説明

反射スクリーンおよび反射スクリーンの製造方法

【課題】プロジェクターを反射スクリーンの斜め方向に配置した場合であっても、斜め方向からの光を反射スクリーンの前方の観察側により多く反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる反射スクリーンを提供する。
【解決手段】スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置から、前記観察面に斜めに投射された投射光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記観察面に複数の凹部が形成され、前記凹部の凹面の少なくとも前記投射光が投射される部位に反射膜が形成され、少なくとも前記反射部を含む前記凹面に透明保護膜が形成されている反射スクリーン。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、反射スクリーンおよび反射スクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、投影画像を反射させて観察可能にする反射スクリーンが知られている。このような反射スクリーンとして、スクリーン基板の前面側に同一形状の多数の凸状の単位形状部が2次元的に規則的に配置され、凸状の単位形状部の投影光入射方向に向かう一部の表面部分にのみに反射面が形成されている反射スクリーンが開示されている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2006−215162号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上記従来の反射スクリーンは、単位形状部が反射スクリーンの垂直方向に一直線に隣接して設けられているため、例えば、プロジェクターをスクリーンの前方の斜め下方側に配置し、プロジェクターからスクリーンに向けて斜め上方に投影画像を照射した場合、投影画像のコントラストが低下するという課題がある。
【0005】
上記のように、プロジェクターからスクリーンに向けて斜め方向に投影画像を照射した場合、プロジェクターからの投影光が、プロジェクターに近い単位形状部よって遮られ、プロジェクターに遠い単位形状部に十分な光が到達しない。このため、プロジェクターからの投影光が反射スクリーン前方の観察者側に十分に反射されず、投影画像のコントラストが低下してしまう。
【0006】
そこで、この発明は、プロジェクターを反射スクリーンの斜め方向に配置した場合であっても、斜め方向からの光を反射スクリーンの前方の観察側により多く反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる反射スクリーンを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、少なくとも上述の課題の一つを解決するように、下記の形態または適用例として実現され得る。
【0008】
〔適用例1〕本適用例の反射スクリーンは、スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の観察面側の法線に対して垂直方向にずれた位置から、前記観察面に斜めに投射された投射光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記スクリーン基板の前記観察面側に複数の凹部が形成され、前記凹部の凹面の少なくとも前記投射光が投射される部位に反射部が形成され、少なくとも前記反射部を含む前記凹面に透明保護膜が形成されていることを特徴とする。
【0009】
上述の適用例によれば、スクリーン中心からスクリーン法線に対して垂直方向、すなわちスクリーンの面に沿って中心からずれた位置に投射源となるプロジェクターを配置し画像を投射しても、スクリーン基板の凹部に形成された反射部をプロジェクターからの投射光の投射範囲に形成するため、映像の観察者、すなわち観察側に向かって多くの投射光を反射させることが出来る。このことは、観察側から見える反射光、すなわち投射画像のコントラストを強くすることができ、観察側(観察者)により鮮明な反射光(映像)を見せることが出来る。
【0010】
また、反射部が凹部の形状に沿って凹状に形成されているので、反射スクリーンの外縁部に照射された投影光を反射スクリーンの法線方向により近い方向に反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる。
【0011】
〔適用例2〕上述の適用例において、前記スクリーン基板は、少なくとも前記反射部の非形成領域が光を吸収可能に形成されていることを特徴とする。
【0012】
上述の適用例によれば、反射部が凹部の形状に沿って凹状に形成されているので、投射光をスクリーン基板の観察側に反射させると共に、反射部の非形成領域で外光を吸収し、投射画像のコントラストを向上させることができる。
【0013】
〔適用例3〕上述の適用例において、前記反射部がAl膜で形成されていることを特徴とする。
【0014】
上述の適用例によれば、安価で様々な素材との密着性能が高く、反射性能の優れた反射膜を備える反射スクリーンを得ることができる。
【0015】
〔適用例4〕上述の適用例において、前記透明保護膜が酸化ケイ素で形成されていることを特徴とする。
【0016】
〔適用例5〕上述の適用例において、前記透明保護膜が10nm以上225nm以下であることを特徴とする。
【0017】
