粒度分布測定装置の洗浄方法及びその洗浄方法が用いられる粒度分布測定装置
【課題】 エジェクタや吸引パイプやエアロゾル移送パイプ等の吸入管を取り外すことなく、容易に洗浄できる粒度分布測定装置の洗浄方法及びその洗浄方法が用いられる粒度分布測定装置を提供する。
【解決手段】 被測定物Ｓが収容されるサンプル供給装置３０と、光強度分布取得部４１と、光強度分布取得部４１で取得された光強度分布を用いて、被測定物Ｓに含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部４３とを備え、測定空間の一端部は、吸入管２４ａ、２４ｂ、２４ｆを介してサンプル供給装置３０と連結されるとともに、測定空間の他端部は、排出管９１と連結されている粒度分布測定装置１の洗浄方法であって、サンプル供給装置３０に洗浄用粒子群を含む被測定物Ｓを収容する収容工程と、洗浄用粒子群を含む被測定物Ｓを、吸入管２４ａ、２４ｂ、２４ｆと測定空間と排出管９１とを通過させる通過工程とを含む。
【解決手段】 被測定物Ｓが収容されるサンプル供給装置３０と、光強度分布取得部４１と、光強度分布取得部４１で取得された光強度分布を用いて、被測定物Ｓに含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部４３とを備え、測定空間の一端部は、吸入管２４ａ、２４ｂ、２４ｆを介してサンプル供給装置３０と連結されるとともに、測定空間の他端部は、排出管９１と連結されている粒度分布測定装置１の洗浄方法であって、サンプル供給装置３０に洗浄用粒子群を含む被測定物Ｓを収容する収容工程と、洗浄用粒子群を含む被測定物Ｓを、吸入管２４ａ、２４ｂ、２４ｆと測定空間と排出管９１とを通過させる通過工程とを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粒度分布測定装置の洗浄方法及びその洗浄方法が用いられる粒度分布測定装置に関し、特に光学的手法（例えば、レーザ回折・散乱式等）を用いて被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を測定する粒度分布測定装置の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ回折・散乱式の粒度分布測定装置においては、媒体（例えば、水や空気等）中に分散状態の被測定粒子群（例えば、乾燥粉体等）にレーザ光（測定光）を照射することにより、被測定粒子群で回折・散乱されたレーザ光の空間的な光強度分布を複数個の光検出素子で検出して、その光強度分布からフラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づく演算を行うことによって、被測定粒子群の粒度分布を算出する。
【０００３】
図７は、従来の粒度分布測定装置の概略構成の一例を示す図である。なお、図７中で、光学系の構成を表す模式図と、データサンプリング回路やコンピュータからなる信号処理系の構成を表すブロック図とを併記して示している。
粒度分布測定装置４０１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給するサンプル供給装置３０及び移送機構２４と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置４０１全体を制御するコンピュータ（制御部）４５０とを備える（例えば、特許文献１参照）。
ここでは、乾燥粉体（被測定粒子群）Ｐを空気（媒体）Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出するものとする。
【０００４】
測定空間配置部８３は、下端部に下側接続口を、上端部に上側接続口を有する。そして、測定空間配置部８３の下側接続口は、エアロゾル移送パイプ（吸入管の一つに該当）２４ｆを介してサンプル供給装置３０と接続されている。また、上側接続口は、吸引パイプ（排出管）９１を介してポンプ９２及びサンプル回収機構（図示せず）と接続されている。
このような構成において、ポンプ９２が駆動することによって、サンプル供給装置３０内のエアロゾルＳが、下側接続口から測定空間に流入し、そして、測定空間を下方から上方へ通過し、その後、上側接続口から流出するようになっている。
【０００５】
サンプル供給装置３０は、鉛直方向となる回転軸３１ａを有する土台３４と、円板状のターンテーブル３１と、ターンテーブル３１の上方に配置されたホッパ３２及び充填器３３とによって構成される。
ターンテーブル３１は、土台３４の回転軸３１ａを中心として図中矢印で示す向きに回転可能となっている。ターンテーブル３１の上面には、回転軸３１ａを中心とする円環状の溝３５が形成されている。
【０００６】
ホッパ３２は、内部に充填された乾燥粉体Ｐをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させて供給するものである。
充填器３３は、溝３５の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填するものである。
【０００７】
移送機構２４は、エジェクタ（吸入管の一つに該当）２４ａと、一端が下向きに開口するとともに他端がエジェクタ２４ａに接続された吸引パイプ（吸入管の一つに該当）２４ｂと、エジェクタ２４ａにボンベ２４ｃから高圧の空気を供給する空気供給パイプ２４ｄと、一端がエジェクタ２４ａに接続されるとともに他端が測定空間に向かって開口する噴出ノズル２４ｅが装着されたエアロゾル移送パイプ（吸入管の一つに該当）２４ｆとによって構成される。
このような移送機構２４によれば、吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出されるようになっている。
なお、上記移送機構は、例えば、金属で形成されている。
【０００８】
粒度分布測定装置４０１の左側部には、照射光学系８２が設置され、具体的にはレーザ光源８１と集光レンズ８２ａと空間フィルタ８２ｂとコリメータ８２ｃとが左からこの順に配置されている。
このような照射光学系８２の構成において、レーザ光源８１で発生されたレーザ光は、集光レンズ８２ａ、空間フィルタ８２ｂ、コリメータ８２ｃを通過して平行光とされ、前方向（図の左から右へ）に向かうように測定空間に照射される。
これにより、測定空間をエアロゾルＳが通過していれば、レーザ光は、測定空間の乾燥粉体Ｐで回折・散乱して、空間的に回折・散乱光の光強度分布パターンが生ずることになる。
【０００９】
粒度分布測定装置３０１の右側部には、検出光学系８４が設置され、具体的には集光レンズ８４ａとリングディテクタ８４ｂとが左からこの順に配置されている。
リングディテクタ８４ｂは、互いに異なる半径を持つリング状ないしは半リング状の受光面を持つ６４個の光検出素子を、集光レンズ８４ａの光軸を中心とするように同心円状に配置してあり、各光検出素子には、それぞれの位置に応じた回折・散乱角度を持つ光が入射するようにしてある。したがって、各光検出素子の出力信号は、各回折・散乱角度ごとの光の強度を表すことになる。
【００１０】
このような検出光学系８４の構成において、前方向に対して６０°以内の回折・散乱光は、集光レンズ８４ａを介してリングディテクタ８４ｂの受光面上に集光されて、リング状の回折・散乱像を結ぶようになる。
リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子の出力信号は、アンプ、マルチプレクサ及びＡ−Ｄ変換器からなるデータサンプリング回路８５によって順次デジタル化され、回折・散乱光の光強度分布データとして汎用のコンピュータ４５０に送信される。
【００１１】
コンピュータ４５０は、ＣＰＵ４４０とメモリ４６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。
ＣＰＵ４４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部４１と、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置３０を制御するサンプル供給制御部４２とを有する。
また、メモリ４６０は、光強度分布データを記憶するための光強度分布記憶領域６１と、粉体粒子Ｐ及び空気（媒体）Ｌの屈折率や、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算式等を記憶するデータ記憶領域４６２とを有する。
【００１２】
サンプル供給制御部４２は、測定者によって、エアロゾルＳを測定するように入力装置５１で入力されると、サンプル供給装置３０から測定空間にエアロゾルＳを供給する制御を行う。
具体的には、乾燥粉体Ｐを測定空間に供給するために、ホッパ３２は、乾燥粉体Ｐをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填する。そして、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、乾燥粉体Ｐを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出されるようになっている。
【００１３】
光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる制御を行う。
粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、粉体粒子Ｐ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する制御を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００８−１５７６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところで、一の乾燥粉体Ｐの粒度分布の測定が終了すると、乾燥粉体Ｐの種類によっては、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着して残留するものがある。よって、次の乾燥粉体Ｐの粒度分布を測定する際に、残留した乾燥粉体Ｐが剥離して、次の乾燥粉体Ｐと一緒に測定空間に噴出（コンタミネーション）されてしまうことがある。
【００１６】
そのため、上述したような粒度分布測定装置４０１では、一の乾燥粉体Ｐの粒度分布の測定が終了すると、次の乾燥粉体Ｐの粒度分布を正確に算出するために、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとを洗浄する必要がある。このとき、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとを、粒度分布測定装置４０１から取り外して水等で洗浄しなければならず、非常に手間がかかっていた。
そこで、本発明は、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆ等の吸入管を取り外すことなく、容易に洗浄することができる粒度分布測定装置の洗浄方法及びその洗浄方法が用いられる粒度分布測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するためになされた本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法は、測定光を出射する光源と、光強度分布を検出する検出器と、被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置の洗浄方法であって、前記サンプル供給装置に洗浄用粒子群を含む被測定物を収容する収容工程と、前記洗浄用粒子群を含む被測定物を、吸入管と測定空間と排出管とを通過させる通過工程とを含むようにしている。
【００１８】
ここで、「測定光」としては、レーザ光が好ましいが、これに限らず、ＬＥＤによる光、分光器で分光された光、干渉フィルタやバンドパスフィルタ等で波長範囲が制限された光を用いてもよい。
