液晶表示装置
【課題】 低電圧駆動が可能で、且つ視野角特性が改善されたＴＮモード液晶表示装置の提供。
【解決手段】 一対の基板（14a,14b）と、該一対の基板のそれぞれの内面に形成された配向処理された配向膜と、該一対の基板間に液晶層(16)とを有する液晶素子（LC）であって、前記液晶層(16)が、少なくとも液晶材料と、該液晶材料が前記配向膜に施された配向処理により決定されるユニフォームツイスト構造を形成するときのねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する光学活性材料とを含有し、駆動時にユニフォームツイスト構造である液晶素子；及びディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を少なくとも含む位相差膜 (12a,12b)；を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【解決手段】 一対の基板（14a,14b）と、該一対の基板のそれぞれの内面に形成された配向処理された配向膜と、該一対の基板間に液晶層(16)とを有する液晶素子（LC）であって、前記液晶層(16)が、少なくとも液晶材料と、該液晶材料が前記配向膜に施された配向処理により決定されるユニフォームツイスト構造を形成するときのねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する光学活性材料とを含有し、駆動時にユニフォームツイスト構造である液晶素子；及びディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を少なくとも含む位相差膜 (12a,12b)；を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低電圧駆動が可能な液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＴＮモード液晶表示装置では、液晶をユニフォームツイスト状態とし、その状態で駆動している。ユニフォームツイスト状態とは、液晶材料のねじれる方向が上下の配向膜上でプレチルト角の立ち上がる方向、即ちラビング処理の方向で決定する配向状態である。これに対して、液晶に、ラビング処理で決定するねじれ方向と反対方向のねじれを誘発する光学活性物質を添加すると、スプレツイスト状態になる。このスプレツイスト状態の液晶に飽和電圧を印加すると、ユニフォームツイスト状態に転移する。このユニフォームツイスト状態のＴＮモード液晶セルは、通常のユニフォームツイスト状態のＴＮモード液晶セルを駆動するよりも低電圧駆動が可能である。特許文献１には、このユニフォームツイスト状態を利用することにより、低電圧駆動が可能な新規なＴＮモード液晶表示装置が提案されている（以下、このモードを「ＲＴＮモード」という）。
【特許文献１】特開２００７−２９３２７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１には、ＲＴＮモード液晶表示装置の視野角特性についてはなんら言及がない。
本発明は、視野角特性が改善されたＲＴＮモード液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するため、本発明は、一対の基板と、該一対の基板のそれぞれの内面に形成された配向処理された配向膜と、該一対の基板間に液晶層とを有する液晶素子であって、前記液晶層が、少なくとも液晶材料と、該液晶材料が前記配向膜に施された配向処理により決定されるユニフォームツイスト状態になるときのねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する光学活性材料とを含有し、駆動時にユニフォームツイスト状態にある液晶素子；及びディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を少なくとも含む位相差膜；を有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、低電圧駆動が可能であるのみならず、視野角特性が改善されたＲＴＮモード液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【０００６】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
まず、本明細書で使用する用語についてその定義を説明する。
（レターデーション、Ｒｅ、Ｒｔｈ）
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１０）及び式（１１）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０００７】
【数１】
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【０００８】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１0ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、本明細書において、レターデーション等の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【０００９】
本発明はＲＴＮモード液晶表示装置に関する。図１に本発明のＲＴＮモード液晶表示装置の一例の断面模式図を示す。図１の液晶表示装置は、一対の偏光子１０ａ及び１０ｂと、その間にＲＴＮモード液晶セル（液晶素子）ＬＣとを有する。偏光子１０ａと液晶セルＬＣとの間、及び偏光子１０ｂと液晶セルＬＣとの間に、それぞれ位相差膜１２ａ及び１２ｂを有する。なお、図１中省略したが、偏光子１０ａ及び１０ｂは、それぞれ外側表面に、セルロースアシレートフィルム、熱可塑性樹脂フィルム、及びノルボルネン系ポリマーフィルム等の保護フィルムを有しているのが好ましい。また、偏光子１０ａ及び１０ｂと、位相差膜１２ａ及び１２ｂとの間にも、偏光子１０ａ及び１０ｂそれぞれの保護フィルムが配置されているのが好ましいが、位相差膜１２ａ及び１２ｂが、保護フィルムとして機能し得るポリマーフィルムを含む態様では、偏光子１０ａ及び１０ｂそれぞれと、位相差膜１２ａ及び１２ｂそれぞれとの間には、保護フィルムは不要である。
【００１０】
液晶セルＬＣは一対の基板１４ａ及び１４ｂと、その間に液晶層１６を有する。基板１４ａ及び１４ｂの内面には、それぞれラビング処理を施された配向膜を有し、それぞれのラビング方向１５ａ及び１５ｂは４５°方向（表示面左右方向が０°方向、上下方向が９０°方向）でおおむね直交関係（７０〜１１０°程度）にある。偏光子１０ａ及び１０ｂは、それぞれの吸収軸１１ａ及び１１ｂを４５°方向においておおむね直交関係で配置されている。即ち、基板１４ａの内面にある配向膜のラビング軸１５ａと偏光子１０ａの吸収軸１１ａとおおむね平行であり、及び基板１４ｂの内面にある配向膜のラビング軸１５ｂと偏光子１０ｂの吸収軸１１ｂとはおおむね平行である。
【００１１】
位相差膜１２ａ及び１２ｂは、それぞれディスコティック液晶を少なくとも含有する組成物を硬化させて形成した層からなる、又はそれを含む位相差膜である。その形成に、配向膜（不図示）を利用するのが好ましい。配向膜にはラビング処理が施され、そのラビング軸に応じて、ディスコティック液晶の分子が配向し、その状態に固定されている。ディスコティック液晶分子の配向は、液晶セルＬＣの視野角を補償するのに要求される光学特性を示すように調整されている。位相差膜の光学特性の詳細は後述する。位相差膜１２ａの作製に利用された配向膜のラビング方向１３ａは偏光子１０ａの吸収軸１１ａとおおむね平行であり、及び位相差膜１２ｂの作製に利用された配向膜のラビング方向１３ｂは偏光子１０ｂの吸収軸１１ｂとおおむね平行である。
なお、図１では、位相差膜１２ａ及び１２ｂを単層体として示したが、上記した通り、位相差膜１２ａ及び１２ｂは、前記組成物を配向させるのに利用される配向膜や、前記組成物からなる層を支持するポリマーフィルム等を含んでいてもよく、即ち積層体であってもよい。
【００１２】
ＲＴＮモード液晶セルＬＣの液晶層１６は、少なくとも液晶材料と光学活性材料とを含有する。光学活性材料は、液晶材料が基板１４ａ及び１４ｂの内面にある配向膜に施されたラビング処理で決定されるねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する性質を有する。その添加によって、液晶材料は、ユニフォームツイストとは反対のねじれ配向状態である、スプレツイスト状態になるが、電圧の印加によって、ユニフォームツイスト状態に転移する。ＲＴＮモードでは、このユニフォームツイスト状態で駆動することが特徴である。液晶層１６をこの状態で駆動させることにより、低電圧での駆動が可能である。ＲＴＮモード液晶セル（液晶素子）については、上記特許文献１に詳細が記載されている。本発明のＲＴＮモード液晶素子の例及びその駆動方法、並びに作製方法及びそれに用いる材料については、特許文献１中に記載の内容と同様である。
【００１３】
図１の液晶表示装置では、位相差膜１２ａ及び１２ｂにより、液晶層１６の視野角依存性が改善されているので、ＲＴＮモードの利用により低電圧駆動が可能であるのみならず、視野角特性にも優れる。
【００１４】
