磁気記録媒体の製造方法
【課題】１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体Ｗの製造方法であって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体Ｍを用いると共に、このマスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体Ｗを洗浄する工程を設ける。
【解決手段】非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体Ｗの製造方法であって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体Ｍを用いると共に、このマスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体Ｗを洗浄する工程を設ける。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、より詳しくは、磁気転写を行う前に磁気記録媒体を洗浄する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録再生装置の一種であるハードディスク装置（ハードディスクドライブ）は、現在その記録密度が年１．５倍以上で増えており、今後もその傾向は続くと言われている。それに伴って、高記録密度化に適した磁気ヘッド及び磁気記録媒体の開発が進められている。そして、最新の磁気記録装置においては、トラック密度が３２０ｋＴＰＩにも達している。
【０００３】
このため、高いトラック密度を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドをトラック上で正確に走査するために、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。具体的に、現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信号や、アドレス情報信号、再生クロック信号などの情報信号（以下、サーボ信号等という。）が記録されている。そして、磁気ヘッドから一定間隔の時間で再生されるこれらの信号によって、磁気ヘッドの位置を検出しながら、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するように磁気ヘッドの位置を修正する制御が行われている。
【０００４】
したがって、上述したサーボ信号等は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となることから、これらの信号の書き込みには高い位置決め精度が求められる。このため、従来のハードディスクドライブの製造現場では、高精度の位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ信号記録装置（以下、サーボライタという。）を用いて、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込みが行われている。また、サーボライタは、その生産性を高めるために、一つのスピンドルに多数枚の磁気記録媒体をチャッキングし、これらの磁気記録媒体に対して同時にサーボ信号等を書き込む構造となっている。
【０００５】
しかしながら、上述したサーボライタによるサーボ信号等の書き込みには、以下の課題が存在する。すなわち、磁気ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックに亘って信号を書き込むためには、多くの時間がかかり、更に生産性を上げるためには、多くのサーボライタを同時に稼働させる必要がある。しかしながら、導入するサーボライタの数を増やすと、その維持管理に多額のコストがかかることになる。また、スピンドルを長くして同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やすと、回転中にブレが生じ易くなり、磁気記録媒体に対する書き込み精度の低下を招くことになる。したがって、１つのスピンドルにチャッキングできる磁気記録媒体の枚数には自ずと限界がある。そして、これらの課題は、磁気記録媒体のトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻なものとなっている。
【０００６】
そこで、磁気記録媒体へのサーボ信号等の書き込みをサーボライタではなく、全てのサーボ信号等に対応する磁気転写パターンが書き込まれたマスター情報担体を用いて、このマスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００７】
具体的に、この方法では、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、外部から転写用のエネルギーとして磁界を加えながら、マスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に磁気転写する。これにより、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込み作業を短時間で行うことが可能となる。また、このようなマスター情報担体は、繰り返し使用可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−６１６９号公報
【特許文献３】特開２０００−２０３８８９号公報
【特許文献４】特開平１０−１０６２２９号公報
【特許文献５】特開平１１−２７７３３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、上述した磁気転写を行う場合、磁気記録媒体の表面に異常突起等が存在すると、磁気記録媒体とマスター情報担体とを重ね合わせた際に、この異常突起等の噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分が発生し、磁気転写が不完全となるといった問題が発生してしまう。
【００１０】
磁気転写に用いられるマスター情報担体は、非常に高価であるため、磁気記録媒体の製造コストを低減するためには、１枚のマスター情報担体が摩耗等によって破損するまでに転写できる合計の回数（使用回数）を高めることが重要である。
【００１１】
そこで、磁気記録媒体の表面にバーニッシュ処理を施し、表面の突起物や埃等を除去した後に、この磁気記録媒体にマスター情報担体を重ね合わせて磁気転写を行うことによって、マスター情報担体の使用回数を高めることが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。
【００１２】
ここで、磁気記録媒体の製造工程で行われる基板表面等のクリーニングは、洗浄液を用いた湿式クリーニングと、ワイピングテープ等を用いた乾式クリーニングとに大別される。前者の湿式クリーニングは、後者の乾式クリーニングに比べ、クリーニングする能力に優れるものの、洗浄液に含まれる磁気記録媒体から除去された汚れが媒体表面に再付着する場合がある。このため、湿式クリーニングは、例えば上記特許文献３に記載されているように、それほど高い洗浄性が要求されないアルミニウム合金やガラス等の磁気記録媒体用非磁性基板の洗浄に主に用いられている。
【００１３】
また、磁気記録媒体の洗浄に湿式クリーニングが用いられる場合もあるが、磁気記録媒体に含まれるＦｅやＣｏ等の腐食や汚れの再付着を防ぐため、純水を用いた数秒間程度の短時間のスピン洗浄に限られる。また、磁気記録媒体の表面に付着するのは、スパッタダスト等のような粒状物が多く、これらを除去するためには、織布や不織布を用いたワイピングの方が効果的と考えられている。
【００１４】
しかしながら、本発明者らの検討によると、上述した磁気記録媒体の表面に対するバーニッシュ処理や、磁気記録媒体及びマスター情報担体の表面に対する織布等を用いたワイピング処理、湿式洗浄等を行うことによって、それらの表面にある突起物や埃等を除去した場合でも、マスター情報担体が摩耗によって破損に至る前に、転写パターンが不完全となる状況が発生することがわかった。この場合、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計回数を商業生産に適用するのに十分な使用回数まで高めることは依然として困難である。
【００１５】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いて磁気転写を行う場合に、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、マスター情報担体による磁気転写パターンが不完全となるのは、マスター情報担体の表面に付着する金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等が原因であり、これは磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体に少しずつ転写されて蓄積することを解明した。また、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等は、通常のバーニッシュ処理、ワイピング、洗浄等では除去不能なレベルのものであり、これが僅かずつマスター情報担体に蓄積されて、マスター情報担体の凹部に入り込むこと、マスター情報担体の転写面のワイピング等ではこれら物質の除去が困難であることを解明した。さらに、マスター情報担体の凹部に入り込んだ蓄積物がマスター情報担体の凸部を徐々に浸食し、マスター情報担体による転写精度を低下させることを解明した。
【００１７】
そこで、本発明者らは、マスター情報担体を用いて磁気記録媒体に磁気転写を行う前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けることによって、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等を効率良く除去することができ、その結果、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体に転写されることを防止し、このマスター情報担体の使用回数を飛躍的に向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１８】
すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１） 非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（２） 前記洗浄槽内で洗浄液を横方向に流しながら、磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする前項（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（３） 前記洗浄槽に洗浄液を供給する複数の供給口と、前記洗浄槽から洗浄液を排出する複数の排出口とのうち、何れかの供給口及び／又は排出口を流れる洗浄液の流量を調整することによって、前記洗浄槽内の洗浄液が層流の状態で流れるようにすることを特徴とする前項（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４） 前記洗浄液が水素水を含むことを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５） 前記水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、前記水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることを特徴とする（４）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（６） 水素水とアルカリ又はアルカリ洗浄剤とを含む洗浄液を用いて磁気記録媒体の洗浄を行った後に、水素水を含み且つアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まない洗浄液を用いて磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする前項（４）又は（５）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（７） 前記アルカリ又はアルカリ洗浄剤が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのうち少なくとも１種以上を含み、且つ、その洗浄液中の含有濃度を０．０５ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの範囲とすることを特徴とする前項（６）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（８） 前記洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加することを特徴とする前項（１）〜（７）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように、本発明では、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けることで、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等を効率良く除去することが可能である。
【００２０】
したがって、本発明によれば、マスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせた際に、金属腐食物等が磁気記録媒体からマスター情報担体へと転写されることを防止できるため、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を飛躍的に高めることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す断面図である。
【図３】図３は、洗浄槽内に発生する乱流を説明するための断面図である。
【図４】図４は、洗浄槽内に発生する乱流を説明するための平面図である。
【図５】図５は、本発明の磁気転写工程を説明するための断面図である。
【図６】図６は、磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
【図７】図７は、磁気記録再生装置の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２３】
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体から磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程（磁気転写工程という。）を含むものであって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程（媒体洗浄工程という。）を設けたことを特徴とする。
【００２４】
（媒体洗浄工程）
具体的に、本発明の媒体洗浄工程では、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体の湿式洗浄を行う。これにより、磁気記録媒体の表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物を効率よく除去することが可能である。
【００２５】
また、本発明では、洗浄槽内で洗浄液を横方向に流しながら、磁気記録媒体の洗浄を行うことが好ましい。この場合、汚染物質を含む洗浄液を洗浄槽の外へと速やかに排出することができるため、磁気記録媒体の表面に汚染物質が再付着することを防止することが可能である。その結果、従来の方法では得られない清浄な表面を有する磁気記録媒体を得ることが可能である。
【００２６】
ここで、例えば図１及び図２に示すような本発明の媒体洗浄工程で使用される流水式洗浄装置１の一例について説明する。
この流水式洗浄装置１は、上記転写工程の前に、ハードディスクドライブ（磁気記録再生装置）に搭載される磁気記録媒体Ｗを洗浄するのに好適に用いられるものであり、磁気記録媒体Ｗを保持したホルダ５０を洗浄液Ｌに浸漬させて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行う洗浄槽２を備えている。
【００２７】
ホルダ５０には、中心孔が形成された円盤状の磁気記録媒体Ｗが互いに平行な状態で複数並んで保持されている。また、各磁気記録媒体Ｗは、ホルダ５０に設けられた一対の支持プレート５１ａ，５１ｂによって、その中心孔を通る鉛直方向の中心線を挟んだ両側の外周部が支持されている。なお、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂには、各磁気記録媒体Ｗの外周部が係合されるＶ字状の溝部（図示せず。）が設けられている。
