処理ステージ装置及びそれを用いる塗布処理装置
【課題】被処理基板の処理ステージ装置及びそれを用いる塗布処理装置において、処理動作のタクトタイムを短縮する。
【解決手段】基板搬入部２は、ガラス基板Ｇを水平に搬送可能な第１の基板搬送部５Ｂと、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させる第１の進退手段１０とを有し、前記基板処理部は、ステージ１５と、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部１６と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させる第２の進退手段２４，２５とを有し、前記基板搬出部は、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部２９と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させる第３の進退手段３０とを有する。
【解決手段】基板搬入部２は、ガラス基板Ｇを水平に搬送可能な第１の基板搬送部５Ｂと、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させる第１の進退手段１０とを有し、前記基板処理部は、ステージ１５と、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部１６と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させる第２の進退手段２４，２５とを有し、前記基板搬出部は、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部２９と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させる第３の進退手段３０とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理ステージ装置、及びそれを用いる塗布処理装置に関し、特に、処理動作のタクトタイムを短縮可能な処理ステージ装置及び塗布処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する方法として、スリット状のノズル吐出口からレジスト液を帯状に吐出し、レジストを基板上に塗布する方法がある。
この方法を用いた従来のレジスト塗布装置について、図２１を用いて簡単に説明する。図２１に示すレジスト塗布装置２００は、Ｘ方向に長く延設されたステージ２０１と、このステージ２０１の上方に配備されるレジスト供給ノズル２０２と、このレジスト供給ノズル２０２を移動させるノズル移動手段２０３とを具備している。
【０００４】
前記ステージ２０１の上面には、複数のガス噴射口２１０とガス吸引口２１１とが設けられている。ガラス基板Ｇは、ガス噴射口２１０から噴射されたガスにより、或いは、前記噴射されたガスがガス吸引口２１１から吸引され形成されるガス流によりステージ上に浮上するようになっている。
また、レジスト供給ノズル２０２には、基板の幅方向に延びる微小隙間を有するスリット状の吐出口２０２ａが設けられ、レジスト液供給源２０４から供給されたレジスト液を吐出口２０２ａから吐出するようになされている。
【０００５】
また、ステージ２０１上に浮上するガラス基板Ｇは、その左右両側が一対の基板搬送部２０５により保持され、基板搬送部２０５は、ステージ２０１の左右両側に敷設された一対のレール２０６に沿って（Ｘ方向に）移動可能となされている。
また、ステージ２０１上の基板搬入領域２０１ａ、及び基板搬出領域２０１ｂには、それぞれ複数の（図では４本の）昇降可能なリフトピン２０７が設けられ、このレジスト塗布装置２００へのガラス基板Ｇの搬入出時にガラス基板Ｇはリフトピン２０７上に一時的に載置されるようになっている。
【０００６】
このように構成されたレジスト塗布装置２００において、ガラス基板Ｇへのレジスト液の塗布処理は、次のように行われる。
先ず、基板搬入領域２０１ａにおいてリフトピン２０７が上方に突出され、塗布処理前のガラス基板Ｇが搬送ロボットのアーム（図示せず）によって前記リフトピン２０７上に載置される。
次いで、ガラス基板Ｇの左右縁部が基板搬送部２０５によって保持される。ここで、ガラス基板Ｇの下面にはガス噴射口２１０からのガス噴射が吹き付けられ、ガラス基板Ｇはステージ２０１上に浮上した状態となされる。
そして、リフトピン２０７が下降すると、ガラス基板Ｇは基板搬送部２０５によって基板処理領域２０１ｃに移動される。
【０００７】
基板処理領域２０１ｃにおいては、ガラス基板Ｇは所定の速度でＸ方向に搬送される。それに対し、基板上方に配置されたレジスト供給ノズル２０２は、ノズル移動手段２０３によって基板搬送方向とは逆の方向に移動され、それと同時に基板面に対しレジスト液を吐出する。尚、この基板処理領域２０１ｃでは、ガス噴射口２１０から噴射されたガスがガス吸引口２１１に吸引されてステージ上に所定のガス流が形成されており、ガラス基板Ｇはそのガス流上で安定した状態で浮上搬送される。
【０００８】
基板上にレジスト膜が形成されたガラス基板Ｇは、基板搬送部２０５によって基板搬出領域２０１ｂまで搬送され、そこでリフトピン２０７が上昇すると共に、ガス噴射口２１０からのガス噴射が停止される。また、ガラス基板Ｇは基板搬出領域２０１ｂにおいて、リフトピン２０７により支持され、基板搬送部２０５による保持状態が解除される。
そして、レジスト膜が形成されたガラス基板Ｇは、搬送ロボットの搬送アーム（図示せず）により後段の処理装置に搬出される。
尚、このようなレジスト塗布装置２００については、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−８０９８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
前記のようにレジスト塗布装置２００の構成においては、ステージ２０１に対しガラス基板Ｇを搬入出する際にリフトピン２０７が昇降移動され、リフトピン２０７上にガラス基板Ｇが一時的に載置される。更には、基板搬入領域２０１ａのリフトピン２０７にガラス基板Ｇを載置する際、及び基板搬出領域２０１ｂのリフトピン２０７に載置されたガラス基板Ｇを搬出する際、搬送ロボットのアーム（図示せず）が駆動され、前記アームによりガラス基板Ｇが搬送される。
しかしながら、そのような構成にあっては、基板処理領域２０１ｃへの基板搬入の際、及びステージ２０１からの基板搬出の際に、基板搬送が滞るという課題があった。そのため、基板搬入出の際に生じる被処理基板の滞留時間を低減し、処理動作のタクトタイムを短縮可能な構成が求められていた。
【００１１】
前記課題を解決するものとして、従来から、コロ搬送などにより被処理基板を水平な状態で、且つ水平方向に（以後、これを平流しと記載する）搬入し、平流し搬送しながら基板幅方向に延びるノズル吐出口からレジスト液を基板上に吐出して塗布し、平流し搬送により後段に搬出する構成がある。前記構成の場合、基板搬入出の際に基板が滞留することがなく、処理動作のタクトタイムを短縮することができる。
しかしながら、そのような構成にあっては、ノズルは基板搬送方向に移動可能な構成であるため、ノズルのメンテナンス処理（ノズル吐出口に付着するレジスト液の状態を整えるプライミング処理など）を行うノズル待機部が基板搬送路上に配置される。そのため、ノズルのメンテナンス処理を行う際、ノズル吐出口に付着し乾燥したレジストのパーティクル等が下方に落ち、基板搬送路に付着して被処理基板を汚染する虞があった。
【００１２】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板に所定の処理を施すための処理ステージ装置、及びそれを用いる塗布処理装置において、処理動作のタクトタイムを短縮することができる処理ステージ部を提供し、また、前記処理ステージ装置を塗布処理装置に適用した際、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止することのできる塗布処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記した課題を解決するために、本発明に係る処理ステージ装置は、被処理基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部に前記基板を搬入する基板搬入部と、前記基板処理部から前記基板を搬出する基板搬出部とを備える処理ステージ装置であって、前記基板搬入部は、前記基板を水平に搬送可能な第１の基板搬送部と、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、前進位置において前記第１の基板搬送部上の被処理基板を前記基板処理部に搬入可能とする第１の進退手段とを有し、前記基板処理部は、前記基板搬入部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記基板に所定の処理を施すための載置面を有するステージと、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させることにより前記基板を前記第２の搬送部上または前記ステージの載置面上に載置する第２の進退手段とを有し、前記基板搬出部は、前記基板処理部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、後退位置において前記基板処理部から前記第３の基板搬送部に被処理基板を搬出可能とする第３の進退手段とを有することに特徴を有する。
尚、前記基板処理部において、前記ステージの載置面には、前記第２の進退手段により前記第２の基板搬送部が下降した際、前記第２の基板搬送部を収容可能な溝部が設けられていることが望ましい。
また、前記第１乃至第３の基板搬送部は、それぞれコロ搬送により前記被処理基板を水平に搬送する構成とすることができる。
【００１４】
このように構成によれば、前記基板処理部への基板搬入の際には、前記基板搬入部の第１の基板搬送部が前進移動し、前記第１の基板搬送部から基板処理部の第２の基板搬送部に被処理基板が搬入される。一方、前記基板処理部からの基板搬出の際には、前記基板搬出部の第３の基板搬送部が後退移動し、基板処理部の第２の基板搬送部から前記第３の基板搬送部に被処理基板が搬出される。
また、前記基板処理部においては、前記第２の基板搬送部がステージに対し相対的に上昇位置にあることにより、被処理基板の搬入出が可能となり、第２の基板搬送部がステージに対し相対的に下降することにより、被処理基板がステージの載置面に載置される。
この構成により、従来の基板搬入出の際にリフトピンなどにより被処理基板を一時的に保持するステップ、及び搬送アームにより被処理基板を搬送するステップ等が不要となる。その結果、ステージに対し搬入出を行う際に生じる被処理基板の滞留時間が大幅に低減され、処理動作のタクトタイムを短縮することができる。
【００１５】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布処理装置は、前記処理ステージ装置を用い、被処理基板に処理液を塗布する塗布処理装置であって、前記基板処理部において、一方向に延びる吐出口を有し、前記ステージの載置面に載置された被処理基板の上方を移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズルと、前記ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記基板処理部の側方に設けられ、前記ノズル移動手段により前記基板処理部の側方に移動された前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段とを備えることに特徴を有する。
このようにノズル吐出口の状態を整えるノズル待機部が基板処理部の側方に配置されるため、ノズルのメンテナンス処理の際、パーティクルなどが基板搬送路上に落ちることがなく被処理基板の汚染を防止することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、被処理基板に所定の処理を施すための処理ステージ装置、及びそれを用いる塗布処理装置において、処理動作のタクトタイムを短縮することができる処理ステージ部を提供し、また、前記処理ステージ装置を塗布処理装置に適用した際、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止することのできる塗布処理装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明に係る処理ステージ装置の全体構成を示す図であって、図１（ａ）は処理ステージ装置の第１の状態を示す平面図、図１（ｂ）はその側面図である。
