感熱転写シート
【課題】 プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立した感熱転写シートを提供する。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、特定のイエロー色素を少なくとも１種及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートであって、該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下である感熱転写シート。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、特定のイエロー色素を少なくとも１種及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートであって、該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下である感熱転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は感熱転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
この染料拡散転写記録方式では、染料を含有する感熱転写シート（以下、インクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルプリンターヘッド等によってインクシートを加熱することでインクシート中の染料を感熱転写受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００３】
サーマルプリンターヘッドと感熱転写シートの焼付き防止およびサーマルプリンターヘッドと感熱転写シート間の滑り性を付与する等の目的で、プリンターのサーマルプリンターヘッドに接する側の感熱転写シートには耐熱滑性層が設けられている。また通常この感熱転写シートは基材フィルム上に染料層を塗工後、乾燥し巻き取ってロール形態（ここでは大幅ロールと呼ぶ）として一旦保管し、引き続きロールから引き出して所望の巾にカットして、再度巻き取ってロール形態（以後、製品ロールとも称す）とし、プリンターにセットする製品形態として保管している。このため、大幅ロール保管中に耐熱滑性層と染料層が接触し、色素が耐熱滑性層に意図せず転写し、さらに製品ロールに加工されて経時した時に、耐熱滑性層から再度保護層表面や染料層表面に色素が意図せず転写して、その状態でプリントを行うと、この意図せずに転写された色素がプリント上に転写してしまうという不具合が起こっていた。特に転写した色素がイエロー色素の場合は最終的にプリント上に転写すると、白地のプリントが黄色になり、いわゆるステインとなり、カラーハードコピー（写真）としての品質劣化としてその問題は大きい。
また、感熱転写シートにはプリント時に高い転写濃度が求められているが、転写濃度の高い色素は分光吸収も高く、上記のような耐熱滑性層への色素の転写が起こりやすく、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立が求められていた。
【０００４】
一方、タルクを含有する耐熱滑性層は特許文献１に記載されており、５−ピラゾロン骨格を有するイエロー色素は特許文献２に記載されているが、記載されている感熱転写シートでは、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立の問題を克服することに対しては必ずしも満足できるものでなく、この問題点の解決が強く求められていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−９０９４２号公報
【特許文献２】特公平６−１９０３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立した感熱転写シートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、下記手段で本発明の上記目的が達成できることを見出した。
（１）基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートであって、該イエロー色素の少なくとも１種が下記一般式（１）で表される色素であり、かつ該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする感熱転写シート。
【化１】
（一般式（１）中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基または置換もしくは無置換のカルバモイル基を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。）
（２）前記投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が４０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．６０以下であることを特徴とする（１）に記載の感熱転写シート。
（３）前記耐熱滑性層中のタルク粒子の投影面積が１００平方μｍ以上の個数が該耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たり１個以下であることを特徴とする（１）または（２）に記載の感熱転写シート。
（４）前記耐熱滑性層に、モース硬度３から６であり、粒子の平均球相当径が０．３μｍから５μｍであり、かつ当該粒子の最大巾の該平均球相当径に対する比が１．５から５０である、タルク以外の無機粒子を少なくとも１種含有することを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（５）前記耐熱滑性層に、さらに下記一般式（Ｐ）で表される化合物を含有することを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
一般式（Ｐ）
｛（Ｒ１ａＯ）（Ｒ２ａＯ）Ｐ（＝Ｏ）Ｏ｝ｍＭ
（式中、Ｒ１ａは置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表し、Ｒ２ａは水素原子、金属イオン、置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表す。Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。ｍはＭの価数と同じ数であって１〜６の数を示す。）
（６）前記タルク粒子の含有量と、前記一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量の関係が、該一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量を１００質量部としたとき、該タルク粒子の含有量が３０質量部以上であることを特徴とする（５）に記載の感熱転写シート。
（７）前記耐熱滑性層に、さらにアルキルカルボン酸の多価金属塩を含有することを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（８）前記基材フイルムが、基材フイルムの少なくとも一方の面上に易接着層を有することを特徴とする（１）〜（７）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（９）前記耐熱滑性層の樹脂が、該樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有することを特徴とする（１）〜（８）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（１０）前記樹脂が、ポリアクリルポリオール樹脂であることを特徴とする（９）に記載の感熱転写シート。
（１１）前記耐熱滑性層の前記樹脂が架橋されていることを特徴とする（９）または（１０）に記載の感熱転写シート。
（１２）前記架橋における架橋反応が、４０℃〜５３℃の温度範囲でかつ１日〜２０日の期間で行なわれてなるものであることを特徴とする（１１）に記載の感熱転写シート。
（１３）前記感熱転写シートが、支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと組み合わせて使用される感熱転写シートであることを特徴とする（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（１４）支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと、基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートとを、前記感熱転写受像シートの受容層と前記感熱転写シートの染料層とが接するように重ね合わせ、画像信号に応じた熱エネルギーを前記感熱転写シートの耐熱滑性層側から付与することにより画像を形成する画像形成方法であって、該イエロー色素の少なくとも１種が上記一般式（１）で表される色素であり、かつ前記感熱転写シートが、該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする画像形成方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立した感熱転写シートを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
１）感熱転写シート
（感熱転写シート（インクシート）の構成）
インクシートは熱転写画像形成の際に、感熱転写受像シートに重ねて置かれ、インクシート側からサーマルプリンターヘッド等によって加熱することにより染料（以下色素とも言う）をインクシートから感熱転写受像シートに転写するために用いられる。本発明のインクシートは、インクシートの基材フィルムの一方の面に、熱転写可能な染料及び樹脂を含む染料層（熱転写層）を有し、他方の面に、滑剤及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する。基材フィルムと染料層間または基材フィルムと耐熱滑性層間に易接着層（プライマー層）を設けることも出来る。
【００１０】
（耐熱滑性層）
本発明では、耐熱滑性層に無機粒子としてタルクを含有する。
【００１１】
（タルク）
本発明においてタルクとは、マグネシウムの含水ケイ酸塩鉱物であり、理論組成はＭｇ３Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）２である。ケイ酸塩の層状構造２層の間にマグネシウム含有層が挟みこまれた３層構造を単位構造としており、単位構造間のケイ酸塩層同士の結合が弱いためにへき開性を有し、柔らかく（モース硬度１）かつ滑り性を有する。また９００℃付近まで分解せず、かつ大部分の薬品に不活性であるため、熱的および化学的に安定な物質である。上記タルクは単斜晶系および三斜晶系の２種が存在するが、本発明においてはいずれの晶系のタルクを用いることもでき、また単斜晶系および三斜晶系の混合物も用いることができる。
耐熱滑性層にタルクを含有させることは、タルクが柔らかいためにサーマルプリンターヘッドを傷つけ難く、滑り性を有することで感熱転写シートの伸びを抑制して印画シワを生じ難く、熱的および化学的に安定であることからサーマルプリンターヘッドに対する融着や腐食の影響が小さいことに有用性がある。本発明において、耐熱滑性層に含まれるタルクは耐熱滑性層の総量に対して０．１質量％以上であることが好ましく、０．２質量％〜２０質量％がより好ましく、０．４質量％〜１０質量％がさらに好ましく、０．８質量％〜５質量％が最も好ましい。
本発明において耐熱滑性層にタルクを含有させるには、あらかじめ原料タルクの粉末を分散含有させた耐熱滑性層用の塗工液を基材フィルムに塗設することで実施できる。通常、原料タルクは天然鉱物由来のものを用いるが、天然物のために不純物を含有する。本発明においてタルクとは、原料タルク中の不純物は含まず、マグネシウムの含水ケイ酸塩鉱物としてのタルクを指す。またタルク粒子表面はタルク粒子内部と異なり種々の吸着物または水酸基のような置換基が存在する場合があるため、タルクの元素組成が前記理論組成から幾分ずれる場合があるが、これもタルクとする。タルクか否かの判定は、組成分析およびＸ線回折測定により回折ピークを求めて、既知のタルクの回折ピークと比較することで実施できる。
【００１２】
以下に原料のタルクを例示するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
原料タルクとしては、市販されている天然鉱物由来の粉末状タルクを使用することができ、例えば日本タルク（株）製のミクロエースシリーズ、ＳＧシリーズ、松村産業（株）製のハイ・フィラーシリーズ、（株）福岡タルク工業所製のＰＳシリーズ、浅田製粉(株)製のＪＥＴシリーズ、竹原化学工業（株）製ハイトロンシリーズまたは日本ミストロン（株）製のＭＶシリーズ等（いずれも商品名）を挙げることが出来る。本発明において原料タルクに含まれるタルクの平均球相当径粒子サイズは、０．５〜１０μｍが好ましく、０．８〜５μｍが更に好ましく、１〜４μｍが最も好ましい。原料タルクの平均球相当径粒子サイズはレーザー回折散乱法により求めた値である。粒子に光を照射して得られる回折散乱光強度の空間分布は粒子サイズによって各々異なるため、回折散乱光強度の空間分布を測定して解析することで粒子サイズ分布を求め、更に平均球相当径粒子サイズを計算により求めることができる。この手法はレーザー解析散乱法として確立しており測定装置としては（株）島津製作所製ＳＡＬＤシリーズや（株）堀場製作所製 ＬＡシリーズ等（いずれも商品名）の市販のものを使用することができる。
【００１３】
前記原料タルクは天然鉱物を選鉱、粉砕、分級等の各工程を経て製造されるものである。原料タルクは平板状の粒子形状が主だった粉末である。平板形状の厚みと平板面の面積の比は様々であるため、前記原料タルクの平均粒子サイズにより耐熱滑性層中のタルク粒子の平板面の投影面積を規定することはできない。本発明においては耐熱滑性層中のタルクの投影面積を用いて規定するが、この点については後述する。
特開平８−９０９４２号公報には散弾式磨耗度がある範囲内にある原料タルクを使用することが、特開平８−９０９４５号公報には原料タルクとしてＸ線回折によりタルクの回折ピーク強度に対して不純物の回折ピーク強度がある範囲内にある原料タルクを使用することが、それぞれ開示されている。原料タルクが天然物由来であるため、不純物の種類や量が異なる各種原料タルクがあり、そのため原料タルクとしての硬さや磨耗度も様々なものが有る。本発明において、原料タルク中の不純物は少ないことが好ましく、タルク以外の硬い粒子を耐熱滑性層に併用する場合には、別に純度の高い硬い粒子を併用して用いることが好ましい。
原料タルク中の不純物は、硬い不純物を形成し得る不純物が少ないことが好ましく具体的には、Ｃａは０．５質量％（以下、単に％と略記する。）以下が好ましく、０．１％以下が更に好ましく、Ａｌは０．６％以下が好ましく、０．２％以下が更に好ましく、Ｆｅは１．０％以下が好ましく、０．２％以下が更に好ましく、０．０５％以下が最も好ましい。また水分は耐熱滑性層用の分散液を製造する場合の分散性に影響を与える可能性があるために少ないことが好ましく、具体的には０．５％以下が好ましく、０．２％以下が更に好ましい。原料タルク中の不純物をＸ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）により規定した場合には、この比は０．４０以下が好ましく、０．２０以下が更に好ましく０．１０以下が最も好ましい。
【００１４】
原料タルクは硬い不純物が多いほど磨耗度が大きくなる。磨耗度の測定方法は様々であるが、例えば散弾式磨耗度は以下の様にして測定することができる。
（散弾式磨耗度の測定方法）
１．測定する原料タルク５ｇと水４５ｍｌを１００ｍｌのガラス容器に入れて攪拌する。
２．あらかじめ質量を量った散弾（鉛 直径４ｍｍ）６粒を、上記容器に入れてふたをする。
３．内容物の入った容器を攪拌機（アズワン（株）製、ＭｉｘＲｏｔａｒＶＭＲ―５（商品名））を用いて１１４ｒｐｍ、５．５時間攪拌する。
４．攪拌後の容器から散弾を取り出し、散弾をよく水洗し、散弾に付いた水分を除去して、再度散弾の質量を測定する。
５．攪拌前に量った散弾の質量から、攪拌後に量った散弾の質量を引いた値（差）を求め、これを散弾式磨耗度とする。
散弾式磨耗度が大きいほど、散弾の磨耗量が多いことを表し磨耗し易いことを示す。
原料タルクは硬い不純物が少ないことが好ましく、このため原料タルクの磨耗度が小さいことが好ましく、例えば散弾式磨耗度では４０ｍｇ以下が好ましく、２０ｍｇ以下が更に好ましく、１０ｍｇ以下が最も好ましい。
【００１５】
次に耐熱滑性層用の塗工液の製造方法について述べる。
耐熱滑性層用の塗工液は、タルク粒子等の溶解しない固体粒子を含む液であるため、塗料工業で用いられる顔料分散液の製造手法を用いることができる。
製造工程としては一般に、溶解工程と分散工程に大別することができる。溶解工程とは、耐熱滑性層成分の中で塗工液用の溶媒に溶解する成分を溶解して溶解液を作る工程のことであり、一般には樹脂を有機溶剤に溶解することが含まれる。分散工程とは、前記溶解液と、耐熱滑性層成分の中で塗工液用の溶媒に溶解しない原料タルク等の固体粉末成分とを、混ぜて分散する工程のことである。固体粉末成分は一般に２次凝集した粉体であるため、分散工程には、（１）粉体表面を溶解液でぬらす工程、（２）凝集した粉体を一次粒子にほぐす、または一次粒子を粉砕する工程、（３）分散された粒子を安定化する工程、を含むことができる。（１）の工程は、粉体表面が溶解液にぬれ易いことが重要であり、粉体表面の空気と溶解液を置換することになるため、分散条件として高圧または高せん断力（ずり応力）が好ましい。（２）の工程は、粉体の凝集を解くために分散条件として高せん断力が必要不可欠である。（３）の工程では、分散した粒子が液中で再凝集しない、または塗工液を塗工後乾燥して溶剤が無くなった場合にも再凝集を抑制するために、各種添加剤を添加することができる。通常（１）〜（３）の工程は同一分散装置の中で同時に進行するが、（１）の工程を事前に実施する工程（プレミキシング）を設けることも好ましい。また樹脂を架橋剤で硬化させて耐熱滑性層を形成する場合には、樹脂を含む前記分散済みの液に更に架橋剤を添加して塗工を行うことができる。
【００１６】
前記分散に用いる分散装置としては公知のものを使用できる。例えば、３本ロールミルは回転速度の異なるロール間の接点に働くせん断力と押し付け圧力を利用して分散するものであり、サンドミルおよびビーズミルは容器内でガラスビーズやジルコニアビーズのようなメディアを攪拌することで得られる衝撃力とずり応力を利用して分散するものである。ビーズミルにおけるメディアの攪拌が重力によるものであるために衝撃力とずり応力が制限されることに対して、メディアを腕木によって強制的に攪拌して強い衝撃力とずり応力を得られるように改良されたアトライターがある。少量分散用としては以上の他にも、少量容器を振り混ぜるペイントシェーカーや、ビーズミルの衝撃力とずり応力が制限されることにたいして、容器自体を自転と公転を同時に行うことでメディアを強制的に攪拌して強い衝撃力とずり応力を得られるように改良された遊星型ビーズミル（あるいは遊星型ボールミル）等がある。より詳細な説明は「塗料の流動と顔料分散」共立出版（株）発行，１９９２年、「塗料と塗装（増補版）」（株）パワー社発行，平成６年や、「乳化・分散の理論と実際 理論編」特殊化学工業（株）発行，１９９７年や、「印刷インキ入門 改訂版」（株）印刷学会出版部発行，２００２年に記載されている。
【００１７】
耐熱滑性層は、前述の塗工液を、グラビアコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、ワイヤーバーなどの公知の方法で塗設することによって形成される。耐熱滑性層の膜厚は０．１〜２．５μｍの膜厚が好ましく、０．４〜１．５μｍがより好ましく、塗設量は１平方ｍ当たり０．１〜３．０ｇが好ましく、０．５〜２．０ｇがより好ましい。
【００１８】
前述の通り、高せん断力を付与するために、分散過程において原料タルクの一次粒子の粉砕を生じることが分かった。タルクは柔らかいためにサーマルプリンターヘッドを傷つけ難いという有用性を持つことと同時に分散過程で粉砕され易いものであった。分散過程での原料タルクの粉砕はへき開面に沿ってへき開するだけでなく、せん断応力の最も高い平板面の両端を割る方向にも生じ、また分散後のタルク粒子が分散液中または塗工乾燥時に再び凝集する場合もあり、塗工後の耐熱滑性層中でタルクの形状が様々に変わりうるものであった。
前述の通り、耐熱滑性層中でのタルク粒子の形状は、原料タルクの粒子サイズや形状とは一致しない。更に分散液の組成、製造スケールおよび分散装置の種類によりタルクの粉砕の状況が大きく変化するために、製造条件を一律に決められるものではない。このため、本発明においては耐熱滑性層中でのタルク粒子の投影面積の分布状態を以下の走査型電子顕微鏡測定により規定する。
【００１９】
次に本発明において規定する耐熱滑性層のタルク粒子に対応する投影面積の測定方法について述べる。
走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ 略称「ＳＥＭ」）を用いた電子線像（ＳＥＭ像）の測定
（測定用試料準備）
電子ビームを照射することで試料が帯電すると、帯電による電界で電子ビームがゆらぎ、かつ電子ビームの電流値も変動するため正確な測定が行えない。帯電を防止するために試料表面を導電性薄膜で覆って帯電を防止する。導電性薄膜としては炭素（Ｃ）をスパッタリングによって２０ｎｍから３５ｎｍの厚さでコートして形成することが一般に好ましく行われる。
【００２０】
（電子線照射およびＳＥＭ像測定）
照射する電子線は解像度を確保するため加速電圧を２０ｋＶ、ビーム径はできるだけ収束することが好ましいが、ＳＥＭの通常測定のビーム径であれば問題はない。ＳＥＭにおける表面観察では加速電圧は通常２ｋＶ程度であるが、本発明において加速電圧は２０ｋＶとする。加速電圧２ｋＶの場合にはＳＥＭ像は観察表面近傍から放出される二次電子の寄与が優性であり、加速電圧が高くなるに従い次第に反射電子の寄与が大きくなる。二次電子は、表面の凹凸を観察し易い特徴を持つが、耐熱滑性層中のタルクによるコントラスト像と耐熱滑性層表面の凹凸によるコントラスト像を区別し難い欠点が有る。反射電子は入射電子が反射されたものであり、原子番号の大きい原子ほど反射電子強度が大きくなる。耐熱滑性層中の有機物に対してタルクの構成元素のＳｉとＭｇは原子番号が大きいため、反射電子は２次電子よりも明確なタルク像を得ることができる。このため反射電子の寄与を大きくするために通常のＳＥＭ測定より加速電圧を上げるが、加速電圧を上げるに従い入射電子線の浸入深さが大きくなり反射電子の散乱も大きくなるため、最もタルク像を観察し易い加速電圧として２０ｋＶを選んだ。
【００２１】
一般にＳＥＭ測定は入射電子線に対して観察面を一方向に傾けて行われるため、得られるＳＥＭ象は真上からの観察像ではなく、入射電子線と観察面間の角度（Θ）に対して傾けた方向にｓｉｎ（Θ）の比率分だけ縮小されている。即ち、角度（Θ）が９０°で垂直な（傾いていない）場合には、ｓｉｎ（Θ）が１．０で縮小されていないのに対して、角度（Θ）が３０°で傾いている場合には、ｓｉｎ（Θ）が０．５となり傾いている方向に０．５倍に縮小されていることになる。本発明で規定する耐熱滑性層中のタルクの投影面積は、耐熱滑性層表面の真上からの投影面積であるため、傾けて測定したＳＥＭ像については補正が必要である。上記、角度（Θ）が３０°の場合は傾き方向の長さを縮小率０．５倍の逆数の２．０倍することで補正することができる。他の傾き角の場合にも同様にして補正することができる。このようにして測定したＳＥＭ像より耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求める。本発明において、耐熱滑性層中でタルク粒子が重なって、または凝集して１つのタルク像として観察される場合には一つのタルク粒子として評価し、対応する一つの投影面積を求める。
【００２２】
（タルク以外の無機粒子が共存する場合の判別方法）
本発明において、耐熱滑性層中にタルク粒子以外の無機粒子を含有する場合には以下の方法でタルク粒子とそれ以外の粒子を判別する。
（特性Ｘ線測定による判別）
走査型電子顕微鏡（上記のＳＥＭ）にエネルギー分散型Ｘ線分光器を装備した装置（略称「ＳＥＭ−ＥＤＸ」、「ＳＥＭ−ＥＤＳ」）により特性Ｘ線測定を行って判別する。この装置を用いることでＳＥＭ像と同一視野で特性Ｘ線測定を行うことができる。具体的には、まずＳＥＭ測定をしてタルク粒子の候補となる箇所を特定する。次に、同じ領域全体をＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線分光器）により走査測定して特性Ｘ線によるマッピングを実施する。ＥＤＸによる元素マッピングとは、ＳＥＭ測定と同様に電子ビームを走査しながら各箇所において特性Ｘ線を短時間で測定してマッピングする方法である。また測定場所を固定して各地点において各元素に由来する特性Ｘ線強度を測定して各元素の特性Ｘ線強度比を求めることができる。この比は組成と相関しているため判別に使用できる。
（例１．タルクと白雲母が共存する場合） 白雲母はへき開性を有し平板状の粒子でありタルク粒子と形状が似ているが、組成がＫＡｌ２［（ＡｌＳｉ３）Ｏ１０］である。上記元素マッピングによって、タルク部分にはＭｇの特性Ｘ線が検出される一方でＫおよびＡｌの特性Ｘ線は検出されないのに対して、白雲母部分にはＭｇの特性Ｘ線が検出されない一方でＫおよびＡｌの特性Ｘ線が検出されるために、明確に判別することができる。
（例２．タルクとかんらん石の一種であるフォルステライトが共存する場合） フォルステライトは、組成がＭｇ２ＳｉＯ４でありタルクと構成元素が似ているがＭｇとＳｉの組成比が異なる。この場合には、既知のタルクを含有させた耐熱滑性層であらかじめタルク粒子の地点でＭｇとＳｉの特性Ｘ線を測定して、ＭｇとＳｉの特性Ｘ線強度比を算出しておく。判別するサンプルについて同様に測定を行い、あらかじめ算出したタルクのＭｇとＳｉ強度比と比較することでタルクか否かを判別することができる。
【００２３】
より詳細な説明は例えば「機器分析の辞典 （社）日本分析化学会編」（株）朝倉書店発行，２００５年、「表面分析技術選書 電子プローブ・マイクロアナライザー 日本表面科学会編」丸善（株）発行，１９９８年や、「ＥＰＭＡ Electron probe microanalyzer電子プローブ・マイクロアナライザー」木ノ内 嗣郎 著、技術書院発行，２００１年に記載されている。
【００２４】
（耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積）
本発明において、前記の方法により求めた耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積について、１０平方μｍ以上のものについて個数と投影面積を求める。通常、４０万平方μｍの耐熱滑性層の領域（例えば０．５ｍｍ×０．８ｍｍ四方）について前記タルク粒子に対応する投影面積を求め、通常２００個以上の投影面積を求めることになる。更に平均投影面積と標準偏差と変動係数を計算する。計算式は以下の通りである。
数式（１） （平均投影面積）＝（投影面積の総和）／（全個数）
数式（２） （標準偏差）＝｛［（各々の投影面積）―（平均投影面積）］の２乗の総和／（全個数）｝の０．５乗
数式（３） （変動係数）＝（標準偏差）／（平均投影面積）
本発明において、前記平均投影面積は８０平方μｍ以下であり、６０平方μｍ以下であることが好ましく、４０平方μｍ以下であることが最も好ましい。１０平方μｍ以上のものの平均投影面積であるため、平均投影面積は必ず１０平方μｍ以上である。
変動係数はこの値が小さいほどタルクに相当する投影面積の分布がそろっていることを示し、本発明においては変動係数は０．８０以下であり、０．６０以下が更に好ましい。
また、タルクに相当する投影面積が１００平方μｍ以上であるものの個数が２０万平方μｍ当たり３個以下であることが好ましく、１個以下であることが最も好ましい。タルクに相当する投影面積が１００平方μｍ以上であるものの個数が少ない場合には個数の精度を上げるために、更に広い耐熱滑性層の領域（例えば１００万平方μｍ １．０ｍｍ×１．０ｍｍ四方）について個数を求めることが好ましい。
本発明においては、上述したように平均投影面積が８０平方μｍ以下でありかつ変動係数が０．８０以下とすることによって初めて、高速プリントにおいてプリント開始時の感熱転写シートの伸びを抑制でき、そのため印画シワが改良でき、かつ低濃度域のプリントの点状またはスジ状の画像欠陥を抑制できるという優れた効果を奏するものである。
図１は、日立製作所(株)製、高分解能電界放出型走査電子顕微鏡Ｓ−４７００（商品名）を用いて加速電圧２０ｋＶで得られた耐熱滑性層の実際の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）であり、電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）の上下方向で入射電子線と観察面間の傾斜角度を３０°として測定したものである。図１は、４００μｍ×５００μｍの面積である。
図１の写真において、周囲より白く表示されている部分がタルクに由来する部分であり、あらかじめ前述のＳＥＭ−ＥＤＸ測定から周囲より白く表示されている部分がタルクであることを確認している。
ここで、図１の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）は、本発明の耐熱滑性層中のタルク粒子を示したもので、写真中の各々のタルク粒子に対応する投影面積について、１０平方μｍ以上のものは約１００個存在し、投影面積が１０平方μｍ以上のものの平均投影面積は２５平方μｍであり、１０平方μｍ以上のものの投影面積の変動係数は０．５０であり、また１００平方μｍ以上の投影面積のものはないことが分かる。
【００２５】
本発明において、耐熱滑性層にはタルク以外にもその他の無機粒子、滑剤、可塑剤、安定剤、充填剤およびフィラー等の添加剤を併用することができる。
【００２６】
タルク以外の無機粒子としては、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化黒鉛等のフッ化物、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、硫化鉄等の硫化物、シリカ、コロイダルシリカ、酸化鉛、アルミナ、酸化モリブデン等の酸化物、グラファイト、雲母、窒化ホウ素、酸化マグネシウム（マグネシア）、水酸化マグネシウム（ブルーサイト）、炭酸マグネシウム（マグネサイト）、炭酸マグネシウムカルシウム（ドロマイト）、粘土類（カオリン、酸性白土等）等の無機粒子が挙げられるが、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、炭酸マグネシウムカルシウムおよびカオリンが好ましく、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウムおよび炭酸マグネシウムカルシウムがより好ましく、酸化マグネシウムが最も好ましい。耐熱滑性層に含まれるタルク以外の無機粒子は耐熱滑性層の総量に対して０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．０５質量％〜３０質量％がより好ましく、０．１質量％〜２０質量％が最も好ましい。
