筆記板用消去性インキ組成物
【目的】 表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記することができ、得られた筆跡が筆記板の素材に関わらず、筆記直後、長時間放置後、及び多様な環境下にて筆記されても容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物に関する。更には、筆跡を消した後に筆記板上に残る筆跡の痕跡であるゴーストが目立たない筆記板用消去性インキ組成物。
【構成】 長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍ、厚みが０．３〜１．０μｍある無機粒子を含有する筆記板用消去性インキ組成物。
【構成】 長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍ、厚みが０．３〜１．０μｍある無機粒子を含有する筆記板用消去性インキ組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筆記板用消去性インキ組成物に関する。更に、詳細には表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記し、筆跡が筆記板の素材に関わらず、筆記直後、及び長時間放置後でも容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物に関する。更には、筆跡を消去した後に、筆記板上に筆跡の形のままに剥離剤の痕跡が残るいわゆるゴースト現象が目立たない筆記板用消去性インキ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、筆記板用消去性インキ組成物には、顔料と、有機溶剤や水と、該有機溶剤に可溶な樹脂及び消去性付与のための剥離剤との組み合わせからなるものが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、剥離剤として、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルの硫酸エステル及びポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル又はこれらの塩から選ばれる一種又は二種以上と、脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及びポリアルキレングリコールエステル化合物を配合した筆記板用消去性インキ組成物が、特許文献２にはシリコーン系界面活性剤を含む剥離剤と、無水シリカ等の無機質粉末とを含有してなる筆記板用消去性インキ組成物が、特許文献３には、有機溶剤、色材、剥離剤とから少なくともなるインキ組成物において無水シリカを含有する筆記板用消去性インキ組成物が、特許文献４には、一方向の粒径が約１２．１μｍよりも大きいグリッター顔料粒子を含むホワイトボードマーカー用インキにも使用できるインキ組成物が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１２９０８６号公報
【特許文献２】特公平０８−０３２８４５号公報
【特許文献３】特開平１０−０３６７４４号公報
【特許文献４】特表２００７−５０５７７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、引用文献１に記載されているような筆記板用消去性インキ組成物は、樹脂を溶解しない筆記板とのなじみの良い剥離剤を配合して、筆記時の筆跡形成時に筆跡と筆記板面との間に剥離剤層を形成させ筆跡の筆記板上への付着を防止し、消去することができる。しかしながら、樹脂を溶解しない剥離剤からなる筆跡皮膜は硬くなり、軽い荷重で消す為に多量の剥離剤の添加が必要で有り、筆記板とのなじみも良いので、筆記面に剥離剤の痕跡が残るいわゆるゴーストが多量に残り、筆記した内容が容易にわかってしまう。引用文献２、３及び４に記載されているような筆記板用消去性インキ組成物は、溶剤が揮発した後は、使用される粒子により隙間のない緻密な筆跡層を形成するために、筆跡が硬くなり、強い荷重でないと筆跡が消し難くなる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子を含有する筆記板用消去性インキ組成物を要旨とするものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明は、長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子を添加することにより、粒子が複雑に絡み合い、開口した微細な空隙のある筆跡層を形成するので、筆跡層は脆くなり、消去時に軽い荷重で消去が可能となると共に、これら粒子と剥離剤との付着力が大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストを拭き取りやすい。
本発明に使用する長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１.０μｍである無機粒子は大きすぎても小さすぎても好ましくない。例えば、粒子が小さすぎると、筆跡内での粒子同士の絡み合いによる隙間は小さく緻密な筆記層となるので、筆跡を消すのに強い力が必要であが、粒子と剥離剤との付着力が大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは、拭き取り易い。また、粒子が大きすぎると、粒子同士の絡み合いによる隙間が大きくなりすぎる為に、軽い荷重で消去できるものの、粒子と剥離剤との付着力が弱くなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは拭き取りにくくなる。同様に、形状が立方体、または球状形状の粒子を用いた場合は、粒子の隙間が小さい緻密な筆記層を形成するため、筆跡層の強度が強くなり、強い荷重でないと筆跡が消去できなくなるが、粒子と剥離剤との付着力が大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは、拭き取り易い。大きい面を有している粒子は、接地面積が多くなり抵抗が強くなる為、強い荷重でないと筆跡が消去できなくなるが、粒子と剥離剤との付着力は大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは、拭き取り易い。更に、本発明における無機粒子の断面形状は、円、楕円、三角形、正方形、長方形等からなるいかなる形状でも良いが、断面形状の最も長い部分を短径とした粒子のうち本発明の効果のあるものは、長径／短径であらわされる長短度が１０以上のものが好ましい。
【０００７】
