磁気記録媒体をＵＶ処理する方法および装置
【課題】磁気記録媒体の潤滑層の膜厚のバラつきを抑制し、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる方法である。
【解決手段】非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる方法である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体をＵＶ処理する方法および装置に関し、例えばコンピュータの外部記憶装置等に用いられる磁気記録媒体をＵＶ処理する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の保護膜と磁気ヘッドとの間に生ずる摩擦力を減少させ、耐久性および信頼性を向上させる目的のため、これまで磁気記録媒体、特に磁気ディスクに用いられる潤滑剤が開発されてきた。
【０００３】
例えば、磁気ディスクの表面層の潤滑特性を改良するために、従来、表面層にダイヤモンド状カーボン（ＤＬＣ）保護膜を形成し、その保護膜上に水酸基などの有極性末端基または環状トリホスファゼン末端基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑膜を形成することが行われてきた。
【０００４】
保護膜上の潤滑膜は、２種の層に分けられる。一方の層は保護膜と結合した層（以下、ボンド潤滑層という）であり、他方の層は保護膜と結合していない層（以下、自由潤滑層という）である。特性の向上の観点から、潤滑膜として自由潤滑層が薄くボンド潤滑層が厚いものが適しているとされている。
【０００５】
しかしながら、近年の磁気ディスクの高密度化傾向に伴い、潤滑膜特性に対する厳しい要求に応えるには、今後、ボンド潤滑層の膜厚の上限をさらに引き上げることが必要とされる。
【０００６】
加えて、近年のハードディスクドライブの用途は、これまでの屋内で使用されるパソコン用途から、屋外で使用される携帯機器またはカーナビゲーションシステムなどの用途に拡大している。特に、高温高湿環境において、高湿度空気に含まれる水分の凝着現象により、ハードディスクドライブの磁気ヘッドスライダが浮上しにくくなる現象が存在する。そのため、磁気ディスク表面へ、より緻密に潤滑膜を形成することが大きな課題となっている。
【０００７】
この課題を解決する１つの手法として、ボンド潤滑層の膜厚を増加することが提案されており、ボンド潤滑層の膜厚を増加するためには、ボンド潤滑層の形成工程でＵＶ処理を行うことが効果的とされている。このＵＶ処理においては、処理効率の改善と前後工程との関係から、磁気ディスク１枚ずつの処理ではなく磁気ディスクを収納するカセットごと（例えば２５枚の磁気ディスクごと）の処理が要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＷＯ２００７／０２０７２３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、カセットごとの処理を行う場合、装置でＵＶ処理を行うためのＵＶランプハウス下で待機する時間が各磁気ディスクによって異なるため、カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきが出てしまうことが問題となっていた。特に、カセットごとのＵＶ処理方法は、ＵＶランプハウス下で待機中に磁気ディスク出入り口から漏れている間接ＵＶ光の制御ができず、直接ＵＶ光照射以外でボンド潤滑層の形成ができてしまうことがある。この場合、通常のプロセスでは直接ＵＶ光の照射時間しか制御できないため間接ＵＶ光で形成してしまうボンド潤滑層膜厚分を制御することができず、カセット内でのボンド潤滑層膜厚バラつきを制御することができなかった。
【００１０】
そこで、磁気記録媒体のＵＶ処理においてボンド潤滑層膜厚が一定となるような処理方法が必要とされている。
【００１１】
本発明は上述の問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、磁気記録媒体の潤滑層の膜厚のバラつきを抑制し、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体をＵＶ処理する方法は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われることを特徴とする。
【００１３】
或いは、本発明の磁気記録媒体をＵＶ処理する装置は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する装置であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプとＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンとを含み、カセットおよびカーテン間の距離を６ｍｍ以上１３ｍｍ以下としたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、磁気記録媒体の潤滑層の膜厚のバラつきが抑制され、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に好適に使用される装置の一例を示す概略図である。
