反射光学素子の製造方法
【課題】非晶質金属の反射光学素子をプレス成形する工程で、塑性変形時の結晶の回転や滑りあるいは結晶配向による異方変形のために、光学反射面に歪が生じるのを防ぐ。
【解決手段】上型部材３と下型部材４とを有する金型を、ガラス遷移点(Ｔｇ)と結晶化温度(Ｔｘ)を持つ非晶質金属の過冷却液体域（ΔＴ＝Ｔｘ−Ｔｇ）の温度に加熱して、熱間成形を開始し、(Ｔｇ−１０Ｋ)点以下で応力を除荷する。熱間中に、金型内のブランクＷの形状を維持するとともに、金型の面粗さを原子レベルで転写する。これにより、形状精度及び表面精度の高い成形品を得ることができる。
【解決手段】上型部材３と下型部材４とを有する金型を、ガラス遷移点(Ｔｇ)と結晶化温度(Ｔｘ)を持つ非晶質金属の過冷却液体域（ΔＴ＝Ｔｘ−Ｔｇ）の温度に加熱して、熱間成形を開始し、(Ｔｇ−１０Ｋ)点以下で応力を除荷する。熱間中に、金型内のブランクＷの形状を維持するとともに、金型の面粗さを原子レベルで転写する。これにより、形状精度及び表面精度の高い成形品を得ることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、精密な反射光学素子を効率的に製造するための反射光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カーブミラー、車載ミラー、電灯、ライト等に用いる金属ミラーは、通常多結晶金属を用い、機械加工（研削、研磨）や冷間成形（冷間金型プレス、バルジ成形、ダイレスフォーミング等）で製造していた（特許文献１、特許文献２参照）。
【０００３】
このように多結晶金属材料により製造された金属ミラーは、加工や成形による塑性変形時に、結晶の回転や滑りがミラー表面に現れ、かつ結晶配向による異方変形が発生する。これにより金属ミラーの光学面は粗く歪むこととなる。ただし、このような歪みは、カーブミラーやライトで要求される精度においては、問題ないレベルであった。
【０００４】
また、ディスプレーやプロジェクター等の高精細な光学機器への金属ミラーの適応も進んでいる。これらの光学機器における品質（フレア率、空間周波数に対する表面精度）は、前述のカーブミラーやライトと比べて、はるかに高い表面精度が要求されている。高い表面精度の金属ミラーを製造する方法としては、多結晶金属材料の反射光学面に対し長時間にわたる研磨を施して精密ミラーと成す方法もある。しかしながらこの方法では、工程時間が著しく増大し、量産性を考慮すると現実的とはいえない。
【０００５】
多結晶金属に代わる新たな素材としては、バルク非晶質金属(非晶質金属)が知られている。バルク非晶質金属の特徴は、結晶粒界が無く、高硬度、高強度、低ヤング率で、耐腐食性、耐磨耗性に優れていることである。さらに、バルク非晶質金属は加熱しても容易に結晶化はせず、ガラス遷移点と結晶化温度の間の過冷却液体域で流動変形する（特許文献３、特許文献４参照）。
【０００６】
図８は、一定の加圧の下における、バルク非晶質金属の温度に対する形状変化量を概念的に示したグラフである。また図９は、一定の加圧の下における、光学ガラスの温度に対する形状変化量を概念的に示したグラフである。
【０００７】
図８に示したバルク非晶質金属の場合、材料の相変態点を表わすポイントとして、ガラス遷移点（Ｔｇ）及び結晶化温度（Ｔｘ）が使用される。図９に示した光学ガラスの場合は、ガラス遷移点（Ｔｇ）、屈服点（ＡＴ）及び結晶化温度（Ｔｘ）が使用される。バルク非晶質金属と光学ガラスで、共にガラス遷移点を使用するが、その温度における各材料の状態は異なっている。
【０００８】
図８に示すバルク非晶質金属におけるガラス遷移点（Ｔｇ）とは、図９に示す光学ガラスで言うところの屈服点（ＡＴ）に相当する。すなわち、温度上昇に伴い、固相から粘弾性状態に遷移する温度である。また、図８に示すバルク非晶質金属における結晶化温度（Ｔｘ）は、図９に示す光学ガラスと同様に結晶化を開始する温度であり、これは、温度上昇に伴い失透が開始する温度でもある。
【０００９】
光学ガラスの場合、ガラス遷移点（Ｔｇ）とは、温度上昇に伴う異常熱膨張の開始点であり、理論的には、光学ガラスの剛性状態から粘弾性状態に移る温度を示す。このガラス遷移点を越えると、力学的弾性とその一部のエネルギーを分子運動として蓄えることで異常熱膨張が始まる。光学ガラスは、ガラス遷移点から屈服点までの間は、粘性流動は示さないが激しい分子運動により応力緩和に寄与することができる。また、光学ガラスの結晶化温度は粘度が最も低下した点であり、結晶化温度を越えて加熱を続けると、結晶核が徐々に増し非常に緩やかに結晶化が進む。ただしその間、流動性は持続する。
【００１０】
これに対してバルク非晶質金属の場合は、結晶化温度に近づくに従い、非晶質安定性が急速に低下し、短時間に構造緩和が進み粘度が上昇に転じる。そして、結晶化温度を過ぎると急激に結晶化が進み脆性材料に相転移する。そもそもバルク非晶質金属は金属結合であるのに対し、光学ガラスは主にイオン結合であり、互いに機械的特性も大きく異なる。例えば、光学ガラス特有の急速冷却での熱衝撃破壊は、バルク非晶質金属では起こりえない。この他多くの特性差から、バルク非晶質金属と光学ガラスの成形プロセスは本質的に異なる。
【００１１】
このような非晶質金属材を用いて、例えば熱間中で板材を気圧差により変形させ、型に密着成形する精密成形品の製造方法や、熱間中でブロックを圧縮成形する金型や反射鏡の成形法が知られている。非晶質金属材は熱間で急激に粘度が低下する特性を示し、光学ガラスの成形と類似な工程を経て成形することが可能である。
【特許文献１】特開平８−３６２２２号公報
【特許文献２】特開平９−１２０７０５号公報
【特許文献３】特開平５−３０９４２７号公報
【特許文献４】特開平１１−１００６４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、非晶質金属材を用いて面粗さ（Ｒａ）１０ｎｍ程度の高い表面精度を有する反射光学素子を作り出すには、より複雑なプロセスが必要である。特許文献３に示された方法では、圧力差を用いて２秒間で非晶質金属材を成形している。
【００１３】
しかしながらこの場合、Ｒａ１０ｎｍ程度の高い表面精度を得ることは困難である。また、反射光学素子として満足できる安定した形状精度を得ることも難しい。
【００１４】
特許文献４に開示された方法では、過冷却液体域（ΔＴ）、すなわち結晶化温度（Ｔｘ）とガラス遷移点（Ｔｇ）の間の温度領域でプレス成形を行なっている。しかしながらプレス圧力に関しては詳しい説明はない。例えば、ΔＴの温度範囲でプレス圧力を解除した後冷却すると、Ｔｇ点以下の温度域での熱収縮により、成形面の表面精度が安定した成形品を得ることができない。これは離型により形状の流動変形が生ずるためであり、Ｒａ数ｎｍの表面精度と±１０＊λ／２（λ：６３３ｎｍ）の形状精度を得ることはできなかった。