【図２】図２は、本発明に係る処理ステージ装置の全体構成を示す図であって、図２（ａ）は処理ステージ装置の第２の状態を示す平面図、図２（ｂ）はその側面図である。
【図３】図３は、図１，図２の処理ステージ装置が備えるステージ部及びコロ搬送部を拡大した平面図である。
【図４】図４は、図３のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図５】図５は、図１の処理ステージ装置を用いる塗布処理装置の概略構成を示し、図５（ａ）は平面図、図５（ｂ）はその基板搬送方向に沿った断面図である。
【図６】図６は、図５に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図７】図７は、図６に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図８】図８は、図７に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図９】図９は、図８に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１０】図１０は、図９に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１１】図１１は、図１０に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１２】図１２は、図１１に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１３】図１３は、図１２に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１４】図１４は、図１の処理ステージ装置が備える基板処理部の変形例を示す平面図である。
【図１５】図１５は、図１４のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図１６】図１６は、図１の処理ステージ装置が備えるステージ部及びコロ搬送部の変形例を示す平面図である。
【図１７】図１７は、図１６の一部を拡大して示す断面図である。
【図１８】図１８は、図１６の一部を拡大して示す断面図であり、アライメントの一連の動作を説明するための状態遷移を示す図である。
【図１９】図１９（ａ）〜（ｃ）は、基板搬入部及び基板搬出部の変形例であって、その一連の動作を模式的に示す断面図である。
【図２０】図２０（ａ）〜（ｃ）は、図１９（ａ）〜（ｃ）に続く一連の動作を模式的に示す断面図である。
【図２１】図２１は、従来のレジスト塗布装置の概略構成を説明するための斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の処理ステージ装置にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。図１、図２は、本発明に係る処理ステージ装置の全体構成を示す図であって、図１（ａ）は処理ステージ装置の第１の状態を示す平面図、図１（ｂ）はその側面図である。また、図２（ａ）は処理ステージ装置の第２の状態を示す平面図、図２（ｂ）はその側面図である。
【００１９】
図１、図２に示す処理ステージ装置１００は、被処理基板である例えばガラス基板Ｇを載置して所定の処理を施すための基板処理部１と、基板処理部１にガラス基板Ｇを搬入する基板搬入部２と、基板処理部１からガラス基板Ｇを搬出する基板搬出部３とを備える。
図１に示すように、基板搬入部２と基板搬出部３とは、それぞれ基板搬送方向Ａに沿って、基板処理部１に対し所定の距離を空けて配置されている。
【００２０】
基板搬入部２は、基板搬送方向に沿って配置された前段部２Ａと後段部２Ｂとで構成される。前段部２Ａと後段部２Ｂとにおいては、それぞれ架台４上に第１の基板搬送部であるコロ搬送部５Ａ、５Ｂが敷設されている。コロ搬送部５Ａ，５Ｂは、基板搬送方向Ａに沿って並列に複数のコロ軸６が回転自在に配備され、各コロ軸６に複数のコロ７が設けられている。コロ搬送部５Ａとコロ搬送部５Ｂとには、それぞれ各コロ軸６の一端側が係合する駆動軸８、９が設けられ、駆動軸８，９の回転によって、各コロ軸６はガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作する。前記駆動軸８、９は、それぞれ駆動モータＭ１、Ｍ２によって回転駆動するように構成されている。
【００２１】
また、後段部２Ｂにおいては、架台４とコロ搬送部５Ｂとの間に、コロ搬送部５Ｂを基板搬送方向に沿って前後移動させるスライド機構１０（第１の進退手段）が設けられている。このスライド機構１０は、架台４上に基板搬送方向Ａに沿って敷設されたレール１１と、レール１１上を移動自在に設けられると共にコロ搬送部５Ｂを支持するスライダ１２と、スライダ１２をレール１１に沿って移動させる駆動源としてのエアシリンダ１３とにより構成される。
【００２２】
即ち、図１及び図２に示すように、エアシリンダ１３のピストン軸１３ａが、シリンダ１３ｂに対し進退動作することにより、スライダ１２上に配置されたコロ搬送部５Ｂが基板処理部１に向けて前後移動するようになっている。具体的には、コロ搬送部５Ｂが後退位置にあるときは（図１の状態）、コロ搬送部５Ａからコロ搬送部５Ｂへの基板搬送が可能な状態となされる。また、コロ搬送部５Ｂが前進位置にあるときは（図２の状態）、コロ搬送部５Ｂから基板処理部１への基板搬送が可能な状態となされる。
尚、基板搬入部２において、Ｍ１及びエアシリンダ１３は、図示しない制御手段により所定のタイミングで駆動するよう制御される。また、本実施形態においては、コロ搬送部５Ｂの進退動作はエアシリンダ１３の駆動により行うものとしたが、それに限定することなく例えばベルト駆動によりコロ搬送部５Ｂを進退動作させる構成としてもよい。
【００２３】
基板処理部１は、架台１４上にガラス基板Ｇを載置するためのステージ部１５が設けられ、その周囲に第２の基板搬送部であるコロ搬送部１６が設けられている。
それらステージ部１５及びコロ搬送部１６の構成について、さらに図３、図４を用いて説明する。図３は、ステージ部１５及びコロ搬送部１６を拡大した平面図、図４は図３のＢ−Ｂ矢視断面図である。
ステージ部１５は、図３に示すように平面視において略長方形状であり、その基板載置面（上面）は、ガラス基板Ｇの被処理面が撓むことなく載置可能な大きさに形成されている。また、ステージ部１５の基板載置面（上面）において、その左右縁部には、基板幅方向に所定の長さを有する複数の溝部１５ａが基板搬送方向Ａに沿って並列に形成されている（図面では片側に５つの溝部１５ａ）。この溝部１５ａは、ステージ部１５の載置面（上面）側及び側面側から凹設され、前記コロ搬送部１６が有する所定長さのコロ軸１７及びそれに設けられたコロ１８が収容可能な形状となされている。
【００２４】
コロ搬送部１６が有する前記コロ軸１７は、その一端側が係合する駆動軸１９の回転によってガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作し、ステージ部１５両側の一対の駆動軸１９は、それぞれ駆動モータＭ３，Ｍ４によって回転駆動するように構成されている。尚、図４に示すようにステージ部１５において前記溝部１５ａの奥部には、ステージ下面に連通する連通孔１５ｂが上下方向に穿設され、その連通孔１５ｂを挿通された支持部材２３によって前記コロ軸１７の他端側が回転自在に支持されている。
また、コロ搬送部１６において、ステージ部１５の前後には、それぞれ前記一対の駆動軸１９のいずれかに係合し、前記駆動モータＭ３，Ｍ４によって回転駆動するコロ軸２１及びそれに設けられたコロ２２が配置されている。
【００２５】
また、図４に示すように、前記コロ搬送部１６は、フレーム部材２４により下方から支持されている（前記支持部材２３は前記フレーム部材２４上に設けられている）。
前記フレーム部材２４は、シリンダ２５ａに対しピストン軸２５ｂが進退移動するエアシリンダ２５により昇降移動可能となされている。エアシリンダ２５は、ステージ部１５の中央部下方に配置され、ステージ部１５の左右両側の下方には、前記架台１４に取り付けられた円筒状ガイド部材２６がそれぞれ配備されている。前記フレーム部材２４には下方に延びて前記円筒状ガイド部材２６の中を摺動自在な棒状部材２７が設けられ、フレーム部材２４の昇降移動の動作が揺動することなく安定して行われるようになっている。尚、前記フレーム部材２４、エアシリンダ２５により第２の進退手段が構成されている。
【００２６】
また、前記エアシリンダ２５によりコロ搬送部１６が上昇位置に配置されると、図４に示すようにステージ部１５の左右両側に配置されたコロ軸１７がステージ部１５に対し上昇し、コロ１８によりガラス基板Ｇを搬送可能な状態となされる。
一方、コロ搬送部１６が下降位置に配置されると、前記コロ軸１７は下降移動してステージ部１５の溝部１５ａ内に収容され、ガラス基板Ｇがステージ部１５の上面に載置される状態となされる。
尚、基板処理部１において、駆動モータＭ３，Ｍ４及びエアシリンダ２５は、図示しない制御手段により所定のタイミングで駆動するよう制御される。
【００２７】
また、基板搬出部３は、図１、図２に示すように架台２８上に第３の基板搬送部であるコロ搬送部２９が敷設されている。コロ搬送部２９は、基板搬送方向Ａに沿って並列に複数のコロ軸６が回転自在に配備され、各コロ軸６に基板搬送のための複数のコロ７が設けられている。各コロ軸６は、その一端側が係合する駆動軸８の回転によって、ガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作し、前記駆動軸８は、駆動モータＭ５によって回転駆動するように構成されている。
【００２８】
また、基板搬出部３においては、架台２８とコロ搬送部２９との間に、コロ搬送部２９を基板搬送方向に沿って前後移動させるスライド機構３０（第３の進退手段）が設けられている。このスライド機構３０は、架台２８上に基板搬送方向Ａに沿って敷設されたレール３１と、レール３１上を移動自在に設けられると共にコロ搬送部２９を支持するスライダ３２と、スライダ３２をレール３１に沿って移動させる駆動源としてのエアシリンダ３３とにより構成される。
【００２９】
即ち、図１及び図２に示すように、エアシリンダ３３のピストン軸３３ａが、シリンダ３３ｂに対し進退動作することにより、スライダ３２上に配置されたコロ搬送部２９が基板処理部１に向けて前後移動するようになっている。具体的には、コロ搬送部５Ｂが前進位置にあるときは（図１の状態）、コロ搬送部２９から後段への基板搬送が可能な状態となされる。また、コロ搬送部２９が後退位置にあるときは（図２の状態）、基板処理部１のコロ搬送部１６からコロ搬送部２９への基板搬送が可能な状態となされる。
尚、基板搬出部３において、駆動モータＭ５及びエアシリンダ３３は、図示しない制御手段により所定のタイミングで駆動するよう制御される。また、本実施形態においては、コロ搬送部２９の進退動作はエアシリンダ３３の駆動により行うものとしたが、それに限定することなく例えばベルト駆動によりコロ搬送部２９を進退動作させる構成としてもよい。
【００３０】
続いて、本発明に係る処理ステージ装置１００を、ガラス基板Ｇに対し所定の処理液を塗布する塗布処理装置に適用した場合について説明する。
図５は、処理ステージ装置１００を用いる塗布処理装置１５０の概略構成を示し、図５（ａ）は塗布処理装置１５０の平面図、図５（ｂ）はその基板搬送方向に沿った断面図である。尚、図面において図１乃至図４に示した細部の構成は一部省略している。
【００３１】
図５に示すように、塗布処理装置１５０は、基板搬入部２と基板搬出部３との間に塗布処理部４０が配置され、この塗布処理部４０上に基板処理部１が設けられている。
図５（ａ）に示すように、基板処理部１の前後には、基板幅方向に延びる一対のレール４１が敷設され、このレール４１に沿って一対のスライダ４２が移動可能に設けられている。前記一対のスライダ４２間には、基板搬送方向（ガラス基板Ｇの前後方向）に延びるスリット状の吐出口（図示せず）を有するノズル４３が架設され、スライダ４２の移動によって、ノズル４３がガラス基板Ｇ上を基板幅方向に走査可能となされている。尚、レール４１、スライダ４２によりノズル移動手段が構成される。
【００３２】