以下、本発明に利用される位相差膜について説明する。本発明では、ディスコティック液晶化合物を含有する組成物からなる層を少なくとも有する位相差膜を利用する。本発明では、図１に示す通り、液晶セルを挟んで２つの位相差膜を配置するのが好ましく、図１に示す軸関係で、同一の位相差膜を配置するのがより好ましい。
図１に示す態様では、２つの位相差膜のそれぞれのＲｅ（５５０）は０〜１００ｎｍであるのが好ましく、１０〜５０ｎｍであるのがより好ましい。また、Ｒｔｈ（５５０）は、０〜２００ｎｍであるのが好ましく、２０〜１５０ｎｍであるのがより好ましい。
【００１５】
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明では、位相差膜の作製にディスコティック液晶化合物を用いる。
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００１６】
ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性分子から形成する位相差膜は、最終的に位相差膜に含まれる化合物がディスコティック液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【００１７】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（５）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（５）
Ｄ（−Ｌ1Ｑ1）n
式（５）において、Ｄは円盤状コアであり；Ｌ1は二価の連結基であり、Ｑ1は重合性基であり、そして、ｎは４〜１２の整数である。
【００１８】
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ1）と重合性基（Ｑ1）との組み合わせを意味する。
【化１】
【００１９】
ディスコティック液晶化合物の分子をハイブリッド配向させると、Ｒｅ及びＲｔｈが前記好ましい範囲の位相差膜を形成することができる。ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）と支持体の面との角度すなわち傾斜角が、位相差膜の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に局所的にはランダム性をもちつつ増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【００２０】
ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいはディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
【００２１】
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤および重合性モノマーは、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。添加成分の中でも重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）の添加が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に１〜５０重量％の範囲にあり、５〜３０重量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と液晶組成物からなる層との間の密着性を高めることができる。
【００２２】
前記組成物中には、セルロースエステルを添加してもよい。セルロースエステルを、液晶性化合物を含有する組成物中に混合することにより、該組成物を塗布する際にハジキが発生するのを抑制することができる。さらに、セルロースエステルは、液晶性化合物の傾斜角を制御するのに寄与する。好適に使用可能なセルロースエステルには、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース及びカルボキシメチルセルロースなどが含まれる。中でも、セルロースアセテートブチレートが好ましく、さらに、ブチリル化度が４０％以上であるセルロースアセテートブチレートがより好ましい。添加量については、ディスコティック液晶性化合物の総量に対して重量百分率で、好ましくは０．０１〜２０％、より好ましくは０．０５〜１０％、特に好ましくは０．０５〜５％である。
【００２３】
前記組成物中には、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位と下記一般式（１ａ）で表される繰り返し単位とを含む共重合体（ポリマーＡ）を添加してもよい。ポリマーAは主に、配向膜側界面近傍の液晶性分子の傾斜角を調整するのに寄与する。
【化２】
【００２４】
式中、Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aは、それぞれ、水素原子または置換基を表し；Ｌaは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し、
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4a−（Ｒ4aは水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5a）−（Ｒ5aはアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基；Ｑaはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。
【００２５】
前記ポリマーＡの添加量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８重量％であるのが好ましく、０．０１〜５重量％であるのがより好ましく、０．０５〜１重量％であるのがさらに好ましい。
【００２６】
前記組成物は、前記ポリマーＡを２種以上含有していてもよい。また、前記組成物は、前記ポリマーＡとともに、フルオロ脂肪族基を含有するポリマーＢをさらに含有しているのが好ましい。ここで、ポリマーＢは、フルオロ脂肪族基を有するポリマーであり、中でも、前記一般式（２ａ）で表される繰り返し単位と、下記一般式（３a）で表される繰り返し単位とを含む共重合体であることが好ましい。
【００２７】
【化３】
【００２８】
一般式（３ａ）において、Ｒ3aは水素原子またはメチル基を表し、Ｙaは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ5a）−等を採用することができる。ここでＲ5aは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5aは、水素原子およびメチル基であるのが好ましい。Ｙaは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−および−Ｎ（ＣＨ3）−が特に好ましい。Ｒ4aは置換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基または置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。
【００２９】
また、前記位相差膜は、ディスコティック液晶性化合物と、一般式（１ｂ）で表される重量平均分子量５０００以上２００００未満のポリマーＣの少なくとも一種と、一般式（１ｂ）で表される重量平均分子量２００００以上のポリマーＤの少なくとも一種とを含有する組成物を利用して、作製することができる。
【００３０】
ポリマーＣ及びＤは、液晶性化合物の傾斜角制御剤、特に空気界面側の傾斜角制御剤として機能する。
【００３１】
【化４】
【００３２】
一般式（１ｂ）中、Ａは水素結合性基を有する繰り返し単位であり、式中にｉ（ｉは１以上の整数である）種類含まれる。Ｂは重合性基を有する繰り返し単位であり、式中にｊ種類含まれ、Ｃはエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返しであり、式中にｋ種類含まれるが、ｊとｋが同時に０になることはない。即ち、Ｂ及びＣの少なくとも一方は必ず少なくとも１種類含まれる。ａ、ｂ及びｃは重合比を表す重量百分率で、ｉ種類のＡの総量の比率であるΣａｉは１〜９９重量％であり、ｊ種類のＢの総量の比率であるΣｂｊは０〜９９重量％であり、ｋ種類のＣの比率であるΣｃｋは０〜９９重量％であるが、上記と同様、Σｂｊ及びΣｃｋが同時に０重量％になることはなく、少なくとも一方は０重量％を超え９９重量％以下含まれる。
【００３３】
さらに詳細に説明すると、上記一般式（１ｂ）中、Ａは下記一般式（２ｂ）で表される水素結合性極性基を含有するモノマー（以下「モノマーＡ」とも言う）より誘導される繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ」とも言う）を表す。
【００３４】
【化５】
【００３５】
一般式（２ｂ）中、Ｒ1b、Ｒ2b及びＲ3bはそれぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）又はＬ1b−Ｑ1bで表される基を表し、Ｌ1bは２価の連結基を表し、Ｑ1bは水素結合性基を有する極性基を表す。
【００３６】
上記一般式（１ｂ）において、Ｂは下記一般式（３ｂ）で表される重合性基を含有するモノマー（以下「モノマーＢ」とも言う）より誘導される繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ」とも言う）を表す。
