳＴＥＲ４，９０００（登録商標）（ノートン・インターナショナル（Norton International）製）などのポリエステル類が挙げられる。この接着層は、テトラヒドロフランおよび／またはジクロロメタンなど適当な溶媒を用いて支持基材上に被覆でき、その厚さの範囲は、例えば約０．００１〜約５μｍ、約０．１〜約３μｍとすることができる。
【００３７】
光導電性画像形成部材は、成分を分散液として被覆するなど、多くの方法で経済的に調製可能である。感光性画像形成部材は多くの公知の方法で調製でき、その加工パラメータは、例えば所望とされる部材に応じて変わる。画像形成部材に用いられる光発生および電荷輸送成分は、溶液または分散液として、スプレーコータ、浸漬コータ、押出コータ、ローラコータ、巻き線棒コータ、スロットコータ、ドクターブレードコータ、グラビアコータなどを用いて選定した基材上に被覆し、例えば約４０〜約２００℃の温度で適当な時間、例えば約１０分〜約１０時間、静止状態または気流中で乾燥することができる。被覆は、最終的なコーティングの厚さが、例えば、乾燥後で約０．０１〜約３０μｍとなるように行うことができる。所定の光導電層に関する製造条件は、最終的な部材が最良の性能とコストで得られるよう調整することができる。実施の形態において、被覆はまた、例えば約４０〜約１５０℃で、例えば約５〜約９０分間乾燥した後の光発生層の最終乾燥厚さが、例えば約０．１〜約５０μｍまたは約１〜約１０μｍとなるよう、スプレー、浸漬、または巻き線棒法で行っても良い。
【００３８】
本画像形成部材のために選定される基材層の例は、不透明またはほぼ透明で、必要な機械的性質を備えた適当な材料から成るもので良い。基材は、無機または有機ポリマー材料（例えば、市販のポリマーであるＭＹＬＡＲ（登録商標）、チタン含有ＭＹＬＡＲ（登録商標）など）を含む絶縁材料の層、インジウムスズオキシドなどの半導体表面層を備えた、またはその上にアルミニウムを配置した有機または無機材料の層、あるいは、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、ジルコニウム、真鍮など（但し、これらに限定するものではない）の導電性材料を含むものであっても良い。基材は、可撓性、シームレス、または堅牢であって、例えば、板状、円筒形ドラム、スクロール、エンドレス可撓性ベルトなど、多くの様々な形状を持つ。ある実施の形態では、基材はシームレス可撓性ベルトの形である。基材が可撓性の有機ポリマー材料などである場合、基材の裏側に、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）として市販のポリカーボネート材料などの抗カール層を被覆することが好ましい。
【００３９】
基材層の厚さは、経済的考慮など多くの要因に応じて決まるため、この層は、相当な厚さ、例えば３，０００μｍ以上、または最小の厚さとすることができる。ある実施の形態では、この層の厚さは約７５〜約３００μｍである。
【００４０】
支持基材に接する層の厚さは、基材の厚さや単一層に含まれる成分の量など、多くの要因に応じて決まる。従ってこの層の厚さは、例えば約０．１〜約５０μｍ、約１〜約１０μｍとすることができる。実施の形態では、この層の最大厚さは主に、感光性、電気的性質、および機械的考慮などの要因に応じて決まる。バインダ樹脂は、様々な適当な量、例えば約５〜約７０重量％、約１０〜約５０重量％とすることができ、また、ポリビニルブチラール、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル類、 ポリカーボネート類、ポリ塩化ビニル、ポリアクリラート類およびポリメタクリラート類、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン類、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル（polyarylonitrile）、ポリスチレンなど、多くの公知のポリマーを含むことができる。単一層の被覆に用いる溶媒は、例えば、ケトン類、アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、エーテル類、アミン類、アミド類、エステル類などを含むことができる。例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸メトキシエチルなどが挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。
【００４１】
通常、支持基材に接している必要に応じた接着層は、本件に示すポリエステル類、ポリアミド類、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、およびポリアクリロニトリルなど、様々な公知の物質とすることができる。この層は適当な厚さ、例えば約０．００１〜約２５μｍの厚さである。必要に応じてこの層に、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化ケイ素、カーボンブラックなどの導電性および非導電性粒子を、効果的で適当な量、例えば約１〜約１０重量％加えて、例えば実施の形態において、更に好ましい電気的および光学的性質とする。
【００４２】
光発生層に接している正孔輸送層に用いるためのアリールアミン類としては、次の構造式で示される分子が挙げられる。
【化１８】
式中、Ｒ１〜Ｒ１５は、アルキル、置換アルキル、アルコキシ、アルコキシルアルキル、フェニル、ナフチルおよびより炭素数の多い芳香族化合物（例えばアントラセン）、他の縮合芳香環系（例えばカルバゾール）、スチルベン、ハロゲン、および水素などから成る群より独立して選ばれる。Ｒ１〜Ｒ１５のそれぞれは、合計原子数が約１〜約５０、約１〜約１０、または約１〜約５となるよう選ぶことができる。Ｒ１〜Ｒ１５は、Ｒ１〜Ｒ１５の少なくとも１つが、アルコキシ（例えばメトキシ）またはアルキル（例えばメチル）であるように選ぶことができる。ある特定の実施の形態では、ビス（３，４−ジメチルフェニル）−４−メトキシフェニルアミンまたはトリトリルアミンを含む。別の特定の実施の形態では、上記のもののダイマー類であるがベンジジン型でないもの、例えば１，１−ビス（ジ−４−トリルアミノフェニル）シクロヘキサンを含む。更に別の実施の形態では、アリールアミン化合物の混合物の例、例えばトリトリルアミンと１，１−ビス（ジ−４−トリルアミノフェニル）シクロヘキサンとの混合物を用いることができる。
【００４３】
その他公知の電荷輸送分子を使用することができる。
【００４４】
正孔輸送分子に対するポリマーバインダの例としては、ポリカーボネート類、アクリラートポリマー類、ビニルポリマー類、セルロースポリマー類、ポリエステル類、ポリシロキサン類、ポリアミド類、ポリウレタン類、およびエポキシ類、またそのブロック、ランダム、または交互共重合体が挙げられる。分子量約２万〜約１０万または約５万〜約１０万のポリカーボネート樹脂を含む電気的に不活性なバインダ類を選ぶことができる。
【００４５】
更に、感光性または光導電性部材を用いた、一般に、画像形成部材上に静電潜像を生成する工程と、次に、例えば、熱可塑性樹脂と、顔料などの着色剤と、電荷添加剤と、表面添加剤とを含むトナー組成物を用いてこの画像を現像する工程と、次に、画像を適当な被印刷体に転写する工程と、例えば熱によって画像をそれに恒久的に定着する工程とを含む、画像形成および印刷法を含む。この部材を印刷用に用いる場合、露光工程をレーザーデバイスまたはイメージバーで行う以外、画像形成法は同じである。
【実施例】
【００４６】
＜実施例１＞