また、図５（ａ）に示すように、塗布処理部４０において、基板処理部１の側方には、ノズル先端の吐出口の状態を整えるプライミング処理などのメンテナンス処理を行うためのノズル待機部４４（ノズルメンテナンス手段）が設けられている。このノズル待機部４４は、プライミング処理のためのプライミングローラなどが配置されたプライミング処理部（図示せず）、ノズル先端をシンナー等の溶剤で洗浄するノズル洗浄部（図示せず）、ノズル先端の乾燥を防ぐためにノズル先端を溶剤雰囲気に晒した状態で保持する溶剤雰囲気室（図示せず）などが配備されている。
【００３３】
このように構成された塗布処理装置１５０において、複数のガラス基板Ｇに対し処理液の塗布処理を行う際には次のように行われる。
先ず、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すように１枚目のガラス基板Ｇ１が基板搬入部２における後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂまでコロ搬送される。
【００３４】
次いで、図６（ａ）、図６（ｂ）に示すようにガラス基板Ｇ１を支持するコロ搬送部５Ｂが前進し、基板処理部１のステージ部１５の後側に隣接する状態となされる。
また、このとき基板処理部１においてステージ部１５に対しコロ搬送部１６は上昇位置に配置され、コロ１８により基板搬送可能な状態となされる。
【００３５】
これによりガラス基板Ｇ１はステージ部１５上に搬送され、その後、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すように基板搬入部２における後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂは後退移動される（図５の状態に戻される）。また、このとき基板搬入部２における前段部２Ａのコロ搬送部５Ａには次のガラス基板Ｇ２が搬送される。
前記のようにガラス基板Ｇ１がステージ部１５上に搬送されると、図８（ａ）、図８（ｂ）に示すようにコロ搬送部１６は下降され、溝部１５ａに収容される。これによりガラス基板Ｇ１は、ステージ部１５の基板載置面（上面）に載置される。
また、このとき基板搬入部２において前段部２Ａのガラス基板Ｇ２は後段部２Ｂに搬送される。
【００３６】
ここまでノズル待機部４４に待機していたノズル４３は、ノズル先端の状態を整えると、図９（ａ）、図９（ｂ）に示すようにガラス基板Ｇ１上を基板幅方向に走査し、処理液をガラス基板Ｇの被処理面（上面）に塗布する。
ガラス基板Ｇ１への塗布処理が完了すると、図１０（ａ）、図１０（ｂ）に示すようにノズル４３はノズル待機部４４に戻される。また、基板搬入部２の後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂが前進移動されてステージ部１５の後側に隣接する状態となされる。また、基板搬出部３のコロ搬送部２９が後退移動されてステージ部１５の前側に隣接する状態となされる。また、コロ軸１７は上昇位置に配置され、基板搬送可能な状態となされる。
【００３７】
これにより、図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示すように、塗布処理を終えたガラス基板Ｇ１は、基板搬出部３のコロ搬送部２９上に搬送され、基板搬入部２のコロ搬送部５Ｂ上のガラス基板Ｇ２はステージ部１５上に搬送される。また、このとき基板搬入部２の前段部２Ａには新たなガラス基板Ｇ３が搬送される。
そして、図１２（ａ）、図１２（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇ１を支持する基板搬出部３のコロ搬送部２９は前進移動され、基板搬入部２の後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂは後退移動される。
【００３８】
また、図１３（ａ）、図１３（ｂ）に示すように塗布処理がなされたガラス基板Ｇ１は基板搬出部３から（後段に）搬送され、基板搬入部２の前段部２Ａから後段部２Ｂにガラス基板Ｇ３が搬送される。また、図１３に示す状態からステージ部１５のコロ軸１７が下降すると、図８に示した状態に戻り、その後、図８〜図１３に示した一連の処理が所定の処理枚数に達するまで繰り返される。
【００３９】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、被処理基板であるガラス基板Ｇに所定の処理を施す基板処理部１に対し、その基板搬送方向上流側に所定の距離を空けて基板搬入部２が配置され、基板搬送方向下流側に所定の距離を空けて基板搬出部３が配置される。そして、前記基板処理部１への基板搬入の際には、前記基板搬入部２のコロ搬送部５Ｂが前進移動し、コロ搬送部５Ｂから基板処理部１のコロ搬送部１６にガラス基板Ｇが搬入される。一方、前記基板処理部１からの基板搬出の際には、前記基板搬出部３のコロ搬送部２９が後退移動し、基板処理部１のコロ搬送部１６からコロ搬送部２９にガラス基板Ｇが搬出される。
また、前記基板処理部１においては、前記コロ搬送部１６が上昇位置にあることにより、ガラス基板Ｇの搬入出が可能となり、コロ搬送部１６が下降することにより、ガラス基板Ｇがステージ部１５の基板載置面に載置される。
この構成により、従来の基板搬入出の際にリフトピンなどによりガラス基板Ｇを一時的に保持するステップ、及び搬送アームによりガラス基板Ｇを搬送するステップ等が不要となる。その結果、ステージ部１５に対し搬入出を行う際に生じるガラス基板Ｇの滞留時間が大幅に低減され、処理動作のタクトタイムを短縮することができる。
【００４０】
また、前記処理ステージ装置１００を塗布処理装置１５０に用いた場合には、ノズル４３の走査（塗布）方向を基板幅方向とし、ノズル４３の吐出口の状態を整えるノズル待機部４４を基板処理部１の側方に配置することができるため、ノズル４３のメンテナンス処理の際に飛散したパーティクルなどが基板搬送路上に落ちることが無くガラス基板Ｇの汚染を防止することができる。
【００４１】
尚、前記実施の形態では、ステージ部１５の上方においてガラス基板Ｇの左右両側縁部のみをコロ１８（コロ搬送部１６の短いコロ軸１７に設けられる）により支持し搬送する構成としたが、本発明に係る処理ステージ装置にあっては、それに限定されるものではない。
例えば、図１４（平面図）、及び図１５（図１４のＢ−Ｂ断面図）に示すように、コロ搬送部１６を構成する複数のコロ軸を全て基板幅よりも長いコロ軸２１とし、それら複数のコロ軸２１をステージ部１５上において基板搬送方向に並列に設けてもよい。
この場合、コロ軸２１は、その一端側が係合する駆動軸１９の回転によってガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作し、駆動軸１９は、駆動モータＭ６によって回転駆動するように構成される。
また、前記ステージ部１５の基板載置面には基板幅方向に延びる複数の溝部１５ｃが設けられ、複数のコロ２２が設けられた複数のコロ軸２１は、エアシリンダ２５により下降移動した際、前記溝部１５ｃ内に収容される。また、この構成においては、コロ軸２１が長いため、その両端だけでなくステージ部１５の中央付近においてもコロ軸２１を回転自在に支持する支持部材４５を設けることが望ましい。
このような構成によれば、基板サイズに拘わらず安定して搬送することができる。
【００４２】
また、前記実施の形態では、高さが固定された前記ステージ部１５に対し、コロ搬送部１６を昇降移動させる構成としたが、本発明に係るステージ処理装置にあっては、それに限定されるものではなく、コロ搬送部１６の高さを固定し、それに対してステージ部１５を昇降移動させる構成（即ち、ステージ部１５に対し相対的にコロ搬送部１６が昇降移動する）としてもよい。
【００４３】
また、前記実施の形態においては、ステージ部１５にガラス基板Ｇを載置する際のアライメント（基板位置合わせ）の動作について示さなかったが、好ましくは図１６、図１７、図１８に示す構成を用いて高精度のアライメントを実現することができる。
詳しく説明すると、図１６は、ステージ部１５及びコロ搬送部１６の変形例を示す平面図である。図１７は、図１６の一部を拡大して示す断面図である。また、図１８は、図１６の一部を拡大して示す断面図であり、アライメントの一連の動作を説明するための状態遷移を示している。
【００４４】
図１６に示すようにステージ部１５の上面側には、基板搬送方向Ａに沿ってガラス基板Ｇの左右両側に複数（図では片側４つ）のサイドコロ５０（コロ部材）が鉛直軸周りに回転自在に設けられている。各サイドコロ５０は、図１７に示すようにステージ部１５に形成された上下に貫通する貫通孔１５ｄ（収容孔）にコロ軸５１が挿通され、その上端部にコロ部材が回転自在に設けられている。
【００４５】
また、サイドコロ５０は、そのコロ面が、図１６、図１７に示すようにコロ搬送部１６によって搬送されるガラス基板Ｇの側端部に当接するよう配置されており、基板左右両側をサイドコロ５０で案内することによりガラス基板Ｇの幅方向の位置ずれが防止される。尚、図示しないが、図１などに示した基板搬入部２の前段部２Ａ、後段部２Ｂにも基板左右両側を案内する複数のサイドコロ５０を設けることが望ましく、それによってステージ部１５上への基板搬入の際、ガラス基板Ｇの幅方向の位置ずれを防止することができる。
【００４６】
また、前記コロ軸５１は例えばエアシリンダからなる昇降駆動部５２（コロ昇降手段）によって昇降可能に設けられており、ステージ部１５上をガラス基板Ｇが搬送される際にサイドコロ５０が上昇され、基板側方に配置されるようになっている。一方、それ以外のときには、サイドコロ５０は下降されて貫通孔１５ｄに収容され、ステージ部１５の載置面よりも下方に配置されるようになっている。尚、図１６、図１７においてはサイドコロ５０を貫通孔１５ｄに収容可能な構成としたが、収容部は孔に限らずステージ部に溝部（収容溝）を設けて、そこにサイドコロ５０を収容するように構成してもよい。
【００４７】
また、ステージ部１５の上面側の四隅付近には、それぞれ２本のアライメントピン５５が昇降可能に設けられている（即ち合計８本）。図１６に示すように、ガラス基板Ｇの各角部を形成する基板端部には、それぞれアライメントピン５５の側面が当接し、それによってガラス基板Ｇがステージ部１５上の所定位置に高精度に配置されるようになっている。
各アライメントピン５５は、図１８（ａ）に示すように所定の直径の直胴部を有すると共に先端が尖った杭状に形成され、ステージ部１５を上下に貫通する貫通孔１５ｅに挿通されている。また、各アライメントピン５５は、エアシリンダなどの昇降駆動部５６によって昇降移動可能となされ、最も下降した位置では貫通孔１５ｅに先端部が収容されるようになっている。
【００４８】
ここでアライメントピン５５によるガラス基板Ｇのアライメント動作を１本のアライメントピン５５の動作を図示して具体的に説明する。
図１８（ａ）に示すようにガラス基板Ｇがステージ部１５上の所定位置まで搬送され停止すると、全てのアライメントピン５５が図１８（ｂ）に示すように昇降駆動部５６によって上昇移動される。
アライメントピン５５の先端は尖っているため、図１８（ｂ）に示すように基板端部がピン側に寄っている場合にはピン先端の尖った側面に基板端部が当接する。そのため、更にアライメントピン５５が上昇し、基板端部と当接するピン先端が拡径すると、ガラス基板Ｇはアライメントピン５５によって側方（ステージ内側）に押されることになる。そして、最終的には図１８（ｃ）に示すように基板端部はアライメントピン５５の直胴部側面に当接する状態、即ち位置合わせされた状態となるまで押されて移動する。
【００４９】
全てのアライメントピン５５の上昇移動によって、ガラス基板Ｇが水平方向における所定位置に配置されると、図１８（ｄ）に示すようにコロ搬送部１６が下降し、ガラス基板Ｇがステージ部１５上に載置される。また、このとき、位置合わせされたガラス基板Ｇを、ステージ部１５に設けられた吸引機構（図示せず）によって吸着保持することが望ましい。
そして、ガラス基板Ｇがステージ部１５上に保持されると、全てのアライメントピン５５が下降移動され、図１８（ｅ）に示すようにピン先端が貫通孔１５ｅに収容されるようになっている。
尚、図１８（ａ）〜（ｅ）に示した構成にあっては、アライメントピン５５は、その先端が尖った杭状の形状とされ、昇降駆動部５６によって単に昇降するものとしたが、その形態に限定されるものではなく、ピン側面に基板側部を当接させて基板位置合わせを行う構成であれば他の構成でもよい。例えば、アライメントピン５５を直棒状に形成し、全てのピンをガラス基板Ｇの側部から離れた外側の位置で上昇させた後、内側に水平移動させて、その側面を基板側部に当接させ、位置合わせを行うように構成してもよい。
【００５０】
また、ステージ部１５上において、例えばコロ軸１７などを収容する複数の溝部１５ａのいずれかには、上方を搬送されるガラス基板Ｇを検出するための第１光学センサ及び第２光学センサ（共に図示せず）が設けられている。