タルク以外の無機粒子のサイズ（平均球相当径）は０．１μｍから５０μｍが好ましく、０．５μｍから１０μｍがより好ましく、粒子形状としては不定形、球形、立方体、針状、平板状等いずれの形状であっても用いることができるが、針状および平板状のものが好ましく用いられる。これらの中でもモース硬度３から６であり、平均粒子径が０．３μｍから５μｍであり、かつ粒子の最大巾の球相当径に対する比が平均で１．５から５０であるタルク以外の無機粒子を併用することが更に好ましい態様である。
【００２７】
タルク以外に併用できる有機物としてはフッ素樹脂、シリコーン樹脂等の有機樹脂、シリコーンオイル、高級脂肪酸アルコール、オルガノポリシロキサン、有機カルボン酸、ＯＨ基を有するリン酸エステル、アルキルカルボン酸多価金属塩（ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム等）、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩（ステアリルリン酸亜鉛等）、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス等の各種ワックス類、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等の界面活性剤を挙げることができる。これらの中でも、スティッキング抑制や滑り性向上等に効果のあるシリコーン樹脂、オルガノポリシロキサン、ＯＨ基を有するリン酸エステル、アルキルカルボン酸多価金属塩、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩を好ましく併用できる。なかでもＯＨ基を有するリン酸エステル、アルキルカルボン酸多価金属塩、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩が好ましい。
【００２８】
ＯＨ基を有するリン酸エステル、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩は、下記一般式（Ｐ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｐ）
｛（Ｒ１ａＯ）（Ｒ２ａＯ）Ｐ（＝Ｏ）Ｏ｝ｍＭ
式中、Ｒ１ａは置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表し、Ｒ２ａは水素原子、金属イオン、置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表す。Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。ｍはＭの価数と同じ数であって１〜６の数を示す。
【００２９】
上記脂肪族基やアリール基が置換してもよい置換基としては、例えば、脂肪族基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルケノキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルケノキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基等が挙げられる。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａにおける脂肪族基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、これらの置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。
【００３０】
Ｒ１ａは脂肪族基が好ましく、なかでもアルキル基またはアルケニル基が好ましく、Ｒ２ａは水素原子または脂肪族基が好ましく、水素原子、アルキル基またはアルケニル基が好ましい。なお、これらの脂肪族基、アルキル基、アルケニル基は上述の置換基を有していてもよい。
Ｒ１ａまたは／およびＲ２ａが脂肪族基である場合、以下の基である場合が好ましい。
【００３１】
【化２】
【００３２】
Ｒ１１〜Ｒ１４は、各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基としては、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられる。Ｒ１１〜Ｒ１４は水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。ｎは０〜２０の数を表し、１〜８がさらに好ましい。Ｒ１５は脂肪族基またはアリール基を表す。
Ｒ１５における脂肪族基は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、炭素原子数は６〜２０が好ましく、１２〜１８がより好ましい。また、Ｒ１５は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられるが、無置換の脂肪族基が好ましい。
Ｒ１５のアリール基は、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。該アリール基は置換基を有してもよく、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられ、なかでもアルキル基が好ましい。この場合のアルキル基は、炭素原子数が６〜２０が好ましく、１２〜１８がより好ましい。
Ｒ１５は、好ましくは脂肪族基であり、より好ましくはステアリル基、オレイル基である。
またｎが０の場合も本発明においては好ましい。
【００３３】
Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。金属イオンは１価金属イオンであっても多価金属イオンであってもよい。１価金属イオンとしては、アルカリ金属イオンが好ましく、リチウムイオン、ナトリウムイオン及びカリウムイオンがより好ましく、ナトリウムイオンが最も好ましい。多価金属イオンとしてはアルカリ金属イオン以外の任意の多価金属イオンであり、例えば、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、銅イオン、鉛イオン、アルミニウムイオン、鉄イオン、コバルトイオン、クロムイオンおよびマンガンイオンなどが挙げられるが、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、アルミニウムイオンが好ましく、亜鉛イオンが最も好ましい。
【００３４】
アンモニウムイオンとしては下記一般式で表わされるイオンが好ましい。
＋Ｎ（ＲＡ１）（ＲＡ２）（ＲＡ３）（ＲＡ４）
上記において、ＲＡ１〜ＲＡ４は各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基を表し、該置換基としては、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられる。これらの置換基のうち、好ましくはヒドロキシル基、フェニル基である。また、ＲＡ１〜ＲＡ４のいずれか２〜３個の基が互いに結合して環（例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドリン環、キヌクリジン環、ピリジン環）を形成してもよい。
ＲＡ１〜ＲＡ４は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
アンモニウムイオンとしては、ＮＨ４＋、ＮＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３＋、ＮＨ３（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）＋、モルホリニウム、Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）４＋、ＮＨ３（Ｃ４Ｈ９）＋が好ましく、ＮＨ４＋、ＮＨ３（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）＋、モルホリニウムがより好ましい。
【００３５】
Ｒ１ａは炭素数１２〜１８のアルキル基が好ましく、Ｒ２ａは水素原子、金属イオンまたは炭素数１２〜１８のアルキル基が好ましい。また、一般式（Ｐ）で表される化合物を単独で使用しても複数混合して使用しても構わないが、好ましくは複数併用した場合である。
【００３６】
一般式（Ｐ）で表される化合物のうち、Ｍが水素原子である化合物は、その多くが市販されており、例えば、日光ケミカルズ（株）のＮＩＫＫＯＬ ＤＬＰ−１０、ＮＩＫＫＯＬ ＤＯＰ−８ＮＶ、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−２、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−４、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−６、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−８、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−１０、第一工業製薬（株）のプライサーフＡＬ、プライサーフＡ２０８Ｆ、プライサーフＡ２０８Ｎ、プライサーフＡ２１７Ｅ、プライサーフＡ２１９Ｂ、東邦化学工業（株）のフォスファノールＲＢ４１０、フォスファノールＲＢ７１０、フォスファノールＧＦ１９９、フォスファノールＬＰ７００、フォスファノールＬＢ４００、堺化学工業（株）のＰｈｏｓｌｅｘＡ―８、ＰｈｏｓｌｅｘＡ―１８、ＰｈｏｓｌｅｘＡ―１８Ｄ（いずれも商品名）が挙げられる。
これ以外に、ジラウリルリン酸エステル、ジオレイルリン酸エステル、ジステアリルリン酸エステル、ジ（ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル）リン酸が挙げられる。
【００３７】
また、一般式（Ｐ）におけるＭが金属イオンの化合物も、その多くが市販されており、例えば、第一工業製薬（株）のプライサーフＭ２０８Ｂ、プライサーフＭ２０８Ｆ、東邦化学工業（株）のフォスファノールＲＤ７２０、フォスファノールＧＦ１８５、フォスファノールＧＦ２１５、フォスファノールＲＳ７１０Ｍ、フォスファノールＳＣ６１０３、堺化学工業（株）のＬＢＴ―１８３０、ＬＢＴ―１８３０精製品、ＬＢＴ―２２３０、ＬＢＴ―１８１３、ＬＢＴ―１８２０（いずれも商品名）が挙げられる。
これ以外に、ジラウリルリン酸エステルの亜鉛塩、ジオレイルリン酸エステルの亜鉛塩、ジステアリルリン酸エステルの亜鉛塩、ジ（ポリオキシエチレンノニルエーテル）リン酸ナトリウム、ジ（ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル）リン酸、ジ（ポリオキシエチレンデシルフェニルエーテル）リン酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００３８】
本発明の一般式（Ｐ）で表される化合物の総塗設量は耐熱滑性層の総塗設質量の１％以上２５％以下であることが好ましく、２％以上１５％以下であることがさらに好ましい。これらのうち、常温で固体であるものが好ましい。
耐熱滑性層用塗工液に対する溶解度が低いあるいは溶解しない場合には、耐熱滑性層用塗工液への分散を早めるあるいは安定化するためにあらかじめ粉末状の形態にしておくことが好ましく、粒子サイズとしては０．１μｍから１００μｍが好ましく、１μｍから３０μｍがより好ましい。
【００３９】
本発明において、耐熱滑性層中のタルクの含有量は、一般式（Ｐ）で表される化合物の総含有量を１００質量部としたとき、３０質量部以上が好ましく、４０質量部以上がより好ましく、５０質量部以上がさらに好ましい。なお、上限は好ましくは１０００質量部以下、より好ましくは５００質量部以下、さらに好ましくは４００質量部以下である。
【００４０】
アルキルカルボン酸多価金属塩において、アルキルカルボン酸は、炭素数８〜２５のアルキルカルボン酸が好ましく、炭素数１２〜２１がより好ましく、炭素数１４〜２０がさらに好ましく、例えば、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸などが挙げられ、多価金属としては、２価または３価の金属が挙げられ、アルカリ土類金属、遷移金属が挙げられ、例えば、カルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチウム、カドミウム、アルミニウム、亜鉛、銅、鉄などが挙げられ、なかでも亜鉛が好ましい。アルキルカルボン酸多価金属塩としては、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ミリスチン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸銅などが挙げられ、このなかでもステアリン酸亜鉛が好ましい。これらは市販されていたり、対応するカルボン酸から容易に合成することができる。
これらのアルキルカルボン酸多価金属塩は、耐熱滑性層の樹脂（バインダー樹脂）１００質量部に対し、０．１〜５０質量部使用するのが好ましく、０．５〜１０質量部使用するのがより好ましい。
【００４１】
耐熱滑性層に含まれるこれら樹脂以外の有機物の量は様々であるが、耐熱滑性層の総量に対して０．００１質量％〜５０質量％が好ましく、０．０１質量％〜２０質量％がより好ましい。
【００４２】
耐熱滑性層には樹脂を含むが、耐熱性の高い公知の樹脂を用いることができる。例として、エチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアセトアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のアクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等の天然又は合成樹脂の単体又は混合物を挙げることができる。
耐熱性を高めるため、紫外線又は電子ビームを照射して樹脂を架橋することが出来る。また、架橋剤を用い、加熱により架橋させることも可能である。この際、触媒を添加することも出来る。架橋剤としては、イソシアネート系（ポリイソシアネート、ポリイソシアネートの環状３量体等）、金属系（チタンテトラブチレート、ジルコニウムテトラブチレート、アルミニウムトリイソプロピレート等）等が挙げられる。これら架橋剤と反応させる樹脂の例としては、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリエステルポリオール、アルキドポリオール、およびアミノ基を側鎖に含むシリコーン化合物等が挙げられる。
【００４３】
耐熱滑性層を塗設後に高温の更には高湿の環境に置くことで架橋剤との反応を促進することが知られている。この点、本発明においては、耐熱滑性層中に含有する前記一般式（Ｐ）で表されるリン酸エステル又はリン酸エステルの塩局在化構造が破壊されない条件を選ぶことが好ましい。また、本発明の耐熱滑性層における前記リン酸エステル又は塩局在化構造が破壊されない条件で十分に架橋反応を促進できるように、上記樹脂と架橋剤の組み合わせを選定することができる。６０℃低湿条件であれば１日以内に十分架橋反応を促進できる樹脂と架橋剤の組み合わせが好ましい。
このような樹脂としては、樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有することが好ましい。ここで、樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有するとは、該樹脂のポリマー鎖の長さ方向の末端もしくはそのポリマーの末端ではない構造中に水酸基を２個以上有していることを意味する。このような樹脂としては、ポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。なお、本発明においては、ポリアクリルポリオールにはポリメタアクリルポリオールも包含されるものである。本発明においては、これらのなかでもポリアクリルポリオールが好ましい。
樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有する樹脂としては、市販のものを使用することができ、例えば、三井化学ポリウレタン（株）製タケラック（登録商標）シリーズ、綜研化学（株）製サーモラックシリーズ、日立化成（株）製ヒタロイドシリーズ、ハリマ化成（株）製ハリアクロンシリーズ、大日本インキ（株）製アクリディックシリーズ及び日本ポリウレタン（株）製ニッポランシリーズ（いずれも商品名）を挙げることが出来るがこれらに限定されない。
【００４４】
樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有する樹脂の水酸基価は樹脂の固形分に対して５〜３００が好ましく、１５〜１００が最も好ましい。水酸基価とはＪＩＳ Ｋ−１５５７−１で規定されている試料１ｇ中の水酸基と当量の水酸化カリウムのｍｇ数のことである。このような樹脂の酸価は樹脂の固形分に対して２０以下が好ましく、０〜１０が最も好ましい。酸価とはＪＩＳ Ｋ−１５５７−５で規定されている試料１ｇ中の遊離酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数のことである。
【００４５】
イソシアネート系架橋剤を用いて架橋させる場合にはＩＲスペクトル測定により残留イソシアネート基を検出することで架橋反応の進行を検出することができ、十分架橋反応を促進するとは、塗布して乾燥直後の耐熱滑性層中の残留イソシアネート基由来のＩＲスペクトルピーク強度に対して、架橋反応後の残留イソシアネート基由来のＩＲスペクトルピーク強度が２０％以下であることであり、好ましくは１０％以下、最も好ましくは５％以下であることである。
本発明の効果を効率的に発揮させるためには、樹脂と架橋剤の反応を促進する温度は６５℃以下であることが好ましく、５５℃以下であることがより好ましく、４０℃から５３℃であることが最も好ましい。また樹脂と架橋剤の反応を促進する時間は１２時間以上４０日以下であることが好ましく、１８時間以上３０日以下であることがより好ましく、１日以上２０日以下であることが最も好ましい。
【００４６】
（基材フィルム）
本発明の感熱転写シートの基材フィルムは特に限定されず、必要とされる耐熱性と強度を有するものであれば、従来公知の任意のものを使用することができる。例として、グラシン紙、コンデンサー紙、パフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の耐熱性の高いポリエステル類、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルホン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチックの延伸あるいは未延伸フィルムや、これらの材料を積層したものが好ましい支持体の具体例として挙げられる。ポリエステルフィルムはこれらの中でも特に好ましく、延伸処理されたポリエステルフィルムがより好ましく、基材フイルムの少なくとも一方の面に易接着層を形成した後に延伸して製造されたものが特に好ましい。
この基材フイルムの厚さは、強度及び耐熱性等が適切になるように材料に応じて適宜選択されるが、１〜３０μｍ程度のものが好ましく用いられる。より好ましくは１〜２０μｍ程度のものであり、さらに好ましくは３〜１０μｍ程度のものが用いられる。
【００４７】
（易接着処理）
基材フイルムは、塗布液の濡れ性及び接着性の向上を目的として、易接着処理を行なってもよい。易接着処理方法として、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、真空プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、プライマー処理、グラフト化処理等公知の樹脂表面改質技術を例示することができる。
このうち、基材フイルム上に塗布によって易接着層を形成することもでき、本発明においては易接着層を形成することが好ましい。易接着層に用いられる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂やポリビニルアルコール樹脂等のビニル系樹脂、ポリビニルアセトアセタールやポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂等を例示することができる。
支持体に用いられる基材フイルムは、フィルムを溶融押出し形成する時に、未延伸フィルムに塗工処理を施し、その後に延伸処理して行なうことも可能である。
また、上記の処理は、二種類以上を併用することもできる。
ここで、前述のように、本発明においては、基材フイルムの少なくとも一方の面に、易接着層を形成後、延伸したものが好ましい。本発明の感熱転写シートは、染料層と基材フィルムの間に易接着層（染料バリア層）を設けることが好ましい。
【００４８】
転写するための染料（好ましくは昇華性染料）を含む熱転写層（以下、染料層ともいう）は染料塗工液を塗設して形成することが出来る。
【００４９】
（染料層）
本発明の染料層は、下記一般式（１）で表される色素を染料層に含有する。
この条件を満たす範囲においてイエロー、マゼンタ、シアンの各色の染料層及び必要に応じてブラックの染料層が同一の基材フィルム上に面順次で繰り返し塗り分けられているのが好ましい。一例として、イエロー、マゼンタ及びシアンの各色相の染料層が同一の基材フィルム上の長軸方向に、感熱転写受像シートの記録面の面積に対応して面順次に塗り分けられている場合を挙げることができる。この３層に加えて、ブラックの色相の染料層と転写性保護層（これは、後述する転写性保護層積層体であってもよい）のどちらか、あるいは双方が塗り分けられるのも好ましい態様である。
この様な態様を取る場合、各色の開始点をプリンターに伝達する目的で、感熱転写シート上に目印を付与することも好ましい態様である。このように面順次で繰り返し塗り分けることによって、色素の転写による画像の形成、さらには画像上への保護層の積層を一つの感熱転写シートで行なうことが可能となる。
しかしながら、本発明は前記のような染料層の設け方に限定されるものではない。昇華型熱転写インク層と熱溶融転写インク層を併設することも可能であり、また、イエロー、マゼンタ、シアン及びブラック以外の色相の染料層を設ける等の変更をすることも可能である。また、形態としては長尺であっても良いし、枚葉の熱転写シートであっても良いし、特に使用前の感熱転写シートが重なった状態で保管される態様に好ましく用いることができる。
【００５０】
（染料層塗工液）
染料層塗工液は、少なくとも昇華性染料（以下色素とも言う）と、バインダー樹脂を含有するものであるが、必要に応じて、有機微粉末もしくは無機微粉末、ワックス類、シリコーン樹脂、含フッ素有機化合物等を含有することも本発明の好ましい態様である。
【００５１】
本発明の感熱転写シートにおける各々の色素は、感熱転写層中にそれぞれ２０〜８０質量％含有されることが好ましく、３０〜７０質量％含有されることがより好ましい。
染料層の塗設は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。また染料層の塗設量は、０．１〜２．０ｇ／ｍ２（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である）が好ましく、更に好ましくは０．２〜１．２ｇ／ｍ２である。染料層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．２〜１．２μｍである。
【００５２】
感熱転写層は単層構成であっても複層構成であってもよく、複層構成の場合、熱転写層を構成する各層の組成は同一であっても異なっていてもよい。
【００５３】
（色素）
以下に、本発明で使用する一般式（１）で表される色素についてさらに詳細に説明する。
【００５４】
【化３】
【００５５】
一般式（１）中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基（炭素数は６〜１２が好ましく、より好ましくはフェニレン基であり、例えば、ｐ−フェニレン基）を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基）、置換もしくは無置換のアルケニル基（炭素数は２〜１０が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基）または置換もしくは無置換のアリール基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基）を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基）、置換もしくは無置換のアリール基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基）、置換もしくは無置換のアミノ基（炭素数は０〜１２が好ましく、例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基）、置換もしくは無置換のアルコキシ基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基）、置換もしくは無置換のアリールオキシ基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェノキシ基）、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（炭素数は２〜１１が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基）、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（炭素数は７〜１３が好ましく、例えば、フェノキシカルボニル基）または置換もしくは無置換のカルバモイル基（炭素数は１〜１３が好ましく、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基）または置換もしくは無置換のアリール基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェニル基）を表す。
【００５６】
ここで、前記、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各基が置換してもよい置換基をさらに詳しく説明する。
以下に、このような置換基としては、下記の基が挙げられ、各々の置換基の具体的な基、各々の置換基の中での好ましい基を含めて説明する。
【００５７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
脂肪族基は、直鎖、分枝または環状の脂肪族基（環状の脂肪族基とは、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、ビシクロアルキル基等の環状の脂肪族基を意味する）であり、飽和脂肪族基には、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基が含まれ、置換基を有してもよい。これらの炭素数は１〜３０が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、ベンジルおよび２−エチルヘキシルを挙げることができる。ここで、シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基を挙げることができる。例として、ビシクロ［１．２．２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルを挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。
【００５８】
不飽和脂肪族基としては、直鎖、分枝または環状の不飽和脂肪族基であり、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。アルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、およびプロパルギルが挙げられる。
【００５９】
アリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられ、置換基を有してもよいフェニル基が好ましい。
ヘテロ環基は、置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、それらはさらに縮環していてもよい。これらのヘテロ環基としては、好ましくは５または６員のヘテロ環基であり、また環構成のヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が好ましい。さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基におけるヘテロ環としては、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環などが挙げられる。
脂肪族オキシ基（代表としてアルコキシ基）は、置換もしくは無置換の脂肪族オキシ基（代表としてアルコキシ基）が含まれ、炭素数は１〜３０が好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。
アリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例として、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。好ましくは、置換基を有してもよいフェニルオキシ基である。
【００６０】
アシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００６１】
カルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
脂肪族オキシカルボニルオキシ基（代表としてアルコキシカルボニルオキシ基）は、炭素数２〜３０が好ましく、置換基を有していてもよい。例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００６２】
アリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。好ましくは置換基を有してもよいフェノキシカルボニルオキシ基である。
【００６３】
アミノ基は、無置換のアミノ基、脂肪族アミノ基（代表としてアルキルアミノ基）、アリールアミノ基およびヘテロ環アミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の脂肪族アミノ基（代表としてアルキルアミノ基）、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノ、４−キノリルアミノなどを挙げることができる。
【００６４】
アシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００６５】
アミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。なお、この基における「アミノ」とは、この基中のアミノ部分が前述のアミノ基と同義であることを意味する。他の基においても同様である。
【００６６】