【図２】磁気記録媒体として直径９５ｍｍの磁気ディスクを用いた場合のカセット内のボンド率のバラつき測定結果を示す。
【図３】磁気記録媒体として直径６５ｍｍの磁気ディスクを用いた場合のカセット内のボンド率のバラつき測定結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の磁気記録媒体をＵＶ処理する方法は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法である。非磁性基体、磁性膜、および保護膜は、通常用いられている非磁性基体、磁性膜、および保護膜を用いることができる。
【００１７】
本発明の方法は、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程を含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる。カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上であるとカセットとカーテンが接触しないという効果が得られ、１３ｍｍ以下であるとＵＶ照射に所有する時間の中に含まれる、磁気ディスクの入れ替えの時間が全体のタクトに影響しないという効果が得られる。
【００１８】
好ましい潤滑剤としては、潤滑剤の主鎖部分に化学式１と化学式２のようにパーフルオロポリエーテルを含み、末端部分Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の少なくとも１つが複数の官能基を有しており、分子量が５００〜１０，０００の間で規定されるものである。
【００１９】
【化１】
【００２０】
(ただし式中ｐおよびｑはそれぞれ正の整数である。)
【００２１】
【化２】
【００２２】
(ただし式中ｒは正の整数である。)
【００２３】
上記記載の末端構造において、官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルデヒド基、１級および２級アミン基、ニトロ基、ニトリル基、イソニトリル基、イソシアナート基、チオール基、スルホ基、複素環のうちいずれか１つまたは複数から選択されることが好ましい。なお、潤滑剤に添加剤を加える場合もあるが、その場合でも本願発明の効果は得られることになる。
【００２４】
図１は、本発明に好適に使用される装置の一例を示す概略図である。図１において、装置１０は、磁気ディスク１２（磁気記録媒体の典型例）、カセット１４、カーテン１６、ＵＶランプハウス１８を有する。磁気ディスク１２は、ＵＶ処理させる対象である。カセット１４は、磁気ディスク１２を収納するものであり、カセット１４ごと装置に搬入されるものである。カーテン１６は、カセット１４に収納した磁気ディスク１２がＵＶランプハウス１８内に入るところである。ＵＶランプハウス１８は、カセット１４に近い側に磁気ディスク１２を出し入れするカーテン１４を取り付けている。
【００２５】
ここで、本発明におけるカセットとカーテンとの間の距離ｄは、図１におけるカセット１４の上端部分とＵＶランプハウス１８のカーテン１６の下端との間の距離としてある。また、直接光は磁気ディスク１２がカセット１４から出てＵＶランプハウス１８内に入っているときに磁気ディスク１２にあたる光であり、間接光は磁気ディスク１２がカセット１４に入ったままでＵＶランプハウス１８内に入っていないときに磁気ディスク１２にあたる光である。ＵＶランプハウス１８の中にＵＶランプ（図示せず）が設置されているため、ＵＶランプハウス１８の中に磁気ディスク１２が入ると直接光によりＵＶ照射されることになる。
【００２６】
こうして、間接ＵＶ光によるボンド潤滑層形成の制御方法として、カセット１４とＵＶランプハウス１８のカーテン１６間の距離を近づけることで磁気ディスク１２に照射される間接ＵＶ光を制御し、直接ＵＶ光のプロセス制御だけで、カセット１４内の磁気ディスク１２のボンド潤滑層膜厚のバラつきを制御する。
【００２７】
本発明は、典型的には保護膜上に潤滑剤を塗布した後、磁気記録媒体をカセット内でＵＶ処理する際に使用され、これにより磁気記録媒体におけるボンド潤滑層の膜厚のバラつきが低減される。
【実施例】
【００２８】
以下本発明の実施例を説明する。なお、実施例は本発明の代表例に過ぎず、本発明は実施例の記載に限定されるものではない。
【００２９】