【００３７】
【化６】
【００３８】
一般式（３ｂ）中、Ｒ4b、Ｒ5b及びＲ6bは、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、−Ｌ2b−Ｑ2bで表される基であり、好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ2b−Ｑ2bで表される基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましいのは水素原子、炭素数１〜２のアルキル基である。該アルキル基の具体例としては、一般式（２ｂ）中、Ｒ1b、Ｒ2b、及びＲ3bで表された具体例を挙げることができる。該アルキル基の置換基としては、一般式（２ｂ）中、Ｒ1b、Ｒ2b、及びＲ3bで表されたアルキル基の置換基を挙げることができる。
【００３９】
上記一般式（１ｂ）のＣは、エチレン性不飽和モノマー（以下「モノマーＣ」とも言う）より誘導される繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｃ」とも言う）である。例えば、下記に例示したモノマーＣ群から独立かつ自由に組み合わせた重合体として選択することが可能である。使用可能なモノマーには特に制限はなく、通常のラジカル重合反応が可能なものであれば、好適に用いることができる。
【００４０】
モノマーＣ群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、及び１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２〜１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなど；
（４）不飽和ニトリル類
リロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレン及びその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルブニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリン、下記一般式（６ｂ）で表される化合物：
【化７】
【００４１】
一般式（６ｂ）中、Ｒ9b及びＲ10bはそれぞれ、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基（好ましくは、メチル基又はエチル基）を表す。
など。
【００４２】
ポリマー中に含まれる上記繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣは、それぞれ、１種単独でも、２種以上の繰り返し単位が存在していてもよい。また、Ｂ及びＣのうち一方は存在しなくてもよいが、Ａ、Ｂ及びＣの全てを少なくとも１種類含有するのが好ましい。上記モノマーＡは、例えば、一般式（１ｂ）において、ｉが１のとき、Ａｉは、一種類のモノマーＡ（Ａ１）のみがａ１（＝ａ）重量％含まれる。また、ｉが２のとき、Ａｉは、Ａ１及びＡ２の２種類のモノマーＡが、それぞれ、ａ１重量％及びａ２重量％（ａ＝ａ１＋ａ２）含まれる。以下、モノマーＢ及びＣについても同様である。さらに、ｉ、ｊ及びｋは、３以上の整数であってもよく、好ましくは、ｉは１〜５の整数である。より好ましくは、１又は２である。そして、モノマーＡの総含量Σａは１〜９９重量％、モノマーＢの総含量Σｂは０〜９９重量％、モノマーＣの総含量Σｃは０〜９９重量％の数値であるが、好ましくはΣａが５〜９０重量％、Σｂが５〜９０重量％、Σｃが５〜９０重量％であり、特に好ましくはΣａが１０〜８０重量％、Σｂが１０〜８０重量％、Σｃが１０〜８０重量％である。さらに、モノマーＡ、Ｂ及びＣの組成比（重量）は、モノマーＡを１としたとき、モノマーＢが０．１〜５、モノマーＣが１〜１０であるのが好ましい。
【００４３】
前記位相差膜は、支持体表面に直接又は配向膜表面に、ディスコティック液晶化合物等を含有する組成物を適用して作製することができる。前記組成物は、液晶性化合物、および種々の添加剤を含有する。これらの原料を溶媒に溶解して塗布液として、支持体表面等に塗布するのが好ましい。前記位相差膜の作製に利用される配向膜については特に制限はなく、ポリビニルアルコール等のポリマー層を形成した後、該ポリマー層の表面を所定の方向にラビング処理することによって形成された配向膜などが利用できる。配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。前記配向膜の膜厚は、１０μｍ以下であるのが好ましい。なお、配向膜は位相差膜の作製時のみに用い、位相差膜を作製した後は、剥離可能な場合は剥離してもよい。例えば、仮支持体上に配向膜を形成し、配向膜上で前記層を形成した後に、該層を、透明支持体に転写して、位相差膜を作製してもよい。
【００４４】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
均一性の高い光学フィルムを作製する場合には、塗布液の表面張力は、２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
【００４５】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００４６】
前記塗布液を、支持体表面もしくは配向膜表面に塗布した後、液晶性分子を所望の配向状態にする。
液晶性化合物を、所望の配向状態とした後、その配向状態に固定して、位相差膜を作製する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。塗布液中には、液晶性化合物の固定化に寄与する、重合性モノマーや重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して、一般に１〜５０重量％であり、５〜３０重量％であるのが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が３以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と前記層との間の密着性を高めることができる。
【００４７】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各公報記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号公報記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号公報記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各公報記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号公報記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号、米国特許４２３９８５０号の各公報記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号公報記載）が含まれる。
【００４８】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０重量％であるのが好ましく、０．５〜５重量％であるのがさらに好ましい。
【００４９】
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５０】
この様にして形成された前記組成物からなる層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることがよりさらに好ましい。また、前記層上に、保護層を設けてもよい。
【００５１】
前記位相差膜は、前記液晶組成物からなる層を支持する支持体を有していてもよい。該支持体は、ガラス又は透明なポリマーフィルムであることが好ましい。前記支持体は、光透過率（４００〜７００ｎｍ）が８０％以上、ヘイズが２．０％以下であることが好ましい。更に好ましくは光透過率が８６％以上、ヘイズが１．０％以下である。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースのモノ〜トリアシレート体）、ノルボルネン系ポリマーおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックス（いずれも商品名））を用いてもよい。又、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、前記基板に用いることができる。
【００５２】
前記支持体として用いられるポリマーフィルムの作製方法については特に制限はない。溶融成形方法及び溶液成形方法のいずれも利用することができる。
【００５３】
前記位相差膜は、偏光子である直線偏光膜と一体化した楕円偏光板として、液晶表示装置に組み込むことができる。例えば、長尺状のポリマーフィルム上に、配向膜を連続的に形成し、その上にディスコティック液晶化合物を含む塗布液を塗布して、配向及び固定化を連続的に行うことで、長尺状の位相差膜が得られる。これと、長尺状の偏光膜とをロール・トゥ・ロール法で貼り合せることにより、楕円偏光板を連続的に作製することができる。該楕円偏光板は、ロール状に巻き取られ、その後、保管・搬送等され、使用時に所望の大きさに切断されて用いられる。
