規則的な構造の有機膜を備える画像形成デバイス
【課題】液体ゼログラフィー用途のための、「耐溶媒性」の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成体、感光体、光伝導体などに関する。複写の欠陥を防ぎ、画像形成体の寿命が短くなることが避けられる。
【解決手段】複数のセグメントおよび複数のリンカーが、共有結合による有機骨格として整列した、耐溶媒性の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む最も外側の層を有し、この規則的な構造の有機膜が、複数セグメント分の厚みであってもよい、ゼログラフィー液体浸漬現像機のための画像形成体。
【解決手段】複数のセグメントおよび複数のリンカーが、共有結合による有機骨格として整列した、耐溶媒性の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む最も外側の層を有し、この規則的な構造の有機膜が、複数セグメント分の厚みであってもよい、ゼログラフィー液体浸漬現像機のための画像形成体。
【発明の詳細な説明】
【発明の概要】
【０００１】
本明細書には、基板と；電荷発生層と；電荷移動層と；場合により、オーバーコート層とを備え、最も外側の層が、複数のセグメントと、複数のリンカーとが共有結合による有機骨格（ＣＯＦ）として整列したものを含む、耐溶媒性の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成表面である、液体トナーをゼログラフィー方式で印刷するための画像形成体が記載されている。
【図面の簡単な説明】
【０００２】
【図１】図１は、ＳＯＦが組み込まれた感光体の側面図をあらわす。
【図２】図２は、ＳＯＦが組み込まれた感光体の単純化された側面図をあらわす。
【図３】図３は、ＳＯＦが組み込まれた感光体の単純化された側面図をあらわす。
【図４】図４は、コントロール実験の混合物の生成物のＦＴ−ＩＲスペクトルを比較したグラフであり、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミンのみを液体反応混合物に加えたもの（上）、ベンゼン−１，４−ジメタノールのみを液体反応混合物に加えたもの（中央）、ＳＯＦを形成するのに必要な成分を液体反応混合物に加えたもの（下）である。
【図５】図５は、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、ｐ−キシリルセグメントと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図６】図６は、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、ｎ−ヘキシルセグメントと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図７】図７は、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、４，４’−（シクロヘキサン１，１−ジイル）ジフェニルと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図８】図８は、トリフェニルアミンセグメントと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図９】図９は、トリフェニルアミンセグメントと、ベンゼンセグメントと、イミンリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図１０】図１０は、トリフェニルアミンセグメントと、イミンリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図１１】図１１は、ＳＯＦオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１２】図１２は、ワックス添加剤を含有するＳＯＦオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１３】図１３は、ＳＯＦオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１４】図１４は、実施例２６および５４で製造されたＳＯＦの二次元Ｘ線散乱データをあらわすグラフである。
【図１５】図１５は、種々のオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１６】図１６は、種々のＳＯＦオーバーコート層について得られた繰り返しデータをあらわすグラフである。
【０００３】
本開示は、一般的に、液体ゼログラフィー用途のための、「耐溶媒性」の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成体、感光体、光伝導体などに関する。
【０００４】
「耐溶媒性」は、（１）ＳＯＦおよび／またはＳＯＦ組成物の一部分であった任意の原子および／または分子が染み出すこと、および／または、（２）ＳＯＦおよび／またはＳＯＦ組成物の一部分であった任意の分子がなんらかの形態で相分離し、ＳＯＦが組み込まれている層が、溶媒／応力によって欠けたり、分解したりしやすくなることが実質的に存在しないことを指す。用語「実質的に存在しない」は、ＳＯＦを含む画像形成体（またはＳＯＦ画像形成層）が、約２４時間以上（約４８時間、または約７２時間）の期間、液体現像剤または溶媒に連続的にさらされるか、または浸された後に、ＳＯＦの原子および／または分子が染み出す量が約０．５％未満であることを指すか、または、ＳＯＦを含む画像形成体（またはＳＯＦ画像形成層）が、約２４時間以上（約４８時間、または約７２時間）の期間、液体現像剤または溶媒にさらされるか、または浸された後に、ＳＯＦの原子および／または分子が染み出す量が約０．１％未満であることを指すか、または、ＳＯＦを含む画像形成体（またはＳＯＦ画像形成層）が、約２４時間以上（約４８時間、または約７２時間）の期間、液体現像剤または溶媒にさらされるか、または浸された後に、ＳＯＦの原子および／または分子が染み出す量が約０．０１％未満であることを指す。
【０００５】
「有機キャリア液」は、液体現像剤および／またはインクで使用される有機液体または溶媒を指し、アルケン、直鎖脂肪族炭化水素、分枝鎖脂肪族炭化水素が挙げられ、ここで、直鎖または分枝鎖の脂肪族炭化水素は、約１〜約３０個の炭素原子を有していてもよく、または、約４〜約２０個の炭素を有していてもよく；また、トルエン、キシレン（またはｏ−、ｍ−、ｐ−キシレン）のような芳香族、および／またはこれらの混合物；アイソパー溶媒またはイソパラフィン系炭化水素、またはＩＳＯＰＡＲ商標シリーズのような非極性液体（アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭを含む（Ｅｘｘｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎによって製造され、これらの炭化水素液体は、イソパラフィン系炭化水素フラクションの範囲の狭い一部であると考えられる））、ＮＯＲＰＡＲ商標シリーズの液体（Ｅｘｘｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なｎ−パラフィン組成物である）、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＳＯＬＴＲＯＬ商標シリーズの液体、Ｓｈｅｌｌ Ｏｉｌ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＳＨＥＬＬＳＯＬ商標シリーズの液体、炭素原子が約１０〜約１８個のイソパラフィン系炭化水素溶媒、またはこれらの混合物が挙げられる。有機キャリア液は、所望な場合、１種類以上の溶媒の混合物（すなわち、溶媒系）であってもよい。それに加え、所望な場合、もっと極性の高い溶媒を用いてもよい。もっと極性の高い使用可能な溶媒の例としては、ハロゲン化溶媒および非ハロゲン化溶媒（テトラヒドロフラン、トリクロロエタンおよびテトラクロロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、アセトン、メタノール、エタノール、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルアセトアミドなどが挙げられる。溶媒は、１種類、２種類、３種類またはそれ以上の異なる溶媒で構成されていてもよく、および／または、上述の溶媒の他の種々の混合物で構成されていてもよい。
【０００６】
より特定的には、本開示は、剛性またはドラム型の光伝導体に関し、単一層または複数層の可とう性ベルト型画像形成体、または基板のような任意要素の支持媒体と、光発生層と、電荷移動層と、ポリマーコーティング層と、任意要素の接着層と、任意要素の正孔遮断層またはアンダーコート層とで構成され、画像形成体の最も外側の層としてＳＯＦを備えていてもよいデバイスに関する。本明細書に示されている画像形成体、感光体、光伝導体は、耐摩耗性に優れ、寿命が長く、画像形成体で１つ以上の表面層に、最終的に作られる印刷物で目視できるような傷を生じ、望ましくない印刷結果を与えてしまうような傷がつくことがなくなるか、または最小限になり、優れた電気特性を可能にし、長い間電気的に動かした後のサイクルアップが最小限になり、駆動時の消失に対する耐性が増し、耐溶媒性、機械的なロバスト性が向上している。さらに、本明細書に開示されている画像形成体または光伝導体は、多くの場合に、優れた低いＶｒ（残留電位）を有し、適切な場合には、Ｖｒのサイクルアップを実質的に防ぎ、感度が高く、ゴースト画像が発生する性質が許容可能なレベルで低く、望ましいトナー洗浄性を示す。
【０００７】
ロバスト性および電気特性（ＰＩＤＣ）に優れた、耐溶媒性のＳＯＦ感光体オーバーコート層（ＯＣＬ）組成物を開示する。種々の分子ビルディングブロックから誘導したＳＯＦオーバーコート層組成物を用い、感光体に対してアイソパー適合性試験（液体トナーの代用試験材料として、Ｉｓｏｐａｒ Ｃ、ＧおよびＭを選択した）を行なったが、感光体の損傷はみられなかった。液体ゼログラフィーのための、ＳＯＦ層を備える画像形成体は、優れた光放電特性を維持しつつ、ＳＯＦの特に高い耐溶媒性を利用するものである。
【０００８】
画像形成体は、デジタル装置を含むゼログラフィー方式の装置で有用な、（耐溶媒性ＳＯＦ、または以下「ＳＯＦ」を最も外側の層として有する）中間転写ベルト、シート、ローラー、またはフィルムであってもよい。「耐溶媒性」ＳＯＦを含む本明細書の画像形成体は、多くの異なるプロセスおよび構成要素（例えば、感光体、定着体、転写固着体、バイアス転写体、バイアス帯電体、現像体、画像保持体、搬送部材、クリーニング部材）、および接触型の静電印刷用途、ゼログラフィー用途（デジタルなどを含む）のための他の部材のための、ベルト、ローラー、ドレルト（ｄｒｅｌｔ）（ドラムとベルトのハイブリッド）などとして有用な場合がある。さらに、本明細書の画像形成体は、液体および乾燥粉末を用いるゼログラフィーアーキテクチャに用いることができる。