潤滑剤として末端基に−ＯＨを持つＺ−Ｔｅｔｒａｏｌ（ソルベイ・ソレクシス社製）を用いた。カセットとＵＶランプハウスのカーテンとの間の距離を変えてＵＶ処理を実施し、カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきを調査した。
【００３０】
［磁気記録媒体への塗布および特性評価］
１、サンプル作製‐潤滑剤塗布
プラズマＣＶＤ法で作成した膜厚２．０ｎｍの非晶質カーボン保護膜で覆われた直径６５ｍｍ、９５ｍｍの磁気ディスク基板に対し、上記の潤滑剤混合体をＤｉｐ法により塗布した。具体的には、溶媒としてＶｅｒｔｒｅｌ ＸＦ（三井デュポンフロロケミカル社製）を用いた潤滑剤混合体に磁気ディスク基板を７２秒間浸漬させ、１．５ｍｍ／ｓｅｃの速度で引上げ、その後乾燥させて磁気ディスクを作成した。測定するポジションにディスクを入れ、その他の場所にはダミーディスクを入れ常に２５枚でＵＶ処理ができるような状態にした。塗布後の磁気ディスクのサンプルに対し、１８５ｎｍ／２５４ｎｍの波長を持つ２００ＷのＵＶランプを用いて８秒間ＵＶ処理を行った。
【００３１】
上記手法により作製したサンプルについて、潤滑層の膜厚をフーリエ変換式赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）により測定した。潤滑層の標準膜厚については、トータル膜厚が８．００Å、ボンド潤滑層の膜厚が６．００Å、ボンド率が７５．０％になるように、磁気ディスクを作製した。
【００３２】
ここで、前述に示した「トータル膜厚」、「ボンド潤滑層の膜厚」、「ボンド率」について説明する。
【００３３】
一般に、カーボン表面に存在する官能基と潤滑剤との結合割合は、フッ素系溶媒による洗浄前の潤滑層の膜厚に対するフッ素系溶媒による洗浄後の潤滑層の膜厚の割合として表され、その百分率値が「ボンド率」と呼ばれる。
【００３４】
【数１】
【００３５】
ここで、洗浄前の潤滑層の膜厚が「トータル膜厚」であり、洗浄後の潤滑層の膜厚が「ボンド潤滑層の膜厚」である。「ボンド潤滑層の膜厚」は、実際にカーボン表面と結合している潤滑層の膜厚（量）を表している。
【００３６】
フッ素系溶媒としては、Ｖｅｒｔｒｅｌ ＸＦ（三井デュポンフロロケミカル社製）を用いることが一般的であるため、本評価においてもこの溶媒を用いている。
【００３７】
２、ボンド潤滑層の膜厚評価
前記プロセスにより作製したサンプルに対し、カセットとＵＶランプハウスのカーテンと間の距離を変えてＵＶ処理を行い、ボンド率（カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつき）を測定した。カセットと磁気ディスクとの間の距離は５ｍｍ程度であり、カーテンとＵＶランプとの間の距離は、試作機１、試作機２ともに１．５ｃｍである。
【００３８】
本試験では、各サンプルに対し、図１に示す装置を用いてカセットの高さを変えることで評価を行った。第１表にカセット上端からカーテン下端までの距離を示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
図２は直径６５ｍｍ（２．５”）の磁気ディスクにおけるボンド率を示すグラフであり、図３は直径９５ｍｍ（３．５”）の磁気ディスクにおけるボンド率を示すグラフである。図２および図３のデータを第２表〜第５表に示す
【００４１】
【表２】
【００４２】
【表３】
【００４３】
【表４】
【００４４】
【表５】
【００４５】
カセットとＵＶランプハウスのカーテンと間の距離は、距離１＞距離２、および距離３＞距離４であり、距離１と距離３がよりＵＶランプハウスに近くなっている。
【００４６】
実際の距離は、距離１が３４ｍｍ、距離２が６ｍｍ、距離３が４２ｍｍ、距離４が６ｍｍで評価を行っている。なお、第２〜５表において、２．５”のデータは、改善前を試作機１で改善後も試作機１で距離が６ｍｍになるように調整してデータ取得しており、３．５”では改善前のデータとして試作機１、改善後は試作機２のデータを用いている。
【００４７】
図２のデータでは、距離１でカセット内のボンド率のバラつきが２．４％、距離２では４．６％となっており、距離を近づけることがバラつきの低減に効果があることが言える。また図３でも同様な改善の結果が見られており、距離３ではバラつきが１．７％、距離４では７．１％となっている。これらの結果から、磁気ディスクのサイズに関わらずカセットとＵＶランプハウスのカーテンとの間の距離が近いほど、カセット内のボンド率のバラつき低減に有効である。
【００４８】
例えば、通常使用されている装置の場合、カセット内に収納されている磁気ディスクを１枚ずつ突き上げてＵＶランプハウスに移動して照射が行われている。本発明においては、カセットとＵＶランプハウスのカーテン間の距離を縮めることでＵＶランプハウスにある磁気ディスクの出入り口（カーテン）から漏れている間接ＵＶ光の量を減らし、ＵＶランプハウス下で待機中や処理後の磁気ディスクへ間接ＵＶ光が照射されるのを抑える効果があることが見出された。間接ＵＶ光の照射によるボンド層膜厚の形成は、装置のプロセスからは制御が困難であるため、物理的な抑制が必要であり今回検討したカセットとＵＶランプハウスのカーテン間の距離を近づける方法は、カセットに入っている磁気ディスク全体に均一に同じ光量の間接ＵＶ光を照射することになり、非常に有効な手段と言える。
