説明

磁界発生装置およびその制御方法

【課題】より安全で高精度に、被誘導物の磁気誘導を行うことが可能な、磁界発生装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】上下に配置された2つのコイル11、12と、各コイル11、12に挿通された磁極711、712および磁極711、712に連結されたヨーク721、723と、この2つのヨーク721、723を連結して支持するヨーク722と、該ヨーク722を支持するベース725とを有する、単体で自立する磁界発生基本構造体71を複数個配置した。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、物体内部の磁性体に外部から磁気を作用させて、物体内部の磁性体の誘導を行う磁気誘導装置に適した磁界発生装置およびその制御方法に関する。
【背景技術】
【0002】
物体内部の磁性体を備えた器具あるいは装置を磁気的に誘導する技術は、古くは米国で1960年代から提案されており(特許文献1)、近年もさまざまな新しい提案(例えば特許文献2、3、4)がなされている。
【0003】
物体内部の器具あるいは装置を誘導する装置として、磁気を使用する装置は、被誘導物が基本的には磁性体を備えているという簡単な構造で、ワイヤレスで被誘導物を制御でき、被誘導物の方向制御だけでなく被誘導物に駆動力も与えることができるといった点で、他のアクチュエータでは実現が困難な優れた特長がある。
【0004】
磁気誘導装置に使用される、外部から磁気を作用させる磁界発生装置は、被誘導物を誘導する方法という観点からすると次の2つ以上に分けることができる。ひとつは、固定された磁気発生部、多くの場合、磁気発生部としては1つ以上のコイルを使用した装置で、各磁気発生部で発生する磁気の強さを変化させる装置である。他方は、磁気発生部の位置を変化させることによって被誘導物に作用させる磁界を変化させる装置である。
【0005】
固定された磁気発生部による磁界発生装置では、可動部がないために安心感が得られる、安全性が高いという利点がある。一方、磁気発生部を可動させる装置は、固定された磁気発生部による装置と比較して、使用する磁気発生部が少なくて済むことや、状況に応じて、被誘導物にできるだけ近づけることが可能なために、省エネルギーや装置の低コスト化や装置の軽量化の期待が高い。
【0006】
また、磁気発生部の構造という観点からすると、磁気発生部として空芯コイルを使用する場合と、鉄などの磁性体を挿通させたコイルを使用する場合に、大別することができる。空芯コイルを使用した場合には、比較的軽量な装置で磁界が発生できる、均一な磁界が発生できる、コイル電流と発生磁界がほぼ完全な比例関係にあるために磁界の制御が容易である、という利点がある。一方、鉄などの磁性体を挿通させたコイルを使用した場合は、例えば特許文献3にあるように、鉄などの磁性体があるために、磁界の発生効率が著しく高くなるという利点があり、さらにギャップを形成する2つの鉄などの磁性体のギャップとは反対側の磁極を磁性体で連結すると、ギャップ方向とは反対側の磁極面がなくなり、さらに発生磁界の効率を高めることができ、漏れ磁束を著しく低減できるという利点がある。
【特許文献1】米国特許第3358676号公報
【特許文献2】特開2001-179700号公報
【特許文献3】特開2002-233575号公報
【特許文献4】特開2004-105247号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、複数の鉄などの磁性体を挿通させたコイルを備えた磁界発生装置は、ある程度の重量と体積が必要となるために、製造や組み立ておよび搬入や搬出について、常に機械的強度と安定性を保つことが困難であるという問題点があった。また、隣接する磁極間に磁束が集中しやすく、物体に作用させる磁界がそのために低減しやすいという問題があった。さらに、コイル電流と発生磁界が非直線的な特性であり、また磁束が鉄などの磁性体に集中しやすいという性質から、空芯コイルと比較して、発生させる磁界を予測し、それに伴い精密な磁界の制御を行うことが困難であるという問題があった。同様に、コイル電流と発生磁界が非直線的な特性であり、また磁束が鉄などの磁性体に集中しやすいという性質から、被誘導物の位置や方向の検出に、磁気誘導用の磁界を利用することが、空芯コイルと比較して、なおさら困難であるという問題があった。
【0008】
本発明は、前述した従来困難であった問題を解決する機構を備えた、より安全で高精度に、被誘導物の磁気誘導を行うことが可能な、磁界発生装置およびその制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