脂肪族オキシカルボニルアミノ基（代表としてアルコキシカルボニルアミノ基）は、炭素数２〜３０が好ましく、置換基を有してもよい。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
アリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。置換基を有してもよいフェニルオキシカルボニルアミノ基が好ましい。
【００６７】
スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００６８】
脂肪族（代表としてアルキル）もしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の脂肪族スルホニルアミノ基（代表としてアルキルスルホニルアミノ基）、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルスルホニルアミノ基）が好ましい。例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００６９】
脂肪族チオ基（代表としてアルキルチオ基）は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
【００７０】
スルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。
【００７１】
脂肪族（代表としてアルキル）もしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換の脂肪族スルフィニル基（代表としてアルキルスルフィニル基）、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルスルフィニル基）が好ましい。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
脂肪族（代表としてアルキル）もしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換の脂肪族スルホニル基（代表としてアルキルスルホニル基）、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルスルホニル基）が好ましい。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
【００７２】
アシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換の脂肪族カルボニル基（代表としてアルキルカルボニル基）、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルカルボニル基）、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。
【００７３】
アリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。好ましくは置換基を有してもよいフェニルオキシカルボニル基である。
【００７４】
脂肪族オキシカルボニル基（代表としてアルコキシカルボニル基）は、炭素数２〜３０が好ましく、置換基を有してもよい。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
カルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。
【００７５】
アリールもしくはヘテロ環アゾ基として、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。
イミド基として、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。
これらに加え、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基が挙げられる。
【００７６】
以上の前記Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各基が置換してもよい置換基の例としてのこれらの各基はさらに置換基を有してもよく、このような置換基としては、上述の置換基が挙げられる。
【００７７】
Ａは、置換もしくは無置換のアリーレン基であり、好ましくは置換もしくは無置換のフェニレン基であり、より好ましくはメチル基または塩素原子が置換したフェニレン基または無置換のフェニレン基であり、最も好ましくは無置換のフェニレン基である。なお、Ａにおけるフェニレン基としてはｐ−フェニレン基が好ましい。
【００７８】
Ｒ１として、好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜８）、アリル基、置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜６）、アリル基であり、最も好ましくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４）であり、なかでもエチル基が好ましい。
【００７９】
Ｒ２として、好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜８）、アリル基、置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜６）、アリル基であり、最も好ましくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４）であり、なかでもエチル基が好ましい。
【００８０】
Ｒ３として、好ましくは置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、より好ましくはジアルキルアミノ基（好ましくは炭素数２〜８）、無置換のアミノ基、無置換のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜６）であり、さらに好ましくはジアルキルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４）、無置換のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくは無置換のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）であり、なかでもエトキシ基が好ましい。
【００８１】
Ｒ４として、好ましくは置換または無置換の炭素数１〜８のアルキル基、置換または無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、より好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは無置換のアリール基でさらに好ましくは炭素数６〜１０）であり、なかでも置換もしくは無置換のフェニル基が好ましく、最も好ましくは無置換のフェニル基である。
【００８２】
一般式（１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせ（Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の組み合わせ）については、これらの置換基の少なくとも１つが前記の好ましい置換基である色素が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい置換基である色素がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である色素が最も好ましい。
【００８３】
一般式（１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせは、Ａは置換もしくは無置換のフェニレン基であり、Ｒ１が置換もしくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ２が置換もしくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ３は置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、Ｒ４は置換もしくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０アリール基である組み合わせである。
より好ましい置換基の組み合わせは、Ａは置換もしくは無置換のフェニレン基であり、Ｒ１が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換のフェニル基であり、Ｒ２が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換のフェニル基であり、Ｒ３は置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、Ｒ４は置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基である組み合わせである。
最も好ましい置換基の組み合わせは、Ａはメチル基または塩素原子で置換されたフェニレン基または無置換のフェニレン基であり、Ｒ１が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、アリル基であり、Ｒ２が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、アリル基であり、Ｒ３は置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、Ｒ４は置換もしくは無置換のフェニル基である組み合わせである。
【００８４】
一般式（１）で表される色素のうち、市販されていないものに関しては、一般的に行われているピラゾロン誘導体とアミノベンズアルデヒド誘導体との脱水縮合反応により合成することができる。
以下に、本発明の一般式（１）で表されるイエロー色素の具体例を示すが、本発明で用いることができるイエロー色素は以下の具体例によって限定的に解釈されるものではない。
【００８５】
【表１】
【００８６】
本発明に用いられる染料は、その他の色素を併用することも可能であり、熱により拡散し、感熱転写シートに組み込み可能かつ、加熱により感熱転写シートから感熱転写受像シートに転写するものであれば特に限定されず、感熱転写シート用の色素として従来から用いられてきている色素、あるいは公知の色素を併用することができる。
好ましい色素としては、たとえば、ジアリールメタン系、トリアリールメタン系、チアゾール系、メロシアニン等のメチン系、インドアニリン、アセトフェノンアゾメチン、ピラゾロアゾメチン、イミダゾルアゾメチン、イミダゾアゾメチン、ピリドンアゾメチンに代表されるアゾメチン系、キサンテン系、オキサジン系、ジシアノスチレン、トリシアノスチレンに代表されるシアノメチレン系、チアジン系、アジン系、アクリジン系、ベンゼンアゾ系、ピリドンアゾ、チオフェンアゾ、イソチアゾールアゾ、ピロールアゾ、ピラールアゾ、イミダゾールアゾ、チアジアゾールアゾ、トリアゾールアゾ、ジズアゾ等のアゾ系、スピロピラン系、インドリノスピロピラン系、フルオラン系、ローダミンラクタム系、ナフトキノン系、アントラキノン系、キノフタロン系等が挙げられる。
【００８７】
具体例を挙げると、イエロー色素としては、ディスパースイエロー２３１、ディスパースイエロー２０１、ソルベントイエロー９３等が挙げられ、本発明の一般式（１）で表される色素と併用してもよい。マゼンタ色素としては、ディスパースバイオレット２６、ディスパースレッド６０、ソルベントレッド１９等が、さらに、シアン色素としては、ソルベントブルー６３、ソルベントブルー３６、ディスパースブルー３５４、ディスパースブルー３５等が挙げられるがこれらに限定されない。また、上記の各色相の色素を任意に組み合わせることも可能である。
【００８８】
（染料層用樹脂）
本発明の感熱転写シートにおいて、通常、染料は樹脂（バインダー、樹脂バインダーとも呼ばれる）と呼ばれる高分子化合物に分散された状態で基材フィルム上に塗設されている。本発明では染料層に含まれる樹脂バインダーとして、公知のものを使用することができる。例として、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド等のアクリル系樹脂、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアセタール系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、硝酸セルロース等の変性セルロース系樹脂ニトロセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース及びエチルセルロースなどのセルロース系樹脂や、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、各種エストラマー等が挙げられ、上記からなる群から選ばれる少なくとも１種類の樹脂により染料層は構成される。
これらを単独で用いる他、これらを混合、または共重合して用いることも可能であり、各種架橋剤によって架橋することも可能である。
本発明において、セルロース系樹脂およびポリビニルアセタール系樹脂が好ましく、より好ましくはポリビニルアセタール系樹脂である。中でもポリビニルアセトアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が本発明において好ましく用いられる。
染料層における染料の樹脂に対する含有量の比（質量比）はどのような割合であってもよいが、０．１〜５．０が好ましく、０．５〜３．０がより好ましく、０．９〜２．０がさらに好ましい。
【００８９】
（転写性保護層積層体）
本発明では、感熱転写シートに転写性保護層積層体を面順次で設けることも好ましい。転写性保護層積層体は、熱転写された画像の上に透明樹脂からなる保護層を熱転写で形成し、画像を覆い保護するためのものであり、耐擦過性、耐光性、耐候性等の耐久性向上を目的とする。転写された染料が受像シート表面に曝されたままでは、耐光性、耐擦過性、耐薬品性等の画像耐久性が不十分な場合に有効である。
転写性保護層積層体は、基材フィルム上に、基材フィルム側から離型層、保護層、接着剤層の順に形成することができる。保護層を複数の層で形成することも可能である。保護層が他の層の機能を兼ね備えている場合には、離型層、接着剤層を省くことも可能である。支持体としては、易接着層の設けられたものを用いることも可能である。
【００９０】
（転写性保護層）
本発明の転写性保護層を形成する樹脂としては、耐擦過性、耐薬品性、透明性、硬度に優れた樹脂が好ましく、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、これら各樹脂のシリコーン変性樹脂、紫外線遮断性樹脂、これら各樹脂の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を用いることができる。なかでも、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
また、各種架橋剤によって架橋することも可能である。
【００９１】
（転写性保護層樹脂）
アクリル樹脂としては、従来公知のアクリレートモノマー、メタクリレートモノマーの中から選ばれた少なくとも１つ以上のモノマーからなる重合体で、アクリル系モノマー以外にスチレン、アクリロニトリル等を共重合させても良い。好ましいモノマーとしてメチルメタクリレートを仕込み質量比で５０質量％以上含有していることが挙げられる。
本発明のアクリル樹脂は、分子量が２０，０００以上１００，０００以下であることが好ましい。
【００９２】
本発明のポリエステル樹脂としては、従来公知の飽和ポリエステル樹脂を使用できる。上記ポリエステル樹脂を使用する場合は、ガラス転移温度は５０〜１２０℃が好ましく、又、分子量は２，０００〜４０，０００の範囲が好ましく、更に４，０００〜２０，０００の範囲が保護層転写時に箔切れ性が良くなり、より好ましい。
【００９３】
（紫外線吸収剤）
本発明において、保護層および／または接着層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましく、紫外線吸収剤としては、従来公知の無機系紫外線吸収剤、有機系紫外線吸収剤が使用できる。有機系紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ヒンダートアミン系等の非反応性紫外線吸収剤や、これらの非反応性紫外線吸収剤に、例えば、ビニル基やアクリロイル基、メタアクリロイル基等の付加重合性二重結合、あるいは、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入し、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂に共重合若しくは、グラフトしたものを使用することができる。また、樹脂のモノマーまたはオリゴマーに紫外線吸収剤を溶解させた後、このモノマーまたはオリゴマーを重合させる方法が開示されており（特開２００６−２１３３３号公報）、こうして得られた紫外線遮断性樹脂を用いることもできる。この場合には紫外線吸収剤は非反応性のもので良い。
これら紫外線吸収剤に中でも、特にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系が好ましい。これら紫外線吸収剤は画像形成に使用する染料の特性に応じて、有効な紫外線吸収波長域をカバーするように組み合わせて使用することが好ましく、また、非反応性紫外線吸収剤の場合には紫外線吸収剤が析出しないように構造が異なるものを複数混合して用いることが好ましい。
紫外線吸収剤の市販品としては、チヌビン−Ｐ（チバガイギー製）、ＪＦ−７７（城北化学製）、シーソープ７０１（白石カルシウム製）、スミソープ２００（住友化学製）、バイオソープ５２０（共同薬品製）、アデカスタブＬＡ−３２（旭電化製）等（いずれも商品名）が挙げられる。
【００９４】
（転写性保護層の形成）
保護層の形成法は、用いられる樹脂の種類に依存するが、前記染料層の形成方法と同様の方法で形成すことができ、０．５〜１０μｍの厚さが好ましい。
【００９５】
（離型層）
前記転写性保護層が熱転写時に基材フィルムから剥離しにくい場合には、基材フィルムと保護層との間に離型層を形成することができる。転写性保護層と離型層の間に更に剥離層を形成しても良い。離型層は、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース誘導体樹脂、ウレタン系樹脂、酢酸系ビニル樹脂、アクリルビニルエーテル系樹脂、無水マレイン酸樹脂、及びこれらの樹脂群の共重合体を少なくとも１種以上含有する塗工液を、従来公知のグラビアコート、グラビアリバースコート等の方法で塗設、乾燥することにより形成することができる。上記の樹脂の中でも、アクリル樹脂として、アクリル酸やメタクリル酸等の単体、または他のモノマー等と共重合させた樹脂、あるいはセルロース誘導体樹脂が好ましく、基材フィルムとの密着性、保護層との離型性において優れている。
各種架橋剤によって架橋することも可能であり、また、電離放射線硬化性樹脂および紫外線硬化性樹脂も用いることができる。
【００９６】
離型層は、熱転写時に被転写体に移行するもの、あるいは基材フィルム側に残るもの、あるいは凝集破壊するもの等を、適宜選択することができるが、熱転写により離型層が基材フィルム側に残存し、離型層と転写性保護層との界面が熱転写された後の保護層表面になるようにすることが、表面光沢性、保護層の転写安定性等の点で優れており、好ましい態様である。離型層の形成方法は、従来公知の塗設方法で形成でき、その厚みは乾燥状態で０．５〜５μｍ程度が好ましい。
【００９７】
（接着層）
転写性保護層積層体の最上層として、保護層の最表面に接着層を設けることができる。これによって保護層の被転写体への接着性を良好にすることができる。
【００９８】
２）感熱転写受像シート
次に感熱転写プリントを形成するために本発明の感熱転写シートと組み合わせて使用できる感熱転写受像シート（以下、単に受像シートともいう。）に関して詳細に説明する。
感熱転写受像シートは、染料を受容する熱可塑性の受容ポリマーを含有する少なくとも１層の受容層を支持体上に有する。受容層には、紫外線吸収剤、離型剤、滑剤、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤、その他の添加物を含有させることができる。支持体と受容層との間に、例えば断熱層（多孔質層）、光沢制御層、白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層などの中間層が形成されていてもよい。支持体と受容層との間に少なくとも１層の断熱層を有することが好ましい。
受容層およびこれらの中間層は同時重層塗布により形成されることが好ましく、中間層は、必要に応じて複数設けることができる。
支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていてもよい。支持体裏面各層を塗布するためには、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法を用いることができる。
なお、本発明においては、どのような感熱転写受像シートと組み合わせることもできるが、本発明の効果を効果的に奏するには、支持体上に、中空ポリマー（粒子）ラテックスを含有する断熱層とポリマー（粒子）ラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと組み合わせて用いるのが好ましい。
【００９９】
感熱転写受像シートは、受容層に染料染着可能なポリマーラテックスを使用することが好ましい。またポリマーラテックスとしては単独でも複数のポリマーラテックスを混合使用してもよい。
【０１００】
ポリマーラテックスとは一般に熱可塑性樹脂が微粒子として水溶性の分散媒中に分散されたものである。本発明のポリマーラテックスに用いられる熱可塑性樹脂の例としては、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトン等が挙げられる。
このうちポリカーボネート、ポリエステル、塩化ビニル共重合体が好ましく、ポリエステル、塩化ビニル共重合体が特に好ましい。
【０１０１】
ポリエステルはジカルボン酸誘導体とジオール化合物との縮合により得られ、芳香環や飽和炭化環を含有してもよく、分散性を付与するための水溶性基してもよい。
【０１０２】
塩化ビニル共重合体としては、塩化ビニルと酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルとアクリレートの共重合体、塩化ビニルとメタクリレートの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルとアクリレートの共重合体、塩化ビニルとアクリレートとエチレンの共重合体等が挙げられる。このように２元共重合体でも３元以上の共重合体でもよく、モノマーが不規則に分布していても、ブロック共重合していてもよい。
該共重合体にはビニルアルコール誘導体やマレイン酸誘導体、ビニルエーテル誘導体などの補助的なモノマー成分を添加してもよい。共重合体において塩化ビニル成分は５０質量％以上含有されていることが好ましく、またマレイン酸誘導体、ビニルエーテル誘導体等の補助的なモノマー成分は１０質量％以下であることが好ましい。
ポリマーラテックスは単独でも混合物として使用してもよい。ポリマーラテックスは、均一構造であってもコア／シェル型であってもよく、このときコアとシェルをそれぞれ形成する樹脂のガラス転移温度が異なっても良い。
【０１０３】
この様なポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、２０℃以上９０℃以下であることが好ましく、より好ましくは２５℃以上８０℃以下である。
【０１０４】
商業的に入手可能なアクリレートラテックスとしては、日本ゼオン株式会社製、ＮｉｐｏｌＬＸ８１４（Ｔｇ２５℃）、ＮｉｐｏｌＬＸ８５７Ｘ２（Ｔｇ４３℃）等（いずれも商品名）が挙げられる。
商業的に入手可能なポリエステルラテックスとしては、東洋紡株式会社製 バイロナールＭＤ−１１００（Ｔｇ４０℃）、バイロナールＭＤ−１４００（Ｔｇ２０℃）、バイロナールＭＤ−１４８０（Ｔｇ２０℃）、ＭＤ−１９８５（Ｔｇ２０℃）等（いずれも製品名）が挙げられる。
商業的に入手可能な塩化ビニル共重合体としては、日信化学工業株式会社製 ビニブラン２７６（Ｔｇ３３℃）、ビニブラン６０９（Ｔｇ４８℃）、住化ケムテックス株式会社製スミエリート１３２０（Ｔｇ３０℃）、スミエリート１２１０（Ｔｇ２０℃）等（いずれも商品名）が挙げられる。
【０１０５】
ポリマーラテックスの添加量は、ポリマーラテックスの固形分が受容層中の全ポリマーの５０〜９８質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％であることがより好ましい。またポリマーラテックスの平均粒子サイズは、好ましくは１〜５００００ｎｍであり、より好ましくは５〜１０００ｎｍである。
【０１０６】
断熱層に中空ポリマーを含有することが好ましい。
本発明において中空ポリマーとは粒子内部に空隙を有するポリマー粒子であり、好ましくは水分散物であり、例えば、１）ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水などの分散媒が入っており、塗布乾燥後、粒子内の水が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空ポリマー粒子、２）ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれか又はそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、３）上記の２）をあらかじめ加熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。
これらの中でも、上記１）の非発泡型の中空ポリマー粒子が好ましく、必要に応じて２種以上混合して使用することができる。具体例としてはロームアンドハース社製 ローペイク ＨＰ−１０５５、ＪＳＲ社製 ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製 Ｎｉｐｏｌ ＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。
【０１０７】
これらの中空ポリマーの平均粒子径は０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．２〜３．０μｍであることがさらに好ましく、０．４〜１．４μｍであることが特に好ましい。
また、中空ポリマーは、空隙率が２０〜７０％のものが好ましく、３０〜６０％のものがより好ましい。
【０１０８】
中空ポリマー粒子のサイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、その外径の円相当換算直径を測定し算出する。平均粒径は、中空ポリマー粒子を少なくとも３００個透過電子顕微鏡を用いて観察し、その外形の円相当径を算出し、平均して求める。また中空ポリマーの空隙率とは、粒子体積に対する空隙部分の体積の割合から求める。
【０１０９】
中空ポリマーのポリマー特性として、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃以上２００℃以下であることが好ましく、９０℃以上１８０℃以下である中空ポリマーがさらに好ましい。中空ポリマーとしては、中空ポリマーラッテックスが特に好ましい。
【０１１０】
感熱転写受像シートの受容層及び／または断熱層には水溶性ポリマーを含有させることができる。ここで水溶性ポリマーとは、２０℃において水１００ｇに対し０．０５ｇ以上の溶解度を有し、より好ましくは０．１ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｇ以上の溶解度を有する。
【０１１１】
感熱転写受像シートに用いることのできる水溶性ポリマーとして、カラギナン類、ペクチン、デキストリン、ゼラチン、カゼイン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、水溶性ポリエステル等を挙げることができる。このうちゼラチンとポリビニルアルコールが好ましい。
【０１１２】
ゼラチンは分子量１０,０００から１,０００,０００までのものを用いることができ、ゼラチン中にＣｌ−、ＳＯ４２-等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
またゼラチンには、アルデヒド型架橋剤、Ｎ−メチロール型架橋剤、ビニルスルホン型架橋剤、クロロトリアジン型架橋剤等の公知の架橋剤を添加することができる。このうちビニルスルホン型架橋剤、クロロトリアジン型架橋剤が好ましく、具体的例としては、ビスビニルスルホニルメチルエーテル、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（ビニルスルホニルアセタミド）エタン、４，６−ジクロロ−２−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンまたはそのナトリウム塩を挙げることができる。
【０１１３】
ポリビニルアルコールとしては、完全けん化物、部分けん化物、変性ポリビニルアルコール等の各種ポリビニルアルコールを用いることができる。これらポリビニルアルコールについては、長野浩一ら共著，「ポバール」（高分子刊行会発行）に記載のものが用いられる。ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献１４４〜１５４頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し０．０１〜４０質量％であることが好ましい。
【０１１４】
ポリビニルアルコールの具体例として、完全けん化物としてはＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈなど、部分けん化物としてはＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２２０など、変性ポリビニルアルコールとしてはＣ−１１８、ＨＬ−１２Ｅ、ＫＬ−１１８、ＭＰ−２０３が挙げられる。（いずれも商品名、株式会社クラレ製）
【０１１５】
感熱転写受像シートの受容層に、フッ素原子が置換した脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有させることができる。この場合、感熱転写シートが含有するフッ素原子が置換した脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物と同一の高分子化合物を含有しても同じ範疇の異なる高分子化合物を含有してもよく、好ましい態様である。また、離型剤として公知のポリエチレンワックス、アミドワックス等の固形ワックス類、シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤を含有してもよい。
【０１１６】
フッ素原子が置換した脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物の含有量は、受容層の全固形分（質量）に対して０．０１％〜２０％であり、好ましくは０．１％〜１０％であり、さらに好ましくは１％〜５％である。
【０１１７】
３）画像形成方法