前記第１光学センサ及び第２光学センサは、上方に搬送されてきたガラス基板Ｇの先端の検出に用いられる。具体的には、制御手段（図示せず）が、第１光学センサの検出タイミングで基板搬送速度を減速させ、第２光学センサの検出タイミングで基板搬送を停止させる。
そのように構成することにより、ステージ部１５上に搬送されたガラス基板Ｇをほぼ所定位置に停止させることができる。
【００５１】
更に、複数のアライメントピン５５のうち基板搬送方向Ａの最下流側に位置する２本のアライメントピン５５Ａを搬送停止部材として用い、ガラス基板Ｇの搬送停止前に上昇させて待機させてもよい。そのようにすれば、搬送されてきたガラス基板Ｇの前端が前記アライメントピン５５Ａに当接し、ガラス基板Ｇが機械的に（強制的に）搬送停止されるため、前記光学センサによる停止制御の不具合発生時に起きるオーバーランなどを防止することができる。尚、前記搬送停止部材としてアライメントピン５５Ａ（５５）を用いるのではなく、基板搬送停止用の専用の昇降ピン、或いは昇降可能な壁状の板部材などを設け、ガラス基板Ｇの搬送停止前に予め上昇させて待機させるようにしてもよい。
【００５２】
このように構成されたステージ部１５によれば、ガラス基板Ｇを搬入時においては、コロ搬送されるガラス基板Ｇの幅方向の位置ずれをサイドコロ５０によって矯正することができる。
また、予め上昇して待機するアライメントピン５５Ａによってガラス基板Ｇの前端を受け止め、基板搬送を強制的に停止させることで、光学センサによる停止制御の不具合発生時に起きるオーバーランなどを防止することができる。
さらに、搬送停止されたガラス基板Ｇに対し、複数のアライメントピン５５が上昇することにより所定位置に高精度に位置合わせすることができ、その後、コロ搬送部１６が下降することにより、ステージ上の所定位置に吸着保持することができる。
【００５３】
また、前記実施の形態にあっては、基板搬入部２の後段部２Ｂにおいて、コロ搬送部５Ｂが基板搬送方向に沿って前後方向にのみ移動可能な構成とし、基板搬出部３において、コロ搬送部２９が基板搬送方向に沿って前後方向にのみ移動可能な構成とした。
しかしながら、本発明にあっては、その構成に限定されず、前記コロ搬送部５Ｂやコロ搬送部２９を基板搬送方向に沿った前後方向の移動だけでなく、斜め上下方向や垂直上下方向の移動が可能な構成としてもよい。図１９、図２０を用いて具体的に説明する。図１９（ａ）〜（ｃ）、図２０（ａ）〜（ｃ）は、基板搬入部２及び基板搬出部３の変形例であって、その一連の動作を模式的に示す断面図である。
【００５４】
図１９（ａ）に示すように、基板搬入部２において、コロ搬送部５Ｂは、基板搬送方向に沿って斜め上下方向に延びるレール３４上を、エアシリンダ或いはベルト駆動装置などの駆動装置３５によって移動可能に設けられている。これによりコロ搬送部５Ｂは、コロ搬送部５Ａの前方位置と下方位置（待機位置）との間を斜め上下方向に移動可能となされている。即ち、コロ搬送部５Ｂがコロ搬送部５Ａの前方位置にあるときには（例えば図１９（ｂ）の状態）、コロ搬送部５Ａからコロ搬送部５Ｂを介して基板処理部１のコロ搬送部１６へのコロ搬送が可能な状態となる。一方、コロ搬送部５Ｂがコロ搬送部５Ａの下方位置（待機位置）にあるときには（例えば図２０（ａ）の状態）、コロ搬送部５Ａと基板処理部１とは所定距離を空けて分離され、基板処理部１での基板処理（塗布処理など）が可能な状態となる。
【００５５】
また、図１９（ａ）に示すように基板搬出部３において、コロ搬送部はコロ搬送部２９Ａとコロ搬送部２９Ｂとにより構成される。
コロ搬送部２９Ｂは図示するように基板搬送路上に、基板処理部１のコロ搬送部１６と所定の距離を空けて設けられている。
コロ搬送部２９Ａは、基板搬送方向に沿って斜め上下方向に延びるレール３６上を、エアシリンダ或いはベルト駆動装置などの駆動装置３７によって移動可能に設けられている。これによりコロ搬送部２９Ａは、コロ搬送部２９Ｂの後方位置と下方位置（待機位置）との間を斜め上下方向に移動可能となされている。即ち、コロ搬送部２９Ａがコロ搬送部２９Ｂの後方位置にあるときには（例えば図２０（ｂ）の状態）、基板処理部１のコロ搬送部１６からコロ搬送部２９Ａを介してコロ搬送部２９Ｂへのコロ搬送が可能な状態となる。
一方、コロ搬送部２９Ａがコロ搬送部２９Ｂの下方位置にあるときには（例えば図２０（ａ）の状態）、コロ搬送部２９Ｂと基板処理部１とは所定距離を空けて分離され、基板処理部１での基板処理（塗布処理など）が可能な状態となる。
【００５６】
このような構成において、図１９（ａ）に示すように基板搬入部２のコロ搬送部５Ａまでガラス基板Ｇが搬送されると、待機位置（コロ搬送部５Ａの下方位置）にあったコロ搬送部５Ｂが図１９（ｂ）に示すように斜め上方に前進移動され、コロ搬送部５Ａと基板処理部１のコロ搬送部１６の間に配置される。
これによりコロ搬送部５Ａ上のガラス基板Ｇは、図１９（ｃ）に示すようにコロ搬送部５Ｂを介して基板処理部１のコロ搬送部１６にコロ搬送により搬入される。
基板処理部１に基板搬入されると、コロ搬送部５Ｂは斜め下方に後退移動され、図２０（ａ）に示すように再び待機位置に配置される。また、このとき基板処理部１は基板搬入部２及び基板搬出部３と分離された状態となり、塗布処理部４０により基板面への塗布処理が施される。
【００５７】
塗布処理が完了すると、基板搬出部３において待機位置（コロ搬送部２９Ｂの下方位置）にあったコロ搬送部２９Ａが、図２０（ｂ）に示すように斜め上方に移動され、コロ搬送部２９Ｂと基板処理部１のコロ搬送部１６との間に配置される。
これにより基板処理部１のコロ搬送部１６上のガラス基板Ｇは、図２０（ｃ）に示すように基板搬出部３のコロ搬送部２９Ａを介してコロ搬送部２９Ｂへコロ搬送により搬出される。尚、コロ搬出部２９Ｂへの基板搬出後には、コロ搬送部２９Ａは斜め下方に移動され、再び待機位置に配置される。
【００５８】
以上の構成によれば、基板搬入部２にあっては、コロ搬送部５Ｂは、コロ搬送部５Ａと基板処理部１のコロ搬送部１６との間に配置されることによってコロ搬送可能な基板搬送路を形成できればよい。また、基板搬出部３にあっては、コロ搬送部２９Ａは、基板処理部１のコロ搬送部１６とコロ搬送部２９Ｂとの間に配置されることによってコロ搬送可能な基板搬送路を形成できればよい。
即ち、コロ搬送部５Ｂ及びコロ搬送部２９Ａはそれぞれガラス基板Ｇの全体を支持する大きさである必要はなく、その基板搬送方向の全長を基板長よりも短く形成することができる。
その結果、基板搬送路の長さ（装置の長さ）を短縮することができ、装置にかかるコストを低減することができる。また、ガラス基板Ｇを載置した状態（ガラス基板Ｇが静止した状態）で搬送する機構が無くなり、ガラス基板Ｇの移動は全てコロ搬送により行うため、基板搬送にかかる時間が短縮され、全体の処理速度を向上することができる。
また、待機位置において、基板搬送路の下方に形成された所定の空間を利用して、コロ搬送部５Ｂ、２９のメンテナンスを行うこともできる。
尚、図１９、図２０に示した構成例では、コロ搬送部５Ｂ及びコロ搬送部２９Ａが斜め上下方向に移動するものとしたが、垂直上下方向に移動する構成としてもよい。
【００５９】
また、前記実施の形態にあっては、図５に示したように塗布処理部４０において、基板搬送方向に延びるスリット状の吐出口を有するノズル４３が、基板幅方向に走査されることによって処理液をガラス基板Ｇに塗布する構成とした。
しかしながら、本発明にあっては、その構成に限定されるものではない。例えば、ノズル４３のスリット状の吐出口を基板幅方向に沿って配置し、ノズル４３を基板搬送方向に沿って走査させるように構成してもよい。
【００６０】
また、本発明に係る処理ステージ装置にあっては、被処理基板に処理液を塗布する塗布形成装置に限らず、被処理基板に所定の処理を施す様々な処理装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００６１】
１ 基板処理部
２ 基板搬入部
３ 基板搬出部
５Ａ コロ搬送部
５Ｂ コロ搬送部（第１の基板搬送部）
６ コロ軸
７ コロ
８ 駆動軸
９ 駆動軸
１０ スライド機構（第１の進退手段）
１５ ステージ部（ステージ）
１５ａ 溝部
１５ｃ 溝部
１５ｄ 貫通孔（収容孔）
１６ コロ搬送部（第２の基板搬送部）
２４ フレーム部材（第２の進退手段）
２５ エアシリンダ（第２の進退手段）
２９ コロ搬送部（第３の基板搬送部）
３０ スライド機構（第３の進退手段）
４１ レール（ノズル移動手段）
４２ スライダ（ノズル移動手段）
４３ ノズル
４４ ノズル待機部（ノズルメンテナンス手段）
５０ サイドコロ
５１ コロ軸
５２ 昇降駆動部（コロ昇降手段）
５５ アライメントピン
１００ 処理ステージ装置
１５０ 塗布処理装置
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理ステージ装置、及びそれを用いる塗布処理装置に関し、特に、処理動作のタクトタイムを短縮可能な処理ステージ装置及び塗布処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する方法として、スリット状のノズル吐出口からレジスト液を帯状に吐出し、レジストを基板上に塗布する方法がある。
この方法を用いた従来のレジスト塗布装置について、図２１を用いて簡単に説明する。図２１に示すレジスト塗布装置２００は、Ｘ方向に長く延設されたステージ２０１と、このステージ２０１の上方に配備されるレジスト供給ノズル２０２と、このレジスト供給ノズル２０２を移動させるノズル移動手段２０３とを具備している。
【０００４】
前記ステージ２０１の上面には、複数のガス噴射口２１０とガス吸引口２１１とが設けられている。ガラス基板Ｇは、ガス噴射口２１０から噴射されたガスにより、或いは、前記噴射されたガスがガス吸引口２１１から吸引され形成されるガス流によりステージ上に浮上するようになっている。
また、レジスト供給ノズル２０２には、基板の幅方向に延びる微小隙間を有するスリット状の吐出口２０２ａが設けられ、レジスト液供給源２０４から供給されたレジスト液を吐出口２０２ａから吐出するようになされている。
【０００５】
また、ステージ２０１上に浮上するガラス基板Ｇは、その左右両側が一対の基板搬送部２０５により保持され、基板搬送部２０５は、ステージ２０１の左右両側に敷設された一対のレール２０６に沿って（Ｘ方向に）移動可能となされている。
また、ステージ２０１上の基板搬入領域２０１ａ、及び基板搬出領域２０１ｂには、それぞれ複数の（図では４本の）昇降可能なリフトピン２０７が設けられ、このレジスト塗布装置２００へのガラス基板Ｇの搬入出時にガラス基板Ｇはリフトピン２０７上に一時的に載置されるようになっている。
【０００６】
このように構成されたレジスト塗布装置２００において、ガラス基板Ｇへのレジスト液の塗布処理は、次のように行われる。
先ず、基板搬入領域２０１ａにおいてリフトピン２０７が上方に突出され、塗布処理前のガラス基板Ｇが搬送ロボットのアーム（図示せず）によって前記リフトピン２０７上に載置される。
次いで、ガラス基板Ｇの左右縁部が基板搬送部２０５によって保持される。ここで、ガラス基板Ｇの下面にはガス噴射口２１０からのガス噴射が吹き付けられ、ガラス基板Ｇはステージ２０１上に浮上した状態となされる。
そして、リフトピン２０７が下降すると、ガラス基板Ｇは基板搬送部２０５によって基板処理領域２０１ｃに移動される。
【０００７】
基板処理領域２０１ｃにおいては、ガラス基板Ｇは所定の速度でＸ方向に搬送される。それに対し、基板上方に配置されたレジスト供給ノズル２０２は、ノズル移動手段２０３によって基板搬送方向とは逆の方向に移動され、それと同時に基板面に対しレジスト液を吐出する。尚、この基板処理領域２０１ｃでは、ガス噴射口２１０から噴射されたガスがガス吸引口２１１に吸引されてステージ上に所定のガス流が形成されており、ガラス基板Ｇはそのガス流上で安定した状態で浮上搬送される。
【０００８】
基板上にレジスト膜が形成されたガラス基板Ｇは、基板搬送部２０５によって基板搬出領域２０１ｂまで搬送され、そこでリフトピン２０７が上昇すると共に、ガス噴射口２１０からのガス噴射が停止される。また、ガラス基板Ｇは基板搬出領域２０１ｂにおいて、リフトピン２０７により支持され、基板搬送部２０５による保持状態が解除される。
そして、レジスト膜が形成されたガラス基板Ｇは、搬送ロボットの搬送アーム（図示せず）により後段の処理装置に搬出される。
尚、このようなレジスト塗布装置２００については、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−８０９８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