前記課題を解決する本発明は、複数の鉄などの磁性体を挿通させたコイルを備えた磁界発生装置を、上下に配置された、鉄などの磁性体を挿通させた2つのコイルと、この2つのコイルを連結して支持する支柱部と、該支柱部を支持するベース部とを有する、単体で自立する磁界発生基本構造体を備え、該磁界発生基本構造体を複数個配置して構成したことを特徴とする。
【0010】
磁界発生基本構造体がn個(nは2以上の整数)から構成される装置の場合、磁界の被作用領域の中心点に対して、隣接する磁界発生基本構造体が互いに360/n度をなすように配置する。
【0011】
また、前記磁界発生基本構造体をn(nは2以上の整数)個備える場合は、各磁界発生基本構造体の上部コイルの中心軸と水平面とのなす角度を約Tan-1(sin180°/n)、下部コイルの中心軸と水平面とのなす角度を約−Tan-1(sin180°/n)とする。
【0012】
各磁界発生基本構造体において、磁性体または支柱部を強磁性体で形成してもよい。
【0013】
前記各コイルに単独で通電したときの磁界分布を、あらかじめ実測したデータを基本として構成されたデータベースとして記憶した記憶手段と、複数のコイルにそれぞれ独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイルに単独で通電したときの電流における磁界分布をベクトル的に加算して近似的に求めるアルゴリズムにより求めて磁界制御する制御手段と、を備える。
【0014】
他の実施形態では、前記制御手段は、前記コイルに任意電流で単独で通電したときの磁界分布を、基準電流において実測した磁界分布に、磁界を作用させる領域の基準位置において実測した、コイル電流と磁界の大きさの関係における任意電流における磁界の大きさと基準電流における磁界の大きさの比率を積算して求めるアルゴリズムを備える。
【0015】
あるいは、前記磁界発生装置は空間的に対称的な複数のコイルを備え、対称性のあるうちの一つのコイルに単独で通電したときの単独磁界分布を、実測データを基本として構築されたデータベースとして前記記憶手段に保持し、前記制御手段は、対称性のある他方のコイルに単独で通電したときの磁界分布は前記単独磁界分布を対称性に応じて補正計算により求めるアルゴリズムを備えてもよい。
【0016】
より実際的には、前記磁界発生基本構造体をn(nは2以上の整数)個備え、各磁界発生基本構造体の上部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約Tan-1(sin180°/n)、下部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約−Tan-1(sin180°/n)に設定され、各コイルに単独で通電したときの磁界分布をあらかじめ実測したデータを基本として構成されたデータベースとして保持した記憶手段と、複数のコイルにそれぞれ単独に独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイルに単独で通電した電流における磁界分布を前記データベースから読み出してベクトル的に加算して近似的に求めるアルゴリズムにより磁界制御する制御手段を備える。
【0017】
または、前記磁界発生基本構造体をn(nは2以上の整数)個備え、各磁界発生基本構造体の上部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約Tan-1(sin180°/n)、下部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約−Tan-1(sin180°/n)に設定され、磁界発生基本構造体のコイル中、対称性のあるコイルの一つに単独で通電したときの単独磁界分布を、実測データを基本として構成されたデータベースとして前記記憶手段に保持し、前記制御手段は、対称性のある他方のコイルに単独で通電したときの磁界分布は前記単独磁界分布を対称性に応じて補正計算により求めるアルゴリズムを備える。
【0018】
あるいは、また、磁界発生基本構造体と磁界発生基本構造体の間に、空間的に非対称な構成となるように、磁性体による連結を一つもしくは複数個備えてもよい。
【0019】
本発明の制御方法は、上下に配置された2つのコイルと、この2つのコイルを連結して支持する支柱部と、該支柱部を支持するベース部とを有する、単体で自立する磁界発生基本構造体を備え、該磁界発生基本構造体が複数個配置された磁界発生装置において、前記各コイルに単独で通電したときの磁界分布を、あらかじめ実測したデータを基本としてデータベースを構築し、前記複数のコイルにそれぞれ独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイルに単独で通電したときの電流における磁界分布をベクトル的に加算して近似演算し、該近似演算した磁界分布に基づいて前記複数のコイルに独立した電流を通電することに特徴を有する。
【発明の効果】
【0020】