【０００９】
画像形成体は、液体現像インクまたはこれらの混合物で使用される水系キャリア液または有機キャリア液（例えば、イソパラフィン系炭化水素、例えば、アイソパー）のいずれかと接触することによって引き起こされる、欠け、ひび割れ、活性化合物の結晶化、活性化合物の相分離、活性化合物の抽出に対し、優れた耐性を示す。したがって、画像形成体は、ＳＯＦを用いない画像形成体に比べ、優れた機械的一体性や、電気特性を有している。アリールアミンを含有する化合物をＳＯＦに組み込んでもよく、それにより、液体現像剤の有機キャリア液が、アリールアミンを含有する化合物のような活性な低分子を染み出させる傾向が増すという状況を防ぐことができる。
【００１０】
活性な低分子、例えば、典型的には、電荷移動層で使用される分子（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン；ビス−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−フェニルメタン；２，５−ビス−（４’−ジメチルアミノフェニル）−１，３，４，−オキサジアゾール；１−フェニル−３−（４’−ジエチルアミノスチリル）−５−（４”−ジエチルアミノフェニル）−ピラゾリン；１，１−ビス−（４−（ジ−Ｎ，Ｎ’−ｐ−メチルフェニル）−アミノフェニル）−シクロヘキサン；４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン；１，１−ジフェニル−２（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノフェニル）−エチレン；Ｎ−エチルカルバゾール−３−カルボキサアルデヒド−１−メチル−１−フェニルヒドラゾン）が画像形成体表面に結晶化し、次いで、液体現像インクにアリールアミンが移動することは、ＳＯＦを用いることによって避けることができる。それに加え、画像形成体のＳＯＦは、インクビヒクル（例えば、Ｃ１０〜Ｃ１４の分枝鎖炭化水素）を、画像形成体表面に、欠けやひび割れ（例えば、眼で見て検出される欠けおよびひび割れ）が生成しないように使用することができるように選択されてもよい。それにより、複写の欠陥を防ぎ、画像形成体の寿命が短くなることが避けられる。画像形成体または感光体が分解すると、画像形成体が物理的に完全に破壊されてしまう前に、バックグラウンドが高くなったり、他の印刷欠陥が生じたりという現象があらわれる。
【００１１】
また、本明細書に示す画像形成体を用い、画像形成し、印刷する液体ゼログラフィー法も、本開示の範囲に含まれる。
【００１２】
「ＳＯＦ」は、一般的に巨視的なレベルで膜である、共有結合による有機骨格（ＣＯＦ）を指す。「巨視的なレベル」は、ＳＯＦの肉眼での見た目を指す。ＣＯＦは、「微視的なレベル」または「分子レベル」では（強力な拡大装置の使用を必要とするか、または分散方法を用いて評価した場合）網目であるが、本発明のＳＯＦは、この膜が、例えば、微視的なレベルのＣＯＦ網目よりも何桁も大きな範囲を覆っているため、基本的に「巨視的なレベル」では異なっている。本明細書に記載の実施形態で使用可能な、本明細書に記載のＳＯＦは、耐溶媒性であり、すでに合成されている典型的なＣＯＦとはかなり異なる巨視的な形態を有している。
【００１３】
さらに、キャッピングユニットがＳＯＦに導入されると、ＳＯＦの骨格は、キャッピングユニットが存在する箇所で局所的に「中断される」。これらのＳＯＦ組成物は、外来分子が、キャッピングユニットが存在する箇所でＳＯＦ骨格に結合しているため、「共有結合によってドープされて」いる。キャッピングされたＳＯＦ組成物は、構成要素であるビルディングブロックを変えることなく、ＳＯＦの特性を変えることができる。
【００１４】
ＳＯＦは、１ミリメートル〜数メートル、または数百メートルよりもかなり大きな長さにわたって延ばすことが可能な、連続的な共有結合による有機骨格を有する、実質的にピンホールを含まないＳＯＦであってもよく、またはピンホールを含まないＳＯＦであってもよい。ＳＯＦは、大きなアスペクト比を有する傾向があり、典型的には、ＳＯＦの２方向の寸法が、第３の寸法よりもかなり大きい。ＳＯＦは、ＣＯＦ粒子の集合体よりも、巨視的な縁や、不連続の外側表面が顕著に少ない。
【００１５】
「実質的にピンホールを含まないＳＯＦ」または「ピンホールを含まないＳＯＦ」は、その下にある基板表面に堆積した反応混合物から生成する。「実質的にピンホールを含まないＳＯＦ」は、生成したＳＯＦの下にある基板から取り外されてもよく、取り外されなくてもよいＳＯＦを指し、１平方センチメートルあたり、２個の隣接するセグメントのコア間の距離よりも大きなピンホール、孔またはギャップを実質的に含んでいないか、または、１ｃｍ２あたり、直径が約２５０ナノメートルより大きなピンホール、孔またはギャップが１０個未満であるか、または、１ｃｍ２あたり、直径約１００ナノメートルよりも大きなピンホール、孔またはギャップが５個未満である。「ピンホールを含まないＳＯＦ」は、１平方マイクロメートルあたり、２個の隣接するセグメントのコア間の距離よりも大きなピンホール、孔またはギャップを含まないか、または、１平方マイクロメートルあたり、直径が約５００Å、約２５０Åまたは約１００Åよりも大きなピンホール、孔またはギャップを含まないＳＯＦを指す。
【００１６】
ＳＯＦは、炭素以外の元素の原子のうち、少なくとも１個、または、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子を含んでいてもよい。ＳＯＦは、ボロキシン、ボラジン、ボロシリケート、ボロン酸エステルを含まないＳＯＦであってもよい。
【００１７】
ＳＯＦは、セグメント（Ｓ）と、官能基（Ｆｇ）とを有する分子ビルディングブロックを含んでいてもよい。分子ビルディングブロックには、少なくとも２個のＦｇ（ｘ≧２）が必要であり、１種類のＦｇを含んでいてもよいし、または２種類以上のＦｇを含んでいてもよい。Ｆｇは、分子ビルディングブロックの反応性化学部分であり、ＳＯＦ形成プロセス中、セグメントを接続する化学反応に関与する。セグメントは、分子ビルディングブロックの一部分であり、Ｆｇを支え、Ｆｇとは関連しないすべての原子を含む。分子ビルディングブロックのセグメントの組成は、ＳＯＦを形成した後も変わらない。
【００１８】
Ｆｇは、分子ビルディングブロックの反応性化学部分であり、ＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する化学反応に関与してもよい。Ｆｇは、１個の原子で構成されていてもよく、Ｆｇは、２個以上の原子で構成されていてもよい。Ｆｇの例としては、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カーボネート、アミン、アミド、イミン、尿素、アルデヒド、イソシアネート、トシレート、アルケン、アルキンが挙げられる。
【００１９】
分子ビルディングブロックは、複数の化学部分を含有しているが、これらの化学部分の部分集合のみが、ＳＯＦ形成プロセス中にＦｇであることを意図している。ある化学部分が、官能基とみなされるかどうかは、ＳＯＦ形成プロセスで選ばれる反応条件によって変わる。Ｆｇは、反応性部分（ＳＯＦ形成プロセス中の官能基）である化学部分を示す。
【００２０】
ＳＯＦ形成プロセスにおいて、官能基の組成は、原子が失われるか、または原子が付け加えられるか、またはその両者によって変わる場合があり、または、官能基が完全に失われる場合もある。ＳＯＦにおいて、以前はＦｇに属していた原子が、セグメントを接続する化学部分であるリンカー基に属するようになる。分子ビルディングブロックの一部である原子または原子群が、ＳＯＦのリンカー基内にとどまっていてもよい。
【００２１】
キャッピングユニットは、ＳＯＦに通常存在する共有結合したビルディングブロックの規則的な網目を「中断する」分子である。キャッピングされたＳＯＦ組成物は、導入されるキャッピングユニットの種類および量によって特性を変えることが可能な、調整可能な材料である。キャッピングユニットは、１種類または２種類以上のＦｇおよび／または化学部分を含んでいてもよい。
【００２２】
キャッピングユニットは、ＳＯＦに加えられ、最終的にＳＯＦとなるいずれかの分子ビルディングブロックの構造に無関係な構造を有していてもよい。
【００２３】
キャッピングユニットは、分子ビルディングブロックの１つの構造に実質的に対応しているが、１つ以上のＦｇが失われているか、またはＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する化学反応（最初に存在するビルディングブロックの官能基との反応）に関与しない異なる化学部分または官能基と置き換わっているような構造を有していてもよい。
【００２４】
キャッピングユニットは、キャッピングユニットの混合物、または、第１、第２、第３、第４のキャッピングユニットなどの組み合わせを含んでいてもよく、この場合、キャッピングユニットの構造はさまざまである。キャッピングユニットまたは複数のキャッピングユニットの組み合わせの構造は、ＳＯＦの化学的特性および物理的特性を高めるか、または弱めるように選択されてもよく、または、ＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する化学反応に関与するのに適していないか、または補助的でもないような化学部分または官能基の属性を変え、キャッピングユニットの混合物を生成してもよい。このように、ＳＯＦ骨格に導入されるキャッピングユニットの種類は、ＳＯＦに望ましい特性を導入するか、またはＳＯＦの望ましい特性を調整するように選択されてもよい。
【００２５】
ＳＯＦは、ＳＯＦの縁に位置していないセグメントを含有していてもよく、このセグメントが、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。２型および３型のＳＯＦは、ＳＯＦの縁に位置していないセグメントを少なくとも１個有しており、このセグメントが、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。ＳＯＦは、理想的な三角形のビルディングブロック、ひずみのある三角形のビルディングブロック、理想的な四面体のビルディングブロック、ひずみのある四面体のビルディングブロック、理想的な四角形のビルディングブロック、ひずみのある四角形のビルディングブロックからなる群から選択される少なくとも１つの対称形のビルディングブロックを含んでいてもよい。
【００２６】
ＳＯＦは、すべてのセグメントが同一の構造を有している複数のセグメントと、同一の構造であってもよく、同一の構造でなくてもよい複数のリンカーとを含んでいてもよく、ＳＯＦの縁にないセグメントは、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。ＳＯＦは、構造が異なる少なくとも第１および第２のセグメントを含む複数のセグメントを含んでいてもよく、第１のセグメントは、ＳＯＦの縁にない場合には、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。