前記のようにレジスト塗布装置２００の構成においては、ステージ２０１に対しガラス基板Ｇを搬入出する際にリフトピン２０７が昇降移動され、リフトピン２０７上にガラス基板Ｇが一時的に載置される。更には、基板搬入領域２０１ａのリフトピン２０７にガラス基板Ｇを載置する際、及び基板搬出領域２０１ｂのリフトピン２０７に載置されたガラス基板Ｇを搬出する際、搬送ロボットのアーム（図示せず）が駆動され、前記アームによりガラス基板Ｇが搬送される。
しかしながら、そのような構成にあっては、基板処理領域２０１ｃへの基板搬入の際、及びステージ２０１からの基板搬出の際に、基板搬送が滞るという課題があった。そのため、基板搬入出の際に生じる被処理基板の滞留時間を低減し、処理動作のタクトタイムを短縮可能な構成が求められていた。
【００１１】
前記課題を解決するものとして、従来から、コロ搬送などにより被処理基板を水平な状態で、且つ水平方向に（以後、これを平流しと記載する）搬入し、平流し搬送しながら基板幅方向に延びるノズル吐出口からレジスト液を基板上に吐出して塗布し、平流し搬送により後段に搬出する構成がある。前記構成の場合、基板搬入出の際に基板が滞留することがなく、処理動作のタクトタイムを短縮することができる。
しかしながら、そのような構成にあっては、ノズルは基板搬送方向に移動可能な構成であるため、ノズルのメンテナンス処理（ノズル吐出口に付着するレジスト液の状態を整えるプライミング処理など）を行うノズル待機部が基板搬送路上に配置される。そのため、ノズルのメンテナンス処理を行う際、ノズル吐出口に付着し乾燥したレジストのパーティクル等が下方に落ち、基板搬送路に付着して被処理基板を汚染する虞があった。
【００１２】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板に所定の処理を施すための処理ステージ装置、及びそれを用いる塗布処理装置において、処理動作のタクトタイムを短縮することができる処理ステージ部を提供し、また、前記処理ステージ装置を塗布処理装置に適用した際、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止することのできる塗布処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記した課題を解決するために、本発明に係る処理ステージ装置は、被処理基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部に前記基板を搬入する基板搬入部と、前記基板処理部から前記基板を搬出する基板搬出部とを備える処理ステージ装置であって、前記基板搬入部は、前記基板を水平に搬送可能な第１の基板搬送部と、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、前進位置において前記第１の基板搬送部上の被処理基板を前記基板処理部に搬入可能とする第１の進退手段とを有し、前記基板処理部は、前記基板搬入部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記基板に所定の処理を施すための載置面を有するステージと、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させることにより前記基板を前記第２の搬送部上または前記ステージの載置面上に載置する第２の進退手段とを有し、前記基板搬出部は、前記基板処理部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、後退位置において前記基板処理部から前記第３の基板搬送部に被処理基板を搬出可能とする第３の進退手段とを有することに特徴を有する。
尚、前記基板処理部において、前記ステージの載置面には、前記第２の進退手段により前記第２の基板搬送部が下降した際、前記第２の基板搬送部を収容可能な溝部が設けられていることが望ましい。
また、前記第１乃至第３の基板搬送部は、それぞれコロ搬送により前記被処理基板を水平に搬送する構成とすることができる。
【００１４】
このように構成によれば、前記基板処理部への基板搬入の際には、前記基板搬入部の第１の基板搬送部が前進移動し、前記第１の基板搬送部から基板処理部の第２の基板搬送部に被処理基板が搬入される。一方、前記基板処理部からの基板搬出の際には、前記基板搬出部の第３の基板搬送部が後退移動し、基板処理部の第２の基板搬送部から前記第３の基板搬送部に被処理基板が搬出される。
また、前記基板処理部においては、前記第２の基板搬送部がステージに対し相対的に上昇位置にあることにより、被処理基板の搬入出が可能となり、第２の基板搬送部がステージに対し相対的に下降することにより、被処理基板がステージの載置面に載置される。
この構成により、従来の基板搬入出の際にリフトピンなどにより被処理基板を一時的に保持するステップ、及び搬送アームにより被処理基板を搬送するステップ等が不要となる。その結果、ステージに対し搬入出を行う際に生じる被処理基板の滞留時間が大幅に低減され、処理動作のタクトタイムを短縮することができる。
【００１５】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布処理装置は、前記処理ステージ装置を用い、被処理基板に処理液を塗布する塗布処理装置であって、前記基板処理部において、一方向に延びる吐出口を有し、前記ステージの載置面に載置された被処理基板の上方を移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズルと、前記ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記基板処理部の側方に設けられ、前記ノズル移動手段により前記基板処理部の側方に移動された前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段とを備えることに特徴を有する。
このようにノズル吐出口の状態を整えるノズル待機部が基板処理部の側方に配置されるため、ノズルのメンテナンス処理の際、パーティクルなどが基板搬送路上に落ちることがなく被処理基板の汚染を防止することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、被処理基板に所定の処理を施すための処理ステージ装置、及びそれを用いる塗布処理装置において、処理動作のタクトタイムを短縮することができる処理ステージ部を提供し、また、前記処理ステージ装置を塗布処理装置に適用した際、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止することのできる塗布処理装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明に係る処理ステージ装置の全体構成を示す図であって、図１（ａ）は処理ステージ装置の第１の状態を示す平面図、図１（ｂ）はその側面図である。
【図２】図２は、本発明に係る処理ステージ装置の全体構成を示す図であって、図２（ａ）は処理ステージ装置の第２の状態を示す平面図、図２（ｂ）はその側面図である。
【図３】図３は、図１，図２の処理ステージ装置が備えるステージ部及びコロ搬送部を拡大した平面図である。
【図４】図４は、図３のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図５】図５は、図１の処理ステージ装置を用いる塗布処理装置の概略構成を示し、図５（ａ）は平面図、図５（ｂ）はその基板搬送方向に沿った断面図である。
【図６】図６は、図５に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図７】図７は、図６に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図８】図８は、図７に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図９】図９は、図８に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１０】図１０は、図９に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１１】図１１は、図１０に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１２】図１２は、図１１に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１３】図１３は、図１２に示す状態から遷移した異なる状態を示す平面図及び断面図である。
【図１４】図１４は、図１の処理ステージ装置が備える基板処理部の変形例を示す平面図である。
【図１５】図１５は、図１４のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図１６】図１６は、図１の処理ステージ装置が備えるステージ部及びコロ搬送部の変形例を示す平面図である。
【図１７】図１７は、図１６の一部を拡大して示す断面図である。
【図１８】図１８は、図１６の一部を拡大して示す断面図であり、アライメントの一連の動作を説明するための状態遷移を示す図である。
【図１９】図１９（ａ）〜（ｃ）は、基板搬入部及び基板搬出部の変形例であって、その一連の動作を模式的に示す断面図である。
【図２０】図２０（ａ）〜（ｃ）は、図１９（ａ）〜（ｃ）に続く一連の動作を模式的に示す断面図である。
【図２１】図２１は、従来のレジスト塗布装置の概略構成を説明するための斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の処理ステージ装置にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。図１、図２は、本発明に係る処理ステージ装置の全体構成を示す図であって、図１（ａ）は処理ステージ装置の第１の状態を示す平面図、図１（ｂ）はその側面図である。また、図２（ａ）は処理ステージ装置の第２の状態を示す平面図、図２（ｂ）はその側面図である。
【００１９】
図１、図２に示す処理ステージ装置１００は、被処理基板である例えばガラス基板Ｇを載置して所定の処理を施すための基板処理部１と、基板処理部１にガラス基板Ｇを搬入する基板搬入部２と、基板処理部１からガラス基板Ｇを搬出する基板搬出部３とを備える。
図１に示すように、基板搬入部２と基板搬出部３とは、それぞれ基板搬送方向Ａに沿って、基板処理部１に対し所定の距離を空けて配置されている。
【００２０】
基板搬入部２は、基板搬送方向に沿って配置された前段部２Ａと後段部２Ｂとで構成される。前段部２Ａと後段部２Ｂとにおいては、それぞれ架台４上に第１の基板搬送部であるコロ搬送部５Ａ、５Ｂが敷設されている。コロ搬送部５Ａ，５Ｂは、基板搬送方向Ａに沿って並列に複数のコロ軸６が回転自在に配備され、各コロ軸６に複数のコロ７が設けられている。コロ搬送部５Ａとコロ搬送部５Ｂとには、それぞれ各コロ軸６の一端側が係合する駆動軸８、９が設けられ、駆動軸８，９の回転によって、各コロ軸６はガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作する。前記駆動軸８、９は、それぞれ駆動モータＭ１、Ｍ２によって回転駆動するように構成されている。
【００２１】
また、後段部２Ｂにおいては、架台４とコロ搬送部５Ｂとの間に、コロ搬送部５Ｂを基板搬送方向に沿って前後移動させるスライド機構１０（第１の進退手段）が設けられている。このスライド機構１０は、架台４上に基板搬送方向Ａに沿って敷設されたレール１１と、レール１１上を移動自在に設けられると共にコロ搬送部５Ｂを支持するスライダ１２と、スライダ１２をレール１１に沿って移動させる駆動源としてのエアシリンダ１３とにより構成される。
【００２２】
即ち、図１及び図２に示すように、エアシリンダ１３のピストン軸１３ａが、シリンダ１３ｂに対し進退動作することにより、スライダ１２上に配置されたコロ搬送部５Ｂが基板処理部１に向けて前後移動するようになっている。具体的には、コロ搬送部５Ｂが後退位置にあるときは（図１の状態）、コロ搬送部５Ａからコロ搬送部５Ｂへの基板搬送が可能な状態となされる。また、コロ搬送部５Ｂが前進位置にあるときは（図２の状態）、コロ搬送部５Ｂから基板処理部１への基板搬送が可能な状態となされる。
尚、基板搬入部２において、Ｍ１及びエアシリンダ１３は、図示しない制御手段により所定のタイミングで駆動するよう制御される。また、本実施形態においては、コロ搬送部５Ｂの進退動作はエアシリンダ１３の駆動により行うものとしたが、それに限定することなく例えばベルト駆動によりコロ搬送部５Ｂを進退動作させる構成としてもよい。
【００２３】
