筆記板用消去性インキ組成物
【課題】表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記することができ、得られた筆跡が筆記板の素材に関わらず、筆記直後、長時間放置後、及び多様な環境下にて筆記されても容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物に関する。更には、筆跡を消した後に筆記板上に残る剥離剤の跡が目立たない筆記板用消去性インキ組成物。
【解決手段】顔料と、低級アルコールとポリビニルブチラールを主成分とするインキ組成物において、ポリオキシエチレンアルキルエーテルと剥離剤として脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル及び無水シリカとを含有する。
【解決手段】顔料と、低級アルコールとポリビニルブチラールを主成分とするインキ組成物において、ポリオキシエチレンアルキルエーテルと剥離剤として脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル及び無水シリカとを含有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筆記板用消去性インキ組成物に関する。更に、詳細には表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記し、筆記直後、長時間放置後、及び低温環境下にて筆記されても容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物に関する。更には筆跡を消した後に筆記板上に残る剥離剤の跡や、繰り返し消去後の筆記における筆跡の白化が目立たない筆記板用消去性インキ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、筆記板用消去性インキ組成物には、顔料と、有機溶剤や水と、該有機溶剤に可溶な樹脂及び消去性付与のための剥離剤との組み合わせからなるものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１２９０８６号公報
【特許文献２】特開平１０−０３６７４４号公報
【特許文献３】特公平０８−０３２８４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、引用文献１に記載されている筆記板用消去性インキ組成物は、顔料、樹脂、溶剤及び顔料や樹脂を溶解しない添加剤からなっている。その中でも、筆記板表面に対し適度なぬれ性を備えた添加剤を含む為、筆跡を消去しても添加剤成分が拭きとられきれずに筆跡の形のまま残るゴースト現象が生じてしまい、筆記した内容が容易にわかってしまう問題点がある。更に、書き消しを繰り返すと筆記板表面に添加剤が多量に残るので、その上に書かれた筆跡は、顔料や樹脂を溶解しない添加剤とのバランスが崩れることにより、筆跡の表面が割れて隠ぺい性がなくなり白っぽく見えてしまう白化現象が生じてしまう。
引用文献２に記載されている筆記板用消去性インキ組成物は、有機溶剤、色材、溶剤可溶性樹脂とそれほど相溶性がなく、筆記後低沸点溶剤の拡散に伴ってインキから遊離し白板面に吸着し消去を容易にする効果を有する剥離剤と、色材の沈降抑制のための無水シリカからなっている。このインキ中に含まれる無水シリカにより板面に吸着した剥離剤を拭きとることは可能ではあるものの、溶剤可溶性樹脂とそれほど相溶性がない剥離剤のみで形成される筆跡は硬くなり、特に５℃程度の低温での影響を受けやすく、強い荷重でなければ消すことができない。
引用文献３に記載されている筆記板用消去性インキ組成物は、水を分散媒とし、着色材と、結合剤と、剥離剤と、非水溶性無機質粉末からなっている。しかしながら、水を分散媒としているので、筆跡形成までの時間がかかるので、筆記直後に消去しようとすると、板面を著しく汚し、消去しにくくなる。
本発明は、筆記板に筆記した筆跡の消去時のゴースト現象、繰り返し消去時の筆跡の白化現象、低温での消去性悪化、筆記直後の消去による汚れを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、顔料、ポリビニルブチラール、低級アルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、及び剥離剤からなるインキにおいて、剥離剤として脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及び無水シリカを配合したことを特徴とする筆記板用消去性インキ組成物を要旨とするものである。更には、前記ポリオキシエチレンアルキルエーテルがポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン合成アルキルエーテル、又はポリオキシエチレン２級アルキルエーテルの一種または二種以上、 前記脂肪族二塩基酸エステルが下記一般式（化１）で示される一種または二種以上、前記脂肪族一塩基酸エステルが下記一般式（化２）で示される一種または二種以上、及び前記無水シリカが疎水性無水シリカであることを特徴とする筆記板用消去性インキ組成物を要旨とするものである。
【化１】
【化２】
【発明の効果】
【０００６】
本発明の筆記板用消去性インキ組成物は、表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記すると、低級アルコールが速やかに蒸発し、ポリビニルブチラールを溶解するポリオキシエチレンアルキルエーテルにより柔軟化した筆跡皮膜を形成すると同時にポリビニルブチラールを溶解しない脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル及び無水シリカは、筆跡皮膜形成時に分離して筆跡皮膜と筆記板表面の間に存在し消去性を付与するので、筆記直後でも筆記面を汚さずに消去できる。更には、本発明で使用されるポリオキシエチレンアルキルエーテルと剥離剤である脂肪族二塩基酸、及び脂肪族一塩基酸エステルは、例えば５℃程度の環境下でも液体の状態で維持されているので、容易に筆跡を消去できる。そして、脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル及び無水シリカからなる剥離剤は、筆記板面へのなじみが良いので筆跡皮膜の消去後に筆記板面上に筆跡の形のまま残るものの、剥離剤中の無水シリカの擦過作用により消し具で均一に薄膜状に引き伸ばされるのでゴースト現象は生じない。更には、この均一に引き伸ばされた剥離剤の薄膜内に含まれる無水シリカの滲み防止作用により、再度筆記された筆跡が割れる白化現象を防止する。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に使用する顔料は、着色剤として使用するものであり、従来より公知のアゾ系顔料、縮合ポリアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料、オインジゴ系顔料などの有機顔料やカーボンブラック、紺青、ベンガラ、酸化チタン等の無機顔料及びアルミニウム粉末、真鍮粉末などの金属粉顔料や、これらの顔料と樹脂粉体とを組み合わせた着色加工粉体、蛍光顔料及びパール顔料などの中から、筆記板用消去性インキ組成物中に微粒子として安定に分散し得るものを適宣選択して用いることができる。特に表面をポリビニルブチラールにて樹脂コーティングした加工顔料は、分散性、経時安定性、作業性及び筆記板用消去性インキ組成物中に他の樹脂を配合しなくとも良いなどの面から好ましく用いることができる。加工顔料の具体例として、フジＡＳブラック８１０、同レッド５７５、同レッド５６８、同ブルー６５０、同グリーン７１０、同グリーン７３７、同オレンジ２００、同オレンジ２５０、同イエロー４５８、同バイオレット９４５、同ホワイト１６５（以上、冨士色素（株）製）、マイクロピグモブラックＡＭＢＫ−２、同レッドＡＭＲＤ−２、同ブルーＡＭＢＥ−２、同グリーンＡＭＧＮ−２、同オレンジＡＭＯＥ−２、同イエローＡＭＹＷ−２、同ピンクＡＭＰＫ−２、同バイオレットＡＭＶＴ−２（以上、オリエント化学工業（株）製）などがある。その使用量は、顔料の種類や他のインキ成分により異なるものの、筆記板用消去性インキ組成物に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。