【００２７】
ＳＯＦは、構造が異なる少なくとも第１および第２のリンカーを含む複数のリンカーと、構造が異なる少なくとも第１および第２のセグメントを含む複数のセグメントとを含んでいてもよく、第１のセグメントは、ＳＯＦの縁にない場合には、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続しており、この接続のうち、少なくとも１つは第１のリンカーを介しており、この接続のうち、少なくとも１つは第２のリンカーを介しているか、または、すべてのセグメントが同一の構造を有しているセグメントを含んでおり、ＳＯＦの縁にないセグメントは、リンカーによって少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続しており、この接続のうち、少なくとも１つは第１のリンカーを介しており、この接続のうち、少なくとも１つは第２のリンカーを介している。
【００２８】
セグメントは、分子ビルディングブロックの一部分であり、Ｆｇを支え、Ｆｇとは関連しないすべての原子を含む。さらに、分子ビルディングブロックのセグメントの組成は、ＳＯＦを形成した後も変わらない。ＳＯＦは、第２のセグメントと構造が同じであるか、または異なる第１のセグメントを含んでいてもよい。第１のセグメントおよび／または第２のセグメントの構造は、第３のセグメント、第４のセグメント、第５のセグメントなどと同じであってもよく、異なっていてもよい。また、セグメントは、ある偏った特性を与えることが可能な分子ビルディングブロックの一部分でもある。
【００２９】
ＳＯＦの例示的なセグメントは、炭素以外の元素の原子のうち、少なくとも１個（水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子）を含む。
【００３０】
リンカーは、分子ビルディングブロックおよび／またはキャッピングユニットに存在するＦｇ間で化学反応が起こると、ＳＯＦ中に出現する化学部分である。
【００３１】
リンカーは、共有結合、１個の原子、または共有結合した原子群を含んでいてもよい。共有結合リンカーは、１個の共有結合であってもよく、２個の共有結合であってもよく、すべての関与するビルディングブロック上のＦｇが完全に失われると出現する。化学部分リンカーは、１個の共有結合、２個の共有結合またはこれら二者の組み合わせによって結合した１個以上の原子を有する。化学部分リンカーは、エステル、ケトン、アミド、イミン、エーテル、ウレタン、カーボネートなど、またはこれらの誘導体のような化学基であってもよい。
【００３２】
２個のヒドロキシルＦｇを用い、酸素原子を介してＳＯＦ中のセグメントを接続する場合、リンカーは、酸素原子である（エーテルリンカー）。ＳＯＦは、第２のリンカーと構造が同じであるか、または異なる第１のリンカーを含んでいてもよい。第１のリンカーおよび／または第２のリンカーの構造は、第３のリンカーなどと同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００３３】
キャッピングユニットは、全体的なＳＯＦ骨格が十分に維持されるならば、任意の望ましい量でＳＯＦ中に結合していてもよい。キャッピングユニットは、すべてのリンカーのうち、少なくとも０．１％に結合していてもよいが、ＳＯＦ中に存在するすべてのリンカーの約４０％を超えるリンカーには結合しておらず、または、約０．５％〜約３０％、または約２％〜約２０％に結合していてもよい。実質的にすべてのセグメントが、少なくとも１つのキャッピングユニットに結合していてもよく、ここで、用語「実質的にすべての」は、ＳＯＦのセグメントのうち、約９５％を超えるか、または約９９％を超えることを指す。
【００３４】
例示的なリンカーは、炭素以外の元素の原子のうち、少なくとも１個（水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子）を含んでいてもよい。
【００３５】
ＳＯＦは、任意の適切なアスペクト比を有しており、例えば、約３０：１より大きいか、または約５０：１より大きいか、または約７０：１より大きいか、または約１００：１より大きいか、または約１０００：１より大きい。ＳＯＦのアスペクト比は、平均厚み（最も短い寸法）に対する、ＳＯＦの平均幅または平均直径（厚みに対して二番目に大きな寸法）の比率であると定義される。ＳＯＦの最も長い寸法は長さであり、ＳＯＦのアスペクト比の計算には考慮されない。
【００３６】
一般的に、ＳＯＦは、約５００μｍ、または約１０ｍｍ、または約３０ｍｍよりも大きな幅、長さまたは直径を有する。ＳＯＦは、以下の厚みを有する：セグメント１個分の厚みをもつ層の場合、約１０Å〜約２５０Å、または約２０Å〜約２００Å、複数個のセグメントの厚みをもつ層の場合、約２０ｎｍ〜約５ｍｍ、約５０ｎｍ〜約１０ｍｍ。
【００３７】
ＳＯＦは、単一層であってもよく、複数の層を含んでいてもよい。複数の層で構成されるＳＯＦは、物理的に接続されていてもよく（例えば、双極子による結合および水素結合）、化学的に接続されていてもよい。物理的に結合している層は、層間の相互作用または接着性が弱いという特徴があり、したがって、物理的に結合している層は、互いに剥離しやすい場合がある。化学的に結合している層は、化学結合（例えば、共有結合またはイオン結合）を有しているか、または隣接する層を強く接続する、多くの物理的なエンタングルメントまたは分子間（高分子）エンタングルメントを有していると予想される。
【００３８】
ＳＯＦは、単一層であってもよく（セグメント１個分または複数個分の厚み）、または複数の層であってもよい（それぞれの層が、セグメント１個分または複数個分の厚みである）。「厚み」は、例えば、膜の最も小さな寸法を指す。また、膜の厚みは、膜の断面を観察する場合には、その膜の軸に沿って計測されるセグメントの数で定義されてもよい。「単一層」のＳＯＦは、セグメント１個分の厚みをもつ膜である。この軸に沿って２個以上のセグメントが存在するＳＯＦは、「複数個のセグメント」の厚みをもつＳＯＦである。
【００３９】
物理的に結合している複数層のＳＯＦを調製する例示的な方法は、（１）第１の硬化サイクルで硬化してもよい、基板となるＳＯＦ層を作成することと、（２）この基板層に、第２の反応性の濡れた層を作成した後、第２の硬化サイクルを行い、望ましい場合、この第２の工程を繰り返し、第３の層、第４の層などを作成することとを含む。物理的に積み重ねられた複数層のＳＯＦは、約２０Åを超える厚みを有していてもよく、または、約２０Å〜約１０ｃｍ、約１ｎｍ〜約１０ｍｍ、または約０．１ｍｍ〜約５ｍｍの厚みを有していてもよい。
【００４０】
化学的に結合している複数層のＳＯＦを調製する方法は、（１）第１の反応性の濡れた層から、表面にＦｇが存在する（ぶら下がっているＦｇを有する）基板となるＳＯＦ層を作成することと、（２）この基板層に、基板のＳＯＦ層の表面にぶら下がっているＦｇと反応することが可能なＦｇを有する分子ビルディングブロックを含む第２の反応性の濡れた層から、第２のＳＯＦ層を作成することとを含む。キャッピングされたＳＯＦは、基板層の役目を果たしてもよく、基板層のＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する特定の化学反応に関与するのに適切でもなく、または補助的でもなかったＦｇを第２の層の分子ビルディングブロックと反応するのに利用し、化学的に結合した複数層のＳＯＦを作成してもよい。第２のＳＯＦ層を作成するのに用いられる配合物は、基板層のＦｇと反応可能であり、また、第２の層に化学的に結合している第３の層に存在し得るさらなるＦｇとも反応可能な分子ビルディングブロックを含んでいるべきである。化学的に積み重ねられた複数層のＳＯＦは、約２０Åを超える厚みを有していてもよく、または、約２０Å〜約１０ｃｍ、約１ｎｍ〜約１０ｍｍ、または約０．１ｍｍ〜約５ｍｍの厚みを有していてもよい。このプロセスでは、原理的に、物理的または化学的に積み重ねることが可能な層の数に制限はない。
【００４１】
ＳＯＦまたはキャッピングされたＳＯＦの表面に存在する、ぶら下がっているＦｇまたは化学部分は、特定の種類の分子または個々の分子が、基板層または任意のさらなる基板層またはＳＯＦ層に共有結合する傾向が高まるように（または、共有結合しにくくなるように）改変されてもよい。反応性のぶら下がっているＦｇを含んでいてもよい基板層（例えば、ＳＯＦ層）の表面は、キャッピング化学基で表面処理することによって反応性が抑えられてもよい。ぶら下がっているヒドロキシアルコール基を有するＳＯＦ層は、塩化トリメチルシリルで処理され、ヒドロキシル基が安定なトリメチルシリルエーテルとしてキャッピングされることによって反応性が抑えられてもよい。または、基板層の表面を非化学的な結合剤で処理し、ぶら下がっているＦｇが次の層と反応しないようにしてもよい。
【００４２】
分子ビルディングブロックの対称性は、分子ビルディングブロックのセグメント周囲にある官能基（Ｆｇ）の位置に関連する。対称的な分子ビルディングブロックは、Ｆｇの位置が、規則的な幾何学形状の棒状部分の端、頂点と関連するようなＦｇであってもよく、ひずみのある棒状部分またはひずみのある幾何学形状の頂点と関連するようなＦｇであってもよい。例えば、４個のＦｇを含む分子ビルディングブロックのうち、最も対称形の選択肢は、Ｆｇが四角形の端点または四面体の頂点と重なるものである。
【００４３】
対称形ビルディングブロックは、以下の２つの理由で用いられる。（１）分子ビルディングブロックのパターン化は、規則的な形状の接続が、網状物質の化学においてよりよく理解されたプロセスであるため、良好であると予想されると思われるため、（２）対称性の低いビルディングブロックのずれた構造／配向は、ＳＯＦ内に多くの可能な接続欠陥が起こるように適合し得るため、分子ビルディングブロック間の完全な反応が起こりやすいため。ＳＯＦは、理想的な三角形のビルディングブロック、ひずみのある三角形のビルディングブロック、理想的な四面体のビルディングブロック、ひずみのある四面体のビルディングブロック、理想的な四角形のビルディングブロック、ひずみのある四角形のビルディングブロックからなる群から選択される少なくとも１つの対称形のビルディングブロックを含んでいてもよい。
【００４４】
化学物質の接続は、Ｆｇ間の反応によって、膜生成プロセス中、または膜生成プロセス後にＳＯＦからほとんどを蒸発させるか、または取り去ることが可能な揮発性副生成物を生じるか、または複製生物が生成しないように行ってもよい。化学物質を接続する反応としては、エステル、イミン、エーテル、カーボネート、ウレタン、アミド、アセタール、シリルエーテルを生成するような縮合反応、付加／脱離反応、付加反応が挙げられる。
【００４５】