基板処理部１は、架台１４上にガラス基板Ｇを載置するためのステージ部１５が設けられ、その周囲に第２の基板搬送部であるコロ搬送部１６が設けられている。
それらステージ部１５及びコロ搬送部１６の構成について、さらに図３、図４を用いて説明する。図３は、ステージ部１５及びコロ搬送部１６を拡大した平面図、図４は図３のＢ−Ｂ矢視断面図である。
ステージ部１５は、図３に示すように平面視において略長方形状であり、その基板載置面（上面）は、ガラス基板Ｇの被処理面が撓むことなく載置可能な大きさに形成されている。また、ステージ部１５の基板載置面（上面）において、その左右縁部には、基板幅方向に所定の長さを有する複数の溝部１５ａが基板搬送方向Ａに沿って並列に形成されている（図面では片側に５つの溝部１５ａ）。この溝部１５ａは、ステージ部１５の載置面（上面）側及び側面側から凹設され、前記コロ搬送部１６が有する所定長さのコロ軸１７及びそれに設けられたコロ１８が収容可能な形状となされている。
【００２４】
コロ搬送部１６が有する前記コロ軸１７は、その一端側が係合する駆動軸１９の回転によってガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作し、ステージ部１５両側の一対の駆動軸１９は、それぞれ駆動モータＭ３，Ｍ４によって回転駆動するように構成されている。尚、図４に示すようにステージ部１５において前記溝部１５ａの奥部には、ステージ下面に連通する連通孔１５ｂが上下方向に穿設され、その連通孔１５ｂを挿通された支持部材２３によって前記コロ軸１７の他端側が回転自在に支持されている。
また、コロ搬送部１６において、ステージ部１５の前後には、それぞれ前記一対の駆動軸１９のいずれかに係合し、前記駆動モータＭ３，Ｍ４によって回転駆動するコロ軸２１及びそれに設けられたコロ２２が配置されている。
【００２５】
また、図４に示すように、前記コロ搬送部１６は、フレーム部材２４により下方から支持されている（前記支持部材２３は前記フレーム部材２４上に設けられている）。
前記フレーム部材２４は、シリンダ２５ａに対しピストン軸２５ｂが進退移動するエアシリンダ２５により昇降移動可能となされている。エアシリンダ２５は、ステージ部１５の中央部下方に配置され、ステージ部１５の左右両側の下方には、前記架台１４に取り付けられた円筒状ガイド部材２６がそれぞれ配備されている。前記フレーム部材２４には下方に延びて前記円筒状ガイド部材２６の中を摺動自在な棒状部材２７が設けられ、フレーム部材２４の昇降移動の動作が揺動することなく安定して行われるようになっている。尚、前記フレーム部材２４、エアシリンダ２５により第２の進退手段が構成されている。
【００２６】
また、前記エアシリンダ２５によりコロ搬送部１６が上昇位置に配置されると、図４に示すようにステージ部１５の左右両側に配置されたコロ軸１７がステージ部１５に対し上昇し、コロ１８によりガラス基板Ｇを搬送可能な状態となされる。
一方、コロ搬送部１６が下降位置に配置されると、前記コロ軸１７は下降移動してステージ部１５の溝部１５ａ内に収容され、ガラス基板Ｇがステージ部１５の上面に載置される状態となされる。
尚、基板処理部１において、駆動モータＭ３，Ｍ４及びエアシリンダ２５は、図示しない制御手段により所定のタイミングで駆動するよう制御される。
【００２７】
また、基板搬出部３は、図１、図２に示すように架台２８上に第３の基板搬送部であるコロ搬送部２９が敷設されている。コロ搬送部２９は、基板搬送方向Ａに沿って並列に複数のコロ軸６が回転自在に配備され、各コロ軸６に基板搬送のための複数のコロ７が設けられている。各コロ軸６は、その一端側が係合する駆動軸８の回転によって、ガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作し、前記駆動軸８は、駆動モータＭ５によって回転駆動するように構成されている。
【００２８】
また、基板搬出部３においては、架台２８とコロ搬送部２９との間に、コロ搬送部２９を基板搬送方向に沿って前後移動させるスライド機構３０（第３の進退手段）が設けられている。このスライド機構３０は、架台２８上に基板搬送方向Ａに沿って敷設されたレール３１と、レール３１上を移動自在に設けられると共にコロ搬送部２９を支持するスライダ３２と、スライダ３２をレール３１に沿って移動させる駆動源としてのエアシリンダ３３とにより構成される。
【００２９】
即ち、図１及び図２に示すように、エアシリンダ３３のピストン軸３３ａが、シリンダ３３ｂに対し進退動作することにより、スライダ３２上に配置されたコロ搬送部２９が基板処理部１に向けて前後移動するようになっている。具体的には、コロ搬送部５Ｂが前進位置にあるときは（図１の状態）、コロ搬送部２９から後段への基板搬送が可能な状態となされる。また、コロ搬送部２９が後退位置にあるときは（図２の状態）、基板処理部１のコロ搬送部１６からコロ搬送部２９への基板搬送が可能な状態となされる。
尚、基板搬出部３において、駆動モータＭ５及びエアシリンダ３３は、図示しない制御手段により所定のタイミングで駆動するよう制御される。また、本実施形態においては、コロ搬送部２９の進退動作はエアシリンダ３３の駆動により行うものとしたが、それに限定することなく例えばベルト駆動によりコロ搬送部２９を進退動作させる構成としてもよい。
【００３０】
続いて、本発明に係る処理ステージ装置１００を、ガラス基板Ｇに対し所定の処理液を塗布する塗布処理装置に適用した場合について説明する。
図５は、処理ステージ装置１００を用いる塗布処理装置１５０の概略構成を示し、図５（ａ）は塗布処理装置１５０の平面図、図５（ｂ）はその基板搬送方向に沿った断面図である。尚、図面において図１乃至図４に示した細部の構成は一部省略している。
【００３１】
図５に示すように、塗布処理装置１５０は、基板搬入部２と基板搬出部３との間に塗布処理部４０が配置され、この塗布処理部４０上に基板処理部１が設けられている。
図５（ａ）に示すように、基板処理部１の前後には、基板幅方向に延びる一対のレール４１が敷設され、このレール４１に沿って一対のスライダ４２が移動可能に設けられている。前記一対のスライダ４２間には、基板搬送方向（ガラス基板Ｇの前後方向）に延びるスリット状の吐出口（図示せず）を有するノズル４３が架設され、スライダ４２の移動によって、ノズル４３がガラス基板Ｇ上を基板幅方向に走査可能となされている。尚、レール４１、スライダ４２によりノズル移動手段が構成される。
【００３２】
また、図５（ａ）に示すように、塗布処理部４０において、基板処理部１の側方には、ノズル先端の吐出口の状態を整えるプライミング処理などのメンテナンス処理を行うためのノズル待機部４４（ノズルメンテナンス手段）が設けられている。このノズル待機部４４は、プライミング処理のためのプライミングローラなどが配置されたプライミング処理部（図示せず）、ノズル先端をシンナー等の溶剤で洗浄するノズル洗浄部（図示せず）、ノズル先端の乾燥を防ぐためにノズル先端を溶剤雰囲気に晒した状態で保持する溶剤雰囲気室（図示せず）などが配備されている。
【００３３】
このように構成された塗布処理装置１５０において、複数のガラス基板Ｇに対し処理液の塗布処理を行う際には次のように行われる。
先ず、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すように１枚目のガラス基板Ｇ１が基板搬入部２における後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂまでコロ搬送される。
【００３４】
次いで、図６（ａ）、図６（ｂ）に示すようにガラス基板Ｇ１を支持するコロ搬送部５Ｂが前進し、基板処理部１のステージ部１５の後側に隣接する状態となされる。
また、このとき基板処理部１においてステージ部１５に対しコロ搬送部１６は上昇位置に配置され、コロ１８により基板搬送可能な状態となされる。
【００３５】
これによりガラス基板Ｇ１はステージ部１５上に搬送され、その後、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すように基板搬入部２における後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂは後退移動される（図５の状態に戻される）。また、このとき基板搬入部２における前段部２Ａのコロ搬送部５Ａには次のガラス基板Ｇ２が搬送される。
前記のようにガラス基板Ｇ１がステージ部１５上に搬送されると、図８（ａ）、図８（ｂ）に示すようにコロ搬送部１６は下降され、溝部１５ａに収容される。これによりガラス基板Ｇ１は、ステージ部１５の基板載置面（上面）に載置される。
また、このとき基板搬入部２において前段部２Ａのガラス基板Ｇ２は後段部２Ｂに搬送される。
【００３６】
ここまでノズル待機部４４に待機していたノズル４３は、ノズル先端の状態を整えると、図９（ａ）、図９（ｂ）に示すようにガラス基板Ｇ１上を基板幅方向に走査し、処理液をガラス基板Ｇの被処理面（上面）に塗布する。
ガラス基板Ｇ１への塗布処理が完了すると、図１０（ａ）、図１０（ｂ）に示すようにノズル４３はノズル待機部４４に戻される。また、基板搬入部２の後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂが前進移動されてステージ部１５の後側に隣接する状態となされる。また、基板搬出部３のコロ搬送部２９が後退移動されてステージ部１５の前側に隣接する状態となされる。また、コロ軸１７は上昇位置に配置され、基板搬送可能な状態となされる。
【００３７】
これにより、図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示すように、塗布処理を終えたガラス基板Ｇ１は、基板搬出部３のコロ搬送部２９上に搬送され、基板搬入部２のコロ搬送部５Ｂ上のガラス基板Ｇ２はステージ部１５上に搬送される。また、このとき基板搬入部２の前段部２Ａには新たなガラス基板Ｇ３が搬送される。
そして、図１２（ａ）、図１２（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇ１を支持する基板搬出部３のコロ搬送部２９は前進移動され、基板搬入部２の後段部２Ｂのコロ搬送部５Ｂは後退移動される。
【００３８】
また、図１３（ａ）、図１３（ｂ）に示すように塗布処理がなされたガラス基板Ｇ１は基板搬出部３から（後段に）搬送され、基板搬入部２の前段部２Ａから後段部２Ｂにガラス基板Ｇ３が搬送される。また、図１３に示す状態からステージ部１５のコロ軸１７が下降すると、図８に示した状態に戻り、その後、図８〜図１３に示した一連の処理が所定の処理枚数に達するまで繰り返される。
【００３９】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、被処理基板であるガラス基板Ｇに所定の処理を施す基板処理部１に対し、その基板搬送方向上流側に所定の距離を空けて基板搬入部２が配置され、基板搬送方向下流側に所定の距離を空けて基板搬出部３が配置される。そして、前記基板処理部１への基板搬入の際には、前記基板搬入部２のコロ搬送部５Ｂが前進移動し、コロ搬送部５Ｂから基板処理部１のコロ搬送部１６にガラス基板Ｇが搬入される。一方、前記基板処理部１からの基板搬出の際には、前記基板搬出部３のコロ搬送部２９が後退移動し、基板処理部１のコロ搬送部１６からコロ搬送部２９にガラス基板Ｇが搬出される。
また、前記基板処理部１においては、前記コロ搬送部１６が上昇位置にあることにより、ガラス基板Ｇの搬入出が可能となり、コロ搬送部１６が下降することにより、ガラス基板Ｇがステージ部１５の基板載置面に載置される。
この構成により、従来の基板搬入出の際にリフトピンなどによりガラス基板Ｇを一時的に保持するステップ、及び搬送アームによりガラス基板Ｇを搬送するステップ等が不要となる。その結果、ステージ部１５に対し搬入出を行う際に生じるガラス基板Ｇの滞留時間が大幅に低減され、処理動作のタクトタイムを短縮することができる。
【００４０】
また、前記処理ステージ装置１００を塗布処理装置１５０に用いた場合には、ノズル４３の走査（塗布）方向を基板幅方向とし、ノズル４３の吐出口の状態を整えるノズル待機部４４を基板処理部１の側方に配置することができるため、ノズル４３のメンテナンス処理の際に飛散したパーティクルなどが基板搬送路上に落ちることが無くガラス基板Ｇの汚染を防止することができる。
【００４１】
尚、前記実施の形態では、ステージ部１５の上方においてガラス基板Ｇの左右両側縁部のみをコロ１８（コロ搬送部１６の短いコロ軸１７に設けられる）により支持し搬送する構成としたが、本発明に係る処理ステージ装置にあっては、それに限定されるものではない。