次に本発明の感熱転写シートを用いて行うことのできる画像形成方法について説明する。
画像形成方法では、感熱転写受像シートの受容層と感熱転写シートの染料層などの熱転写層とが接するように重ね合わせ、サーマルプリンターヘッドからの画像信号に応じた熱エネルギーを感熱転写シートの耐熱滑性層側から付与することにより画像を形成する。
具体的な画像形成は、例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、プリント時間は１５秒未満が好ましく、３〜１２秒がより好ましく、さらに好ましくは、３〜７秒である。
【０１１８】
上記プリント時間を満たすために、プリント時のライン速度は１．０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ以下であることが好ましく０．７５ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ以下であることが更に好ましく、０．６５ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ以下であることが最も好ましい。また、高速プリントにおける転写効率向上の観点から、プリント時のサーマルプリンターヘッド最高到達温度は、１８０℃以上４５０℃以下が好ましく、更に好ましくは２００℃以上４５０℃以下である。更には３５０℃以上４５０℃以下が好ましい。
【０１１９】
本発明の感熱転写シートは感熱転写記録方式を利用したプリンター、複写機などに利用することができる。熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ２程度の熱エネルギーを付与することによってプリントを得ることができる。また、本発明の感熱転写シートと組み合わせて使用する感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【実施例】
【０１２０】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
【０１２１】
実施例１
（感熱転写シートの作製）
基材フィルムとして片面に易接着層が形成された後に延伸して製造された厚さ４．５μｍのポリエステルフィルムの易接着層とは反対面に、乾燥後の固形分塗設量が１．１ｇ／ｍ２となるように後述の耐熱滑性層塗工液Ａを塗設した。後述の耐熱滑性層塗工液Ａのポリイソシアネートと樹脂との反応性の基の比率（−ＮＣＯ／ＯＨ）は１．０であった。塗布直後に１００℃オーブンで１分間乾燥後、引き続き熱処理（６０℃２４時間）を行いイソシアネートとポリオールの架橋反応を行い硬化させた。熱処理後に未反応のイソシアネート基をＩＲ測定により確認し、十分に反応していることを確認した。
このようにして作製した耐熱滑性層形成ポリエステルフィルムの易接着層塗布側に後述の塗工液により、イエロー、マゼンタ、シアンの各染料層（感熱転写層）および転写性保護層積層体を面順次となるように塗設した感熱転写シートを作製した。各染料層の固形分塗設量は、０．９ｇ／ｍ２とした。これら塗布直後に１００℃オーブンで１分間乾燥させた。
なお、転写性保護層積層体の形成は、離型層用塗工液を塗布し、その上に保護層用塗工液を塗設し、乾燥した後に、さらにその上に接着層塗工液を塗布した。
【０１２２】
耐熱滑性層用分散液Ａ
ポリビニルアセタール樹脂 １０．０質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学（株）製）
ＯＨ基を有するリン酸エステル １．５質量部
（フォスレックスＡ−１８、商品名、堺化学工業（株）製：アルコール部の炭素数１８）（一般式（Ｐ）で表される化合物）
ステアリン酸亜鉛 ０．２質量部
原料タルク １．１質量部
（平均球相当径粒子サイズ２．９μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．１５、散弾式磨耗度２５ｍｇ）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８７．０質量部
【０１２３】
前記耐熱滑性層用分散液Ａの樹脂と溶媒をあらかじめ溶解し、溶解液にその他添加剤を添加してプレミキシングを実施後、分散を実施して分散液を調製した。分散条件は以下の３つの条件のいずれかで実施した。
（条件１）ペイントシェーカーを用いて１３０分間分散。
（条件２）独・フリッチュ社製遊星型ボールミルＰ−７型（商品名）を用いて２５０ｒｐｍ４５分間分散
（条件３）独・フリッチュ社製遊星型ボールミルＰ−７型を用いて４００ｒｐｍ５０分間分散
【０１２４】
耐熱滑性層塗工液Ａ
耐熱滑性層用分散液Ａ ３２．０質量部
ポリイソシアネート（７５％溶液） ８．０質量部
（バーノックＤ−７５０、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ７５．０質量部
【０１２５】
イエロー染料層塗工液
表４に記載のイエロー色素 ５．１質量部
染料化合物（ＹＣ） ０．８質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ６．９質量部
（デンカブチラール＃５０００−Ｄ、商品名、電気化学工業（株）製）
含フッ素高分子化合物 ０．１質量部
（メガファックＦ−４７２ＳＦ、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
マット剤（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製） ０．０９質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８５質量部
【０１２６】
【化４】
【０１２７】
マゼンタ染料層塗工液
染料化合物（Ｍ−１） １．８質量部
染料化合物（Ｍ−２） １．３質量部
染料化合物（Ｍ−３） ５．５質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ６．２質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
離型剤 ０．０７質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０２質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１１質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８５質量部
【０１２８】
【化５】
【０１２９】
シアン染料層塗工液
染料化合物（Ｃ−１） １．４質量部
染料化合物（Ｃ−２） ７．６質量部
染料化合物（Ｃ−３） ０．８質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ５．０質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
含フッ素高分子化合物 ０．１質量部
（メガファックＦ−４７２ＳＦ、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
マット剤（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製） ０．１質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８５質量部
【０１３０】
【化６】
【０１３１】
（転写性保護層積層体）
染料層の作製に使用したものと同じポリエステルフィルムに、以下に示す組成の離型層、保護層および接着層用塗工液を塗設し、転写性保護層積層体を形成した。乾膜時の塗設量は離型層０．２ｇ／ｍ２、保護層０．４ｇ／ｍ２、接着層２．０ｇ／ｍ２とした。
【０１３２】
離型層塗工液
変性セルロース樹脂 ５．０質量部
（Ｌ−３０、商品名、ダイセル化学）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ９５．０質量部
保護層塗工液
アクリル樹脂溶液（固形分４０％） ９０質量部
（ＵＮＯ−１、商品名、岐阜セラミック（有）製）
メタノール／イソプロパノール混合溶媒 １０質量部
接着層塗工液
アクリル樹脂 ２５質量部
（ダイアナールＢＲ−７７、商品名、三菱レイヨン（株）製）
下記紫外線吸収剤ＵＶ−１ ０．５質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−２ ２質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−３ ０．５質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−４ ０．５質量部
ＰＭＭＡ微粒子（ポリメチルメタクリレート微粒子） ０．４質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ７０質量部
【０１３３】
【化７】
【０１３４】
（感熱転写受像シート（Ｚ−１）の作製）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、(株)ユポ・コーポレーション製）を用い、この一方の面に下記組成の白色中間層、受容層の順にバーコーターにより塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量は白色中間層：１．０ｇ／ｍ２、受容層：４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、塗布後乾燥した後にプリンターの設定に合った形状に加工して感熱転写受像シート（Ｚ−１）を作製した。
【０１３５】
白色中間層
ポリエステル樹脂 １０質量部
（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）
蛍光増白剤 １質量部
（Ｕｖｉｔｅｘ ＯＢ、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）
酸化チタン ３０質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ９０質量部
【０１３６】
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂 １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ４００質量部
【０１３７】
感熱転写受像シート（Ｚ−２）の作製
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、下記組成の下引き層、断熱層、受容層下層、受容層上層を支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、同時重層塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量が下引き層：６．０ｇ／ｍ２、断熱層：８．５ｇ／ｍ２、受容層下層：２．４ｇ／ｍ２、受容層上層：３．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い乾燥後に、３０℃で５日間熱処理を行い架橋剤とゼラチンの架橋反応を行った後にプリンターの設定に合った形状に加工して感熱転写受像シート（Ｚ−２）を作製した。
【０１３８】
受容層上層
塩化ビニル系ラテックス ２１．０質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス １．６質量部
（ビニブラン２７６、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ２．５質量部
下記エステル系ワックスＥＷ−１ １．８質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．１質量部
下記界面活性剤Ｆ−２ ０．４質量部
【０１３９】
受容層下層
塩化ビニル系ラテックス（Ｔｇ ４６℃） １８．０質量部
（ビニブラン６９０、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス（Ｔｇ ７３℃） ８．０質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ８．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０３質量部
【０１４０】
断熱層
アクリルスチレン系中空ポリマー ６６．０質量部
（平均粒径０．５μｍ）（ＭＨ５０５５、商品名、日本ゼオン（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ２４．０質量部
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンＮａ塩（架橋剤）
０．１質量部
【０１４１】
下引き層
ポリビニルアルコール ７．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス ５５．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ アンド エル（株）製）
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０２質量部
【０１４２】
【化８】
【０１４３】
耐熱滑性層用分散液Ａに分散条件１を適用した試料を耐熱滑性層（１０１）、分散条件２を適用した試料を耐熱滑性層（１０２）および分散条件３を適用した試料を耐熱滑性層（１０３）とした。耐熱滑性層（１０１）〜（１０３）に対して耐熱滑性層のＯＨ基を有するリン酸エステルをフォスレックスＡ−１８（堺化学工業（株）製）単独からフォスレックスＡ-１８（堺化学工業（株）製）とプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬（株）製：モノ−およびジ−ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル混合物）の２対８混合物（質量比）に変えること以外は同様にして耐熱滑性層（１０４）から（１０６）を作製した。
【０１４４】
（耐熱滑性層中のタルク粒子の投影面積）
上で詳述した本書記載の方法により、耐熱滑性層（１０１）に対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して耐熱滑性層のＳＥＭ像（電子線像）を得て、このＳＥＭ像より耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求め、該個々のタルク粒子についてその投影面積が１０平方μｍ以上のものについて個々の投影面積を求めた。このようにして得た個々の投影面積より、上記数式（１）〜数式（３）に従って、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積、標準偏差および変動係数（該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求める）を求めた。耐熱滑性層（１０２）〜（１０６）についても同様にして値を求めた。各試料において、耐熱滑性層中の個々のタルク粒子について投影面積が１０平方μｍ以上のものの個数は２０万平方μｍ当たり約５０〜２００個であり、各試料において２００個から４００個の個々の投影面積を求めた。
耐熱滑性層の構成および上記の値を表２に示す。
【０１４５】
【表２】
【０１４６】
表２より、原料タルクが同一であっても、分散条件によって耐熱滑性層中タルクの投影面積の平均値および変動係数が様々に変わることが分かる。タルクの分散を促進することが有効なのであれば、分散条件の最も強い条件３がタルク投影面積の平均値および変動係数のいずれもが最も小さくなるはずであるが、必ずしもそうではなく、単に分散条件を強くすることでは本発明の規定の範囲とすることができないことが分かる。
【０１４７】
耐熱滑性層（２０１）の作製
耐熱滑性層（１０３）に対して、耐熱滑性層用分散液の組成および耐熱滑性層塗工液の組成を以下のように変更すること以外は同様にして耐熱滑性層（２０１）を作製した。
【０１４８】
耐熱滑性層用分散液Ｂ
ポリアクリルポリオール系樹脂（５０％溶液） １６．５質量部
（アクリディックＡ―８０１―Ｐ、商品名、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分に対する水酸基価が１００±６、酸価が２〜８）
ＯＨ基を有するリン酸エステル ０．１５質量部
（一般式（Ｐ）で表される化合物）（堺化学工業（株）製フォスレックスＡ-１８）
ＯＨ基を有するリン酸エステル ０．８７質量部
（一般式（Ｐ）で表される化合物）（第一工業製薬（株）製プライサーフＡ２０８Ｎ）
ステアリン酸亜鉛 ０．０７質量部
ステアリルリン酸エステル亜鉛塩 ０．０７質量部
原料タルク（ミクロエースＬ―１、商品名、日本タルク（株）製）
（平均球相当径粒子サイズ４．５μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．３８、散弾式磨耗度２１ｍｇ） ０．６０質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８１．５質量部
【０１４９】
耐熱滑性層塗工液Ｂ
耐熱滑性層用分散液Ｂ ４６．６質量部
ポリイソシアネート（７５％溶液） ２．２質量部
（バーノックＤ−７５０、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ５１．０質量部
【０１５０】
耐熱滑性層（２０２）〜（２０９）の作製
耐熱滑性層（２０１）に対して耐熱滑性層用分散液の分散条件を変更する以外は同様にして耐熱滑性層（２０２）および（２０３）を作製した。耐熱滑性層（２０１）に対して、原料タルクを以下のものに変更して耐熱滑性層用分散液の分散条件を変える以外は同様にして耐熱滑性層（２０４）〜（２０８）を作製した。
耐熱滑性層（２０４）
原料タルクをミクロエースＰ−３、商品名、日本タルク（株）製（平均球相当径粒子サイズ４．９μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．０５、散弾式磨耗度１１ｍｇ）に変更した。
耐熱滑性層（２０５）
原料タルクをハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製（平均球相当径粒子サイズ１．７μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．０６、散弾式磨耗度７ｍｇ）に変更した。
耐熱滑性層（２０６）
原料タルクを、ハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製と全合成品の酸化マグネシウム（組成ＭｇＯ、モース硬度４、平均球相当径粒子サイズ１．２μｍ、各粒子の粒子最大巾／球相当径の平均が８．５）の質量比で８５：１５の混合物に変更した。混合物としてＸ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する酸化マグネシウム由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）は０．２２、散弾式磨耗度は２３ｍｇであった。
耐熱滑性層（２０７）
原料タルクを、ハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製と全合成品の水酸化マグネシウム（組成Ｍｇ（ＯＨ）２、モース硬度２．５、平均球相当径粒子サイズ０．８μｍ、各粒子の粒子最大巾／球相当径の平均が１２．３）の質量比で８５：１５の混合物に変更した。混合物としてのＸ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する水酸化マグネシウム由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）は０．２０、散弾式磨耗度は８ｍｇであった。
耐熱滑性層（２０８）
原料タルクを、ハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製と全合成品のシリカ（組成ＳｉＯ２、モース硬度７、平均粒子サイズ１．１μｍ、各粒子の粒子最大巾／球相当径の平均が２０．５）の質量比で８５：１５の混合物に変更した。混合物としてのＸ線回折タルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対するシリカ由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）は０．２９、散弾式磨耗度は３６ｍｇであった。
耐熱滑性層（２０９）
感熱転写シート（２０６）に対して耐熱滑性層用分散液Ｂのポリアクリル系ポリオール樹脂をポリビニルアセタール樹脂（エスレックＢＸ―１、商品名、積水化学（株）製）に固形分として同量で置き換え、かつ耐熱滑性層塗工液Ｂのポリイソシアネートと樹脂との反応性の基の比率（−ＮＣＯ／ＯＨ）が１．０となるようにポリイソシアネートの量を変更すること以外は同様にして耐熱滑性層（２０９）を作製した。
【０１５１】
作製した耐熱滑性層（２０１）〜（２０９）を耐熱滑性層（１０１）〜（１０６）と同様にして耐熱滑性層中の個々のタルク粒子について投影面積を求めて、平均投影面積および変動係数を求めた。更に投影面積が１００平方μｍ以上のタルク粒子の個数を求め、耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たりの存在個数を計算した。結果を下記表３に示す。
【０１５２】
【表３】
【０１５３】
上記表３より、原料タルクの不純物量や磨耗度、タルク以外に併用される無機粒子によらずに耐熱滑性層中のタルクの投影面積の平均値および変動係数を本発明の範囲内にできることが分かる。
【０１５４】
これら耐熱滑性層（１０１）〜（１０６）、（２０１）〜（２０９）の耐熱滑性層と各種イエロー色素を組み合わせて、下記表４に記載の感熱転写シートを作製した。
【０１５５】
（イエローの転写濃度の測定評価）
感熱転写受像シート（Ｚ−１）と組み合わせて、２５℃、相対湿度５０％の環境下で、富士フイルム（株）製 フジフイルムサーマルフォトプリンター ＡＳＫ−２０００（商品名）を用いて、イエローのベタ画像をを出力し、そのプリントをＸｒｉｔｅ社製Ｘｒｉｔｅ３１０（商品名）で反射濃度の測定を行なった。この条件で測定して得られたＹの値をイエローの転写濃度とした。
【０１５６】
（耐熱滑性層への色素の転写評価）
それぞれのサンプルについて、イエロー染料層と耐熱滑性層を持つサンプルと、これと同じ耐熱滑性層のみを持つサンプルとを別々に用意した。あらかじめ、耐熱滑性層のみを有するサンプルのイエロー透過濃度を、上記Ｘｒｉｔｅ３１０で測定しておく（Ｆｒ濃度とする）。前記両層を有するサンプルのイエロー染料層表面と耐熱滑性層のみをもつサンプルの耐熱滑性層とを接触させ、上から、平均１０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた上で、４０℃、相対湿度６０％のサーモセルコ内で１４日間経時させた。その後、耐熱滑性層のみを有するサンプルについて、Ｆｒ濃度と同様に、Ｘｒｉｔｅ３１０で透過濃度を測定した。この経時後の透過濃度の前記Ｆｒ濃度との差を計算して、その濃度増加分を耐熱滑性層への色素転写の指標（転写評価（ΔＤ））とした。この値ΔＤが０．０１０以下であればサーマルヘッドによる色素の分解物はほとんどない。また０．０１０より大きく０．０３０未満であれば、色素の分解物は若干あるが実用上画面故障とはならない。０．０３０以上となると色素の分解物が蓄積し、スジなどの画面故障を起こす。したがってここでは０．０３０以上を許容外、０．０１０より大きく０．０３０未満を許容内。０．０１０以下を良好として判断した。
これらの結果をまとめて下記表４、表５に示す。
【０１５７】
【表４】
【０１５８】
【表５】
【０１５９】
ここで、ＹＡ、ＹＢは下記のイエロー色素（比較用）である。
【０１６０】
【化９】
【０１６１】
上記表４、表５より、本発明の試料はいずれも、イエロー濃度が高く、耐熱滑性層への色素の転写が大幅に抑制されていることがわかる。
【０１６２】
実施例２
実施例１の感熱転写受像シート（Ｚ−１）を（Ｚ−２）に変更した以外は実施例１における各々の感熱転写シートを使用し、実施例１と同様の実験、評価を行ったところ、実施例１を上回る結果が得られた。
【０１６３】
実施例３
感熱転写シート６１〜６８の作製
実施例２の感熱転写シート（２０６）におけるイソシアネートとポリオールの架橋反応を行う熱処理条件を、耐熱滑性層（２０６）に対し、耐熱滑性層（３０１）では５６℃２．５日に、耐熱滑性層（３０２）では５１℃７日に、耐熱滑性層（３０３）では４０℃１８日に、耐熱滑性層（３０４）では３５℃３０日に変更する以外は耐熱滑性層（２０６）と同様にして耐熱滑性層（３０１）から（３０４）を作製した。熱処理後に未反応のイソシアネート基をＩＲ測定により確認し、いずれの熱処理条件でも十分に反応していることを確認した。
【０１６４】
作製した耐熱滑性層（３０１）から（３０４）を実施例１と同様にして耐熱滑性層中の個々のタルク粒子について投影面積を求めて、平均投影面積および変動係数を求めた。更に投影面積が１００平方μｍ以上のタルク粒子の個数を求め、耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たりの該投影面積が１００平方μｍ以上のタルク粒子の存在個数を計算した。結果を表６に示す。
【０１６５】
【表６】
【０１６６】
これら耐熱滑性層とイエロー色素を下記表７のように変更する以外は感熱転写シート４２と同様にして感熱転写シート６１〜６８を作製し、実施例１と同様の評価を行った。
この結果を表７に示す。
【０１６７】
【表７】
【０１６８】
上記表７より、耐熱滑性層の熱処理条件を４０℃から５３℃で１日〜２０日の範囲にすることでより好ましい結果となることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１６９】
【図１】耐熱滑性層中のタルク粒子の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は感熱転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
この染料拡散転写記録方式では、染料を含有する感熱転写シート（以下、インクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルプリンターヘッド等によってインクシートを加熱することでインクシート中の染料を感熱転写受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００３】
サーマルプリンターヘッドと感熱転写シートの焼付き防止およびサーマルプリンターヘッドと感熱転写シート間の滑り性を付与する等の目的で、プリンターのサーマルプリンターヘッドに接する側の感熱転写シートには耐熱滑性層が設けられている。また通常この感熱転写シートは基材フィルム上に染料層を塗工後、乾燥し巻き取ってロール形態（ここでは大幅ロールと呼ぶ）として一旦保管し、引き続きロールから引き出して所望の巾にカットして、再度巻き取ってロール形態（以後、製品ロールとも称す）とし、プリンターにセットする製品形態として保管している。このため、大幅ロール保管中に耐熱滑性層と染料層が接触し、色素が耐熱滑性層に意図せず転写し、さらに製品ロールに加工されて経時した時に、耐熱滑性層から再度保護層表面や染料層表面に色素が意図せず転写して、その状態でプリントを行うと、この意図せずに転写された色素がプリント上に転写してしまうという不具合が起こっていた。特に転写した色素がイエロー色素の場合は最終的にプリント上に転写すると、白地のプリントが黄色になり、いわゆるステインとなり、カラーハードコピー（写真）としての品質劣化としてその問題は大きい。
また、感熱転写シートにはプリント時に高い転写濃度が求められているが、転写濃度の高い色素は分光吸収も高く、上記のような耐熱滑性層への色素の転写が起こりやすく、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立が求められていた。
【０００４】
一方、タルクを含有する耐熱滑性層は特許文献１に記載されており、５−ピラゾロン骨格を有するイエロー色素は特許文献２に記載されているが、記載されている感熱転写シートでは、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立の問題を克服することに対しては必ずしも満足できるものでなく、この問題点の解決が強く求められていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−９０９４２号公報
【特許文献２】特公平６−１９０３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立した感熱転写シートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、下記手段で本発明の上記目的が達成できることを見出した。
（１）基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートであって、該イエロー色素の少なくとも１種が下記一般式（１）で表される色素であり、かつ該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする感熱転写シート。
【化１】
（一般式（１）中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基または置換もしくは無置換のカルバモイル基を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。）
（２）前記投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が４０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．６０以下であることを特徴とする（１）に記載の感熱転写シート。
（３）前記耐熱滑性層中のタルク粒子の投影面積が１００平方μｍ以上の個数が該耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たり１個以下であることを特徴とする（１）または（２）に記載の感熱転写シート。
（４）前記耐熱滑性層に、モース硬度３から６であり、粒子の平均球相当径が０．３μｍから５μｍであり、かつ当該粒子の最大巾の該平均球相当径に対する比が１．５から５０である、タルク以外の無機粒子を少なくとも１種含有することを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（５）前記耐熱滑性層に、さらに下記一般式（Ｐ）で表される化合物を含有することを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
一般式（Ｐ）
｛（Ｒ１ａＯ）（Ｒ２ａＯ）Ｐ（＝Ｏ）Ｏ｝ｍＭ
（式中、Ｒ１ａは置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表し、Ｒ２ａは水素原子、金属イオン、置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表す。Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。ｍはＭの価数と同じ数であって１〜６の数を示す。）