また、「光強度」とは、光検出素子で検出される数値そのものでなくてもよく、被測定物を測定する前に既に検出されている初期余剰光の光強度が存在する場合もあるので、光検出素子で検出される数値と初期余剰光の数値との差分であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法によれば、吸入管の内面に洗浄用粒子群が衝突することで吸入管内面の付着物を取り除くことができ、その結果、吸入管等を取り外すことなく、容易に洗浄することができる。
【００２０】
（その他の課題を解決するための手段及び効果）
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法では、前記洗浄用粒子群の平均粒子径は、１μｍ以上２０００μｍ以下であり、前記洗浄用粒子の材質はガラスであるようにしてもよい。
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法は、前記粒度分布算出部が、前記洗浄用粒子群を含む被測定物の粒度分布を算出する算出工程と、前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記算出工程で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定工程とを含むようにしてもよい。
本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法によれば、洗浄の度合いを評価することができる。
【００２１】
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法では、前記基準データは、前記吸入管の内面に付着物がない状態で予め測定した洗浄用粒子群の粒度分布の測定結果であるようにしてもよい。
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法では、前記排出管の排出口は、前記サンプル供給装置と連結され、前記基準データは、前回に測定した前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果であるようにしてもよい。
【００２２】
そして、本発明の粒度分布測定装置は、測定光を出射する光源と、光強度分布を検出する検出器と、被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置であって、平均粒子径が１μｍ以上２０００μｍ以下であり、かつ、材質がガラスである洗浄用粒子群を備えるようにしている。
【００２３】
さらに、本発明の粒度分布測定装置は、前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記粒度分布算出部で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定部を備えるようにしてもよい。
本発明の粒度分布測定装置によれば、洗浄の度合いを評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第一実施形態である粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図２】図１に示す粒度分布測定装置による測定方法を説明するフローチャート。
【図３】本発明の第二実施形態の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図４】図３に示す乾燥粉体分散供給装置の断面図。
【図５】本発明の第三実施形態の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図６】図５に示す粒度分布測定装置による測定方法を説明するフローチャート。
【図７】従来の粒度分布測定装置の概略構成の一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれる。
【００２６】
＜第一実施形態＞
図１は、本発明に係る第一実施形態の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、粒度分布測定装置４０１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給するサンプル供給装置３０及び移送機構２４と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置１全体を制御するコンピュータ（制御部）５０と、洗浄用粒子群ＷＰとを備える。
本実施形態は、測定時には乾燥粉体（被測定粒子群）Ｐを空気（媒体）Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出するものである。また、洗浄時には洗浄用粒子群ＷＰを空気（媒体）Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、洗浄用粒子群ＷＰを含む全体（噴射経路２４ａ、２４ｂ、２４ｆに残った先の被測定物と洗浄用粒子群ＷＰとの混合したもの）の粒度分布を算出することで、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に残った先の被測定物が存在するかを判定して、洗浄の度合いを評価するものである。
【００２７】
上記洗浄用粒子群の平均粒子径は、１μｍ以上２０００μｍ以下であることが好ましい。１μｍ未満であれば、洗浄用粒子群自体がエジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着し、付着物となる可能性があり、一方、２０００μｍを超えると、洗浄用粒子の重量が重くなり、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆや測定空間を通過させることができなくなる可能性がある。
【００２８】
上記洗浄用粒子の材質は、帯電しない点からセラミック（アルミナ）、ガラス等であることが好ましい。
上記洗浄用粒子の硬度は、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの硬度より低く、かつ、可能な限り硬いものであることが好ましい。
また、上記洗浄用粒子の形状は、球状であることが好ましい。
【００２９】
コンピュータ５０は、ＣＰＵ４０とメモリ６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。
ＣＰＵ４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部４１と、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置３０を制御するサンプル供給制御部４２と、洗浄の度合いを評価する判定部４４とを有する。
【００３０】
そして、メモリ６０のデータ記憶領域６２には、洗浄用粒子ＷＰの屈折率や、洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰや、洗浄の度合いを評価するための判定閾値ΔＤｔｈが予め記憶されている。基準データＤＷＰは、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着物がない状態で予め測定した洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の測定結果や、洗浄用粒子群ＷＰのスペック等に記載された数値であり、測定者等によってデータ記憶領域６２に予め記憶されることになる。
【００３１】
判定部４４は、データ記憶領域６２に記憶された洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰと、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に残った先の被測定物と洗浄用粒子群ＷＰとの混合したものの粒度分布の測定結果との差分ΔＤから、洗浄の度合いを評価する制御を行う。具体的には、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含む被測定物の粒度分布の測定結果から、洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰを減算した差分ΔＤ（例えば、少なくとも１個の光検出素子における差分ΔＤ）が、判定閾値ΔＤｔｈ以上であれば、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着物が存在していると判定する。一方、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含む被測定物の粒度分布の測定結果から、洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰを減算した差分ΔＤ（例えば、全ての光検出素子における差分ΔＤ）が、判定閾値ΔＤｔｈ未満であれば、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着物が充分に少なくなったと判定する。これにより、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面を充分に洗浄できたことを示す画像やメッセージを表示する。
【００３２】
次に、粒度分布測定装置１による測定方法について説明する。図２は、上述した粒度分布測定装置１による測定方法について説明するためのフローチャートである。
まず、ステップＳ１０１の処理において、ホッパ３２の内部に洗浄用粒子群ＷＰを収容する。そして、ホッパ３２は、洗浄用粒子群ＷＰをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された洗浄用粒子群ＷＰに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に洗浄用粒子群ＷＰを均一に充填する。
【００３３】
次に、ステップＳ１０２の処理において、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、洗浄用粒子群ＷＰを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された洗浄用粒子群ＷＰは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出される。
【００３４】
次に、ステップＳ１０３の処理において、光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる。
次に、ステップＳ１０４の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布を算出してデータ記憶領域６２に基準データＤＷＰとして記憶させる。
【００３５】
次に、ステップＳ１０５の処理において、ホッパ３２の内部に、測定対象となる乾燥粉体Ｐを収容する。そして、ホッパ３２は、乾燥粉体Ｐをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填する。
次に、ステップＳ１０６の処理において、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、乾燥粉体Ｐを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出される。
【００３６】
次に、ステップＳ１０７の処理において、光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる。
次に、ステップＳ１０８の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、粉体粒子Ｐ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出して表示装置５２に表示させる。
【００３７】