【００１５】
特許文献３及び特許文献４に示された方法では、Ｔｘ点近傍で、５０ＭＰａ以上の高応力の条件を提案しているが、実際そのような条件下では、材料の結晶化を促進し、素子そのものを作り出すことは困難であった。また、型の耐久性が短くなり、さらに大応力を発生する装置が必要となるため、成形機の大型化を引き起こすこととなる。
【００１６】
本発明は、高い形状及び表面精度を有する非晶質金属の反射光学素子を、成形タクトを伸ばすことなく、また、装置を大型化することなく効率的に製造することのできる反射光学素子の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の反射光学素子の製造方法は、結晶化温度（Ｔｘ）及びガラス遷移点（Ｔｘ）を有する非晶質金属の反射光学素子を、金型を用いたプレス成形によって製造する反射光学素子の製造方法において、前記非晶質金属のＴｇ点以上Ｔｘ点以下の金型温度で前記プレス成形を開始する工程と、前記非晶質金属の（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下の金型温度で前記金型の加圧力を解除する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
熱間中に、金型内に充填した非晶質金属材（ブランク）の形状を維持すると同時に、型の面粗さを原子レベルで成形品に転写することを可能とする。（Ｔｇ−１０Ｋ）点より高い温度でプレス成形圧力である金型の加圧力を解除すると、形状及び表面精度が低く、品質ばらつきの大きな成形品となる。
【００１９】
また、ΔＴ(Ｔｇ−Ｔｘ)に対して、金型温度が（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の間において、１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力でプレス成形を行なうとよい。このような温度範囲で形状を作り出した場合、必要十分な品質を有する成形品が得られ、品質の安定性が向上する。すなわち、（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点より高い温度では、急速に構造緩和が進み結晶化が促進される。
【００２０】
このように、過冷却液体域 (ΔＴ)の温度で熱間成形を開始し、（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下で応力を除荷することにより、金型の形状及び表面粗さを高い精度で転写することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
【００２２】
図１に示すように、真空排気口１ａを有するチャンバー１内に、プレス軸２によって駆動される上型部材３及び下型部材４を有する金型を配置し、下型部材４に非晶質金属材であるブランクＷを充填する。金型の加熱手段として、個別に制御可能なハロゲンヒーター５、セラミックスヒーター３ａ、４ａ、カートリッジヒーター３ｂ、４ｂ及びリフレクター６を用いた。チャンバー内雰囲気は、真空雰囲気や不活性ガス雰囲気などを作り出すことが可能である。
【００２３】
結晶化温度（Ｔｘ）及びガラス遷移点（Ｔｇ）を持つ非晶質金属のブランクＷを、上記金型を用いてプレス成形し、反射光学素子を製造する工程において、前記非晶質金属のＴｇ点以上Ｔｘ点以下の金型温度で前記プレス成形を開始する。また、非晶質金属の（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下の金型温度で金型の加圧力（プレス成形圧力）を解除する。
【００２４】
前記プレス成形は、非晶質金属の過冷却液体域ΔＴ（Ｔｘ−Ｔｇ）に対して、（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の金型温度において１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力で行なわれるとよい。
【００２５】
加圧手段であるプレス軸２を上下させることで、挟み込み、圧縮／除荷の強さを制御する。なお、加熱手段、雰囲気、加圧手段は上記の設備に限定されない。また、上下型部材の改質、例えば窒化膜やＤＬＣ膜、炭化膜、非晶質膜、貴金属合金膜等を施しても差し支えない。
【００２６】
図２は、図１の装置を用いた熱間金型圧縮によりブランクＷを加工中の状態と、成形品（反射光学素子）Ｐを示す図である。最終的に金型表面形状に流動変形させた後、２次加工の必要のないネットシェイプ品を得ることができる。
【００２７】
成形後の反射光学素子は、表面精度及びミクロな表面形状を、（Ｚｙｇｏ社製）三次元表面構造解析顕微鏡を用いて０．７２１ｍｍ×０．５４１ｍｍの視野内で全面粗さ（ｒｍｓ）値により測定した。また、マクロな形状測定には、（Ｚｙｇｏ社製）光学干渉計を用いて、装置からの球面波の収束点から曲率半径分、移動させた被測定物表面の干渉縞（ニュートン縞、３１６．５ｎｍ／本）を確認し、型からのズレ量（形状精度の差異）を測定した。
【実施例１】
【００２８】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｚｒ基合金（Ｔｇ点４１５℃、Ｔｘ点５００℃、ΔＴ：８５℃）の４０ｍｍ×２０ｍｍ×１．０ｍｍのブランクを準備し、図１に示す成形装置により反射光学素子を成形した。予め２００℃に維持した超硬合金製のφ３０ｍｍ球面金型にセットし、真空排気後窒素フロー雰囲気とした。なお、金型の光学成形面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．０ｎｍ、また、型の球面精度はニュートン０．５本（約１６０ｎｍ）以内のズレであった。成形プロセス条件は図３の温度・荷重パターンに対応する。加熱はハロゲンヒーターにより、均熱を維持しながら、４４０℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．３）まで昇温し、保温後１０ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３５０℃で荷重を解除し、図４の（ａ）に示す反射光学素子を得た。成形時間は合計１０分以内であった。
【００２９】