【０００８】
本発明に使用する低級アルコールは、一般に油性筆記板用消去性インキ組成物に用いられるものを使用することができる、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコール等のアルコール類溶剤の中から選ばれる一種または二種以上の混合溶剤が好適に用いられる。その使用量は、使用する他の成分との混和性を考慮して種々の混合比が決定されるが、筆記板用消去性インキ組成物全量に対して５０〜９０重量％、好ましくは５５〜８５重量％である。
【０００９】
本発明に使用する、ポリビニルブチラールは、着色剤である顔料の分散を与えると共に、インキへの筆跡皮膜形成能を与える目的で使用する。また、被筆記面への付着性、インキの粘性付与の目的でも使用する。具体的にはエスレックＢＬ−１、同ＢＬ−１Ｈ、同ＢＬ−２、同ＢＬ−２Ｈ、同ＢＬ−５、同ＢＬ−１０、同ＢＬ−Ｓ、同ＢＭ−１、同ＢＭ−２、同ＢＭ−５、同ＢＭ−Ｓ、同ＢＨ−３、同ＢＨ−６、同ＢＨ−Ｓ（以上、積水化学工業（株）製）、デンカブチラール＃２０００−Ｌ、同＃３０００−１、同＃３０００−２、同＃３０００−４、同＃３０００−Ｋ、同＃４０００−１、同＃４０００−２、同＃５０００−Ａ、同＃６０００−Ｃ（以上、電気化学工業（株）製）等が１種又は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜形成せず、顔料の分散安定性も不安定となる。また、使用量が多いと板面への定着が強くなり、インキも高粘度となりインキの吐出不良を生ずるため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。なお、前記顔料が樹脂を用いた加工顔料の場合は、加工顔料中の樹脂にて代替することも可能である。
【００１０】
本発明に使用するポリオキシエチレンアルキルエーテルは、上記ポリビニルアルコールを常温にて容易に溶解し、柔軟な筆跡皮膜を形成させる目的で使用する。具体的には、ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−２（ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル、ＮＩＫＫＯＬ ＢＯ−２（ポリオキシエチレン（２）オレイルエーテル、ＮＩＫＫＯＬ ＢＤ−２（ポリオキシエチレン（２）（Ｃ１２〜Ｃ１５）アルキルエーテル）、ＮＩＫＫＯＬ ＢＴ−３（ポリオキシエチレン（３）二級アルキルエーテル）(以上、日光ケミカルズ(株)製)、エマルゲン１０３（ポリオキシエチレン（３）ラウリルエーテル）、エマルゲン１０４Ｐ（ポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテル）、エマルゲン１０５（ポリオキシエチレン（５）ラウリルエーテル）、エマルゲン４０４（ポリオキシエチレン（４）オレイルエーテル）等が１種叉は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％である。使用量が少ないと柔軟な筆跡皮膜が形成せず軽い荷重で消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜が乾燥せず消去時のボード面を汚してしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１１】
本発明に使用する脂肪族二塩基酸エステルは、ジカルボン酸とアルコールのエステル化反応によりつくられるエステルであり、上記ポリビニルブチラールを溶解しないことより、顔料とポリビニルブチラールにより形成された筆跡皮膜と筆記板面の間に剥離剤の層を形成して筆跡皮膜を剥離させる目的で使用する。具体的には、ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル）、ＤＯＡ（アジピン酸ジ−２エチルヘキシル）、ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル）、ＤＯＳ（セバシン酸ジ２−エチルヘキシル）、ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル）、ＤＯＤＮ（デカン酸ジ２−エチルヘキシル）（以上、田岡化学工業（株）製）等が挙げられる。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜を消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜にひび割れを生じさせてしまい筆跡が薄く見えてしまう白化現象を生じさせてしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１２】
本発明に使用する脂肪族一塩基酸エステルは、カルボン酸とアルコールのエステル化反応によりつくられるエステルであり、上記ポリビニルブチラールを溶解しないことより、顔料とポリビニルブチラールにより形成された筆跡皮膜と筆記板面の間に剥離剤の層を形成して筆跡皮膜を剥離させる目的で使用する。具体的には、ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル）、ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸イソセチル）、ＩＣＩＳ（イソステアリン酸イソセチル）、ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル）、ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル）（以上、日光ケミカルズ（株）製）が挙げられる。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜を消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜にひび割れを生じさせてしまい筆跡が薄く見えてしまう白化現象を生じさせてしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１３】