上述に適用例によれば、透明且つ高硬度の皮膜を得ることができ、10nm〜225nmの範囲で酸化ケイ素膜を形成することで、スクリーン基板およびAl反射膜との密着性に優れた保護膜を備える反射スクリーンを得ることができる。
【0018】
〔適用例6〕本適用例の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の観察面側の法線に対して垂直方向にずれた位置から、前記観察面に斜めに投射された投射光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記観察面側に複数の凹部が形成された前記スクリーン基板の前記凹部の凹面に反射膜を成膜し反射部を形成する反射部形成工程と、少なくとも前記反射部を含む前記凹面に透明保護膜を成膜する保護膜形成工程と、を含み、前記反射部形成工程は、蒸着により前記反射膜を成膜し、前記スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に前記反射膜の蒸着源を載置することを特徴とする。
【0019】
上述の適用例によれば、スクリーン基板の凹部における投射光の投射される範囲に選択的に反射膜素材を蒸着することができる。すなわち、投射光が投射されない範囲には、反射膜が形成されない部位が生じるが、実質的に投射光が到達しない範囲であり、観察側への投射画像への影響を及ぼさない。よって、最小必要限度の反射膜原料を用いることで、上述の高いコントラストの投射画像を実現する反射スクリーンを得ることができる。
【0020】
〔適用例7〕上述の適用例において、前記保護膜形成工程は、蒸着により前記透明保護膜を成膜し、前記反射膜の前記蒸着源の載置位置と同位置に前記透明保護膜の蒸着源を載置することを特徴とする。
【0021】
上述の適用例によれば、反射膜上への保護膜形成を確実に行うことができ、耐擦傷性が低いAl膜表面を保護できる保護膜を形成した反射スクリーンを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】実施形態にかかる反射スクリーンと光源との位置関係を示す模式図。
【図2】実施形態における反射スクリーンの正面図。
【図3】実施形態における反射スクリーンの(a)は断面図、(b)は部分拡大図。
【図4】実施形態における保護膜が形成された反射部の反射率と保護膜の膜厚の関係を示すグラフ。
【図5】実施形態における蒸着装置を示す概略断面図。
【発明を実施するための形態】
【0023】
以下、図面を参照して、本発明に係る実施形態を説明する。
【0024】
(実施形態)
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明においては、図面においても指示するが、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をX軸方向、鉛直面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向をZ軸方向とする。
【0025】
図1に示すように、反射スクリーン100は、反射スクリーン100の観察面100aの中心点Cを通る法線NLに対して垂直方向(Y軸方向)にずれた位置に配置された光源Pから、観察面100aに向けて斜めに射出された投射光Lpを、反射スクリーン100の観察側(Z軸正方向側)に反射するものである。反射スクリーン100は、法線NLがZ軸と平行になるように配置されている。
【0026】
図2および図3に示すように、反射スクリーン100はスクリーン基板10の観察面100a側に半球状の凹部11が複数備えられている。凹部11は、スクリーン基板10の厚み方向(Z方向)に窪み、略同一径の球状面に形成されている。凹部11の直径としては、例えば20μm〜200μm程度に形成されている。また、凹部の形状は球状面を有するものであれば、半球状ではなく、半楕円球状、円錐状、扇型、またはこれらの組み合わせであってもよい。
【0027】
スクリーン基板10は、例えば、樹脂等の可撓性を有する材料によって形成されている。また、スクリーン基板10は、例えば、染色等によって全体が黒色の光吸収材によって着色され、可視光を吸収可能に形成されている。
【0028】
また、図2に示すように、スクリーン基板10の垂直方向(Y方向)に隣接する凹部11、11は、スクリーン基板10の水平方向(X方向)にずれた状態で配置され、複数の凹部11が格子状に配列されていることが好ましい。
【0029】
本実施例の反射スクリーンの断面図を示す図3(a)、および図3(a)のA部の部分拡大を模式的に示す図3(b)のように、凹部11の内壁面には観察面100aのY方向斜め方向に配置される光源Pからの投射光Lpが到達する部位に反射部12が形成されている。この反射部12は、例えば、アルミニウム(Al)等の反射性を有する材料によって、膜厚が10nm〜5μmとなるように成膜されている。
【0030】
反射部12は凹部11の内壁面の一部分に形成され、この反射部12は光源Pからの距離が大きくなるに従い、形成面積が小さくなっている。つまり、スクリーン基板10の上部側(光源Pから遠ざかった部分)では、スクリーン基板10の下方側(光源Pに近い部分)に比べて、反射部12の形成面積は小さい。すなわち、光源Pからの投射光Lpは、凹部11の縁部11aの光源P側に遮られ、投射光Lp到達する領域がスクリーンの上方(光源Pから遠い部分)で少なくなるためである。
【0031】
従って、反射部は光源Pからの投射光Lpが、凹部11において到達する領域に形成されていることで、効率よく投射光Lpを反射することができる。
【0032】