【００５４】
前記偏光膜は、Optiva社製のものに代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素又は二色性色素からなる偏光膜等、一般的なものを用いることができる。偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
現在、汎用の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
【実施例】
【００５５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。なお、以下において、部および％は、特に断りの無い限り、すべて、質量基準であるものとする。
【００５６】
［実施例１］
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
───────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（重量部） 内層 外層
───────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００重量部 １００重量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８重量部 ０．８重量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）
３．９重量部 ３．９重量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３重量部 ３１４重量部
メタノール（第２溶媒） ７１重量部 ７６重量部
１−ブタノール（第３溶媒） １．５重量部 １．６重量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０重量部 ０．８重量部
下記レターデーション上昇剤 １．４重量部 ０重量部
────────────────────────────────────
【００５７】
【化８】
【００５８】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０重量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３重量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０２）について、光学特性を測定した。
得られたポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、８ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、９３ｎｍであった。
【００５９】
作製したポリマー基材（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【００６０】
このＰＫ−１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール １０重量部
水 ３７１重量部
メタノール １１９重量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５重量部
【００６１】
【化９】
【００６２】
ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【００６３】
（位相差層の形成）
位相差層形成用組成物
下記のディスコティック液晶性化合物 ４１．０１重量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６重量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０・２、イーストマンケミカル社製） ０．６９重量部
下記Ｐ−３３（ポリマーＡ） ０．１８重量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） １．３５重量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５重量部
【００６４】
【化１０】
【００６５】
上記位相差層形成用組成物を、１０２重量部のメチルエチルケトンに溶解し塗布液とし、これを配向膜上に、＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布し、１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、位相差膜（Ｆ−１）を作製した。
この位相差膜のＲｅ（５５０）及びＲｔｈ（５５０）はそれぞれ、４８ｎｍ及び８５ｎｍであった。
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた位相差膜のムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【００６６】
（偏光子の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
【００６７】
このフィルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で長手方向に延伸して、そのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽において２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光子（Ｈ−１）を得た。偏光子は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【００６８】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した位相差膜Ｆ−１をポリマー基材（ＰＫ−１）面で偏光子（Ｈ−１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。
【００６９】
偏光子の吸収軸とポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸とは平行になるように配置した。このようにして偏光板ＨＢ−１をそれぞれ作製した。
【００７０】
（ＲＴＮ液晶表示装置の評価）
図１に示す構成と同様の液晶表示装置を作製した。まず２枚の基板１４ａ及び１４ｂの内側にそれぞれ配向膜（不図示）を形成した。この配向膜はプレチルト角１７度を示す配向膜であり、プレチルト角１７度のポリイミド樹脂からなる配向膜である。配向処理は通常のラビング処理で行った。ラビング処理の方向は図１に示す通りである。液晶層１６には、液晶材料としてメルク（株）社製ＺＬＩ２２９３を使用した。この液晶材料の屈折率異方性は０．１３６２である。液晶層１６の厚みは５μｍとした。従って、液晶層１６のリタデーションＲ＝Δｎｄは０．６８１μｍ（０．１３６２×５μｍ）である。液晶材料に、ユニフォームツイスト捩じれ方向とは逆の捩じれを誘起する光学活性物質（メルク（株）社製Ｓ−８１１を使用）を添加した。光学活性物質の強さを示す螺旋ピッチｐは６０μｍとした。この様にして液晶セルＬＣを作製した。
液晶層１６は、光学活性物質の添加によりスプレイツイスト状態になったが、電圧を印加することにより、ユニフォームツイスト状態に転移し、電圧の印加を止めても、その状態を維持した。
【００７１】
この液晶セルＬＣの基板１４ａ、１４ｂの外側表面に、上記で作製した各偏光板を、位相差膜を基板表面側として貼合し、ＲＴＮモード液晶表示装置を作製した。
作製した各液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、左右方向コントラスト比１０以上の領域を評価した。下記表に評価結果を示す。下記表中、「右（又は左）θ度」とは、画面法線方向から右（又は左）方位に画面方向へθ度回転させた領域において、コントラスト比が１０以上であったことを意味する。
【００７２】
【表１】
【００７３】
上記表に示す結果から、本発明の実施例のＲＴＮモード液晶表示装置は、位相差膜を有しない比較例１のＲＴＮモード液晶表示装置と比較して、視野角が格段に改善されていることが理解できる。ディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を有する位相差膜を利用すると、ＲＴＮモード液晶表示装置の視野角特性を改善できることが明らかになった。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例の断面模式図、及び各層の光学的軸の方向を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０ａ、１０ｂ 偏光子
１１ａ、１１ｂ 吸収軸
１２ａ、１２ｂ 位相差膜
１３ａ、１３ｂ 位相差膜作製時に利用されるラビング方向
１４ａ、１４ｂ 基板
１５ａ、１５ｂ 液晶層用ラビング方向
１６ 液晶層
ＬＣ 液晶層(液晶素子)