本発明に使用する無水シリカは、有機シラン化合物を反応させた疎水性無水シリカを使用することが好ましい。具体的には、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（一次粒子の平均径約１６ｎｍ）、同 Ｒ９７２Ｖ（一次粒子の平均径約１６ｎｍ）、同 Ｒ９７２ＣＦ（一次粒子の平均径約１６ｎｍ）、同 Ｒ９７４（一次粒子の平均径約１２ｎｍ）（以上、日本アエロジル（株）製）、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２（一次粒子の平均径約１４ｎｍ）、同 Ｒ８０５（一次粒子の平均径約１２ｎｍ）、同 Ｒ８１２（一次粒子の平均径約７ｎｍ）、同 Ｒ８１２Ｓ（一次粒子の平均径約７ｎｍ）（以上、独国 デグサ社製）等が挙げられる。これら無水シリカは、前記脂肪肪族二塩基酸エステル及び脂肪族一塩基酸エステルに混合して、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速攪拌機にて攪拌して分散させて用いることができる。これらの無水シリカは、１種または２種以上が使用可能である。その使用量は、筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．０１〜５．０重量％、好ましくは０．０２〜２．０重量％である。使用量が少ない場合は、剥離剤残りを引き伸ばすことが出来ず、且つ、再筆記時の白化現象を防ぐことができなくなる。使用量が多い場合は、筆跡皮膜を消去することが出来なくなるので筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１４】
以上に示した成分以外に必要に応じて、防腐剤、防黴剤、湿潤剤、粘度調整剤、凍結防止剤、ペン先乾燥防止剤、消泡剤、可塑剤、各種活性剤、樹脂の溶解性を妨げない程度の有機溶剤など、種々の添加剤を適宣選択して使用することができる。
【００１５】
本発明の筆記板用消去性インキ組成物の製造方法は、上記せる各成分を必要量混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速撹拌機や、ボールミル、サンドミルまたはビーズミル等の分散機にて混合・分散することにより容易に得ることができる。
【００１６】
以下、実施例に基づき本発明を説明するが、本発明は実施例のみに限定されるものではない。
【実施例】
【００１７】
（実施例１）
フジ ＡＳ ブラック ８１０（ポリビニルブチラールで黒色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（エチルアルコール８５．５％・イソプロピルアルコール１３．４％・アセトン１．１％の混合溶液、日本アルコール販売（株）製）
５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．９部
ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−２（ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） ２．０部
ＤＯＤＮ（デカン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）製）
２．０部
ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル、日光ケミカルズ（株）製） ５．０部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（一次粒子の平均径約１６ｎｍの疎水性無水シリカ、日本アエロジル（株）製） ０．１部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（前述）０．１部は、ＤＩＤＮ（前述）２．０部とＣＩＯ（前述）５．０部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００１８】
（実施例２）
フジ ＡＳ レッド ５６８（ポリビニルブチラールで赤色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ６．５部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５５．０部
イソブチルアルコール ３１．８部
ＢＤ−２（ポリオキシエチレン（２）合成アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） １．５部
ＤＯＳ（セバシン酸ジ２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）） ２．５部
ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル、日光ケミカルズ（株）製） ２．５部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７４（一次粒子の平均径約１２ｎｍの疎水性無水シリカ、日本アエロジル（株）製） ０．２部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、赤色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７４（前述）０．２部はＤＯＳ（前述）２．５部とＳＴＯ（前述）２．５部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００１９】
（実施例３）
フジ ＡＳ ブルー ６５０（ポリビニルブチラールで青色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．７部
ＢＴ−３（ポリオキシエチレン（２）２級アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） ２．０部
ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル、田岡化学工業（株）） ４．５部
ＩＰＩＳ（イソステアリン酸イソステアリル、日光ケミカルズ（株）製）
２．５部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２（一次粒子の平均径約１４ｎｍの疎水性無水シリカ、独国 デグサ社製） ０．３部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２（前述）０．３部はＤＩＮＡ（前述）４．５部とＩＰＩＳ（前述）２．５部ともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２０】
（実施例４）
フジ ＡＳ グリーン ７３７（ポリビニルブチラールで緑色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−プロピルアルコール ３５．５部
エマルゲン１０３（ポリオキシエチレン（３）ラウリルエーテル、花王（株）製） １．０部
ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）） ２．０部
ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル、日光ケミカルズ（株））製） ４．０部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（一次粒子の平均径約１２ｎｍの疎水性無水シリカ、独国 デグサ社製）） ０．５部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌して、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（前述）０．５部はＤＯＺ（前述）４．５部とＩＳＰ（前述）２．５部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２１】
（実施例５）
フジ ＡＳ オレンジ ２５０（ポリビニルブチラールで橙色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−ブチルアルコール ３２．０部
エマルゲン１０５（ポリオキシエチレン（５）ラウリルエーテル、ＨＬＢ９．７、花王（株）製） ２．０部
ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル、田岡化学工業（株）） ４．０部
ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸２−エチルヘキシル、日光ケミカルズ（株）製） ３．０部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８１２（一次粒子の平均径約７ｎｍの疎水性無水シリカ、独国 デグサ社製）） ０．２部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８１２（前述）０．２部はＤＴＤＡ（前述）４．０部とＩＣＭ−Ｒ（前述）３．０部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２２】
（比較例１）
実施例１のＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（前述）０．１部を除き、イソプロピルアルコールを３３．０部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２３】
（比較例２）
実施例２のＮＩＫＫＯＬ ＢＤ−２（前述）１．５部を除き、イソブチルアルコールを３３．３部に変えた以外は、実施例２と同様にして、赤色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２４】
（比較例３）
実施例３のＢＴ−３（前述）２．０部を除き、フォスファノールＬＳ−５００（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル（東邦化学工業（株）製）２．５部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２５】
（比較例４）
実施例１のＣＩＯ（前術）５．０部を除きＢＳ（ステアリン酸ブチル、融点２５℃(日光ケミカルズ（株）製)５．０部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（前述）０．１部は、ＤＩＤＮ（前述）２．０部とＢＳ（前述）５．０部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２６】
実施例１〜５及び比較例１〜４にて作成したインキを用いて塗布具（ＥＭＷＬＭ、ぺんてる製）に充填し、これをサンプルとして用いて試験1〜５を実施した。結果を表１に示す。
【００２７】
試験１
筆跡の消去性１（初期消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、２０℃６０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（品名ＦＢ−３２ＷＣ、コクヨ（株）製）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（品名キムワイプ Ｓ−２００、（株）クレシア製）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００２８】
試験２
筆跡の消去性２（経時消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（上記）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して室温にて１ヶ月放置後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００２９】
試験３
筆跡の消去性３（低温消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、５℃２０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（上記）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００３０】
試験４
消し跡残り
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（前述）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで面塗りして１分後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１０００ｇの重りをのせて往復させて筆跡を消した後、更に消し後残りの描線が判読できなくなるまでの回数を確認した。
【００３１】
試験５
筆跡の白化
１０回ノックしてインキ出し後、２０℃６０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（品名ＦＢ−３２ＷＣ、コクヨ（株）製）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（品名キムワイプ Ｓ−２００、（株）クレシア製）を用い１０００ｇの重りをのせて筆跡を消す操作を同じ場所で１０回繰り返した後筆記した筆跡と試験前の筆跡の色差（ΔＥ）を分光色差計（ＮＦ７７７、日本電色（株）製）にて測定した。ここで、色差が３．０以内のものは目視で白化が目立たなかった。
【００３２】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筆記板用消去性インキ組成物に関する。更に、詳細には表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記し、筆記直後、長時間放置後、及び低温環境下にて筆記されても容易に消去することができる筆記板用消去性インキ組成物に関する。更には筆跡を消した後に筆記板上に残る剥離剤の跡や、繰り返し消去後の筆記における筆跡の白化が目立たない筆記板用消去性インキ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、筆記板用消去性インキ組成物には、顔料と、有機溶剤や水と、該有機溶剤に可溶な樹脂及び消去性付与のための剥離剤との組み合わせからなるものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１２９０８６号公報
【特許文献２】特開平１０−０３６７４４号公報