【００２８】
各磁気記録媒体Ｗは、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂに支持されることによって、縦置き状態（磁気記録媒体Ｗの主面が鉛直方向と平行となる状態）でホルダ５０に保持されている。そして、このホルダ５０は、各磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるようにして、洗浄槽２の底面上に配置されている。なお、図１では、磁気記録媒体Ｗを１列に５枚並べた状態を図示しているが、実際の例では、直径３．５インチの磁気記録媒体Ｗを約５ｍｍ間隔で１列に５０枚程度並べてホルダ５０に保持している。
【００２９】
洗浄槽２は、長方形を為す底壁２ａと、底壁２ａの周囲から立ち上がる４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅと、底壁２ａと対向する上面の開口部２ｆとを有して、全体が略直方体状に形成されると共に、その内側に上記ホルダ５０が浸漬される略直方体状の浸漬空間Ｓを形成している。
【００３０】
また、洗浄槽２の上流側の側壁２ｂには、洗浄液Ｌを供給する複数の供給口３が設けられている。これら複数の供給口３は、側壁２ｂの幅方向と高さ方向とに所定の間隔で並んで配置されている。また、各供給口３には、流量調整バルブ（流量調整手段）４が接続されており、この流量調整バルブ４の開度を調整することによって、各供給口３から供給される洗浄液Ｌの流量を個別に調整することが可能となっている。
【００３１】
また、洗浄槽２の下流側の側壁２ｄには、洗浄液Ｌを排出する複数の排出口５が設けられている。これら複数の排出口５は、側壁２ｄの幅方向と高さ方向とに所定の間隔で並んで配置されている。また、各排出口５には、流量調整バルブ（流量調整手段）６が接続されており、この流量調整バルブ６の開度を調整することによって、各供給口３から排出される洗浄液Ｌの流量を個別に調整することが可能となっている。
【００３２】
なお、本実施形態において、上記供給口３と上記排出口５とは、それぞれ側壁２ｂ，２ｄの相対向する位置に、幅方向に５ｃｍ間隔で７列、高さ方向に５ｃｍ間隔で６列並んで計４２つ配置されているが、これら供給口３及び排出口５の配置や数、間隔等については、適宜変更して実施することが可能である。
【００３３】
また、洗浄槽２の底壁２ａには、磁気記録媒体Ｗに対する洗浄能力を高めるため、浸漬空間Ｓ内の洗浄液Ｌに超音波振動を印加する超音波発振器（超音波発生手段）７が設けられている。この超音波発振器７は、洗浄槽２の底壁２ａ側から洗浄槽２の洗浄液Ｌに対して、例えば２００ｋＨｚで５００Ｗ程度の超音波振動を印加する。
【００３４】
さらに、この流水式洗浄装置１には、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用するための機構として、排出口５から排出された洗浄液Ｌを吸引し、再び供給口３に圧送するポンプ８と、このポンプ８により圧送された洗浄液Ｌを浄化するフィルタ９とが設けられている。
【００３５】
本発明の媒体洗浄工程では、以上のような構造を有する流水式洗浄装置１を用いて、ホルダ５０に保持された複数の磁気記録媒体Ｗに対する洗浄を行う。具体的に、この流水式洗浄装置１を用いた媒体洗浄工程では、洗浄槽２の浸漬空間Ｓ内で洗浄液Ｌを層流の状態で横方向（水平方向）に流し、洗浄液Ｌに超音波振動を印加しながら、この浸漬空間Ｓ内の洗浄液Ｌに複数の磁気記録媒体Ｗを保持したホルダ５０を浸漬させる。
【００３６】
このとき、洗浄槽２内では、ホルダ５０に保持された各磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行とされて、これら各磁気記録媒体Ｗの間を層流状態の洗浄液Ｌが流れることになる。これにより、各磁気記録媒体Ｗの表面が洗浄液Ｌにより洗浄されて、これら各磁気記録媒体Ｗの表面に付着した塵埃や異物などの他に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物を効率よく除去することが可能である。
【００３７】
また、この流水式洗浄装置１では、洗浄槽２内で洗浄液Ｌを横方向に流しながら、磁気記録媒体Ｗの洗浄を行うため、上述した汚染物質や不純物等を含む洗浄液を洗浄槽２の外へと速やかに排出することが可能である。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面に汚染物質が再付着することを防止することが可能であり、その結果、従来の方法では得られない清浄な表面を有する磁気記録媒体Ｗを得ることが可能である。
【００３８】
ところで、洗浄槽２の底面側から超音波振動を印加した場合には、洗浄槽２内の洗浄液Ｌの液面が盛り上がり、これによって洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌが乱流となり、磁気記録媒体Ｗに対する洗浄能力が低下することが本発明者らの解析によって明らかになった。
【００３９】
具体的に、本発明者らの解析によると、超音波振動を印加しない状態で洗浄槽２内に洗浄液Ｌを層流の状態で流し、その後、超音波振動を印加した場合、洗浄液Ｌの流れは、図３中の矢印の方向で示すように、洗浄槽２の底面側から超音波振動を印加することによって、洗浄槽２内の洗浄液Ｌの液面が盛り上がり、この盛り上がった洗浄液Ｌが四方に分散するものの、この洗浄液Ｌの流れに層流が加わるため、洗浄槽２内に複雑な流れ（乱流）が生じることになる。さらに、図４に示すように、洗浄槽２内に磁気記録媒体Ｗを浸漬した場合には、この洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌが磁気記録媒体Ｗに乱されて乱流となり、この乱流によって磁気記録媒体Ｗに対する洗浄能力が低下することになる。
【００４０】
なお、図３は、洗浄槽２を側面側から見たときに、洗浄槽２内に超音波振動を加えた場合の洗浄液Ｌの流れを表したものである。一方、図４は、洗浄槽２を上面側から見たときに、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌのうち、上層の流れを破線で表し、中層の流れを一点鎖線で表し、下層の流れを二点鎖線で表したものである。
【００４１】
そこで、本発明では、図１及び図２に示すように、上述した流量調整バルブ４，６を制御しながら、何れかの供給口３及び／又は排出口５を流れる洗浄液Ｌの流量を調整し、洗浄液Ｌの流れを乱れのない一様な流れ（層流）となるように、洗浄槽２内における洗浄液Ｌの流れを調整する。
【００４２】
これにより、洗浄槽２内の洗浄液Ｌを乱流の状態から層流の状態で流すことが可能である。特に、本発明では、洗浄液Ｌの供給口３からの供給に加え、洗浄液Ｌの排出口５からの排出も、流量調整バルブ４，６によって流量の制御を行うため、洗浄槽２内の層流の形成をより高い制御性で行うことが可能であり、層流が超音波振動や被洗浄物の配置によって乱されることを防ぐことが可能である。
【００４３】
また、本発明では、上記流水式洗浄装置１のように、洗浄槽２内に流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用することが好ましい。これより、洗浄槽２に供給される洗浄液Ｌと、洗浄槽２から排出される洗浄液Ｌとを量的にバランスさせることが容易となり、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを層流の状態でより安定して流すことが可能となる。
【００４４】
なお、上記流水式洗浄装置１の場合、洗浄槽２の開口部２ｆからの洗浄液Ｌの蒸発等により、洗浄液Ｌが僅かに減少するため、その減少した量の洗浄液Ｌを適宜補充することが好ましい。また、上記流水式洗浄装置１では、洗浄液Ｌと空気との接触によって洗浄液Ｌ中に気泡が混入することを防ぐため、洗浄槽２の開口部２ｆに蓋を設けることも可能である。
【００４５】
また、本発明では、上述したホルダ５０に互いに平行な状態で複数並んで保持された磁気記録媒体Ｗに対して洗浄を行う際に、このホルダ５０に保持された複数の磁気記録媒体Ｗの間隔を、その間を流れる洗浄液Ｌの流水抵抗が増加する範囲まで密とすることが好ましい。
【００４６】
例えば、直径３．５インチ、板厚１．２７ｍｍの円盤状の磁気記録媒体Ｗを洗浄する場合には、基板面の間隔が１０ｍｍ以下となるあたりから、洗浄液の流水抵抗が顕著に増加し始める。
【００４７】
一方、従来の流水式洗浄方法では、洗浄槽２内を流れる洗浄液の層流を安定化させるため、洗浄槽２内に配置する被洗浄物を、各々の間隔を空けて疎に配置し、また洗浄槽内に配置された被洗浄物の周辺に空間を設けることが一般的であった。これは、洗浄槽内での被洗浄物の有無による水流抵抗分布を減らし、洗浄槽内を流れる洗浄液Ｌの層流を安定化させるためである。
【００４８】
これに対して、本発明の流水式洗浄方法では、基板（被洗浄物）Ｗを洗浄槽２内に密に配置することによって、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの水流抵抗を高め、且つ、その状態で供給口３からの洗浄液Ｌの供給と、排出口５からの強制的な洗浄液Ｌの排出によって、強力で均一な層流を形成する。これにより、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの層流を安定化させると共に、この洗浄槽２による洗浄能力を高めることが可能である。
【００４９】
また、本発明では、洗浄槽２の内面と磁気記録媒体Ｗとの最短距離を当該磁気記録媒体Ｗの直径の１倍以下とすることが好ましい。特に、本発明では、被洗浄物として、円盤状を為す磁気記録媒体Ｗを洗浄する場合に、この磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるように磁気記録媒体Ｗを洗浄槽２内に配置し、この洗浄槽２の内面と磁気記録媒体Ｗとの最短距離を当該磁気記録媒体Ｗの直径の１倍以下とすることで、磁気記録媒体Ｗを高精度に効率良く洗浄することが可能となる。
【００５０】
なお、本発明の媒体洗浄工程で用いられる流水式洗浄装置は、上記流水式洗浄装置１の構成に必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００５１】
例えば、上記ホルダ５０は、一対の支持プレート５１ａ，５１ｂにより各磁気記録媒体Ｗの外周部を２点で支持する構成となっているが、このような構成に限らず、各磁気記録媒体Ｗを支持する外周部の位置や点数などについては、適宜変更して実施することが可能であり、例えば各磁気記録媒体Ｗの外周部を３点で支持したり、４点で支持したりすることが可能である。
【００５２】
また、各磁気記録媒体Ｗの外周部を支持する部材についても、上記支持プレート５１ａ，５１ｂのようなものに限定されるものではなく、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを乱さないものであれば、その形状等については適宜変更して実施することが可能である。
【００５３】
本発明の媒体洗浄工程では、上記磁気記録媒体Ｗの洗浄に水素水を含む洗浄液Ｌを用いることが好ましい。これは、磁気記録媒体Ｗの表面にわずかに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄等では除去不能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等の除去を目的とし、この水素水を用いることによりＦｅやＣｏ等を含む磁性層の腐食を低減し、また高い洗浄力でこれらの汚染物質を除去することができるからである。
【００５４】
水素水とは、超純水又は純水に高純度の水素ガスを溶解したものであり、水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。上述したように、磁気記録媒体ＷにはＦｅやＣｏ等の腐食しやすい元素が含まれているため、磁気記録媒体Ｗの洗浄はフッ素化合物等を用いた非水系洗浄液による洗浄に限られていた。本発明では、水素水を含む洗浄液Ｌを用いるため、この洗浄液Ｌによる磁気記録媒体Ｗの腐食が発生しにくく、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した汚染物質を高い洗浄力で除去することが可能となる。特に、本発明では、水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、また、水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることによって、その効果を高めることが可能となる。
【００５５】
また、本発明の媒体洗浄工程は、多段工程としてもよい。具体的には、水素水とアルカリ又はアルカリ洗浄剤とを含む洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行った後に、水素水を含み且つアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まない洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行うことが好ましい。
【００５６】
すなわち、本発明の媒体洗浄工程では、多段とした洗浄工程のうち、水素水を含む洗浄液Ｌによる洗浄工程の後に、水素水を含まない洗浄液Ｌによる洗浄工程を設けることが可能である。これは磁気記録媒体Ｗを水素水により洗浄することにより磁気記録媒体Ｗの表面が腐食しにくくなり、水素水を含まない洗浄液による洗浄での腐食が防止されるためと考えられる。
【００５７】
水素水を用いて磁気記録媒体Ｗを洗浄する場合は、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドなどのアルカリやこれらを含むアルカリ洗浄剤を洗浄液Ｌに加えることによって、その洗浄力を高めることができる。しかしながら、磁気記録媒体Ｗの表面に、これらのアルカリ又はアルカリ洗浄剤が残留すると、これが磁気記録媒体Ｗやマスター情報担体の汚染原因となる。
【００５８】
これを防ぐため、本発明では、上述したアルカリ又はアルカリ洗浄剤の洗浄液Ｌ中の含有濃度を０．０５ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの範囲とすることが好ましい。そして、これらアルカリ又はアルカリ洗浄剤と水素水を含む洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行った後、これらアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まずに水素水を含んだ洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行うことで、磁気記録媒体Ｗの表面にアルカリ又はアルカリ洗浄剤を残留させることなく、この磁気記録媒体Ｗに対する洗浄力を高めることが可能である。そして、洗浄後は、スピン乾燥法やドライエア乾燥法等を用いて磁気記録媒体Ｗを速やかに乾燥させることが好ましい。
【００５９】
以上のようにして、本発明の媒体洗浄工程では、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した塵埃や異物などの他に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物を効率よく除去することが可能である。また、洗浄後に、これらが磁気記録媒体Ｗの表面に再付着することを防止した高度な媒体洗浄を行うことが可能である。その結果、従来の方法では得られない清浄な表面を有する磁気記録媒体Ｗを得ることが可能である。
【００６０】
（磁気転写工程）
磁気転写工程では、上記本発明の媒体洗浄工程によって表面が清浄化された磁気記録媒体Ｗに対してサーボ信号等の書き込み作業を磁気転写によって行う。具体的に、この磁気転写工程では、先ず、磁気記録媒体Ｗの信号記録面を初期磁化する。この初期磁化は、面内磁気記録媒体Ｗの場合は、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行い、垂直磁気記録媒体Ｗの場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。
【００６１】
この初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体Ｗと非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体Ｗの表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００６２】