図４の（ａ）に示すように、反射光学素子である成形品Ｐは、有効光学面Ｐ１とフランジ部Ｐ２を有する。有効光学面Ｐ１の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．２ｎｍであり、形状精度は図４の（ｂ）に示すようにニュートン０．８本（約２５０ｎｍ）のズレであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精度に転写していることが確認できた。
【実施例２】
【００３０】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｐｄ基合金（Ｔｇ点３１０℃、Ｔｘ点３８０℃、ΔＴ：７０℃）の３０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍのブランクを準備し、実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。予め粉末焼結重合金製の平面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型の光学成形面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．９ｎｍ、また、型の平面精度はニュートン０．５本（約１６０ｎｍ）以内のズレであった。成形プロセス条件は図５の温度・荷重パターンに対応する。加熱はセラミックスヒーターで均熱を維持しながら室温から３１７℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）まで昇温し、保温後１４ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３１０℃で１８ＭＰａに昇圧し、３００℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形時間は１０分以内であった。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は２．４ｎｍであり、形状精度はニュートン１．７本（約５３５ｎｍ）のズレであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精密に転写していることが確認できた。
【実施例３】
【００３１】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｐｔ基合金（Ｔｇ点２４５℃、Ｔｘ点３０５℃、ΔＴ：６０℃）の２０ｍｍ×２０ｍｍ×０．３ｍｍを熱膨張率の同等な光学ガラス上に物理的に積み重ねたブランクを準備した。このブランクから実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。ブランクのバルク非晶質合金面をＮｉ−Ｐめっき製の同心円状の回折格子金型に向かい合わせてセットした。成形雰囲気は大気とした。格子のアスペクト比は４０．０で角は出来なりとした。また、金型の全面粗さ（ｒｍｓ）は１０．４ｎｍであった。成形プロセス条件は図６の温度・荷重パターンに対応する。加熱はカートリッジヒーターで均熱を維持しながら室温から２９３℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）まで昇温し、直ちに３ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、金型の加圧力を２６０℃で１８ＭＰａに増加させ、２００℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形時間は合計１５分以内であった。成形品の全面粗さ（ｒｍｓ）は１０．９ｎｍであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精密に転写していることが確認できた。
【実施例４】
【００３２】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｔｉ基合金（Ｔｇ点３９０℃、Ｔｘ点４６０℃、ΔＴ：７０℃）の５０ｍｍ×８０ｍｍ×１．５ｍｍのブランクを準備し、実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。予め３００℃に維持した炭化珪素製のφ６５ｍｍ球面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型のフランジには基準となる円柱状の穴を加工した。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は０．９６ｎｍ、型の球面精度はニュートン０．５本（約１４０ｎｍ）以内のズレであった。また、金型表面にはＴｉＮ等の窒化物金属を成膜した。成形プロセス条件は図７の温度・荷重パターンに対応する。加熱はハロゲンヒーター及びセラミックスヒーターを併用し、均熱を維持しながら４２０℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．４）まで昇温し、保温後、１３ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し４００℃で８ＭＰａに降圧し、２５０℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形時間は合計１０分以内であった。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は０．９８ｎｍであり、形状精度はニュートン２本（約６３０ｎｍ）以内のズレであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精密に転写していることが確認できた。
（比較例１）
バルク非晶質Ｚｒ基合金（Ｔｇ点４１５℃、Ｔｘ点５００℃、ΔＴ：８５℃）の４０ｍｍ×２０ｍｍ×１．０ｍｍのブランクを準備し、実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。予め２００℃に維持した超硬合金製のφ３０ｍｍ球面金型にセットし、真空排気後窒素フロー雰囲気とした。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．０ｎｍ、型の球面精度はニュートン０．５本（約１４０ｍｎ）のズレであった。また、金型表面にはＴｉＮ等の窒化物金属を成膜した。加熱はハロゲンヒーターにより、均熱を維持しながら、４２０℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．０６）で保温後、１５ＭＰａで圧縮した。実施例１と同様に１０分以内の成形を実施したが、成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は６．６ｎｍであり、また形状精度はニュートン１０本（約３．１５μｍ）以上あり、高品質反射光学素子としての品質を満たすことができなかった。この結果、金型の補正加工が複数回必要となり、製造コストが増大し、好適な条件とはいえなかった。