次に、ステップＳ１０９の処理において、ホッパ３２の内部に洗浄用粒子群ＷＰを収容する。そして、ホッパ３２は、洗浄用粒子群ＷＰをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された洗浄用粒子群ＷＰに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に洗浄用粒子群ＷＰを均一に充填する（収容工程）。
【００３８】
次に、ステップＳ１１０の処理において、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、洗浄用粒子群ＷＰを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された洗浄用粒子群ＷＰは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出される（通過工程）。このとき、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に先の被測定物が残っていれば、洗浄用粒子群ＷＰとともに、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に残った先の被測定物が測定空間に噴出されることになる。
【００３９】
次に、ステップＳ１１１の処理において、光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる。
次に、ステップＳ１１２の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、洗浄用粒子群ＷＰを含むエアロゾルＳの粒度分布を算出する（算出工程）。
【００４０】
次に、ステップＳ１１３の処理において、データ記憶領域６２に記憶された洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰと、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含むエアロゾルＳの粒度分布の測定結果との差分ΔＤが、判定閾値ΔＤｔｈ以上であるか否かを判定する（判定工程）。差分ΔＤが判定閾値ΔＤｔｈ以上であると判定したときには、ステップＳ１０９の処理に戻る。つまり、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面を再度洗浄する。
【００４１】
一方、差分ΔＤが判定閾値ΔＤｔｈ未満であると判定したときには、ステップＳ１１４の処理において、次の乾燥粉体Ｐを測定するか否かを判断する。次の乾燥粉体Ｐを測定すると判断したときには、ステップＳ１０５の処理に戻る。
一方、乾燥粉体Ｐを測定しないと判断したときには、本フローチャートを終了させる。
【００４２】
以上のように、粒度分布測定装置１によれば、洗浄用粒子群ＷＰがエジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとの内面に衝突することで、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとの内面の付着物を取り除くことができ、その結果、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆ等を取り外すことなく、容易に洗浄することができると共に、洗浄の度合いを評価することができる。
【００４３】
＜第二実施形態＞
図３は、本発明に係る第二実施形態の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、上述した粒度分布測定装置１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置１０１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給する乾燥粉体分散供給装置１３０及び移送機構２４と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置１０１全体を制御するコンピュータ（制御部）１５０と、洗浄用粒子群ＷＰとを備える。
【００４４】
図４（ａ）は、図３に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す垂直方向の断面図であり、図４（ｂ）は、図３に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す水平方向の断面図（図４（ａ）に示すＡ−Ａ線断面図）である。
乾燥粉体分散供給装置１３０は、吸引プローブ１０と試料容器２０とを備える。
吸引プローブ１０は、略円柱状の金属製のプローブ本体１１と、プローブ本体１１の上面の中央部から下面の中央部まで貫通するように配置される円管状の吸引管（吸入管の一つに該当）１２と、プローブ本体１１の上面の周縁部から下面の周縁部まで貫通するように形成された４個の円管状の気流発生口１３と、円環状のＯリング１４とを有する。
【００４５】
吸引管１２は、プローブ本体１１の上面を通って上方に延びている。また、プローブ本体１１の下部の外周面には、凹部が形成されており、Ｏリング１４がはめ込まれている。
４個の気流発生口１３は、プローブ本体１１の先端部を軸方向から視ると、図４（ｂ）に示す通り、プローブ本体１１の周縁部に等間隔をあけて円形状に並ぶように配置されている。
【００４６】
試料容器２０は、円筒状のガラス製又は金属製の側壁２１と、側壁２１の下部に形成された円板状のガラス製又は金属製の底面２２とを有する。そして、試料容器２０の内部には、乾燥粉体Ｐが収容されるようになっている。このとき、乾燥粉体Ｐは、底面２２から高さ５ｃｍ程度で収容される。
そして、プローブ本体１１の水平方向における断面は円形状であり、試料容器２０の側壁２１の水平方向における断面は円環形状であり、プローブ本体１１の水平方向における断面の直径Ｌ２は、試料容器２０の側壁２１の水平方向における断面の内径Ｌ１よりも小さくなっている。また、Ｏリング１４の水平方向における断面は円環形状であり、試料容器２０の側壁２１の内周面とプローブ本体１１の外周面との間に配置されている。これにより、空気が試料容器２０の側壁２１の内周面とプローブ本体１１の外周面との間を通過することがなくなる。
【００４７】
サンプル供給制御部１４２は、測定者によって、エアロゾルＳを測定するように入力装置５１で入力されると、乾燥粉体分散供給装置１３０から測定空間にエアロゾルＳを供給する制御を行う。
具体的には、乾燥粉体Ｐを測定空間に供給するために、吸引プローブ１０が、試料容器２０の内部で乾燥粉体Ｐの表面より少し上に配置される。そして、吸引管１２に対し真空が加えられたとき、空気が予め決まった直径を有する４個の気流発生口１３に入り、試料容器２０の気流発生口１３に沿って高速下向き空気流を形成し、下向き空気流が吸引プローブ１０の下端部において方向を変え、乾燥粉体Ｐの表面より上で高せん断力を生成し、高せん断力が乾燥粉体Ｐを分散させ、分散された乾燥粉体Ｐを吸引管１２の内部にフィードする。
【００４８】
以上のように、粒度分布測定装置１０１によれば、洗浄用粒子群ＷＰがエジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆと吸引管１２との内面に衝突することで、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆと吸引管１２との内面の付着物を取り除くことができ、その結果、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆや吸引管１２等を取り外すことなく、容易に洗浄することができると共に、洗浄の度合いを評価することができる。
【００４９】
＜第三実施形態＞
図５は、第三実施形態の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、上述した粒度分布測定装置１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置２０１は、フローセル（測定空間）２３０を配置するための測定空間配置部（図示せず）と、フローセル２３０に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系２５０と、フローセル２３０に被測定液Ｓを供給するサンプル供給装置２１０と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置２０１全体を制御するコンピュータ（制御部）３５０と、洗浄用粒子群ＷＰとを備える。
本実施形態は、測定時には被測定粒子群Ｐを水（媒体）Ｌ中に分散させた被測定液Ｓを測定することにより、被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出するものである。また、洗浄時には洗浄用粒子群ＷＰを水（媒体）Ｌ中に分散させた被測定液Ｓを測定することにより、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓ（吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４とに残った先の被測定物と洗浄用粒子群ＷＰとの混合したもの）の粒度分布を算出することで、吸入管２２１や排出管２２０や分散槽２１４の内面に残った先の被測定物の量が増加するかを判定して、洗浄の度合いを評価するものである。
【００５０】
粒度分布測定装置２０１の右側部には、検出光学系２５０が設置され、具体的には集光レンズ８４ａとリングディテクタ８４ｂとが左からこの順に配置されている。
また、側方散乱光センサ（光検出素子）２５３が、フローセル２３０から側方（後上方向）への散乱光を検出するように配置され、複数の後方散乱光センサ（光検出素子）２５４が、フローセル２３０から後方（後下方向）への散乱光を検出するように配置されている。
側方散乱光センサ２５３と複数の後方散乱光センサ２５４との出力信号は、アンプ、マルチプレクサ及びＡ−Ｄ変換器からなるデータサンプリング回路８５によって順次デジタル化され、回折・散乱光の光強度分布データとして汎用のコンピュータ３５０に送信される。
【００５１】
分散槽２１４は、攪拌羽根等を有する攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを備える。そして、媒体Ｌが、分散槽２１４内に媒体供給ポンプ２１１から供給されるともに、被測定粒子群Ｐも分散槽２１４内に投入されるようになっている。これにより、攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを所定の時間、駆動させることによって、分散槽２１４内で媒体Ｌ中に被測定粒子群Ｐが均一に分散してなる被測定液Ｓを生成させる。
【００５２】
フローセル２３０は、下端部に下側接続口を、上端部に上側接続口を有する。そして、フローセル２３０の下側接続口は、吸入管２２１と循環ポンプ２２２とを介して分散槽２１４と接続されている。また、上側接続口は、排出管２２０を介して分散槽２１４と接続されている。
このような構成において、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓが分散槽２１４内とフローセル２３０内との間を循環することになる。このとき、被測定液Ｓはフローセル２３０内を下方から上方に流れることになる。
なお、上記フローセルは、例えば、石英ガラスで形成されている。
【００５３】
コンピュータ３５０は、ＣＰＵ３４０とメモリ３６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。ＣＰＵ３４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部３４１と、被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置２１０を制御するサンプル供給制御部３４２と、洗浄の度合いを評価する判定部３４４とを有する。また、メモリ３６０のデータ記憶領域３６２には、洗浄用粒子ＷＰの屈折率や、洗浄の度合いを評価するための変化閾値ΔＤｔｈが予め記憶されている。