次に、図５に示すように、初期直流磁界の印加を行った後の磁気記録媒体Ｗの信号記録面と、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍの転写面とを接触させた状態で、互いを所定の押圧力で密着させる。そして、この状態で、マスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて、この磁界生成手段Ｇを相対的にトラック方向Ｘに移動させながら転写用の外部磁界を印加する。この転写用の外部磁界は、上記初期直流磁界とは逆方向となる磁界である。これにより、磁気記録媒体Ｗでは、マスター情報担体Ｍの転写パターンと対向する箇所で磁化反転が生じ、サーボ信号等に対応した磁化パターンが磁気転写により書き込まれることになる。
【００６３】
なお、マスター情報担体Ｍについては、公知の方法によって製造することができる。具体的に、このようなマスター情報担体Ｍを製造する際は、先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。その後、このレジストに対して、電子線露光装置を用いてサーボ信号等に対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストの露光・現像を行った後、未露光部分を除去することによって、シリコンウェハ上に、転写パターンに対応したレジストパターンを形成する。
【００６４】
次に、このレジストパターンをマスクにして、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させて、マスター情報担体を作製するための原盤を得る。
【００６５】
次に、この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度の厚みで形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数ミクロン厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層の洗浄等を行い、表面に凸部１００ａ及び凹部１００ｂが形成されたＮｉ基材１００を得る。
【００６６】
次に、このＮｉ基材１００の表面に磁性層１０１を形成する。この磁性層１０１については、上記磁気記録媒体Ｗに用いられる磁性層と同じものを使用することができる。なお、Ｎｉ基材１００の表面に形成された磁性層１０１のうち、磁気記録媒体Ｗへの磁気転写に用いられるのは凸部１００ａが形成された部分の磁性層１０１であり、凹部１００ａが形成された部分の磁性層１０１は、磁気記録媒体Ｗと接触しないため、磁気転写に用いられない。
【００６７】
さらに、このＮｉ基材１００の表面には、磁気記録媒体Ｗと同様に保護膜（図示せず。）が形成される。この保護膜は、マスター情報担体Ｍの耐摩耗性を高めるためのものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等が用いられる。
以上の工程を経ることによって、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍを得ることができる。
【００６８】
磁界生成手段Ｇは、電磁石や永久磁石によって構成されるものであり、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させ、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させる。そして、この磁界生成手段Ｇは、磁気記録媒体Ｗの半径方向において同一方向の外部磁界を発生させながら、磁気記録媒体Ｗの中心にトラック方向Ｘに回転移動させることが可能となっている。
【００６９】
ここで、ハードディスクドライブに内蔵される磁気記録媒体Ｗは、一般的に非磁性基板２００の両面に磁気層２０１が形成されており、また、１台のハードディスクドライブには、複数枚の磁気記録媒体Ｗが内蔵される場合が多い。このため、ハードディスクドライブでは、複数の磁気ヘッドがスタック構造により一体で移動操作されるが、磁気記録媒体Ｗのトッラク幅は益々狭くなっており、１つの磁気記録媒体Ｗの信号記録面に書き込まれたサーボ信号等を用いて、他の信号記録面における磁気ヘッドの位置決めを行うことはヘッドのスタック構造の精度からは困難となっている。
【００７０】
したがって、本発明の磁気転写工程では、磁気記録媒体Ｗの両面に磁気転写によってサーボ信号等を書き込むことが好ましい。具体的には、磁気記録媒体Ｗの両面を一対のマスター情報担体Ｍで挟み込んだ状態とする。そして、この状態で、これらマスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて転写用の外部磁界を印加する。これにより、磁気記録媒体Ｗの両面にサーボ信号等を書き込むことができる。
【００７１】
また、磁性層２０１の保磁力Ｈｃは、通常は３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上である。したがって、本発明の磁気転写工程では、この磁性層２０１を初期直流磁化した後、磁気記録媒体の両面をマスター情報担体Ｍで挟み込み、磁気転写できる強度の磁界をマスター情報担体Ｍを介して印加して磁気転写を行うことが好ましい。
【００７２】
本発明の磁気転写工程では、上記媒体洗浄工程によって表面が高度に清浄化された磁気記録媒体Ｗに対して磁気転写を行うため、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせた際に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体Ｍに少しずつ転写されて蓄積されることを防止することが可能である。特に、このような蓄積物がマスター情報担体Ｍの転写面の凹部１００ｂに入り込み、凸部１００ａを浸食しながら、磁気記録媒体Ｗに書き込まれる磁化パターンを劣化させることを防止することが可能である。
【００７３】
したがって、本発明によれば、１枚のマスター情報担体Ｍによって繰り返し転写できる合計の回数を飛躍的に高めることが可能であり、その結果、磁気記録媒体の生産コストを大幅に低減することが可能である。
【００７４】
（磁気記録媒体）
次に、本発明を適用して製造される磁気記録媒体Ｗの一例を図６に示す。
この磁気記録媒体Ｗは、図６に示すように、非磁性基板３１上に、スペーサ層３２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層３２ａを含む軟磁性下地層３２と、配向制御層３３と、垂直磁性層３４と、保護層３５と、潤滑剤膜３６とを順次積層した構造を有している。
【００７５】
また、垂直磁性層３４は、下層の磁性層３４ａと、中層の磁性層３４ｂと、上層の磁性層３４ｃとの３層を含み、磁性層３４ａと磁性層３４ｂの間で非磁性層３７ａを、磁性層３４ｂと磁性層３４ｃの間で非磁性層３７ｂを挟み込むことで、これら磁性層３４ａ〜３４ｃと非磁性層３７ａ，３７ｂとが交互に積層された構造を有している。
【００７６】
非磁性基板３１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００７７】
ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００７８】
非磁性基板３１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ(Ｒａ)が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００７９】
また、非磁性基板３１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層３２と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。この場合、非磁性基板３１と軟磁性下地層３２の間に密着層を設けることが好ましく、これにより、これらを抑制することが可能となる。なお、密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００８０】
軟磁性層３２ａ，３２ｃとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、その透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることが好ましい。スペーサ層３２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中で特にＲｕを用いることが好ましい。
【００８１】
配向制御層３３は、垂直磁性層３４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。この配向制御層３３としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、これらの合金を多層化してもよい。例えば、基板側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００８２】
ここで、配向制御層３３の直上にある垂直磁性層３４の初期部には、結晶成長の乱れが生じやすく、これがノイズの原因となる。この場合、配向制御層３３と垂直磁性層３４の間に非磁性下地層３８を設けることが好ましい。この初期部の乱れた部分を非磁性下地層３８で置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。
【００８３】
非磁性下地層３８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。Ｃｒの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００８４】
磁性層３４ａ，３４ｂ，３４ｃとしては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましく、この酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、下層の磁性層３４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００８５】
磁性層３４ａ，３４ｂ，３４ｃに適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などを挙げることができる。
【００８６】
また、本発明では、上記垂直磁性層３４を４層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層３４ａ，３４ｂに加えて、グラニュラー構造の磁性層を３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層３４ｃを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層３４ｃを２層構造として、磁性層３４ａ，３４ｂの上に設けた構成とすることができる。
【００８７】
また、本発明では、垂直磁性層３４を構成する３層以上の磁性層間に非磁性層３７を設けることが好ましい。非磁性層３７を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。
【００８８】
保護層３５は、垂直磁性層３４の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体Ｗに接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのものである。保護層３５には、従来公知の材料を用いることができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが可能である。保護層３５の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが磁気ヘッドと磁気記録媒体Ｗの距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。
【００８９】
潤滑剤膜３６としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層３５上に塗布することによって形成される。
【００９０】
ところで、従来の磁気記録媒体の製造方法では、上述した潤滑剤の塗布工程の後に、ワイピング工程、バーニッシュ工程、磁気転写工程が行われる。これに対して、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法では、上記磁気転写工程の前に上記媒体洗浄工程が行われる。また、上記媒体洗浄工程は、潤滑剤の塗布工程の前に行うことが好ましい。
【００９１】
すなわち、本発明の媒体洗浄工程は、ワイピング工程やバーニッシュ工程では除去できない磁気記録媒体Ｗの表面の汚染物質を除去する目的で行われる。これらの汚染物質は、潤滑剤の塗布工程、ワイピング工程、バーニッシュ工程の後では洗浄除去することが困難となる場合がある。その理由は、推測ではあるが、汚染物質が潤滑剤膜３６に覆われると、その撥水性により除去が困難となること、ワイピング工程、バーニッシュ工程の後では、汚染物質が磁気記録媒体Ｗの表面に塗り込められ、除去しにくくなることが考えられる。
【００９２】
また、上記媒体洗浄工程では、スパッタダスト等の粉状物をある程度除去することが可能であるが、ワイピング工程、バーニッシュ工程のように磁気記録媒体Ｗの表面をスクラブし、ワイプし、また削る効果が低いため、磁気記録媒体Ｗの表面に強固に付着した粉状物を除去することは困難である。したがって、上記媒体洗浄工程は、ワイピング工程、バーニッシュ工程と併用することが好ましい。
【００９３】
ワイピング工程は、例えば特許文献４に記載されているように、布製のワイピングテープ等を用いて行われる。すなわち、このワイピング工程は、ワイピングテープを磁気記録媒体Ｗの表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロール又はパッドによってワイピングテープの表面を磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く拭く工程である。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体Ｗの表面に付着したスパッタダスト等が除去されるので、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００９４】
また、ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物などが用いられる。
【００９５】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体Ｗのワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体Ｗを回転させつつ、この磁気記録媒体Ｗの磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面に付着したスパッタダスト等が拭き取られ、媒体表面が清浄化される。
【００９６】
ワイピングテープは、供給リールと巻取リールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、ワイピングテープの拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、ワイピングテープの拭き面が磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。
【００９７】
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体Ｗの表面にある突起物を除去するため、研磨テープを用いてその表面を研磨する工程である。これにより、ハードディスクドライブでの磁気ヘッドの浮上量をより小さくし、また、上記磁気転写工程で磁気記録媒体Ｗとマスター情報担体Ｍとの間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスター情報担体Ｍが損傷を受けることを防止することができる。
【００９８】
このようなバーニッシュ工程は、例えば特許文献５に記載されているように、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ等を用いて行われる。すなわち、このバーニッシュ工程は、研磨テープをゴム製のコンタクトロールを磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程である。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体Ｗの表面にある異常突起等が除去される。
【００９９】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層を形成してなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体Ｗの表面と接触して摺動することによって、媒体表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その媒体表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その媒体表面が平滑化される。