（６）前記タルク粒子の含有量と、前記一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量の関係が、該一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量を１００質量部としたとき、該タルク粒子の含有量が３０質量部以上であることを特徴とする（５）に記載の感熱転写シート。
（７）前記耐熱滑性層に、さらにアルキルカルボン酸の多価金属塩を含有することを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（８）前記基材フイルムが、基材フイルムの少なくとも一方の面上に易接着層を有することを特徴とする（１）〜（７）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（９）前記耐熱滑性層の樹脂が、該樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有することを特徴とする（１）〜（８）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（１０）前記樹脂が、ポリアクリルポリオール樹脂であることを特徴とする（９）に記載の感熱転写シート。
（１１）前記耐熱滑性層の前記樹脂が架橋されていることを特徴とする（９）または（１０）に記載の感熱転写シート。
（１２）前記架橋における架橋反応が、４０℃〜５３℃の温度範囲でかつ１日〜２０日の期間で行なわれてなるものであることを特徴とする（１１）に記載の感熱転写シート。
（１３）前記感熱転写シートが、支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと組み合わせて使用される感熱転写シートであることを特徴とする（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
（１４）支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと、基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートとを、前記感熱転写受像シートの受容層と前記感熱転写シートの染料層とが接するように重ね合わせ、画像信号に応じた熱エネルギーを前記感熱転写シートの耐熱滑性層側から付与することにより画像を形成する画像形成方法であって、該イエロー色素の少なくとも１種が上記一般式（１）で表される色素であり、かつ前記感熱転写シートが、該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする画像形成方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、プリント時の転写濃度向上と耐熱滑性層への色素の転写抑止との両立した感熱転写シートを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
１）感熱転写シート
（感熱転写シート（インクシート）の構成）
インクシートは熱転写画像形成の際に、感熱転写受像シートに重ねて置かれ、インクシート側からサーマルプリンターヘッド等によって加熱することにより染料（以下色素とも言う）をインクシートから感熱転写受像シートに転写するために用いられる。本発明のインクシートは、インクシートの基材フィルムの一方の面に、熱転写可能な染料及び樹脂を含む染料層（熱転写層）を有し、他方の面に、滑剤及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する。基材フィルムと染料層間または基材フィルムと耐熱滑性層間に易接着層（プライマー層）を設けることも出来る。
【００１０】
（耐熱滑性層）
本発明では、耐熱滑性層に無機粒子としてタルクを含有する。
【００１１】
（タルク）
本発明においてタルクとは、マグネシウムの含水ケイ酸塩鉱物であり、理論組成はＭｇ３Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）２である。ケイ酸塩の層状構造２層の間にマグネシウム含有層が挟みこまれた３層構造を単位構造としており、単位構造間のケイ酸塩層同士の結合が弱いためにへき開性を有し、柔らかく（モース硬度１）かつ滑り性を有する。また９００℃付近まで分解せず、かつ大部分の薬品に不活性であるため、熱的および化学的に安定な物質である。上記タルクは単斜晶系および三斜晶系の２種が存在するが、本発明においてはいずれの晶系のタルクを用いることもでき、また単斜晶系および三斜晶系の混合物も用いることができる。
耐熱滑性層にタルクを含有させることは、タルクが柔らかいためにサーマルプリンターヘッドを傷つけ難く、滑り性を有することで感熱転写シートの伸びを抑制して印画シワを生じ難く、熱的および化学的に安定であることからサーマルプリンターヘッドに対する融着や腐食の影響が小さいことに有用性がある。本発明において、耐熱滑性層に含まれるタルクは耐熱滑性層の総量に対して０．１質量％以上であることが好ましく、０．２質量％〜２０質量％がより好ましく、０．４質量％〜１０質量％がさらに好ましく、０．８質量％〜５質量％が最も好ましい。
本発明において耐熱滑性層にタルクを含有させるには、あらかじめ原料タルクの粉末を分散含有させた耐熱滑性層用の塗工液を基材フィルムに塗設することで実施できる。通常、原料タルクは天然鉱物由来のものを用いるが、天然物のために不純物を含有する。本発明においてタルクとは、原料タルク中の不純物は含まず、マグネシウムの含水ケイ酸塩鉱物としてのタルクを指す。またタルク粒子表面はタルク粒子内部と異なり種々の吸着物または水酸基のような置換基が存在する場合があるため、タルクの元素組成が前記理論組成から幾分ずれる場合があるが、これもタルクとする。タルクか否かの判定は、組成分析およびＸ線回折測定により回折ピークを求めて、既知のタルクの回折ピークと比較することで実施できる。
【００１２】
以下に原料のタルクを例示するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
原料タルクとしては、市販されている天然鉱物由来の粉末状タルクを使用することができ、例えば日本タルク（株）製のミクロエースシリーズ、ＳＧシリーズ、松村産業（株）製のハイ・フィラーシリーズ、（株）福岡タルク工業所製のＰＳシリーズ、浅田製粉(株)製のＪＥＴシリーズ、竹原化学工業（株）製ハイトロンシリーズまたは日本ミストロン（株）製のＭＶシリーズ等（いずれも商品名）を挙げることが出来る。本発明において原料タルクに含まれるタルクの平均球相当径粒子サイズは、０．５〜１０μｍが好ましく、０．８〜５μｍが更に好ましく、１〜４μｍが最も好ましい。原料タルクの平均球相当径粒子サイズはレーザー回折散乱法により求めた値である。粒子に光を照射して得られる回折散乱光強度の空間分布は粒子サイズによって各々異なるため、回折散乱光強度の空間分布を測定して解析することで粒子サイズ分布を求め、更に平均球相当径粒子サイズを計算により求めることができる。この手法はレーザー解析散乱法として確立しており測定装置としては（株）島津製作所製ＳＡＬＤシリーズや（株）堀場製作所製 ＬＡシリーズ等（いずれも商品名）の市販のものを使用することができる。
【００１３】
前記原料タルクは天然鉱物を選鉱、粉砕、分級等の各工程を経て製造されるものである。原料タルクは平板状の粒子形状が主だった粉末である。平板形状の厚みと平板面の面積の比は様々であるため、前記原料タルクの平均粒子サイズにより耐熱滑性層中のタルク粒子の平板面の投影面積を規定することはできない。本発明においては耐熱滑性層中のタルクの投影面積を用いて規定するが、この点については後述する。
特開平８−９０９４２号公報には散弾式磨耗度がある範囲内にある原料タルクを使用することが、特開平８−９０９４５号公報には原料タルクとしてＸ線回折によりタルクの回折ピーク強度に対して不純物の回折ピーク強度がある範囲内にある原料タルクを使用することが、それぞれ開示されている。原料タルクが天然物由来であるため、不純物の種類や量が異なる各種原料タルクがあり、そのため原料タルクとしての硬さや磨耗度も様々なものが有る。本発明において、原料タルク中の不純物は少ないことが好ましく、タルク以外の硬い粒子を耐熱滑性層に併用する場合には、別に純度の高い硬い粒子を併用して用いることが好ましい。
原料タルク中の不純物は、硬い不純物を形成し得る不純物が少ないことが好ましく具体的には、Ｃａは０．５質量％（以下、単に％と略記する。）以下が好ましく、０．１％以下が更に好ましく、Ａｌは０．６％以下が好ましく、０．２％以下が更に好ましく、Ｆｅは１．０％以下が好ましく、０．２％以下が更に好ましく、０．０５％以下が最も好ましい。また水分は耐熱滑性層用の分散液を製造する場合の分散性に影響を与える可能性があるために少ないことが好ましく、具体的には０．５％以下が好ましく、０．２％以下が更に好ましい。原料タルク中の不純物をＸ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）により規定した場合には、この比は０．４０以下が好ましく、０．２０以下が更に好ましく０．１０以下が最も好ましい。
【００１４】
原料タルクは硬い不純物が多いほど磨耗度が大きくなる。磨耗度の測定方法は様々であるが、例えば散弾式磨耗度は以下の様にして測定することができる。
（散弾式磨耗度の測定方法）
１．測定する原料タルク５ｇと水４５ｍｌを１００ｍｌのガラス容器に入れて攪拌する。
２．あらかじめ質量を量った散弾（鉛 直径４ｍｍ）６粒を、上記容器に入れてふたをする。
３．内容物の入った容器を攪拌機（アズワン（株）製、ＭｉｘＲｏｔａｒＶＭＲ―５（商品名））を用いて１１４ｒｐｍ、５．５時間攪拌する。
４．攪拌後の容器から散弾を取り出し、散弾をよく水洗し、散弾に付いた水分を除去して、再度散弾の質量を測定する。
５．攪拌前に量った散弾の質量から、攪拌後に量った散弾の質量を引いた値（差）を求め、これを散弾式磨耗度とする。
散弾式磨耗度が大きいほど、散弾の磨耗量が多いことを表し磨耗し易いことを示す。
原料タルクは硬い不純物が少ないことが好ましく、このため原料タルクの磨耗度が小さいことが好ましく、例えば散弾式磨耗度では４０ｍｇ以下が好ましく、２０ｍｇ以下が更に好ましく、１０ｍｇ以下が最も好ましい。
【００１５】
次に耐熱滑性層用の塗工液の製造方法について述べる。
耐熱滑性層用の塗工液は、タルク粒子等の溶解しない固体粒子を含む液であるため、塗料工業で用いられる顔料分散液の製造手法を用いることができる。
製造工程としては一般に、溶解工程と分散工程に大別することができる。溶解工程とは、耐熱滑性層成分の中で塗工液用の溶媒に溶解する成分を溶解して溶解液を作る工程のことであり、一般には樹脂を有機溶剤に溶解することが含まれる。分散工程とは、前記溶解液と、耐熱滑性層成分の中で塗工液用の溶媒に溶解しない原料タルク等の固体粉末成分とを、混ぜて分散する工程のことである。固体粉末成分は一般に２次凝集した粉体であるため、分散工程には、（１）粉体表面を溶解液でぬらす工程、（２）凝集した粉体を一次粒子にほぐす、または一次粒子を粉砕する工程、（３）分散された粒子を安定化する工程、を含むことができる。（１）の工程は、粉体表面が溶解液にぬれ易いことが重要であり、粉体表面の空気と溶解液を置換することになるため、分散条件として高圧または高せん断力（ずり応力）が好ましい。（２）の工程は、粉体の凝集を解くために分散条件として高せん断力が必要不可欠である。（３）の工程では、分散した粒子が液中で再凝集しない、または塗工液を塗工後乾燥して溶剤が無くなった場合にも再凝集を抑制するために、各種添加剤を添加することができる。通常（１）〜（３）の工程は同一分散装置の中で同時に進行するが、（１）の工程を事前に実施する工程（プレミキシング）を設けることも好ましい。また樹脂を架橋剤で硬化させて耐熱滑性層を形成する場合には、樹脂を含む前記分散済みの液に更に架橋剤を添加して塗工を行うことができる。
【００１６】
前記分散に用いる分散装置としては公知のものを使用できる。例えば、３本ロールミルは回転速度の異なるロール間の接点に働くせん断力と押し付け圧力を利用して分散するものであり、サンドミルおよびビーズミルは容器内でガラスビーズやジルコニアビーズのようなメディアを攪拌することで得られる衝撃力とずり応力を利用して分散するものである。ビーズミルにおけるメディアの攪拌が重力によるものであるために衝撃力とずり応力が制限されることに対して、メディアを腕木によって強制的に攪拌して強い衝撃力とずり応力を得られるように改良されたアトライターがある。少量分散用としては以上の他にも、少量容器を振り混ぜるペイントシェーカーや、ビーズミルの衝撃力とずり応力が制限されることにたいして、容器自体を自転と公転を同時に行うことでメディアを強制的に攪拌して強い衝撃力とずり応力を得られるように改良された遊星型ビーズミル（あるいは遊星型ボールミル）等がある。より詳細な説明は「塗料の流動と顔料分散」共立出版（株）発行，１９９２年、「塗料と塗装（増補版）」（株）パワー社発行，平成６年や、「乳化・分散の理論と実際 理論編」特殊化学工業（株）発行，１９９７年や、「印刷インキ入門 改訂版」（株）印刷学会出版部発行，２００２年に記載されている。
【００１７】
耐熱滑性層は、前述の塗工液を、グラビアコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、ワイヤーバーなどの公知の方法で塗設することによって形成される。耐熱滑性層の膜厚は０．１〜２．５μｍの膜厚が好ましく、０．４〜１．５μｍがより好ましく、塗設量は１平方ｍ当たり０．１〜３．０ｇが好ましく、０．５〜２．０ｇがより好ましい。
【００１８】
前述の通り、高せん断力を付与するために、分散過程において原料タルクの一次粒子の粉砕を生じることが分かった。タルクは柔らかいためにサーマルプリンターヘッドを傷つけ難いという有用性を持つことと同時に分散過程で粉砕され易いものであった。分散過程での原料タルクの粉砕はへき開面に沿ってへき開するだけでなく、せん断応力の最も高い平板面の両端を割る方向にも生じ、また分散後のタルク粒子が分散液中または塗工乾燥時に再び凝集する場合もあり、塗工後の耐熱滑性層中でタルクの形状が様々に変わりうるものであった。
前述の通り、耐熱滑性層中でのタルク粒子の形状は、原料タルクの粒子サイズや形状とは一致しない。更に分散液の組成、製造スケールおよび分散装置の種類によりタルクの粉砕の状況が大きく変化するために、製造条件を一律に決められるものではない。このため、本発明においては耐熱滑性層中でのタルク粒子の投影面積の分布状態を以下の走査型電子顕微鏡測定により規定する。
【００１９】
次に本発明において規定する耐熱滑性層のタルク粒子に対応する投影面積の測定方法について述べる。
走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ 略称「ＳＥＭ」）を用いた電子線像（ＳＥＭ像）の測定
（測定用試料準備）
電子ビームを照射することで試料が帯電すると、帯電による電界で電子ビームがゆらぎ、かつ電子ビームの電流値も変動するため正確な測定が行えない。帯電を防止するために試料表面を導電性薄膜で覆って帯電を防止する。導電性薄膜としては炭素（Ｃ）をスパッタリングによって２０ｎｍから３５ｎｍの厚さでコートして形成することが一般に好ましく行われる。
【００２０】
（電子線照射およびＳＥＭ像測定）
照射する電子線は解像度を確保するため加速電圧を２０ｋＶ、ビーム径はできるだけ収束することが好ましいが、ＳＥＭの通常測定のビーム径であれば問題はない。ＳＥＭにおける表面観察では加速電圧は通常２ｋＶ程度であるが、本発明において加速電圧は２０ｋＶとする。加速電圧２ｋＶの場合にはＳＥＭ像は観察表面近傍から放出される二次電子の寄与が優性であり、加速電圧が高くなるに従い次第に反射電子の寄与が大きくなる。二次電子は、表面の凹凸を観察し易い特徴を持つが、耐熱滑性層中のタルクによるコントラスト像と耐熱滑性層表面の凹凸によるコントラスト像を区別し難い欠点が有る。反射電子は入射電子が反射されたものであり、原子番号の大きい原子ほど反射電子強度が大きくなる。耐熱滑性層中の有機物に対してタルクの構成元素のＳｉとＭｇは原子番号が大きいため、反射電子は２次電子よりも明確なタルク像を得ることができる。このため反射電子の寄与を大きくするために通常のＳＥＭ測定より加速電圧を上げるが、加速電圧を上げるに従い入射電子線の浸入深さが大きくなり反射電子の散乱も大きくなるため、最もタルク像を観察し易い加速電圧として２０ｋＶを選んだ。
【００２１】
一般にＳＥＭ測定は入射電子線に対して観察面を一方向に傾けて行われるため、得られるＳＥＭ象は真上からの観察像ではなく、入射電子線と観察面間の角度（Θ）に対して傾けた方向にｓｉｎ（Θ）の比率分だけ縮小されている。即ち、角度（Θ）が９０°で垂直な（傾いていない）場合には、ｓｉｎ（Θ）が１．０で縮小されていないのに対して、角度（Θ）が３０°で傾いている場合には、ｓｉｎ（Θ）が０．５となり傾いている方向に０．５倍に縮小されていることになる。本発明で規定する耐熱滑性層中のタルクの投影面積は、耐熱滑性層表面の真上からの投影面積であるため、傾けて測定したＳＥＭ像については補正が必要である。上記、角度（Θ）が３０°の場合は傾き方向の長さを縮小率０．５倍の逆数の２．０倍することで補正することができる。他の傾き角の場合にも同様にして補正することができる。このようにして測定したＳＥＭ像より耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求める。本発明において、耐熱滑性層中でタルク粒子が重なって、または凝集して１つのタルク像として観察される場合には一つのタルク粒子として評価し、対応する一つの投影面積を求める。
【００２２】
（タルク以外の無機粒子が共存する場合の判別方法）
本発明において、耐熱滑性層中にタルク粒子以外の無機粒子を含有する場合には以下の方法でタルク粒子とそれ以外の粒子を判別する。
（特性Ｘ線測定による判別）
走査型電子顕微鏡（上記のＳＥＭ）にエネルギー分散型Ｘ線分光器を装備した装置（略称「ＳＥＭ−ＥＤＸ」、「ＳＥＭ−ＥＤＳ」）により特性Ｘ線測定を行って判別する。この装置を用いることでＳＥＭ像と同一視野で特性Ｘ線測定を行うことができる。具体的には、まずＳＥＭ測定をしてタルク粒子の候補となる箇所を特定する。次に、同じ領域全体をＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線分光器）により走査測定して特性Ｘ線によるマッピングを実施する。ＥＤＸによる元素マッピングとは、ＳＥＭ測定と同様に電子ビームを走査しながら各箇所において特性Ｘ線を短時間で測定してマッピングする方法である。また測定場所を固定して各地点において各元素に由来する特性Ｘ線強度を測定して各元素の特性Ｘ線強度比を求めることができる。この比は組成と相関しているため判別に使用できる。
（例１．タルクと白雲母が共存する場合） 白雲母はへき開性を有し平板状の粒子でありタルク粒子と形状が似ているが、組成がＫＡｌ２［（ＡｌＳｉ３）Ｏ１０］である。上記元素マッピングによって、タルク部分にはＭｇの特性Ｘ線が検出される一方でＫおよびＡｌの特性Ｘ線は検出されないのに対して、白雲母部分にはＭｇの特性Ｘ線が検出されない一方でＫおよびＡｌの特性Ｘ線が検出されるために、明確に判別することができる。
（例２．タルクとかんらん石の一種であるフォルステライトが共存する場合） フォルステライトは、組成がＭｇ２ＳｉＯ４でありタルクと構成元素が似ているがＭｇとＳｉの組成比が異なる。この場合には、既知のタルクを含有させた耐熱滑性層であらかじめタルク粒子の地点でＭｇとＳｉの特性Ｘ線を測定して、ＭｇとＳｉの特性Ｘ線強度比を算出しておく。判別するサンプルについて同様に測定を行い、あらかじめ算出したタルクのＭｇとＳｉ強度比と比較することでタルクか否かを判別することができる。
【００２３】
より詳細な説明は例えば「機器分析の辞典 （社）日本分析化学会編」（株）朝倉書店発行，２００５年、「表面分析技術選書 電子プローブ・マイクロアナライザー 日本表面科学会編」丸善（株）発行，１９９８年や、「ＥＰＭＡ Electron probe microanalyzer電子プローブ・マイクロアナライザー」木ノ内 嗣郎 著、技術書院発行，２００１年に記載されている。
【００２４】
（耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積）
本発明において、前記の方法により求めた耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積について、１０平方μｍ以上のものについて個数と投影面積を求める。通常、４０万平方μｍの耐熱滑性層の領域（例えば０．５ｍｍ×０．８ｍｍ四方）について前記タルク粒子に対応する投影面積を求め、通常２００個以上の投影面積を求めることになる。更に平均投影面積と標準偏差と変動係数を計算する。計算式は以下の通りである。
数式（１） （平均投影面積）＝（投影面積の総和）／（全個数）
数式（２） （標準偏差）＝｛［（各々の投影面積）―（平均投影面積）］の２乗の総和／（全個数）｝の０．５乗
数式（３） （変動係数）＝（標準偏差）／（平均投影面積）
本発明において、前記平均投影面積は８０平方μｍ以下であり、６０平方μｍ以下であることが好ましく、４０平方μｍ以下であることが最も好ましい。１０平方μｍ以上のものの平均投影面積であるため、平均投影面積は必ず１０平方μｍ以上である。
変動係数はこの値が小さいほどタルクに相当する投影面積の分布がそろっていることを示し、本発明においては変動係数は０．８０以下であり、０．６０以下が更に好ましい。
また、タルクに相当する投影面積が１００平方μｍ以上であるものの個数が２０万平方μｍ当たり３個以下であることが好ましく、１個以下であることが最も好ましい。タルクに相当する投影面積が１００平方μｍ以上であるものの個数が少ない場合には個数の精度を上げるために、更に広い耐熱滑性層の領域（例えば１００万平方μｍ １．０ｍｍ×１．０ｍｍ四方）について個数を求めることが好ましい。
本発明においては、上述したように平均投影面積が８０平方μｍ以下でありかつ変動係数が０．８０以下とすることによって初めて、高速プリントにおいてプリント開始時の感熱転写シートの伸びを抑制でき、そのため印画シワが改良でき、かつ低濃度域のプリントの点状またはスジ状の画像欠陥を抑制できるという優れた効果を奏するものである。
図１は、日立製作所(株)製、高分解能電界放出型走査電子顕微鏡Ｓ−４７００（商品名）を用いて加速電圧２０ｋＶで得られた耐熱滑性層の実際の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）であり、電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）の上下方向で入射電子線と観察面間の傾斜角度を３０°として測定したものである。図１は、４００μｍ×５００μｍの面積である。
図１の写真において、周囲より白く表示されている部分がタルクに由来する部分であり、あらかじめ前述のＳＥＭ−ＥＤＸ測定から周囲より白く表示されている部分がタルクであることを確認している。
ここで、図１の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）は、本発明の耐熱滑性層中のタルク粒子を示したもので、写真中の各々のタルク粒子に対応する投影面積について、１０平方μｍ以上のものは約１００個存在し、投影面積が１０平方μｍ以上のものの平均投影面積は２５平方μｍであり、１０平方μｍ以上のものの投影面積の変動係数は０．５０であり、また１００平方μｍ以上の投影面積のものはないことが分かる。
【００２５】
本発明において、耐熱滑性層にはタルク以外にもその他の無機粒子、滑剤、可塑剤、安定剤、充填剤およびフィラー等の添加剤を併用することができる。
【００２６】
タルク以外の無機粒子としては、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化黒鉛等のフッ化物、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、硫化鉄等の硫化物、シリカ、コロイダルシリカ、酸化鉛、アルミナ、酸化モリブデン等の酸化物、グラファイト、雲母、窒化ホウ素、酸化マグネシウム（マグネシア）、水酸化マグネシウム（ブルーサイト）、炭酸マグネシウム（マグネサイト）、炭酸マグネシウムカルシウム（ドロマイト）、粘土類（カオリン、酸性白土等）等の無機粒子が挙げられるが、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、炭酸マグネシウムカルシウムおよびカオリンが好ましく、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウムおよび炭酸マグネシウムカルシウムがより好ましく、酸化マグネシウムが最も好ましい。耐熱滑性層に含まれるタルク以外の無機粒子は耐熱滑性層の総量に対して０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．０５質量％〜３０質量％がより好ましく、０．１質量％〜２０質量％が最も好ましい。
タルク以外の無機粒子のサイズ（平均球相当径）は０．１μｍから５０μｍが好ましく、０．５μｍから１０μｍがより好ましく、粒子形状としては不定形、球形、立方体、針状、平板状等いずれの形状であっても用いることができるが、針状および平板状のものが好ましく用いられる。これらの中でもモース硬度３から６であり、平均粒子径が０．３μｍから５μｍであり、かつ粒子の最大巾の球相当径に対する比が平均で１．５から５０であるタルク以外の無機粒子を併用することが更に好ましい態様である。
【００２７】
タルク以外に併用できる有機物としてはフッ素樹脂、シリコーン樹脂等の有機樹脂、シリコーンオイル、高級脂肪酸アルコール、オルガノポリシロキサン、有機カルボン酸、ＯＨ基を有するリン酸エステル、アルキルカルボン酸多価金属塩（ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム等）、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩（ステアリルリン酸亜鉛等）、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス等の各種ワックス類、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等の界面活性剤を挙げることができる。これらの中でも、スティッキング抑制や滑り性向上等に効果のあるシリコーン樹脂、オルガノポリシロキサン、ＯＨ基を有するリン酸エステル、アルキルカルボン酸多価金属塩、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩を好ましく併用できる。なかでもＯＨ基を有するリン酸エステル、アルキルカルボン酸多価金属塩、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩が好ましい。
【００２８】
ＯＨ基を有するリン酸エステル、リン酸エステルアンモニウム塩もしくは金属塩は、下記一般式（Ｐ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｐ）
｛（Ｒ１ａＯ）（Ｒ２ａＯ）Ｐ（＝Ｏ）Ｏ｝ｍＭ
式中、Ｒ１ａは置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表し、Ｒ２ａは水素原子、金属イオン、置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表す。Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。ｍはＭの価数と同じ数であって１〜６の数を示す。
【００２９】
上記脂肪族基やアリール基が置換してもよい置換基としては、例えば、脂肪族基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルケノキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルケノキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基等が挙げられる。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａにおける脂肪族基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、これらの置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。
【００３０】
Ｒ１ａは脂肪族基が好ましく、なかでもアルキル基またはアルケニル基が好ましく、Ｒ２ａは水素原子または脂肪族基が好ましく、水素原子、アルキル基またはアルケニル基が好ましい。なお、これらの脂肪族基、アルキル基、アルケニル基は上述の置換基を有していてもよい。
Ｒ１ａまたは／およびＲ２ａが脂肪族基である場合、以下の基である場合が好ましい。
【００３１】
【化２】
【００３２】
Ｒ１１〜Ｒ１４は、各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基としては、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられる。Ｒ１１〜Ｒ１４は水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。ｎは０〜２０の数を表し、１〜８がさらに好ましい。Ｒ１５は脂肪族基またはアリール基を表す。
Ｒ１５における脂肪族基は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、炭素原子数は６〜２０が好ましく、１２〜１８がより好ましい。また、Ｒ１５は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられるが、無置換の脂肪族基が好ましい。
Ｒ１５のアリール基は、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。該アリール基は置換基を有してもよく、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられ、なかでもアルキル基が好ましい。この場合のアルキル基は、炭素原子数が６〜２０が好ましく、１２〜１８がより好ましい。
Ｒ１５は、好ましくは脂肪族基であり、より好ましくはステアリル基、オレイル基である。
またｎが０の場合も本発明においては好ましい。
【００３３】
Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。金属イオンは１価金属イオンであっても多価金属イオンであってもよい。１価金属イオンとしては、アルカリ金属イオンが好ましく、リチウムイオン、ナトリウムイオン及びカリウムイオンがより好ましく、ナトリウムイオンが最も好ましい。多価金属イオンとしてはアルカリ金属イオン以外の任意の多価金属イオンであり、例えば、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、銅イオン、鉛イオン、アルミニウムイオン、鉄イオン、コバルトイオン、クロムイオンおよびマンガンイオンなどが挙げられるが、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、アルミニウムイオンが好ましく、亜鉛イオンが最も好ましい。
【００３４】
アンモニウムイオンとしては下記一般式で表わされるイオンが好ましい。