【００５４】
サンプル供給制御部３４２は、測定者によって、被測定液Ｓを測定するように入力装置５１で入力されると、サンプル供給装置２１０からフローセル２３０に被測定液Ｓを供給する制御を行う。具体的には、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓを分散槽２１４内とフローセル２３０内との間に循環させる。
【００５５】
光強度分布取得部３４１は、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数（例えば１２８回）積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる制御を行う。
【００５６】
判定部３４４は、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果と、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果との差分ΔＤから、洗浄の度合いを評価する制御を行う。具体的には、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果から、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果を減算した差分ΔＤが、変化閾値ΔＤｔｈ以上であれば、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面に付着物が、まだ存在していると判定する。一方、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果から、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果を減算した差分ΔＤが、変化閾値ΔＤｔｈ未満であれば、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面から付着物が充分に除去されたと判定する。これにより、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面を充分に洗浄できたことを示す画像を表示する。
【００５７】
次に、粒度分布測定装置２０１による測定方法について説明する。図６は、粒度分布測定装置２０１による測定方法について説明するためのフローチャートである。
まず、ステップＳ２０１の処理において、分散槽２１４内に媒体Ｌを媒体供給ポンプ２１１から供給するともに、被測定粒子群Ｐも分散槽２１４内に投入する。そして、攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを所定の時間、駆動させることによって、分散槽２１４内で媒体Ｌ中に被測定粒子群Ｐが均一に分散してなる被測定液Ｓを生成させる。
次に、ステップＳ２０２の処理において、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓを分散槽２１４内とフローセル２３０内との間に循環させる。
【００５８】
次に、ステップＳ２０３の処理において、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数（例えば１２８回）積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる。
次に、ステップＳ２０４の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部３４１で得られた光強度分布データと、被測定粒子Ｐ及び媒体Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、被測定液Ｓに含まれる被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出して表示装置５２に表示させる。
【００５９】
次に、ステップＳ２０５の処理において、被測定粒子群Ｐを含んだ被測定液Ｓを粒度分布測定装置２０１から除去する。
【００６０】
次に、ステップＳ２０６の処理において、洗浄回数に関する洗浄パラメータＮを０とする。
次に、ステップＳ２０７の処理において、分散槽２１４内に媒体Ｌを媒体供給ポンプ２１１から供給するともに、洗浄用粒子群ＷＰも分散槽２１４内に投入する。そして、攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを所定の時間、駆動させることによって、分散槽２１４内で媒体Ｌ中に洗浄用粒子群ＷＰが均一に分散してなる被測定液Ｓを生成させる（収容工程）。
【００６１】
次に、ステップＳ２０８の処理において、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓを分散槽２１４内とフローセル２３０内との間に循環させる（通過工程）。このとき、吸入管２２１や排出管２２０や分散槽２１４の内面に先の被測定物が残っていれば、洗浄用粒子群ＷＰとともに、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４とに残った先の被測定物がフローセル２３０内を流通することになる。
【００６２】
次に、ステップＳ２０９の処理において、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる。
次に、ステップＳ２１０の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部３４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び媒体Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布を算出してデータ記憶領域３６２に記憶させる（算出工程）。
【００６３】
次に、ステップＳ２１１の処理において、洗浄パラメータＮをＮ＋１とする。
次に、ステップＳ２１２の処理において、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる。
次に、ステップＳ２１３の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部３４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び媒体Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布を算出してデータ記憶領域３６２に記憶させる（算出工程）。
【００６４】
次に、ステップＳ２１４の処理において、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果と、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果との差分ΔＤが、変化閾値ΔＤｔｈ以上であるか否かを判定する（判定工程）。差分ΔＤが変化閾値ΔＤｔｈ以上であると判定したときには、ステップＳ２１１の処理に戻る。つまり、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面を再度洗浄する。
【００６５】
一方、差分ΔＤが変化閾値ΔＤｔｈ未満であると判定したときには、ステップＳ２１５の処理において、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓを粒度分布測定装置２０１から除去する。
次に、ステップＳ２１６の処理において、次の被測定粒子群Ｐを測定するか否かを判断する。次の被測定粒子群Ｐを測定すると判断したときには、ステップＳ２０１の処理に戻る。一方、被測定粒子群Ｐを測定しないと判断したときには、本フローチャートを終了させる。
【００６６】
以上のように、粒度分布測定装置２０１によれば、洗浄用粒子群ＷＰが吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面に衝突することで、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面の付着物を取り除くことができ、その結果、吸入管２２１や排出管２２０や分散槽２１４等を取り外すことなく、容易に洗浄することができる。また、洗浄の度合いを評価することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、光学的手法を用いて被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を測定する粒度分布測定装置等に使用することができる。
【符号の説明】
【００６８】
１ 粒度分布測定装置
２４ａ、２４ｂ、２４ｆ 吸入管
３０ サンプル供給装置
４１ 光強度分布取得部
４３ 粒度分布算出部
８１ レーザ光源
８３ 測定空間配置部
８４ｂ リングディテクタ（検出器）
９１ 排出管
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粒度分布測定装置の洗浄方法及びその洗浄方法が用いられる粒度分布測定装置に関し、特に光学的手法（例えば、レーザ回折・散乱式等）を用いて被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を測定する粒度分布測定装置の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ回折・散乱式の粒度分布測定装置においては、媒体（例えば、水や空気等）中に分散状態の被測定粒子群（例えば、乾燥粉体等）にレーザ光（測定光）を照射することにより、被測定粒子群で回折・散乱されたレーザ光の空間的な光強度分布を複数個の光検出素子で検出して、その光強度分布からフラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づく演算を行うことによって、被測定粒子群の粒度分布を算出する。
【０００３】
図７は、従来の粒度分布測定装置の概略構成の一例を示す図である。なお、図７中で、光学系の構成を表す模式図と、データサンプリング回路やコンピュータからなる信号処理系の構成を表すブロック図とを併記して示している。
粒度分布測定装置４０１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給するサンプル供給装置３０及び移送機構２４と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置４０１全体を制御するコンピュータ（制御部）４５０とを備える（例えば、特許文献１参照）。
ここでは、乾燥粉体（被測定粒子群）Ｐを空気（媒体）Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出するものとする。
【０００４】
測定空間配置部８３は、下端部に下側接続口を、上端部に上側接続口を有する。そして、測定空間配置部８３の下側接続口は、エアロゾル移送パイプ（吸入管の一つに該当）２４ｆを介してサンプル供給装置３０と接続されている。また、上側接続口は、吸引パイプ（排出管）９１を介してポンプ９２及びサンプル回収機構（図示せず）と接続されている。
このような構成において、ポンプ９２が駆動することによって、サンプル供給装置３０内のエアロゾルＳが、下側接続口から測定空間に流入し、そして、測定空間を下方から上方へ通過し、その後、上側接続口から流出するようになっている。
【０００５】
サンプル供給装置３０は、鉛直方向となる回転軸３１ａを有する土台３４と、円板状のターンテーブル３１と、ターンテーブル３１の上方に配置されたホッパ３２及び充填器３３とによって構成される。
ターンテーブル３１は、土台３４の回転軸３１ａを中心として図中矢印で示す向きに回転可能となっている。ターンテーブル３１の上面には、回転軸３１ａを中心とする円環状の溝３５が形成されている。
【０００６】