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低電圧駆動が可能な液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＴＮモード液晶表示装置では、液晶をユニフォームツイスト状態とし、その状態で駆動している。ユニフォームツイスト状態とは、液晶材料のねじれる方向が上下の配向膜上でプレチルト角の立ち上がる方向、即ちラビング処理の方向で決定する配向状態である。これに対して、液晶に、ラビング処理で決定するねじれ方向と反対方向のねじれを誘発する光学活性物質を添加すると、スプレツイスト状態になる。このスプレツイスト状態の液晶に飽和電圧を印加すると、ユニフォームツイスト状態に転移する。このユニフォームツイスト状態のＴＮモード液晶セルは、通常のユニフォームツイスト状態のＴＮモード液晶セルを駆動するよりも低電圧駆動が可能である。特許文献１には、このユニフォームツイスト状態を利用することにより、低電圧駆動が可能な新規なＴＮモード液晶表示装置が提案されている（以下、このモードを「ＲＴＮモード」という）。
【特許文献１】特開２００７−２９３２７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１には、ＲＴＮモード液晶表示装置の視野角特性についてはなんら言及がない。
本発明は、視野角特性が改善されたＲＴＮモード液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するため、本発明は、一対の基板と、該一対の基板のそれぞれの内面に形成された配向処理された配向膜と、該一対の基板間に液晶層とを有する液晶素子であって、前記液晶層が、少なくとも液晶材料と、該液晶材料が前記配向膜に施された配向処理により決定されるユニフォームツイスト状態になるときのねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する光学活性材料とを含有し、駆動時にユニフォームツイスト状態にある液晶素子；及びディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を少なくとも含む位相差膜；を有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、低電圧駆動が可能であるのみならず、視野角特性が改善されたＲＴＮモード液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【０００６】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
まず、本明細書で使用する用語についてその定義を説明する。
（レターデーション、Ｒｅ、Ｒｔｈ）
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１０）及び式（１１）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０００７】
【数１】
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【０００８】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１0ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、本明細書において、レターデーション等の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【０００９】
本発明はＲＴＮモード液晶表示装置に関する。図１に本発明のＲＴＮモード液晶表示装置の一例の断面模式図を示す。図１の液晶表示装置は、一対の偏光子１０ａ及び１０ｂと、その間にＲＴＮモード液晶セル（液晶素子）ＬＣとを有する。偏光子１０ａと液晶セルＬＣとの間、及び偏光子１０ｂと液晶セルＬＣとの間に、それぞれ位相差膜１２ａ及び１２ｂを有する。なお、図１中省略したが、偏光子１０ａ及び１０ｂは、それぞれ外側表面に、セルロースアシレートフィルム、熱可塑性樹脂フィルム、及びノルボルネン系ポリマーフィルム等の保護フィルムを有しているのが好ましい。また、偏光子１０ａ及び１０ｂと、位相差膜１２ａ及び１２ｂとの間にも、偏光子１０ａ及び１０ｂそれぞれの保護フィルムが配置されているのが好ましいが、位相差膜１２ａ及び１２ｂが、保護フィルムとして機能し得るポリマーフィルムを含む態様では、偏光子１０ａ及び１０ｂそれぞれと、位相差膜１２ａ及び１２ｂそれぞれとの間には、保護フィルムは不要である。
【００１０】
液晶セルＬＣは一対の基板１４ａ及び１４ｂと、その間に液晶層１６を有する。基板１４ａ及び１４ｂの内面には、それぞれラビング処理を施された配向膜を有し、それぞれのラビング方向１５ａ及び１５ｂは４５°方向（表示面左右方向が０°方向、上下方向が９０°方向）でおおむね直交関係（７０〜１１０°程度）にある。偏光子１０ａ及び１０ｂは、それぞれの吸収軸１１ａ及び１１ｂを４５°方向においておおむね直交関係で配置されている。即ち、基板１４ａの内面にある配向膜のラビング軸１５ａと偏光子１０ａの吸収軸１１ａとおおむね平行であり、及び基板１４ｂの内面にある配向膜のラビング軸１５ｂと偏光子１０ｂの吸収軸１１ｂとはおおむね平行である。
【００１１】
位相差膜１２ａ及び１２ｂは、それぞれディスコティック液晶を少なくとも含有する組成物を硬化させて形成した層からなる、又はそれを含む位相差膜である。その形成に、配向膜（不図示）を利用するのが好ましい。配向膜にはラビング処理が施され、そのラビング軸に応じて、ディスコティック液晶の分子が配向し、その状態に固定されている。ディスコティック液晶分子の配向は、液晶セルＬＣの視野角を補償するのに要求される光学特性を示すように調整されている。位相差膜の光学特性の詳細は後述する。位相差膜１２ａの作製に利用された配向膜のラビング方向１３ａは偏光子１０ａの吸収軸１１ａとおおむね平行であり、及び位相差膜１２ｂの作製に利用された配向膜のラビング方向１３ｂは偏光子１０ｂの吸収軸１１ｂとおおむね平行である。
なお、図１では、位相差膜１２ａ及び１２ｂを単層体として示したが、上記した通り、位相差膜１２ａ及び１２ｂは、前記組成物を配向させるのに利用される配向膜や、前記組成物からなる層を支持するポリマーフィルム等を含んでいてもよく、即ち積層体であってもよい。
【００１２】
ＲＴＮモード液晶セルＬＣの液晶層１６は、少なくとも液晶材料と光学活性材料とを含有する。光学活性材料は、液晶材料が基板１４ａ及び１４ｂの内面にある配向膜に施されたラビング処理で決定されるねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する性質を有する。その添加によって、液晶材料は、ユニフォームツイストとは反対のねじれ配向状態である、スプレツイスト状態になるが、電圧の印加によって、ユニフォームツイスト状態に転移する。ＲＴＮモードでは、このユニフォームツイスト状態で駆動することが特徴である。液晶層１６をこの状態で駆動させることにより、低電圧での駆動が可能である。ＲＴＮモード液晶セル（液晶素子）については、上記特許文献１に詳細が記載されている。本発明のＲＴＮモード液晶素子の例及びその駆動方法、並びに作製方法及びそれに用いる材料については、特許文献１中に記載の内容と同様である。
【００１３】
図１の液晶表示装置では、位相差膜１２ａ及び１２ｂにより、液晶層１６の視野角依存性が改善されているので、ＲＴＮモードの利用により低電圧駆動が可能であるのみならず、視野角特性にも優れる。
【００１４】
以下、本発明に利用される位相差膜について説明する。本発明では、ディスコティック液晶化合物を含有する組成物からなる層を少なくとも有する位相差膜を利用する。本発明では、図１に示す通り、液晶セルを挟んで２つの位相差膜を配置するのが好ましく、図１に示す軸関係で、同一の位相差膜を配置するのがより好ましい。
図１に示す態様では、２つの位相差膜のそれぞれのＲｅ（５５０）は０〜１００ｎｍであるのが好ましく、１０〜５０ｎｍであるのがより好ましい。また、Ｒｔｈ（５５０）は、０〜２００ｎｍであるのが好ましく、２０〜１５０ｎｍであるのがより好ましい。
【００１５】
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明では、位相差膜の作製にディスコティック液晶化合物を用いる。
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００１６】
ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性分子から形成する位相差膜は、最終的に位相差膜に含まれる化合物がディスコティック液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【００１７】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（５）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（５）
Ｄ（−Ｌ1Ｑ1）n
式（５）において、Ｄは円盤状コアであり；Ｌ1は二価の連結基であり、Ｑ1は重合性基であり、そして、ｎは４〜１２の整数である。
【００１８】
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ1）と重合性基（Ｑ1）との組み合わせを意味する。
【化１】
【００１９】