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物（１当量）と、３，４−ジアミノトルエン（２．５当量）と、酢酸亜鉛（II）（５モル％）とを、Ｎ−メチル−１，２−ピロリドン（ＮＭＰ）（固体量１０重量％）中で５時間加熱還流し、室温まで放冷して濾過した。濾過ケークをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２０ｍｌ×３回）とメタノール（２０ｍｌ×３回）で洗い、減圧下（約１０ｍｍＨｇ）約８０℃で一晩乾燥して、２．５ｇの、構造（２）を持つビスベンゾイミダゾールペリノンを得た。２．５ｇのビスベンゾイミダゾールペリノンを、当業者に公知（例えば、H. J. Wagner, R. O. Loutfy and C.-K. Hsaio, J. Mater. Sc. 17, 2781, 1982に記載）のような、トレイン（train）昇華によって精製し、２ｇのビスベンゾイミダゾールペリノンを得た。その純度と絶対同定は、主に１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてＣＤＣｌ３／ＴＦＡ−ｄ（３／１ｖ／ｖ）（容量比３：１で混合した重水素化クロロホルムと重水素化トリフルオロ酢酸との混合物）、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００４７】
＜実施例２＞
５０００Åの薄膜は、Ｂａｌｚｅｒ ＢＡＥ０８０（登録商標）コータ中での真空蒸着により調製した。実施例１に記載の化合物をタンタル製ボートに載せ、充填後栓をした。蒸発の間、系の圧力を＜１０−５ｍｍＨｇで安定に保った。顔料の昇華が始まる温度に達するまでボートを徐々に加熱した。厚さ７５μｍのチタン化ＭＹＬＡＲ（登録商標）基材（この基材は上部に厚さ０．１μｍのシラン層を備えている）を源の上に置き、石英結晶モニターで観測しながら２〜４Å／秒の制御した速度で顔料蒸気を蒸着させた。
【００４８】
＜実施例３＞
７０ｇの１／８”（約３．２ｍｍ）ステンレススチール製ショットを加えた３０ｍｌのガラス瓶に、０．２ｇの、実施例１に記載の化合物と、０．０５ｇのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール（ＰＶＫ）と、１０．５ｇのジクロロメタンとを入れ、ロールミル上に置いて３日間穏やかに回転させて混合した。間隙幅１．５ミル（約３８．１μｍ）のフィルムアプリケータを用いて、厚さ７５μｍのチタン化ＭＹＬＡＲ（登録商標）基材（この基材は上部に厚さ０．１μｍのシラン層を備えている）上に顔料分散液を被覆した。その後、生成した光発生体層を、強制換気オーブン中１３５℃で２０分間乾燥した。
【００４９】
＜実施例４＞
２．０２５ｇのポリカーボネート（ＰＣ（Ｚ）４００）と、０．６７５ｇのトリトリルアミンと、０．６７５ｇの１，１−ビス（Ｎ，Ｎ−ジトリル−４−アミノフェニル）シクロヘキサンと、１５．３８ｇのジクロロメタンとを混合して、輸送層溶液を調製した。生成した溶液を、間隙幅１０ミル（２５４μｍ）のフィルムアプリケータを用いて上記の光発生層上に被覆した。得られた光導電性部材を強制換気オーブン中１３５℃で２０分間乾燥した。輸送層の最終乾燥厚さは２５μｍであった。
【００５０】
＜実施例５＞
上記で調製した光導電性画像形成部材と他の類似の部材の電子写真における電気的性質は、表面電位が約−８００ボルト（電位計に接続した容量結合プローブで測定）の初期値Ｖ０に達するまで、コロナ放電源を用いてその表面を静電気によって荷電するなど、公知の手段で求めることができる。暗所中に０．５秒間置いた後の荷電部材は、Ｖｄｄｐ（暗現像電位）の表面電位を保持している。次に、それぞれの部材をフィルタに通したキセノンランプからの光に露光すると、光放電が誘発されて表面電位がＶｂｇ値（バックグラウンド電位）に低下する。光放電の割合は、１００×（Ｖｄｄｐ−Ｖｂｇ）／Ｖｄｄｐとして算出した。露光光の所望の波長とエネルギーは、ランプの前に置くフィルタの種類により決定した。単色光感光性は、狭帯域通過フィルタを用いて求めた。画像形成部材の感光性は一般に、Ｖｄｄｐからその初期値の半分まで５０％光放電させるために必要な露光の量（Ｅ１／２で表す）（エルグ／ｃｍ２）で表される。感光性が高いとＥ１／２値は小さくなる。最後にデバイスを適当な光強度の消去ランプで露光し、残留電位（Ｖｒｅｓｉｄｕａｌ）を測定した。画像形成部材は、４００ｎｍの波長の露光用単色光と、約４００〜約８００ｎｍの波長の消去用広帯域光を用いて試験した。
【００５１】
＜比較例１＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の３，４−ジメチル−１，２−フェニレンジアミンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【００５２】
＜比較例２＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の２，３−ジアミノナフタレンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【００５３】
＜比較例３＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の４−クロロ−１，２−フェニレンジアミンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【００５４】
＜比較例４＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の１，２−フェニレンジアミンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【表１】
ＤＤ＝暗減衰；Ｓ＝感度；Ｅ１／２＝電荷を初期値の１／２に低下させる露光；Ｅ７／８＝電荷を初期値の７／８に低下させる露光；Ｖｒ＝残留電位
【００５５】
実施例１の顔料を用いて実施例４の方法で製造した光導電性画像形成部材は、負に荷電した場合、暗減衰が２ボルト／秒、感度が８５Ｖエルグ／ｃｍ２、Ｅ１／２が５．５４エルグ／ｃｍ２、Ｖｒｅｓｉｄｕａｌが１７ボルトであった。この部材は４００ｎｍの波長の青色光に感度を持つものであった。この波長は、キセノンランプの前に置いた４００ｎｍ単帯域通過フィルタより発生させた。
【００５６】
実施例２の顔料を用いて実施例４の方法で製造した光導電性画像形成部材は、負に荷電した場合、暗減衰が２ボルト／秒、感度が７６Ｖエルグ／ｃｍ２、Ｖｒｅｓｉｄｕａｌが１４ボルトであった。この部材は４００ｎｍの波長の青色光に感度を持つものであった。この波長は、キセノンランプの前に置いた４００ｎｍ単帯域通過フィルタより発生させた。
【００５７】
＜実施例６＞
【化１９】
１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物（９．９ｇ、０．０５モル）と、４，５−ジクロロ−１，２−ジクロロフェニレンジアミン（８．５ｇ、０．０５モル）と、酢酸亜鉛（II）（２．２ｇ、０．０１モル）とを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）（２０ｍｌ）中で５時間加熱還流し、室温まで放冷して濾過した。濾過ケークをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（５０ｍｌ×３回）とメタノール（５０ｍｌ×３回）で洗い、減圧下（約１０ｍｍＨｇ）約８０℃で一晩乾燥して、２．１ｇの、構造（５）を持つ１，８−ナフタレンベンゾイミダゾールを得た。２．１ｇの１，８−ナフタレンベンゾイミダゾールを、当業者に公知のトレイン昇華によって精製し、１．８ｇの１，８−ナフタレンベンゾイミダゾールを得た。その純度と絶対同定は、主に１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてＣＤＣｌ３／ＴＦＡ−ｄ（３／１ｖ／ｖ）、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００５８】