官能基間の反応によって、膜生成プロセスの後に、ほとんどがＳＯＦ内に組み込まれたままであるような、非揮発性の副生成物が生成する。化学物質を接続する反応としては、炭素−炭素結合を生成するような置換反応、メタセシス反応、金属触媒によるカップリング反応が挙げられる。
【００４６】
また、ＳＯＦは、高い熱安定性を有し（典型的には、大気条件で、４００度よりも高い）、有機溶媒への溶解性が低く（化学薬品安定性）、多孔性であってもよい（可逆的にゲストを取り込むことができる）。
【００４７】
加えられる機能性は、従来のＣＯＦに固有ではない特性を示し、分子組成物が、得られたＳＯＦに上述の加えられる機能性を与えるような分子ビルディングブロックを選択することによって行ってもよい。加えられる機能性によって、加えられる機能性に「偏った特性」を有する分子ビルディングブロックの集合体を生じてもよい。また、加えられる機能性によって、この加えられる機能性に「偏った特性」を有さない分子ビルディングブロックの集合体を生じるが、得られたＳＯＦが、ＳＯＦ内へのセグメント（Ｓ）とリンカーとの接続の結果として、この加えられる機能性を有していてもよい。さらに、加えられる機能性の発生は、この加えられる機能性に「偏った特性」を有する分子ビルディングブロックを用いる効果と組み合わせることによって生じてもよく、この偏った特性は、セグメントおよびリンカーがＳＯＦに接続すると、改変されるか、または高まる。
【００４８】
分子ビルディングブロックの「偏った特性」との用語は、特定の分子組成物について存在することが知られている特性、またはセグメントの分子組成物を観察すれば、当業者ならば合理的に特定可能な特性を指す。用語「偏った特性」および「加えられる機能性」は、同じ一般的な特性（例えば、疎水性、電気活性など）を指すが、「偏った特性」は、分子ビルディングブロックの観点で用いられ、「加えられる機能性」は、ＳＯＦの観点で用いられる。
【００４９】
ＳＯＦの疎水性（超疎水性）、親水性、疎油性（超疎油性）、脂溶性、光発色性および／または電気活性（導体、半導体、電荷移動材料）といった性質は、ＳＯＦの「加えられる機能性」をあらわし得る特性の例である。
【００５０】
疎水性（超疎水性）は、水または他の極性種をはじく特性、（１）水を吸収し、および／またはその結果膨潤することができないこと、（２）水または他の水素結合種と強い水素結合を形成することができないことを指す。
【００５１】
親水性は、水または他の極性種、またはこのような種に簡単に濡れる表面を引きよせ、吸着するか、または吸収する特性を指す。また、親水性とは、水または他の水素結合種と強い水素結合を形成するか、または多くの水素結合を形成することが可能なことを意味する。
【００５２】
疎油性（油分をはじく性質）は、油または他の非極性種をはじく特性を指す。
【００５３】
脂溶性（油分に溶ける性質）は、油または他の非極性種を引きつける特性を指す。
【００５４】
光発色性は、電磁放射線に露光すると、可逆的な色変化を示す能力を指す。光発色性分子を含むＳＯＦ組成物を調製し、電磁放射線に露光し、可逆的な色変化を示してもよい。
【００５５】
電気活性は、電荷（電子および／または正孔）を移動する特性を指す。電気活性材料としては、導体、半導体、電荷移動材料が挙げられる。導体は、電位差がある状態で、容易に電荷を移動させる材料であると定義される。半導体は、本質的に電気伝導性ではないが、電位差がある状態や、刺激（電場、電磁波、熱など）を加えると電気伝導性になる材料であると定義される。電荷移動材料は、電位差がある状態で、別の材料（例えば、染料、顔料または金属）から電荷が注入されると、その電荷を移動させることができる材料であると定義される。
【００５６】
導体は、電位差計を用い、約０．１〜約１０７Ｓ／ｃｍのシグナルが得られる材料である。
【００５７】
半導体は、さらに、刺激が加えられた状態で、電位差計を用い、約１０−６〜約１０４Ｓ／ｃｍのシグナルが得られる材料であると定義されてもよい。または、半導体は、刺激にさらされた場合に、飛行時間技術を用いて測定すると、１０−１０〜約１０６ｃｍ２Ｖ−１ｓ−１の範囲の電子移動性および／または正孔移動性を有する材料であると定義されてもよい。
【００５８】
さらに、電荷移動材料は、飛行時間技術を用いて測定すると、１０−１０〜約１０６ｃｍ２Ｖ−１ｓ−１の範囲の電子移動性および／または正孔移動性を有する材料であると定義されてもよい。ある状況下で、電荷移動材料も半導体に分類される場合があることを注記しておかねばならない。
【００５９】
加えられる機能として疎水性を有するＳＯＦは、疎水性に偏った特性を有し、および／またはマイクロメートル未満からマイクロメートル程度のスケールで、硬く、ざらつきがあるか、または多孔性の表面を有するような分子ビルディングブロックを用いて調製されてもよい。疎水性であり、マイクロメートル未満からマイクロメートル程度のスケールで、硬く、ざらつきがあるか、または多孔性の表面を有するような材料について記載した論文は、著者がＣａｓｓｉｅおよびＢａｘｔｅｒのもの（Ｃａｓｓｉｅ，Ａ．Ｂ．Ｄ．；Ｂａｘｔｅｒ，Ｓ．Ｔｒａｎｓ．Ｆａｒａｄａｙ Ｓｏｃ．，１９４４，４０，５４６）に記載されている。
【００６０】
高度にフッ素化されたセグメント（加えられる機能として疎水性を有するＳＯＦを導いてもよい）は、セグメントに存在するフッ素原子の数を、セグメントに存在する水素原子の数で割った値が１より大きいセグメントである。
【００６１】
このようなフッ素化されたセグメントとしては、テトラフルオロヒドロキノン、ペルフルオロアジピン酸水和物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノールが挙げられる。
【００６２】
マイクロメートル未満からマイクロメートル程度のスケールで、硬く、ざらつきがあるか、または多孔性の表面を有するＳＯＦも疎水性であってもよい。硬く、ざらつきがあるか、または多孔性のＳＯＦ表面によって、膜表面にぶら下がっているＦｇが存在するか、またはＳＯＦの構造からぶら下がっているＦｇを有していてもよい。パターンの種類およびパターン化の程度は、分子ビルディングブロックの幾何形状および接続する化学の効率に依存して変わる。表面の粗さまたはざらつきをもたらす特徴の大きさは、約１００ｎｍ〜約１０μｍ、または約５００ｎｍ〜約５μｍである。
【００６３】
極性置換基を有するセグメントは、偏った特性として親水性を有しており、加えられる機能として親水性を有するＳＯＦを生じてもよい。極性置換基は、水と水素結合を生成することが可能な置換基を指し、ヒドロキシル、アミノ、アンモニウム、カルボニル（ケトン、カルボン酸、エステル、アミド、カーボネート、尿素）が挙げられる。
【００６４】
加えられる機能として電気活性を有するＳＯＦは、偏った特性として電気活性を有する分子ビルディングブロックによって調製されてもよく、および／または、セグメントおよびリンカーを組み合わせた集合体から電気活性が生じてもよい。
【００６５】
加えられる機能として正孔移動性を有するＳＯＦは、トリアリールアミン、ヒドラゾンを含むセグメントコアを選択することによって得られてもよく（米国特許第７，２０２，００２号）、エナミンを含むセグメントコアを選択することによって得られてもよい（米国特許第７，４１６，８２４号）。
【化１】
トリアリールアミンを含むセグメントコア：
【化２】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、Ａｒ５は、それぞれ独立して、置換されているか、または置換されていないアリール基をあらわし、または、Ａｒ５は、独立して、置換されているか、または置換されていないアリーレン基をあらわし、ｋは、０または１をあらわし、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、Ａｒ５のうち、少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義したもの）を含む。Ａｒ５は、置換されたフェニル環、置換された／置換されていないフェニレン、置換された／置換されていない一価の結合した芳香族環（例えば、ビフェニル、ターフェニルなど）、または置換された／置換されていない縮合した芳香族環（ナフチル、アントラニル、フェナントリルなど）であってもよい。
【００６６】
加えられる機能として正孔移動性を有する、アリールアミンを含むセグメントコアとしては、アリールアミン：トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン；ヒドラゾン：Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾン、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾン；オキサジアゾール：２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール、スチルベンなどが挙げられる。
【００６７】
正孔移動性に偏った、トリアリールアミンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化３】
【００６８】
ヒドラゾンを含むセグメントコア：
【化４】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は、それぞれ独立して、場合により１個以上の置換基を含むアリール基をあらわし、Ｒは、水素原子、アリール基またはアルキル基をあらわし、場合により置換基を含んでいてもよく；Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３のうち、少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義したもの）を含む；および関連するオキサジアゾール：
【化５】
式中、Ａｒ、Ａｒ１は、それぞれ独立して、Ｆｇ（上に定義したもの）を含むアリール基をあらわす。
【００６９】
正孔移動性に偏った、ヒドラゾンコアおよびオキサジアゾールコアを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化６】
【００７０】
エナミンを含むセグメントコア：
【化７】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４は、それぞれ独立して、場合により１個以上の置換基を含むアリール基、または場合により１個以上の置換基を含むヘテロ環基をあらわし、Ｒは、水素原子、アリール基またはアルキル基をあらわし、場合により置換基を含んでいてもよく；Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４のうち、少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義したもの）を含む。
【００７１】
正孔移動性に偏った、エナミンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化８】
【００７２】