【００４９】
本発明によって従来技術に比較し、間接ＵＶ光の制御が可能となりカセット内での磁気記録媒体のボンド潤滑層の膜厚のバラつきが低減でき均一な磁気記録媒体の製造が可能となる。
【符号の説明】
【００５０】
１０ 装置
１２ 磁気ディスク
１４ カセット
１６ カーテン
１８ ＵＶランプハウス
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体をＵＶ処理する方法および装置に関し、例えばコンピュータの外部記憶装置等に用いられる磁気記録媒体をＵＶ処理する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の保護膜と磁気ヘッドとの間に生ずる摩擦力を減少させ、耐久性および信頼性を向上させる目的のため、これまで磁気記録媒体、特に磁気ディスクに用いられる潤滑剤が開発されてきた。
【０００３】
例えば、磁気ディスクの表面層の潤滑特性を改良するために、従来、表面層にダイヤモンド状カーボン（ＤＬＣ）保護膜を形成し、その保護膜上に水酸基などの有極性末端基または環状トリホスファゼン末端基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑膜を形成することが行われてきた。
【０００４】
保護膜上の潤滑膜は、２種の層に分けられる。一方の層は保護膜と結合した層（以下、ボンド潤滑層という）であり、他方の層は保護膜と結合していない層（以下、自由潤滑層という）である。特性の向上の観点から、潤滑膜として自由潤滑層が薄くボンド潤滑層が厚いものが適しているとされている。
【０００５】
しかしながら、近年の磁気ディスクの高密度化傾向に伴い、潤滑膜特性に対する厳しい要求に応えるには、今後、ボンド潤滑層の膜厚の上限をさらに引き上げることが必要とされる。
【０００６】
加えて、近年のハードディスクドライブの用途は、これまでの屋内で使用されるパソコン用途から、屋外で使用される携帯機器またはカーナビゲーションシステムなどの用途に拡大している。特に、高温高湿環境において、高湿度空気に含まれる水分の凝着現象により、ハードディスクドライブの磁気ヘッドスライダが浮上しにくくなる現象が存在する。そのため、磁気ディスク表面へ、より緻密に潤滑膜を形成することが大きな課題となっている。
【０００７】
この課題を解決する１つの手法として、ボンド潤滑層の膜厚を増加することが提案されており、ボンド潤滑層の膜厚を増加するためには、ボンド潤滑層の形成工程でＵＶ処理を行うことが効果的とされている。このＵＶ処理においては、処理効率の改善と前後工程との関係から、磁気ディスク１枚ずつの処理ではなく磁気ディスクを収納するカセットごと（例えば２５枚の磁気ディスクごと）の処理が要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＷＯ２００７／０２０７２３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、カセットごとの処理を行う場合、装置でＵＶ処理を行うためのＵＶランプハウス下で待機する時間が各磁気ディスクによって異なるため、カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきが出てしまうことが問題となっていた。特に、カセットごとのＵＶ処理方法は、ＵＶランプハウス下で待機中に磁気ディスク出入り口から漏れている間接ＵＶ光の制御ができず、直接ＵＶ光照射以外でボンド潤滑層の形成ができてしまうことがある。この場合、通常のプロセスでは直接ＵＶ光の照射時間しか制御できないため間接ＵＶ光で形成してしまうボンド潤滑層膜厚分を制御することができず、カセット内でのボンド潤滑層膜厚バラつきを制御することができなかった。
【００１０】
そこで、磁気記録媒体のＵＶ処理においてボンド潤滑層膜厚が一定となるような処理方法が必要とされている。
【００１１】
本発明は上述の問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、磁気記録媒体の潤滑層の膜厚のバラつきを抑制し、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体をＵＶ処理する方法は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われることを特徴とする。
【００１３】