例えば、図１４（平面図）、及び図１５（図１４のＢ−Ｂ断面図）に示すように、コロ搬送部１６を構成する複数のコロ軸を全て基板幅よりも長いコロ軸２１とし、それら複数のコロ軸２１をステージ部１５上において基板搬送方向に並列に設けてもよい。
この場合、コロ軸２１は、その一端側が係合する駆動軸１９の回転によってガラス基板Ｇを搬送する方向に回転動作し、駆動軸１９は、駆動モータＭ６によって回転駆動するように構成される。
また、前記ステージ部１５の基板載置面には基板幅方向に延びる複数の溝部１５ｃが設けられ、複数のコロ２２が設けられた複数のコロ軸２１は、エアシリンダ２５により下降移動した際、前記溝部１５ｃ内に収容される。また、この構成においては、コロ軸２１が長いため、その両端だけでなくステージ部１５の中央付近においてもコロ軸２１を回転自在に支持する支持部材４５を設けることが望ましい。
このような構成によれば、基板サイズに拘わらず安定して搬送することができる。
【００４２】
また、前記実施の形態では、高さが固定された前記ステージ部１５に対し、コロ搬送部１６を昇降移動させる構成としたが、本発明に係るステージ処理装置にあっては、それに限定されるものではなく、コロ搬送部１６の高さを固定し、それに対してステージ部１５を昇降移動させる構成（即ち、ステージ部１５に対し相対的にコロ搬送部１６が昇降移動する）としてもよい。
【００４３】
また、前記実施の形態においては、ステージ部１５にガラス基板Ｇを載置する際のアライメント（基板位置合わせ）の動作について示さなかったが、好ましくは図１６、図１７、図１８に示す構成を用いて高精度のアライメントを実現することができる。
詳しく説明すると、図１６は、ステージ部１５及びコロ搬送部１６の変形例を示す平面図である。図１７は、図１６の一部を拡大して示す断面図である。また、図１８は、図１６の一部を拡大して示す断面図であり、アライメントの一連の動作を説明するための状態遷移を示している。
【００４４】
図１６に示すようにステージ部１５の上面側には、基板搬送方向Ａに沿ってガラス基板Ｇの左右両側に複数（図では片側４つ）のサイドコロ５０（コロ部材）が鉛直軸周りに回転自在に設けられている。各サイドコロ５０は、図１７に示すようにステージ部１５に形成された上下に貫通する貫通孔１５ｄ（収容孔）にコロ軸５１が挿通され、その上端部にコロ部材が回転自在に設けられている。
【００４５】
また、サイドコロ５０は、そのコロ面が、図１６、図１７に示すようにコロ搬送部１６によって搬送されるガラス基板Ｇの側端部に当接するよう配置されており、基板左右両側をサイドコロ５０で案内することによりガラス基板Ｇの幅方向の位置ずれが防止される。尚、図示しないが、図１などに示した基板搬入部２の前段部２Ａ、後段部２Ｂにも基板左右両側を案内する複数のサイドコロ５０を設けることが望ましく、それによってステージ部１５上への基板搬入の際、ガラス基板Ｇの幅方向の位置ずれを防止することができる。
【００４６】
また、前記コロ軸５１は例えばエアシリンダからなる昇降駆動部５２（コロ昇降手段）によって昇降可能に設けられており、ステージ部１５上をガラス基板Ｇが搬送される際にサイドコロ５０が上昇され、基板側方に配置されるようになっている。一方、それ以外のときには、サイドコロ５０は下降されて貫通孔１５ｄに収容され、ステージ部１５の載置面よりも下方に配置されるようになっている。尚、図１６、図１７においてはサイドコロ５０を貫通孔１５ｄに収容可能な構成としたが、収容部は孔に限らずステージ部に溝部（収容溝）を設けて、そこにサイドコロ５０を収容するように構成してもよい。
【００４７】
また、ステージ部１５の上面側の四隅付近には、それぞれ２本のアライメントピン５５が昇降可能に設けられている（即ち合計８本）。図１６に示すように、ガラス基板Ｇの各角部を形成する基板端部には、それぞれアライメントピン５５の側面が当接し、それによってガラス基板Ｇがステージ部１５上の所定位置に高精度に配置されるようになっている。
各アライメントピン５５は、図１８（ａ）に示すように所定の直径の直胴部を有すると共に先端が尖った杭状に形成され、ステージ部１５を上下に貫通する貫通孔１５ｅに挿通されている。また、各アライメントピン５５は、エアシリンダなどの昇降駆動部５６によって昇降移動可能となされ、最も下降した位置では貫通孔１５ｅに先端部が収容されるようになっている。
【００４８】
ここでアライメントピン５５によるガラス基板Ｇのアライメント動作を１本のアライメントピン５５の動作を図示して具体的に説明する。
図１８（ａ）に示すようにガラス基板Ｇがステージ部１５上の所定位置まで搬送され停止すると、全てのアライメントピン５５が図１８（ｂ）に示すように昇降駆動部５６によって上昇移動される。
アライメントピン５５の先端は尖っているため、図１８（ｂ）に示すように基板端部がピン側に寄っている場合にはピン先端の尖った側面に基板端部が当接する。そのため、更にアライメントピン５５が上昇し、基板端部と当接するピン先端が拡径すると、ガラス基板Ｇはアライメントピン５５によって側方（ステージ内側）に押されることになる。そして、最終的には図１８（ｃ）に示すように基板端部はアライメントピン５５の直胴部側面に当接する状態、即ち位置合わせされた状態となるまで押されて移動する。
【００４９】
全てのアライメントピン５５の上昇移動によって、ガラス基板Ｇが水平方向における所定位置に配置されると、図１８（ｄ）に示すようにコロ搬送部１６が下降し、ガラス基板Ｇがステージ部１５上に載置される。また、このとき、位置合わせされたガラス基板Ｇを、ステージ部１５に設けられた吸引機構（図示せず）によって吸着保持することが望ましい。
そして、ガラス基板Ｇがステージ部１５上に保持されると、全てのアライメントピン５５が下降移動され、図１８（ｅ）に示すようにピン先端が貫通孔１５ｅに収容されるようになっている。
尚、図１８（ａ）〜（ｅ）に示した構成にあっては、アライメントピン５５は、その先端が尖った杭状の形状とされ、昇降駆動部５６によって単に昇降するものとしたが、その形態に限定されるものではなく、ピン側面に基板側部を当接させて基板位置合わせを行う構成であれば他の構成でもよい。例えば、アライメントピン５５を直棒状に形成し、全てのピンをガラス基板Ｇの側部から離れた外側の位置で上昇させた後、内側に水平移動させて、その側面を基板側部に当接させ、位置合わせを行うように構成してもよい。
【００５０】
また、ステージ部１５上において、例えばコロ軸１７などを収容する複数の溝部１５ａのいずれかには、上方を搬送されるガラス基板Ｇを検出するための第１光学センサ及び第２光学センサ（共に図示せず）が設けられている。
前記第１光学センサ及び第２光学センサは、上方に搬送されてきたガラス基板Ｇの先端の検出に用いられる。具体的には、制御手段（図示せず）が、第１光学センサの検出タイミングで基板搬送速度を減速させ、第２光学センサの検出タイミングで基板搬送を停止させる。
そのように構成することにより、ステージ部１５上に搬送されたガラス基板Ｇをほぼ所定位置に停止させることができる。
【００５１】
更に、複数のアライメントピン５５のうち基板搬送方向Ａの最下流側に位置する２本のアライメントピン５５Ａを搬送停止部材として用い、ガラス基板Ｇの搬送停止前に上昇させて待機させてもよい。そのようにすれば、搬送されてきたガラス基板Ｇの前端が前記アライメントピン５５Ａに当接し、ガラス基板Ｇが機械的に（強制的に）搬送停止されるため、前記光学センサによる停止制御の不具合発生時に起きるオーバーランなどを防止することができる。尚、前記搬送停止部材としてアライメントピン５５Ａ（５５）を用いるのではなく、基板搬送停止用の専用の昇降ピン、或いは昇降可能な壁状の板部材などを設け、ガラス基板Ｇの搬送停止前に予め上昇させて待機させるようにしてもよい。
【００５２】
このように構成されたステージ部１５によれば、ガラス基板Ｇを搬入時においては、コロ搬送されるガラス基板Ｇの幅方向の位置ずれをサイドコロ５０によって矯正することができる。
また、予め上昇して待機するアライメントピン５５Ａによってガラス基板Ｇの前端を受け止め、基板搬送を強制的に停止させることで、光学センサによる停止制御の不具合発生時に起きるオーバーランなどを防止することができる。
さらに、搬送停止されたガラス基板Ｇに対し、複数のアライメントピン５５が上昇することにより所定位置に高精度に位置合わせすることができ、その後、コロ搬送部１６が下降することにより、ステージ上の所定位置に吸着保持することができる。
【００５３】
また、前記実施の形態にあっては、基板搬入部２の後段部２Ｂにおいて、コロ搬送部５Ｂが基板搬送方向に沿って前後方向にのみ移動可能な構成とし、基板搬出部３において、コロ搬送部２９が基板搬送方向に沿って前後方向にのみ移動可能な構成とした。
しかしながら、本発明にあっては、その構成に限定されず、前記コロ搬送部５Ｂやコロ搬送部２９を基板搬送方向に沿った前後方向の移動だけでなく、斜め上下方向や垂直上下方向の移動が可能な構成としてもよい。図１９、図２０を用いて具体的に説明する。図１９（ａ）〜（ｃ）、図２０（ａ）〜（ｃ）は、基板搬入部２及び基板搬出部３の変形例であって、その一連の動作を模式的に示す断面図である。
【００５４】
図１９（ａ）に示すように、基板搬入部２において、コロ搬送部５Ｂは、基板搬送方向に沿って斜め上下方向に延びるレール３４上を、エアシリンダ或いはベルト駆動装置などの駆動装置３５によって移動可能に設けられている。これによりコロ搬送部５Ｂは、コロ搬送部５Ａの前方位置と下方位置（待機位置）との間を斜め上下方向に移動可能となされている。即ち、コロ搬送部５Ｂがコロ搬送部５Ａの前方位置にあるときには（例えば図１９（ｂ）の状態）、コロ搬送部５Ａからコロ搬送部５Ｂを介して基板処理部１のコロ搬送部１６へのコロ搬送が可能な状態となる。一方、コロ搬送部５Ｂがコロ搬送部５Ａの下方位置（待機位置）にあるときには（例えば図２０（ａ）の状態）、コロ搬送部５Ａと基板処理部１とは所定距離を空けて分離され、基板処理部１での基板処理（塗布処理など）が可能な状態となる。
【００５５】
また、図１９（ａ）に示すように基板搬出部３において、コロ搬送部はコロ搬送部２９Ａとコロ搬送部２９Ｂとにより構成される。
コロ搬送部２９Ｂは図示するように基板搬送路上に、基板処理部１のコロ搬送部１６と所定の距離を空けて設けられている。
コロ搬送部２９Ａは、基板搬送方向に沿って斜め上下方向に延びるレール３６上を、エアシリンダ或いはベルト駆動装置などの駆動装置３７によって移動可能に設けられている。これによりコロ搬送部２９Ａは、コロ搬送部２９Ｂの後方位置と下方位置（待機位置）との間を斜め上下方向に移動可能となされている。即ち、コロ搬送部２９Ａがコロ搬送部２９Ｂの後方位置にあるときには（例えば図２０（ｂ）の状態）、基板処理部１のコロ搬送部１６からコロ搬送部２９Ａを介してコロ搬送部２９Ｂへのコロ搬送が可能な状態となる。
一方、コロ搬送部２９Ａがコロ搬送部２９Ｂの下方位置にあるときには（例えば図２０（ａ）の状態）、コロ搬送部２９Ｂと基板処理部１とは所定距離を空けて分離され、基板処理部１での基板処理（塗布処理など）が可能な状態となる。
【００５６】
このような構成において、図１９（ａ）に示すように基板搬入部２のコロ搬送部５Ａまでガラス基板Ｇが搬送されると、待機位置（コロ搬送部５Ａの下方位置）にあったコロ搬送部５Ｂが図１９（ｂ）に示すように斜め上方に前進移動され、コロ搬送部５Ａと基板処理部１のコロ搬送部１６の間に配置される。
これによりコロ搬送部５Ａ上のガラス基板Ｇは、図１９（ｃ）に示すようにコロ搬送部５Ｂを介して基板処理部１のコロ搬送部１６にコロ搬送により搬入される。
基板処理部１に基板搬入されると、コロ搬送部５Ｂは斜め下方に後退移動され、図２０（ａ）に示すように再び待機位置に配置される。また、このとき基板処理部１は基板搬入部２及び基板搬出部３と分離された状態となり、塗布処理部４０により基板面への塗布処理が施される。
【００５７】
塗布処理が完了すると、基板搬出部３において待機位置（コロ搬送部２９Ｂの下方位置）にあったコロ搬送部２９Ａが、図２０（ｂ）に示すように斜め上方に移動され、コロ搬送部２９Ｂと基板処理部１のコロ搬送部１６との間に配置される。
これにより基板処理部１のコロ搬送部１６上のガラス基板Ｇは、図２０（ｃ）に示すように基板搬出部３のコロ搬送部２９Ａを介してコロ搬送部２９Ｂへコロ搬送により搬出される。尚、コロ搬出部２９Ｂへの基板搬出後には、コロ搬送部２９Ａは斜め下方に移動され、再び待機位置に配置される。
【００５８】
以上の構成によれば、基板搬入部２にあっては、コロ搬送部５Ｂは、コロ搬送部５Ａと基板処理部１のコロ搬送部１６との間に配置されることによってコロ搬送可能な基板搬送路を形成できればよい。また、基板搬出部３にあっては、コロ搬送部２９Ａは、基板処理部１のコロ搬送部１６とコロ搬送部２９Ｂとの間に配置されることによってコロ搬送可能な基板搬送路を形成できればよい。