【特許文献３】特公平０８−０３２８４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、引用文献１に記載されている筆記板用消去性インキ組成物は、顔料、樹脂、溶剤及び顔料や樹脂を溶解しない添加剤からなっている。その中でも、筆記板表面に対し適度なぬれ性を備えた添加剤を含む為、筆跡を消去しても添加剤成分が拭きとられきれずに筆跡の形のまま残るゴースト現象が生じてしまい、筆記した内容が容易にわかってしまう問題点がある。更に、書き消しを繰り返すと筆記板表面に添加剤が多量に残るので、その上に書かれた筆跡は、顔料や樹脂を溶解しない添加剤とのバランスが崩れることにより、筆跡の表面が割れて隠ぺい性がなくなり白っぽく見えてしまう白化現象が生じてしまう。
引用文献２に記載されている筆記板用消去性インキ組成物は、有機溶剤、色材、溶剤可溶性樹脂とそれほど相溶性がなく、筆記後低沸点溶剤の拡散に伴ってインキから遊離し白板面に吸着し消去を容易にする効果を有する剥離剤と、色材の沈降抑制のための無水シリカからなっている。このインキ中に含まれる無水シリカにより板面に吸着した剥離剤を拭きとることは可能ではあるものの、溶剤可溶性樹脂とそれほど相溶性がない剥離剤のみで形成される筆跡は硬くなり、特に５℃程度の低温での影響を受けやすく、強い荷重でなければ消すことができない。
引用文献３に記載されている筆記板用消去性インキ組成物は、水を分散媒とし、着色材と、結合剤と、剥離剤と、非水溶性無機質粉末からなっている。しかしながら、水を分散媒としているので、筆跡形成までの時間がかかるので、筆記直後に消去しようとすると、板面を著しく汚し、消去しにくくなる。
本発明は、筆記板に筆記した筆跡の消去時のゴースト現象、繰り返し消去時の筆跡の白化現象、低温での消去性悪化、筆記直後の消去による汚れを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、顔料、ポリビニルブチラール、低級アルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、及び剥離剤からなるインキにおいて、剥離剤として脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及び無水シリカを配合したことを特徴とする筆記板用消去性インキ組成物を要旨とするものである。更には、前記ポリオキシエチレンアルキルエーテルがポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン合成アルキルエーテル、又はポリオキシエチレン２級アルキルエーテルの一種または二種以上、 前記脂肪族二塩基酸エステルが下記一般式（化１）で示される一種または二種以上、前記脂肪族一塩基酸エステルが下記一般式（化２）で示される一種または二種以上、及び前記無水シリカが疎水性無水シリカであることを特徴とする筆記板用消去性インキ組成物を要旨とするものである。
【化１】
【化２】
【発明の効果】
【０００６】
本発明の筆記板用消去性インキ組成物は、表面が非吸収性、非浸透性の材質からなる筆記板上に筆記すると、低級アルコールが速やかに蒸発し、ポリビニルブチラールを溶解するポリオキシエチレンアルキルエーテルにより柔軟化した筆跡皮膜を形成すると同時にポリビニルブチラールを溶解しない脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル及び無水シリカは、筆跡皮膜形成時に分離して筆跡皮膜と筆記板表面の間に存在し消去性を付与するので、筆記直後でも筆記面を汚さずに消去できる。更には、本発明で使用されるポリオキシエチレンアルキルエーテルと剥離剤である脂肪族二塩基酸、及び脂肪族一塩基酸エステルは、例えば５℃程度の環境下でも液体の状態で維持されているので、容易に筆跡を消去できる。そして、脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル及び無水シリカからなる剥離剤は、筆記板面へのなじみが良いので筆跡皮膜の消去後に筆記板面上に筆跡の形のまま残るものの、剥離剤中の無水シリカの擦過作用により消し具で均一に薄膜状に引き伸ばされるのでゴースト現象は生じない。更には、この均一に引き伸ばされた剥離剤の薄膜内に含まれる無水シリカの滲み防止作用により、再度筆記された筆跡が割れる白化現象を防止する。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に使用する顔料は、着色剤として使用するものであり、従来より公知のアゾ系顔料、縮合ポリアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料、オインジゴ系顔料などの有機顔料やカーボンブラック、紺青、ベンガラ、酸化チタン等の無機顔料及びアルミニウム粉末、真鍮粉末などの金属粉顔料や、これらの顔料と樹脂粉体とを組み合わせた着色加工粉体、蛍光顔料及びパール顔料などの中から、筆記板用消去性インキ組成物中に微粒子として安定に分散し得るものを適宣選択して用いることができる。特に表面をポリビニルブチラールにて樹脂コーティングした加工顔料は、分散性、経時安定性、作業性及び筆記板用消去性インキ組成物中に他の樹脂を配合しなくとも良いなどの面から好ましく用いることができる。加工顔料の具体例として、フジＡＳブラック８１０、同レッド５７５、同レッド５６８、同ブルー６５０、同グリーン７１０、同グリーン７３７、同オレンジ２００、同オレンジ２５０、同イエロー４５８、同バイオレット９４５、同ホワイト１６５（以上、冨士色素（株）製）、マイクロピグモブラックＡＭＢＫ−２、同レッドＡＭＲＤ−２、同ブルーＡＭＢＥ−２、同グリーンＡＭＧＮ−２、同オレンジＡＭＯＥ−２、同イエローＡＭＹＷ−２、同ピンクＡＭＰＫ−２、同バイオレットＡＭＶＴ−２（以上、オリエント化学工業（株）製）などがある。その使用量は、顔料の種類や他のインキ成分により異なるものの、筆記板用消去性インキ組成物に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。
【０００８】
本発明に使用する低級アルコールは、一般に油性筆記板用消去性インキ組成物に用いられるものを使用することができる、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコール等のアルコール類溶剤の中から選ばれる一種または二種以上の混合溶剤が好適に用いられる。その使用量は、使用する他の成分との混和性を考慮して種々の混合比が決定されるが、筆記板用消去性インキ組成物全量に対して５０〜９０重量％、好ましくは５５〜８５重量％である。
【０００９】
本発明に使用する、ポリビニルブチラールは、着色剤である顔料の分散を与えると共に、インキへの筆跡皮膜形成能を与える目的で使用する。また、被筆記面への付着性、インキの粘性付与の目的でも使用する。具体的にはエスレックＢＬ−１、同ＢＬ−１Ｈ、同ＢＬ−２、同ＢＬ−２Ｈ、同ＢＬ−５、同ＢＬ−１０、同ＢＬ−Ｓ、同ＢＭ−１、同ＢＭ−２、同ＢＭ−５、同ＢＭ−Ｓ、同ＢＨ−３、同ＢＨ−６、同ＢＨ−Ｓ（以上、積水化学工業（株）製）、デンカブチラール＃２０００−Ｌ、同＃３０００−１、同＃３０００−２、同＃３０００−４、同＃３０００−Ｋ、同＃４０００−１、同＃４０００−２、同＃５０００−Ａ、同＃６０００−Ｃ（以上、電気化学工業（株）製）等が１種又は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜形成せず、顔料の分散安定性も不安定となる。また、使用量が多いと板面への定着が強くなり、インキも高粘度となりインキの吐出不良を生ずるため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。なお、前記顔料が樹脂を用いた加工顔料の場合は、加工顔料中の樹脂にて代替することも可能である。