本発明によれば、複数の固定された鉄などの磁性体を挿通させたコイルを備えた磁界発生装置で、磁界発生装置の組立作業が容易かつ安全に行えるとともに、製造コストを低減する磁界発生装置を提供することができる。また、磁界発生装置の空間対称性が高いことから、発生磁界を予測することが簡単になり、磁気誘導の制御の精度も向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0021】
以下、本発明にかかる実施形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。図1、図2および図3は、本発明を適用した磁界発生装置を構成するユニットの一つである磁界発生基本構造体の正面図、背面図および平面図である。磁界発生装置は、上下に配置された2つのコイルと、この2つのコイルを連結して支持する支柱部とを備え、かつ単体で自立できる磁界発生基本構造体をn個配置して構成される。
【0022】
図1に詳細を示す磁界発生基本構造体7は、上部に配置された上部コイル11、上部コイル11に挿通された磁性体としての磁極711およびヨーク721と、上部コイル11の下部に配置された下部コイル12、下部コイル12に挿通された磁性体としての磁極712およびヨーク723と、ヨーク721、723を連結する、支柱部としてのヨーク722と、さらにヨーク722が、スペーサベース724を介して固定されたベース725を備えている。これらの各部材は、互いに、ボルトやナットなどを使用して強固に連結される。
【0023】
スペーサベース724は、下部コイル12とベース725とを離反させて、下部コイル12がベース725と干渉することを避けるために設けられている。また、ベース725は、磁界発生基本構造体7が自立するように十分な底面積と形状に形成されている。図示実施例のベース725は、ハの字状に開脚した三角形を呈し、磁界発生基本構造体7の重心を通る鉛直線がこの三角形の略中心を通るように設定してある。
【0024】
なお、ベース725の開脚度、形状は、構成する磁界発生装置の態様に応じて設定される。
【0025】
磁極711、磁極712、ヨーク721およびヨーク723は、素材として純鉄あるいは鉄合金などの強磁性体が使用される。
【0026】
スペーサベース724とベース725を除いた構造体は、ヨーク722の上下方向の中間線について、線対称な構造となっている。ヨーク722は、発生させる磁界の効率を高めるためには、素材として純鉄あるいは鉄合金などの強磁性体を使用することが好ましいが、総重量を軽減するためには、アルミニウムやマグネシウムなどの合金を使用してもよい。スペーサベース724およびベース725は、磁界発生基本構造体の上部コイル11からの発生磁界と、下部コイル12からの発生磁界の対称性を良くするためには、非磁性材で形成することが望ましいが、ヨーク721やヨーク722およびヨーク723の断面積が十分に大きければ、純鉄や鉄合金を材料として使用しても発生磁界に与える影響はほとんどないので、純鉄や鉄合金などの磁性材を使用して形成してもよい。
【0027】
磁界発生基本構造体がn個(ただし、nは2以上の整数)から構成される装置の場合、磁界の被作用領域の中心点に対して、隣接する磁界発生基本構造体が互いに約360/n度をなすように配置することにより、発生磁界の空間対称性を高めることができる。
【0028】
また、さらに空間対称性を高めるためには、上あるいは下および左右に隣接する磁極表面711a、712aの中心点同士の間隔が均等であることが望ましく、その配置は簡単な幾何学的な計算により求めることができる、この条件を満足する、磁界発生基本構造体の上部コイル11の中心軸と水平面とのなす角度を約Tan-1(sin180°/n)、下部コイル12の中心軸と水平面とのなす角度を約−Tan-1(sin180°/n)としている。
【0029】
図4および図5に詳細を示す第1の実施形態である8極磁界発生装置80は、図1乃至図3に示した磁界発生基本構造体7を4個(n=4)組み合わせることによって構成されている。8極磁界発生装置80は、第1の磁界発生基本構造体71から、時計回りに、互いに約90度の角度をなすように、磁界発生基本構造体72、磁界発生基本構造体73、磁界発生基本構造体74が組み合わされて使用される。各磁界発生基本構造体71乃至74の上部、下部コイル11乃至18の中心軸と水平面のなす角度は、約35.3度である。これにより、各磁極711乃至718の表面の中心点と隣接する下部(あるいは上部)と左右の3つの磁極711乃至718の表面の中心点との距離が均等になり、磁極711乃至718に集中しやすい磁束を均等に分散させることができ、8極磁界発生装置80の中心部に強い磁界を発生させやすくなるとともに、後述するように、発生磁界の予測を容易に行うことができるようになる。
【0030】