尚、本発明でいう長径、短径とは、電子顕微鏡にて観察した時に粒子の長さが最大となるところ計測したものを長径とし、粒子の長径方向に対して直角方向で最も長い径を短径とした。尚、その値は、任意の５箇所を計測したときの平均値である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明に使用する顔料は、着色剤として使用するものであり、従来より公知のアゾ系顔料、縮合ポリアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料、チオインジゴ系顔料などの有機顔料やカーボンブラック、紺青、ベンガラ、酸化チタン等の無機顔料及びアルミニウム粉末、真鍮粉末などの金属粉顔料や、これらの顔料と樹脂粉体とを組み合わせた着色加工粉体、蛍光顔料及びパール顔料などの中から、筆記板用消去性インキ組成物中に微粒子として安定に分散し得るものを適宣選択して用いることができる。特に表面をポリビニルブチラールにて樹脂コーティングした加工顔料は、分散性、経時安定性、作業性及び筆記板用消去性インキ組成物中に他の樹脂を配合しなくとも良いなどの面から好ましく用いることができる。加工顔料の具体例として、フジＡＳブラック８１０、同レッド５７５、同レッド５６８、同ブルー６５０、同グリーン７１０、同グリーン７３７、同オレンジ２００、同オレンジ２５０、同イエロー４５８、同バイオレット９４５、同ホワイト１６５（以上、冨士色素（株）製）、マイクロピグモブラックＡＭＢＫ−２、同レッドＡＭＲＤ−２、同ブルーＡＭＢＥ−２、同グリーンＡＭＧＮ−２、同オレンジＡＭＯＥ−２、同イエローＡＭＹＷ−２、同ピンクＡＭＰＫ−２、同バイオレットＡＭＶＴ−２（以上、オリエント化学工業（株）製）などがある。その使用量は、顔料の種類や他のインキ成分により異なるものの、筆記板用消去性インキ組成物に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。
【０００９】
本発明に使用する低級アルコールは、一般に油性筆記板用消去性インキ組成物に用いられるものを使用することができる、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコール等のアルコール類溶剤の中から選ばれる一種または二種以上の混合溶剤が好適に用いられる。その使用量は、使用する他の成分との混和性を考慮して種々の混合比が決定されるが、筆記板用消去性インキ組成物全量に対して５０〜９０重量％、好ましくは５５〜８５重量％である。
【００１０】
本発明に使用するポリビニルブチラールは、着色剤である顔料の分散を与えると共に、インキへの筆跡皮膜形成能を与える目的で使用する。また、被筆記面への付着性、インキの粘性付与の目的でも使用する。具体的にはエスレックＢＬ−１、同ＢＬ−１Ｈ、同ＢＬ−２、同ＢＬ−２Ｈ、同ＢＬ−５、同ＢＬ−１０、同ＢＬ−Ｓ、同ＢＭ−１、同ＢＭ−２、同ＢＭ−５、同ＢＭ−Ｓ、同ＢＨ−３、同ＢＨ−６、同ＢＨ−Ｓ（以上、積水化学工業（株）製）、デンカブチラール＃２０００−Ｌ、同＃３０００−１、同＃３０００−２、同＃３０００−４、同＃３０００−Ｋ、同＃４０００−１、同＃４０００−２、同＃５０００−Ａ、同＃６０００−Ｃ（以上、電気化学工業（株）製）等が１種又は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜形成せず、顔料の分散安定性も不安定となる。また、使用量が多いと板面への定着が強くなり、インキも高粘度となりインキの吐出不良を生ずるため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。なお、前記顔料が樹脂を用いた加工顔料の場合は、加工顔料中の樹脂にて代替することも可能である。
【００１１】
本発明に使用する消去性を付与する剥離剤は、上記アルコールに可溶であり、ポリビニルブチラール不溶なものであれば特に限定なく使用可能である。具体的には、ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル）、ＤＯＡ（アジピン酸ジ−２エチルヘキシル）、ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル）、ＤＯＳ（セバシン酸ジ２−エチルヘキシル）、ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル）、ＤＯＤＮ（デカン酸ジ２−エチルヘキシル）（以上、田岡化学工業（株）製）等の脂肪族二塩基エステルや、ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル）、ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸イソセチル）、ＩＣＩＳ（イソステアリン酸イソセチル）、ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル）、ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル）（以上、日光ケミカルズ（株）製）等の脂肪族一塩基酸エステルが一種または２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜を消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜にひび割れを生じさせてしまい筆跡が薄く見えてしまう白化現象を生じさせてしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１２】
本発明に使用する長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子は、複雑に絡み合い、開口した微細な空隙のある筆跡層を形成させるために使用するものである。具体的にウィスカルＡ（長径が２０μｍ、短径が１．０μｍ）である炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製）、モスハイジ（長径が１５μｍ、短径が０．７μｍである塩基性硫酸マグネシウム、宇部マテリアルズ（株）製）、ティスモＤ（長径が１５μｍ、短径が０．５μｍであるチタン酸カリウム）、ティスモＮ（長径が１７μｍ、短径が０．４μｍであるチタン酸カリウム）、デントールＷＫ２００Ｂ（長径が１６μｍ、短径が０．６μｍであるチタン酸カリウム）、デントールＷＫ３００Ｒ（長径が１５μｍ、短径が０．５μｍであるチタン酸カリウム）、デントールＷＫ５００（長径が１０μｍ、短径が０．３μｍであるチタン酸カリウム）（以上、大塚化学（株）製）等が１種叉は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．０１〜５重量％、好ましくは０．０５〜２重量％である。使用量が少ないと剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストを拭きとることができない。また、使用量が多いと隙間のない緻密な筆跡層が形成されるため、筆跡層の強度が強くなり、強い荷重でないと筆跡が消去できなくなるため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１３】