加えられる機能として電子移動性を有するＳＯＦは、以下の一般構造を有するニトロフルオレノン、９−フルオレニリデンマロニトリル、ジフェノキノン、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドを含むセグメントコアを選択することによって得てもよい。
【化９】
なお、ジフェニルキノンのカルボニル基は、ＳＯＦ形成プロセス中にＦｇとしても作用可能であることを注記しておく。
【００７３】
加えられる機能として半導体性を有するＳＯＦは、以下の一般構造を有するアセン、チオフェン／オリゴチオフェン／縮合チオフェン、ペリレンビスイミド、またはテトラチオフルバレン、およびこれらの誘導体を含むセグメントコアを選択することによって得てもよい。
【化１０】
【００７４】
ＳＯＦは、ｐ型半導体であってもよく、ｎ型半導体であってもよく、アンバイポーラ型半導体であってもよい。ＳＯＦ半導体の種類は、分子ビルディングブロックの性質に依存する。電子供与性を有する分子ビルディングブロックとしては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基が挙げられ、これらがＳＯＦに存在すると、ＳＯＦをｐ型半導体にする場合がある。電子求引性を有する分子ビルディングブロックとしては、シアノ基、ニトロ基、フルオロ基、フッ素化アルキル基、フッ素化アリール基が挙げられ、これらは、ＳＯＦをｎ型の半導体にする場合がある。
【００７５】
半導体性に偏った、アセンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化１１】
【００７６】
半導体性に偏った、チオフェン／オリゴチオフェン／縮合チオフェンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化１２】
【００７７】
半導体性に偏った、ペリレンビスイミドコアセグメントを含む分子ビルディングブロックの例は、以下の化学構造から誘導されてもよい。
【化１３】
【００７８】
半導体性に偏った、テトラチオフルバレンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化１４】
【００７９】
式中、Ａｒは、それぞれ独立して、場合により１個以上の置換基を含むアリール基、または場合により１個以上の置換基を含むヘテロ環基をあらわす。ＳＯＦまたは耐溶媒性ＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、複数の作業または工程を含んでおり、これらの作業または工程を任意の適切な順序で行ってもよく、または、２つ以上の作業を同時に行ってもよく、非常に近い時間に行ってもよい。
【００８０】
キャッピングされたＳＯＦおよび／またはコンポジットＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、キャッピングされていないＳＯＦを製造するために用いられるのと同じ数の作業または工程を含む。得られるＳＯＦ中の望ましいキャッピングユニットの分布に依存して、工程ａ、ｂまたはｃのいずれかの間にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を加えてもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分の分布が、得られたＳＯＦ全体に実質的に均一であることが望ましい場合、キャッピングユニットは、工程ａの間に加えてもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分の分布がもっと不均一であることが望ましい場合、工程ｂおよびｃの間にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を加えてもよい。
【００８１】
上述の作業または工程は、大気圧、大気圧を超える圧力、または大気圧より低い圧力で行ってもよい。約０．１ａｔｍ〜約２ａｔｍ、または約０．５ａｔｍ〜約１．５ａｔｍ、または約０．８ａｔｍ〜約１．２ａｔｍの圧力を利用してもよい。
【００８２】
プロセスの作業Ａ：液体コーティング反応混合物の調製：反応混合物は、液体に溶解するか、懸濁するか、または混合するような複数の分子ビルディングブロックを含む。複数の分子ビルディングブロックは、１種類であってもよく、または２種類以上を含んでいてもよい。１種類以上の分子ビルディングブロックが液体である場合、さらなる液体の使用は任意である。場合により、プレＳＯＦの形成を可能にし、および／または上述の作業Ｃの間のＳＯＦ形成速度を変えるために、反応混合物に触媒を加えてもよい。用語「プレＳＯＦ」は、互いに反応し、出発原料である分子ビルディングブロックよりも高い分子量を有し、他のビルディングブロックまたはプレＳＯＦとさらに反応してＳＯＦを得ることが可能なような複数のＦｇを含有するような、少なくとも２種類の分子ビルディングブロックを指していてもよく、実質的に欠陥がないＳＯＦ、または欠陥がないＳＯＦであってもよく、および／または、分子ビルディングブロックのＦｇの「活性化」によって、膜形成プロセスの反応性が高まったり、変わったりする。活性化としては、官能基部分の解離、触媒の事前の会合、溶媒分子、液体、第２の溶媒、第２の液体、第２の成分、または官能基の反応性を変える任意の部分との会合が挙げられる。プレＳＯＦの形成は、分子ビルディングブロック間の反応、または分子ビルディングブロックのＦｇの「活性化」を含んでいてもよく、これら両方を含んでいてもよい。「プレＳＯＦ」の配合は、複数の様式で達成されてもよく、例えば、反応混合物を加熱すること、反応混合物にＵＶを照射すること、または分子ビルディングブロックを部分的に反応させる任意の他の手段、および／または濡れた層を基板に堆積させる前に、反応混合物中のＦｇを活性化させることを含んでいてもよい。場合により、反応混合物に添加剤または第２の成分を加え、得られるＳＯＦの物理的特性を変えてもよい。
【００８３】
反応混合物の成分（分子ビルディングブロック、場合により、液体、場合により、触媒、場合により、添加剤）を容器内で混合する。反応混合物の成分を加える順序は、さまざまであってもよいが、典型的には、ＳＯＦを調製するプロセスが、プレＳＯＦを含むか、またはプレＳＯＦの形成を含む場合、触媒を、存在する場合には、反応混合物を濡れた膜として堆積させる前に、反応混合物に加えてもよい。プレＳＯＦを得るための触媒が存在する条件、または存在しない条件で、化学線、熱、化学薬品によって、または任意の他の手段によって、分子ビルディングブロックを反応させてもよい。触媒が存在しない状態で作成したプレＳＯＦおよび分子ビルディングブロックを、分子ビルディングブロックおよびプレＳＯＦを溶解しやすくする触媒が存在しない状態で、液体中で加熱してもよい。分子ビルディングブロックおよびプレＳＯＦを溶解しやすくするために、触媒が存在する状態で作成したプレＳＯＦおよび分子ビルディングブロックを、分子ビルディングブロックおよび／またはプレＳＯＦがさらに顕著な量反応しないような温度で加熱してもよい。また、反応混合物を混合し、攪拌し、粉砕などを行い、反応混合物を濡れた膜として堆積させる前に、配合物成分を均一に分散させてもよい。
【００８４】
反応混合物を濡れた膜として堆積させる前に加熱してもよい。これにより、１つ以上の分子ビルディングブロックを溶解しやすくしてもよく、および／または、濡れた層を堆積させてプレＳＯＦを作成する前に、反応混合物を部分的に反応させることによって、反応混合物の粘度を高くしてもよい。あらかじめ反応させておいた分子ビルディングブロックのプレＳＯＦに組み込まれた反応混合物中の分子ビルディングブロックの重量％は、２０％未満であってもよく、約１５％〜約１％、約１０％〜約５％であってもよい。９５％のプレＳＯＦ分子の分子量は、５，０００ダルトンであるか、２，５００ダルトンであるか、または１，０００ダルトンである。プレＳＯＦを調製し、反応混合物中の分子ビルディングブロックの保持量を増やしてもよい。
【００８５】
官能基の活性化によってプレＳＯＦを作成する場合には、活性化されるＦｇのモル％は、５０％未満であってもよく、約３０％〜約１０％、または約１０％〜約５％であってもよい。
【００８６】
プレＳＯＦを作成する２つの方法（分子ビルディングブロック間の反応による、プレＳＯＦの作成、または、分子ビルディングブロックのＦｇを“活性化”させることによる、プレＳＯＦの作成）を組み合わせて行ってもよく、プレＳＯＦの構造に組み込まれた分子ビルディングブロックは、活性化されたＦｇを含んでいてもよい。また、分子ビルディングブロック間の反応による、プレＳＯＦの作成、および、分子ビルディングブロックのＦｇを“活性化”させることによる、プレＳＯＦの作成を同時に行ってもよい。
【００８７】
プレＳＯＦを作成する時間は、約１０秒〜約４８時間、または約３０秒〜約１２時間、または約１分〜約６時間続いてもよい。
【００８８】
反応混合物は、堆積した濡れた層を支えるような粘度を有することが必要である。反応混合物の粘度は、約１０〜約５０，０００ｃｐｓ、約２５〜約２５，０００ｃｐｓ、または約５０〜約１０００ｃｐｓの範囲である。
【００８９】
分子ビルディングブロックおよびキャッピングユニットを保持すること、または反応混合物中の「保持量」は、分子ビルディングブロックと、場合により、キャッピングユニットおよび触媒との合計重量を、反応混合物の合計重量で割ったものであると定義される。ビルディングブロックの保持量は、約３〜１００％、約５〜約５０％、または約１５〜約４０％の範囲であってもよい。液体の分子ビルディングブロックが反応混合物の唯一の液体成分として用いられる場合、ビルディングブロックの保持量は、約１００％であろう。キャッピングユニットが反応混合物にいつ加えられるかによって、キャッピングユニットの保持量は、約３〜約８０％、約５〜約５０％、または約１５〜約４０重量％の範囲であってもよい。
【００９０】
キャッピングユニット保持量の理論的な上限値は、液体ＳＯＦ配合物中、分子ビルディングブロックあたり、利用可能な接続基の数を２まで減らすキャッピングユニットのモル数である。このような保持量では、実質的に、分子ビルディングブロックあたり、利用可能な接続可能なＦｇの数を（それぞれのキャッピング基と反応させることによって）使いつくすことによって、ＳＯＦの形成が有効に抑えられるであろう。（キャッピングユニットの保持量が、液体ＳＯＦ配合物中の分子ビルディングブロックあたり、利用可能な接続基が２モルよりも過剰にならないようにするのに十分な量である）このような場合、キャッピングユニットで完全にキャッピングされたオリゴマー、線形ポリマー、分子ビルディングブロックが、ＳＯＦの代わりに優先的に生成するだろう。
【００９１】
プレＳＯＦは、１つ以上の加えられる機能を有するビルディングブロックから作られてもよい。分子ビルディングブロックの偏った特性は、プレＳＯＦに加えられる機能と同じであってもよい。または、ＳＯＦの加えられる機能は、分子ビルディングブロックの偏った特性とは違っていてもよい。
【００９２】