＜実施例７＞
【化２０】
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸（６０．８ｇ、０．２モル）と、酢酸亜鉛（II）無水物（６ｇ）とを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＮＭＰ）（８００ｍｌ）中で加熱還流し、粉末の１，２−フェニレンジアミン（２１．６ｇ、０．２モル）を２時間かけて加え、１，２−フェニレンジアミンの添加完了後１時間還流を続け、その後放冷して固体を取り出した。この固体を、水酸化カリウム（３３ｇ）を加えた水（１リットル）に入れて８０℃に加熱し、濾過して不溶物を除いた。濾液に濃リン酸（３５ｍｌ）を加えて酸性化し、生成した懸濁液を９０℃で２時間加熱後、固体を除いて凍結乾燥し、モノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノン（４０．４６ｇ）を得た。モノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノンの純度と絶対同定は、主に１Ｈおよび１３Ｃ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてジメチルスルホキシド−ｄ６、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。３．４ｇのモノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノン化合物をｎ−ブチルアミン（１．０９ｇ）およびＮＭＰ（１２ｍｌ）中で５時間加熱還流し、室温まで放冷して濾過した。濾過ケークをＤＭＦ（２０ｍｌ×３回）とメタノール（２０ｍｌ×３回）で洗い、減圧下（約１０ｍｍＨｇ）約８０℃で一晩乾燥して、３．６ｇの、構造（８）を持つイミドベンゾイミダゾールペリノンを得た。２．４５ｇのイミドベンゾイミダゾールペリノンを、当業者に公知のトレイン昇華によって精製し、１．８ｇのイミドベンゾイミダゾールペリノンを得た。その純度と絶対同定は、主に１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてＣＤＣｌ３／ＴＦＡ−ｄ（３／１ｖ／ｖ）、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００５９】
＜実施例８＞
【化２１】
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸（６０．８ｇ、０．２モル）と、酢酸亜鉛（II）（６ｇ）とを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８００ｍｌ）中で加熱還流し、粉末の１，２−フェニレンジアミン（２１．６ｇ、０．２モル）を２時間かけて加え、添加完了後１時間還流を続け、その後室温まで放冷して生成した固体を集めた。この固体を、水酸化カリウム（３３ｇ）を加えた水（１リットル）に入れ、８０℃で２時間加熱後濾過した。濾液に濃リン酸（３５ｍｌ）を加えて酸性化し、生成した懸濁液を９０℃で２時間加熱し、適当な方法で固体を除いて凍結乾燥し、モノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノン（４０．４６ｇ）を得た。その純度および絶対同定は、主に１Ｈおよび１３Ｃ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてジメチルスルホキシド−ｄ６、内標準としてとしてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００６０】
先に述べた、またその他の様々な特徴および機能、あるいはその変更は、多くの他の様々な装置および用途に好ましく組み合わせられることは明らかである。更に、今後当業者によって行われる、現在まだ予見または予想されていないその様々な変更、変形、変化、または改良も、添付の請求項に包含されるものとする。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、ビスベンゾイミダゾールペリノン（bisbenzamidazoleperinones）類またはビスベンゾイミダゾールペリノンダイマー類を含む多層型光導電性画像形成部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
本明細書は、適当な青色波長の光に同時または逐次的に露光可能なこの光発生層は、優れたサイクル安定性、独立した層放電、良好な暗減衰特性を示し、画像形成部材の電気的性質を変えることができ、また長期に亘って性能が殆ど劣化しない。
【０００３】
本件に示す多層型光導電性画像形成部材は、マルチコピー／ファクス装置、電子写真画像形成法、特に、負または正に荷電した画像を適当な電荷極性のトナー組成物で可視像化する電子写真画像形成および印刷法など、多くの様々な公知の画像形成および印刷法に用いることができる。この画像形成部材は、実施の形態において、例えば、約９００〜約３００ｎｍ、約３５０〜約４５０ｎｍ、または約３７０〜約４２５ｎｍの波長域に感度を持つ。この画像形成部材は、１回の通過で多色刷りが可能なカラー電子写真画像形成法に用いることができる。
【０００４】
【特許文献１】米国特許第４，２６５，９９０号明細書
【特許文献２】米国特許第４，４１９，４２７号明細書
【特許文献３】米国特許第４，４２９，０２９号明細書
【特許文献４】米国特許第４，５０１，９０６号明細書
【特許文献５】米国特許第４，５５５，４６３号明細書
【特許文献６】米国特許第４，５８７，１８９号明細書
【特許文献７】米国特許第４，７０９，０２９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
画像形成部材は、例えば、青色光照射に対して優れた感光性を有する感光性画像形成物が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
青色光の放射に対して優れた感光性を持つ感光性画像形成部材、青色光に感度を持つ多層型感光性画像形成部材であって、実施の形態において、電気的性質が調節可能であって所定の性質とすることができ、良好な暗減衰特性と高い感光性を持つ部材を提示する。青色光、例えば約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの波長域に感光性を持つ、ビスベンゾイミダゾールペリノン類またはビスベンゾイミダゾールペリノンダイマー類を含む多層型感光性画像形成部材を提示する。更に、ビスベンゾイミダゾールペリノン光発生成分を含む光発生層を備え、この層を支持基材上に設けることのできる、光導電性画像形成部材を提示する。本件に開示の感光性または光導電性画像形成部材は電子写真などの画像形成法に使用することができる。
【０００７】
支持基材とその上の光発生層とを含む光導電性部材コンポーネントであって、光発生層は、次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンまたはそのダイマー（二量体）類を含む。
【化１】
（１）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは飽和または不飽和の環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じて、アルキル成分を、単環または多環系を成すような形に配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
記録媒体上に画像を形成するための画像形成装置は、以下のコンポーネントを含むものである。
【０００９】