（比較例２）
バルク非晶質Ｐｄ基合金（Ｔｇ点３１０℃、Ｔｘ点３８０℃、ΔＴ：７０℃）の３０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍのブランクを準備し、実施例２と同様にして反射光学素子を成形した。粉末焼結重合金製の平面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．９ｎｍ、型の平面精度はニュートン０．５本（約１４０ｎｍ）以内であった。加熱はセラミックスヒーターで均熱を維持しながら室温から３１７℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）まで昇温し、保温後１４ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３１０℃で１８ＭＰａに昇圧し、３０５℃で荷重を解除し、成形品を得た。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は４．２ｎｍであり、また形状精度はニュートン１０本（約３．１５μｍ）以上あり、高品質反射光学素子としての品質を満たすことができなかった。
（比較例３）
バルク非晶質Ｐｄ基合金（Ｔｇ点３１０℃、Ｔｘ点３８０℃、ΔＴ：７０℃）の３０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍのブランクを準備し、実施例２と同様にして反射光学素子を成形した。粉末焼結重合金製の平面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．９ｎｍ、型の平面精度はニュートン０．５本（約１４０ｎｍ）以内であった。加熱はセラミックスヒーターで均熱を維持しながら室温から３１７℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）まで昇温し、保温後１４ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３０５℃で１８ＭＰａに圧力を変更し、３００℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は６．５ｎｍであり、また形状精度はニュートン１０本（約３．１５μｍ）以上あり、高品質反射光学素子としての品質を満たすことができなかった。
（比較例４）
バルク非晶質Ｐｔ基合金（Ｔｇ点２４５℃、Ｔｘ点３０５℃、ΔＴ：６０℃）の２０ｍｍ×２０ｍｍ×１．０ｍｍを、熱膨張率の同等な光学ガラス上に物理的に積み重ねたブランクを準備した。このブランクから実施例３と同様にして反射光学素子を成形した。ブランクのバルク非晶質合金面をＮｉ−Ｐめっき製の同心円状の回折格子金型に向かい合わせてセットした。成形雰囲気は大気とした。格子のアスペクト比は４０．０で角は出来なりとした。また、金型の全面粗さ（ｒｍｓ）は１０．４ｎｍであった。加熱はカートリッジヒーターで均熱を維持しながら室温から３００℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．９）まで昇温し、直ちに３ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、２６０℃で１８ＭＰaに昇圧し、２００℃で荷重を解除し、成形品を得た。成形品を離型したところ、角の充填金属が欠けた。Ｔｘ点近傍の温度保持と圧力により結晶化が加速し、その結果成形品が脆化し、離型時に鋭角部に応力が集中して、欠けたと考えられる。
【００３３】
実施例１〜４及び比較例１〜４により、金型温度が被成形金属である非晶質金属の（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の間の時、少なくとも１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力でプレス成形することが必要となることがわかる。また、加圧後、（Ｔｇ−１０Ｋ）点より低い温度で圧力を解除することにより、成形品精度が品質を満足する。圧力の変化を必要とするプレス成形の場合、冷却が始まり、少なくとも成形温度より低く、Ｔｇ点以上の温度範囲で変更することが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】一実施形態に係る成形装置を示す図である。
【図２】成形中の成形装置を示す図である。
【図３】実施例１による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図４】実施例１による成形品を示す図である。
【図５】実施例２による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図６】実施例３による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図７】実施例４による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図８】一定加圧の下における、バルク非晶質合金の温度と体積の関係を示すグラフである。
【図９】一定加圧の下における、光学ガラスの温度と体積の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３５】
１ チャンバー
２ プレス軸
３ 上型部材
４ 下型部材
５ ハロゲンヒーター
６ リフレクター
【技術分野】
【０００１】
本発明は、精密な反射光学素子を効率的に製造するための反射光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カーブミラー、車載ミラー、電灯、ライト等に用いる金属ミラーは、通常多結晶金属を用い、機械加工（研削、研磨）や冷間成形（冷間金型プレス、バルジ成形、ダイレスフォーミング等）で製造していた（特許文献１、特許文献２参照）。
【０００３】
このように多結晶金属材料により製造された金属ミラーは、加工や成形による塑性変形時に、結晶の回転や滑りがミラー表面に現れ、かつ結晶配向による異方変形が発生する。これにより金属ミラーの光学面は粗く歪むこととなる。ただし、このような歪みは、カーブミラーやライトで要求される精度においては、問題ないレベルであった。
【０００４】