各磁界発生基本構造体71乃至74の各ベース725は、8極磁界発生装置80の機械的強度の安定性を増すために、補助ベース726で連結することが望ましい。補助ベース726は、各磁界発生基本構造体71乃至74の上部コイル11、13、15、17からの発生磁界と、下部コイル12、14、16、18からの発生磁界の対称性を良くするためには、非磁性材で形成することが望ましいが、ヨーク721、ヨーク722およびヨーク723の断面積が十分に大きければ、純鉄や鉄合金を使用しても発生磁界に与える影響はほとんどないので、純鉄や鉄合金などの磁性材料を使用して形成してもよい。
【0031】
図6および図7に詳細を示す第2の実施形態である6極磁界発生装置81は、磁界発生基本構造体7を3個(n=3)組み合わせることによって構成される。
【0032】
6極磁界発生装置81は、第1の磁界発生基本構造体71から、時計回りに、互いに120度の角度をなすように、第2、第3の磁界発生基本構造体72、73が配置されている。各磁界発生基本構造体71乃至73の上部コイル11、13、15と下部コイル12、14、16の中心軸と水平面のなす角度はそれぞれ、約40.9度である。これにより、各磁極711乃至716の表面の中心点と隣接する下部(あるいは上部)と左右の3つの磁極711乃至716の表面の中心点との距離が均等になり、磁極711乃至716に集中しやすい磁束を均等に分散させることができ、6極磁界発生装置81の中心部に強い磁界を発生させやすくなるとともに、後述するように、発生磁界の予測を容易に行うことができるようになる。
【0033】
被検者51はベッド50に仰臥し、6極磁界発生装置81の中心部に被検者51の被検部位の中央部が位置するようにベッド50によって移動される。この6極磁界発生装置81は、8極磁界発生装置80よりも磁界発生基本構造体の間隔、すなわち間口が広いので、被検者51が仰臥したベッド50の出し入れが容易であり、被検者51の開放感が高まる。
【0034】
各磁界発生基本構造体71乃至73のベース725は、6極磁界発生装置81の機械的強度の安定性を増すために、補助ベース726で連結することが望ましい。補助ベース726は、磁界発生基本構造体71乃至73の上部コイル11、13、15からの発生磁界と、下部コイル12、14、16からの発生磁界の対称性を良くするためには、非磁性材料で形成することが望ましいが、ヨーク721、ヨーク722およびヨーク723の断面積が十分に大きければ、純鉄や鉄合金を材料として使用しても、発生磁界に与える影響はほとんどないので、純鉄や鉄合金などの磁性材料で形成してもよい。
【0035】
図8および図9に詳細を示す第3の実施形態である4極磁界発生装置82は、磁界発生基本構造体7を2個(n=2)組み合わせることによって構成される。4極磁界発生装置82は、磁界発生基本構造体71と対向するように、すなわち、互いに約180度の角度をなすように、磁界発生基本構造体72と組み合わされて使用される。
【0036】
各磁界発生基本構造体71、72のコイル11乃至14の中心軸と水平面のなす角度は、約45.0度である。これにより、各磁極711乃至714の表面の中心点と隣接する下部(あるいは上部)と右(あるいは左)の2つの磁極711乃至714の表面の中心点との距離が均等になり、磁極に集中しやすい磁束を均等に分散させることができ、4極磁界発生装置82の中心部に強い磁界を発生させやすくなるとともに、後述するように、発生磁界の予測を容易に行うことができるようになる。
【0037】
各磁界発生基本構造体71、72のベース725は、4極磁界発生装置82の機械的強度の安定性を増すために、補助ベース726で連結することが望ましい。補助ベース726は、磁界発生基本構造体71、72の上部コイル11、13からの発生磁界と、下部コイル12、14からの発生磁界の対称性を良くするためには、非磁性材で形成することが望ましいが、ヨーク721、ヨーク722およびヨーク723の断面積が十分に大きければ、純鉄や鉄合金を材料として使用しても発生磁界に与える影響はほとんどないので、純鉄や鉄合金などの磁性材を使用して形成してもよい。
【0038】
ところで、空芯コイルの場合には、比較的簡単な計算で、発生磁界を予測することができるし、複数の空芯コイルによる合成磁界も、おのおの単独に空芯コイルに電流を通電した場合の磁界をベクトル合成したものと一致するので、容易に予測することができる。
【0039】
ところが、鉄などの磁性体を挿通させたコイルを使用した、例えば8極磁界発生装置80、6極磁界発生装置81または4極磁界発生装置82の場合には、鉄などの磁性体の磁化率が1よりはるかに大きく、かつそのコイル電流による磁化率の依存性は基本的に非線形であり、さらに鉄などの磁性体の磁化率のコイル依存性は鉄などの磁性体の場所によって異なるために、数値計算によって正確に求めることは困難である。例えば、8個のコイル11乃至18を備えかつ、それぞれのコイルに±100Aまで通電できる装置で、それぞれのコイル11乃至18に電流値を10A刻みで変えながら通電した場合の、任意の電流値の組み合わせにおける磁界分布を実測しようとすれば、10A刻みの分解能でさえ、21の8乗、すなわちおよそ378億通りの電流の組合せにおける磁界分布を測定する必要が発生する。