ａ）その上に静電潜像を受けるための電荷保持面を備えた感光体部材。前記感光体部材は、支持基材とその上の光発生層とを含む光導電性部材コンポーネントを含み、光発生層は、次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含む。
【化２】
（１）
【００１０】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは飽和または不飽和の環を形成するよう配置されている。
【００１１】
ｂ）現像剤材料を前記電荷保持面に塗布して前記静電潜像を現像し、前記電荷保持面上に現像した画像を生成するための現像コンポーネント。
【００１２】
ｃ）前記現像画像を前記電荷保持面から別の部材またはコピー被印刷体へ転写するための転写コンポーネント。
【００１３】
ｄ）前記現像画像を前記コピー被印刷体へ定着するための定着部材。
【００１４】
基材とその上の光発生層と電荷輸送層とを含む画像形成部材であって、光発生層は、次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含む。
【化３】
（１）
【００１５】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは飽和または不飽和の環を形成するよう配置されている。電荷輸送層は、その中に分散させた電荷輸送材料を含む。
【００１６】
次の構造式で示される化合物またはそのダイマー類である。
【化４】
（１）
【００１７】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、および炭化水素から成る群より独立して選ばれる。
【００１８】
ビスベンゾイミダゾールペリノン類の例としては、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と３，４−ジアミノトルエンとの縮合より得られた生成物の混合物である、次の構造式で示されるもの、
【化５】
（２）
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と３，４−ジアミノクロロベンゼンとの縮合より得られた生成物の混合物である、次の構造式で示されるもの、
【化６】
（３）
および、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と２，３−ジアミノナフタレンとの縮合より得られた生成物の混合物である、次の構造式で示されるものが挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。
【化７】
（４）
【００１９】
ビスベンゾイミダゾールペリノン類は、多くの方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１，２−アリーレンジアミンとを反応させて粗生成物を生成する方法で調製できる。これを単離および／または精製後、結晶化および／またはトレイン（train）昇華などの処理を行って、光発生体成分とする。これらの化合物の構造変異体は容易に調製可能である。所望ならばこれを、真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次のような反応スキームを用いることができる。
【化８】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２０】
このような化合物は、適当な方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物と等モル量（無水物に対し）または僅かに過剰量（無水物に対し）の１，２−ジアミノアリーレン化合物との、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度での、１工程、１容器反応で製造できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に、例えば、分別またはトレイン昇華および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの精製処理を行っても良い。
【００２１】
支持基材とその上の光発生層とを含み、光発生層が、次の構造式で示される１，８−ナフタレンベンゾイミダゾール（1,8-naphthalenebenzimidazole）またはそのダイマー類を含む光導電性部材コンポーネントを開示する。
【化９】
（４）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２２】
１，８−ナフタレンベンゾイミダゾール類の例としては、次の構造式で示されるものが挙げられる。
【化１０】
（５）
（６）
【００２３】
１，８−ナフタレンベンゾイミダゾール類は、多くの方法、例えば、１，８−ナフタレンジカルボン酸二無水物と１，２−アリーレンジアミンとを反応させて粗生成物を生成する方法で調製できる。これを単離および／または精製後、トレイン昇華による結晶化および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの処理を行って、光発生体成分とする。これらの化合物は多くの構造変異体が容易に調製可能である。所望ならばこれを、例えば真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次のような反応スキームを用いることができる。
【化１１】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２４】
このような化合物は、適当な方法、例えば、１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物と等モル量（無水物に対し）または僅かに過剰量の４，５−ジハロ−１，２−フェニレンジアミン化合物との、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（典型的に、例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度での、１工程、１容器反応で製造できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に、例えば、分別またはトレイン昇華および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの精製処理を行っても良い。
【００２５】
更に、支持基材とその上の光発生層とを含み、光発生層が、次の構造式で示されるイミドベンゾイミダゾールペリノン（imidobenzamidazoleperinone）またはそのダイマー類を含む光導電性部材コンポーネントを開示する。
【化１２】
（７）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２６】
イミドベンゾイミダゾールペリノン類の例としては次の構造式で示されるものが挙げられる。
【化１３】
（８）
（９）
【００２７】
イミドベンゾイミダゾールペリノン類は、多くの方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１，２−アリーレンジアミンとを反応させて、一無水物−モノイミダゾールを含む中間生成物を生成し、これを必要に応じて単離および精製する方法で調製できる。一無水物−モノイミダゾールを更に、例えば過剰の１級アルキルアミンとＮＭＰ中で反応させて粗生成物とし、一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に精製処理を行っても良い。これらの化合物は多くの構造変異体が容易に調製可能である。所望ならばこれを、例えば真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次の反応スキームを用いることができる。