即ち、コロ搬送部５Ｂ及びコロ搬送部２９Ａはそれぞれガラス基板Ｇの全体を支持する大きさである必要はなく、その基板搬送方向の全長を基板長よりも短く形成することができる。
その結果、基板搬送路の長さ（装置の長さ）を短縮することができ、装置にかかるコストを低減することができる。また、ガラス基板Ｇを載置した状態（ガラス基板Ｇが静止した状態）で搬送する機構が無くなり、ガラス基板Ｇの移動は全てコロ搬送により行うため、基板搬送にかかる時間が短縮され、全体の処理速度を向上することができる。
また、待機位置において、基板搬送路の下方に形成された所定の空間を利用して、コロ搬送部５Ｂ、２９のメンテナンスを行うこともできる。
尚、図１９、図２０に示した構成例では、コロ搬送部５Ｂ及びコロ搬送部２９Ａが斜め上下方向に移動するものとしたが、垂直上下方向に移動する構成としてもよい。
【００５９】
また、前記実施の形態にあっては、図５に示したように塗布処理部４０において、基板搬送方向に延びるスリット状の吐出口を有するノズル４３が、基板幅方向に走査されることによって処理液をガラス基板Ｇに塗布する構成とした。
しかしながら、本発明にあっては、その構成に限定されるものではない。例えば、ノズル４３のスリット状の吐出口を基板幅方向に沿って配置し、ノズル４３を基板搬送方向に沿って走査させるように構成してもよい。
【００６０】
また、本発明に係る処理ステージ装置にあっては、被処理基板に処理液を塗布する塗布形成装置に限らず、被処理基板に所定の処理を施す様々な処理装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００６１】
１ 基板処理部
２ 基板搬入部
３ 基板搬出部
５Ａ コロ搬送部
５Ｂ コロ搬送部（第１の基板搬送部）
６ コロ軸
７ コロ
８ 駆動軸
９ 駆動軸
１０ スライド機構（第１の進退手段）
１５ ステージ部（ステージ）
１５ａ 溝部
１５ｃ 溝部
１５ｄ 貫通孔（収容孔）
１６ コロ搬送部（第２の基板搬送部）
２４ フレーム部材（第２の進退手段）
２５ エアシリンダ（第２の進退手段）
２９ コロ搬送部（第３の基板搬送部）
３０ スライド機構（第３の進退手段）
４１ レール（ノズル移動手段）
４２ スライダ（ノズル移動手段）
４３ ノズル
４４ ノズル待機部（ノズルメンテナンス手段）
５０ サイドコロ
５１ コロ軸
５２ 昇降駆動部（コロ昇降手段）
５５ アライメントピン
１００ 処理ステージ装置
１５０ 塗布処理装置
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部に前記基板を搬入する基板搬入部と、前記基板処理部から前記基板を搬出する基板搬出部とを備える処理ステージ装置であって、
前記基板搬入部は、前記基板を水平に搬送可能な第１の基板搬送部と、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、前進位置において前記第１の基板搬送部上の被処理基板を前記基板処理部に搬入可能とする第１の進退手段とを有し、
前記基板処理部は、前記基板搬入部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記基板に所定の処理を施すための載置面を有するステージと、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させることにより前記基板を前記第２の搬送部上または前記ステージの載置面上に載置する第２の進退手段とを有し、
前記基板搬出部は、前記基板処理部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、後退位置において前記基板処理部から前記第３の基板搬送部に被処理基板を搬出可能とする第３の進退手段とを有することを特徴とする処理ステージ装置。
【請求項２】
前記基板処理部において、
前記ステージの載置面には、前記第２の進退手段により前記第２の基板搬送部が下降した際、前記第２の基板搬送部を収容可能な溝部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載された処理ステージ装置。
【請求項３】
前記ステージの載置面には、前記第２の基板搬送部により搬送される被処理基板の左右両側に当接して基板幅方向の位置を案内する複数のコロ部材が基板搬送方向に沿って設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された処理ステージ装置。
【請求項４】
前記複数のコロ部材を前記ステージの載置面に対し相対的に昇降させるコロ昇降手段を備え、
前記ステージの載置面には、前記コロ部材を収容可能な収容孔または収容溝が設けられ、前記複数のコロ部材は、前記基板が前記ステージの載置面に載置されている間、前記コロ昇降手段により下降され前記収容孔または収容溝に収容されることを特徴とする請求項３に記載された処理ステージ装置。
【請求項５】
前記ステージの載置面には、被処理基板の角部に対応する位置に、それぞれ昇降可能なアライメントピンが設けられ、
前記ステージに搬送された被処理基板に対し、前記アライメントピンが上昇すると共に、その側面が前記被処理基板の側部に当接し、位置合わせがなされることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された処理ステージ装置。
【請求項６】
前記ステージの載置面には、該載置面に対し昇降移動により上方に突出または下方に収納可能な搬送停止部材が設けられ、
上昇位置に配置された前記搬送停止部材に、前記第２の基板搬送部により搬送される被処理基板の前端が当接することにより該被処理基板の搬送が停止されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載された処理ステージ装置。
【請求項７】
前記第１乃至第３の基板搬送部は、それぞれコロ搬送により前記被処理基板を水平に搬送することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載された処理ステージ装置。
【請求項８】
前記請求項１乃至請求項７のいずれかに記載された処理ステージ装置を用い、被処理基板に処理液を塗布する塗布処理装置であって、
前記基板処理部において、
一方向に延びる吐出口を有し、前記ステージの載置面に載置された被処理基板の上方を移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルを移動させるノズル移動手段と、
前記基板処理部の側方に設けられ、前記ノズル移動手段により前記基板処理部の側方に移動された前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段とを備えることを特徴とする塗布処理装置。
【請求項９】
前記ノズルの吐出口が前記基板の前後方向に延びるように配置されている場合、前記ノズル移動手段は、前記ノズルを基板幅方向に移動させ、
前記ノズルの吐出口が基板幅方向に延びるように配置されている場合、前記ノズル移動手段は、前記ノズルを前記基板の前後方向に移動させることを特徴とする請求項８に記載された塗布処理装置。
【請求項１】
被処理基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部に前記基板を搬入する基板搬入部と、前記基板処理部から前記基板を搬出する基板搬出部とを備える処理ステージ装置であって、
前記基板搬入部は、前記基板を水平に搬送可能な第１の基板搬送部と、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、前進位置において前記第１の基板搬送部上の被処理基板を前記基板処理部に搬入可能とする第１の進退手段とを有し、
前記基板処理部は、前記基板搬入部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記基板に所定の処理を施すための載置面を有するステージと、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させることにより前記基板を前記第２の搬送部上または前記ステージの載置面上に載置する第２の進退手段とを有し、
前記基板搬出部は、前記基板処理部の基板搬送方向下流側に所定距離を空けて配置され、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させると共に、後退位置において前記基板処理部から前記第３の基板搬送部に被処理基板を搬出可能とする第３の進退手段とを有することを特徴とする処理ステージ装置。
【請求項２】
前記基板処理部において、
前記ステージの載置面には、前記第２の進退手段により前記第２の基板搬送部が下降した際、前記第２の基板搬送部を収容可能な溝部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載された処理ステージ装置。
【請求項３】
前記ステージの載置面には、前記第２の基板搬送部により搬送される被処理基板の左右両側に当接して基板幅方向の位置を案内する複数のコロ部材が基板搬送方向に沿って設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された処理ステージ装置。
【請求項４】
前記複数のコロ部材を前記ステージの載置面に対し相対的に昇降させるコロ昇降手段を備え、
前記ステージの載置面には、前記コロ部材を収容可能な収容孔または収容溝が設けられ、前記複数のコロ部材は、前記基板が前記ステージの載置面に載置されている間、前記コロ昇降手段により下降され前記収容孔または収容溝に収容されることを特徴とする請求項３に記載された処理ステージ装置。
【請求項５】
前記ステージの載置面には、被処理基板の角部に対応する位置に、それぞれ昇降可能なアライメントピンが設けられ、
前記ステージに搬送された被処理基板に対し、前記アライメントピンが上昇すると共に、その側面が前記被処理基板の側部に当接し、位置合わせがなされることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された処理ステージ装置。
【請求項６】
前記ステージの載置面には、該載置面に対し昇降移動により上方に突出または下方に収納可能な搬送停止部材が設けられ、
上昇位置に配置された前記搬送停止部材に、前記第２の基板搬送部により搬送される被処理基板の前端が当接することにより該被処理基板の搬送が停止されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載された処理ステージ装置。
【請求項７】
前記第１乃至第３の基板搬送部は、それぞれコロ搬送により前記被処理基板を水平に搬送することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載された処理ステージ装置。
【請求項８】
前記請求項１乃至請求項７のいずれかに記載された処理ステージ装置を用い、被処理基板に処理液を塗布する塗布処理装置であって、
前記基板処理部において、
一方向に延びる吐出口を有し、前記ステージの載置面に載置された被処理基板の上方を移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルを移動させるノズル移動手段と、
前記基板処理部の側方に設けられ、前記ノズル移動手段により前記基板処理部の側方に移動された前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段とを備えることを特徴とする塗布処理装置。
【請求項９】
前記ノズルの吐出口が前記基板の前後方向に延びるように配置されている場合、前記ノズル移動手段は、前記ノズルを基板幅方向に移動させ、
前記ノズルの吐出口が基板幅方向に延びるように配置されている場合、前記ノズル移動手段は、前記ノズルを前記基板の前後方向に移動させることを特徴とする請求項８に記載された塗布処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【公開番号】特開２０１３−１０２１５３（Ｐ２０１３−１０２１５３Ａ）
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２２９００６（Ｐ２０１２−２２９００６）
【出願日】平成２４年１０月１６日（２０１２．１０．１６）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１０月１６日（２０１２．１０．１６）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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