更に本配合には筆跡の柔軟性付与の為にポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン２級アルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、及びそれぞれの硫酸エステルや燐酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル等、各種活性剤が１種または２種以上が使用可能である。その使用量は、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％である。
【００１４】
以上に示した成分以外に必要に応じて、防腐剤、防黴剤、湿潤剤、粘度調整剤、凍結防止剤、ペン先乾燥防止剤、消泡剤、可塑剤、各種活性剤、樹脂の溶解性を妨げない程度の有機溶剤など、種々の添加剤を適宣選択して使用することができる。
【００１５】
本発明の筆記板用消去性インキ組成物の製造方法は、上記せる各成分を必要量混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速撹拌機や、ボールミル、サンドミルまたはビーズミル等の分散機にて混合・分散することにより容易に得ることができる。
【００１６】
以下、実施例に基づき本発明を説明するが、本発明は実施例のみに限定されるものではない。
【実施例】
【００１７】
（実施例１）
フジ ＡＳ ブラック ８１０（ポリビニルブチラールで黒色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（エチルアルコール８５．５％・イソプロピルアルコール１３．４％・アセトン１．１％の混合溶液、日本アルコール販売（株）製） ５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．５部
ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−２（ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） ２．０部
ＤＯＤＮ（デカン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）製） ２．０部
ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル、日光ケミカルズ（株）製） ５．０部
ウィスカルＡ（長径が２０μｍ、短径が１．０μｍ、厚みが１．０μｍである炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製） ０．５部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００１８】
（実施例２）
フジ ＡＳ レッド ５６８（ポリビニルブチラールで赤色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ６．５部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５５．０部
イソブチルアルコール ３１．７部
ＢＤ−２（ポリオキシエチレン（２）合成アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）
１．５部
ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル、日光ケミカルズ（株）製） ５．０部
ウィスカルＡ（前述） ０．３部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、赤色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００１９】
（実施例３）
フジ ＡＳ ブルー ６５０（ポリビニルブチラールで青色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．０部
ＢＴ−３（ポリオキシエチレン（２）２級アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）製）
２．０部
ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル、田岡化学工業（株）） ７．０部
ウィスカルＡ（前述） １．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２０】
（実施例４）
フジ ＡＳ グリーン ７３７（ポリビニルブチラールで緑色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−プロピルアルコール ３５．５部
ＰＢＣ−３１（ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（４）セチルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） １．０部
ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）） ２．０部
ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル、日光ケミカルズ（株））製） ４．０部
ウィスカルＡ（前述） ０．５部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌して、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２１】
（実施例５）
フジ ＡＳ オレンジ ２５０（ポリビニルブチラールで橙色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−ブチルアルコール ３３．３部
フォスファノールＬＳ−５００（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、東邦化学工業（株）製） ２．０部
ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル、田岡化学工業（株）） ４．０部
ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸２−エチルヘキシル、日光ケミカルズ（株）製）
３．０部
ウィスカルＡ（前述） ０．７部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２２】
（実施例６）
実施例１においてウィスカルＡ（前述）０．５部を、モスハイジ（長径が１５μｍ、短径が０．７μｍ、厚みが０．７μｍである塩基性硫酸マグネシウム、宇部マテリアルズ（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２３】
（実施例７）
実施例２においてウィスカルＡ（前述）０．３部を、ティスモＤ（長径が１５μｍ、短径が０．５μｍ、厚みが０．５μｍであるチタン酸カリウム、大塚化学（株）製））０．３部に変えた以外は、実施例２と同様にして、赤色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２４】
（実施例８）