【0040】
しかしながら、実際に試作した複数の鉄などの磁性体を挿通させたコイルを備えた磁界発生装置による、磁界分布の実測結果では次のことが確認できる。
i) 電流−磁界特性をその位置における最大磁界で規格化した特性は、磁界を作用させる領域の座標に対する依存性が小さく、ほぼ一定の特性と近似できる。
ii) 複数のコイルにそれぞれ異なる電流を同時に通電したときの発生磁界は、それぞれのコイルに単独にコイル電流を通電したときの発生磁界の合成磁界とよく一致する。
【0041】
図10を参照して、i)の事項について、さらに具体的に説明する。図4、図5に示した磁界発生装置において、点Aと点Bについて、コイル11のみにコイル電流を通電したときの通電電流と磁界の大きさの関係を図10(A)に、コイル15のみにコイル電流を通電したときの通電電流と磁界の大きさの関係を図10(B)に示した。これらを、コイル電流100%のときの発生磁界で規格化した特性として、図10(C)にグラフ化して示した。図において、横軸はコイルへの通電電流、縦軸は磁界の大きさを示している。
【0042】
これらのグラフから明らかな通り、いずれの場合も通電電流と磁界の大きさはほぼ同じ特性となる。また、このとき、磁界のベクトルの方向は、コイルの通電電流の大きさに依らず、ほぼ一定である。したがって、鉄などの磁性体を挿通させたコイルを使用した磁界発生装置でも、各コイル単独での一定の電流における磁界分布の測定結果を基本として、磁界のベクトル合成の計算を行うことにより、発生磁界の予測を行うことができる。特に、8極磁界発生装置80、6極磁界発生装置81および4極磁界発生装置82の場合のように、空間的な対称性の高いコイルと磁極の磁界発生装置の場合は、殊更に、発生磁界の予測が容易になる。
【0043】
以下に、8極磁界発生装置80、6極磁界発生装置81または4極磁界発生装置82の場合のように、磁界発生基本構造体71乃至74を対称性よくn個組み合わせた場合における磁界の予測計算方法を説明する。
【0044】
ある一つのコイル(例えば上部コイル11)のみに対して、一定の電流I0を通電したときの、磁界の被作用領域の磁界分布の実測結果を、位置を極座標で表現した関数として、H(r,φ,θ)とあらわすものとする。極座標の原点は、磁界発生装置の(各磁極の対称性の)中心の点とし、φは方位角、θは仰角で水平面となす角度とする。実測結果は座標に対して離散的であるが、測定点間は線形近似して、連続関数として表現したものとする。H自体も極座標で表現することとし、Hの大きさをHabs、単位はOe、Hの方位角をHφ、単位は度、Hの仰角をHθ、単位は度とする。これらも、すべて位置を極座標で表現した関数として、下記式1のようにあらわすものとする。
「式1」
abs(r,φ,θ)
Hφ(r,φ,θ)
Hθ(r,φ,θ)
【0045】
通常の電磁気学における磁界の極座標表現では、Habs(r,φ,θ)、Hφ(r,φ,θ)、Hθ(r,φ,θ)の単位はすべて同じOeであり、1次独立な3つの方向の磁界成分に分解して表現するものであるが、装置の対称性を考慮した計算を行う際には、次のような定義を用いた表現が便利である。
【0046】
3軸のガウスメータなどを用いた直交座標における位置(X,Y,Z)における測定された磁界が(Hx,Hy,Hz)であったとき、Hの大きさHabs、Hの方位角Hφ、Hの仰角Hθは下記式2のようにあらわすことができる。
なお、このとき、X軸の正方向は極座標のφ=0度の方向、Y軸の正方向は極座標のφ=90度の方向、Z軸の正方向は極座標のθ=0度の方向であるものとする。
【0047】
「式2」
r=(X2+Y2+Z21/2
φ=Tan-1(Y/X)
θ=Tan-1{Z/(X2+Y21/2
abs(r,φ,θ)=(Hx2+Hy2+Hz21/2
Hφ(r,φ,θ)=Tan-1(Hy/Hx)
Hθ(r,φ,θ)=Tan-1{Hz/(Hx2+Hy21/2
【0048】
ただし、φは、XおよびYが正であるときには0から90度、Xが負およびYが正であるときには90度から180度、XおよびYが負であるときには180度から270度、Xが正およびYが負であるときには270度から360度の範囲の値をとるものとする。また、Hφは、HXおよびHYが正であるときには0から90度、HXが負およびHYが正であるときには90度から180度、HXおよびHYが負であるときには180度から270度、HXが正およびHYが負であるときには270度から360度の範囲の値をとるものとする。また、θとHθは、−90度から90度の範囲の値をとるものとする。