反応混合物中で用いられる液体は、純粋な液体であってもよく、および／または溶媒混合物であってもよい。適切な液体は、沸点が約３０〜約３００℃、約６５℃〜約２５０℃、または約１００℃〜約１８０℃であってもよい。
【００９３】
液体としては、アルカン；芳香族化合物；エーテル；エステル；ケトン；アミン；アミド；アルコール；ニトリル；ハロゲン化芳香族；ハロゲン化アルカン；水が挙げられる。
【００９４】
また、第１の溶媒、第２の溶媒、第３の溶媒などを含む混合した液体を、反応混合物中で用いてもよい。第１の溶媒は、沸点が第２の溶媒より高くてもよい。
【００９５】
「実質的に除去する」は、それぞれの溶媒を少なくとも９０％、または約９５％除去することを指す。「実質的に残っている」は、それぞれの溶媒が、２％を超えない量で除去されるか、または１％を超えない量で除去されることを指す。
【００９６】
ＳＯＦの特性を操作するために、濡れた層がＳＯＦに変換する速度を遅くするか、または速くするために、混合した液体を用いてもよい。縮合および付加／脱離によって化学物質を接続する場合、水、１級アルコール、２級アルコールまたは３級アルコールを含む液体を用いてもよい。
【００９７】
場合により、濡れた層を乾燥したＳＯＦにすることを促進するために、反応混合物中に触媒が存在していてもよい。触媒は、均一系であってもよく、不均一系であってもよく、ブレンステッド酸；ルイス酸；ブレンステッド塩基；ルイス塩基；金属；金属塩；金属錯体であってもよい。典型的な触媒の保持量は、反応混合物中の分子ビルディングブロックの保持量の約０．０１％〜約２５％、または約０．１％〜約５％の範囲である。触媒は、最終的なＳＯＦ組成物中に存在していてもよく、存在していなくてもよい。
【００９８】
場合により、添加剤または第２の成分（ドーパント）が、反応混合物および濡れた層に存在していてもよい。また、このような添加剤または第２の成分を、乾燥ＳＯＦに組み込んでもよい。「添加剤」または「第２の成分」は、ＳＯＦに共有結合していないが、組成物にランダムに分布している原子または分子を指す。第２の成分（例えば、従来の添加剤）の既知の特性を利用するために、その成分を用いてもよい。このような添加剤を用い、電気特性（電気伝導性、半導体性、電子移動性、正孔移動性）、表面エネルギー（疎水性、親水性）、引張強度、熱伝導性といった、ＳＯＦの物理特性を変えてもよく、このような添加剤は、衝撃改質剤、強化繊維、滑沢剤、帯電防止剤、カップリング剤、湿潤剤、かぶり防止剤、難燃剤、紫外線安定化剤、酸化防止剤、殺生物剤、染料、顔料、臭気物質、脱臭剤、核形成剤などであってもよい。
【００９９】
ＳＯＦは、ＳＯＦが酸化しないように保護するために、酸化防止剤を第２の成分として任意の望ましい量または有効な量で含有していてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約１０重量％、約１重量％〜約５重量％の量で含有していてもよい。
【０１００】
ＳＯＦは、任意の適切なポリマー系材料を、総固形分の重量％として、ＳＯＦの約１〜約５０重量％、または約２〜約１０重量％の量で、さらに含んでいてもよい。総固形分は、第２の成分およびＳＯＦの量を含む。
【０１０１】
第２の成分は、ＳＯＦに均一に分布していてもよく、不均一に分布していてもよく、線形または非線形の勾配をもって分布していてもよい。ＳＯＦは、カーボンナノチューブ、またはナノチューブの微視的な粒子構造であるナノファイバー凝集物をさらに含んでいてもよい。
【０１０２】
ＳＯＦは、金属粒子を第２の成分としてさらに含んでいてもよく、このような金属粒子としては、貴金属、非貴金属、およびこれらのアロイが挙げられる。ＳＯＦは、酸化物および硫化物を、任意の望ましい量または有効な量でさらに含んでいてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約２０重量％、または約１重量％〜約１５重量％の量で含んでいてもよい。ＳＯＦは、半金属または金属に似た元素を、任意の望ましい量または有効な量でさらに含んでいてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約１０重量％、または約１重量％〜約５重量％の量で含んでいてもよい。
【０１０３】
ＳＯＦは、第２の成分として正孔移動性分子または電子受容体をさらに含んでいてもよく、このような電荷移動性分子としては、主鎖または側鎖に多環芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素を含有するヘテロ環（例えば、インドール化合物、カルバゾール化合物、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、チアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、トリアゾール化合物、ヒドラゾン化合物）を含む化合物から選択される正孔移動材料が挙げられる。典型的な正孔移動材料としては、電子供与材料が挙げられ、例えば、カルバゾール；Ｎ−エチルカルバゾール；Ｎ−イソプロピルカルバゾール；Ｎ−フェニルカルバゾール；テトラフェニルピレン；１−メチルピレン；；ペリレン；クリセン；アントラセン；テトラフェン；２−フェニルナフタレン；アゾピレン；１−エチルピレン；アセチルピレン；２，３−ベンゾクリセン；２，４−ベンゾピレン；１，４−ブロモピレン；ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）；ポリ（ビニルピレン）；ポリ（ビニルテトラフェン）；ポリ（ビニルテトラセン）、ポリ（ビニルペリレン）が挙げられる。適切な電子移動材料としては、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン；２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン；ジニトロアントラセン；ジニトロアクリデン；テトラシアノピレン；ジニトロアントラキノン；ブチルカルボニルフルオレンマロノニトリル（米国特許第４，９２１，７６９号を参照）のような電子受容体；正孔移動材料が挙げられる（米国特許第４，２６５，９９０号、米国特許第４，３０６，００８号；第４，３０４，８２９号；第４，２３３，３８４号；第４，１１５，１１６号；第４，２９９，８９７号；第４，０８１，２７４号、第５，１３９，９１０号、第４，９２１，７７３号、第４，４６４，４５０号を参照）。正孔移動材料または電子受容体は、ＳＯＦコンポジット中に任意の望ましい量または有効な量で存在していてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約５０重量％、または約１重量％〜約２０重量％の量で存在していてもよい。
【０１０４】
ＳＯＦは、ＳＯＦの約０．１〜約１．０重量％の量で殺生物剤をさらに含んでいてもよい。
【０１０５】
ＳＯＦは、有機低分子を、任意の望ましい量または有効な量でさらに含んでいてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約５０重量％、または約１重量％〜約１０重量％の量で含んでいてもよい。
【０１０６】
第２の成分は、濡れた膜を作成するために使用される液体配合物に入れられてもよく、これにより、ＳＯＦを作成する変化が促進される。第２の成分（ドーパント、添加剤など）は、反応混合物に溶解していてもよく、溶解していなくても（懸濁していても）よい。第２の成分は、膜の網目に結合していない。第２の成分を、セグメントに４個のメトキシ基（−ＯＭｅ）を有する複数のビルディングブロック（例えば、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン）を含有する反応混合物に加えてもよく、濡れた膜で変化が促進されると、ｐ−キシリルセグメントを含むビルディングブロックの２個のアルコール（−ＯＨ）基（例えば、１，４−ベンゼンジメタノール）と排他的に反応する。ビルディングブロックを連結するために起こる化学は、酸触媒によるエステル交換反応である。−ＯＨ基は、−ＯＭｅとしか反応せず（その逆に、−ＯＭｅ基は、−ＯＨとしか反応せず）、第２の成分とは反応しないため、これらの物質分子ビルディングブロックは、１つの経路でのみ反応することができる。したがって、ＳＯＦは、ＳＯＦ構造に組み込まれた第２の成分および／またはＳＯＦの周囲にある第２の成分を残すような様式で、分子を規則的に並べるようにプログラミングされている。このように分子をパターン化させ、第２の成分を組み込む能力によって、従来のポリマーおよび利用可能な代替品と比較して、優れた性能を与え、特性を今までに例のないレベルで制御することができる。
【０１０７】
第２の成分は、反応混合物と濡れた層に存在していてもよい。このような添加剤、ドーパント、または第２の成分も、乾燥ＳＯＦに組み込まれてもよい。第２の成分は、反応混合物の中、濡れた層の中、または乾燥ＳＯＦの中で均一であってもよく、不均一であってもよい。キャッピングユニットとは対称的に、用語「添加剤」または「第２の成分」は、ＳＯＦに共有結合しておらず、組成物中にランダムに分布する原子または分子を指す。
【０１０８】
第２の成分は、標的とする性能を満たすようにするために、キャッピングされたＳＯＦの目的とする特性を強めるか、または組み合わせるために、同様の特性または別個の特性（相乗効果、または改良した効果、キャッピングされたＳＯＦの固有の特性または偏った特性を強める能力）を有していてもよい。例えば、キャッピングされたＳＯＦに酸化防止剤化合物をドープすると、化学分解経路を防ぐことによって、キャッピングされたＳＯＦの寿命が延びるだろう。さらに、反応混合物からキャッピングされたＳＯＦを作成するという変化を促進している間に起こる反応をうまく調節することによって、キャッピングされたＳＯＦの形態学的性質を高めるために、添加剤を加えてもよい。
【０１０９】
プロセスの作業Ｂ：反応混合物を濡れた膜として堆積：多くの液体堆積技術を用い、種々の基板に、反応混合物を濡れた膜として塗布してもよい。
【０１１０】
基板としては、ポリマー、紙、金属、金属アロイ、周期律表のＩＩＩ族〜ＶＩ族の元素がドープされた形態およびドープされていない形態、金属酸化物、金属カルコゲニド、あらかじめ調製しておいたＳＯＦまたはキャッピングされたＳＯＦが挙げられる。基板の厚みは、ほぼ１０マイクロメートル〜１０ミリメートルまでであってもよく、例示的な厚みは、約５０〜約１００マイクロメートルである。
【０１１１】
多くの液体堆積技術を用い（例えば、スピンコーティング、ブレードコーティング、ウェブコーティング、浸漬コーティング、カップコーティング、ロッドコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、スプレーコーティング、スタンピングなどを含む）、反応混合物を基板に塗布してもよい。濡れた層の厚みは、約１０ｎｍ〜約５ｍｍ、約１００ｎｍ〜約１ｍｍ、または約１μｍ〜約５００μｍの範囲であってもよい。
【０１１２】