実施例３においてウィスカルＡ（前述）１．０部を、デントールＷＫ２００Ｂ（長径が１６μｍ、短径が０．６μｍ、厚みが０．６μｍであるチタン酸カリウムの、大塚化学（株）製）１．０部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２５】
（実施例９）
実施例４においてウィスカルＡ（前述）０．５部を、デントールＷＫ５００（長径が１０μｍ、短径が０．３μｍ、厚みが０．３μｍであるたチタン酸カリウム、大塚化学（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２６】
（実施例１０）
実施例５においてウィスカルＡ（前述）０．７部を、ティスモＮ（長径が１７μｍ、短径が０．４μｍ、厚みが０．４μｍである柱体形状をしたチタン酸カリウム、大塚化学（株）製）０．７部に変えた以外は、実施例５と同様にして、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２７】
（比較例１）
実施例１のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、イソプロピルアルコールを３２．９部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２８】
（比較例２）
実施例３のウィスカルＡ（前述）１．０部を除き、ケミスノーＭＸ−５００（平均粒子径５．０μｍの球状形状をした架橋アクリル粉体、綜研化学（株）製）１．０部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２９】
（比較例３）
実施例４のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、アルミフレーク＃５（アルミニウム箔に、変性アクリルタイプの樹脂で着色した長径が７０μｍ、短径が５０μｍ、厚みが１２μｍであるグリッター顔料、堀金箔粉（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３０】
（比較例４）
実施例５のウィスカルＡ（前述）０．７部を除き、ＦＴＬ−１００（長径が１．６８μｍ、短径が０．１３μｍ、厚さが０．１３μｍである酸化チタン、石原産業（株）製）０．７部に変えた以外は、実施例５と同様にして、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３１】
（比較例５）
実施例１のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、マグチューブ（長径が１０μｍ、短径が２μｍ、厚みが２μｍである塩基性炭酸マグネシウム、日鉄鉱業（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例６と同様にして、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３２】
（比較例６）
実施例２のウィスカルＡ（前述）０．３部を除き、エコーマグＰＺ−１（長径が２．０μｍ、短径が１．０μｍ、厚みが１．０μｍである水酸化マグネシウム、タテホ化学工業（株）製）０．３部に変えた以外は、実施例２と同様にして、赤色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３３】
（比較例７）
実施例３のウィスカルＡ（前述）1．０部を除き、ケミスノーＭＸ−１５０（平均粒子径１．５μｍの球状形状をした架橋アクリル粉体、綜研化学（株）製）１．０部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３４】
（比較例８）
実施例４のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、軽質炭酸カルシウム（長径が２．０μｍ、短径が０．４μｍ、厚みが０．４μｍである炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３５】
（比較例９）
実施例５のウィスカルＡ（前述）０．７部を除き、重質炭酸カルシウム（長径が１２μｍ、短径が１２μｍ、厚みが１２μｍである炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製）０．７部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３６】
実施例１〜１０及び比較例１〜９にて作成したインキを用いて塗布具（ＥＭＷＬＭ、ぺんてる製）に充填し、これをサンプルとして用いて試験１〜５を実施した。結果を表１に示す。
【００３７】
試験１
筆跡の消去性１（初期消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、２０℃６０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（品名ＦＢ−３２ＷＣ、コクヨ（株）製）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（品名キムワイプ Ｓ−２００、（株）クレシア製）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００３８】
試験２
筆跡の消去性２（経時消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（上記）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して室温にて１ヶ月放置後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００３９】
試験３
消し跡の剥離剤の痕跡除去性（ゴースト除去性）
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（前述）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで面塗りして１分後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１０００ｇの重りをのせて筆跡を消去した後、更に往復させて筆記板上に消し跡の痕跡であるゴーストが目立たなくなるまでの回数を確認した。
【００４０】
【表１】
【００４１】