また、ディスプレーやプロジェクター等の高精細な光学機器への金属ミラーの適応も進んでいる。これらの光学機器における品質（フレア率、空間周波数に対する表面精度）は、前述のカーブミラーやライトと比べて、はるかに高い表面精度が要求されている。高い表面精度の金属ミラーを製造する方法としては、多結晶金属材料の反射光学面に対し長時間にわたる研磨を施して精密ミラーと成す方法もある。しかしながらこの方法では、工程時間が著しく増大し、量産性を考慮すると現実的とはいえない。
【０００５】
多結晶金属に代わる新たな素材としては、バルク非晶質金属(非晶質金属)が知られている。バルク非晶質金属の特徴は、結晶粒界が無く、高硬度、高強度、低ヤング率で、耐腐食性、耐磨耗性に優れていることである。さらに、バルク非晶質金属は加熱しても容易に結晶化はせず、ガラス遷移点と結晶化温度の間の過冷却液体域で流動変形する（特許文献３、特許文献４参照）。
【０００６】
図８は、一定の加圧の下における、バルク非晶質金属の温度に対する形状変化量を概念的に示したグラフである。また図９は、一定の加圧の下における、光学ガラスの温度に対する形状変化量を概念的に示したグラフである。
【０００７】
図８に示したバルク非晶質金属の場合、材料の相変態点を表わすポイントとして、ガラス遷移点（Ｔｇ）及び結晶化温度（Ｔｘ）が使用される。図９に示した光学ガラスの場合は、ガラス遷移点（Ｔｇ）、屈服点（ＡＴ）及び結晶化温度（Ｔｘ）が使用される。バルク非晶質金属と光学ガラスで、共にガラス遷移点を使用するが、その温度における各材料の状態は異なっている。
【０００８】
図８に示すバルク非晶質金属におけるガラス遷移点（Ｔｇ）とは、図９に示す光学ガラスで言うところの屈服点（ＡＴ）に相当する。すなわち、温度上昇に伴い、固相から粘弾性状態に遷移する温度である。また、図８に示すバルク非晶質金属における結晶化温度（Ｔｘ）は、図９に示す光学ガラスと同様に結晶化を開始する温度であり、これは、温度上昇に伴い失透が開始する温度でもある。
【０００９】
光学ガラスの場合、ガラス遷移点（Ｔｇ）とは、温度上昇に伴う異常熱膨張の開始点であり、理論的には、光学ガラスの剛性状態から粘弾性状態に移る温度を示す。このガラス遷移点を越えると、力学的弾性とその一部のエネルギーを分子運動として蓄えることで異常熱膨張が始まる。光学ガラスは、ガラス遷移点から屈服点までの間は、粘性流動は示さないが激しい分子運動により応力緩和に寄与することができる。また、光学ガラスの結晶化温度は粘度が最も低下した点であり、結晶化温度を越えて加熱を続けると、結晶核が徐々に増し非常に緩やかに結晶化が進む。ただしその間、流動性は持続する。
【００１０】
これに対してバルク非晶質金属の場合は、結晶化温度に近づくに従い、非晶質安定性が急速に低下し、短時間に構造緩和が進み粘度が上昇に転じる。そして、結晶化温度を過ぎると急激に結晶化が進み脆性材料に相転移する。そもそもバルク非晶質金属は金属結合であるのに対し、光学ガラスは主にイオン結合であり、互いに機械的特性も大きく異なる。例えば、光学ガラス特有の急速冷却での熱衝撃破壊は、バルク非晶質金属では起こりえない。この他多くの特性差から、バルク非晶質金属と光学ガラスの成形プロセスは本質的に異なる。
【００１１】
このような非晶質金属材を用いて、例えば熱間中で板材を気圧差により変形させ、型に密着成形する精密成形品の製造方法や、熱間中でブロックを圧縮成形する金型や反射鏡の成形法が知られている。非晶質金属材は熱間で急激に粘度が低下する特性を示し、光学ガラスの成形と類似な工程を経て成形することが可能である。
【特許文献１】特開平８−３６２２２号公報
【特許文献２】特開平９−１２０７０５号公報
【特許文献３】特開平５−３０９４２７号公報
【特許文献４】特開平１１−１００６４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、非晶質金属材を用いて面粗さ（Ｒａ）１０ｎｍ程度の高い表面精度を有する反射光学素子を作り出すには、より複雑なプロセスが必要である。特許文献３に示された方法では、圧力差を用いて２秒間で非晶質金属材を成形している。
【００１３】
しかしながらこの場合、Ｒａ１０ｎｍ程度の高い表面精度を得ることは困難である。また、反射光学素子として満足できる安定した形状精度を得ることも難しい。
【００１４】
特許文献４に開示された方法では、過冷却液体域（ΔＴ）、すなわち結晶化温度（Ｔｘ）とガラス遷移点（Ｔｇ）の間の温度領域でプレス成形を行なっている。しかしながらプレス圧力に関しては詳しい説明はない。例えば、ΔＴの温度範囲でプレス圧力を解除した後冷却すると、Ｔｇ点以下の温度域での熱収縮により、成形面の表面精度が安定した成形品を得ることができない。これは離型により形状の流動変形が生ずるためであり、Ｒａ数ｎｍの表面精度と±１０＊λ／２（λ：６３３ｎｍ）の形状精度を得ることはできなかった。
【００１５】
特許文献３及び特許文献４に示された方法では、Ｔｘ点近傍で、５０ＭＰａ以上の高応力の条件を提案しているが、実際そのような条件下では、材料の結晶化を促進し、素子そのものを作り出すことは困難であった。また、型の耐久性が短くなり、さらに大応力を発生する装置が必要となるため、成形機の大型化を引き起こすこととなる。
【００１６】
本発明は、高い形状及び表面精度を有する非晶質金属の反射光学素子を、成形タクトを伸ばすことなく、また、装置を大型化することなく効率的に製造することのできる反射光学素子の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の反射光学素子の製造方法は、結晶化温度（Ｔｘ）及びガラス遷移点（Ｔｘ）を有する非晶質金属の反射光学素子を、金型を用いたプレス成形によって製造する反射光学素子の製造方法において、前記非晶質金属のＴｇ点以上Ｔｘ点以下の金型温度で前記プレス成形を開始する工程と、前記非晶質金属の（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下の金型温度で前記金型の加圧力を解除する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
熱間中に、金型内に充填した非晶質金属材（ブランク）の形状を維持すると同時に、型の面粗さを原子レベルで成形品に転写することを可能とする。（Ｔｇ−１０Ｋ）点より高い温度でプレス成形圧力である金型の加圧力を解除すると、形状及び表面精度が低く、品質ばらつきの大きな成形品となる。
【００１９】
