【課題】樹脂フィルムに形状変化が生じた場合であっても、樹脂フィルムの凹凸パターンを基板の所望とする位置に合わせることができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂フィルム１１と、前記凹凸パターンが転写されるべき光硬化性樹脂層１６を有する基板１５とを貼り合わせる際に、前記樹脂フィルム１１と前記基板１５とを位置合わせするアライメント方法であって、前記樹脂フィルム１１はその平面形状が多角形であり、前記樹脂フィルム１１の頂点部分は保持せずに辺の縁部を保持して平面方向に伸長する工程を含むことを特徴とするアライメント方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の２価イオンとを含む洗浄液７を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる２価の鉄イオンが酸化されて生成した３価の鉄イオンを紫外線照射２により還元する操作を行う。 （もっと読む）

【課題】記録ディスク媒体の原盤パターン露光のための露光システムのコストを抑制する。
【解決手段】原盤に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する露光装置とその制御装置を含む露光システムにおいて、原盤パターンを描画するための描画データ信号が、複数の波形パターンの組合せからなるものであるとき、制御装置５０に、複数の波形パターンのうち互いに異なる波形パターンを個々の波形データ列として記憶する波形データ記憶部５１、５２と、互いに異なる波形パターンを示す波形データ列により描画データ信号を構成するための波形データ列の出力順序を記憶する出力順記憶部５３、５４とを個別に備え、さらに、波形データ列を出力順序に従って順次、露光装置に送出するデータ処理部５６を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の磁気記録媒体間の潤滑層の膜厚のバラつきを抑制し、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】複数の磁気記録媒体を処理する方法であって、複数の磁気記録媒体の各々が、非磁性基体上に磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含み、複数の磁気記録媒体をＵＶランプで照射する第１の照射工程を含み、複数の磁気記録媒体のうちの一部の磁気記録媒体をＵＶランプで追加的に照射する第２の照射工程を含む方法である。 （もっと読む）

【課題】外周傷の発生を抑えた磁気記録媒体の作製が可能となり、より外周側まで浮上性が安定した磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、磁気記録媒体をＵＶランプで照射するＵＶ照射工程を含み、ＵＶ照射工程が、磁気記録媒体を樹脂で保持した状態で行われる方法である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の潤滑層の膜厚のバラつきを抑制し、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をＵＶ処理する方法であって、磁気記録媒体を収納するためのカセットと、磁気記録媒体をＵＶ処理するためのＵＶランプと、ＵＶランプを収納するためのＵＶランプハウスと、磁気記録媒体をＵＶランプハウスから出し入れする際にＵＶランプハウスの内部を外気から遮蔽するためのカーテンと、を準備する工程と、磁気記録媒体をＵＶランプで照射する照射工程とを含み、照射工程が、カセットおよびカーテン間の距離が６ｍｍ以上１３ｍｍ以下である条件下で行われる方法である。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドスライダの浮上挙動ないし接触挙動を安定化させ、長期間の製品信頼性を維持すること。
【解決手段】非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層され、前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θ_ｒ（°）毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をｆ（ｋＨｚ）、磁気ディスクの回転数をＲ_０（回転/分）としたときに、前記中心角θ_ｒが次式（ａ）：θ_０＝３６０×(Ｒ_０/６０)/(ｆ×１０００)で表される角度θ_０（°）と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスク、前記磁気ディスクを含む磁気ディスク装置及びエネルギー線照射により前記凹凸構造パターンを形成する前記磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査して原盤にパターン描画を行うに際して、ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、その直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、そのデータ信号の一部を破棄して、ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報を正確に読出しできるサーボパターンを形成可能な露光パターンを描画する。
【解決手段】位相サーボパターンＰＳ５の各位相サーボ部のうちの少なくとも１つのパターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂ等の描画時に、これらを構成する露光領域Ａ１および非露光領域Ａ２のうちの回転方向で並ぶ一組の領域Ａ１，Ａ２の各半径位置毎の回転方向に沿った合計長をそれぞれ第１の長さとして、領域Ａ１における回転方向と交差する辺の半径方向に対する交差角度が最大となる半径位置を含む第１の領域内のいずれの半径位置のサーボトラックＳＴにおいても、１つのトラックＳＴにおける第１の長さの範囲内への描画用ビームの総照射量を第１の長さで除した第１の値が、交差角度が最小となる半径位置を含む領域であって半径方向において第１の領域に対して隣接する第２の領域内の各半径位置のトラックＳＴ毎の第１の値の平均よりも大きくなるようにビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】熱によるスタンパの寸法変化が防止され、製造コストが削減されたインプリント装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有するスタンパ５６を、基板５２上に供給された紫外線硬化樹脂材料５４の上に配置し、該スタンパ５６の背面を流体を用いて加圧することにより該スタンパ５６を押圧し、紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化樹脂材料５４を硬化させ、前記基板５２の表面に凹凸パターンを形成するインプリント装置１０において、前記基板５２を保持する保持部材１４と、前記保持部材１４と対向する耐圧体１２と、を有し、前記耐圧体１２は、その底部に前記紫外線硬化樹脂材料５４に紫外線を照射するＬＥＤ１６を備え、且つ前記耐圧体１２の底部と前記保持部材１４とが対向するように配置されていることを特徴とするインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】熱によるスタンパの寸法変化を防止され、製造コストを削減可能なインプリント装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有するスタンパ５６を、基板５２上に供給された紫外線硬化樹脂材料５４の上に配置し、該スタンパ５６の背面を流体を用いて加圧することにより該スタンパ５６を押圧し、紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化樹脂材料５４を硬化させ、前記基板５２の表面に前記凹凸パターンの反転凹凸パターンを形成するインプリント装置１０において、前記基板５２を保持する保持部材１４と、前記保持部材１４と対向する耐圧体１２と、前記紫外線の光源２０と、を有し、前記耐圧体１４はその底部に導光板１６を収容し、該導光板１６は前記保持部材１４と対向して配置されており、前記光源２０から発生した紫外線は、該導光板の側面１６ｂから入射して該導光板１６の前記保持部材１４側から出射し、前記紫外線硬化樹脂材料に照射されることを特徴とするインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】機械強度に優れた微細パターンを有するナノインプリント用スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のナノインプリント用スタンパは，金属および筒状炭素分子を含む突起部を有し，前記金属を含む基体である。ナノインプリント用スタンパの製造方法では，基板上への金属から成る触媒層の形成工程，及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て，ナノインプリント用スタンパが製造される。 （もっと読む）

【課題】高強度かつ適度な柔軟性を有する塗膜を形成可能な磁気記録媒体用結合剤組成物を提供すること。
【解決手段】放射線硬化性官能基含有塩化ビニル系樹脂を含む磁気記録媒体用結合剤樹脂組成物。前記塩化ビニル系樹脂の含有量に対して０．３質量％以上１０質量％以下の下記式（Ａ）で表されるメタクリレート化合物を含む。
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【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Ａと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された基板を作製するにあたって、光によるアライメントマークの検出を可能としつつ、アライメントマークを形成する時間を短縮させる。
【解決手段】基板に対してアライメントマークを形成する際の基板作製方法において、前記基板を覆うようにレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う露光工程と、前記描画又は露光されたレジスト層を現像し、凹凸からなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程後、前記レジストパターンを有する部分における基板の少なくとも一部に対してウェットエッチングを行い、前記一部におけるレジストパターンの凹部よりも大きく、且つ、光を用いて検出可能な大きさを有するアライメントマークを前記基板上に形成するアライメントマーク形成工程と、を有する。 （もっと読む）