上述のプロセスＢの作業を終えた後に、キャッピングユニットおよび／または第２の成分を導入してもよい。この様式でキャッピングユニットおよび／または第２の成分を組み込むことは、キャッピングユニットおよび／または第２の成分を均一に、または不均一に、または濡れた膜の上に特定の模様として分散させる任意の手段によって達成してもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分を導入した後、プロセスＣの作業を再開しつつ、次のプロセスの作業を行ってもよい。
【０１１３】
反応混合物を基板に塗布した後、キャッピングユニットおよび／または第２の成分を任意の適切な方法によって濡れた層に加えてもよく、濡れた層の上面にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を分布させることによって、濡れた層に加えてもよい。生成した濡れた層にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を、均一な様式または不均一な様式で（種々のパターンを含む）塗布してもよく、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の濃度または密度は、濡れた層の上に、所与の幅でキャッピングユニットおよび／または第２の成分の濃度が高い部分と低い部分が交互に並ぶ帯状のパターンを形成するように、特定の領域では小さい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分を濡れた層の上面に塗布すると、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の一部分が濡れた層に拡散するか、沈み、それによって、ＳＯＦの厚み内でキャッピングユニットおよび／または第２の成分が不均一に分散し、その結果、濡れた層を乾燥ＳＯＦに変化するのを促進した後に得られるＳＯＦに、線形または非線形の濃度勾配が得られてもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分を、堆積した濡れた層の上側表面に加えてもよく、濡れた層の変化を促進すると、キャッピングユニットおよび／または第２の成分が乾燥ＳＯＦで不均一に分散したＳＯＦが得られる。濡れた膜の密度、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の密度に依存して、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の大部分が、乾燥ＳＯＦの上側半分（基板と反対側）に残ってもよく、または、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の大部分が、乾燥ＳＯＦの下側半分（基板に隣接する側）に残ってもよい。
【０１１４】
プロセスの作業Ｃ：濡れた膜から乾燥ＳＯＦへの変化を促進：「促進する」は、分子ビルディングブロックおよび／またはプレＳＯＦの反応を容易にする任意の適切な技術を指す。また、「促進する」は、乾燥膜を形成するために、任意の液体を除去することも指す。分子ビルディングブロックおよび／またはプレＳＯＦの反応、液体の除去は、連続して行われてもよく、同時に行われてもよい。「乾燥ＳＯＦ」は、液体の含有量がＳＯＦの約５％未満、または約２％未満の、実質的に乾燥したＳＯＦを指す。
【０１１５】
乾燥ＳＯＦまたは乾燥ＳＯＦの所与の領域（例えば、表面から、ＳＯＦの厚みの約１０％に等しい深さまで、または、ＳＯＦの厚みの約５％に等しい深さまで、ＳＯＦ中の上側４分の１）では、キャッピングユニットとセグメントとのモル比が、約１：１００〜約１：１、または約１：５０〜約１：２、または約１：２０〜１：４であってもよい。
【０１１６】
濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進することは、任意の適切な技術によって行われてもよい。濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進することは、典型的には、オーブンでの乾燥、赤外線（ＩＲ）などを用いた、温度が４０〜３５０℃、６０〜２００℃、８５〜１６０℃での熱処理を含む。合計加熱時間は、約４秒〜約２４時間、または１分〜１２０分、または３分〜６０分の範囲であってもよい。
【０１１７】
第２の成分が存在する場合、第２の成分の分子の大きさは、濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進させている間に、第２の成分がＳＯＦの骨格に取り込まれ、その結果、取り込まれた第２の成分が、液体トナーまたは溶媒にさらされている間にＳＯＦから漏れ出さないように選択されてもよい。
【０１１８】
種々の種類のＩＲエミッタを用いてもよく、炭素ＩＲエミッタまたは短波ＩＲエミッタに関する例示的な情報を以下の表にまとめている（表１）。
【表１】
【０１１９】
濡れた層の堆積物を支えるために、接着性の低い適切な基板を用いる場合、自立型のＳＯＦを得ることができる。
【０１２０】
場合により、自立型ＳＯＦ、または可とう性基板によって支持されるＳＯＦを、ロールに加工してもよい。ＳＯＦを切断し、つなぎ合わせる方法は、米国特許第５，４５５，１３６号に記載したのと同様の方法である。ＳＯＦベルトを、１つのＳＯＦから、多層ＳＯＦから、またはウェブから得たＳＯＦシートから加工してもよい。このようなシートは、所望な場合、長方形の形状であってもよく、任意の特定の形状であってもよい。ＳＯＦのすべての側面が同じ長さであってもよく、一対の平行な側面が、他方の一対の平行な側面よりも長くてもよい。ＳＯＦを、ある形状に加工してもよく、またはＳＯＦシートの反対側の縁部を重ねてつなぎ合わせることによって、ベルトに加工してもよい。つなぎ目は、典型的には、接合点で縁部を重ねてつなぎ合わせる作られる。接続は、任意の適切な手段によって行われてもよい。典型的な接続技術としては、溶接（超音波による溶接を含む）、のり付け、テープによる接着、圧力と熱による融着などが挙げられる。例えば、超音波溶接のような方法は、その速度、きれいさ（溶媒を使わない）、薄くて狭いつなぎ目が得られるという点で、可とう性シートを接続するのに望ましい一般的な方法である。
【０１２１】
ＳＯＦ形成プロセス中、ＳＯＦを基板として用い、多層ＳＯＦを得てもよい。多層ＳＯＦの層は、化学的に結合していてもよく、物理的に接触していてもよい。化学的に結合した多層ＳＯＦは、基板ＳＯＦ表面に存在するＦｇを、第２のＳＯＦ層を作成するのに必要な、堆積した濡れた層中に存在する分子ビルディングブロックと反応させることが可能な場合に、生成する。物理的に接触している多層ＳＯＦは、互いに化学的に結合していなくてもよい。
【０１２２】
場合により、ＳＯＦ基板は、第２のＳＯＦ層が化学的に結合して多層ＳＯＦを形成できる、または、多層ＳＯＦの形成を促進するように、濡れた層を堆積する前に化学的に処理してもよい。
【０１２３】
または、ＳＯＦ基板は、第２のＳＯＦ層が化学的に結合しないように、濡れた層を堆積する前に化学的に処理し（表面の反応性を抑え）、物理的に接触した多層ＳＯＦを作成してもよい。
【０１２４】
その他の方法（例えば、２つ以上のＳＯＦの積層）を利用し、物理的に接触する多層ＳＯＦを調製してもよい。
【０１２５】
電子写真式画像形成体（例えば、感光体）の代表的な構造を図１〜３に示す。これらの画像形成体は、屈曲防止層１、支持基板２、電気伝導性接地板３、電荷遮断層４、接着層５、電荷発生層６、電荷移動層７、オーバーコート層８、アース片９とを備えた状態で提供される。図３において、画像形成層１０（電荷発生材料と電荷移動材料の両方を含む）は、別個の電荷発生層６および電荷移動層７の代わりに配置されている。
【０１２６】
図からわかるように、感光体の加工では、電荷発生材料（ＣＧＭ）および電荷移動材料（ＣＴＭ）を、ＣＧＭおよびＣＴＭが異なる層であるような積層型構造で、基板表面に堆積させてもよく（例えば、図１および図２）、または、ＣＧＭおよびＣＴＭが同じ層であるような単一相の構造で堆積させてもよい（例えば、図３）。感光体は、電気伝導層の上に、電荷発生層６を塗布し、場合により、電荷移動層７を塗布することによって調製されてもよい。電荷発生層と、存在する場合、電荷移動層とを、任意の順序で塗布してもよい。
【０１２７】
いくつかの用途では、電気絶縁性であるか、わずかに半導体性であるような、膜を形成する有機ポリマーまたは無機ポリマーを含んでいる、任意要素の屈曲防止層１を与えてもよい。屈曲防止層は、平坦性および／または耐摩耗性を付与する。
【０１２８】
屈曲防止層１を、基板２の背面（画像形成層とは反対側）に形成してもよい。屈曲防止層は、膜形成樹脂に加え、接着を促進するポリエステル添加剤を含んでいてもよい。屈曲防止層として有用な膜形成樹脂の例としては、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニルカーボネート）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニルカーボネート）、これらの混合物などが挙げられる。
【０１２９】
添加剤は、屈曲防止層中に、屈曲防止層の約０．５〜約４０重量％の範囲で存在してもよい。添加剤としては、耐摩耗性をさらに高め、および／または電荷緩和特性を付与することが可能な有機粒子および無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、テフロン粉末、カーボンブラック、グラファイト粒子が挙げられる。無機粒子としては、絶縁性および半導体性の金属酸化物粒子、例えば、シリカ、酸化亜鉛、酸化スズなどが挙げられる。別の半導体性添加剤は、酸化されたオリゴマー塩であってもよい（米国特許第５，８５３，９０６号を参照）。オリゴマー塩は、酸化されたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン塩である。
【０１３０】
添加剤として有用な、典型的な接着促進剤としては、ｄｕＰｏｎｔ ４９，０００（ｄｕＰｏｎｔ）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−２００、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−３０７（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）、これらの混合物などが挙げられる。膜形成樹脂を添加するために、膜形成樹脂の重量に基づいて、通常は、約１〜約１５重量％の接着促進剤が選択される。
【０１３１】
屈曲防止層の厚みは、典型的には、約３μｍ〜約３５μｍ、または約１０μｍ〜約２０μｍ、または約１４μｍである。
【０１３２】