ホッパ３２は、内部に充填された乾燥粉体Ｐをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させて供給するものである。
充填器３３は、溝３５の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填するものである。
【０００７】
移送機構２４は、エジェクタ（吸入管の一つに該当）２４ａと、一端が下向きに開口するとともに他端がエジェクタ２４ａに接続された吸引パイプ（吸入管の一つに該当）２４ｂと、エジェクタ２４ａにボンベ２４ｃから高圧の空気を供給する空気供給パイプ２４ｄと、一端がエジェクタ２４ａに接続されるとともに他端が測定空間に向かって開口する噴出ノズル２４ｅが装着されたエアロゾル移送パイプ（吸入管の一つに該当）２４ｆとによって構成される。
このような移送機構２４によれば、吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出されるようになっている。
なお、上記移送機構は、例えば、金属で形成されている。
【０００８】
粒度分布測定装置４０１の左側部には、照射光学系８２が設置され、具体的にはレーザ光源８１と集光レンズ８２ａと空間フィルタ８２ｂとコリメータ８２ｃとが左からこの順に配置されている。
このような照射光学系８２の構成において、レーザ光源８１で発生されたレーザ光は、集光レンズ８２ａ、空間フィルタ８２ｂ、コリメータ８２ｃを通過して平行光とされ、前方向（図の左から右へ）に向かうように測定空間に照射される。
これにより、測定空間をエアロゾルＳが通過していれば、レーザ光は、測定空間の乾燥粉体Ｐで回折・散乱して、空間的に回折・散乱光の光強度分布パターンが生ずることになる。
【０００９】
粒度分布測定装置３０１の右側部には、検出光学系８４が設置され、具体的には集光レンズ８４ａとリングディテクタ８４ｂとが左からこの順に配置されている。
リングディテクタ８４ｂは、互いに異なる半径を持つリング状ないしは半リング状の受光面を持つ６４個の光検出素子を、集光レンズ８４ａの光軸を中心とするように同心円状に配置してあり、各光検出素子には、それぞれの位置に応じた回折・散乱角度を持つ光が入射するようにしてある。したがって、各光検出素子の出力信号は、各回折・散乱角度ごとの光の強度を表すことになる。
【００１０】
このような検出光学系８４の構成において、前方向に対して６０°以内の回折・散乱光は、集光レンズ８４ａを介してリングディテクタ８４ｂの受光面上に集光されて、リング状の回折・散乱像を結ぶようになる。
リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子の出力信号は、アンプ、マルチプレクサ及びＡ−Ｄ変換器からなるデータサンプリング回路８５によって順次デジタル化され、回折・散乱光の光強度分布データとして汎用のコンピュータ４５０に送信される。
【００１１】
コンピュータ４５０は、ＣＰＵ４４０とメモリ４６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。
ＣＰＵ４４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部４１と、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置３０を制御するサンプル供給制御部４２とを有する。
また、メモリ４６０は、光強度分布データを記憶するための光強度分布記憶領域６１と、粉体粒子Ｐ及び空気（媒体）Ｌの屈折率や、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算式等を記憶するデータ記憶領域４６２とを有する。
【００１２】
サンプル供給制御部４２は、測定者によって、エアロゾルＳを測定するように入力装置５１で入力されると、サンプル供給装置３０から測定空間にエアロゾルＳを供給する制御を行う。
具体的には、乾燥粉体Ｐを測定空間に供給するために、ホッパ３２は、乾燥粉体Ｐをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填する。そして、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、乾燥粉体Ｐを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出されるようになっている。
【００１３】
光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる制御を行う。
粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、粉体粒子Ｐ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する制御を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００８−１５７６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところで、一の乾燥粉体Ｐの粒度分布の測定が終了すると、乾燥粉体Ｐの種類によっては、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着して残留するものがある。よって、次の乾燥粉体Ｐの粒度分布を測定する際に、残留した乾燥粉体Ｐが剥離して、次の乾燥粉体Ｐと一緒に測定空間に噴出（コンタミネーション）されてしまうことがある。
【００１６】
そのため、上述したような粒度分布測定装置４０１では、一の乾燥粉体Ｐの粒度分布の測定が終了すると、次の乾燥粉体Ｐの粒度分布を正確に算出するために、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとを洗浄する必要がある。このとき、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとを、粒度分布測定装置４０１から取り外して水等で洗浄しなければならず、非常に手間がかかっていた。
そこで、本発明は、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆ等の吸入管を取り外すことなく、容易に洗浄することができる粒度分布測定装置の洗浄方法及びその洗浄方法が用いられる粒度分布測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するためになされた本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法は、測定光を出射する光源と、光強度分布を検出する検出器と、被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置の洗浄方法であって、前記サンプル供給装置に洗浄用粒子群を含む被測定物を収容する収容工程と、前記洗浄用粒子群を含む被測定物を、吸入管と測定空間と排出管とを通過させる通過工程とを含むようにしている。
【００１８】
ここで、「測定光」としては、レーザ光が好ましいが、これに限らず、ＬＥＤによる光、分光器で分光された光、干渉フィルタやバンドパスフィルタ等で波長範囲が制限された光を用いてもよい。
また、「光強度」とは、光検出素子で検出される数値そのものでなくてもよく、被測定物を測定する前に既に検出されている初期余剰光の光強度が存在する場合もあるので、光検出素子で検出される数値と初期余剰光の数値との差分であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法によれば、吸入管の内面に洗浄用粒子群が衝突することで吸入管内面の付着物を取り除くことができ、その結果、吸入管等を取り外すことなく、容易に洗浄することができる。
【００２０】
（その他の課題を解決するための手段及び効果）
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法では、前記洗浄用粒子群の平均粒子径は、１μｍ以上２０００μｍ以下であり、前記洗浄用粒子の材質はガラスであるようにしてもよい。
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法は、前記粒度分布算出部が、前記洗浄用粒子群を含む被測定物の粒度分布を算出する算出工程と、前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記算出工程で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定工程とを含むようにしてもよい。
本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法によれば、洗浄の度合いを評価することができる。
【００２１】
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法では、前記基準データは、前記吸入管の内面に付着物がない状態で予め測定した洗浄用粒子群の粒度分布の測定結果であるようにしてもよい。
また、本発明の粒度分布測定装置の洗浄方法では、前記排出管の排出口は、前記サンプル供給装置と連結され、前記基準データは、前回に測定した前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果であるようにしてもよい。
【００２２】
そして、本発明の粒度分布測定装置は、測定光を出射する光源と、光強度分布を検出する検出器と、被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置であって、平均粒子径が１μｍ以上２０００μｍ以下であり、かつ、材質がガラスである洗浄用粒子群を備えるようにしている。
【００２３】
さらに、本発明の粒度分布測定装置は、前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記粒度分布算出部で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定部を備えるようにしてもよい。
本発明の粒度分布測定装置によれば、洗浄の度合いを評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第一実施形態である粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図２】図１に示す粒度分布測定装置による測定方法を説明するフローチャート。
【図３】本発明の第二実施形態の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図４】図３に示す乾燥粉体分散供給装置の断面図。
【図５】本発明の第三実施形態の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図６】図５に示す粒度分布測定装置による測定方法を説明するフローチャート。
【図７】従来の粒度分布測定装置の概略構成の一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれる。
【００２６】
＜第一実施形態＞
図１は、本発明に係る第一実施形態の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、粒度分布測定装置４０１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給するサンプル供給装置３０及び移送機構２４と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置１全体を制御するコンピュータ（制御部）５０と、洗浄用粒子群ＷＰとを備える。