以上、詳細に説明したように本発明における筆記板用消去性インキ組成物は、その筆跡を容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物において、筆跡を消去した後、筆記板上に筆跡の痕跡であるゴーストが目立たない筆記板用消去性インキ組成物である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筆記板用消去性インキ組成物に関する。更に、詳細には表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記し、筆跡が筆記板の素材に関わらず、筆記直後、及び長時間放置後でも容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物に関する。更には、筆跡を消去した後に、筆記板上に筆跡の形のままに剥離剤の痕跡が残るいわゆるゴースト現象が目立たない筆記板用消去性インキ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、筆記板用消去性インキ組成物には、顔料と、有機溶剤や水と、該有機溶剤に可溶な樹脂及び消去性付与のための剥離剤との組み合わせからなるものが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、剥離剤として、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルの硫酸エステル及びポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル又はこれらの塩から選ばれる一種又は二種以上と、脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及びポリアルキレングリコールエステル化合物を配合した筆記板用消去性インキ組成物が、特許文献２にはシリコーン系界面活性剤を含む剥離剤と、無水シリカ等の無機質粉末とを含有してなる筆記板用消去性インキ組成物が、特許文献３には、有機溶剤、色材、剥離剤とから少なくともなるインキ組成物において無水シリカを含有する筆記板用消去性インキ組成物が、特許文献４には、一方向の粒径が約１２．１μｍよりも大きいグリッター顔料粒子を含むホワイトボードマーカー用インキにも使用できるインキ組成物が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１２９０８６号公報
【特許文献２】特公平０８−０３２８４５号公報
【特許文献３】特開平１０−０３６７４４号公報
【特許文献４】特表２００７−５０５７７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、引用文献１に記載されているような筆記板用消去性インキ組成物は、樹脂を溶解しない筆記板とのなじみの良い剥離剤を配合して、筆記時の筆跡形成時に筆跡と筆記板面との間に剥離剤層を形成させ筆跡の筆記板上への付着を防止し、消去することができる。しかしながら、樹脂を溶解しない剥離剤からなる筆跡皮膜は硬くなり、軽い荷重で消す為に多量の剥離剤の添加が必要で有り、筆記板とのなじみも良いので、筆記面に剥離剤の痕跡が残るいわゆるゴーストが多量に残り、筆記した内容が容易にわかってしまう。引用文献２、３及び４に記載されているような筆記板用消去性インキ組成物は、溶剤が揮発した後は、使用される粒子により隙間のない緻密な筆跡層を形成するために、筆跡が硬くなり、強い荷重でないと筆跡が消し難くなる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子を含有する筆記板用消去性インキ組成物を要旨とするものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明は、長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子を添加することにより、粒子が複雑に絡み合い、開口した微細な空隙のある筆跡層を形成するので、筆跡層は脆くなり、消去時に軽い荷重で消去が可能となると共に、これら粒子と剥離剤との付着力が大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストを拭き取りやすい。
本発明に使用する長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１.０μｍである無機粒子は大きすぎても小さすぎても好ましくない。例えば、粒子が小さすぎると、筆跡内での粒子同士の絡み合いによる隙間は小さく緻密な筆記層となるので、筆跡を消すのに強い力が必要であが、粒子と剥離剤との付着力が大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは、拭き取り易い。また、粒子が大きすぎると、粒子同士の絡み合いによる隙間が大きくなりすぎる為に、軽い荷重で消去できるものの、粒子と剥離剤との付着力が弱くなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは拭き取りにくくなる。同様に、形状が立方体、または球状形状の粒子を用いた場合は、粒子の隙間が小さい緻密な筆記層を形成するため、筆跡層の強度が強くなり、強い荷重でないと筆跡が消去できなくなるが、粒子と剥離剤との付着力が大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは、拭き取り易い。大きい面を有している粒子は、接地面積が多くなり抵抗が強くなる為、強い荷重でないと筆跡が消去できなくなるが、粒子と剥離剤との付着力は大きくなる為、剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストは、拭き取り易い。更に、本発明における無機粒子の断面形状は、円、楕円、三角形、正方形、長方形等からなるいかなる形状でも良いが、断面形状の最も長い部分を短径とした粒子のうち本発明の効果のあるものは、長径／短径であらわされる長短度が１０以上のものが好ましい。
【０００７】
尚、本発明でいう長径、短径とは、電子顕微鏡にて観察した時に粒子の長さが最大となるところ計測したものを長径とし、粒子の長径方向に対して直角方向で最も長い径を短径とした。尚、その値は、任意の５箇所を計測したときの平均値である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明に使用する顔料は、着色剤として使用するものであり、従来より公知のアゾ系顔料、縮合ポリアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料、チオインジゴ系顔料などの有機顔料やカーボンブラック、紺青、ベンガラ、酸化チタン等の無機顔料及びアルミニウム粉末、真鍮粉末などの金属粉顔料や、これらの顔料と樹脂粉体とを組み合わせた着色加工粉体、蛍光顔料及びパール顔料などの中から、筆記板用消去性インキ組成物中に微粒子として安定に分散し得るものを適宣選択して用いることができる。特に表面をポリビニルブチラールにて樹脂コーティングした加工顔料は、分散性、経時安定性、作業性及び筆記板用消去性インキ組成物中に他の樹脂を配合しなくとも良いなどの面から好ましく用いることができる。加工顔料の具体例として、フジＡＳブラック８１０、同レッド５７５、同レッド５６８、同ブルー６５０、同グリーン７１０、同グリーン７３７、同オレンジ２００、同オレンジ２５０、同イエロー４５８、同バイオレット９４５、同ホワイト１６５（以上、冨士色素（株）製）、マイクロピグモブラックＡＭＢＫ−２、同レッドＡＭＲＤ−２、同ブルーＡＭＢＥ−２、同グリーンＡＭＧＮ−２、同オレンジＡＭＯＥ−２、同イエローＡＭＹＷ−２、同ピンクＡＭＰＫ−２、同バイオレットＡＭＶＴ−２（以上、オリエント化学工業（株）製）などがある。その使用量は、顔料の種類や他のインキ成分により異なるものの、筆記板用消去性インキ組成物に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。