【化１４】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００２８】
このような化合物は一般に、適当な方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と等モル量または僅かに過剰の１，２−アリーレンジアミンとを、塩基、例えば水酸化カリウム水溶液中で反応させて、中間体の一無水物−モノイミダゾールを生成する、２工程反応で製造できる。一無水物−モノイミダゾールを過剰の１級アルキルアミンと、例えば、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミン、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度で反応させて、所望のイミドベンゾイミダゾールペリノンを生成する。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に精製処理を行っても良い。
【００２９】
更に、支持基材とその上の光発生層とを含み、光発生層が、次の構造式で示される一無水物−モノベンゾイミダゾールペリノンまたはそのダイマー類を含む光導電性部材コンポーネントを開示する。
【化１５】
（１０）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を形成するように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００３０】
一無水物−モノベンゾイミダゾールペリノン類の例としては、次の構造式で示されるものが挙げられる。
【化１６】
（１１）
（１２）
【００３１】
一無水物−モノベンゾイミダゾールペリノン類は、多くの方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１モル当量（無水物に対して）の１，２−アリーレンジアミンとを、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミン、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（典型的に、例えば、約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度で反応させて粗生成物を生成する方法で調製できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術、例えば、まず粗生成物を水酸化カリウムなどの水酸化物塩基の水溶液に溶解して濾過し、適当なプロトン酸（例えば塩酸、硝酸など）で酸性化して一定時間加熱後、通常の濾過技術で取り出すことができる。この化合物を光発生体として用いる前に、分別またはトレイン昇華および／または適当な溶媒からの晶出および／または不要な不純物の溶解に適した熱または冷溶媒中での撹拌などの精製処理を行っても良い。これらの化合物は多くの構造変異体が容易に調製可能である。所望ならばこれを、真空蒸着などにより感光体デバイス中の発生体層としても良い。例えば、次の反応スキームを用いることができる。
【化１７】
【００３２】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、炭化水素、およびハロゲンから成る群より独立して選ばれ、炭化水素は必要に応じて置換され、あるいは環を形成するよう配置されている。アルキルは約１〜約２５個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアルキル成分の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびより炭素数の多い直鎖アルキル基が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。必要に応じてアルキル成分を、単環または多環系を成すように配置する。アリールは約６〜約４８個の炭素原子を含むよう選ぶことができる。適当なアリール成分の例としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、またはより炭素数の多い縮合芳香環系が挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ぶことができる（但し、これらに限定するものではない）。更に、水素を選んでも良い。
【００３３】
このような化合物は一般に、適当な方法、例えば、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と１モル当量（無水物に対して）の１，２−アリーレンジアミンとを、適度に沸点の高い極性溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミン、ｍ−クレゾールなど）中、一般に触媒（典型的に、例えば約１〜約１０モル％の量の、亜鉛、アルミニウム、鉄、ガリウム、スズなどの塩より選ばれる）存在下、約１５０〜約２００℃の温度で反応させて粗生成物を生成する方法で製造できる。一定時間反応温度に置いた後、反応混合物を放冷し、通常、イソプロパノールなどのアルコールで希釈する。一般にアルコールに不溶な粗生成物は、通常の濾過技術、例えば、まず粗生成物を水酸化カリウムなどの水酸化物塩基の水溶液に溶解して濾過し、適当なプロトン酸（例えば、塩酸、硝酸など）で酸性化して一定時間加熱後、通常の濾過技術で取り出すことができる。あるいは、例えば、この化合物を光発生体として用いる前に精製処理を行っても良い。実施の形態では、以下のものを提示する。光発生層の厚さが約０．１〜約６０μｍまたは１〜約３０μｍであり、光発生体成分の量がバインダの約０．０５〜約９０重量％または約２０〜約９０重量％であり（成分の合計は約１００％）、光発生体成分が約１０〜約７５重量％のポリマーバインダ中に分散している部材。；約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの波長の光を吸収し、支持基材が金属を含む伝導性基材から成り、伝導性基材が、アルミニウム、アルミニウム化ポリエチレンテレフタラートまたはチタン化ポリエチレンテレフタラート、あるいは、金属層が１種類の金属または金属混合物から成る金属化プラスチックフィルムであって、プラスチックフィルムが、支持基材として作用するのに適した機械的性質を備えたフィルムであり、光発生体バインダが、ポリエステル類、ポリビニルブチラール類、ポリカーボネート類、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン、およびポリビニルホルミル（formyl）類から成る群より選ばれる部材。；電荷輸送層がアリールアミン分子を含む正孔輸送層であり、この層が約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの放射に対して透明である画像形成部材。；画像形成部材上に静電潜像を生成する工程と、潜像を現像する工程と、現像した静電画像を適当な被印刷体に転写する工程と、を含む画像形成法であって、画像形成部材を約３５０〜約４５０ｎｍまたは約３７０〜約４２５ｎｍの波長の光に露光する画像形成法。
【００３４】
光発生層の厚さは、約０．１〜約６０μｍまたは約１〜約３０μｍ、電荷輸送層の厚さは、約５〜約２００μｍ、約１０〜約１００μｍ、または約１５〜約３０μｍとすることができ、それぞれの層は、約１０〜約７５重量％のポリマーバインダを含むものとすることができ、光発生層（光発生成分）は、約１０〜約７０重量％の量とすることができ、バインダは、約３０〜約９０重量％の量とすることができる。
【００３５】