【０１００】
研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【０１０１】
また、このようなバーニッシュ加工は、磁気記録媒体Ｗを回転させつつ、この磁気記録媒体Ｗの表面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面にある突起が研磨除去され、その媒体表面が平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取リールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、研磨テープの砥粒面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。
【０１０２】
上記磁気転写工程の後は、得られた磁気記録媒体Ｗに対してグライド検査が行われる。グライド検査とは、磁気記録媒体Ｗの表面に突起物が無いかどうか検査する工程である。すなわち、磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体Ｗに対して記録再生を行う際に、磁気記録媒体Ｗの表面に浮上量（媒体と磁気ヘッドの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起に衝突して磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体Ｗに欠陥が発生したりする原因となる。グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【０１０３】
グライド検査をパスした磁気記録媒体Ｗには、通常ではサーティファイ検査が実施される。サーティファイ検査とは、通常のハードディスクドライブの記録再生と同様に、磁気記録媒体Ｗに対して磁気ヘッドで所定の信号を記録した後、その信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体Ｗの記録不能を検出し、磁気記録媒体Ｗの電気特性や欠陥の有無など媒体の品質を確かめるものである。
【０１０４】
本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗは、サーボ信号等が既に書き込まれているため、従来の方式でのサーティファイ検査とは異なる。すなわち、本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗでは、この磁気記録媒体Ｗに磁気転写されたサーボ信号等を用いて、磁気ヘッドを特定箇所に位置づけして読み書きを行う形式の検査を行う。
【０１０５】
（磁気記録再生装置）
次に、本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗを備える磁気記録再生装置（ハードディスクドライブ）の一例を図７に示す。
この磁気記録再生装置は、上記図６に示す本発明を適用して製造された磁気記録媒体７０と、磁気記録媒体７０を回転駆動させる媒体駆動部７１と、磁気記録媒体７０に情報を記録再生する磁気ヘッド７２と、この磁気ヘッド７２を磁気記録媒体７０に対して相対運動させるヘッド駆動部７３と、記録再生信号処理系７４とを備えている。また、記録再生信号処理系７４は、外部から入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド７２に送り、磁気ヘッド７２からの再生信号を処理してデータを外部に送ることが可能となっている。また、この磁気記録再生装置が備える磁気ヘッド７２には、再生素子として巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲ素子などを有した、より高記録密度に適した磁気ヘッドを用いることができる。
【０１０６】
上記磁気記録再生装置によれば、上記磁気記録媒体７０に、本発明を適用して製造された高記録密度、高速書き込み、優れた電磁変換特性の磁気記録媒体Ｗを採用することで、優れたハードディスクドライブとすることが可能である。
【実施例】
【０１０７】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【０１０８】
（実施例１）
実施例１では、先ず、洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上にＲｕ層を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を層厚３４ｎｍ成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【０１０９】
次に、上記軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【０１１０】
次に、配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ３Ｒｕ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ６Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｒｕ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ、Ｃｏ１１．５Ｃｒ１３Ｐｔ１０Ｒｕ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜し、実施例１の磁気記録媒体を得た。
【０１１１】
次に、以上の方法で作製した磁気記録媒体を、上記図１及び図２に示す流水式洗浄装置１を用いて洗浄した。具体的には、長さ４０ｃｍ、幅４０ｃｍ、深さ３５ｃｍのＳＵＳ３０４製の洗浄槽２を用い、この洗浄槽２の側壁２ｂ，２ｄには、それぞれ直径１５ｍｍの供給口３及び排出口５が相対向しながら、幅方向に５ｃｍ間隔で７列、高さ方向に５ｃｍ間隔で６列、計４２（＝７×６）つが格子状に並んで配置されて、各々に流量調整バルブ４，６が接続されている。また、洗浄槽２の底面の外側には、周波数９５０ｋＨｚ、出力６００Ｗの超音波発振器７が配置されている。フィルタ９には、０．５ミクロンフィルタ及びイオンフィルタを各１段で使用し、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用した。また洗浄液Ｌの循環ラインには、水素水の発生装置（図示せず）を設けた。
【０１１２】
また、磁気記録媒体Ｗは、１０ｍｍ間隔で主面と直交する方向に１列当たり３９枚として５列（計３９５枚）並べてホルダ５０に保持した後、このホルダ５０を各磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるように洗浄槽２の底面上に配置した。そして、洗浄槽２内の洗浄液Ｌにホルダ５０を浸漬させた状態で、洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流し、この洗浄液Ｌに超音波振動を印加しながら洗浄を行った。
【０１１３】
また、洗浄液Ｌの水温は２３±３℃、洗浄槽２内を層流の状態で流れる洗浄液Ｌの平均流速（被洗浄物を浸漬し、超音波振動を印加した状態での流速）が３ｍ／分となるように、各供給口３及び排出口５に接続された流量調整バルブ４，６の開度を調整しながら、各供給口３及び排出口５を流れる洗浄液Ｌの流量を調整した。
【０１１４】
具体的には、表１に示すように、各供給口３及び排出口５に接続された流量調整バルブ４，６の開度を調整した。なお、表１は、上流側及び下流側の側壁２ｂ，２ｄをそれぞれ洗浄槽２の内側から見たときに、幅方向及び高さ方向に並ぶ４２つの供給口３及び排出口５側のバルブ開度（％）を示したものである。
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
実施例１の洗浄工程は、３段の洗浄槽２を用い、各洗浄槽２には、超純水を用いて調製された溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶの水素水を入れ、さらに１段目の洗浄槽２には、有効成分としてＫＯＨを５ｐｐｍ含むアルカリ洗浄剤を添加した。この３段の洗浄槽２に順に磁気記録媒体を浸漬し、各洗浄槽２で３０秒間の洗浄を行った。洗浄後は磁気記録媒体を速やかにドライエアで乾燥させた。
【０１１７】
次に、この磁気記録媒体の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤膜を厚さ１５オングストロームで形成した。
【０１１８】
次に、潤滑剤を塗布した磁気記録媒体に対してワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度は１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。ワイピング処理に際してワイピングテープにパーフルオロポリエーテルを噴霧し、テープ表面に約０．０１μｍの潤滑剤膜を形成した。
【０１１９】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ加工は、磁気記録媒体の回転数は３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度は１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。
【０１２０】
次に、バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体に対して磁気転写によりサーボ信号等を書き込んだ。具体的には、磁気記録媒体の両データ面に対して、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて、磁気記録媒体を貫通する１０ｋＯｅの磁界を加えながら、初期磁化を施した。
【０１２１】
そして、初期磁化を施した磁気記録媒体の両面にマスター情報担体を９８ｍＮの圧力で密着させ、このマスター情報担体の裏面から記録磁界を印加した。この記録磁界の強度は４ｋＯｅとし、転写時間は１０秒間とした。
【０１２２】
マスター情報担体には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを用いた。なお、このマスター情報担体は、そのトラックが幅１２０ｎｍ、そのトラック間隔が６０ｎｍ、転写パターンの段差が４５ｎｍである。このマスター情報担体は、凸部及び凹部を有するＮｉ基材の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜と、磁性層として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜と、層厚１５ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜とを順次積層した後、その上に、保護層として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜を形成することで作製される。
【０１２３】
上記方法で作製された磁気記録媒体のサーボ信号等の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。この装置では、磁気記録媒体に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができる。この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲを用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価し、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断した。
その結果、実施例１では、１９５０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２４】
（実施例２）
実施例２では、各洗浄槽２の供給口３及び排出口５に接続された流量調整バルブ４，６の開度を全て５０％とした以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、実施例２では、１５１０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２５】
（比較例１）
比較例１では、上記洗浄工程を行わなかった以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例１では、２１０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２６】
（比較例２）
比較例２では、上記洗浄工程を洗浄槽への浸漬ではなく、スピン洗浄で行った。すなわち、磁気記録媒体を２００ｒｐｍで回転させながら超純水を用いて製造した水素水（溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶ、ＫＯＨを０．１ｐｐｍ添加）を１０ｃｃ／秒で噴霧しながら５秒間洗浄し、その後、ＫＯＨを含まない水素水に変えて１０ｃｃ／秒で噴霧しながら３秒間洗浄し、その後、磁気記録媒体を１０００ｒｐｍで回転させてスピン乾燥させた。それ以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例２では、９５０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２７】
（比較例３）
比較例３では、上記洗浄工程において、水素水を用いた３段の洗浄を行ったが、洗浄槽に４面オーバーフロー槽を用いた。具体的には、長さ４０ｃｍ、幅４０ｃｍ、深さ３５ｃｍのＳＵＳ３０４製の洗浄槽の底に設けた２５箇所の供給口から洗浄液を供給し、洗浄に用いられた液を槽の上面から４方向にオーバーフローさせて排出させ、この排出させた洗浄液を実施例１と同様の方法で循環させた。洗浄槽に供給する洗浄液の流量は５リットル／分とした。それ以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例３では、１２１０００回の磁気転写が可能であった。
【符号の説明】
【０１２８】
１…流水式洗浄装置 ２…洗浄槽 ３…供給口 ４…流量調整バルブ（流量調整手段） ５…排出口 ６…流量調整バルブ（流量調整手段） ７…超音波発振器（振動発生手段） ８…ポンプ ９…フィルタ
３１…非磁性基板 ３２…軟磁性下地層 ３２ａ…軟磁性層 ３２ｂ…スペーサ層 ３３…配向制御層 ３４…垂直磁性層 ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ…磁性層 ３５…保護層 ３６…潤滑剤膜 ３７ａ，３７ｂ…非磁性層 ３８…非磁性下地層
７０…磁気記録媒体 ７１…媒体駆動部 ７２…磁気ヘッド ７３…ヘッド駆動部 ７４…記録再生信号処理系
１００…Ｎｉ基材 １００ａ…凸部 １００ｂ…凹部 １０１…磁性層 ２００…非磁性基板 ２０１…磁性層
Ｗ…磁気記録媒体 Ｍ…マスター情報担体 Ｇ…磁界生成手段
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、より詳しくは、磁気転写を行う前に磁気記録媒体を洗浄する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録再生装置の一種であるハードディスク装置（ハードディスクドライブ）は、現在その記録密度が年１．５倍以上で増えており、今後もその傾向は続くと言われている。それに伴って、高記録密度化に適した磁気ヘッド及び磁気記録媒体の開発が進められている。そして、最新の磁気記録装置においては、トラック密度が３２０ｋＴＰＩにも達している。
【０００３】
このため、高いトラック密度を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドをトラック上で正確に走査するために、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。具体的に、現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信号や、アドレス情報信号、再生クロック信号などの情報信号（以下、サーボ信号等という。）が記録されている。そして、磁気ヘッドから一定間隔の時間で再生されるこれらの信号によって、磁気ヘッドの位置を検出しながら、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するように磁気ヘッドの位置を修正する制御が行われている。
【０００４】