或いは、本発明の磁気記録媒体をＵＶ処理する装置は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する装置であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプとＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンとを含み、カセットおよびカーテン間の距離を６ｍｍ以上１３ｍｍ以下としたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、磁気記録媒体の潤滑層の膜厚のバラつきが抑制され、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に好適に使用される装置の一例を示す概略図である。
【図２】磁気記録媒体として直径９５ｍｍの磁気ディスクを用いた場合のカセット内のボンド率のバラつき測定結果を示す。
【図３】磁気記録媒体として直径６５ｍｍの磁気ディスクを用いた場合のカセット内のボンド率のバラつき測定結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の磁気記録媒体をＵＶ処理する方法は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法である。非磁性基体、磁性膜、および保護膜は、通常用いられている非磁性基体、磁性膜、および保護膜を用いることができる。
【００１７】
本発明の方法は、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程を含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる。カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上であるとカセットとカーテンが接触しないという効果が得られ、１３ｍｍ以下であるとＵＶ照射に所有する時間の中に含まれる、磁気ディスクの入れ替えの時間が全体のタクトに影響しないという効果が得られる。
【００１８】
好ましい潤滑剤としては、潤滑剤の主鎖部分に化学式１と化学式２のようにパーフルオロポリエーテルを含み、末端部分Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の少なくとも１つが複数の官能基を有しており、分子量が５００〜１０，０００の間で規定されるものである。
【００１９】
【化１】
【００２０】
(ただし式中ｐおよびｑはそれぞれ正の整数である。)
【００２１】
【化２】
【００２２】
(ただし式中ｒは正の整数である。)
【００２３】
上記記載の末端構造において、官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルデヒド基、１級および２級アミン基、ニトロ基、ニトリル基、イソニトリル基、イソシアナート基、チオール基、スルホ基、複素環のうちいずれか１つまたは複数から選択されることが好ましい。なお、潤滑剤に添加剤を加える場合もあるが、その場合でも本願発明の効果は得られることになる。
【００２４】
図１は、本発明に好適に使用される装置の一例を示す概略図である。図１において、装置１０は、磁気ディスク１２（磁気記録媒体の典型例）、カセット１４、カーテン１６、ＵＶランプハウス１８を有する。磁気ディスク１２は、ＵＶ処理させる対象である。カセット１４は、磁気ディスク１２を収納するものであり、カセット１４ごと装置に搬入されるものである。カーテン１６は、カセット１４に収納した磁気ディスク１２がＵＶランプハウス１８内に入るところである。ＵＶランプハウス１８は、カセット１４に近い側に磁気ディスク１２を出し入れするカーテン１４を取り付けている。
【００２５】
ここで、本発明におけるカセットとカーテンとの間の距離ｄは、図１におけるカセット１４の上端部分とＵＶランプハウス１８のカーテン１６の下端との間の距離としてある。また、直接光は磁気ディスク１２がカセット１４から出てＵＶランプハウス１８内に入っているときに磁気ディスク１２にあたる光であり、間接光は磁気ディスク１２がカセット１４に入ったままでＵＶランプハウス１８内に入っていないときに磁気ディスク１２にあたる光である。ＵＶランプハウス１８の中にＵＶランプ（図示せず）が設置されているため、ＵＶランプハウス１８の中に磁気ディスク１２が入ると直接光によりＵＶ照射されることになる。
【００２６】
こうして、間接ＵＶ光によるボンド潤滑層形成の制御方法として、カセット１４とＵＶランプハウス１８のカーテン１６間の距離を近づけることで磁気ディスク１２に照射される間接ＵＶ光を制御し、直接ＵＶ光のプロセス制御だけで、カセット１４内の磁気ディスク１２のボンド潤滑層膜厚のバラつきを制御する。
【００２７】
本発明は、典型的には保護膜上に潤滑剤を塗布した後、磁気記録媒体をカセット内でＵＶ処理する際に使用され、これにより磁気記録媒体におけるボンド潤滑層の膜厚のバラつきが低減される。
【実施例】
【００２８】
以下本発明の実施例を説明する。なお、実施例は本発明の代表例に過ぎず、本発明は実施例の記載に限定されるものではない。