また、ΔＴ(Ｔｇ−Ｔｘ)に対して、金型温度が（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の間において、１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力でプレス成形を行なうとよい。このような温度範囲で形状を作り出した場合、必要十分な品質を有する成形品が得られ、品質の安定性が向上する。すなわち、（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点より高い温度では、急速に構造緩和が進み結晶化が促進される。
【００２０】
このように、過冷却液体域 (ΔＴ)の温度で熱間成形を開始し、（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下で応力を除荷することにより、金型の形状及び表面粗さを高い精度で転写することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
【００２２】
図１に示すように、真空排気口１ａを有するチャンバー１内に、プレス軸２によって駆動される上型部材３及び下型部材４を有する金型を配置し、下型部材４に非晶質金属材であるブランクＷを充填する。金型の加熱手段として、個別に制御可能なハロゲンヒーター５、セラミックスヒーター３ａ、４ａ、カートリッジヒーター３ｂ、４ｂ及びリフレクター６を用いた。チャンバー内雰囲気は、真空雰囲気や不活性ガス雰囲気などを作り出すことが可能である。
【００２３】
結晶化温度（Ｔｘ）及びガラス遷移点（Ｔｇ）を持つ非晶質金属のブランクＷを、上記金型を用いてプレス成形し、反射光学素子を製造する工程において、前記非晶質金属のＴｇ点以上Ｔｘ点以下の金型温度で前記プレス成形を開始する。また、非晶質金属の（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下の金型温度で金型の加圧力（プレス成形圧力）を解除する。
【００２４】
前記プレス成形は、非晶質金属の過冷却液体域ΔＴ（Ｔｘ−Ｔｇ）に対して、（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の金型温度において１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力で行なわれるとよい。
【００２５】
加圧手段であるプレス軸２を上下させることで、挟み込み、圧縮／除荷の強さを制御する。なお、加熱手段、雰囲気、加圧手段は上記の設備に限定されない。また、上下型部材の改質、例えば窒化膜やＤＬＣ膜、炭化膜、非晶質膜、貴金属合金膜等を施しても差し支えない。
【００２６】
図２は、図１の装置を用いた熱間金型圧縮によりブランクＷを加工中の状態と、成形品（反射光学素子）Ｐを示す図である。最終的に金型表面形状に流動変形させた後、２次加工の必要のないネットシェイプ品を得ることができる。
【００２７】
成形後の反射光学素子は、表面精度及びミクロな表面形状を、（Ｚｙｇｏ社製）三次元表面構造解析顕微鏡を用いて０．７２１ｍｍ×０．５４１ｍｍの視野内で全面粗さ（ｒｍｓ）値により測定した。また、マクロな形状測定には、（Ｚｙｇｏ社製）光学干渉計を用いて、装置からの球面波の収束点から曲率半径分、移動させた被測定物表面の干渉縞（ニュートン縞、３１６．５ｎｍ／本）を確認し、型からのズレ量（形状精度の差異）を測定した。
【実施例１】
【００２８】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｚｒ基合金（Ｔｇ点４１５℃、Ｔｘ点５００℃、ΔＴ：８５℃）の４０ｍｍ×２０ｍｍ×１．０ｍｍのブランクを準備し、図１に示す成形装置により反射光学素子を成形した。予め２００℃に維持した超硬合金製のφ３０ｍｍ球面金型にセットし、真空排気後窒素フロー雰囲気とした。なお、金型の光学成形面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．０ｎｍ、また、型の球面精度はニュートン０．５本（約１６０ｎｍ）以内のズレであった。成形プロセス条件は図３の温度・荷重パターンに対応する。加熱はハロゲンヒーターにより、均熱を維持しながら、４４０℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．３）まで昇温し、保温後１０ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３５０℃で荷重を解除し、図４の（ａ）に示す反射光学素子を得た。成形時間は合計１０分以内であった。
【００２９】
図４の（ａ）に示すように、反射光学素子である成形品Ｐは、有効光学面Ｐ１とフランジ部Ｐ２を有する。有効光学面Ｐ１の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．２ｎｍであり、形状精度は図４の（ｂ）に示すようにニュートン０．８本（約２５０ｎｍ）のズレであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精度に転写していることが確認できた。
【実施例２】
【００３０】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｐｄ基合金（Ｔｇ点３１０℃、Ｔｘ点３８０℃、ΔＴ：７０℃）の３０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍのブランクを準備し、実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。予め粉末焼結重合金製の平面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型の光学成形面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．９ｎｍ、また、型の平面精度はニュートン０．５本（約１６０ｎｍ）以内のズレであった。成形プロセス条件は図５の温度・荷重パターンに対応する。加熱はセラミックスヒーターで均熱を維持しながら室温から３１７℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）まで昇温し、保温後１４ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３１０℃で１８ＭＰａに昇圧し、３００℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形時間は１０分以内であった。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は２．４ｎｍであり、形状精度はニュートン１．７本（約５３５ｎｍ）のズレであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精密に転写していることが確認できた。