【００１０】
本発明に使用するポリオキシエチレンアルキルエーテルは、上記ポリビニルアルコールを常温にて容易に溶解し、柔軟な筆跡皮膜を形成させる目的で使用する。具体的には、ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−２（ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル、ＮＩＫＫＯＬ ＢＯ−２（ポリオキシエチレン（２）オレイルエーテル、ＮＩＫＫＯＬ ＢＤ−２（ポリオキシエチレン（２）（Ｃ１２〜Ｃ１５）アルキルエーテル）、ＮＩＫＫＯＬ ＢＴ−３（ポリオキシエチレン（３）二級アルキルエーテル）(以上、日光ケミカルズ(株)製)、エマルゲン１０３（ポリオキシエチレン（３）ラウリルエーテル）、エマルゲン１０４Ｐ（ポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテル）、エマルゲン１０５（ポリオキシエチレン（５）ラウリルエーテル）、エマルゲン４０４（ポリオキシエチレン（４）オレイルエーテル）等が１種叉は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％である。使用量が少ないと柔軟な筆跡皮膜が形成せず軽い荷重で消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜が乾燥せず消去時のボード面を汚してしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１１】
本発明に使用する脂肪族二塩基酸エステルは、ジカルボン酸とアルコールのエステル化反応によりつくられるエステルであり、上記ポリビニルブチラールを溶解しないことより、顔料とポリビニルブチラールにより形成された筆跡皮膜と筆記板面の間に剥離剤の層を形成して筆跡皮膜を剥離させる目的で使用する。具体的には、ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル）、ＤＯＡ（アジピン酸ジ−２エチルヘキシル）、ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル）、ＤＯＳ（セバシン酸ジ２−エチルヘキシル）、ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル）、ＤＯＤＮ（デカン酸ジ２−エチルヘキシル）（以上、田岡化学工業（株）製）等が挙げられる。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜を消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜にひび割れを生じさせてしまい筆跡が薄く見えてしまう白化現象を生じさせてしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１２】
本発明に使用する脂肪族一塩基酸エステルは、カルボン酸とアルコールのエステル化反応によりつくられるエステルであり、上記ポリビニルブチラールを溶解しないことより、顔料とポリビニルブチラールにより形成された筆跡皮膜と筆記板面の間に剥離剤の層を形成して筆跡皮膜を剥離させる目的で使用する。具体的には、ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル）、ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸イソセチル）、ＩＣＩＳ（イソステアリン酸イソセチル）、ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル）、ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル）（以上、日光ケミカルズ（株）製）が挙げられる。その使用量は筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。使用量が少ないと筆跡皮膜を消去することができない。また、使用量が多いと筆跡皮膜にひび割れを生じさせてしまい筆跡が薄く見えてしまう白化現象を生じさせてしまうため筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１３】
本発明に使用する無水シリカは、有機シラン化合物を反応させた疎水性無水シリカを使用することが好ましい。具体的には、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（一次粒子の平均径約１６ｎｍ）、同 Ｒ９７２Ｖ（一次粒子の平均径約１６ｎｍ）、同 Ｒ９７２ＣＦ（一次粒子の平均径約１６ｎｍ）、同 Ｒ９７４（一次粒子の平均径約１２ｎｍ）（以上、日本アエロジル（株）製）、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２（一次粒子の平均径約１４ｎｍ）、同 Ｒ８０５（一次粒子の平均径約１２ｎｍ）、同 Ｒ８１２（一次粒子の平均径約７ｎｍ）、同 Ｒ８１２Ｓ（一次粒子の平均径約７ｎｍ）（以上、独国 デグサ社製）等が挙げられる。これら無水シリカは、前記脂肪肪族二塩基酸エステル及び脂肪族一塩基酸エステルに混合して、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速攪拌機にて攪拌して分散させて用いることができる。これらの無水シリカは、１種または２種以上が使用可能である。その使用量は、筆記板用消去性インキ組成物全量に対して０．０１〜５．０重量％、好ましくは０．０２〜２．０重量％である。使用量が少ない場合は、剥離剤残りを引き伸ばすことが出来ず、且つ、再筆記時の白化現象を防ぐことができなくなる。使用量が多い場合は、筆跡皮膜を消去することが出来なくなるので筆記板用消去性インキ組成物として好ましくない。
【００１４】
以上に示した成分以外に必要に応じて、防腐剤、防黴剤、湿潤剤、粘度調整剤、凍結防止剤、ペン先乾燥防止剤、消泡剤、可塑剤、各種活性剤、樹脂の溶解性を妨げない程度の有機溶剤など、種々の添加剤を適宣選択して使用することができる。
【００１５】
本発明の筆記板用消去性インキ組成物の製造方法は、上記せる各成分を必要量混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速撹拌機や、ボールミル、サンドミルまたはビーズミル等の分散機にて混合・分散することにより容易に得ることができる。
【００１６】
以下、実施例に基づき本発明を説明するが、本発明は実施例のみに限定されるものではない。
【実施例】
【００１７】
（実施例１）
フジ ＡＳ ブラック ８１０（ポリビニルブチラールで黒色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（エチルアルコール８５．５％・イソプロピルアルコール１３．４％・アセトン１．１％の混合溶液、日本アルコール販売（株）製）