光発生成分および電荷輸送成分は、適当なバインダ、例えば、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリビニルブチラール、ポリシロキサン類、およびポリウレタン類などのポリマーバインダ中に分散している。光発生顔料は、様々な含有量、例えば約０．０５〜約９０重量％、約１０〜約９０重量％、または約１５〜約５０重量％とすることができ、ポリマーバインダの含有量は、約１０〜約９０重量％、約２５〜約７５重量％、または約２５〜約５０重量％とすることができる。この層の厚さは、例えば約０．１〜約６０μｍまたは約１〜約３０μｍとすることができる。
【００３６】
更に、適当な接着層を用いても良く、この層は、例えば基材と単一層の間に設けることができる。接着剤の例としては、ＶＩＴＥＬ（登録商標）ＰＥ１００およびＰＥ２００（グッドイヤー・ケミカルズ（Goodyear Chemicals）製）またはＭＯＲ−ＥＳＴＥＲ４，９０００（登録商標）（ノートン・インターナショナル（Norton International）製）などのポリエステル類が挙げられる。この接着層は、テトラヒドロフランおよび／またはジクロロメタンなど適当な溶媒を用いて支持基材上に被覆でき、その厚さの範囲は、例えば約０．００１〜約５μｍ、約０．１〜約３μｍとすることができる。
【００３７】
光導電性画像形成部材は、成分を分散液として被覆するなど、多くの方法で経済的に調製可能である。感光性画像形成部材は多くの公知の方法で調製でき、その加工パラメータは、例えば所望とされる部材に応じて変わる。画像形成部材に用いられる光発生および電荷輸送成分は、溶液または分散液として、スプレーコータ、浸漬コータ、押出コータ、ローラコータ、巻き線棒コータ、スロットコータ、ドクターブレードコータ、グラビアコータなどを用いて選定した基材上に被覆し、例えば約４０〜約２００℃の温度で適当な時間、例えば約１０分〜約１０時間、静止状態または気流中で乾燥することができる。被覆は、最終的なコーティングの厚さが、例えば、乾燥後で約０．０１〜約３０μｍとなるように行うことができる。所定の光導電層に関する製造条件は、最終的な部材が最良の性能とコストで得られるよう調整することができる。実施の形態において、被覆はまた、例えば約４０〜約１５０℃で、例えば約５〜約９０分間乾燥した後の光発生層の最終乾燥厚さが、例えば約０．１〜約５０μｍまたは約１〜約１０μｍとなるよう、スプレー、浸漬、または巻き線棒法で行っても良い。
【００３８】
本画像形成部材のために選定される基材層の例は、不透明またはほぼ透明で、必要な機械的性質を備えた適当な材料から成るもので良い。基材は、無機または有機ポリマー材料（例えば、市販のポリマーであるＭＹＬＡＲ（登録商標）、チタン含有ＭＹＬＡＲ（登録商標）など）を含む絶縁材料の層、インジウムスズオキシドなどの半導体表面層を備えた、またはその上にアルミニウムを配置した有機または無機材料の層、あるいは、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、ジルコニウム、真鍮など（但し、これらに限定するものではない）の導電性材料を含むものであっても良い。基材は、可撓性、シームレス、または堅牢であって、例えば、板状、円筒形ドラム、スクロール、エンドレス可撓性ベルトなど、多くの様々な形状を持つ。ある実施の形態では、基材はシームレス可撓性ベルトの形である。基材が可撓性の有機ポリマー材料などである場合、基材の裏側に、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）として市販のポリカーボネート材料などの抗カール層を被覆することが好ましい。
【００３９】
基材層の厚さは、経済的考慮など多くの要因に応じて決まるため、この層は、相当な厚さ、例えば３，０００μｍ以上、または最小の厚さとすることができる。ある実施の形態では、この層の厚さは約７５〜約３００μｍである。
【００４０】
支持基材に接する層の厚さは、基材の厚さや単一層に含まれる成分の量など、多くの要因に応じて決まる。従ってこの層の厚さは、例えば約０．１〜約５０μｍ、約１〜約１０μｍとすることができる。実施の形態では、この層の最大厚さは主に、感光性、電気的性質、および機械的考慮などの要因に応じて決まる。バインダ樹脂は、様々な適当な量、例えば約５〜約７０重量％、約１０〜約５０重量％とすることができ、また、ポリビニルブチラール、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル類、 ポリカーボネート類、ポリ塩化ビニル、ポリアクリラート類およびポリメタクリラート類、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン類、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル（polyarylonitrile）、ポリスチレンなど、多くの公知のポリマーを含むことができる。単一層の被覆に用いる溶媒は、例えば、ケトン類、アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、エーテル類、アミン類、アミド類、エステル類などを含むことができる。例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸メトキシエチルなどが挙げられる（但し、これらに限定するものではない）。
【００４１】
通常、支持基材に接している必要に応じた接着層は、本件に示すポリエステル類、ポリアミド類、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、およびポリアクリロニトリルなど、様々な公知の物質とすることができる。この層は適当な厚さ、例えば約０．００１〜約２５μｍの厚さである。必要に応じてこの層に、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化ケイ素、カーボンブラックなどの導電性および非導電性粒子を、効果的で適当な量、例えば約１〜約１０重量％加えて、例えば実施の形態において、更に好ましい電気的および光学的性質とする。
【００４２】
光発生層に接している正孔輸送層に用いるためのアリールアミン類としては、次の構造式で示される分子が挙げられる。
【化１８】
式中、Ｒ１〜Ｒ１５は、アルキル、置換アルキル、アルコキシ、アルコキシルアルキル、フェニル、ナフチルおよびより炭素数の多い芳香族化合物（例えばアントラセン）、他の縮合芳香環系（例えばカルバゾール）、スチルベン、ハロゲン、および水素などから成る群より独立して選ばれる。Ｒ１〜Ｒ１５のそれぞれは、合計原子数が約１〜約５０、約１〜約１０、または約１〜約５となるよう選ぶことができる。Ｒ１〜Ｒ１５は、Ｒ１〜Ｒ１５の少なくとも１つが、アルコキシ（例えばメトキシ）またはアルキル（例えばメチル）であるように選ぶことができる。ある特定の実施の形態では、ビス（３，４−ジメチルフェニル）−４−メトキシフェニルアミンまたはトリトリルアミンを含む。別の特定の実施の形態では、上記のもののダイマー類であるがベンジジン型でないもの、例えば１，１−ビス（ジ−４−トリルアミノフェニル）シクロヘキサンを含む。更に別の実施の形態では、アリールアミン化合物の混合物の例、例えばトリトリルアミンと１，１−ビス（ジ−４−トリルアミノフェニル）シクロヘキサンとの混合物を用いることができる。
【００４３】
その他公知の電荷輸送分子を使用することができる。
【００４４】
正孔輸送分子に対するポリマーバインダの例としては、ポリカーボネート類、アクリラートポリマー類、ビニルポリマー類、セルロースポリマー類、ポリエステル類、ポリシロキサン類、ポリアミド類、ポリウレタン類、およびエポキシ類、またそのブロック、ランダム、または交互共重合体が挙げられる。分子量約２万〜約１０万または約５万〜約１０万のポリカーボネート樹脂を含む電気的に不活性なバインダ類を選ぶことができる。