＋Ｎ（ＲＡ１）（ＲＡ２）（ＲＡ３）（ＲＡ４）
上記において、ＲＡ１〜ＲＡ４は各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基を表し、該置換基としては、前記一般式（Ｐ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａの脂肪族基やアリール基が有してもよい置換基が挙げられる。これらの置換基のうち、好ましくはヒドロキシル基、フェニル基である。また、ＲＡ１〜ＲＡ４のいずれか２〜３個の基が互いに結合して環（例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドリン環、キヌクリジン環、ピリジン環）を形成してもよい。
ＲＡ１〜ＲＡ４は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
アンモニウムイオンとしては、ＮＨ４＋、ＮＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３＋、ＮＨ３（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）＋、モルホリニウム、Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）４＋、ＮＨ３（Ｃ４Ｈ９）＋が好ましく、ＮＨ４＋、ＮＨ３（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）＋、モルホリニウムがより好ましい。
【００３５】
Ｒ１ａは炭素数１２〜１８のアルキル基が好ましく、Ｒ２ａは水素原子、金属イオンまたは炭素数１２〜１８のアルキル基が好ましい。また、一般式（Ｐ）で表される化合物を単独で使用しても複数混合して使用しても構わないが、好ましくは複数併用した場合である。
【００３６】
一般式（Ｐ）で表される化合物のうち、Ｍが水素原子である化合物は、その多くが市販されており、例えば、日光ケミカルズ（株）のＮＩＫＫＯＬ ＤＬＰ−１０、ＮＩＫＫＯＬ ＤＯＰ−８ＮＶ、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−２、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−４、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−６、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−８、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ−１０、第一工業製薬（株）のプライサーフＡＬ、プライサーフＡ２０８Ｆ、プライサーフＡ２０８Ｎ、プライサーフＡ２１７Ｅ、プライサーフＡ２１９Ｂ、東邦化学工業（株）のフォスファノールＲＢ４１０、フォスファノールＲＢ７１０、フォスファノールＧＦ１９９、フォスファノールＬＰ７００、フォスファノールＬＢ４００、堺化学工業（株）のＰｈｏｓｌｅｘＡ―８、ＰｈｏｓｌｅｘＡ―１８、ＰｈｏｓｌｅｘＡ―１８Ｄ（いずれも商品名）が挙げられる。
これ以外に、ジラウリルリン酸エステル、ジオレイルリン酸エステル、ジステアリルリン酸エステル、ジ（ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル）リン酸が挙げられる。
【００３７】
また、一般式（Ｐ）におけるＭが金属イオンの化合物も、その多くが市販されており、例えば、第一工業製薬（株）のプライサーフＭ２０８Ｂ、プライサーフＭ２０８Ｆ、東邦化学工業（株）のフォスファノールＲＤ７２０、フォスファノールＧＦ１８５、フォスファノールＧＦ２１５、フォスファノールＲＳ７１０Ｍ、フォスファノールＳＣ６１０３、堺化学工業（株）のＬＢＴ―１８３０、ＬＢＴ―１８３０精製品、ＬＢＴ―２２３０、ＬＢＴ―１８１３、ＬＢＴ―１８２０（いずれも商品名）が挙げられる。
これ以外に、ジラウリルリン酸エステルの亜鉛塩、ジオレイルリン酸エステルの亜鉛塩、ジステアリルリン酸エステルの亜鉛塩、ジ（ポリオキシエチレンノニルエーテル）リン酸ナトリウム、ジ（ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル）リン酸、ジ（ポリオキシエチレンデシルフェニルエーテル）リン酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００３８】
本発明の一般式（Ｐ）で表される化合物の総塗設量は耐熱滑性層の総塗設質量の１％以上２５％以下であることが好ましく、２％以上１５％以下であることがさらに好ましい。これらのうち、常温で固体であるものが好ましい。
耐熱滑性層用塗工液に対する溶解度が低いあるいは溶解しない場合には、耐熱滑性層用塗工液への分散を早めるあるいは安定化するためにあらかじめ粉末状の形態にしておくことが好ましく、粒子サイズとしては０．１μｍから１００μｍが好ましく、１μｍから３０μｍがより好ましい。
【００３９】
本発明において、耐熱滑性層中のタルクの含有量は、一般式（Ｐ）で表される化合物の総含有量を１００質量部としたとき、３０質量部以上が好ましく、４０質量部以上がより好ましく、５０質量部以上がさらに好ましい。なお、上限は好ましくは１０００質量部以下、より好ましくは５００質量部以下、さらに好ましくは４００質量部以下である。
【００４０】
アルキルカルボン酸多価金属塩において、アルキルカルボン酸は、炭素数８〜２５のアルキルカルボン酸が好ましく、炭素数１２〜２１がより好ましく、炭素数１４〜２０がさらに好ましく、例えば、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸などが挙げられ、多価金属としては、２価または３価の金属が挙げられ、アルカリ土類金属、遷移金属が挙げられ、例えば、カルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチウム、カドミウム、アルミニウム、亜鉛、銅、鉄などが挙げられ、なかでも亜鉛が好ましい。アルキルカルボン酸多価金属塩としては、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ミリスチン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸銅などが挙げられ、このなかでもステアリン酸亜鉛が好ましい。これらは市販されていたり、対応するカルボン酸から容易に合成することができる。
これらのアルキルカルボン酸多価金属塩は、耐熱滑性層の樹脂（バインダー樹脂）１００質量部に対し、０．１〜５０質量部使用するのが好ましく、０．５〜１０質量部使用するのがより好ましい。
【００４１】
耐熱滑性層に含まれるこれら樹脂以外の有機物の量は様々であるが、耐熱滑性層の総量に対して０．００１質量％〜５０質量％が好ましく、０．０１質量％〜２０質量％がより好ましい。
【００４２】
耐熱滑性層には樹脂を含むが、耐熱性の高い公知の樹脂を用いることができる。例として、エチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアセトアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のアクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等の天然又は合成樹脂の単体又は混合物を挙げることができる。
耐熱性を高めるため、紫外線又は電子ビームを照射して樹脂を架橋することが出来る。また、架橋剤を用い、加熱により架橋させることも可能である。この際、触媒を添加することも出来る。架橋剤としては、イソシアネート系（ポリイソシアネート、ポリイソシアネートの環状３量体等）、金属系（チタンテトラブチレート、ジルコニウムテトラブチレート、アルミニウムトリイソプロピレート等）等が挙げられる。これら架橋剤と反応させる樹脂の例としては、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリエステルポリオール、アルキドポリオール、およびアミノ基を側鎖に含むシリコーン化合物等が挙げられる。
【００４３】
耐熱滑性層を塗設後に高温の更には高湿の環境に置くことで架橋剤との反応を促進することが知られている。この点、本発明においては、耐熱滑性層中に含有する前記一般式（Ｐ）で表されるリン酸エステル又はリン酸エステルの塩局在化構造が破壊されない条件を選ぶことが好ましい。また、本発明の耐熱滑性層における前記リン酸エステル又は塩局在化構造が破壊されない条件で十分に架橋反応を促進できるように、上記樹脂と架橋剤の組み合わせを選定することができる。６０℃低湿条件であれば１日以内に十分架橋反応を促進できる樹脂と架橋剤の組み合わせが好ましい。
このような樹脂としては、樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有することが好ましい。ここで、樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有するとは、該樹脂のポリマー鎖の長さ方向の末端もしくはそのポリマーの末端ではない構造中に水酸基を２個以上有していることを意味する。このような樹脂としては、ポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。なお、本発明においては、ポリアクリルポリオールにはポリメタアクリルポリオールも包含されるものである。本発明においては、これらのなかでもポリアクリルポリオールが好ましい。
樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有する樹脂としては、市販のものを使用することができ、例えば、三井化学ポリウレタン（株）製タケラック（登録商標）シリーズ、綜研化学（株）製サーモラックシリーズ、日立化成（株）製ヒタロイドシリーズ、ハリマ化成（株）製ハリアクロンシリーズ、大日本インキ（株）製アクリディックシリーズ及び日本ポリウレタン（株）製ニッポランシリーズ（いずれも商品名）を挙げることが出来るがこれらに限定されない。
【００４４】
樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有する樹脂の水酸基価は樹脂の固形分に対して５〜３００が好ましく、１５〜１００が最も好ましい。水酸基価とはＪＩＳ Ｋ−１５５７−１で規定されている試料１ｇ中の水酸基と当量の水酸化カリウムのｍｇ数のことである。このような樹脂の酸価は樹脂の固形分に対して２０以下が好ましく、０〜１０が最も好ましい。酸価とはＪＩＳ Ｋ−１５５７−５で規定されている試料１ｇ中の遊離酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数のことである。
【００４５】
イソシアネート系架橋剤を用いて架橋させる場合にはＩＲスペクトル測定により残留イソシアネート基を検出することで架橋反応の進行を検出することができ、十分架橋反応を促進するとは、塗布して乾燥直後の耐熱滑性層中の残留イソシアネート基由来のＩＲスペクトルピーク強度に対して、架橋反応後の残留イソシアネート基由来のＩＲスペクトルピーク強度が２０％以下であることであり、好ましくは１０％以下、最も好ましくは５％以下であることである。
本発明の効果を効率的に発揮させるためには、樹脂と架橋剤の反応を促進する温度は６５℃以下であることが好ましく、５５℃以下であることがより好ましく、４０℃から５３℃であることが最も好ましい。また樹脂と架橋剤の反応を促進する時間は１２時間以上４０日以下であることが好ましく、１８時間以上３０日以下であることがより好ましく、１日以上２０日以下であることが最も好ましい。
【００４６】
（基材フィルム）
本発明の感熱転写シートの基材フィルムは特に限定されず、必要とされる耐熱性と強度を有するものであれば、従来公知の任意のものを使用することができる。例として、グラシン紙、コンデンサー紙、パフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の耐熱性の高いポリエステル類、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルホン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチックの延伸あるいは未延伸フィルムや、これらの材料を積層したものが好ましい支持体の具体例として挙げられる。ポリエステルフィルムはこれらの中でも特に好ましく、延伸処理されたポリエステルフィルムがより好ましく、基材フイルムの少なくとも一方の面に易接着層を形成した後に延伸して製造されたものが特に好ましい。
この基材フイルムの厚さは、強度及び耐熱性等が適切になるように材料に応じて適宜選択されるが、１〜３０μｍ程度のものが好ましく用いられる。より好ましくは１〜２０μｍ程度のものであり、さらに好ましくは３〜１０μｍ程度のものが用いられる。
【００４７】
（易接着処理）
基材フイルムは、塗布液の濡れ性及び接着性の向上を目的として、易接着処理を行なってもよい。易接着処理方法として、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、真空プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、プライマー処理、グラフト化処理等公知の樹脂表面改質技術を例示することができる。
このうち、基材フイルム上に塗布によって易接着層を形成することもでき、本発明においては易接着層を形成することが好ましい。易接着層に用いられる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂やポリビニルアルコール樹脂等のビニル系樹脂、ポリビニルアセトアセタールやポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂等を例示することができる。
支持体に用いられる基材フイルムは、フィルムを溶融押出し形成する時に、未延伸フィルムに塗工処理を施し、その後に延伸処理して行なうことも可能である。
また、上記の処理は、二種類以上を併用することもできる。
ここで、前述のように、本発明においては、基材フイルムの少なくとも一方の面に、易接着層を形成後、延伸したものが好ましい。本発明の感熱転写シートは、染料層と基材フィルムの間に易接着層（染料バリア層）を設けることが好ましい。
【００４８】
転写するための染料（好ましくは昇華性染料）を含む熱転写層（以下、染料層ともいう）は染料塗工液を塗設して形成することが出来る。
【００４９】
（染料層）
本発明の染料層は、下記一般式（１）で表される色素を染料層に含有する。
この条件を満たす範囲においてイエロー、マゼンタ、シアンの各色の染料層及び必要に応じてブラックの染料層が同一の基材フィルム上に面順次で繰り返し塗り分けられているのが好ましい。一例として、イエロー、マゼンタ及びシアンの各色相の染料層が同一の基材フィルム上の長軸方向に、感熱転写受像シートの記録面の面積に対応して面順次に塗り分けられている場合を挙げることができる。この３層に加えて、ブラックの色相の染料層と転写性保護層（これは、後述する転写性保護層積層体であってもよい）のどちらか、あるいは双方が塗り分けられるのも好ましい態様である。
この様な態様を取る場合、各色の開始点をプリンターに伝達する目的で、感熱転写シート上に目印を付与することも好ましい態様である。このように面順次で繰り返し塗り分けることによって、色素の転写による画像の形成、さらには画像上への保護層の積層を一つの感熱転写シートで行なうことが可能となる。
しかしながら、本発明は前記のような染料層の設け方に限定されるものではない。昇華型熱転写インク層と熱溶融転写インク層を併設することも可能であり、また、イエロー、マゼンタ、シアン及びブラック以外の色相の染料層を設ける等の変更をすることも可能である。また、形態としては長尺であっても良いし、枚葉の熱転写シートであっても良いし、特に使用前の感熱転写シートが重なった状態で保管される態様に好ましく用いることができる。
【００５０】
（染料層塗工液）
染料層塗工液は、少なくとも昇華性染料（以下色素とも言う）と、バインダー樹脂を含有するものであるが、必要に応じて、有機微粉末もしくは無機微粉末、ワックス類、シリコーン樹脂、含フッ素有機化合物等を含有することも本発明の好ましい態様である。
【００５１】
本発明の感熱転写シートにおける各々の色素は、感熱転写層中にそれぞれ２０〜８０質量％含有されることが好ましく、３０〜７０質量％含有されることがより好ましい。
染料層の塗設は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。また染料層の塗設量は、０．１〜２．０ｇ／ｍ２（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である）が好ましく、更に好ましくは０．２〜１．２ｇ／ｍ２である。染料層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．２〜１．２μｍである。
【００５２】
感熱転写層は単層構成であっても複層構成であってもよく、複層構成の場合、熱転写層を構成する各層の組成は同一であっても異なっていてもよい。
【００５３】
（色素）
以下に、本発明で使用する一般式（１）で表される色素についてさらに詳細に説明する。
【００５４】
【化３】
【００５５】
一般式（１）中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基（炭素数は６〜１２が好ましく、より好ましくはフェニレン基であり、例えば、ｐ−フェニレン基）を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基）、置換もしくは無置換のアルケニル基（炭素数は２〜１０が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基）または置換もしくは無置換のアリール基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基）を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基）、置換もしくは無置換のアリール基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基）、置換もしくは無置換のアミノ基（炭素数は０〜１２が好ましく、例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基）、置換もしくは無置換のアルコキシ基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基）、置換もしくは無置換のアリールオキシ基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェノキシ基）、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（炭素数は２〜１１が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基）、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（炭素数は７〜１３が好ましく、例えば、フェノキシカルボニル基）または置換もしくは無置換のカルバモイル基（炭素数は１〜１３が好ましく、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基（炭素数は１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基）または置換もしくは無置換のアリール基（炭素数は６〜１２が好ましく、例えば、フェニル基）を表す。
【００５６】
ここで、前記、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各基が置換してもよい置換基をさらに詳しく説明する。
以下に、このような置換基としては、下記の基が挙げられ、各々の置換基の具体的な基、各々の置換基の中での好ましい基を含めて説明する。
【００５７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
脂肪族基は、直鎖、分枝または環状の脂肪族基（環状の脂肪族基とは、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、ビシクロアルキル基等の環状の脂肪族基を意味する）であり、飽和脂肪族基には、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基が含まれ、置換基を有してもよい。これらの炭素数は１〜３０が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、ベンジルおよび２−エチルヘキシルを挙げることができる。ここで、シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基を挙げることができる。例として、ビシクロ［１．２．２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルを挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。
【００５８】
不飽和脂肪族基としては、直鎖、分枝または環状の不飽和脂肪族基であり、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。アルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、およびプロパルギルが挙げられる。
【００５９】
アリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられ、置換基を有してもよいフェニル基が好ましい。
ヘテロ環基は、置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、それらはさらに縮環していてもよい。これらのヘテロ環基としては、好ましくは５または６員のヘテロ環基であり、また環構成のヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が好ましい。さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基におけるヘテロ環としては、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環などが挙げられる。
脂肪族オキシ基（代表としてアルコキシ基）は、置換もしくは無置換の脂肪族オキシ基（代表としてアルコキシ基）が含まれ、炭素数は１〜３０が好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。
アリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例として、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。好ましくは、置換基を有してもよいフェニルオキシ基である。
【００６０】
アシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００６１】
カルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
脂肪族オキシカルボニルオキシ基（代表としてアルコキシカルボニルオキシ基）は、炭素数２〜３０が好ましく、置換基を有していてもよい。例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００６２】
アリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。好ましくは置換基を有してもよいフェノキシカルボニルオキシ基である。
【００６３】
アミノ基は、無置換のアミノ基、脂肪族アミノ基（代表としてアルキルアミノ基）、アリールアミノ基およびヘテロ環アミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の脂肪族アミノ基（代表としてアルキルアミノ基）、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノ、４−キノリルアミノなどを挙げることができる。
【００６４】
アシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００６５】
アミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。なお、この基における「アミノ」とは、この基中のアミノ部分が前述のアミノ基と同義であることを意味する。他の基においても同様である。
【００６６】
脂肪族オキシカルボニルアミノ基（代表としてアルコキシカルボニルアミノ基）は、炭素数２〜３０が好ましく、置換基を有してもよい。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
アリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。置換基を有してもよいフェニルオキシカルボニルアミノ基が好ましい。
【００６７】
スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００６８】
脂肪族（代表としてアルキル）もしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の脂肪族スルホニルアミノ基（代表としてアルキルスルホニルアミノ基）、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルスルホニルアミノ基）が好ましい。例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００６９】
脂肪族チオ基（代表としてアルキルチオ基）は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
【００７０】
スルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。
【００７１】
脂肪族（代表としてアルキル）もしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換の脂肪族スルフィニル基（代表としてアルキルスルフィニル基）、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルスルフィニル基）が好ましい。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
脂肪族（代表としてアルキル）もしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換の脂肪族スルホニル基（代表としてアルキルスルホニル基）、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルスルホニル基）が好ましい。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
【００７２】
アシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換の脂肪族カルボニル基（代表としてアルキルカルボニル基）、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基（好ましくは置換基を有してもよいフェニルカルボニル基）、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。
【００７３】
アリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。好ましくは置換基を有してもよいフェニルオキシカルボニル基である。
【００７４】
脂肪族オキシカルボニル基（代表としてアルコキシカルボニル基）は、炭素数２〜３０が好ましく、置換基を有してもよい。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
カルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。
【００７５】
アリールもしくはヘテロ環アゾ基として、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。
イミド基として、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。
これらに加え、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基が挙げられる。
【００７６】
以上の前記Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各基が置換してもよい置換基の例としてのこれらの各基はさらに置換基を有してもよく、このような置換基としては、上述の置換基が挙げられる。
【００７７】
Ａは、置換もしくは無置換のアリーレン基であり、好ましくは置換もしくは無置換のフェニレン基であり、より好ましくはメチル基または塩素原子が置換したフェニレン基または無置換のフェニレン基であり、最も好ましくは無置換のフェニレン基である。なお、Ａにおけるフェニレン基としてはｐ−フェニレン基が好ましい。
【００７８】
Ｒ１として、好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜８）、アリル基、置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜６）、アリル基であり、最も好ましくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４）であり、なかでもエチル基が好ましい。
【００７９】
Ｒ２として、好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜８）、アリル基、置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜６）、アリル基であり、最も好ましくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４）であり、なかでもエチル基が好ましい。
【００８０】
Ｒ３として、好ましくは置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、より好ましくはジアルキルアミノ基（好ましくは炭素数２〜８）、無置換のアミノ基、無置換のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜６）であり、さらに好ましくはジアルキルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４）、無置換のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくは無置換のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）であり、なかでもエトキシ基が好ましい。
【００８１】