５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．９部
ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−２（ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） ２．０部
ＤＯＤＮ（デカン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）製）
２．０部
ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル、日光ケミカルズ（株）製） ５．０部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（一次粒子の平均径約１６ｎｍの疎水性無水シリカ、日本アエロジル（株）製） ０．１部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（前述）０．１部は、ＤＩＤＮ（前述）２．０部とＣＩＯ（前述）５．０部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００１８】
（実施例２）
フジ ＡＳ レッド ５６８（ポリビニルブチラールで赤色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ６．５部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５５．０部
イソブチルアルコール ３１．８部
ＢＤ−２（ポリオキシエチレン（２）合成アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） １．５部
ＤＯＳ（セバシン酸ジ２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）） ２．５部
ＳＴＯ（ステアリン酸イソオクチル、日光ケミカルズ（株）製） ２．５部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７４（一次粒子の平均径約１２ｎｍの疎水性無水シリカ、日本アエロジル（株）製） ０．２部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、赤色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７４（前述）０．２部はＤＯＳ（前述）２．５部とＳＴＯ（前述）２．５部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００１９】
（実施例３）
フジ ＡＳ ブルー ６５０（ポリビニルブチラールで青色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
イソプロピルアルコール ３２．７部
ＢＴ−３（ポリオキシエチレン（２）２級アルキルエーテル、日光ケミカルズ（株）製） ２．０部
ＤＩＮＡ（アジピン酸ジイソノニル、田岡化学工業（株）） ４．５部
ＩＰＩＳ（イソステアリン酸イソステアリル、日光ケミカルズ（株）製）
２．５部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２（一次粒子の平均径約１４ｎｍの疎水性無水シリカ、独国 デグサ社製） ０．３部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２（前述）０．３部はＤＩＮＡ（前述）４．５部とＩＰＩＳ（前述）２．５部ともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２０】
（実施例４）
フジ ＡＳ グリーン ７３７（ポリビニルブチラールで緑色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−プロピルアルコール ３５．５部
エマルゲン１０３（ポリオキシエチレン（３）ラウリルエーテル、花王（株）製） １．０部
ＤＯＺ（アゼライン酸２−エチルヘキシル、田岡化学工業（株）） ２．０部
ＩＳＰ（パルミチン酸イソステアリル、日光ケミカルズ（株））製） ４．０部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（一次粒子の平均径約１２ｎｍの疎水性無水シリカ、独国 デグサ社製）） ０．５部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌して、緑色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（前述）０．５部はＤＯＺ（前述）４．５部とＩＳＰ（前述）２．５部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２１】
（実施例５）
フジ ＡＳ オレンジ ２５０（ポリビニルブチラールで橙色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製） ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述） ５０．０部
ｎ−ブチルアルコール ３２．０部
エマルゲン１０５（ポリオキシエチレン（５）ラウリルエーテル、ＨＬＢ９．７、花王（株）製） ２．０部
ＤＴＤＡ（アジピン酸ジトリデシル、田岡化学工業（株）） ４．０部
ＩＣＭ−Ｒ（ミリスチン酸２−エチルヘキシル、日光ケミカルズ（株）製） ３．０部
ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８１２（一次粒子の平均径約７ｎｍの疎水性無水シリカ、独国 デグサ社製）） ０．２部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、橙色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８１２（前述）０．２部はＤＴＤＡ（前述）４．０部とＩＣＭ−Ｒ（前述）３．０部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２２】
（比較例１）
実施例１のＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（前述）０．１部を除き、イソプロピルアルコールを３３．０部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２３】
（比較例２）
実施例２のＮＩＫＫＯＬ ＢＤ−２（前述）１．５部を除き、イソブチルアルコールを３３．３部に変えた以外は、実施例２と同様にして、赤色の筆記板用筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２４】
（比較例３）
実施例３のＢＴ−３（前述）２．０部を除き、フォスファノールＬＳ−５００（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル（東邦化学工業（株）製）２．５部に変えた以外は、実施例３と同様にして、青色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。
【００２５】
（比較例４）