【００４５】
更に、感光性または光導電性部材を用いた、一般に、画像形成部材上に静電潜像を生成する工程と、次に、例えば、熱可塑性樹脂と、顔料などの着色剤と、電荷添加剤と、表面添加剤とを含むトナー組成物を用いてこの画像を現像する工程と、次に、画像を適当な被印刷体に転写する工程と、例えば熱によって画像をそれに恒久的に定着する工程とを含む、画像形成および印刷法を含む。この部材を印刷用に用いる場合、露光工程をレーザーデバイスまたはイメージバーで行う以外、画像形成法は同じである。
【実施例】
【００４６】
＜実施例１＞
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物（１当量）と、３，４−ジアミノトルエン（２．５当量）と、酢酸亜鉛（II）（５モル％）とを、Ｎ−メチル−１，２−ピロリドン（ＮＭＰ）（固体量１０重量％）中で５時間加熱還流し、室温まで放冷して濾過した。濾過ケークをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２０ｍｌ×３回）とメタノール（２０ｍｌ×３回）で洗い、減圧下（約１０ｍｍＨｇ）約８０℃で一晩乾燥して、２．５ｇの、構造（２）を持つビスベンゾイミダゾールペリノンを得た。２．５ｇのビスベンゾイミダゾールペリノンを、当業者に公知（例えば、H. J. Wagner, R. O. Loutfy and C.-K. Hsaio, J. Mater. Sc. 17, 2781, 1982に記載）のような、トレイン（train）昇華によって精製し、２ｇのビスベンゾイミダゾールペリノンを得た。その純度と絶対同定は、主に１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてＣＤＣｌ３／ＴＦＡ−ｄ（３／１ｖ／ｖ）（容量比３：１で混合した重水素化クロロホルムと重水素化トリフルオロ酢酸との混合物）、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００４７】
＜実施例２＞
５０００Åの薄膜は、Ｂａｌｚｅｒ ＢＡＥ０８０（登録商標）コータ中での真空蒸着により調製した。実施例１に記載の化合物をタンタル製ボートに載せ、充填後栓をした。蒸発の間、系の圧力を＜１０−５ｍｍＨｇで安定に保った。顔料の昇華が始まる温度に達するまでボートを徐々に加熱した。厚さ７５μｍのチタン化ＭＹＬＡＲ（登録商標）基材（この基材は上部に厚さ０．１μｍのシラン層を備えている）を源の上に置き、石英結晶モニターで観測しながら２〜４Å／秒の制御した速度で顔料蒸気を蒸着させた。
【００４８】
＜実施例３＞
７０ｇの１／８”（約３．２ｍｍ）ステンレススチール製ショットを加えた３０ｍｌのガラス瓶に、０．２ｇの、実施例１に記載の化合物と、０．０５ｇのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール（ＰＶＫ）と、１０．５ｇのジクロロメタンとを入れ、ロールミル上に置いて３日間穏やかに回転させて混合した。間隙幅１．５ミル（約３８．１μｍ）のフィルムアプリケータを用いて、厚さ７５μｍのチタン化ＭＹＬＡＲ（登録商標）基材（この基材は上部に厚さ０．１μｍのシラン層を備えている）上に顔料分散液を被覆した。その後、生成した光発生体層を、強制換気オーブン中１３５℃で２０分間乾燥した。
【００４９】
＜実施例４＞
２．０２５ｇのポリカーボネート（ＰＣ（Ｚ）４００）と、０．６７５ｇのトリトリルアミンと、０．６７５ｇの１，１−ビス（Ｎ，Ｎ−ジトリル−４−アミノフェニル）シクロヘキサンと、１５．３８ｇのジクロロメタンとを混合して、輸送層溶液を調製した。生成した溶液を、間隙幅１０ミル（２５４μｍ）のフィルムアプリケータを用いて上記の光発生層上に被覆した。得られた光導電性部材を強制換気オーブン中１３５℃で２０分間乾燥した。輸送層の最終乾燥厚さは２５μｍであった。
【００５０】
＜実施例５＞
上記で調製した光導電性画像形成部材と他の類似の部材の電子写真における電気的性質は、表面電位が約−８００ボルト（電位計に接続した容量結合プローブで測定）の初期値Ｖ０に達するまで、コロナ放電源を用いてその表面を静電気によって荷電するなど、公知の手段で求めることができる。暗所中に０．５秒間置いた後の荷電部材は、Ｖｄｄｐ（暗現像電位）の表面電位を保持している。次に、それぞれの部材をフィルタに通したキセノンランプからの光に露光すると、光放電が誘発されて表面電位がＶｂｇ値（バックグラウンド電位）に低下する。光放電の割合は、１００×（Ｖｄｄｐ−Ｖｂｇ）／Ｖｄｄｐとして算出した。露光光の所望の波長とエネルギーは、ランプの前に置くフィルタの種類により決定した。単色光感光性は、狭帯域通過フィルタを用いて求めた。画像形成部材の感光性は一般に、Ｖｄｄｐからその初期値の半分まで５０％光放電させるために必要な露光の量（Ｅ１／２で表す）（エルグ／ｃｍ２）で表される。感光性が高いとＥ１／２値は小さくなる。最後にデバイスを適当な光強度の消去ランプで露光し、残留電位（Ｖｒｅｓｉｄｕａｌ）を測定した。画像形成部材は、４００ｎｍの波長の露光用単色光と、約４００〜約８００ｎｍの波長の消去用広帯域光を用いて試験した。
【００５１】
＜比較例１＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の３，４−ジメチル−１，２−フェニレンジアミンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【００５２】
＜比較例２＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の２，３−ジアミノナフタレンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【００５３】
＜比較例３＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の４−クロロ−１，２−フェニレンジアミンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【００５４】
＜比較例４＞
３，４−ジアミノトルエンを等量（モルで）の１，２−フェニレンジアミンに変える以外は実施例１に記載の方法と同じ手法で行った。
【表１】
ＤＤ＝暗減衰；Ｓ＝感度；Ｅ１／２＝電荷を初期値の１／２に低下させる露光；Ｅ７／８＝電荷を初期値の７／８に低下させる露光；Ｖｒ＝残留電位
【００５５】
実施例１の顔料を用いて実施例４の方法で製造した光導電性画像形成部材は、負に荷電した場合、暗減衰が２ボルト／秒、感度が８５Ｖエルグ／ｃｍ２、Ｅ１／２が５．５４エルグ／ｃｍ２、Ｖｒｅｓｉｄｕａｌが１７ボルトであった。この部材は４００ｎｍの波長の青色光に感度を持つものであった。この波長は、キセノンランプの前に置いた４００ｎｍ単帯域通過フィルタより発生させた。
【００５６】
実施例２の顔料を用いて実施例４の方法で製造した光導電性画像形成部材は、負に荷電した場合、暗減衰が２ボルト／秒、感度が７６Ｖエルグ／ｃｍ２、Ｖｒｅｓｉｄｕａｌが１４ボルトであった。この部材は４００ｎｍの波長の青色光に感度を持つものであった。この波長は、キセノンランプの前に置いた４００ｎｍ単帯域通過フィルタより発生させた。
【００５７】
＜実施例６＞
【化１９】