ディスコティック液晶化合物の分子をハイブリッド配向させると、Ｒｅ及びＲｔｈが前記好ましい範囲の位相差膜を形成することができる。ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）と支持体の面との角度すなわち傾斜角が、位相差膜の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に局所的にはランダム性をもちつつ増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【００２０】
ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいはディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
【００２１】
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤および重合性モノマーは、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。添加成分の中でも重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）の添加が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に１〜５０重量％の範囲にあり、５〜３０重量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と液晶組成物からなる層との間の密着性を高めることができる。
【００２２】
前記組成物中には、セルロースエステルを添加してもよい。セルロースエステルを、液晶性化合物を含有する組成物中に混合することにより、該組成物を塗布する際にハジキが発生するのを抑制することができる。さらに、セルロースエステルは、液晶性化合物の傾斜角を制御するのに寄与する。好適に使用可能なセルロースエステルには、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース及びカルボキシメチルセルロースなどが含まれる。中でも、セルロースアセテートブチレートが好ましく、さらに、ブチリル化度が４０％以上であるセルロースアセテートブチレートがより好ましい。添加量については、ディスコティック液晶性化合物の総量に対して重量百分率で、好ましくは０．０１〜２０％、より好ましくは０．０５〜１０％、特に好ましくは０．０５〜５％である。
【００２３】
前記組成物中には、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位と下記一般式（１ａ）で表される繰り返し単位とを含む共重合体（ポリマーＡ）を添加してもよい。ポリマーAは主に、配向膜側界面近傍の液晶性分子の傾斜角を調整するのに寄与する。
【化２】
【００２４】
式中、Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aは、それぞれ、水素原子または置換基を表し；Ｌaは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し、
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4a−（Ｒ4aは水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5a）−（Ｒ5aはアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基；Ｑaはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。
【００２５】
前記ポリマーＡの添加量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８重量％であるのが好ましく、０．０１〜５重量％であるのがより好ましく、０．０５〜１重量％であるのがさらに好ましい。
【００２６】
前記組成物は、前記ポリマーＡを２種以上含有していてもよい。また、前記組成物は、前記ポリマーＡとともに、フルオロ脂肪族基を含有するポリマーＢをさらに含有しているのが好ましい。ここで、ポリマーＢは、フルオロ脂肪族基を有するポリマーであり、中でも、前記一般式（２ａ）で表される繰り返し単位と、下記一般式（３a）で表される繰り返し単位とを含む共重合体であることが好ましい。
【００２７】
【化３】
【００２８】
一般式（３ａ）において、Ｒ3aは水素原子またはメチル基を表し、Ｙaは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ5a）−等を採用することができる。ここでＲ5aは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5aは、水素原子およびメチル基であるのが好ましい。Ｙaは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−および−Ｎ（ＣＨ3）−が特に好ましい。Ｒ4aは置換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基または置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。
【００２９】
また、前記位相差膜は、ディスコティック液晶性化合物と、一般式（１ｂ）で表される重量平均分子量５０００以上２００００未満のポリマーＣの少なくとも一種と、一般式（１ｂ）で表される重量平均分子量２００００以上のポリマーＤの少なくとも一種とを含有する組成物を利用して、作製することができる。
【００３０】
ポリマーＣ及びＤは、液晶性化合物の傾斜角制御剤、特に空気界面側の傾斜角制御剤として機能する。
【００３１】
【化４】
【００３２】
一般式（１ｂ）中、Ａは水素結合性基を有する繰り返し単位であり、式中にｉ（ｉは１以上の整数である）種類含まれる。Ｂは重合性基を有する繰り返し単位であり、式中にｊ種類含まれ、Ｃはエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返しであり、式中にｋ種類含まれるが、ｊとｋが同時に０になることはない。即ち、Ｂ及びＣの少なくとも一方は必ず少なくとも１種類含まれる。ａ、ｂ及びｃは重合比を表す重量百分率で、ｉ種類のＡの総量の比率であるΣａｉは１〜９９重量％であり、ｊ種類のＢの総量の比率であるΣｂｊは０〜９９重量％であり、ｋ種類のＣの比率であるΣｃｋは０〜９９重量％であるが、上記と同様、Σｂｊ及びΣｃｋが同時に０重量％になることはなく、少なくとも一方は０重量％を超え９９重量％以下含まれる。
【００３３】
さらに詳細に説明すると、上記一般式（１ｂ）中、Ａは下記一般式（２ｂ）で表される水素結合性極性基を含有するモノマー（以下「モノマーＡ」とも言う）より誘導される繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ」とも言う）を表す。
【００３４】
【化５】
【００３５】
一般式（２ｂ）中、Ｒ1b、Ｒ2b及びＲ3bはそれぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）又はＬ1b−Ｑ1bで表される基を表し、Ｌ1bは２価の連結基を表し、Ｑ1bは水素結合性基を有する極性基を表す。
【００３６】
上記一般式（１ｂ）において、Ｂは下記一般式（３ｂ）で表される重合性基を含有するモノマー（以下「モノマーＢ」とも言う）より誘導される繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ」とも言う）を表す。
【００３７】
【化６】
【００３８】
一般式（３ｂ）中、Ｒ4b、Ｒ5b及びＲ6bは、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、−Ｌ2b−Ｑ2bで表される基であり、好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ2b−Ｑ2bで表される基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましいのは水素原子、炭素数１〜２のアルキル基である。該アルキル基の具体例としては、一般式（２ｂ）中、Ｒ1b、Ｒ2b、及びＲ3bで表された具体例を挙げることができる。該アルキル基の置換基としては、一般式（２ｂ）中、Ｒ1b、Ｒ2b、及びＲ3bで表されたアルキル基の置換基を挙げることができる。
【００３９】
上記一般式（１ｂ）のＣは、エチレン性不飽和モノマー（以下「モノマーＣ」とも言う）より誘導される繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｃ」とも言う）である。例えば、下記に例示したモノマーＣ群から独立かつ自由に組み合わせた重合体として選択することが可能である。使用可能なモノマーには特に制限はなく、通常のラジカル重合反応が可能なものであれば、好適に用いることができる。
【００４０】
モノマーＣ群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、及び１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２〜１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなど；
（４）不飽和ニトリル類
リロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレン及びその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルブニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリン、下記一般式（６ｂ）で表される化合物：
【化７】
【００４１】
一般式（６ｂ）中、Ｒ9b及びＲ10bはそれぞれ、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基（好ましくは、メチル基又はエチル基）を表す。
など。
【００４２】
ポリマー中に含まれる上記繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣは、それぞれ、１種単独でも、２種以上の繰り返し単位が存在していてもよい。また、Ｂ及びＣのうち一方は存在しなくてもよいが、Ａ、Ｂ及びＣの全てを少なくとも１種類含有するのが好ましい。上記モノマーＡは、例えば、一般式（１ｂ）において、ｉが１のとき、Ａｉは、一種類のモノマーＡ（Ａ１）のみがａ１（＝ａ）重量％含まれる。また、ｉが２のとき、Ａｉは、Ａ１及びＡ２の２種類のモノマーＡが、それぞれ、ａ１重量％及びａ２重量％（ａ＝ａ１＋ａ２）含まれる。以下、モノマーＢ及びＣについても同様である。さらに、ｉ、ｊ及びｋは、３以上の整数であってもよく、好ましくは、ｉは１〜５の整数である。より好ましくは、１又は２である。そして、モノマーＡの総含量Σａは１〜９９重量％、モノマーＢの総含量Σｂは０〜９９重量％、モノマーＣの総含量Σｃは０〜９９重量％の数値であるが、好ましくはΣａが５〜９０重量％、Σｂが５〜９０重量％、Σｃが５〜９０重量％であり、特に好ましくはΣａが１０〜８０重量％、Σｂが１０〜８０重量％、Σｃが１０〜８０重量％である。さらに、モノマーＡ、Ｂ及びＣの組成比（重量）は、モノマーＡを１としたとき、モノマーＢが０．１〜５、モノマーＣが１〜１０であるのが好ましい。
【００４３】
前記位相差膜は、支持体表面に直接又は配向膜表面に、ディスコティック液晶化合物等を含有する組成物を適用して作製することができる。前記組成物は、液晶性化合物、および種々の添加剤を含有する。これらの原料を溶媒に溶解して塗布液として、支持体表面等に塗布するのが好ましい。前記位相差膜の作製に利用される配向膜については特に制限はなく、ポリビニルアルコール等のポリマー層を形成した後、該ポリマー層の表面を所定の方向にラビング処理することによって形成された配向膜などが利用できる。配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。前記配向膜の膜厚は、１０μｍ以下であるのが好ましい。なお、配向膜は位相差膜の作製時のみに用い、位相差膜を作製した後は、剥離可能な場合は剥離してもよい。例えば、仮支持体上に配向膜を形成し、配向膜上で前記層を形成した後に、該層を、透明支持体に転写して、位相差膜を作製してもよい。
【００４４】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
均一性の高い光学フィルムを作製する場合には、塗布液の表面張力は、２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
【００４５】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００４６】
前記塗布液を、支持体表面もしくは配向膜表面に塗布した後、液晶性分子を所望の配向状態にする。
液晶性化合物を、所望の配向状態とした後、その配向状態に固定して、位相差膜を作製する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。塗布液中には、液晶性化合物の固定化に寄与する、重合性モノマーや重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して、一般に１〜５０重量％であり、５〜３０重量％であるのが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が３以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と前記層との間の密着性を高めることができる。
【００４７】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各公報記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号公報記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号公報記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各公報記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号公報記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号、米国特許４２３９８５０号の各公報記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号公報記載）が含まれる。
【００４８】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０重量％であるのが好ましく、０．５〜５重量％であるのがさらに好ましい。
【００４９】
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５０】
この様にして形成された前記組成物からなる層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることがよりさらに好ましい。また、前記層上に、保護層を設けてもよい。
【００５１】
前記位相差膜は、前記液晶組成物からなる層を支持する支持体を有していてもよい。該支持体は、ガラス又は透明なポリマーフィルムであることが好ましい。前記支持体は、光透過率（４００〜７００ｎｍ）が８０％以上、ヘイズが２．０％以下であることが好ましい。更に好ましくは光透過率が８６％以上、ヘイズが１．０％以下である。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースのモノ〜トリアシレート体）、ノルボルネン系ポリマーおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックス（いずれも商品名））を用いてもよい。又、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、前記基板に用いることができる。
【００５２】
前記支持体として用いられるポリマーフィルムの作製方法については特に制限はない。溶融成形方法及び溶液成形方法のいずれも利用することができる。
【００５３】
前記位相差膜は、偏光子である直線偏光膜と一体化した楕円偏光板として、液晶表示装置に組み込むことができる。例えば、長尺状のポリマーフィルム上に、配向膜を連続的に形成し、その上にディスコティック液晶化合物を含む塗布液を塗布して、配向及び固定化を連続的に行うことで、長尺状の位相差膜が得られる。これと、長尺状の偏光膜とをロール・トゥ・ロール法で貼り合せることにより、楕円偏光板を連続的に作製することができる。該楕円偏光板は、ロール状に巻き取られ、その後、保管・搬送等され、使用時に所望の大きさに切断されて用いられる。
【００５４】
前記偏光膜は、Optiva社製のものに代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素又は二色性色素からなる偏光膜等、一般的なものを用いることができる。偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
現在、汎用の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
【実施例】
【００５５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。なお、以下において、部および％は、特に断りの無い限り、すべて、質量基準であるものとする。
【００５６】
［実施例１］
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
───────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（重量部） 内層 外層
───────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００重量部 １００重量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８重量部 ０．８重量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）
３．９重量部 ３．９重量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３重量部 ３１４重量部
メタノール（第２溶媒） ７１重量部 ７６重量部
１−ブタノール（第３溶媒） １．５重量部 １．６重量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０重量部 ０．８重量部