【０００９】
本発明に使用する低級アルコールは、一般に油性筆記板用消去性インキ組成物に用いられるものを使用することができる、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコール等のアルコール類溶剤の中から選ばれる一種または二種以上の混合溶剤が好適に用いられる。その使用量は、使用する他の成分との混和性を考慮して種々の混合比が決定されるが、筆記板用消去性インキ組成物全量に対して５０〜９０重量％、好ましくは５５〜８５重量％である。
【００１０】
本発明に使用するポリビニルブチラールは、着色剤である顔料の分散を与えると共に、インキへの筆跡皮膜形成能を与える目的で使用する。また、被筆記面への付着性、インキの粘性付与の目的でも使用する。具体的にはエスレックＢＬ−１、同ＢＬ−１Ｈ、同ＢＬ−２、同ＢＬ−２Ｈ、同ＢＬ−５、同ＢＬ−１０、同ＢＬ−Ｓ、同ＢＭ−１、同ＢＭ−２、同ＢＭ−５、同ＢＭ−Ｓ、同ＢＨ−３、同ＢＨ−６、同ＢＨ−Ｓ（以上、積水化学工業（株）製）、デンカブチラール＃２０００−Ｌ、同＃３０００−１、同＃３０００−２、同＃３０００−４、同＃３０００−Ｋ、同＃４０００−１、同＃４０００−２、同＃５０００−Ａ、同＃６０００−Ｃ（以上、電気化学工業（株）製）等が１種又は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜形成せず、顔料の分散安定性も不安定となる。また、使用量が多いと板面への定着が強くなり、インキも高粘度となりインキの吐出不良を生ずるため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。なお、前記顔料が樹脂を用いた加工顔料の場合は、加工顔料中の樹脂にて代替することも可能である。
【００１１】
本発明に使用する消去性を付与する剥離剤は、上記アルコールに可溶であり、ポリビニルブチラール不溶なものであれば特に限定なく使用可能である。具体的には、ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル）、ＤＯＡ（アジピン酸ジ−２エチルヘキシル）、ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル）、ＤＯＳ（セバシン酸ジ２−エチルヘキシル）、ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル）、ＤＯＤＮ（デカン酸ジ２−エチルヘキシル）（以上、田岡化学工業（株）製）等の脂肪族二塩基エステルや、ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル）、ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸イソセチル）、ＩＣＩＳ（イソステアリン酸イソセチル）、ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル）、ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル）（以上、日光ケミカルズ（株）製）等の脂肪族一塩基酸エステルが一種または２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜を消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜にひび割れを生じさせてしまい筆跡が薄く見えてしまう白化現象を生じさせてしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１２】
本発明に使用する長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子は、複雑に絡み合い、開口した微細な空隙のある筆跡層を形成させるために使用するものである。具体的にウィスカルＡ（長径が２０μｍ、短径が１．０μｍ）である炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製）、モスハイジ（長径が１５μｍ、短径が０．７μｍである塩基性硫酸マグネシウム、宇部マテリアルズ（株）製）、ティスモＤ（長径が１５μｍ、短径が０．５μｍであるチタン酸カリウム）、ティスモＮ（長径が１７μｍ、短径が０．４μｍであるチタン酸カリウム）、デントールＷＫ２００Ｂ（長径が１６μｍ、短径が０．６μｍであるチタン酸カリウム）、デントールＷＫ３００Ｒ（長径が１５μｍ、短径が０．５μｍであるチタン酸カリウム）、デントールＷＫ５００（長径が１０μｍ、短径が０．３μｍであるチタン酸カリウム）（以上、大塚化学（株）製）等が１種叉は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．０１〜５重量％、好ましくは０．０５〜２重量％である。使用量が少ないと剥離剤からなる筆跡の痕跡であるゴーストを拭きとることができない。また、使用量が多いと隙間のない緻密な筆跡層が形成されるため、筆跡層の強度が強くなり、強い荷重でないと筆跡が消去できなくなるため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１３】
更に本配合には筆跡の柔軟性付与の為にポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン２級アルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、及びそれぞれの硫酸エステルや燐酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル等、各種活性剤が１種または２種以上が使用可能である。その使用量は、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％である。
【００１４】
以上に示した成分以外に必要に応じて、防腐剤、防黴剤、湿潤剤、粘度調整剤、凍結防止剤、ペン先乾燥防止剤、消泡剤、可塑剤、各種活性剤、樹脂の溶解性を妨げない程度の有機溶剤など、種々の添加剤を適宣選択して使用することができる。
【００１５】
本発明の筆記板用消去性インキ組成物の製造方法は、上記せる各成分を必要量混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速撹拌機や、ボールミル、サンドミルまたはビーズミル等の分散機にて混合・分散することにより容易に得ることができる。
【００１６】
以下、実施例に基づき本発明を説明するが、本発明は実施例のみに限定されるものではない。
【実施例】
【００１７】
（実施例１）
フジ ＡＳ ブラック ８１０（ポリビニルブチラールで黒色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（エチルアルコール８５．５％・イソプロピルアルコール１３．４％・アセトン１．１％の混合溶液、日本アルコール販売（株）製） ５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．５部
ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−２（ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） ２．０部
ＤＯＤＮ（デカン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）製） ２．０部
ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル、日光ケミカルズ（株）製） ５．０部
ウィスカルＡ（長径が２０μｍ、短径が１．０μｍ、厚みが１．０μｍである炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製） ０．５部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００１８】
（実施例２）
フジ ＡＳ レッド ５６８（ポリビニルブチラールで赤色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ６．５部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５５．０部
イソブチルアルコール ３１．７部
ＢＤ−２（ポリオキシエチレン（２）合成アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）
１．５部
ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル、日光ケミカルズ（株）製） ５．０部
ウィスカルＡ（前述） ０．３部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、赤色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００１９】
（実施例３）
フジ ＡＳ ブルー ６５０（ポリビニルブチラールで青色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．０部
ＢＴ−３（ポリオキシエチレン（２）２級アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）製）
２．０部
ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル、田岡化学工業（株）） ７．０部
ウィスカルＡ（前述） １．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２０】
（実施例４）
フジ ＡＳ グリーン ７３７（ポリビニルブチラールで緑色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−プロピルアルコール ３５．５部
ＰＢＣ−３１（ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（４）セチルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） １．０部
ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）） ２．０部
ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル、日光ケミカルズ（株））製） ４．０部
ウィスカルＡ（前述） ０．５部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌して、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２１】
（実施例５）
フジ ＡＳ オレンジ ２５０（ポリビニルブチラールで橙色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−ブチルアルコール ３３．３部
フォスファノールＬＳ−５００（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、東邦化学工業（株）製） ２．０部
ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル、田岡化学工業（株）） ４．０部
ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸２−エチルヘキシル、日光ケミカルズ（株）製）
３．０部
ウィスカルＡ（前述） ０．７部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２２】
（実施例６）
実施例１においてウィスカルＡ（前述）０．５部を、モスハイジ（長径が１５μｍ、短径が０．７μｍ、厚みが０．７μｍである塩基性硫酸マグネシウム、宇部マテリアルズ（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２３】
（実施例７）
実施例２においてウィスカルＡ（前述）０．３部を、ティスモＤ（長径が１５μｍ、短径が０．５μｍ、厚みが０．５μｍであるチタン酸カリウム、大塚化学（株）製））０．３部に変えた以外は、実施例２と同様にして、赤色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２４】
（実施例８）
実施例３においてウィスカルＡ（前述）１．０部を、デントールＷＫ２００Ｂ（長径が１６μｍ、短径が０．６μｍ、厚みが０．６μｍであるチタン酸カリウムの、大塚化学（株）製）１．０部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２５】
（実施例９）
実施例４においてウィスカルＡ（前述）０．５部を、デントールＷＫ５００（長径が１０μｍ、短径が０．３μｍ、厚みが０．３μｍであるたチタン酸カリウム、大塚化学（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２６】
（実施例１０）
実施例５においてウィスカルＡ（前述）０．７部を、ティスモＮ（長径が１７μｍ、短径が０．４μｍ、厚みが０．４μｍである柱体形状をしたチタン酸カリウム、大塚化学（株）製）０．７部に変えた以外は、実施例５と同様にして、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２７】
（比較例１）
実施例１のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、イソプロピルアルコールを３２．９部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２８】
（比較例２）
実施例３のウィスカルＡ（前述）１．０部を除き、ケミスノーＭＸ−５００（平均粒子径５．０μｍの球状形状をした架橋アクリル粉体、綜研化学（株）製）１．０部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２９】
（比較例３）