したがって、上述したサーボ信号等は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となることから、これらの信号の書き込みには高い位置決め精度が求められる。このため、従来のハードディスクドライブの製造現場では、高精度の位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ信号記録装置（以下、サーボライタという。）を用いて、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込みが行われている。また、サーボライタは、その生産性を高めるために、一つのスピンドルに多数枚の磁気記録媒体をチャッキングし、これらの磁気記録媒体に対して同時にサーボ信号等を書き込む構造となっている。
【０００５】
しかしながら、上述したサーボライタによるサーボ信号等の書き込みには、以下の課題が存在する。すなわち、磁気ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックに亘って信号を書き込むためには、多くの時間がかかり、更に生産性を上げるためには、多くのサーボライタを同時に稼働させる必要がある。しかしながら、導入するサーボライタの数を増やすと、その維持管理に多額のコストがかかることになる。また、スピンドルを長くして同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やすと、回転中にブレが生じ易くなり、磁気記録媒体に対する書き込み精度の低下を招くことになる。したがって、１つのスピンドルにチャッキングできる磁気記録媒体の枚数には自ずと限界がある。そして、これらの課題は、磁気記録媒体のトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻なものとなっている。
【０００６】
そこで、磁気記録媒体へのサーボ信号等の書き込みをサーボライタではなく、全てのサーボ信号等に対応する磁気転写パターンが書き込まれたマスター情報担体を用いて、このマスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００７】
具体的に、この方法では、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、外部から転写用のエネルギーとして磁界を加えながら、マスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に磁気転写する。これにより、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込み作業を短時間で行うことが可能となる。また、このようなマスター情報担体は、繰り返し使用可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−６１６９号公報
【特許文献３】特開２０００−２０３８８９号公報
【特許文献４】特開平１０−１０６２２９号公報
【特許文献５】特開平１１−２７７３３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、上述した磁気転写を行う場合、磁気記録媒体の表面に異常突起等が存在すると、磁気記録媒体とマスター情報担体とを重ね合わせた際に、この異常突起等の噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分が発生し、磁気転写が不完全となるといった問題が発生してしまう。
【００１０】
磁気転写に用いられるマスター情報担体は、非常に高価であるため、磁気記録媒体の製造コストを低減するためには、１枚のマスター情報担体が摩耗等によって破損するまでに転写できる合計の回数（使用回数）を高めることが重要である。
【００１１】
そこで、磁気記録媒体の表面にバーニッシュ処理を施し、表面の突起物や埃等を除去した後に、この磁気記録媒体にマスター情報担体を重ね合わせて磁気転写を行うことによって、マスター情報担体の使用回数を高めることが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。
【００１２】
ここで、磁気記録媒体の製造工程で行われる基板表面等のクリーニングは、洗浄液を用いた湿式クリーニングと、ワイピングテープ等を用いた乾式クリーニングとに大別される。前者の湿式クリーニングは、後者の乾式クリーニングに比べ、クリーニングする能力に優れるものの、洗浄液に含まれる磁気記録媒体から除去された汚れが媒体表面に再付着する場合がある。このため、湿式クリーニングは、例えば上記特許文献３に記載されているように、それほど高い洗浄性が要求されないアルミニウム合金やガラス等の磁気記録媒体用非磁性基板の洗浄に主に用いられている。
【００１３】
また、磁気記録媒体の洗浄に湿式クリーニングが用いられる場合もあるが、磁気記録媒体に含まれるＦｅやＣｏ等の腐食や汚れの再付着を防ぐため、純水を用いた数秒間程度の短時間のスピン洗浄に限られる。また、磁気記録媒体の表面に付着するのは、スパッタダスト等のような粒状物が多く、これらを除去するためには、織布や不織布を用いたワイピングの方が効果的と考えられている。
【００１４】
しかしながら、本発明者らの検討によると、上述した磁気記録媒体の表面に対するバーニッシュ処理や、磁気記録媒体及びマスター情報担体の表面に対する織布等を用いたワイピング処理、湿式洗浄等を行うことによって、それらの表面にある突起物や埃等を除去した場合でも、マスター情報担体が摩耗によって破損に至る前に、転写パターンが不完全となる状況が発生することがわかった。この場合、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計回数を商業生産に適用するのに十分な使用回数まで高めることは依然として困難である。
【００１５】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いて磁気転写を行う場合に、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、マスター情報担体による磁気転写パターンが不完全となるのは、マスター情報担体の表面に付着する金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等が原因であり、これは磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体に少しずつ転写されて蓄積することを解明した。また、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等は、通常のバーニッシュ処理、ワイピング、洗浄等では除去不能なレベルのものであり、これが僅かずつマスター情報担体に蓄積されて、マスター情報担体の凹部に入り込むこと、マスター情報担体の転写面のワイピング等ではこれら物質の除去が困難であることを解明した。さらに、マスター情報担体の凹部に入り込んだ蓄積物がマスター情報担体の凸部を徐々に浸食し、マスター情報担体による転写精度を低下させることを解明した。
【００１７】
そこで、本発明者らは、マスター情報担体を用いて磁気記録媒体に磁気転写を行う前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けることによって、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等を効率良く除去することができ、その結果、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体に転写されることを防止し、このマスター情報担体の使用回数を飛躍的に向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１８】
すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１） 非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（２） 前記洗浄槽内で洗浄液を横方向に流しながら、磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする前項（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（３） 前記洗浄槽に洗浄液を供給する複数の供給口と、前記洗浄槽から洗浄液を排出する複数の排出口とのうち、何れかの供給口及び／又は排出口を流れる洗浄液の流量を調整することによって、前記洗浄槽内の洗浄液が層流の状態で流れるようにすることを特徴とする前項（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４） 前記洗浄液が水素水を含むことを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５） 前記水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、前記水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることを特徴とする（４）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（６） 水素水とアルカリ又はアルカリ洗浄剤とを含む洗浄液を用いて磁気記録媒体の洗浄を行った後に、水素水を含み且つアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まない洗浄液を用いて磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする前項（４）又は（５）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（７） 前記アルカリ又はアルカリ洗浄剤が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのうち少なくとも１種以上を含み、且つ、その洗浄液中の含有濃度を０．０５ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの範囲とすることを特徴とする前項（６）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（８） 前記洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加することを特徴とする前項（１）〜（７）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように、本発明では、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けることで、磁気記録媒体の表面に僅かに残留する金属腐食物等を効率良く除去することが可能である。
【００２０】
したがって、本発明によれば、マスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせた際に、金属腐食物等が磁気記録媒体からマスター情報担体へと転写されることを防止できるため、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を飛躍的に高めることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す断面図である。
【図３】図３は、洗浄槽内に発生する乱流を説明するための断面図である。
【図４】図４は、洗浄槽内に発生する乱流を説明するための平面図である。
【図５】図５は、本発明の磁気転写工程を説明するための断面図である。
【図６】図６は、磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
【図７】図７は、磁気記録再生装置の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２３】
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体から磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程（磁気転写工程という。）を含むものであって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程（媒体洗浄工程という。）を設けたことを特徴とする。
【００２４】
（媒体洗浄工程）
具体的に、本発明の媒体洗浄工程では、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体の湿式洗浄を行う。これにより、磁気記録媒体の表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物を効率よく除去することが可能である。
【００２５】
また、本発明では、洗浄槽内で洗浄液を横方向に流しながら、磁気記録媒体の洗浄を行うことが好ましい。この場合、汚染物質を含む洗浄液を洗浄槽の外へと速やかに排出することができるため、磁気記録媒体の表面に汚染物質が再付着することを防止することが可能である。その結果、従来の方法では得られない清浄な表面を有する磁気記録媒体を得ることが可能である。
【００２６】
ここで、例えば図１及び図２に示すような本発明の媒体洗浄工程で使用される流水式洗浄装置１の一例について説明する。
この流水式洗浄装置１は、上記転写工程の前に、ハードディスクドライブ（磁気記録再生装置）に搭載される磁気記録媒体Ｗを洗浄するのに好適に用いられるものであり、磁気記録媒体Ｗを保持したホルダ５０を洗浄液Ｌに浸漬させて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行う洗浄槽２を備えている。
【００２７】
ホルダ５０には、中心孔が形成された円盤状の磁気記録媒体Ｗが互いに平行な状態で複数並んで保持されている。また、各磁気記録媒体Ｗは、ホルダ５０に設けられた一対の支持プレート５１ａ，５１ｂによって、その中心孔を通る鉛直方向の中心線を挟んだ両側の外周部が支持されている。なお、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂには、各磁気記録媒体Ｗの外周部が係合されるＶ字状の溝部（図示せず。）が設けられている。
【００２８】
各磁気記録媒体Ｗは、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂに支持されることによって、縦置き状態（磁気記録媒体Ｗの主面が鉛直方向と平行となる状態）でホルダ５０に保持されている。そして、このホルダ５０は、各磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるようにして、洗浄槽２の底面上に配置されている。なお、図１では、磁気記録媒体Ｗを１列に５枚並べた状態を図示しているが、実際の例では、直径３．５インチの磁気記録媒体Ｗを約５ｍｍ間隔で１列に５０枚程度並べてホルダ５０に保持している。
【００２９】
洗浄槽２は、長方形を為す底壁２ａと、底壁２ａの周囲から立ち上がる４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅと、底壁２ａと対向する上面の開口部２ｆとを有して、全体が略直方体状に形成されると共に、その内側に上記ホルダ５０が浸漬される略直方体状の浸漬空間Ｓを形成している。
【００３０】
また、洗浄槽２の上流側の側壁２ｂには、洗浄液Ｌを供給する複数の供給口３が設けられている。これら複数の供給口３は、側壁２ｂの幅方向と高さ方向とに所定の間隔で並んで配置されている。また、各供給口３には、流量調整バルブ（流量調整手段）４が接続されており、この流量調整バルブ４の開度を調整することによって、各供給口３から供給される洗浄液Ｌの流量を個別に調整することが可能となっている。
【００３１】
また、洗浄槽２の下流側の側壁２ｄには、洗浄液Ｌを排出する複数の排出口５が設けられている。これら複数の排出口５は、側壁２ｄの幅方向と高さ方向とに所定の間隔で並んで配置されている。また、各排出口５には、流量調整バルブ（流量調整手段）６が接続されており、この流量調整バルブ６の開度を調整することによって、各供給口３から排出される洗浄液Ｌの流量を個別に調整することが可能となっている。
【００３２】
なお、本実施形態において、上記供給口３と上記排出口５とは、それぞれ側壁２ｂ，２ｄの相対向する位置に、幅方向に５ｃｍ間隔で７列、高さ方向に５ｃｍ間隔で６列並んで計４２つ配置されているが、これら供給口３及び排出口５の配置や数、間隔等については、適宜変更して実施することが可能である。
【００３３】
また、洗浄槽２の底壁２ａには、磁気記録媒体Ｗに対する洗浄能力を高めるため、浸漬空間Ｓ内の洗浄液Ｌに超音波振動を印加する超音波発振器（超音波発生手段）７が設けられている。この超音波発振器７は、洗浄槽２の底壁２ａ側から洗浄槽２の洗浄液Ｌに対して、例えば２００ｋＨｚで５００Ｗ程度の超音波振動を印加する。
【００３４】
さらに、この流水式洗浄装置１には、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用するための機構として、排出口５から排出された洗浄液Ｌを吸引し、再び供給口３に圧送するポンプ８と、このポンプ８により圧送された洗浄液Ｌを浄化するフィルタ９とが設けられている。