【実施例３】
【００３１】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｐｔ基合金（Ｔｇ点２４５℃、Ｔｘ点３０５℃、ΔＴ：６０℃）の２０ｍｍ×２０ｍｍ×０．３ｍｍを熱膨張率の同等な光学ガラス上に物理的に積み重ねたブランクを準備した。このブランクから実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。ブランクのバルク非晶質合金面をＮｉ−Ｐめっき製の同心円状の回折格子金型に向かい合わせてセットした。成形雰囲気は大気とした。格子のアスペクト比は４０．０で角は出来なりとした。また、金型の全面粗さ（ｒｍｓ）は１０．４ｎｍであった。成形プロセス条件は図６の温度・荷重パターンに対応する。加熱はカートリッジヒーターで均熱を維持しながら室温から２９３℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）まで昇温し、直ちに３ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、金型の加圧力を２６０℃で１８ＭＰａに増加させ、２００℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形時間は合計１５分以内であった。成形品の全面粗さ（ｒｍｓ）は１０．９ｎｍであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精密に転写していることが確認できた。
【実施例４】
【００３２】
非晶質金属であるバルク非晶質Ｔｉ基合金（Ｔｇ点３９０℃、Ｔｘ点４６０℃、ΔＴ：７０℃）の５０ｍｍ×８０ｍｍ×１．５ｍｍのブランクを準備し、実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。予め３００℃に維持した炭化珪素製のφ６５ｍｍ球面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型のフランジには基準となる円柱状の穴を加工した。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は０．９６ｎｍ、型の球面精度はニュートン０．５本（約１４０ｎｍ）以内のズレであった。また、金型表面にはＴｉＮ等の窒化物金属を成膜した。成形プロセス条件は図７の温度・荷重パターンに対応する。加熱はハロゲンヒーター及びセラミックスヒーターを併用し、均熱を維持しながら４２０℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．４）まで昇温し、保温後、１３ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し４００℃で８ＭＰａに降圧し、２５０℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形時間は合計１０分以内であった。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は０．９８ｎｍであり、形状精度はニュートン２本（約６３０ｎｍ）以内のズレであった。このことから、成形品の表面粗さ、面形状とも型をほぼ高精密に転写していることが確認できた。
（比較例１）
バルク非晶質Ｚｒ基合金（Ｔｇ点４１５℃、Ｔｘ点５００℃、ΔＴ：８５℃）の４０ｍｍ×２０ｍｍ×１．０ｍｍのブランクを準備し、実施例１と同様にして反射光学素子を成形した。予め２００℃に維持した超硬合金製のφ３０ｍｍ球面金型にセットし、真空排気後窒素フロー雰囲気とした。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．０ｎｍ、型の球面精度はニュートン０．５本（約１４０ｍｎ）のズレであった。また、金型表面にはＴｉＮ等の窒化物金属を成膜した。加熱はハロゲンヒーターにより、均熱を維持しながら、４２０℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．０６）で保温後、１５ＭＰａで圧縮した。実施例１と同様に１０分以内の成形を実施したが、成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は６．６ｎｍであり、また形状精度はニュートン１０本（約３．１５μｍ）以上あり、高品質反射光学素子としての品質を満たすことができなかった。この結果、金型の補正加工が複数回必要となり、製造コストが増大し、好適な条件とはいえなかった。
（比較例２）
バルク非晶質Ｐｄ基合金（Ｔｇ点３１０℃、Ｔｘ点３８０℃、ΔＴ：７０℃）の３０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍのブランクを準備し、実施例２と同様にして反射光学素子を成形した。粉末焼結重合金製の平面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．９ｎｍ、型の平面精度はニュートン０．５本（約１４０ｎｍ）以内であった。加熱はセラミックスヒーターで均熱を維持しながら室温から３１７℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）まで昇温し、保温後１４ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３１０℃で１８ＭＰａに昇圧し、３０５℃で荷重を解除し、成形品を得た。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は４．２ｎｍであり、また形状精度はニュートン１０本（約３．１５μｍ）以上あり、高品質反射光学素子としての品質を満たすことができなかった。
（比較例３）
バルク非晶質Ｐｄ基合金（Ｔｇ点３１０℃、Ｔｘ点３８０℃、ΔＴ：７０℃）の３０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍのブランクを準備し、実施例２と同様にして反射光学素子を成形した。粉末焼結重合金製の平面金型にセットし、真空雰囲気とした。金型の光学形成面の全面粗さ（ｒｍｓ）は１．９ｎｍ、型の平面精度はニュートン０．５本（約１４０ｎｍ）以内であった。加熱はセラミックスヒーターで均熱を維持しながら室温から３１７℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）まで昇温し、保温後１４ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、３０５℃で１８ＭＰａに圧力を変更し、３００℃で荷重を解除し、反射光学素子を得た。成形品の有効光学面の全面粗さ（ｒｍｓ）は６．５ｎｍであり、また形状精度はニュートン１０本（約３．１５μｍ）以上あり、高品質反射光学素子としての品質を満たすことができなかった。