【0049】
一方、中心点において、ある一つのコイルのみに通電した場合の電流磁界特性を測定し、これを最大磁界で正規化したものをコイル電流の関数g(I)とあらわすものとする。この関数g(I)もまた、コイル電流に対して離散的な実測データを、多項式近似などを用いて、連続関数として表現したものとする。
【0050】
各コイルによる発生磁界の分布を、便宜的に添え字を用いて表現することにする。磁界分布を実測したコイル(例えば上部コイル11)に対する磁界や電流を表現するために使用する添え字を1UPとする。磁界分布を実測したコイル11を備えた磁界発生基本構造体7から、方位角の正方向にある磁界発生基本構造体7に対して順番に、添え字の数字の数を一つずつ加算して表現することとする。また磁界分布を実測したコイル11と上下同方向にあるコイルの添え字をUP、反対方向のコイル(例えば下部コイル12)の添え字をDOWNと表現する。すると各コイルiUPおよびiDOWN(i=1〜n)が単独で発生する磁界の分布は、簡単な対称性の考察から、下記式3を用いて計算により推測することができる。
【0051】
「式3」
iUP abs(r,φ,θ)=Habs(r,φ+(i−1)・360/n,θ)・g(IiUP)/g(I0
iUPφ(r,φ,θ)=Hφ(r,φ+(i−1)・360/n,θ)−(i−1)・360/n
iUPθ(r,φ,θ)=Hθ(r,φ+(i−1)・360/n,θ)
iDOWN abs(r,φ,θ)=Habs(r,φ+(i−1)・360/n,-θ)・g(Ii DOWN)/g(I0
iDOWN φ(r,φ,θ)=Hφ(r,φ+(i−1)・360/n,-θ)−(i−1)・360/n
iDOWN θ(r,φ,θ)=−Hθ(r,φ+(i−1)・360/n,-θ)
【0052】
各コイルにそれぞれI1UPからIN DOWNまで、それぞれ同時に通電したときの磁界分布は、各座標において、上記の各磁界を直交座標表現に変換してから、ベクトル合成することにより、近似演算することができる。
【0053】
図11に、前記近似演算する演算制御系の実施形態をブロックで示した。この実施形態では、例えば各コイル11乃至18を単独で通電したときの磁界分布を実測してその実測データをデータベース化して記憶装置40に蓄積する。そうして複数のコイル11乃至18にそれぞれ独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイル11乃至18に単独で通電した電流における磁界分布を前記データベースから読み出して前記演算式によりベクトル的に加算して、近似的に演算する。この演算は、パソコン等により構成される制御回路30によって実行する。なお制御回路30は、駆動回路31乃至38を介してコイル11乃至18の通電制御も実行する。
【0054】
以上の通り本実施形態によれば、例えば8個のコイル11乃至18を備えかつ、それぞれのコイルに±100Aまで通電できる装置で、任意の電流値の組み合わせにおける磁界分布を予測するためには、予め、例えばコイル11のみに単独で50Aを通電した時における磁界分布と、例えば各磁極の対称性の中心の点におけるコイル11のみに単独に通電した時の電流−磁界特性を実測してデータベース化するだけで済むので、発生磁界の予測を簡単に行うことが可能になり、磁気誘導制御の精度を向上させることができる。
【0055】
また、装置の寸法および組み立て精度あるいは材質の不均一性による誤差を低減するために、あるいは装置の対称性が完全に確保されない場合には、例えば8個のコイル11乃至18を備えかつ、それぞれのコイルに±100Aまで通電できる装置で、任意の電流値の組み合わせにおける磁界分布を予測するためには、予め、例えばそれぞれのコイル11乃至18に電流値を10A刻みで変えながら通電した場合の、8×20=160通りの磁界分布を実測してデータベース化することで発生磁界の予測を簡単に行うことが可能になり、磁気誘導制御の精度を向上させることができる。
【0056】
ところで、磁界発生基本構造体と磁界発生基本構造体の間に補助ベース726のような連結部を設けることは、磁界発生装置の構造力学的な安定性を増加させるために重要である。また、磁界発生基本構造体の支柱の断面積が十分に大きければ、この連結部に鉄系などの強磁性体を用いても、磁気的な対称性を損なうおそれはほとんどない。磁界発生基本構造体間の連結は、構造力学的な安定性を考慮した上で、最低限必要な範囲に収めるような構成とすれば、被磁界発生領域にアクセスするためのより自由な空間が確保できるという利点が生じる。
【0057】
その一方で、磁界発生基本構造体の連結部に強磁性体を使用することで磁界の発生効率に大きく影響する構成の場合には、例えば、被誘導物に作用する重力の影響などを考慮して、上部方向に強い磁界を発生させることが容易な磁界発生装置が必要な場合には、上部方向のみ磁界発生基本構造体の連結部に強磁性体を使用することで、そのような構成を実現することが可能となる。