１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物（９．９ｇ、０．０５モル）と、４，５−ジクロロ−１，２−ジクロロフェニレンジアミン（８．５ｇ、０．０５モル）と、酢酸亜鉛（II）（２．２ｇ、０．０１モル）とを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）（２０ｍｌ）中で５時間加熱還流し、室温まで放冷して濾過した。濾過ケークをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（５０ｍｌ×３回）とメタノール（５０ｍｌ×３回）で洗い、減圧下（約１０ｍｍＨｇ）約８０℃で一晩乾燥して、２．１ｇの、構造（５）を持つ１，８−ナフタレンベンゾイミダゾールを得た。２．１ｇの１，８−ナフタレンベンゾイミダゾールを、当業者に公知のトレイン昇華によって精製し、１．８ｇの１，８−ナフタレンベンゾイミダゾールを得た。その純度と絶対同定は、主に１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてＣＤＣｌ３／ＴＦＡ−ｄ（３／１ｖ／ｖ）、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００５８】
＜実施例７＞
【化２０】
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸（６０．８ｇ、０．２モル）と、酢酸亜鉛（II）無水物（６ｇ）とを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＮＭＰ）（８００ｍｌ）中で加熱還流し、粉末の１，２−フェニレンジアミン（２１．６ｇ、０．２モル）を２時間かけて加え、１，２−フェニレンジアミンの添加完了後１時間還流を続け、その後放冷して固体を取り出した。この固体を、水酸化カリウム（３３ｇ）を加えた水（１リットル）に入れて８０℃に加熱し、濾過して不溶物を除いた。濾液に濃リン酸（３５ｍｌ）を加えて酸性化し、生成した懸濁液を９０℃で２時間加熱後、固体を除いて凍結乾燥し、モノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノン（４０．４６ｇ）を得た。モノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノンの純度と絶対同定は、主に１Ｈおよび１３Ｃ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてジメチルスルホキシド−ｄ６、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。３．４ｇのモノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノン化合物をｎ−ブチルアミン（１．０９ｇ）およびＮＭＰ（１２ｍｌ）中で５時間加熱還流し、室温まで放冷して濾過した。濾過ケークをＤＭＦ（２０ｍｌ×３回）とメタノール（２０ｍｌ×３回）で洗い、減圧下（約１０ｍｍＨｇ）約８０℃で一晩乾燥して、３．６ｇの、構造（８）を持つイミドベンゾイミダゾールペリノンを得た。２．４５ｇのイミドベンゾイミダゾールペリノンを、当業者に公知のトレイン昇華によって精製し、１．８ｇのイミドベンゾイミダゾールペリノンを得た。その純度と絶対同定は、主に１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてＣＤＣｌ３／ＴＦＡ−ｄ（３／１ｖ／ｖ）、内標準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００５９】
＜実施例８＞
【化２１】
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸（６０．８ｇ、０．２モル）と、酢酸亜鉛（II）（６ｇ）とを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８００ｍｌ）中で加熱還流し、粉末の１，２−フェニレンジアミン（２１．６ｇ、０．２モル）を２時間かけて加え、添加完了後１時間還流を続け、その後室温まで放冷して生成した固体を集めた。この固体を、水酸化カリウム（３３ｇ）を加えた水（１リットル）に入れ、８０℃で２時間加熱後濾過した。濾液に濃リン酸（３５ｍｌ）を加えて酸性化し、生成した懸濁液を９０℃で２時間加熱し、適当な方法で固体を除いて凍結乾燥し、モノベンゾイミダゾール−一無水物ペリノン（４０．４６ｇ）を得た。その純度および絶対同定は、主に１Ｈおよび１３Ｃ核磁気共鳴スペクトル法（溶媒としてジメチルスルホキシド−ｄ６、内標準としてとしてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用）と元素分析を用いて確認した。
【００６０】
先に述べた、またその他の様々な特徴および機能、あるいはその変更は、多くの他の様々な装置および用途に好ましく組み合わせられることは明らかである。更に、今後当業者によって行われる、現在まだ予見または予想されていないその様々な変更、変形、変化、または改良も、添付の請求項に包含されるものとする。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の構造式を持つ化合物であって、
【化１】
（１）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、および炭化水素から成る群より独立して選ばれることを特徴とする化合物。
【請求項２】
次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノン（bisbenzamidazoleperinon）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【化２】
【請求項３】
次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含むことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【化３】
【請求項４】
次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含むことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【化４】
【請求項１】
次の構造式を持つ化合物であって、
【化１】
（１）
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４のそれぞれは同じまたは異なるものであって、水素、アルキル、アリール、および炭化水素から成る群より独立して選ばれることを特徴とする化合物。
【請求項２】
次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノン（bisbenzamidazoleperinon）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【化２】
【請求項３】
次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含むことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【化３】
【請求項４】
次の構造式で示されるビスベンゾイミダゾールペリノンを含むことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【化４】
【公開番号】特開２００７−１６１７１１（Ｐ２００７−１６１７１１Ａ）
【公開日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３４２６２（Ｐ２００６−３３４２６２）
【出願日】平成１８年１２月１２日（２００６．１２．１２）
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１２日（２００６．１２．１２）
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
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