本実施形態は、測定時には乾燥粉体（被測定粒子群）Ｐを空気（媒体）Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出するものである。また、洗浄時には洗浄用粒子群ＷＰを空気（媒体）Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、洗浄用粒子群ＷＰを含む全体（噴射経路２４ａ、２４ｂ、２４ｆに残った先の被測定物と洗浄用粒子群ＷＰとの混合したもの）の粒度分布を算出することで、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に残った先の被測定物が存在するかを判定して、洗浄の度合いを評価するものである。
【００２７】
上記洗浄用粒子群の平均粒子径は、１μｍ以上２０００μｍ以下であることが好ましい。１μｍ未満であれば、洗浄用粒子群自体がエジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着し、付着物となる可能性があり、一方、２０００μｍを超えると、洗浄用粒子の重量が重くなり、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆや測定空間を通過させることができなくなる可能性がある。
【００２８】
上記洗浄用粒子の材質は、帯電しない点からセラミック（アルミナ）、ガラス等であることが好ましい。
上記洗浄用粒子の硬度は、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの硬度より低く、かつ、可能な限り硬いものであることが好ましい。
また、上記洗浄用粒子の形状は、球状であることが好ましい。
【００２９】
コンピュータ５０は、ＣＰＵ４０とメモリ６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。
ＣＰＵ４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部４１と、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置３０を制御するサンプル供給制御部４２と、洗浄の度合いを評価する判定部４４とを有する。
【００３０】
そして、メモリ６０のデータ記憶領域６２には、洗浄用粒子ＷＰの屈折率や、洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰや、洗浄の度合いを評価するための判定閾値ΔＤｔｈが予め記憶されている。基準データＤＷＰは、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着物がない状態で予め測定した洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の測定結果や、洗浄用粒子群ＷＰのスペック等に記載された数値であり、測定者等によってデータ記憶領域６２に予め記憶されることになる。
【００３１】
判定部４４は、データ記憶領域６２に記憶された洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰと、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に残った先の被測定物と洗浄用粒子群ＷＰとの混合したものの粒度分布の測定結果との差分ΔＤから、洗浄の度合いを評価する制御を行う。具体的には、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含む被測定物の粒度分布の測定結果から、洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰを減算した差分ΔＤ（例えば、少なくとも１個の光検出素子における差分ΔＤ）が、判定閾値ΔＤｔｈ以上であれば、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着物が存在していると判定する。一方、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含む被測定物の粒度分布の測定結果から、洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰを減算した差分ΔＤ（例えば、全ての光検出素子における差分ΔＤ）が、判定閾値ΔＤｔｈ未満であれば、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に付着物が充分に少なくなったと判定する。これにより、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面を充分に洗浄できたことを示す画像やメッセージを表示する。
【００３２】
次に、粒度分布測定装置１による測定方法について説明する。図２は、上述した粒度分布測定装置１による測定方法について説明するためのフローチャートである。
まず、ステップＳ１０１の処理において、ホッパ３２の内部に洗浄用粒子群ＷＰを収容する。そして、ホッパ３２は、洗浄用粒子群ＷＰをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された洗浄用粒子群ＷＰに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に洗浄用粒子群ＷＰを均一に充填する。
【００３３】
次に、ステップＳ１０２の処理において、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、洗浄用粒子群ＷＰを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された洗浄用粒子群ＷＰは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出される。
【００３４】
次に、ステップＳ１０３の処理において、光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる。
次に、ステップＳ１０４の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布を算出してデータ記憶領域６２に基準データＤＷＰとして記憶させる。
【００３５】
次に、ステップＳ１０５の処理において、ホッパ３２の内部に、測定対象となる乾燥粉体Ｐを収容する。そして、ホッパ３２は、乾燥粉体Ｐをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填する。
次に、ステップＳ１０６の処理において、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、乾燥粉体Ｐを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出される。
【００３６】
次に、ステップＳ１０７の処理において、光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる。
次に、ステップＳ１０８の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、粉体粒子Ｐ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出して表示装置５２に表示させる。
【００３７】
次に、ステップＳ１０９の処理において、ホッパ３２の内部に洗浄用粒子群ＷＰを収容する。そして、ホッパ３２は、洗浄用粒子群ＷＰをターンテーブル３１の溝３５の内部に向けて落下させ、充填器３３は、溝３５の内部に供給された洗浄用粒子群ＷＰに対して振動等を与えることによって、溝３５の内部に洗浄用粒子群ＷＰを均一に充填する（収容工程）。
【００３８】
次に、ステップＳ１１０の処理において、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、洗浄用粒子群ＷＰを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された洗浄用粒子群ＷＰは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出される（通過工程）。このとき、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に先の被測定物が残っていれば、洗浄用粒子群ＷＰとともに、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面に残った先の被測定物が測定空間に噴出されることになる。
【００３９】
次に、ステップＳ１１１の処理において、光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域６１に記憶させる。
次に、ステップＳ１１２の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、洗浄用粒子群ＷＰを含むエアロゾルＳの粒度分布を算出する（算出工程）。
【００４０】
次に、ステップＳ１１３の処理において、データ記憶領域６２に記憶された洗浄用粒子群ＷＰの粒度分布の基準データＤＷＰと、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含むエアロゾルＳの粒度分布の測定結果との差分ΔＤが、判定閾値ΔＤｔｈ以上であるか否かを判定する（判定工程）。差分ΔＤが判定閾値ΔＤｔｈ以上であると判定したときには、ステップＳ１０９の処理に戻る。つまり、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆの内面を再度洗浄する。
【００４１】
一方、差分ΔＤが判定閾値ΔＤｔｈ未満であると判定したときには、ステップＳ１１４の処理において、次の乾燥粉体Ｐを測定するか否かを判断する。次の乾燥粉体Ｐを測定すると判断したときには、ステップＳ１０５の処理に戻る。
一方、乾燥粉体Ｐを測定しないと判断したときには、本フローチャートを終了させる。
【００４２】
以上のように、粒度分布測定装置１によれば、洗浄用粒子群ＷＰがエジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとの内面に衝突することで、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆとの内面の付着物を取り除くことができ、その結果、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆ等を取り外すことなく、容易に洗浄することができると共に、洗浄の度合いを評価することができる。
【００４３】
＜第二実施形態＞
図３は、本発明に係る第二実施形態の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、上述した粒度分布測定装置１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置１０１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給する乾燥粉体分散供給装置１３０及び移送機構２４と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置１０１全体を制御するコンピュータ（制御部）１５０と、洗浄用粒子群ＷＰとを備える。
【００４４】
図４（ａ）は、図３に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す垂直方向の断面図であり、図４（ｂ）は、図３に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す水平方向の断面図（図４（ａ）に示すＡ−Ａ線断面図）である。
乾燥粉体分散供給装置１３０は、吸引プローブ１０と試料容器２０とを備える。
吸引プローブ１０は、略円柱状の金属製のプローブ本体１１と、プローブ本体１１の上面の中央部から下面の中央部まで貫通するように配置される円管状の吸引管（吸入管の一つに該当）１２と、プローブ本体１１の上面の周縁部から下面の周縁部まで貫通するように形成された４個の円管状の気流発生口１３と、円環状のＯリング１４とを有する。
【００４５】