また、反射部12を覆うように凹部11に内壁部に保護膜13が形成されている。保護膜13は反射部12を形成する、例えばAl膜の場合に表面硬度が低く、埃等を含む汚れを拭取る際に、微細な傷が付きやすく、著しく反射性能を劣化させることとなる。この、傷付を防止し、合わせてスクリーン基板10への密着性をより強固にするために、保護膜13を少なくとも反射部12を覆うように形成する。
【0033】
保護膜13は、酸化ケイ素(SiO2)膜により形成することが好ましく、上述のように反射部12を覆うだけでなく、凹部11の内壁面の全面に形成しても良い。保護膜13の膜厚としては10nm以上225nm以下であることが好ましく、10nm〜30nmもしくは140nm〜200nmであることがより好ましい。すなわち、アルミニウム膜の反射部12を覆うように酸化ケイ素の保護膜13を形成した場合に、反射部12と保護膜13とが形成される部位の反射率は、図4の矢印範囲で示す10nm〜30nmもしくは140nm〜200nmにおいて高い値を実現しており、これにより投射光Lpの多くを観察側に反射することができる。なお、保護膜13に窒化ケイ素(SiN)を適用することも可能である。
【0034】
また、凹部11の内壁面には、反射部12の形成範囲外に、光吸収面14が形成されている。光吸収面14は、スクリーン基板10の基材を黒色にすること、または凹部11の内壁面にブラックカーボン粉末などの光吸収性材料を塗布するなどの方法で得られる。光吸収面14は図3(b)にも示すように、凹部11の内壁面における反射部12の非形成範囲(波型矢印範囲)である。
【0035】
そして、スクリーン基板10の観察面100a上には、凹部11を充填するように保護層15が形成されている。保護層15は、例えば、樹脂などの可撓性を有する材料で形成されている。さらに、保護層15の上で、スクリーン基板10の観察面100a側の最表面には、反射防止層16が形成されている。反射防止層16は、保護層15と同様な材料で形成されている。そして、保護層15の表面での投影光または外光などの反射を防止するように、保護層15と反射防止層16とは屈折率が調整されている。
【0036】
次に、図3によって、映像を映し出す反射スクリーンの作用について説明する。反射スクリーン100の観察面100aの法線に対して垂直方向(Y軸方向)にずれた位置に配置されたプロジェクターなどの光源Pから、観察面100aに向けて斜めに投影光Lpが投射される。
【0037】
このような、観察面100aに対して斜めに入射した投影光Lpは、反射防止層16に入射し、反射防止層16を透過して保護層15に入射する。このとき、反射防止層16は保護層15との間で屈折率が調整されているので、反射防止層16を透過した投影光Lpが保護層15の表面での反射が防止される。
【0038】
保護層15に入射した投影光Lpは、保護層15を透過して凹部11内に形成された保護膜13を透過し反射部12に到達する。反射部12に到達した投影光Lpは、反射部12によって反射スクリーン100の観察側(Z方向)に反射光Lrが反射される。
【0039】
一方、反射スクリーン100の観察面100aには、投影光Lpのほかに反射スクリーン100の上方から外光Loが入射する。観察面100aに入射した外光Loは、反射防止層16に入射して、反射防止層16を透過して保護層15に入射する。外光Loは反射防止層16が形成されているため、保護層15の表面で観察側に反射することが防止される。
【0040】
そして、保護層15の表面に到達した外光Loは、保護層15を透過して凹部11に入射し、凹部11の光吸収面14に到達する。そして、凹部11の光吸収面14に到達した外光Loは光吸収面14に吸収される。このように、本実施形態の反射スクリーン100は、観察面100aに対して斜めからの投影光Lpが入射した場合には、コントラストの高い映像を映し出すことができる。
【0041】
(反射スクリーンの製造方法)
次に、本実施形態の反射スクリーンの製造方法、特に反射部12および保護膜13の成膜方法について説明する。本実施形態における反射部12、および保護膜13の形成を蒸着法により成膜する方法を説明するが、その他の成膜方法としてスパッタリング等により成膜も可能である。
【0042】
図5は本実施形態のすでに凹部11を複数形成したスクリーン基板10を収納した、蒸着装置を模式的に現した断面図である。蒸着装置200は内部を減圧状態にし、被蒸着物を収納するドーム20と、図示しない真空ポンプ、電源装置等を備える基台30とを備える。
【0043】
ドーム20の内部には蒸着源を収納し、蒸着源を過熱溶融する第1るつぼ40aと第2るつぼ40bとを備える。また第1るつぼ40a、あるいは第2るつぼ40bが後述のように蒸着源を蒸散させるとき、不要部位への蒸散を防ぐ遮蔽板50を備える。但し、遮蔽板を備えなくても被蒸着物への蒸着は可能である。
【0044】
被蒸着物のスクリーン基板10は、蒸着装置200の容量によって複数個が同時にラック60に固定され、ラック60は図示しない駆動装置によって蒸着中は回転し、蒸着膜を均一に形成する。このとき、スクリーン基板10が蒸着源を収納したるつぼ40a、あるいは40bをスクリーン基板10の法線に対して垂直方向にずれた位置、すなわち図3(a)におけるY方向にずれた位置となるように、ラック60の位置、形状を設定する。
【0045】
蒸着時は、先ず反射部12を形成する部材、例えばアルミニウムを第1るつぼ40aに、保護膜13を形成する部材の酸化ケイ素を第2るつぼ40bに載置する。次にドーム20内を減圧し、真空状態として第1るつぼ40aを加熱し蒸着源を溶融し、蒸散させスクリーン基板10に蒸着する。
【0046】