【0058】
この構成を実現した実施例を図12に示した。この実施例は、4極磁界発生装置の変形例である。この4極磁界発生装置83は、磁界発生基本構造体71と対向するように、すなわち、互いに180度の角度をなすように、磁界発生基本構造体72と組み合わされて使用される。各磁界発生基本構造体71、72の各コイル11乃至14の中心軸と水平面のなす角度は、約45.0度である。これにより、発生磁界の予測を容易に行うことができるようになる。
【0059】
磁極711、磁極712、ヨーク721およびヨーク723は、純鉄あるいは鉄合金などの強磁性体を材料として使用する。また、上部方向に強い磁界を発生させることが容易な構成とするために、ヨーク722は、非磁性ステンレスやアルミニウム合金やチタン合金などの非磁性材料を使用し、一方、ヨーク721や連結ヨーク728は、純鉄あるいは鉄合金などの強磁性体を材料として使用する。
【0060】
各磁界発生基本構造体71、72のベース725は、4極磁界発生装置82の機械的強度の安定性を増すために、補助ベース726で連結することが望ましい。補助ベース726は、やはり、上部方向に強い磁界を発生させることが容易な構成とするために、非磁性材料を用いる。
【0061】
発生磁界の予測は、コイル11を単独で通電したときの磁界分布の実測値と、コイル12を単独で通電したときの磁界分布の実測値を基本として、4極磁界発生装置83の空間的な対称性を考慮して、前記近似演算に倣って演算することで、行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0062】
【図1】本発明の磁界発生装置の実施形態における磁界発生基本構造体の実施例の構成を示す正面図である。
【図2】同磁界発生基本構造体の実施例の背面図である。
【図3】同磁界発生基本構造体の実施例の平面図である。
【図4】同磁界発生基本構造体を4個使用した8極磁界発生装置の実施形態を示す正面図である。
【図5】同8極磁界発生装置の平面図である。
【図6】同磁界発生基本構造体を3個使用した6極磁界発生装置の実施形態を示す正面図である。
【図7】同6極磁界発生装置の平面図である。
【図8】同磁界発生基本構造体を2個使用した4極磁界発生装置の実施形態を示す正面図である。
【図9】同4極磁界発生装置の平面図である。
【図10】8極磁界発生装置の電流−磁界特性をグラフで説明する図であって、(A)は1個の上部コイルに通電した場合の特性、(B)は1個の下部コイルに通電した場合の特性、(C)は(A)、(B)を重ねて示した場合の特性を説明する図である。
【図11】本発明の磁界発生装置の制御系の実施形態の概要をブロックで示す図である。
【図12】本発明の第2実施形態にかかる磁界発生装置を示す正面図である。
【符号の説明】
【0063】
7 磁界発生基本構造体
11 13 15 17 上部コイル
12 14 16 18 下部コイル
71 72 73 74 磁界発生基本構造体
711 磁極
711a 磁極表面
712 磁極
712a 磁極表面
721 ヨーク
722 ヨーク(支柱部)
723 ヨーク
724 スペーサベース
725 ベース
726 補助ベース
80 8極磁界発生装置
81 6極磁界発生装置
82 4極磁界発生装置
83 4極磁界発生装置



【特許請求の範囲】
【請求項1】
上下に配置された、鉄などの磁性体を挿通させた2つのコイルと、
この2つのコイルを連結して支持する支柱部と、
該支柱部を支持するベース部とを有する、単体で自立する磁界発生基本構造体と、を備え、
該磁界発生基本構造体を複数個配置して構成されることを特徴とする磁界発生装置。
【請求項2】
前記磁界発生基本構造体がn個(nは2以上の整数)から構成される装置の場合、磁界の被作用領域の中心点に対して、隣接する磁界発生基本構造体が互いに約360/n度をなすように配置されていることを特徴とする請求項1記載の磁界発生装置。
【請求項3】
前記磁界発生基本構造体をn(nは2以上の整数)個備え、各磁界発生基本構造体の上部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約Tan-1(sin180°/n)、下部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約−Tan-1(sin180°/n)に設定されている請求項1または2記載の磁界発生装置。
【請求項4】
前記磁性体または支柱部が強磁性体で形成されている請求項1乃至3のいずれか一項記載の磁界発生装置。
【請求項5】
前記各コイルに単独で通電したときの磁界分布を、あらかじめ実測したデータを基本としたデータベースを構築して記憶した記憶手段と、複数のコイルにそれぞれ独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイルに単独で通電したときの電流における磁界分布をベクトル的に加算して近似的に求めるアルゴリズムにより求めて磁界制御する制御手段と、を備えた請求項1乃至4のいずれか記載の磁界発生装置。