吸引管１２は、プローブ本体１１の上面を通って上方に延びている。また、プローブ本体１１の下部の外周面には、凹部が形成されており、Ｏリング１４がはめ込まれている。
４個の気流発生口１３は、プローブ本体１１の先端部を軸方向から視ると、図４（ｂ）に示す通り、プローブ本体１１の周縁部に等間隔をあけて円形状に並ぶように配置されている。
【００４６】
試料容器２０は、円筒状のガラス製又は金属製の側壁２１と、側壁２１の下部に形成された円板状のガラス製又は金属製の底面２２とを有する。そして、試料容器２０の内部には、乾燥粉体Ｐが収容されるようになっている。このとき、乾燥粉体Ｐは、底面２２から高さ５ｃｍ程度で収容される。
そして、プローブ本体１１の水平方向における断面は円形状であり、試料容器２０の側壁２１の水平方向における断面は円環形状であり、プローブ本体１１の水平方向における断面の直径Ｌ２は、試料容器２０の側壁２１の水平方向における断面の内径Ｌ１よりも小さくなっている。また、Ｏリング１４の水平方向における断面は円環形状であり、試料容器２０の側壁２１の内周面とプローブ本体１１の外周面との間に配置されている。これにより、空気が試料容器２０の側壁２１の内周面とプローブ本体１１の外周面との間を通過することがなくなる。
【００４７】
サンプル供給制御部１４２は、測定者によって、エアロゾルＳを測定するように入力装置５１で入力されると、乾燥粉体分散供給装置１３０から測定空間にエアロゾルＳを供給する制御を行う。
具体的には、乾燥粉体Ｐを測定空間に供給するために、吸引プローブ１０が、試料容器２０の内部で乾燥粉体Ｐの表面より少し上に配置される。そして、吸引管１２に対し真空が加えられたとき、空気が予め決まった直径を有する４個の気流発生口１３に入り、試料容器２０の気流発生口１３に沿って高速下向き空気流を形成し、下向き空気流が吸引プローブ１０の下端部において方向を変え、乾燥粉体Ｐの表面より上で高せん断力を生成し、高せん断力が乾燥粉体Ｐを分散させ、分散された乾燥粉体Ｐを吸引管１２の内部にフィードする。
【００４８】
以上のように、粒度分布測定装置１０１によれば、洗浄用粒子群ＷＰがエジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆと吸引管１２との内面に衝突することで、エジェクタ２４ａと吸引パイプ２４ｂとエアロゾル移送パイプ２４ｆと吸引管１２との内面の付着物を取り除くことができ、その結果、エジェクタ２４ａや吸引パイプ２４ｂやエアロゾル移送パイプ２４ｆや吸引管１２等を取り外すことなく、容易に洗浄することができると共に、洗浄の度合いを評価することができる。
【００４９】
＜第三実施形態＞
図５は、第三実施形態の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、上述した粒度分布測定装置１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置２０１は、フローセル（測定空間）２３０を配置するための測定空間配置部（図示せず）と、フローセル２３０に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系２５０と、フローセル２３０に被測定液Ｓを供給するサンプル供給装置２１０と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置２０１全体を制御するコンピュータ（制御部）３５０と、洗浄用粒子群ＷＰとを備える。
本実施形態は、測定時には被測定粒子群Ｐを水（媒体）Ｌ中に分散させた被測定液Ｓを測定することにより、被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出するものである。また、洗浄時には洗浄用粒子群ＷＰを水（媒体）Ｌ中に分散させた被測定液Ｓを測定することにより、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓ（吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４とに残った先の被測定物と洗浄用粒子群ＷＰとの混合したもの）の粒度分布を算出することで、吸入管２２１や排出管２２０や分散槽２１４の内面に残った先の被測定物の量が増加するかを判定して、洗浄の度合いを評価するものである。
【００５０】
粒度分布測定装置２０１の右側部には、検出光学系２５０が設置され、具体的には集光レンズ８４ａとリングディテクタ８４ｂとが左からこの順に配置されている。
また、側方散乱光センサ（光検出素子）２５３が、フローセル２３０から側方（後上方向）への散乱光を検出するように配置され、複数の後方散乱光センサ（光検出素子）２５４が、フローセル２３０から後方（後下方向）への散乱光を検出するように配置されている。
側方散乱光センサ２５３と複数の後方散乱光センサ２５４との出力信号は、アンプ、マルチプレクサ及びＡ−Ｄ変換器からなるデータサンプリング回路８５によって順次デジタル化され、回折・散乱光の光強度分布データとして汎用のコンピュータ３５０に送信される。
【００５１】
分散槽２１４は、攪拌羽根等を有する攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを備える。そして、媒体Ｌが、分散槽２１４内に媒体供給ポンプ２１１から供給されるともに、被測定粒子群Ｐも分散槽２１４内に投入されるようになっている。これにより、攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを所定の時間、駆動させることによって、分散槽２１４内で媒体Ｌ中に被測定粒子群Ｐが均一に分散してなる被測定液Ｓを生成させる。
【００５２】
フローセル２３０は、下端部に下側接続口を、上端部に上側接続口を有する。そして、フローセル２３０の下側接続口は、吸入管２２１と循環ポンプ２２２とを介して分散槽２１４と接続されている。また、上側接続口は、排出管２２０を介して分散槽２１４と接続されている。
このような構成において、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓが分散槽２１４内とフローセル２３０内との間を循環することになる。このとき、被測定液Ｓはフローセル２３０内を下方から上方に流れることになる。
なお、上記フローセルは、例えば、石英ガラスで形成されている。
【００５３】
コンピュータ３５０は、ＣＰＵ３４０とメモリ３６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。ＣＰＵ３４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部３４１と、被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置２１０を制御するサンプル供給制御部３４２と、洗浄の度合いを評価する判定部３４４とを有する。また、メモリ３６０のデータ記憶領域３６２には、洗浄用粒子ＷＰの屈折率や、洗浄の度合いを評価するための変化閾値ΔＤｔｈが予め記憶されている。
【００５４】
サンプル供給制御部３４２は、測定者によって、被測定液Ｓを測定するように入力装置５１で入力されると、サンプル供給装置２１０からフローセル２３０に被測定液Ｓを供給する制御を行う。具体的には、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓを分散槽２１４内とフローセル２３０内との間に循環させる。
【００５５】
光強度分布取得部３４１は、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数（例えば１２８回）積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる制御を行う。
【００５６】
判定部３４４は、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果と、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果との差分ΔＤから、洗浄の度合いを評価する制御を行う。具体的には、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果から、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果を減算した差分ΔＤが、変化閾値ΔＤｔｈ以上であれば、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面に付着物が、まだ存在していると判定する。一方、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果から、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果を減算した差分ΔＤが、変化閾値ΔＤｔｈ未満であれば、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面から付着物が充分に除去されたと判定する。これにより、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面を充分に洗浄できたことを示す画像を表示する。
【００５７】
次に、粒度分布測定装置２０１による測定方法について説明する。図６は、粒度分布測定装置２０１による測定方法について説明するためのフローチャートである。
まず、ステップＳ２０１の処理において、分散槽２１４内に媒体Ｌを媒体供給ポンプ２１１から供給するともに、被測定粒子群Ｐも分散槽２１４内に投入する。そして、攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを所定の時間、駆動させることによって、分散槽２１４内で媒体Ｌ中に被測定粒子群Ｐが均一に分散してなる被測定液Ｓを生成させる。
次に、ステップＳ２０２の処理において、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓを分散槽２１４内とフローセル２３０内との間に循環させる。
【００５８】
次に、ステップＳ２０３の処理において、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数（例えば１２８回）積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる。
次に、ステップＳ２０４の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部３４１で得られた光強度分布データと、被測定粒子Ｐ及び媒体Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、被測定液Ｓに含まれる被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出して表示装置５２に表示させる。
【００５９】
次に、ステップＳ２０５の処理において、被測定粒子群Ｐを含んだ被測定液Ｓを粒度分布測定装置２０１から除去する。
【００６０】
次に、ステップＳ２０６の処理において、洗浄回数に関する洗浄パラメータＮを０とする。
次に、ステップＳ２０７の処理において、分散槽２１４内に媒体Ｌを媒体供給ポンプ２１１から供給するともに、洗浄用粒子群ＷＰも分散槽２１４内に投入する。そして、攪拌機２１２と超音波振動子２１３とを所定の時間、駆動させることによって、分散槽２１４内で媒体Ｌ中に洗浄用粒子群ＷＰが均一に分散してなる被測定液Ｓを生成させる（収容工程）。
【００６１】
次に、ステップＳ２０８の処理において、循環ポンプ２２２を駆動させることによって、被測定液Ｓを分散槽２１４内とフローセル２３０内との間に循環させる（通過工程）。このとき、吸入管２２１や排出管２２０や分散槽２１４の内面に先の被測定物が残っていれば、洗浄用粒子群ＷＰとともに、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４とに残った先の被測定物がフローセル２３０内を流通することになる。