（比較例４）
バルク非晶質Ｐｔ基合金（Ｔｇ点２４５℃、Ｔｘ点３０５℃、ΔＴ：６０℃）の２０ｍｍ×２０ｍｍ×１．０ｍｍを、熱膨張率の同等な光学ガラス上に物理的に積み重ねたブランクを準備した。このブランクから実施例３と同様にして反射光学素子を成形した。ブランクのバルク非晶質合金面をＮｉ−Ｐめっき製の同心円状の回折格子金型に向かい合わせてセットした。成形雰囲気は大気とした。格子のアスペクト比は４０．０で角は出来なりとした。また、金型の全面粗さ（ｒｍｓ）は１０．４ｎｍであった。加熱はカートリッジヒーターで均熱を維持しながら室温から３００℃（＝Ｔｇ＋ΔＴ×０．９）まで昇温し、直ちに３ＭＰａで圧縮した。所定時間経過後、窒素ガスで冷却し、２６０℃で１８ＭＰaに昇圧し、２００℃で荷重を解除し、成形品を得た。成形品を離型したところ、角の充填金属が欠けた。Ｔｘ点近傍の温度保持と圧力により結晶化が加速し、その結果成形品が脆化し、離型時に鋭角部に応力が集中して、欠けたと考えられる。
【００３３】
実施例１〜４及び比較例１〜４により、金型温度が被成形金属である非晶質金属の（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の間の時、少なくとも１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力でプレス成形することが必要となることがわかる。また、加圧後、（Ｔｇ−１０Ｋ）点より低い温度で圧力を解除することにより、成形品精度が品質を満足する。圧力の変化を必要とするプレス成形の場合、冷却が始まり、少なくとも成形温度より低く、Ｔｇ点以上の温度範囲で変更することが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】一実施形態に係る成形装置を示す図である。
【図２】成形中の成形装置を示す図である。
【図３】実施例１による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図４】実施例１による成形品を示す図である。
【図５】実施例２による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図６】実施例３による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図７】実施例４による成形プロセス条件を示すグラフである。
【図８】一定加圧の下における、バルク非晶質合金の温度と体積の関係を示すグラフである。
【図９】一定加圧の下における、光学ガラスの温度と体積の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３５】
１ チャンバー
２ プレス軸
３ 上型部材
４ 下型部材
５ ハロゲンヒーター
６ リフレクター
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶化温度（Ｔｘ）及びガラス遷移点（Ｔｇ）を有する非晶質金属の反射光学素子を、金型を用いたプレス成形によって製造する反射光学素子の製造方法において、
前記非晶質金属のＴｇ点以上Ｔｘ点以下の金型温度で前記プレス成形を開始する工程と、
前記非晶質金属の（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下の金型温度で前記金型の加圧力を解除する工程と、を有することを特徴とする反射光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記プレス成形は、前記非晶質金属の過冷却液体域ΔＴ（Ｔｘ−Ｔｇ）に対して、（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の金型温度において１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力で行なわれることを特徴とする請求項１記載の反射光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記プレス成形を開始した後、前記非晶質金属のＴｇ点以上の金型温度で加圧力を増加させることを特徴とする請求項１又は２記載の反射光学素子の製造方法。
【請求項１】
結晶化温度（Ｔｘ）及びガラス遷移点（Ｔｇ）を有する非晶質金属の反射光学素子を、金型を用いたプレス成形によって製造する反射光学素子の製造方法において、
前記非晶質金属のＴｇ点以上Ｔｘ点以下の金型温度で前記プレス成形を開始する工程と、
前記非晶質金属の（Ｔｇ−１０Ｋ）点以下の金型温度で前記金型の加圧力を解除する工程と、を有することを特徴とする反射光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記プレス成形は、前記非晶質金属の過冷却液体域ΔＴ（Ｔｘ−Ｔｇ）に対して、（Ｔｇ＋ΔＴ×０．１）点以上（Ｔｇ＋ΔＴ×０．８）点以下の金型温度において１ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の加圧力で行なわれることを特徴とする請求項１記載の反射光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記プレス成形を開始した後、前記非晶質金属のＴｇ点以上の金型温度で加圧力を増加させることを特徴とする請求項１又は２記載の反射光学素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００８−２８６９７２（Ｐ２００８−２８６９７２Ａ）
【公開日】平成２０年１１月２７日（２００８．１１．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１３１３０６（Ｐ２００７−１３１３０６）
【出願日】平成１９年５月１７日（２００７．５．１７）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月２７日（２００８．１１．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月１７日（２００７．５．１７）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]