【請求項6】
前記制御手段は、前記コイルに任意電流で単独で通電したときの磁界分布を、基準電流において実測した磁界分布に、磁界を作用させる領域の基準位置において実測した、コイル電流と磁界の大きさの関係における任意電流における磁界の大きさと基準電流における磁界の大きさの比率を積算して求めるアルゴリズムを備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項記載の磁界発生装置。
【請求項7】
前記磁界発生装置は空間的に対称的な複数のコイルを備え、対称性のあるうちの一つのコイルに単独で通電したときの単独磁界分布を、実測データを基本として構築したデータベースとして前記記憶手段に保持し、前記制御手段は、対称性のある他方のコイルに単独で通電したときの磁界分布を前記単独磁界分布を対称性に応じて補正計算により求めるアルゴリズムを備えることを特徴とする請求項5記載の磁界発生装置。
【請求項8】
前記磁界発生基本構造体をn(nは2以上の整数)個備え、各磁界発生基本構造体の上部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約Tan-1(sin180°/n)、下部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約−Tan-1(sin180°/n)に設定され、各コイルに単独で通電したときの磁界分布をあらかじめ実測したデータを基本として構築されたデータベースとして保持した記憶手段と、複数のコイルにそれぞれ独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイルに単独で通電した電流における磁界分布を前記データベースから読み出してベクトル的に加算して近似的に求めるアルゴリズムにより磁界制御する制御手段を備えた請求項5記載の磁界発生装置。
【請求項9】
前記磁界発生基本構造体をn(nは2以上の整数)個備え、各磁界発生基本構造体の上部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約Tan-1(sin180°/n)、下部コイルの中心軸と水平面とのなす角度が約−Tan-1(sin180°/n)に設定され、磁界発生基本構造体のコイル中、対称性のあるコイルの一つに単独で通電したときの単独磁界分布を、実測データを基本として構築されたデータベースとして前記記憶手段に保持し、前記制御手段は、対称性のある他方のコイルに単独で通電したときの磁界分布を前記単独磁界分布を対称性に応じて補正計算により求めるアルゴリズムを備えることを特徴とする請求項5記載の磁界発生装置。
【請求項10】
請求項1乃至9のいずれか一項に記載の複数の磁界発生基本構造体が空間的に非対称な構成となるように、磁界発生基本構造体と磁界発生基本構造体の間に磁性体による連結を一つまたは複数個備えたことを特徴とする磁界発生装置。
【請求項11】
磁極を2つ備えた磁界発生基本構造体を複数個備えた磁界発生装置において、
空間的に非対称な構成となるように、磁界発生基本構造体と磁界発生基本構造体の間に磁性体による連結を一つまたは複数個備えたことを特徴とする磁界発生装置。
【請求項12】
上下に配置された2つのコイルと、この2つのコイルを連結して支持する支柱部と、該支柱部を支持するベース部とを有する、単体で自立する磁界発生基本構造体を備え、該磁界発生基本構造体が複数個配置された磁界発生装置において、
前記各コイルに単独で通電したときの磁界分布を、あらかじめ実測したデータを基本としてデータベースを構築し、
前記複数のコイルにそれぞれ独立した電流を通電したときに発生する磁界分布を、各コイルに単独で通電したときの電流における磁界分布をベクトル的に加算して近似演算し、
該近似演算した磁界分布に基づいて前記複数のコイルに独立した電流を通電すること、を特徴とする磁界発生装置の制御方法。


【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【公開番号】特開2007−173580(P2007−173580A)
【公開日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−370063(P2005−370063)
【出願日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【出願人】(590001452)国立がんセンター総長 (80)
【出願人】(502336117)株式会社玉川製作所 (10)
【出願人】(000000527)ペンタックス株式会社 (1,878)