【００６２】
次に、ステップＳ２０９の処理において、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる。
次に、ステップＳ２１０の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部３４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び媒体Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布を算出してデータ記憶領域３６２に記憶させる（算出工程）。
【００６３】
次に、ステップＳ２１１の処理において、洗浄パラメータＮをＮ＋１とする。
次に、ステップＳ２１２の処理において、フローセル２３０に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、所定の回数積算すると、光センサ８４ｂ、２５３、２５４の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得して光強度分布記憶領域３６１に記憶させる。
次に、ステップＳ２１３の処理において、粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部３４１で得られた光強度分布データと、洗浄用粒子ＷＰ及び媒体Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布を算出してデータ記憶領域３６２に記憶させる（算出工程）。
【００６４】
次に、ステップＳ２１４の処理において、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第（ｎ＋１）の測定結果と、粒度分布算出部４３で算出された洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓの粒度分布の第ｎの測定結果との差分ΔＤが、変化閾値ΔＤｔｈ以上であるか否かを判定する（判定工程）。差分ΔＤが変化閾値ΔＤｔｈ以上であると判定したときには、ステップＳ２１１の処理に戻る。つまり、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面を再度洗浄する。
【００６５】
一方、差分ΔＤが変化閾値ΔＤｔｈ未満であると判定したときには、ステップＳ２１５の処理において、洗浄用粒子群ＷＰを含んだ被測定液Ｓを粒度分布測定装置２０１から除去する。
次に、ステップＳ２１６の処理において、次の被測定粒子群Ｐを測定するか否かを判断する。次の被測定粒子群Ｐを測定すると判断したときには、ステップＳ２０１の処理に戻る。一方、被測定粒子群Ｐを測定しないと判断したときには、本フローチャートを終了させる。
【００６６】
以上のように、粒度分布測定装置２０１によれば、洗浄用粒子群ＷＰが吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面に衝突することで、吸入管２２１と排出管２２０と分散槽２１４との内面の付着物を取り除くことができ、その結果、吸入管２２１や排出管２２０や分散槽２１４等を取り外すことなく、容易に洗浄することができる。また、洗浄の度合いを評価することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、光学的手法を用いて被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を測定する粒度分布測定装置等に使用することができる。
【符号の説明】
【００６８】
１ 粒度分布測定装置
２４ａ、２４ｂ、２４ｆ 吸入管
３０ サンプル供給装置
４１ 光強度分布取得部
４３ 粒度分布算出部
８１ レーザ光源
８３ 測定空間配置部
８４ｂ リングディテクタ（検出器）
９１ 排出管
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光を出射する光源と、
光強度分布を検出する検出器と、
被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、
前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、
前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、
前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、
前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置の洗浄方法であって、
前記サンプル供給装置に洗浄用粒子群を含む被測定物を収容する収容工程と、
前記洗浄用粒子群を含む被測定物を、吸入管と測定空間と排出管とを通過させる通過工程とを含むことを特徴とする粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項２】
前記洗浄用粒子群の平均粒子径は１μｍ以上２０００μｍ以下であり、前記洗浄用粒子の材質はガラスであることを特徴とする請求項１に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項３】
前記粒度分布算出部が、前記洗浄用粒子群を含む被測定物の粒度分布を算出する算出工程と、
前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記算出工程で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定工程とを含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項４】
前記基準データは、前記吸入管の内面に付着物がない状態で予め測定した洗浄用粒子群の粒度分布の測定結果であることを特徴とする請求項３に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項５】
前記排出管の排出口は、前記サンプル供給装置と連結され、
前記基準データは、前回に測定した前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果であることを特徴とする請求項３に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項６】
測定光を出射する光源と、
光強度分布を検出する検出器と、
被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、
前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、
前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、
前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、
前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置であって、
平均粒子径が１μｍ以上２０００μｍ以下であり、かつ、材質がガラスである洗浄用粒子群を備えることを特徴とする粒度分布測定装置。
【請求項７】
前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記粒度分布算出部で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定部を備えることを特徴とする請求項６に記載の粒度分布測定装置。
【請求項１】
測定光を出射する光源と、
光強度分布を検出する検出器と、
被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、
前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、
前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、
前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、
前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置の洗浄方法であって、
前記サンプル供給装置に洗浄用粒子群を含む被測定物を収容する収容工程と、
前記洗浄用粒子群を含む被測定物を、吸入管と測定空間と排出管とを通過させる通過工程とを含むことを特徴とする粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項２】
前記洗浄用粒子群の平均粒子径は１μｍ以上２０００μｍ以下であり、前記洗浄用粒子の材質はガラスであることを特徴とする請求項１に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項３】
前記粒度分布算出部が、前記洗浄用粒子群を含む被測定物の粒度分布を算出する算出工程と、
前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記算出工程で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定工程とを含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項４】
前記基準データは、前記吸入管の内面に付着物がない状態で予め測定した洗浄用粒子群の粒度分布の測定結果であることを特徴とする請求項３に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項５】
前記排出管の排出口は、前記サンプル供給装置と連結され、
前記基準データは、前回に測定した前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果であることを特徴とする請求項３に記載の粒度分布測定装置の洗浄方法。
【請求項６】
測定光を出射する光源と、
光強度分布を検出する検出器と、
被測定粒子群を含む被測定物を通過させる測定空間を光源と検出器との間に配置する測定空間配置部と、
前記被測定物が収容されるサンプル供給装置と、
前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、
前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備え、
前記測定空間の一端部は、吸入管を介してサンプル供給装置と連結されるとともに、前記測定空間の他端部は、排出管と連結されている粒度分布測定装置であって、
平均粒子径が１μｍ以上２０００μｍ以下であり、かつ、材質がガラスである洗浄用粒子群を備えることを特徴とする粒度分布測定装置。
【請求項７】
前記サンプル供給装置に収容された洗浄用粒子群の粒度分布の基準データと、前記粒度分布算出部で算出された前記洗浄用粒子群を含む被測定物の測定結果との差分から、洗浄の度合いを評価する判定部を備えることを特徴とする請求項６に記載の粒度分布測定装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１３−９６９６２（Ｐ２０１３−９６９６２Ａ）
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２４２９７８（Ｐ２０１１−２４２９７８）
【出願日】平成２３年１１月７日（２０１１．１１．７）
【出願人】（０００００１９９３）株式会社島津製作所 (3,708)
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月７日（２０１１．１１．７）
【出願人】（０００００１９９３）株式会社島津製作所 (3,708)
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