【００３５】
本発明の媒体洗浄工程では、以上のような構造を有する流水式洗浄装置１を用いて、ホルダ５０に保持された複数の磁気記録媒体Ｗに対する洗浄を行う。具体的に、この流水式洗浄装置１を用いた媒体洗浄工程では、洗浄槽２の浸漬空間Ｓ内で洗浄液Ｌを層流の状態で横方向（水平方向）に流し、洗浄液Ｌに超音波振動を印加しながら、この浸漬空間Ｓ内の洗浄液Ｌに複数の磁気記録媒体Ｗを保持したホルダ５０を浸漬させる。
【００３６】
このとき、洗浄槽２内では、ホルダ５０に保持された各磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行とされて、これら各磁気記録媒体Ｗの間を層流状態の洗浄液Ｌが流れることになる。これにより、各磁気記録媒体Ｗの表面が洗浄液Ｌにより洗浄されて、これら各磁気記録媒体Ｗの表面に付着した塵埃や異物などの他に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物を効率よく除去することが可能である。
【００３７】
また、この流水式洗浄装置１では、洗浄槽２内で洗浄液Ｌを横方向に流しながら、磁気記録媒体Ｗの洗浄を行うため、上述した汚染物質や不純物等を含む洗浄液を洗浄槽２の外へと速やかに排出することが可能である。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面に汚染物質が再付着することを防止することが可能であり、その結果、従来の方法では得られない清浄な表面を有する磁気記録媒体Ｗを得ることが可能である。
【００３８】
ところで、洗浄槽２の底面側から超音波振動を印加した場合には、洗浄槽２内の洗浄液Ｌの液面が盛り上がり、これによって洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌが乱流となり、磁気記録媒体Ｗに対する洗浄能力が低下することが本発明者らの解析によって明らかになった。
【００３９】
具体的に、本発明者らの解析によると、超音波振動を印加しない状態で洗浄槽２内に洗浄液Ｌを層流の状態で流し、その後、超音波振動を印加した場合、洗浄液Ｌの流れは、図３中の矢印の方向で示すように、洗浄槽２の底面側から超音波振動を印加することによって、洗浄槽２内の洗浄液Ｌの液面が盛り上がり、この盛り上がった洗浄液Ｌが四方に分散するものの、この洗浄液Ｌの流れに層流が加わるため、洗浄槽２内に複雑な流れ（乱流）が生じることになる。さらに、図４に示すように、洗浄槽２内に磁気記録媒体Ｗを浸漬した場合には、この洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌが磁気記録媒体Ｗに乱されて乱流となり、この乱流によって磁気記録媒体Ｗに対する洗浄能力が低下することになる。
【００４０】
なお、図３は、洗浄槽２を側面側から見たときに、洗浄槽２内に超音波振動を加えた場合の洗浄液Ｌの流れを表したものである。一方、図４は、洗浄槽２を上面側から見たときに、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌのうち、上層の流れを破線で表し、中層の流れを一点鎖線で表し、下層の流れを二点鎖線で表したものである。
【００４１】
そこで、本発明では、図１及び図２に示すように、上述した流量調整バルブ４，６を制御しながら、何れかの供給口３及び／又は排出口５を流れる洗浄液Ｌの流量を調整し、洗浄液Ｌの流れを乱れのない一様な流れ（層流）となるように、洗浄槽２内における洗浄液Ｌの流れを調整する。
【００４２】
これにより、洗浄槽２内の洗浄液Ｌを乱流の状態から層流の状態で流すことが可能である。特に、本発明では、洗浄液Ｌの供給口３からの供給に加え、洗浄液Ｌの排出口５からの排出も、流量調整バルブ４，６によって流量の制御を行うため、洗浄槽２内の層流の形成をより高い制御性で行うことが可能であり、層流が超音波振動や被洗浄物の配置によって乱されることを防ぐことが可能である。
【００４３】
また、本発明では、上記流水式洗浄装置１のように、洗浄槽２内に流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用することが好ましい。これより、洗浄槽２に供給される洗浄液Ｌと、洗浄槽２から排出される洗浄液Ｌとを量的にバランスさせることが容易となり、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを層流の状態でより安定して流すことが可能となる。
【００４４】
なお、上記流水式洗浄装置１の場合、洗浄槽２の開口部２ｆからの洗浄液Ｌの蒸発等により、洗浄液Ｌが僅かに減少するため、その減少した量の洗浄液Ｌを適宜補充することが好ましい。また、上記流水式洗浄装置１では、洗浄液Ｌと空気との接触によって洗浄液Ｌ中に気泡が混入することを防ぐため、洗浄槽２の開口部２ｆに蓋を設けることも可能である。
【００４５】
また、本発明では、上述したホルダ５０に互いに平行な状態で複数並んで保持された磁気記録媒体Ｗに対して洗浄を行う際に、このホルダ５０に保持された複数の磁気記録媒体Ｗの間隔を、その間を流れる洗浄液Ｌの流水抵抗が増加する範囲まで密とすることが好ましい。
【００４６】
例えば、直径３．５インチ、板厚１．２７ｍｍの円盤状の磁気記録媒体Ｗを洗浄する場合には、基板面の間隔が１０ｍｍ以下となるあたりから、洗浄液の流水抵抗が顕著に増加し始める。
【００４７】
一方、従来の流水式洗浄方法では、洗浄槽２内を流れる洗浄液の層流を安定化させるため、洗浄槽２内に配置する被洗浄物を、各々の間隔を空けて疎に配置し、また洗浄槽内に配置された被洗浄物の周辺に空間を設けることが一般的であった。これは、洗浄槽内での被洗浄物の有無による水流抵抗分布を減らし、洗浄槽内を流れる洗浄液Ｌの層流を安定化させるためである。
【００４８】
これに対して、本発明の流水式洗浄方法では、基板（被洗浄物）Ｗを洗浄槽２内に密に配置することによって、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの水流抵抗を高め、且つ、その状態で供給口３からの洗浄液Ｌの供給と、排出口５からの強制的な洗浄液Ｌの排出によって、強力で均一な層流を形成する。これにより、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの層流を安定化させると共に、この洗浄槽２による洗浄能力を高めることが可能である。
【００４９】
また、本発明では、洗浄槽２の内面と磁気記録媒体Ｗとの最短距離を当該磁気記録媒体Ｗの直径の１倍以下とすることが好ましい。特に、本発明では、被洗浄物として、円盤状を為す磁気記録媒体Ｗを洗浄する場合に、この磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるように磁気記録媒体Ｗを洗浄槽２内に配置し、この洗浄槽２の内面と磁気記録媒体Ｗとの最短距離を当該磁気記録媒体Ｗの直径の１倍以下とすることで、磁気記録媒体Ｗを高精度に効率良く洗浄することが可能となる。
【００５０】
なお、本発明の媒体洗浄工程で用いられる流水式洗浄装置は、上記流水式洗浄装置１の構成に必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００５１】
例えば、上記ホルダ５０は、一対の支持プレート５１ａ，５１ｂにより各磁気記録媒体Ｗの外周部を２点で支持する構成となっているが、このような構成に限らず、各磁気記録媒体Ｗを支持する外周部の位置や点数などについては、適宜変更して実施することが可能であり、例えば各磁気記録媒体Ｗの外周部を３点で支持したり、４点で支持したりすることが可能である。
【００５２】
また、各磁気記録媒体Ｗの外周部を支持する部材についても、上記支持プレート５１ａ，５１ｂのようなものに限定されるものではなく、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを乱さないものであれば、その形状等については適宜変更して実施することが可能である。
【００５３】
本発明の媒体洗浄工程では、上記磁気記録媒体Ｗの洗浄に水素水を含む洗浄液Ｌを用いることが好ましい。これは、磁気記録媒体Ｗの表面にわずかに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄等では除去不能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等の除去を目的とし、この水素水を用いることによりＦｅやＣｏ等を含む磁性層の腐食を低減し、また高い洗浄力でこれらの汚染物質を除去することができるからである。
【００５４】
水素水とは、超純水又は純水に高純度の水素ガスを溶解したものであり、水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。上述したように、磁気記録媒体ＷにはＦｅやＣｏ等の腐食しやすい元素が含まれているため、磁気記録媒体Ｗの洗浄はフッ素化合物等を用いた非水系洗浄液による洗浄に限られていた。本発明では、水素水を含む洗浄液Ｌを用いるため、この洗浄液Ｌによる磁気記録媒体Ｗの腐食が発生しにくく、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した汚染物質を高い洗浄力で除去することが可能となる。特に、本発明では、水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、また、水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることによって、その効果を高めることが可能となる。
【００５５】
また、本発明の媒体洗浄工程は、多段工程としてもよい。具体的には、水素水とアルカリ又はアルカリ洗浄剤とを含む洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行った後に、水素水を含み且つアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まない洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行うことが好ましい。
【００５６】
すなわち、本発明の媒体洗浄工程では、多段とした洗浄工程のうち、水素水を含む洗浄液Ｌによる洗浄工程の後に、水素水を含まない洗浄液Ｌによる洗浄工程を設けることが可能である。これは磁気記録媒体Ｗを水素水により洗浄することにより磁気記録媒体Ｗの表面が腐食しにくくなり、水素水を含まない洗浄液による洗浄での腐食が防止されるためと考えられる。
【００５７】
水素水を用いて磁気記録媒体Ｗを洗浄する場合は、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドなどのアルカリやこれらを含むアルカリ洗浄剤を洗浄液Ｌに加えることによって、その洗浄力を高めることができる。しかしながら、磁気記録媒体Ｗの表面に、これらのアルカリ又はアルカリ洗浄剤が残留すると、これが磁気記録媒体Ｗやマスター情報担体の汚染原因となる。
【００５８】
これを防ぐため、本発明では、上述したアルカリ又はアルカリ洗浄剤の洗浄液Ｌ中の含有濃度を０．０５ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの範囲とすることが好ましい。そして、これらアルカリ又はアルカリ洗浄剤と水素水を含む洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行った後、これらアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まずに水素水を含んだ洗浄液Ｌを用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄を行うことで、磁気記録媒体Ｗの表面にアルカリ又はアルカリ洗浄剤を残留させることなく、この磁気記録媒体Ｗに対する洗浄力を高めることが可能である。そして、洗浄後は、スピン乾燥法やドライエア乾燥法等を用いて磁気記録媒体Ｗを速やかに乾燥させることが好ましい。
【００５９】
以上のようにして、本発明の媒体洗浄工程では、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した塵埃や異物などの他に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物を効率よく除去することが可能である。また、洗浄後に、これらが磁気記録媒体Ｗの表面に再付着することを防止した高度な媒体洗浄を行うことが可能である。その結果、従来の方法では得られない清浄な表面を有する磁気記録媒体Ｗを得ることが可能である。
【００６０】
（磁気転写工程）
磁気転写工程では、上記本発明の媒体洗浄工程によって表面が清浄化された磁気記録媒体Ｗに対してサーボ信号等の書き込み作業を磁気転写によって行う。具体的に、この磁気転写工程では、先ず、磁気記録媒体Ｗの信号記録面を初期磁化する。この初期磁化は、面内磁気記録媒体Ｗの場合は、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行い、垂直磁気記録媒体Ｗの場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。
【００６１】
この初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体Ｗと非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体Ｗの表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００６２】
次に、図５に示すように、初期直流磁界の印加を行った後の磁気記録媒体Ｗの信号記録面と、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍの転写面とを接触させた状態で、互いを所定の押圧力で密着させる。そして、この状態で、マスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて、この磁界生成手段Ｇを相対的にトラック方向Ｘに移動させながら転写用の外部磁界を印加する。この転写用の外部磁界は、上記初期直流磁界とは逆方向となる磁界である。これにより、磁気記録媒体Ｗでは、マスター情報担体Ｍの転写パターンと対向する箇所で磁化反転が生じ、サーボ信号等に対応した磁化パターンが磁気転写により書き込まれることになる。
【００６３】
なお、マスター情報担体Ｍについては、公知の方法によって製造することができる。具体的に、このようなマスター情報担体Ｍを製造する際は、先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。その後、このレジストに対して、電子線露光装置を用いてサーボ信号等に対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストの露光・現像を行った後、未露光部分を除去することによって、シリコンウェハ上に、転写パターンに対応したレジストパターンを形成する。
【００６４】
次に、このレジストパターンをマスクにして、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させて、マスター情報担体を作製するための原盤を得る。
【００６５】
次に、この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度の厚みで形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数ミクロン厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層の洗浄等を行い、表面に凸部１００ａ及び凹部１００ｂが形成されたＮｉ基材１００を得る。
【００６６】
次に、このＮｉ基材１００の表面に磁性層１０１を形成する。この磁性層１０１については、上記磁気記録媒体Ｗに用いられる磁性層と同じものを使用することができる。なお、Ｎｉ基材１００の表面に形成された磁性層１０１のうち、磁気記録媒体Ｗへの磁気転写に用いられるのは凸部１００ａが形成された部分の磁性層１０１であり、凹部１００ａが形成された部分の磁性層１０１は、磁気記録媒体Ｗと接触しないため、磁気転写に用いられない。
【００６７】
さらに、このＮｉ基材１００の表面には、磁気記録媒体Ｗと同様に保護膜（図示せず。）が形成される。この保護膜は、マスター情報担体Ｍの耐摩耗性を高めるためのものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等が用いられる。
以上の工程を経ることによって、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍを得ることができる。
【００６８】