【００２９】
潤滑剤として末端基に−ＯＨを持つＺ−Ｔｅｔｒａｏｌ（ソルベイ・ソレクシス社製）を用いた。カセットとＵＶランプハウスのカーテンとの間の距離を変えてＵＶ処理を実施し、カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきを調査した。
【００３０】
［磁気記録媒体への塗布および特性評価］
１、サンプル作製‐潤滑剤塗布
プラズマＣＶＤ法で作成した膜厚２．０ｎｍの非晶質カーボン保護膜で覆われた直径６５ｍｍ、９５ｍｍの磁気ディスク基板に対し、上記の潤滑剤混合体をＤｉｐ法により塗布した。具体的には、溶媒としてＶｅｒｔｒｅｌ ＸＦ（三井デュポンフロロケミカル社製）を用いた潤滑剤混合体に磁気ディスク基板を７２秒間浸漬させ、１．５ｍｍ／ｓｅｃの速度で引上げ、その後乾燥させて磁気ディスクを作成した。測定するポジションにディスクを入れ、その他の場所にはダミーディスクを入れ常に２５枚でＵＶ処理ができるような状態にした。塗布後の磁気ディスクのサンプルに対し、１８５ｎｍ／２５４ｎｍの波長を持つ２００ＷのＵＶランプを用いて８秒間ＵＶ処理を行った。
【００３１】
上記手法により作製したサンプルについて、潤滑層の膜厚をフーリエ変換式赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）により測定した。潤滑層の標準膜厚については、トータル膜厚が８．００Å、ボンド潤滑層の膜厚が６．００Å、ボンド率が７５．０％になるように、磁気ディスクを作製した。
【００３２】
ここで、前述に示した「トータル膜厚」、「ボンド潤滑層の膜厚」、「ボンド率」について説明する。
【００３３】
一般に、カーボン表面に存在する官能基と潤滑剤との結合割合は、フッ素系溶媒による洗浄前の潤滑層の膜厚に対するフッ素系溶媒による洗浄後の潤滑層の膜厚の割合として表され、その百分率値が「ボンド率」と呼ばれる。
【００３４】
【数１】
【００３５】
ここで、洗浄前の潤滑層の膜厚が「トータル膜厚」であり、洗浄後の潤滑層の膜厚が「ボンド潤滑層の膜厚」である。「ボンド潤滑層の膜厚」は、実際にカーボン表面と結合している潤滑層の膜厚（量）を表している。
【００３６】
フッ素系溶媒としては、Ｖｅｒｔｒｅｌ ＸＦ（三井デュポンフロロケミカル社製）を用いることが一般的であるため、本評価においてもこの溶媒を用いている。
【００３７】
２、ボンド潤滑層の膜厚評価
前記プロセスにより作製したサンプルに対し、カセットとＵＶランプハウスのカーテンと間の距離を変えてＵＶ処理を行い、ボンド率（カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつき）を測定した。カセットと磁気ディスクとの間の距離は５ｍｍ程度であり、カーテンとＵＶランプとの間の距離は、試作機１、試作機２ともに１．５ｃｍである。
【００３８】
本試験では、各サンプルに対し、図１に示す装置を用いてカセットの高さを変えることで評価を行った。第１表にカセット上端からカーテン下端までの距離を示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
図２は直径６５ｍｍ（２．５”）の磁気ディスクにおけるボンド率を示すグラフであり、図３は直径９５ｍｍ（３．５”）の磁気ディスクにおけるボンド率を示すグラフである。図２および図３のデータを第２表〜第５表に示す
【００４１】
【表２】
【００４２】
【表３】
【００４３】
【表４】
【００４４】
【表５】
【００４５】
カセットとＵＶランプハウスのカーテンと間の距離は、距離１＞距離２、および距離３＞距離４であり、距離１と距離３がよりＵＶランプハウスに近くなっている。
【００４６】
実際の距離は、距離１が３４ｍｍ、距離２が６ｍｍ、距離３が４２ｍｍ、距離４が６ｍｍで評価を行っている。なお、第２〜５表において、２．５”のデータは、改善前を試作機１で改善後も試作機１で距離が６ｍｍになるように調整してデータ取得しており、３．５”では改善前のデータとして試作機１、改善後は試作機２のデータを用いている。
【００４７】
図２のデータでは、距離１でカセット内のボンド率のバラつきが２．４％、距離２では４．６％となっており、距離を近づけることがバラつきの低減に効果があることが言える。また図３でも同様な改善の結果が見られており、距離３ではバラつきが１．７％、距離４では７．１％となっている。これらの結果から、磁気ディスクのサイズに関わらずカセットとＵＶランプハウスのカーテンとの間の距離が近いほど、カセット内のボンド率のバラつき低減に有効である。
【００４８】