Ｒ４として、好ましくは置換または無置換の炭素数１〜８のアルキル基、置換または無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、より好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜１０）であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアリール基（好ましくは無置換のアリール基でさらに好ましくは炭素数６〜１０）であり、なかでも置換もしくは無置換のフェニル基が好ましく、最も好ましくは無置換のフェニル基である。
【００８２】
一般式（１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせ（Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の組み合わせ）については、これらの置換基の少なくとも１つが前記の好ましい置換基である色素が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい置換基である色素がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である色素が最も好ましい。
【００８３】
一般式（１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせは、Ａは置換もしくは無置換のフェニレン基であり、Ｒ１が置換もしくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ２が置換もしくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ３は置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、Ｒ４は置換もしくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０アリール基である組み合わせである。
より好ましい置換基の組み合わせは、Ａは置換もしくは無置換のフェニレン基であり、Ｒ１が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換のフェニル基であり、Ｒ２が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、アリル基、置換もしくは無置換のフェニル基であり、Ｒ３は置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、Ｒ４は置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基である組み合わせである。
最も好ましい置換基の組み合わせは、Ａはメチル基または塩素原子で置換されたフェニレン基または無置換のフェニレン基であり、Ｒ１が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、アリル基であり、Ｒ２が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、アリル基であり、Ｒ３は置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、Ｒ４は置換もしくは無置換のフェニル基である組み合わせである。
【００８４】
一般式（１）で表される色素のうち、市販されていないものに関しては、一般的に行われているピラゾロン誘導体とアミノベンズアルデヒド誘導体との脱水縮合反応により合成することができる。
以下に、本発明の一般式（１）で表されるイエロー色素の具体例を示すが、本発明で用いることができるイエロー色素は以下の具体例によって限定的に解釈されるものではない。
【００８５】
【表１】
【００８６】
本発明に用いられる染料は、その他の色素を併用することも可能であり、熱により拡散し、感熱転写シートに組み込み可能かつ、加熱により感熱転写シートから感熱転写受像シートに転写するものであれば特に限定されず、感熱転写シート用の色素として従来から用いられてきている色素、あるいは公知の色素を併用することができる。
好ましい色素としては、たとえば、ジアリールメタン系、トリアリールメタン系、チアゾール系、メロシアニン等のメチン系、インドアニリン、アセトフェノンアゾメチン、ピラゾロアゾメチン、イミダゾルアゾメチン、イミダゾアゾメチン、ピリドンアゾメチンに代表されるアゾメチン系、キサンテン系、オキサジン系、ジシアノスチレン、トリシアノスチレンに代表されるシアノメチレン系、チアジン系、アジン系、アクリジン系、ベンゼンアゾ系、ピリドンアゾ、チオフェンアゾ、イソチアゾールアゾ、ピロールアゾ、ピラールアゾ、イミダゾールアゾ、チアジアゾールアゾ、トリアゾールアゾ、ジズアゾ等のアゾ系、スピロピラン系、インドリノスピロピラン系、フルオラン系、ローダミンラクタム系、ナフトキノン系、アントラキノン系、キノフタロン系等が挙げられる。
【００８７】
具体例を挙げると、イエロー色素としては、ディスパースイエロー２３１、ディスパースイエロー２０１、ソルベントイエロー９３等が挙げられ、本発明の一般式（１）で表される色素と併用してもよい。マゼンタ色素としては、ディスパースバイオレット２６、ディスパースレッド６０、ソルベントレッド１９等が、さらに、シアン色素としては、ソルベントブルー６３、ソルベントブルー３６、ディスパースブルー３５４、ディスパースブルー３５等が挙げられるがこれらに限定されない。また、上記の各色相の色素を任意に組み合わせることも可能である。
【００８８】
（染料層用樹脂）
本発明の感熱転写シートにおいて、通常、染料は樹脂（バインダー、樹脂バインダーとも呼ばれる）と呼ばれる高分子化合物に分散された状態で基材フィルム上に塗設されている。本発明では染料層に含まれる樹脂バインダーとして、公知のものを使用することができる。例として、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド等のアクリル系樹脂、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアセタール系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、硝酸セルロース等の変性セルロース系樹脂ニトロセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース及びエチルセルロースなどのセルロース系樹脂や、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、各種エストラマー等が挙げられ、上記からなる群から選ばれる少なくとも１種類の樹脂により染料層は構成される。
これらを単独で用いる他、これらを混合、または共重合して用いることも可能であり、各種架橋剤によって架橋することも可能である。
本発明において、セルロース系樹脂およびポリビニルアセタール系樹脂が好ましく、より好ましくはポリビニルアセタール系樹脂である。中でもポリビニルアセトアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が本発明において好ましく用いられる。
染料層における染料の樹脂に対する含有量の比（質量比）はどのような割合であってもよいが、０．１〜５．０が好ましく、０．５〜３．０がより好ましく、０．９〜２．０がさらに好ましい。
【００８９】
（転写性保護層積層体）
本発明では、感熱転写シートに転写性保護層積層体を面順次で設けることも好ましい。転写性保護層積層体は、熱転写された画像の上に透明樹脂からなる保護層を熱転写で形成し、画像を覆い保護するためのものであり、耐擦過性、耐光性、耐候性等の耐久性向上を目的とする。転写された染料が受像シート表面に曝されたままでは、耐光性、耐擦過性、耐薬品性等の画像耐久性が不十分な場合に有効である。
転写性保護層積層体は、基材フィルム上に、基材フィルム側から離型層、保護層、接着剤層の順に形成することができる。保護層を複数の層で形成することも可能である。保護層が他の層の機能を兼ね備えている場合には、離型層、接着剤層を省くことも可能である。支持体としては、易接着層の設けられたものを用いることも可能である。
【００９０】
（転写性保護層）
本発明の転写性保護層を形成する樹脂としては、耐擦過性、耐薬品性、透明性、硬度に優れた樹脂が好ましく、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、これら各樹脂のシリコーン変性樹脂、紫外線遮断性樹脂、これら各樹脂の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を用いることができる。なかでも、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
また、各種架橋剤によって架橋することも可能である。
【００９１】
（転写性保護層樹脂）
アクリル樹脂としては、従来公知のアクリレートモノマー、メタクリレートモノマーの中から選ばれた少なくとも１つ以上のモノマーからなる重合体で、アクリル系モノマー以外にスチレン、アクリロニトリル等を共重合させても良い。好ましいモノマーとしてメチルメタクリレートを仕込み質量比で５０質量％以上含有していることが挙げられる。
本発明のアクリル樹脂は、分子量が２０，０００以上１００，０００以下であることが好ましい。
【００９２】
本発明のポリエステル樹脂としては、従来公知の飽和ポリエステル樹脂を使用できる。上記ポリエステル樹脂を使用する場合は、ガラス転移温度は５０〜１２０℃が好ましく、又、分子量は２，０００〜４０，０００の範囲が好ましく、更に４，０００〜２０，０００の範囲が保護層転写時に箔切れ性が良くなり、より好ましい。
【００９３】
（紫外線吸収剤）
本発明において、保護層および／または接着層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましく、紫外線吸収剤としては、従来公知の無機系紫外線吸収剤、有機系紫外線吸収剤が使用できる。有機系紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ヒンダートアミン系等の非反応性紫外線吸収剤や、これらの非反応性紫外線吸収剤に、例えば、ビニル基やアクリロイル基、メタアクリロイル基等の付加重合性二重結合、あるいは、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入し、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂に共重合若しくは、グラフトしたものを使用することができる。また、樹脂のモノマーまたはオリゴマーに紫外線吸収剤を溶解させた後、このモノマーまたはオリゴマーを重合させる方法が開示されており（特開２００６−２１３３３号公報）、こうして得られた紫外線遮断性樹脂を用いることもできる。この場合には紫外線吸収剤は非反応性のもので良い。
これら紫外線吸収剤に中でも、特にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系が好ましい。これら紫外線吸収剤は画像形成に使用する染料の特性に応じて、有効な紫外線吸収波長域をカバーするように組み合わせて使用することが好ましく、また、非反応性紫外線吸収剤の場合には紫外線吸収剤が析出しないように構造が異なるものを複数混合して用いることが好ましい。
紫外線吸収剤の市販品としては、チヌビン−Ｐ（チバガイギー製）、ＪＦ−７７（城北化学製）、シーソープ７０１（白石カルシウム製）、スミソープ２００（住友化学製）、バイオソープ５２０（共同薬品製）、アデカスタブＬＡ−３２（旭電化製）等（いずれも商品名）が挙げられる。
【００９４】
（転写性保護層の形成）
保護層の形成法は、用いられる樹脂の種類に依存するが、前記染料層の形成方法と同様の方法で形成すことができ、０．５〜１０μｍの厚さが好ましい。
【００９５】
（離型層）
前記転写性保護層が熱転写時に基材フィルムから剥離しにくい場合には、基材フィルムと保護層との間に離型層を形成することができる。転写性保護層と離型層の間に更に剥離層を形成しても良い。離型層は、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース誘導体樹脂、ウレタン系樹脂、酢酸系ビニル樹脂、アクリルビニルエーテル系樹脂、無水マレイン酸樹脂、及びこれらの樹脂群の共重合体を少なくとも１種以上含有する塗工液を、従来公知のグラビアコート、グラビアリバースコート等の方法で塗設、乾燥することにより形成することができる。上記の樹脂の中でも、アクリル樹脂として、アクリル酸やメタクリル酸等の単体、または他のモノマー等と共重合させた樹脂、あるいはセルロース誘導体樹脂が好ましく、基材フィルムとの密着性、保護層との離型性において優れている。
各種架橋剤によって架橋することも可能であり、また、電離放射線硬化性樹脂および紫外線硬化性樹脂も用いることができる。
【００９６】
離型層は、熱転写時に被転写体に移行するもの、あるいは基材フィルム側に残るもの、あるいは凝集破壊するもの等を、適宜選択することができるが、熱転写により離型層が基材フィルム側に残存し、離型層と転写性保護層との界面が熱転写された後の保護層表面になるようにすることが、表面光沢性、保護層の転写安定性等の点で優れており、好ましい態様である。離型層の形成方法は、従来公知の塗設方法で形成でき、その厚みは乾燥状態で０．５〜５μｍ程度が好ましい。
【００９７】
（接着層）
転写性保護層積層体の最上層として、保護層の最表面に接着層を設けることができる。これによって保護層の被転写体への接着性を良好にすることができる。
【００９８】
２）感熱転写受像シート
次に感熱転写プリントを形成するために本発明の感熱転写シートと組み合わせて使用できる感熱転写受像シート（以下、単に受像シートともいう。）に関して詳細に説明する。
感熱転写受像シートは、染料を受容する熱可塑性の受容ポリマーを含有する少なくとも１層の受容層を支持体上に有する。受容層には、紫外線吸収剤、離型剤、滑剤、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤、その他の添加物を含有させることができる。支持体と受容層との間に、例えば断熱層（多孔質層）、光沢制御層、白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層などの中間層が形成されていてもよい。支持体と受容層との間に少なくとも１層の断熱層を有することが好ましい。
受容層およびこれらの中間層は同時重層塗布により形成されることが好ましく、中間層は、必要に応じて複数設けることができる。
支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていてもよい。支持体裏面各層を塗布するためには、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法を用いることができる。
なお、本発明においては、どのような感熱転写受像シートと組み合わせることもできるが、本発明の効果を効果的に奏するには、支持体上に、中空ポリマー（粒子）ラテックスを含有する断熱層とポリマー（粒子）ラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと組み合わせて用いるのが好ましい。
【００９９】
感熱転写受像シートは、受容層に染料染着可能なポリマーラテックスを使用することが好ましい。またポリマーラテックスとしては単独でも複数のポリマーラテックスを混合使用してもよい。
【０１００】
ポリマーラテックスとは一般に熱可塑性樹脂が微粒子として水溶性の分散媒中に分散されたものである。本発明のポリマーラテックスに用いられる熱可塑性樹脂の例としては、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトン等が挙げられる。
このうちポリカーボネート、ポリエステル、塩化ビニル共重合体が好ましく、ポリエステル、塩化ビニル共重合体が特に好ましい。
【０１０１】
ポリエステルはジカルボン酸誘導体とジオール化合物との縮合により得られ、芳香環や飽和炭化環を含有してもよく、分散性を付与するための水溶性基してもよい。
【０１０２】
塩化ビニル共重合体としては、塩化ビニルと酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルとアクリレートの共重合体、塩化ビニルとメタクリレートの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルとアクリレートの共重合体、塩化ビニルとアクリレートとエチレンの共重合体等が挙げられる。このように２元共重合体でも３元以上の共重合体でもよく、モノマーが不規則に分布していても、ブロック共重合していてもよい。
該共重合体にはビニルアルコール誘導体やマレイン酸誘導体、ビニルエーテル誘導体などの補助的なモノマー成分を添加してもよい。共重合体において塩化ビニル成分は５０質量％以上含有されていることが好ましく、またマレイン酸誘導体、ビニルエーテル誘導体等の補助的なモノマー成分は１０質量％以下であることが好ましい。
ポリマーラテックスは単独でも混合物として使用してもよい。ポリマーラテックスは、均一構造であってもコア／シェル型であってもよく、このときコアとシェルをそれぞれ形成する樹脂のガラス転移温度が異なっても良い。
【０１０３】
この様なポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、２０℃以上９０℃以下であることが好ましく、より好ましくは２５℃以上８０℃以下である。
【０１０４】
商業的に入手可能なアクリレートラテックスとしては、日本ゼオン株式会社製、ＮｉｐｏｌＬＸ８１４（Ｔｇ２５℃）、ＮｉｐｏｌＬＸ８５７Ｘ２（Ｔｇ４３℃）等（いずれも商品名）が挙げられる。
商業的に入手可能なポリエステルラテックスとしては、東洋紡株式会社製 バイロナールＭＤ−１１００（Ｔｇ４０℃）、バイロナールＭＤ−１４００（Ｔｇ２０℃）、バイロナールＭＤ−１４８０（Ｔｇ２０℃）、ＭＤ−１９８５（Ｔｇ２０℃）等（いずれも製品名）が挙げられる。
商業的に入手可能な塩化ビニル共重合体としては、日信化学工業株式会社製 ビニブラン２７６（Ｔｇ３３℃）、ビニブラン６０９（Ｔｇ４８℃）、住化ケムテックス株式会社製スミエリート１３２０（Ｔｇ３０℃）、スミエリート１２１０（Ｔｇ２０℃）等（いずれも商品名）が挙げられる。
【０１０５】
ポリマーラテックスの添加量は、ポリマーラテックスの固形分が受容層中の全ポリマーの５０〜９８質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％であることがより好ましい。またポリマーラテックスの平均粒子サイズは、好ましくは１〜５００００ｎｍであり、より好ましくは５〜１０００ｎｍである。
【０１０６】
断熱層に中空ポリマーを含有することが好ましい。
本発明において中空ポリマーとは粒子内部に空隙を有するポリマー粒子であり、好ましくは水分散物であり、例えば、１）ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水などの分散媒が入っており、塗布乾燥後、粒子内の水が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空ポリマー粒子、２）ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれか又はそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、３）上記の２）をあらかじめ加熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。
これらの中でも、上記１）の非発泡型の中空ポリマー粒子が好ましく、必要に応じて２種以上混合して使用することができる。具体例としてはロームアンドハース社製 ローペイク ＨＰ−１０５５、ＪＳＲ社製 ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製 Ｎｉｐｏｌ ＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。
【０１０７】
これらの中空ポリマーの平均粒子径は０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．２〜３．０μｍであることがさらに好ましく、０．４〜１．４μｍであることが特に好ましい。
また、中空ポリマーは、空隙率が２０〜７０％のものが好ましく、３０〜６０％のものがより好ましい。
【０１０８】
中空ポリマー粒子のサイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、その外径の円相当換算直径を測定し算出する。平均粒径は、中空ポリマー粒子を少なくとも３００個透過電子顕微鏡を用いて観察し、その外形の円相当径を算出し、平均して求める。また中空ポリマーの空隙率とは、粒子体積に対する空隙部分の体積の割合から求める。
【０１０９】
中空ポリマーのポリマー特性として、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃以上２００℃以下であることが好ましく、９０℃以上１８０℃以下である中空ポリマーがさらに好ましい。中空ポリマーとしては、中空ポリマーラッテックスが特に好ましい。
【０１１０】
感熱転写受像シートの受容層及び／または断熱層には水溶性ポリマーを含有させることができる。ここで水溶性ポリマーとは、２０℃において水１００ｇに対し０．０５ｇ以上の溶解度を有し、より好ましくは０．１ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｇ以上の溶解度を有する。
【０１１１】
感熱転写受像シートに用いることのできる水溶性ポリマーとして、カラギナン類、ペクチン、デキストリン、ゼラチン、カゼイン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、水溶性ポリエステル等を挙げることができる。このうちゼラチンとポリビニルアルコールが好ましい。
【０１１２】
ゼラチンは分子量１０,０００から１,０００,０００までのものを用いることができ、ゼラチン中にＣｌ−、ＳＯ４２-等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
またゼラチンには、アルデヒド型架橋剤、Ｎ−メチロール型架橋剤、ビニルスルホン型架橋剤、クロロトリアジン型架橋剤等の公知の架橋剤を添加することができる。このうちビニルスルホン型架橋剤、クロロトリアジン型架橋剤が好ましく、具体的例としては、ビスビニルスルホニルメチルエーテル、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（ビニルスルホニルアセタミド）エタン、４，６−ジクロロ−２−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンまたはそのナトリウム塩を挙げることができる。
【０１１３】
ポリビニルアルコールとしては、完全けん化物、部分けん化物、変性ポリビニルアルコール等の各種ポリビニルアルコールを用いることができる。これらポリビニルアルコールについては、長野浩一ら共著，「ポバール」（高分子刊行会発行）に記載のものが用いられる。ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献１４４〜１５４頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し０．０１〜４０質量％であることが好ましい。
【０１１４】
ポリビニルアルコールの具体例として、完全けん化物としてはＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈなど、部分けん化物としてはＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２２０など、変性ポリビニルアルコールとしてはＣ−１１８、ＨＬ−１２Ｅ、ＫＬ−１１８、ＭＰ−２０３が挙げられる。（いずれも商品名、株式会社クラレ製）
【０１１５】
感熱転写受像シートの受容層に、フッ素原子が置換した脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有させることができる。この場合、感熱転写シートが含有するフッ素原子が置換した脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物と同一の高分子化合物を含有しても同じ範疇の異なる高分子化合物を含有してもよく、好ましい態様である。また、離型剤として公知のポリエチレンワックス、アミドワックス等の固形ワックス類、シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤を含有してもよい。
【０１１６】
フッ素原子が置換した脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物の含有量は、受容層の全固形分（質量）に対して０．０１％〜２０％であり、好ましくは０．１％〜１０％であり、さらに好ましくは１％〜５％である。
【０１１７】
３）画像形成方法
次に本発明の感熱転写シートを用いて行うことのできる画像形成方法について説明する。
画像形成方法では、感熱転写受像シートの受容層と感熱転写シートの染料層などの熱転写層とが接するように重ね合わせ、サーマルプリンターヘッドからの画像信号に応じた熱エネルギーを感熱転写シートの耐熱滑性層側から付与することにより画像を形成する。
具体的な画像形成は、例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、プリント時間は１５秒未満が好ましく、３〜１２秒がより好ましく、さらに好ましくは、３〜７秒である。
【０１１８】
上記プリント時間を満たすために、プリント時のライン速度は１．０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ以下であることが好ましく０．７５ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ以下であることが更に好ましく、０．６５ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ以下であることが最も好ましい。また、高速プリントにおける転写効率向上の観点から、プリント時のサーマルプリンターヘッド最高到達温度は、１８０℃以上４５０℃以下が好ましく、更に好ましくは２００℃以上４５０℃以下である。更には３５０℃以上４５０℃以下が好ましい。
【０１１９】
本発明の感熱転写シートは感熱転写記録方式を利用したプリンター、複写機などに利用することができる。熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ２程度の熱エネルギーを付与することによってプリントを得ることができる。また、本発明の感熱転写シートと組み合わせて使用する感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【実施例】
【０１２０】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
【０１２１】
実施例１
（感熱転写シートの作製）
基材フィルムとして片面に易接着層が形成された後に延伸して製造された厚さ４．５μｍのポリエステルフィルムの易接着層とは反対面に、乾燥後の固形分塗設量が１．１ｇ／ｍ２となるように後述の耐熱滑性層塗工液Ａを塗設した。後述の耐熱滑性層塗工液Ａのポリイソシアネートと樹脂との反応性の基の比率（−ＮＣＯ／ＯＨ）は１．０であった。塗布直後に１００℃オーブンで１分間乾燥後、引き続き熱処理（６０℃２４時間）を行いイソシアネートとポリオールの架橋反応を行い硬化させた。熱処理後に未反応のイソシアネート基をＩＲ測定により確認し、十分に反応していることを確認した。
このようにして作製した耐熱滑性層形成ポリエステルフィルムの易接着層塗布側に後述の塗工液により、イエロー、マゼンタ、シアンの各染料層（感熱転写層）および転写性保護層積層体を面順次となるように塗設した感熱転写シートを作製した。各染料層の固形分塗設量は、０．９ｇ／ｍ２とした。これら塗布直後に１００℃オーブンで１分間乾燥させた。
なお、転写性保護層積層体の形成は、離型層用塗工液を塗布し、その上に保護層用塗工液を塗設し、乾燥した後に、さらにその上に接着層塗工液を塗布した。
【０１２２】
耐熱滑性層用分散液Ａ
ポリビニルアセタール樹脂 １０．０質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学（株）製）
ＯＨ基を有するリン酸エステル １．５質量部
（フォスレックスＡ−１８、商品名、堺化学工業（株）製：アルコール部の炭素数１８）（一般式（Ｐ）で表される化合物）
ステアリン酸亜鉛 ０．２質量部
原料タルク １．１質量部
（平均球相当径粒子サイズ２．９μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．１５、散弾式磨耗度２５ｍｇ）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８７．０質量部
【０１２３】
前記耐熱滑性層用分散液Ａの樹脂と溶媒をあらかじめ溶解し、溶解液にその他添加剤を添加してプレミキシングを実施後、分散を実施して分散液を調製した。分散条件は以下の３つの条件のいずれかで実施した。
（条件１）ペイントシェーカーを用いて１３０分間分散。
（条件２）独・フリッチュ社製遊星型ボールミルＰ−７型（商品名）を用いて２５０ｒｐｍ４５分間分散
（条件３）独・フリッチュ社製遊星型ボールミルＰ−７型を用いて４００ｒｐｍ５０分間分散
【０１２４】
耐熱滑性層塗工液Ａ
耐熱滑性層用分散液Ａ ３２．０質量部
ポリイソシアネート（７５％溶液） ８．０質量部
（バーノックＤ−７５０、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ７５．０質量部
【０１２５】
イエロー染料層塗工液
表４に記載のイエロー色素 ５．１質量部
染料化合物（ＹＣ） ０．８質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ６．９質量部
（デンカブチラール＃５０００−Ｄ、商品名、電気化学工業（株）製）
含フッ素高分子化合物 ０．１質量部
（メガファックＦ−４７２ＳＦ、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
マット剤（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製） ０．０９質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８５質量部
【０１２６】
【化４】
【０１２７】
マゼンタ染料層塗工液
染料化合物（Ｍ−１） １．８質量部
染料化合物（Ｍ−２） １．３質量部
染料化合物（Ｍ−３） ５．５質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ６．２質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