磁界生成手段Ｇは、電磁石や永久磁石によって構成されるものであり、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させ、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させる。そして、この磁界生成手段Ｇは、磁気記録媒体Ｗの半径方向において同一方向の外部磁界を発生させながら、磁気記録媒体Ｗの中心にトラック方向Ｘに回転移動させることが可能となっている。
【００６９】
ここで、ハードディスクドライブに内蔵される磁気記録媒体Ｗは、一般的に非磁性基板２００の両面に磁気層２０１が形成されており、また、１台のハードディスクドライブには、複数枚の磁気記録媒体Ｗが内蔵される場合が多い。このため、ハードディスクドライブでは、複数の磁気ヘッドがスタック構造により一体で移動操作されるが、磁気記録媒体Ｗのトッラク幅は益々狭くなっており、１つの磁気記録媒体Ｗの信号記録面に書き込まれたサーボ信号等を用いて、他の信号記録面における磁気ヘッドの位置決めを行うことはヘッドのスタック構造の精度からは困難となっている。
【００７０】
したがって、本発明の磁気転写工程では、磁気記録媒体Ｗの両面に磁気転写によってサーボ信号等を書き込むことが好ましい。具体的には、磁気記録媒体Ｗの両面を一対のマスター情報担体Ｍで挟み込んだ状態とする。そして、この状態で、これらマスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて転写用の外部磁界を印加する。これにより、磁気記録媒体Ｗの両面にサーボ信号等を書き込むことができる。
【００７１】
また、磁性層２０１の保磁力Ｈｃは、通常は３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上である。したがって、本発明の磁気転写工程では、この磁性層２０１を初期直流磁化した後、磁気記録媒体の両面をマスター情報担体Ｍで挟み込み、磁気転写できる強度の磁界をマスター情報担体Ｍを介して印加して磁気転写を行うことが好ましい。
【００７２】
本発明の磁気転写工程では、上記媒体洗浄工程によって表面が高度に清浄化された磁気記録媒体Ｗに対して磁気転写を行うため、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせた際に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体Ｍに少しずつ転写されて蓄積されることを防止することが可能である。特に、このような蓄積物がマスター情報担体Ｍの転写面の凹部１００ｂに入り込み、凸部１００ａを浸食しながら、磁気記録媒体Ｗに書き込まれる磁化パターンを劣化させることを防止することが可能である。
【００７３】
したがって、本発明によれば、１枚のマスター情報担体Ｍによって繰り返し転写できる合計の回数を飛躍的に高めることが可能であり、その結果、磁気記録媒体の生産コストを大幅に低減することが可能である。
【００７４】
（磁気記録媒体）
次に、本発明を適用して製造される磁気記録媒体Ｗの一例を図６に示す。
この磁気記録媒体Ｗは、図６に示すように、非磁性基板３１上に、スペーサ層３２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層３２ａを含む軟磁性下地層３２と、配向制御層３３と、垂直磁性層３４と、保護層３５と、潤滑剤膜３６とを順次積層した構造を有している。
【００７５】
また、垂直磁性層３４は、下層の磁性層３４ａと、中層の磁性層３４ｂと、上層の磁性層３４ｃとの３層を含み、磁性層３４ａと磁性層３４ｂの間で非磁性層３７ａを、磁性層３４ｂと磁性層３４ｃの間で非磁性層３７ｂを挟み込むことで、これら磁性層３４ａ〜３４ｃと非磁性層３７ａ，３７ｂとが交互に積層された構造を有している。
【００７６】
非磁性基板３１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００７７】
ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００７８】
非磁性基板３１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ(Ｒａ)が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００７９】
また、非磁性基板３１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層３２と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。この場合、非磁性基板３１と軟磁性下地層３２の間に密着層を設けることが好ましく、これにより、これらを抑制することが可能となる。なお、密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００８０】
軟磁性層３２ａ，３２ｃとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、その透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることが好ましい。スペーサ層３２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中で特にＲｕを用いることが好ましい。
【００８１】
配向制御層３３は、垂直磁性層３４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。この配向制御層３３としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、これらの合金を多層化してもよい。例えば、基板側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００８２】
ここで、配向制御層３３の直上にある垂直磁性層３４の初期部には、結晶成長の乱れが生じやすく、これがノイズの原因となる。この場合、配向制御層３３と垂直磁性層３４の間に非磁性下地層３８を設けることが好ましい。この初期部の乱れた部分を非磁性下地層３８で置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。
【００８３】
非磁性下地層３８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。Ｃｒの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００８４】
磁性層３４ａ，３４ｂ，３４ｃとしては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましく、この酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、下層の磁性層３４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００８５】
磁性層３４ａ，３４ｂ，３４ｃに適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などを挙げることができる。
【００８６】
また、本発明では、上記垂直磁性層３４を４層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層３４ａ，３４ｂに加えて、グラニュラー構造の磁性層を３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層３４ｃを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層３４ｃを２層構造として、磁性層３４ａ，３４ｂの上に設けた構成とすることができる。
【００８７】
また、本発明では、垂直磁性層３４を構成する３層以上の磁性層間に非磁性層３７を設けることが好ましい。非磁性層３７を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。
【００８８】
保護層３５は、垂直磁性層３４の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体Ｗに接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのものである。保護層３５には、従来公知の材料を用いることができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが可能である。保護層３５の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが磁気ヘッドと磁気記録媒体Ｗの距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。
【００８９】
潤滑剤膜３６としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層３５上に塗布することによって形成される。
【００９０】
ところで、従来の磁気記録媒体の製造方法では、上述した潤滑剤の塗布工程の後に、ワイピング工程、バーニッシュ工程、磁気転写工程が行われる。これに対して、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法では、上記磁気転写工程の前に上記媒体洗浄工程が行われる。また、上記媒体洗浄工程は、潤滑剤の塗布工程の前に行うことが好ましい。
【００９１】
すなわち、本発明の媒体洗浄工程は、ワイピング工程やバーニッシュ工程では除去できない磁気記録媒体Ｗの表面の汚染物質を除去する目的で行われる。これらの汚染物質は、潤滑剤の塗布工程、ワイピング工程、バーニッシュ工程の後では洗浄除去することが困難となる場合がある。その理由は、推測ではあるが、汚染物質が潤滑剤膜３６に覆われると、その撥水性により除去が困難となること、ワイピング工程、バーニッシュ工程の後では、汚染物質が磁気記録媒体Ｗの表面に塗り込められ、除去しにくくなることが考えられる。
【００９２】
また、上記媒体洗浄工程では、スパッタダスト等の粉状物をある程度除去することが可能であるが、ワイピング工程、バーニッシュ工程のように磁気記録媒体Ｗの表面をスクラブし、ワイプし、また削る効果が低いため、磁気記録媒体Ｗの表面に強固に付着した粉状物を除去することは困難である。したがって、上記媒体洗浄工程は、ワイピング工程、バーニッシュ工程と併用することが好ましい。
【００９３】
ワイピング工程は、例えば特許文献４に記載されているように、布製のワイピングテープ等を用いて行われる。すなわち、このワイピング工程は、ワイピングテープを磁気記録媒体Ｗの表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロール又はパッドによってワイピングテープの表面を磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く拭く工程である。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体Ｗの表面に付着したスパッタダスト等が除去されるので、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００９４】
また、ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物などが用いられる。
【００９５】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体Ｗのワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体Ｗを回転させつつ、この磁気記録媒体Ｗの磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面に付着したスパッタダスト等が拭き取られ、媒体表面が清浄化される。
【００９６】
ワイピングテープは、供給リールと巻取リールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、ワイピングテープの拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、ワイピングテープの拭き面が磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。
【００９７】
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体Ｗの表面にある突起物を除去するため、研磨テープを用いてその表面を研磨する工程である。これにより、ハードディスクドライブでの磁気ヘッドの浮上量をより小さくし、また、上記磁気転写工程で磁気記録媒体Ｗとマスター情報担体Ｍとの間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスター情報担体Ｍが損傷を受けることを防止することができる。
【００９８】
このようなバーニッシュ工程は、例えば特許文献５に記載されているように、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ等を用いて行われる。すなわち、このバーニッシュ工程は、研磨テープをゴム製のコンタクトロールを磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程である。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体Ｗの表面にある異常突起等が除去される。
【００９９】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層を形成してなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体Ｗの表面と接触して摺動することによって、媒体表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その媒体表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その媒体表面が平滑化される。
【０１００】
研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【０１０１】
また、このようなバーニッシュ加工は、磁気記録媒体Ｗを回転させつつ、この磁気記録媒体Ｗの表面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面にある突起が研磨除去され、その媒体表面が平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取リールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、研磨テープの砥粒面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。
【０１０２】
上記磁気転写工程の後は、得られた磁気記録媒体Ｗに対してグライド検査が行われる。グライド検査とは、磁気記録媒体Ｗの表面に突起物が無いかどうか検査する工程である。すなわち、磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体Ｗに対して記録再生を行う際に、磁気記録媒体Ｗの表面に浮上量（媒体と磁気ヘッドの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起に衝突して磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体Ｗに欠陥が発生したりする原因となる。グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【０１０３】
グライド検査をパスした磁気記録媒体Ｗには、通常ではサーティファイ検査が実施される。サーティファイ検査とは、通常のハードディスクドライブの記録再生と同様に、磁気記録媒体Ｗに対して磁気ヘッドで所定の信号を記録した後、その信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体Ｗの記録不能を検出し、磁気記録媒体Ｗの電気特性や欠陥の有無など媒体の品質を確かめるものである。
【０１０４】
本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗは、サーボ信号等が既に書き込まれているため、従来の方式でのサーティファイ検査とは異なる。すなわち、本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗでは、この磁気記録媒体Ｗに磁気転写されたサーボ信号等を用いて、磁気ヘッドを特定箇所に位置づけして読み書きを行う形式の検査を行う。
【０１０５】
（磁気記録再生装置）