例えば、通常使用されている装置の場合、カセット内に収納されている磁気ディスクを１枚ずつ突き上げてＵＶランプハウスに移動して照射が行われている。本発明においては、カセットとＵＶランプハウスのカーテン間の距離を縮めることでＵＶランプハウスにある磁気ディスクの出入り口（カーテン）から漏れている間接ＵＶ光の量を減らし、ＵＶランプハウス下で待機中や処理後の磁気ディスクへ間接ＵＶ光が照射されるのを抑える効果があることが見出された。間接ＵＶ光の照射によるボンド層膜厚の形成は、装置のプロセスからは制御が困難であるため、物理的な抑制が必要であり今回検討したカセットとＵＶランプハウスのカーテン間の距離を近づける方法は、カセットに入っている磁気ディスク全体に均一に同じ光量の間接ＵＶ光を照射することになり、非常に有効な手段と言える。
【００４９】
本発明によって従来技術に比較し、間接ＵＶ光の制御が可能となりカセット内での磁気記録媒体のボンド潤滑層の膜厚のバラつきが低減でき均一な磁気記録媒体の製造が可能となる。
【符号の説明】
【００５０】
１０ 装置
１２ 磁気ディスク
１４ カセット
１６ カーテン
１８ ＵＶランプハウス
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、
磁気記録媒体を収納するためのカセットと、
磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、
ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、
磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、
磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、
照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる方法。
【請求項２】
非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する装置であって、
磁気記録媒体を収納するためのカセットと、
磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、
ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、
磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンとを含み、
カセットおよびカーテン間の距離を６ｍｍ以上１３ｍｍ以下としたことを特徴とする装置。
【請求項１】
非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、
磁気記録媒体を収納するためのカセットと、
磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、
ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、
磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、
磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、
照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる方法。
【請求項２】
非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する装置であって、
磁気記録媒体を収納するためのカセットと、
磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、
ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、
磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンとを含み、
カセットおよびカーテン間の距離を６ｍｍ以上１３ｍｍ以下としたことを特徴とする装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１３−４１６４３（Ｐ２０１３−４１６４３Ａ）
【公開日】平成２５年２月２８日（２０１３．２．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１７７９２３（Ｐ２０１１−１７７９２３）
【出願日】平成２３年８月１６日（２０１１．８．１６）
【出願人】（０００００５２３４）富士電機株式会社 (3,146)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月２８日（２０１３．２．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月１６日（２０１１．８．１６）
【出願人】（０００００５２３４）富士電機株式会社 (3,146)
【Ｆターム（参考）】
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