実施例４のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、アルミフレーク＃５（アルミニウム箔に、変性アクリルタイプの樹脂で着色した長径が７０μｍ、短径が５０μｍ、厚みが１２μｍであるグリッター顔料、堀金箔粉（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３０】
（比較例４）
実施例５のウィスカルＡ（前述）０．７部を除き、ＦＴＬ−１００（長径が１．６８μｍ、短径が０．１３μｍ、厚さが０．１３μｍである酸化チタン、石原産業（株）製）０．７部に変えた以外は、実施例５と同様にして、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３１】
（比較例５）
実施例１のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、マグチューブ（長径が１０μｍ、短径が２μｍ、厚みが２μｍである塩基性炭酸マグネシウム、日鉄鉱業（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例６と同様にして、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３２】
（比較例６）
実施例２のウィスカルＡ（前述）０．３部を除き、エコーマグＰＺ−１（長径が２．０μｍ、短径が１．０μｍ、厚みが１．０μｍである水酸化マグネシウム、タテホ化学工業（株）製）０．３部に変えた以外は、実施例２と同様にして、赤色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３３】
（比較例７）
実施例３のウィスカルＡ（前述）1．０部を除き、ケミスノーＭＸ−１５０（平均粒子径１．５μｍの球状形状をした架橋アクリル粉体、綜研化学（株）製）１．０部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３４】
（比較例８）
実施例４のウィスカルＡ（前述）０．５部を除き、軽質炭酸カルシウム（長径が２．０μｍ、短径が０．４μｍ、厚みが０．４μｍである炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製）０．５部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３５】
（比較例９）
実施例５のウィスカルＡ（前述）０．７部を除き、重質炭酸カルシウム（長径が１２μｍ、短径が１２μｍ、厚みが１２μｍである炭酸カルシウム、丸尾カルシウム（株）製）０．７部に変えた以外は、実施例４と同様にして、緑色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００３６】
実施例１〜１０及び比較例１〜９にて作成したインキを用いて塗布具（ＥＭＷＬＭ、ぺんてる製）に充填し、これをサンプルとして用いて試験１〜５を実施した。結果を表１に示す。
【００３７】
試験１
筆跡の消去性１（初期消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、２０℃６０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（品名ＦＢ−３２ＷＣ、コクヨ（株）製）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（品名キムワイプ Ｓ−２００、（株）クレシア製）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００３８】
試験２
筆跡の消去性２（経時消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（上記）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して室温にて１ヶ月放置後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００３９】
試験３
消し跡の剥離剤の痕跡除去性（ゴースト除去性）
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（前述）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで面塗りして１分後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１０００ｇの重りをのせて筆跡を消去した後、更に往復させて筆記板上に消し跡の痕跡であるゴーストが目立たなくなるまでの回数を確認した。
【００４０】
【表１】
【００４１】
以上、詳細に説明したように本発明における筆記板用消去性インキ組成物は、その筆跡を容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物において、筆跡を消去した後、筆記板上に筆跡の痕跡であるゴーストが目立たない筆記板用消去性インキ組成物である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍ、である無機粒子を含有する筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項２】
上記長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子が炭酸カルシウムである請求項1記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項１】
長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍ、である無機粒子を含有する筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項２】
上記長径が１０〜２０μｍ、短径が０．３〜１．０μｍである無機粒子が炭酸カルシウムである請求項1記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【公開番号】特開２００９−２６９９５１（Ｐ２００９−２６９９５１Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１９日（２００９．１１．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１１９３６３（Ｐ２００８−１１９３６３）
【出願日】平成２０年４月３０日（２００８．４．３０）
【出願人】（０００００５５１１）ぺんてる株式会社 (899)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１９日（２００９．１１．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月３０日（２００８．４．３０）
【出願人】（０００００５５１１）ぺんてる株式会社 (899)
【Ｆターム（参考）】
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