下記レターデーション上昇剤 １．４重量部 ０重量部
────────────────────────────────────
【００５７】
【化８】
【００５８】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０重量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３重量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０２）について、光学特性を測定した。
得られたポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、８ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、９３ｎｍであった。
【００５９】
作製したポリマー基材（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【００６０】
このＰＫ−１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール １０重量部
水 ３７１重量部
メタノール １１９重量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５重量部
【００６１】
【化９】
【００６２】
ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【００６３】
（位相差層の形成）
位相差層形成用組成物
下記のディスコティック液晶性化合物 ４１．０１重量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６重量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０・２、イーストマンケミカル社製） ０．６９重量部
下記Ｐ−３３（ポリマーＡ） ０．１８重量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） １．３５重量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５重量部
【００６４】
【化１０】
【００６５】
上記位相差層形成用組成物を、１０２重量部のメチルエチルケトンに溶解し塗布液とし、これを配向膜上に、＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布し、１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、位相差膜（Ｆ−１）を作製した。
この位相差膜のＲｅ（５５０）及びＲｔｈ（５５０）はそれぞれ、４８ｎｍ及び８５ｎｍであった。
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた位相差膜のムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【００６６】
（偏光子の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
【００６７】
このフィルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で長手方向に延伸して、そのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽において２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光子（Ｈ−１）を得た。偏光子は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【００６８】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した位相差膜Ｆ−１をポリマー基材（ＰＫ−１）面で偏光子（Ｈ−１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。
【００６９】
偏光子の吸収軸とポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸とは平行になるように配置した。このようにして偏光板ＨＢ−１をそれぞれ作製した。
【００７０】
（ＲＴＮ液晶表示装置の評価）
図１に示す構成と同様の液晶表示装置を作製した。まず２枚の基板１４ａ及び１４ｂの内側にそれぞれ配向膜（不図示）を形成した。この配向膜はプレチルト角１７度を示す配向膜であり、プレチルト角１７度のポリイミド樹脂からなる配向膜である。配向処理は通常のラビング処理で行った。ラビング処理の方向は図１に示す通りである。液晶層１６には、液晶材料としてメルク（株）社製ＺＬＩ２２９３を使用した。この液晶材料の屈折率異方性は０．１３６２である。液晶層１６の厚みは５μｍとした。従って、液晶層１６のリタデーションＲ＝Δｎｄは０．６８１μｍ（０．１３６２×５μｍ）である。液晶材料に、ユニフォームツイスト捩じれ方向とは逆の捩じれを誘起する光学活性物質（メルク（株）社製Ｓ−８１１を使用）を添加した。光学活性物質の強さを示す螺旋ピッチｐは６０μｍとした。この様にして液晶セルＬＣを作製した。
液晶層１６は、光学活性物質の添加によりスプレイツイスト状態になったが、電圧を印加することにより、ユニフォームツイスト状態に転移し、電圧の印加を止めても、その状態を維持した。
【００７１】
この液晶セルＬＣの基板１４ａ、１４ｂの外側表面に、上記で作製した各偏光板を、位相差膜を基板表面側として貼合し、ＲＴＮモード液晶表示装置を作製した。
作製した各液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、左右方向コントラスト比１０以上の領域を評価した。下記表に評価結果を示す。下記表中、「右（又は左）θ度」とは、画面法線方向から右（又は左）方位に画面方向へθ度回転させた領域において、コントラスト比が１０以上であったことを意味する。
【００７２】
【表１】
【００７３】
上記表に示す結果から、本発明の実施例のＲＴＮモード液晶表示装置は、位相差膜を有しない比較例１のＲＴＮモード液晶表示装置と比較して、視野角が格段に改善されていることが理解できる。ディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を有する位相差膜を利用すると、ＲＴＮモード液晶表示装置の視野角特性を改善できることが明らかになった。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例の断面模式図、及び各層の光学的軸の方向を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０ａ、１０ｂ 偏光子
１１ａ、１１ｂ 吸収軸
１２ａ、１２ｂ 位相差膜
１３ａ、１３ｂ 位相差膜作製時に利用されるラビング方向
１４ａ、１４ｂ 基板
１５ａ、１５ｂ 液晶層用ラビング方向
１６ 液晶層
ＬＣ 液晶層(液晶素子)
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、該一対の基板のそれぞれの内面に形成された配向処理された配向膜と、該一対の基板間に液晶層とを有する液晶素子であって、前記液晶層が、少なくとも液晶材料と、該液晶材料が前記配向膜に施された配向処理により決定されるユニフォームツイスト状態になるときのねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する光学活性材料とを含有し、駆動時にユニフォームツイスト状態にある液晶素子；及びディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を少なくとも含む位相差膜；を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１】
一対の基板と、該一対の基板のそれぞれの内面に形成された配向処理された配向膜と、該一対の基板間に液晶層とを有する液晶素子であって、前記液晶層が、少なくとも液晶材料と、該液晶材料が前記配向膜に施された配向処理により決定されるユニフォームツイスト状態になるときのねじれ方向とは反対方向のねじれを誘発する光学活性材料とを含有し、駆動時にユニフォームツイスト状態にある液晶素子；及びディスコティック液晶化合物を少なくとも含有する組成物から形成された層を少なくとも含む位相差膜；を有することを特徴とする液晶表示装置。
【図１】
【公開番号】特開２００９−１８０８７９（Ｐ２００９−１８０８７９Ａ）
【公開日】平成２１年８月１３日（２００９．８．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１８８９５（Ｐ２００８−１８８９５）
【出願日】平成２０年１月３０日（２００８．１．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月１３日（２００９．８．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月３０日（２００８．１．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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