離型剤 ０．０７質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０２質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１１質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８５質量部
【０１２８】
【化５】
【０１２９】
シアン染料層塗工液
染料化合物（Ｃ−１） １．４質量部
染料化合物（Ｃ−２） ７．６質量部
染料化合物（Ｃ−３） ０．８質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ５．０質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
含フッ素高分子化合物 ０．１質量部
（メガファックＦ−４７２ＳＦ、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
マット剤（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製） ０．１質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８５質量部
【０１３０】
【化６】
【０１３１】
（転写性保護層積層体）
染料層の作製に使用したものと同じポリエステルフィルムに、以下に示す組成の離型層、保護層および接着層用塗工液を塗設し、転写性保護層積層体を形成した。乾膜時の塗設量は離型層０．２ｇ／ｍ２、保護層０．４ｇ／ｍ２、接着層２．０ｇ／ｍ２とした。
【０１３２】
離型層塗工液
変性セルロース樹脂 ５．０質量部
（Ｌ−３０、商品名、ダイセル化学）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ９５．０質量部
保護層塗工液
アクリル樹脂溶液（固形分４０％） ９０質量部
（ＵＮＯ−１、商品名、岐阜セラミック（有）製）
メタノール／イソプロパノール混合溶媒 １０質量部
接着層塗工液
アクリル樹脂 ２５質量部
（ダイアナールＢＲ−７７、商品名、三菱レイヨン（株）製）
下記紫外線吸収剤ＵＶ−１ ０．５質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−２ ２質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−３ ０．５質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−４ ０．５質量部
ＰＭＭＡ微粒子（ポリメチルメタクリレート微粒子） ０．４質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ７０質量部
【０１３３】
【化７】
【０１３４】
（感熱転写受像シート（Ｚ−１）の作製）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、(株)ユポ・コーポレーション製）を用い、この一方の面に下記組成の白色中間層、受容層の順にバーコーターにより塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量は白色中間層：１．０ｇ／ｍ２、受容層：４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、塗布後乾燥した後にプリンターの設定に合った形状に加工して感熱転写受像シート（Ｚ−１）を作製した。
【０１３５】
白色中間層
ポリエステル樹脂 １０質量部
（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）
蛍光増白剤 １質量部
（Ｕｖｉｔｅｘ ＯＢ、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）
酸化チタン ３０質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ９０質量部
【０１３６】
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂 １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ４００質量部
【０１３７】
感熱転写受像シート（Ｚ−２）の作製
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、下記組成の下引き層、断熱層、受容層下層、受容層上層を支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、同時重層塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量が下引き層：６．０ｇ／ｍ２、断熱層：８．５ｇ／ｍ２、受容層下層：２．４ｇ／ｍ２、受容層上層：３．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い乾燥後に、３０℃で５日間熱処理を行い架橋剤とゼラチンの架橋反応を行った後にプリンターの設定に合った形状に加工して感熱転写受像シート（Ｚ−２）を作製した。
【０１３８】
受容層上層
塩化ビニル系ラテックス ２１．０質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス １．６質量部
（ビニブラン２７６、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ２．５質量部
下記エステル系ワックスＥＷ−１ １．８質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．１質量部
下記界面活性剤Ｆ−２ ０．４質量部
【０１３９】
受容層下層
塩化ビニル系ラテックス（Ｔｇ ４６℃） １８．０質量部
（ビニブラン６９０、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス（Ｔｇ ７３℃） ８．０質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ８．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０３質量部
【０１４０】
断熱層
アクリルスチレン系中空ポリマー ６６．０質量部
（平均粒径０．５μｍ）（ＭＨ５０５５、商品名、日本ゼオン（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ２４．０質量部
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンＮａ塩（架橋剤）
０．１質量部
【０１４１】
下引き層
ポリビニルアルコール ７．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス ５５．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ アンド エル（株）製）
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０２質量部
【０１４２】
【化８】
【０１４３】
耐熱滑性層用分散液Ａに分散条件１を適用した試料を耐熱滑性層（１０１）、分散条件２を適用した試料を耐熱滑性層（１０２）および分散条件３を適用した試料を耐熱滑性層（１０３）とした。耐熱滑性層（１０１）〜（１０３）に対して耐熱滑性層のＯＨ基を有するリン酸エステルをフォスレックスＡ−１８（堺化学工業（株）製）単独からフォスレックスＡ-１８（堺化学工業（株）製）とプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬（株）製：モノ−およびジ−ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル混合物）の２対８混合物（質量比）に変えること以外は同様にして耐熱滑性層（１０４）から（１０６）を作製した。
【０１４４】
（耐熱滑性層中のタルク粒子の投影面積）
上で詳述した本書記載の方法により、耐熱滑性層（１０１）に対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して耐熱滑性層のＳＥＭ像（電子線像）を得て、このＳＥＭ像より耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求め、該個々のタルク粒子についてその投影面積が１０平方μｍ以上のものについて個々の投影面積を求めた。このようにして得た個々の投影面積より、上記数式（１）〜数式（３）に従って、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積、標準偏差および変動係数（該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求める）を求めた。耐熱滑性層（１０２）〜（１０６）についても同様にして値を求めた。各試料において、耐熱滑性層中の個々のタルク粒子について投影面積が１０平方μｍ以上のものの個数は２０万平方μｍ当たり約５０〜２００個であり、各試料において２００個から４００個の個々の投影面積を求めた。
耐熱滑性層の構成および上記の値を表２に示す。
【０１４５】
【表２】
【０１４６】
表２より、原料タルクが同一であっても、分散条件によって耐熱滑性層中タルクの投影面積の平均値および変動係数が様々に変わることが分かる。タルクの分散を促進することが有効なのであれば、分散条件の最も強い条件３がタルク投影面積の平均値および変動係数のいずれもが最も小さくなるはずであるが、必ずしもそうではなく、単に分散条件を強くすることでは本発明の規定の範囲とすることができないことが分かる。
【０１４７】
耐熱滑性層（２０１）の作製
耐熱滑性層（１０３）に対して、耐熱滑性層用分散液の組成および耐熱滑性層塗工液の組成を以下のように変更すること以外は同様にして耐熱滑性層（２０１）を作製した。
【０１４８】
耐熱滑性層用分散液Ｂ
ポリアクリルポリオール系樹脂（５０％溶液） １６．５質量部
（アクリディックＡ―８０１―Ｐ、商品名、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分に対する水酸基価が１００±６、酸価が２〜８）
ＯＨ基を有するリン酸エステル ０．１５質量部
（一般式（Ｐ）で表される化合物）（堺化学工業（株）製フォスレックスＡ-１８）
ＯＨ基を有するリン酸エステル ０．８７質量部
（一般式（Ｐ）で表される化合物）（第一工業製薬（株）製プライサーフＡ２０８Ｎ）
ステアリン酸亜鉛 ０．０７質量部
ステアリルリン酸エステル亜鉛塩 ０．０７質量部
原料タルク（ミクロエースＬ―１、商品名、日本タルク（株）製）
（平均球相当径粒子サイズ４．５μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．３８、散弾式磨耗度２１ｍｇ） ０．６０質量部
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ８１．５質量部
【０１４９】
耐熱滑性層塗工液Ｂ
耐熱滑性層用分散液Ｂ ４６．６質量部
ポリイソシアネート（７５％溶液） ２．２質量部
（バーノックＤ−７５０、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒 ５１．０質量部
【０１５０】
耐熱滑性層（２０２）〜（２０９）の作製
耐熱滑性層（２０１）に対して耐熱滑性層用分散液の分散条件を変更する以外は同様にして耐熱滑性層（２０２）および（２０３）を作製した。耐熱滑性層（２０１）に対して、原料タルクを以下のものに変更して耐熱滑性層用分散液の分散条件を変える以外は同様にして耐熱滑性層（２０４）〜（２０８）を作製した。
耐熱滑性層（２０４）
原料タルクをミクロエースＰ−３、商品名、日本タルク（株）製（平均球相当径粒子サイズ４．９μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．０５、散弾式磨耗度１１ｍｇ）に変更した。
耐熱滑性層（２０５）
原料タルクをハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製（平均球相当径粒子サイズ１．７μｍ、Ｘ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する不純物由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）が０．０６、散弾式磨耗度７ｍｇ）に変更した。
耐熱滑性層（２０６）
原料タルクを、ハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製と全合成品の酸化マグネシウム（組成ＭｇＯ、モース硬度４、平均球相当径粒子サイズ１．２μｍ、各粒子の粒子最大巾／球相当径の平均が８．５）の質量比で８５：１５の混合物に変更した。混合物としてＸ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する酸化マグネシウム由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）は０．２２、散弾式磨耗度は２３ｍｇであった。
耐熱滑性層（２０７）
原料タルクを、ハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製と全合成品の水酸化マグネシウム（組成Ｍｇ（ＯＨ）２、モース硬度２．５、平均球相当径粒子サイズ０．８μｍ、各粒子の粒子最大巾／球相当径の平均が１２．３）の質量比で８５：１５の混合物に変更した。混合物としてのＸ線回折のタルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対する水酸化マグネシウム由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）は０．２０、散弾式磨耗度は８ｍｇであった。
耐熱滑性層（２０８）
原料タルクを、ハイフィラー＃５０００ＰＪ、商品名、松村産業（株）製と全合成品のシリカ（組成ＳｉＯ２、モース硬度７、平均粒子サイズ１．１μｍ、各粒子の粒子最大巾／球相当径の平均が２０．５）の質量比で８５：１５の混合物に変更した。混合物としてのＸ線回折タルク由来の最大ピーク強度（Ｘ）に対するシリカ由来の最大ピーク強度（Ｙ）の比（Ｙ／Ｘ）は０．２９、散弾式磨耗度は３６ｍｇであった。
耐熱滑性層（２０９）
感熱転写シート（２０６）に対して耐熱滑性層用分散液Ｂのポリアクリル系ポリオール樹脂をポリビニルアセタール樹脂（エスレックＢＸ―１、商品名、積水化学（株）製）に固形分として同量で置き換え、かつ耐熱滑性層塗工液Ｂのポリイソシアネートと樹脂との反応性の基の比率（−ＮＣＯ／ＯＨ）が１．０となるようにポリイソシアネートの量を変更すること以外は同様にして耐熱滑性層（２０９）を作製した。
【０１５１】
作製した耐熱滑性層（２０１）〜（２０９）を耐熱滑性層（１０１）〜（１０６）と同様にして耐熱滑性層中の個々のタルク粒子について投影面積を求めて、平均投影面積および変動係数を求めた。更に投影面積が１００平方μｍ以上のタルク粒子の個数を求め、耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たりの存在個数を計算した。結果を下記表３に示す。
【０１５２】
【表３】
【０１５３】
上記表３より、原料タルクの不純物量や磨耗度、タルク以外に併用される無機粒子によらずに耐熱滑性層中のタルクの投影面積の平均値および変動係数を本発明の範囲内にできることが分かる。
【０１５４】
これら耐熱滑性層（１０１）〜（１０６）、（２０１）〜（２０９）の耐熱滑性層と各種イエロー色素を組み合わせて、下記表４に記載の感熱転写シートを作製した。
【０１５５】
（イエローの転写濃度の測定評価）
感熱転写受像シート（Ｚ−１）と組み合わせて、２５℃、相対湿度５０％の環境下で、富士フイルム（株）製 フジフイルムサーマルフォトプリンター ＡＳＫ−２０００（商品名）を用いて、イエローのベタ画像をを出力し、そのプリントをＸｒｉｔｅ社製Ｘｒｉｔｅ３１０（商品名）で反射濃度の測定を行なった。この条件で測定して得られたＹの値をイエローの転写濃度とした。
【０１５６】
（耐熱滑性層への色素の転写評価）
それぞれのサンプルについて、イエロー染料層と耐熱滑性層を持つサンプルと、これと同じ耐熱滑性層のみを持つサンプルとを別々に用意した。あらかじめ、耐熱滑性層のみを有するサンプルのイエロー透過濃度を、上記Ｘｒｉｔｅ３１０で測定しておく（Ｆｒ濃度とする）。前記両層を有するサンプルのイエロー染料層表面と耐熱滑性層のみをもつサンプルの耐熱滑性層とを接触させ、上から、平均１０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた上で、４０℃、相対湿度６０％のサーモセルコ内で１４日間経時させた。その後、耐熱滑性層のみを有するサンプルについて、Ｆｒ濃度と同様に、Ｘｒｉｔｅ３１０で透過濃度を測定した。この経時後の透過濃度の前記Ｆｒ濃度との差を計算して、その濃度増加分を耐熱滑性層への色素転写の指標（転写評価（ΔＤ））とした。この値ΔＤが０．０１０以下であればサーマルヘッドによる色素の分解物はほとんどない。また０．０１０より大きく０．０３０未満であれば、色素の分解物は若干あるが実用上画面故障とはならない。０．０３０以上となると色素の分解物が蓄積し、スジなどの画面故障を起こす。したがってここでは０．０３０以上を許容外、０．０１０より大きく０．０３０未満を許容内。０．０１０以下を良好として判断した。
これらの結果をまとめて下記表４、表５に示す。
【０１５７】
【表４】
【０１５８】
【表５】
【０１５９】
ここで、ＹＡ、ＹＢは下記のイエロー色素（比較用）である。
【０１６０】
【化９】
【０１６１】
上記表４、表５より、本発明の試料はいずれも、イエロー濃度が高く、耐熱滑性層への色素の転写が大幅に抑制されていることがわかる。
【０１６２】
実施例２
実施例１の感熱転写受像シート（Ｚ−１）を（Ｚ−２）に変更した以外は実施例１における各々の感熱転写シートを使用し、実施例１と同様の実験、評価を行ったところ、実施例１を上回る結果が得られた。
【０１６３】
実施例３
感熱転写シート６１〜６８の作製
実施例２の感熱転写シート（２０６）におけるイソシアネートとポリオールの架橋反応を行う熱処理条件を、耐熱滑性層（２０６）に対し、耐熱滑性層（３０１）では５６℃２．５日に、耐熱滑性層（３０２）では５１℃７日に、耐熱滑性層（３０３）では４０℃１８日に、耐熱滑性層（３０４）では３５℃３０日に変更する以外は耐熱滑性層（２０６）と同様にして耐熱滑性層（３０１）から（３０４）を作製した。熱処理後に未反応のイソシアネート基をＩＲ測定により確認し、いずれの熱処理条件でも十分に反応していることを確認した。
【０１６４】
作製した耐熱滑性層（３０１）から（３０４）を実施例１と同様にして耐熱滑性層中の個々のタルク粒子について投影面積を求めて、平均投影面積および変動係数を求めた。更に投影面積が１００平方μｍ以上のタルク粒子の個数を求め、耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たりの該投影面積が１００平方μｍ以上のタルク粒子の存在個数を計算した。結果を表６に示す。
【０１６５】
【表６】
【０１６６】
これら耐熱滑性層とイエロー色素を下記表７のように変更する以外は感熱転写シート４２と同様にして感熱転写シート６１〜６８を作製し、実施例１と同様の評価を行った。
この結果を表７に示す。
【０１６７】
【表７】
【０１６８】
上記表７より、耐熱滑性層の熱処理条件を４０℃から５３℃で１日〜２０日の範囲にすることでより好ましい結果となることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１６９】
【図１】耐熱滑性層中のタルク粒子の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ像）である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートであって、該イエロー色素の少なくとも１種が下記一般式（１）で表される色素であり、かつ該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする感熱転写シート。
【化１】
（式中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基または置換もしくは無置換のカルバモイル基を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。）
【請求項２】
前記投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が４０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．６０以下であることを特徴とする請求項１に記載の感熱転写シート。
【請求項３】
前記耐熱滑性層中のタルク粒子の投影面積が１００平方μｍ以上の個数が該耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たり１個以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の感熱転写シート。
【請求項４】
前記耐熱滑性層に、モース硬度３から６であり、粒子の平均球相当径が０．３μｍから５μｍであり、かつ当該粒子の最大巾の該平均球相当径に対する比が１．５から５０である、タルク以外の無機粒子を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項５】
前記耐熱滑性層に、さらに下記一般式（Ｐ）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
一般式（Ｐ）
｛（Ｒ１ａＯ）（Ｒ２ａＯ）Ｐ（＝Ｏ）Ｏ｝ｍＭ
（式中、Ｒ１ａは置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表し、Ｒ２ａは水素原子、金属イオン、置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表す。Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。ｍはＭの価数と同じ数であって１〜６の数を示す。）
【請求項６】
前記タルク粒子の含有量と、前記一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量の関係が、該一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量を１００質量部としたとき、該タルク粒子の含有量が３０質量部以上であることを特徴とする請求項５に記載の感熱転写シート。
【請求項７】
前記耐熱滑性層に、さらにアルキルカルボン酸の多価金属塩を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項８】
前記基材フイルムが、基材フイルムの少なくとも一方の面上に易接着層を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項９】
前記耐熱滑性層の樹脂が、該樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項１０】
前記樹脂が、ポリアクリルポリオール樹脂であることを特徴とする請求項９に記載の感熱転写シート。
【請求項１１】
前記耐熱滑性層の前記樹脂が架橋されていることを特徴とする請求項９または１０に記載の感熱転写シート。
【請求項１２】
前記架橋における架橋反応が、４０℃〜５３℃の温度範囲でかつ１日〜２０日の期間で行なわれてなるものであることを特徴とする請求項１１に記載の感熱転写シート。
【請求項１３】
前記感熱転写シートが、支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと組み合わせて使用される感熱転写シートであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項１４】
支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと、基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートとを、前記感熱転写受像シートの受容層と前記感熱転写シートの染料層とが接するように重ね合わせ、画像信号に応じた熱エネルギーを前記感熱転写シートの耐熱滑性層側から付与することにより画像を形成する画像形成方法であって、該イエロー色素の少なくとも１種が下記一般式（１）で表される色素であり、かつ前記感熱転写シートが、該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする画像形成方法。
【化２】
（式中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基または置換もしくは無置換のカルバモイル基を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。）
【請求項１】
基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートであって、該イエロー色素の少なくとも１種が下記一般式（１）で表される色素であり、かつ該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする感熱転写シート。
【化１】
（式中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基または置換もしくは無置換のカルバモイル基を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。）
【請求項２】
前記投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が４０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．６０以下であることを特徴とする請求項１に記載の感熱転写シート。
【請求項３】
前記耐熱滑性層中のタルク粒子の投影面積が１００平方μｍ以上の個数が該耐熱滑性層の面積２０万平方μｍ当たり１個以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の感熱転写シート。
【請求項４】
前記耐熱滑性層に、モース硬度３から６であり、粒子の平均球相当径が０．３μｍから５μｍであり、かつ当該粒子の最大巾の該平均球相当径に対する比が１．５から５０である、タルク以外の無機粒子を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項５】
前記耐熱滑性層に、さらに下記一般式（Ｐ）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
一般式（Ｐ）
｛（Ｒ１ａＯ）（Ｒ２ａＯ）Ｐ（＝Ｏ）Ｏ｝ｍＭ
（式中、Ｒ１ａは置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表し、Ｒ２ａは水素原子、金属イオン、置換基を有してよい脂肪族基または置換基を有してよいアリール基を表す。Ｍは水素原子、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。ｍはＭの価数と同じ数であって１〜６の数を示す。）
【請求項６】
前記タルク粒子の含有量と、前記一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量の関係が、該一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量を１００質量部としたとき、該タルク粒子の含有量が３０質量部以上であることを特徴とする請求項５に記載の感熱転写シート。
【請求項７】
前記耐熱滑性層に、さらにアルキルカルボン酸の多価金属塩を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項８】
前記基材フイルムが、基材フイルムの少なくとも一方の面上に易接着層を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項９】
前記耐熱滑性層の樹脂が、該樹脂のポリマー鎖長末端もしくはポリマー構造中に２個以上の水酸基を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項１０】
前記樹脂が、ポリアクリルポリオール樹脂であることを特徴とする請求項９に記載の感熱転写シート。
【請求項１１】
前記耐熱滑性層の前記樹脂が架橋されていることを特徴とする請求項９または１０に記載の感熱転写シート。
【請求項１２】
前記架橋における架橋反応が、４０℃〜５３℃の温度範囲でかつ１日〜２０日の期間で行なわれてなるものであることを特徴とする請求項１１に記載の感熱転写シート。
【請求項１３】
前記感熱転写シートが、支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと組み合わせて使用される感熱転写シートであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の感熱転写シート。
【請求項１４】
支持体上に、中空ポリマーラテックスを含有する断熱層とポリマーラテックスを含有する受容層とを有する感熱転写受像シートと、基材フィルムの一方の面に、イエロー色素及び樹脂を含む染料層を有し、他方の面に無機粒子の１種としてのタルク粒子及び樹脂を含む耐熱滑性層を有する感熱転写シートとを、前記感熱転写受像シートの受容層と前記感熱転写シートの染料層とが接するように重ね合わせ、画像信号に応じた熱エネルギーを前記感熱転写シートの耐熱滑性層側から付与することにより画像を形成する画像形成方法であって、該イエロー色素の少なくとも１種が下記一般式（１）で表される色素であり、かつ前記感熱転写シートが、該感熱転写シートに対して走査型電子顕微鏡により２０ｋＶに加速した電子線を耐熱滑性層側から照射して得られる電子線像から耐熱滑性層中の各々のタルク粒子に対応する投影面積を求めた場合に、該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの平均投影面積が８０平方μｍ以下であり、かつ該投影面積が１０平方μｍ以上であるものの投影面積の標準偏差を該平均投影面積で割って求めた変動係数が０．８０以下であることを特徴とする画像形成方法。
【化２】
（式中、Ａは置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１およびＲ２は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基または置換もしくは無置換のカルバモイル基を表し、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。）
【図１】
【公開番号】特開２０１０−８３００４（Ｐ２０１０−８３００４Ａ）
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５４８０４（Ｐ２００８−２５４８０４）
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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