実施例１のＣＩＯ（前術）５．０部を除きＢＳ（ステアリン酸ブチル、融点２５℃(日光ケミカルズ（株）製)５．０部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用消去性インキ組成物を得た。尚、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２（前述）０．１部は、ＤＩＤＮ（前述）２．０部とＢＳ（前述）５．０部とともにホモミキサーにて１時間撹拌した混合物を用いた。
【００２６】
実施例１〜５及び比較例１〜４にて作成したインキを用いて塗布具（ＥＭＷＬＭ、ぺんてる製）に充填し、これをサンプルとして用いて試験1〜５を実施した。結果を表１に示す。
【００２７】
試験１
筆跡の消去性１（初期消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、２０℃６０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（品名ＦＢ−３２ＷＣ、コクヨ（株）製）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（品名キムワイプ Ｓ−２００、（株）クレシア製）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００２８】
試験２
筆跡の消去性２（経時消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（上記）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して室温にて１ヶ月放置後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００２９】
試験３
筆跡の消去性３（低温消去性）
１０回ノックしてインキ出し後、５℃２０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（上記）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１００ｇづつ重りを増やしていき、筆跡が１回の擦過で消去できるまでの重量を確認した。
【００３０】
試験４
消し跡残り
１０回ノックしてインキ出し後、表面が平滑なホーロー板（前述）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで面塗りして１分後に、４つ折にした紙製のウエス（前述）を用い１０００ｇの重りをのせて往復させて筆跡を消した後、更に消し後残りの描線が判読できなくなるまでの回数を確認した。
【００３１】
試験５
筆跡の白化
１０回ノックしてインキ出し後、２０℃６０％の環境下で表面が平滑なホーロー板（品名ＦＢ−３２ＷＣ、コクヨ（株）製）に各サンプルを用いて２×８ｃｍの大きさで５丸筆記して１分後に、４つ折にした紙製のウエス（品名キムワイプ Ｓ−２００、（株）クレシア製）を用い１０００ｇの重りをのせて筆跡を消す操作を同じ場所で１０回繰り返した後筆記した筆跡と試験前の筆跡の色差（ΔＥ）を分光色差計（ＮＦ７７７、日本電色（株）製）にて測定した。ここで、色差が３．０以内のものは目視で白化が目立たなかった。
【００３２】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料、ポリビニルブチラール、低級アルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、及び剥離剤からなるインキにおいて剥離剤として脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及び、無水シリカを配合したことを特徴とする筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項２】
前記ポリオキシエチレンアルキルエーテルがポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン合成アルキルエーテル、又はポリオキシエチレン２級アルキルエーテルの一種または二種以上であることを特徴とする請求項1記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項３】
前記脂肪族二塩基酸エステルが下記一般式（化１）で示される一種または二種以上であることを特徴とする請求項１記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【化１】
【請求項４】
前記脂肪族一塩基酸エステルが下記一般式（化２）で示される一種または二種以上であることを特徴とする請求項１記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【化２】
【請求項５】
前記無水シリカが疎水性無水シリカである請求項１記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項１】
顔料、ポリビニルブチラール、低級アルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、及び剥離剤からなるインキにおいて剥離剤として脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及び、無水シリカを配合したことを特徴とする筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項２】
前記ポリオキシエチレンアルキルエーテルがポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン合成アルキルエーテル、又はポリオキシエチレン２級アルキルエーテルの一種または二種以上であることを特徴とする請求項1記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【請求項３】
前記脂肪族二塩基酸エステルが下記一般式（化１）で示される一種または二種以上であることを特徴とする請求項１記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【化１】
【請求項４】
前記脂肪族一塩基酸エステルが下記一般式（化２）で示される一種または二種以上であることを特徴とする請求項１記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【化２】
【請求項５】
前記無水シリカが疎水性無水シリカである請求項１記載の筆記板用消去性インキ組成物。
【公開番号】特開２０１１−１３２２８０（Ｐ２０１１−１３２２８０Ａ）
【公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２９０１９２（Ｐ２００９−２９０１９２）
【出願日】平成２１年１２月２２日（２００９．１２．２２）
【出願人】（０００００５５１１）ぺんてる株式会社 (899)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月２２日（２００９．１２．２２）
【出願人】（０００００５５１１）ぺんてる株式会社 (899)
【Ｆターム（参考）】
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