次に、本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗを備える磁気記録再生装置（ハードディスクドライブ）の一例を図７に示す。
この磁気記録再生装置は、上記図６に示す本発明を適用して製造された磁気記録媒体７０と、磁気記録媒体７０を回転駆動させる媒体駆動部７１と、磁気記録媒体７０に情報を記録再生する磁気ヘッド７２と、この磁気ヘッド７２を磁気記録媒体７０に対して相対運動させるヘッド駆動部７３と、記録再生信号処理系７４とを備えている。また、記録再生信号処理系７４は、外部から入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド７２に送り、磁気ヘッド７２からの再生信号を処理してデータを外部に送ることが可能となっている。また、この磁気記録再生装置が備える磁気ヘッド７２には、再生素子として巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲ素子などを有した、より高記録密度に適した磁気ヘッドを用いることができる。
【０１０６】
上記磁気記録再生装置によれば、上記磁気記録媒体７０に、本発明を適用して製造された高記録密度、高速書き込み、優れた電磁変換特性の磁気記録媒体Ｗを採用することで、優れたハードディスクドライブとすることが可能である。
【実施例】
【０１０７】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【０１０８】
（実施例１）
実施例１では、先ず、洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上にＲｕ層を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を層厚３４ｎｍ成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【０１０９】
次に、上記軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【０１１０】
次に、配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ３Ｒｕ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ６Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｒｕ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ、Ｃｏ１１．５Ｃｒ１３Ｐｔ１０Ｒｕ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜し、実施例１の磁気記録媒体を得た。
【０１１１】
次に、以上の方法で作製した磁気記録媒体を、上記図１及び図２に示す流水式洗浄装置１を用いて洗浄した。具体的には、長さ４０ｃｍ、幅４０ｃｍ、深さ３５ｃｍのＳＵＳ３０４製の洗浄槽２を用い、この洗浄槽２の側壁２ｂ，２ｄには、それぞれ直径１５ｍｍの供給口３及び排出口５が相対向しながら、幅方向に５ｃｍ間隔で７列、高さ方向に５ｃｍ間隔で６列、計４２（＝７×６）つが格子状に並んで配置されて、各々に流量調整バルブ４，６が接続されている。また、洗浄槽２の底面の外側には、周波数９５０ｋＨｚ、出力６００Ｗの超音波発振器７が配置されている。フィルタ９には、０．５ミクロンフィルタ及びイオンフィルタを各１段で使用し、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用した。また洗浄液Ｌの循環ラインには、水素水の発生装置（図示せず）を設けた。
【０１１２】
また、磁気記録媒体Ｗは、１０ｍｍ間隔で主面と直交する方向に１列当たり３９枚として５列（計３９５枚）並べてホルダ５０に保持した後、このホルダ５０を各磁気記録媒体Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるように洗浄槽２の底面上に配置した。そして、洗浄槽２内の洗浄液Ｌにホルダ５０を浸漬させた状態で、洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流し、この洗浄液Ｌに超音波振動を印加しながら洗浄を行った。
【０１１３】
また、洗浄液Ｌの水温は２３±３℃、洗浄槽２内を層流の状態で流れる洗浄液Ｌの平均流速（被洗浄物を浸漬し、超音波振動を印加した状態での流速）が３ｍ／分となるように、各供給口３及び排出口５に接続された流量調整バルブ４，６の開度を調整しながら、各供給口３及び排出口５を流れる洗浄液Ｌの流量を調整した。
【０１１４】
具体的には、表１に示すように、各供給口３及び排出口５に接続された流量調整バルブ４，６の開度を調整した。なお、表１は、上流側及び下流側の側壁２ｂ，２ｄをそれぞれ洗浄槽２の内側から見たときに、幅方向及び高さ方向に並ぶ４２つの供給口３及び排出口５側のバルブ開度（％）を示したものである。
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
実施例１の洗浄工程は、３段の洗浄槽２を用い、各洗浄槽２には、超純水を用いて調製された溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶの水素水を入れ、さらに１段目の洗浄槽２には、有効成分としてＫＯＨを５ｐｐｍ含むアルカリ洗浄剤を添加した。この３段の洗浄槽２に順に磁気記録媒体を浸漬し、各洗浄槽２で３０秒間の洗浄を行った。洗浄後は磁気記録媒体を速やかにドライエアで乾燥させた。
【０１１７】
次に、この磁気記録媒体の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤膜を厚さ１５オングストロームで形成した。
【０１１８】
次に、潤滑剤を塗布した磁気記録媒体に対してワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度は１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。ワイピング処理に際してワイピングテープにパーフルオロポリエーテルを噴霧し、テープ表面に約０．０１μｍの潤滑剤膜を形成した。
【０１１９】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ加工は、磁気記録媒体の回転数は３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度は１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。
【０１２０】
次に、バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体に対して磁気転写によりサーボ信号等を書き込んだ。具体的には、磁気記録媒体の両データ面に対して、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて、磁気記録媒体を貫通する１０ｋＯｅの磁界を加えながら、初期磁化を施した。
【０１２１】
そして、初期磁化を施した磁気記録媒体の両面にマスター情報担体を９８ｍＮの圧力で密着させ、このマスター情報担体の裏面から記録磁界を印加した。この記録磁界の強度は４ｋＯｅとし、転写時間は１０秒間とした。
【０１２２】
マスター情報担体には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを用いた。なお、このマスター情報担体は、そのトラックが幅１２０ｎｍ、そのトラック間隔が６０ｎｍ、転写パターンの段差が４５ｎｍである。このマスター情報担体は、凸部及び凹部を有するＮｉ基材の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜と、磁性層として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜と、層厚１５ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜とを順次積層した後、その上に、保護層として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜を形成することで作製される。
【０１２３】
上記方法で作製された磁気記録媒体のサーボ信号等の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。この装置では、磁気記録媒体に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができる。この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲを用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価し、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断した。
その結果、実施例１では、１９５０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２４】
（実施例２）
実施例２では、各洗浄槽２の供給口３及び排出口５に接続された流量調整バルブ４，６の開度を全て５０％とした以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、実施例２では、１５１０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２５】
（比較例１）
比較例１では、上記洗浄工程を行わなかった以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例１では、２１０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２６】
（比較例２）
比較例２では、上記洗浄工程を洗浄槽への浸漬ではなく、スピン洗浄で行った。すなわち、磁気記録媒体を２００ｒｐｍで回転させながら超純水を用いて製造した水素水（溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶ、ＫＯＨを０．１ｐｐｍ添加）を１０ｃｃ／秒で噴霧しながら５秒間洗浄し、その後、ＫＯＨを含まない水素水に変えて１０ｃｃ／秒で噴霧しながら３秒間洗浄し、その後、磁気記録媒体を１０００ｒｐｍで回転させてスピン乾燥させた。それ以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例２では、９５０００回の磁気転写が可能であった。
【０１２７】
（比較例３）
比較例３では、上記洗浄工程において、水素水を用いた３段の洗浄を行ったが、洗浄槽に４面オーバーフロー槽を用いた。具体的には、長さ４０ｃｍ、幅４０ｃｍ、深さ３５ｃｍのＳＵＳ３０４製の洗浄槽の底に設けた２５箇所の供給口から洗浄液を供給し、洗浄に用いられた液を槽の上面から４方向にオーバーフローさせて排出させ、この排出させた洗浄液を実施例１と同様の方法で循環させた。洗浄槽に供給する洗浄液の流量は５リットル／分とした。それ以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例３では、１２１０００回の磁気転写が可能であった。
【符号の説明】
【０１２８】
１…流水式洗浄装置 ２…洗浄槽 ３…供給口 ４…流量調整バルブ（流量調整手段） ５…排出口 ６…流量調整バルブ（流量調整手段） ７…超音波発振器（振動発生手段） ８…ポンプ ９…フィルタ
３１…非磁性基板 ３２…軟磁性下地層 ３２ａ…軟磁性層 ３２ｂ…スペーサ層 ３３…配向制御層 ３４…垂直磁性層 ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ…磁性層 ３５…保護層 ３６…潤滑剤膜 ３７ａ，３７ｂ…非磁性層 ３８…非磁性下地層
７０…磁気記録媒体 ７１…媒体駆動部 ７２…磁気ヘッド ７３…ヘッド駆動部 ７４…記録再生信号処理系
１００…Ｎｉ基材 １００ａ…凸部 １００ｂ…凹部 １０１…磁性層 ２００…非磁性基板 ２０１…磁性層
Ｗ…磁気記録媒体 Ｍ…マスター情報担体 Ｇ…磁界生成手段
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄槽内で洗浄液を横方向に流しながら、前記磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄槽に洗浄液を供給する複数の供給口と、前記洗浄槽から洗浄液を排出する複数の排出口とのうち、何れかの供給口及び／又は排出口を流れる洗浄液の流量を調整することによって、前記洗浄槽内の洗浄液が層流の状態で流れるようにすることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄液が水素水を含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、前記水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
水素水とアルカリ又はアルカリ洗浄剤とを含む洗浄液を用いて前記磁気記録媒体の洗浄を行った後に、水素水を含み且つアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まない洗浄液を用いて前記磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする請求項４又は５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記アルカリ又はアルカリ洗浄剤が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのうち少なくとも１種以上を含み、且つ、その洗浄液中の含有濃度を０．０５ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの範囲とすることを特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加することを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】
非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内に磁気記録媒体を浸漬しながら、この磁気記録媒体を洗浄する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄槽内で洗浄液を横方向に流しながら、前記磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄槽に洗浄液を供給する複数の供給口と、前記洗浄槽から洗浄液を排出する複数の排出口とのうち、何れかの供給口及び／又は排出口を流れる洗浄液の流量を調整することによって、前記洗浄槽内の洗浄液が層流の状態で流れるようにすることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄液が水素水を含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、前記水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
水素水とアルカリ又はアルカリ洗浄剤とを含む洗浄液を用いて前記磁気記録媒体の洗浄を行った後に、水素水を含み且つアルカリ又はアルカリ洗浄剤を含まない洗浄液を用いて前記磁気記録媒体の洗浄を行うことを特徴とする請求項４又は５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記アルカリ又はアルカリ洗浄剤が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのうち少なくとも１種以上を含み、且つ、その洗浄液中の含有濃度を０．０５ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの範囲とすることを特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加することを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１１−２２２０６４（Ｐ２０１１−２２２０６４Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８７６４４（Ｐ２０１０−８７６４４）
【出願日】平成２２年４月６日（２０１０．４．６）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月６日（２０１０．４．６）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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