反射部12の蒸着の終了を確認し、次に第2るつぼ40bを図示しない移動装置により所定の位置に移動させる。このとき、第1るつぼ40aは退避している。そして、同様に第2るつぼ40bを加熱し蒸着源の酸化ケイ素を溶融し、蒸発させ先に蒸着した反射部12の反射膜上に保護膜として酸化ケイ素膜を蒸着する。
【0047】
上述の蒸着方法は、いわゆる斜方蒸着であり、斜め方向からの蒸着により、本実施形態の斜め方向からの投射光Lpを効率よく反射する反射部12の反射膜を、投射光Lpの投射範囲に効率よく形成することができる。
【0048】
また、上述の本実施形態の蒸着方法では保護膜13の酸化ケイ素膜も斜方蒸着によって形成することを説明したが、これに限定されず一般的なスクリーン基板10の観察側方向に蒸着源が来るように反射スクリーン10を載置し、凹部11全面に保護膜13の酸化ケイ素膜が形成されても良い。
【0049】
しかし、上述の保護膜13も反射部12に反射膜形成と同様に斜方蒸着とすることで、同じ蒸着装置200内での蒸着加工が可能となり、加工時間の短縮、ドーム20内部の真空環境の維持、ラック60へのスクリーン基板の取り外し回数の削減等、加工工数の大幅な削減が図られ、コストダウンと高品質維持が実現できる。
【0050】
上述の蒸着により反射部12と保護膜13が形成されたスクリーン基板10に、保護層15と、保護層15上に反射防止層16を形成して、反射スクリーン100が完成する。保護層15と反射防止層16は、原料樹脂成分を溶剤により溶解した原料液をスピンコート法、スプレー法などにより積層し、乾燥工程を経て形成することができる。
【0051】
上述の本実施形態の反射スクリーンは、斜方蒸着により光源Pからの投射光を効率よく、しかも高いコントラストの反射光を観察側に反射させるものであり、光源Pとなるプロジェクターを通常室内照明下においても鮮明な画像を観察者に提供する。
【0052】
なお、上述の実施形態の説明における図3(a)および(b)の、反射部12を形成するAl膜、ならびに保護膜13は凹部11の凹面内において端面を備えるように作図されているが、説明上の各部の位置関係を明確にするためのものである。実際の各部の成膜においては、凹面内の端部近傍において、膜厚が略0(ゼロ)になるように徐々に薄くなる。
【符号の説明】
【0053】
10…スクリーン基板、11…凹部、12…反射部、13…保護膜、14…光吸収面、15…保護層、16…反射防止層、100…反射スクリーン。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の観察面側の法線に対して垂直方向にずれた位置から、前記観察面に斜めに投射された投射光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、
前期スクリーン基板の前記観察面側に複数の凹部が形成され、
前記凹部の凹面の少なくとも前記投射光が投射される部位に反射部が形成され、
少なくとも前記反射部を含む前記凹面に透明保護膜が形成されている、
ことを特徴とする反射スクリーン。
【請求項2】
前記スクリーン基板は、少なくとも前記反射部の非形成領域が光を吸収可能に形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の反射スクリーン。
【請求項3】
前記反射部がAl膜で形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の反射スクリーン。
【請求項4】
前記透明保護膜が酸化ケイ素で形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の反射スクリーン。
【請求項5】
前記透明保護膜が10nm以上225nm以下であることを特徴とする請求項4に記載の反射スクリーン。
【請求項6】
スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の観察面側の法線に対して垂直方向にずれた位置から、前記観察面に斜めに投射された投射光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
前記観察面側に複数の凹部が形成された前記スクリーン基板の前記凹部の凹面に反射膜を成膜し反射部を形成する反射部形成工程と、
少なくとも前記反射部を含む前記凹面に透明保護膜を成膜する保護膜形成工程と、を含み、
前記反射部形成工程は、蒸着により前記反射膜を成膜し、前記スクリーン基板の中心より、前記スクリーン基板の前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に前記反射膜の蒸着源を載置する、
ことを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
【請求項7】
前記保護膜形成工程は、蒸着により前記透明保護膜を成膜し、前記反射膜の前記蒸着源の載置位置と同位置に前記透明保護膜の蒸着源を載置する、
ことを特徴とする請求項6に記載の反射スクリーンの製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2011−133608(P2011−133608A)
【公開日】平成23年7月7日(2011.7.7)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−291963(P2009−291963)
【出願日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【出願人】(000002369)セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Fターム(参考)】