屈曲防止性コーティングを、膜形成樹脂および接着促進剤を溶媒（例えば、塩化メチレン）に溶解することによって調製した溶液として塗布してもよい。この溶液を、ウェブコーティングによって、または当該技術分野で既知の他の方法によって、感光体デバイスの支持基板の裏面（画像形成層の反対側）に塗布してもよい。オーバーコート層および屈曲防止層のコーティングは、電荷移動層と、電荷発生層と、接着層と、遮断層と、接地板と、基板とを備える多層感光体にウェブコーティングすることによって同時に行われてもよい。次いで、濡れた膜コーティングを乾燥させ、屈曲防止層１を得る。
【０１３３】
まず、基板２（すなわち、支持板）を与えることによって、感光体を調製する。基板は、不透明であってもよく、または実質的に透明であってもよく、例えば、米国特許第４，４５７，９９４号；第４，８７１，６３４号；第５，７０２，８５４号；第５，９７６，７４４号；第７，３８４，７１７号に記載されるような、所与の必要な機械特性を有する任意のさらなる適切な材料を含んでいてもよい。
【０１３４】
基板は、無機組成物または有機組成物のような、非電気伝導性材料の層、または電気伝導性の層を含んでいてもよい。非電導性材料を用いる場合、このような非電導性材料の上に電気伝導性接地板を与えることが必要な場合がある。電導性材料を基板として用いる場合、別個の接地層は必要としない場合がある。
【０１３５】
基板は、可とう性であってもよく、剛性であってもよく、シート、巻物、終端のない可とう性ベルト、ウェブ、円筒形等を含む、任意の多くの異なる形状を有していてもよい。感光体を、剛性で、不透明の伝導性基板（例えば、アルミニウムドラム）にコーティングしてもよい。
【０１３６】
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタンなどを含む種々の樹脂を非電気伝導性材料として用いてもよい。このような基板は、Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．から入手可能なＭＹＬＡＲ商標、ＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａｓ Ｉｎｃ．から入手可能なＭＥＬＩＮＥＸ商標、またはＡｍｅｒｉｃａｎ Ｈｏｅｃｈｓｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なＨＯＳＴＡＰＨＡＮ商標として知られる市販の二軸配向のポリエステルを含んでいてもよい。基板に含まれてもよい他の材料としては、ＴＥＤＬＡＲ商標としてＥ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．から入手可能なフッ化ポリビニル、ＭＡＲＬＥＸ商標としてＰｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なポリエチレンおよびポリプロピレン、ＲＹＴＯＮ商標としてＰｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なポリフェニレンスルフィド、ＫＡＰＴＯＮ商標としてＥ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏから入手可能なポリイミドのようなポリマー系材料が挙げられる。また、上述のように、あらかじめ表面に伝導性接地板をコーティングしておいた絶縁性プラスチックドラムに、感光体をコーティングしてもよい。このような基板は、つなぎ目があってもよく、つなぎ目がなくてもよい。
【０１３７】
伝導性基板を使用する場合、任意の適切な伝導性材料を用いてもよい。伝導性材料としては、限定されないが、金属酸化物、硫化物、ケイ化物、四級アンモニウム塩組成物、ポリアセチレンまたはその熱分解生成物および分子がドープされた生成物のような伝導性ポリマー、電荷移動複合体、ポリフェニルシラン、およびポリフェニルシランから得られる、分子がドープされた生成物を含むバインダー樹脂に含まれる、金属フレーク、粉末または繊維、またはアルミニウム、チタン、ニッケル、クロム、真ちゅう、金、ステンレス鋼、カーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。また、伝導性プラスチックドラムだけではなく、アルミニウムのような金属から作られる伝導性金属ドラムを用いてもよい。
【０１３８】
基板の厚みは、必要な機械的性能および経済的な考慮事項を含め、多くの因子に依存する。基板の厚みは、典型的には、直径の小さなローラー（例えば、直径が１９ｍｍのローラー）の周囲を回転させる場合、最適な可とう性、誘発される表面曲げ応力を最小限にするには、約６５μｍ〜約１５０μｍ、または約７５μｍ〜約１２５μｍの範囲にある。可とう性ベルト用基板は、最終的な光伝導性デバイスに悪影響を与えない限り、かなりの（２００μｍを超える）厚みを有していてもよく、最低限の厚み（５０μｍ未満）を有していてもよい。ドラムを用いる場合、厚みは、必要な剛性を得るのに十分なものであるべきであり、約１ｍｍから約６ｍｍであってもよい。
【０１３９】
層が塗布されるべき基板表面を、層への接着性を高めるために洗浄してもよい。洗浄は、基板層表面に対し、プラズマ放電、イオン衝撃などを行うことによって、または溶媒による洗浄によって行ってもよい。
【０１４０】
金属層を作成するために使用される任意の技術にかかわらず、一般的に、空気にさらされると、ほとんどの金属の外側表面に金属酸化物の薄層が生成する。したがって、金属層の下にある他の層が「連続した」層であると特徴づけられる場合に、これらの下にある連続した層が、実際には、酸化性金属層の外側表面に形成された金属酸化物の層と接触している可能性があることを意図している。
【０１４１】
調製した感光体は、電気伝導性または非電気伝導性の基板を含んでいる。非電気伝導性基板を用いる場合、電気伝導性接地板３を使用しなければならず、この接地板が伝導性基板として作用する。伝導性基板を用いる場合、基板が伝導層として作用する場合があるが、さらに伝導性接地板を与えてもよい。
【０１４２】
電気伝導性接地板を用いる場合、基板の上に配置される。電気伝導性接地板に適した材料としては、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレス鋼、クロム、タングステン、モリブデン、銅など、およびこれらの混合物およびアロイが挙げられる。
【０１４３】
溶液コーティング、蒸着、スパッタリングのような既知のコーティング技術によって、接地板を塗布してもよい。電気伝導性接地板を塗布する方法は、減圧蒸着による方法である。
【０１４４】
接地板の厚みは、電気伝導体に望ましい光学的な透明度および可とう性に依存し、かなり広範囲にわたって変わってもよい。可とう性光応答性画像形成デバイスの場合、伝導層の厚みは、約２０Å〜約７５０Åであってもよく、または、電気伝導性、可とう性、光透過度を最適に組み合わせるためには、約５０Åから約２００Åであってもよい。しかし、接地板は、所望な場合、不透明であってもよい。
【０１４５】
任意の電気伝導性接地板層を堆積させた後、この層に電荷遮断層４を塗布してもよい。正に帯電した感光体のための電子遮断層によって、正孔が、感光体の画像形成表面から伝導性層に移動することができる。負に帯電した感光体の場合、正孔が伝導層から反対側の光伝導層に移動するのを防ぐ障壁を形成することが可能な任意の適切な正孔遮断層を利用してもよい。
【０１４６】
遮断層を用いる場合、遮断層は、電気伝導層の上に配置されていてもよい。「〜の上」は、多くの異なる種類の層と組み合わせて本明細書で使用される場合、層が連続的である場合に限定されないことが理解されるべきである。むしろ、用語「〜の上」は、層の相対的な位置を指すものであり、特定されていない中間層を含むことを包含する。
【０１４７】
遮断層４としては、米国特許第４，３３８，３８７号；第４，２８６，０３３号；第４，２９１，１１０号に開示されているような、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタンなどのようなポリマー；窒素を含有するシロキサンまたは窒素を含有するチタン化合物、またはトリメトキシシリルプロピルエチレンジアミン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、イソプロピル４−アミノベンゼンスルホニルチタネート、ジ（ドデシルベンゼンスルホニル）チタネート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル−エチルアミノ）チタネート、チタン−４−アミノベンゼンスルホネートオキシアセテート、チタン４−アミノベンゾエートイソステアレートオキシアセテート、γ−アミノブチルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。
【０１４８】
遮断層は、連続した層であってもよく、厚みは、約０．０１〜約１０μｍ、または約０．０５〜約５μｍであってもよい。
【０１４９】
遮断層４を、噴霧、浸漬コーティング、引き抜き棒によるコーティング、グラビアコーティング、シルクスクリーン、エアナイフによるコーティング、逆回転ロールコーティング、真空蒸着、化学処理などのような任意の適切な技術によって塗布してもよい。薄層を得る際に簡便になるように、遮断層を希釈溶液の形態で塗布してもよく、コーティングを蒸着させた後、溶媒を従来の技術（減圧、加熱など）で除去する。一般的に、遮断層材料と溶媒との重量比が、約０．５：１００〜約３０：１００、または約５：１００〜約２０：１００であることが、スプレーコーティングおよび浸漬コーティングの条件を満たしている。
【０１５０】
顆粒状粒子、針状粒子、バインダー樹脂および有機溶媒で構成されるコーティング溶液を用い、電荷遮断層が形成された電子写真式感光体を作成する方法が提供される。
【０１５１】
有機溶媒は、Ｃ１〜３低級アルコールの共沸混合物と、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロプロパン、トルエン、テトラヒドロフランからなる群から選択される別の有機溶媒の混合物であってもよい。上述の共沸混合物は、液相の組成と、気相の組成が、特定の圧力で、一定の沸点を有する混合物を与えるために互いに一致しているような混合物の溶液である。３５重量部のメタノールと、６５重量部の１，２−ジクロロエタンからなる混合物は、共沸溶液である。共沸組成物が存在すると、均一に蒸発し、それによって、コーティングの欠陥がなく、電荷遮断コーティング溶液の貯蔵安定性が向上した、均一な電荷遮断層が生成する。
【０１５２】
遮断層に含まれるバインダー樹脂は、単一の樹脂層として作られる遮断層と同じ材料から作られていてもよい。特に、（ｉ）ポリアミド樹脂が、遮断層の上に画像形成層を作成するのに使用する溶液に溶解せず、膨潤もしないこと、（ｉｉ）ポリアミド樹脂が、伝導性支持材と優れた接着性を有し、可とう性を有すること、というバインダー樹脂に必要な種々の条件を満足するために、ポリアミド樹脂を用いてもよい。ポリアミド樹脂では、アルコール可溶性のナイロン樹脂を用いてもよく（６−ナイロン、６，６−ナイロン、６１０−ナイロン、１１−ナイロン、１２−ナイロンなどと重合させたナイロンコポリマー）；化学変性させたナイロン、例えば、Ｎ−アルコキシメチル変性させたナイロン、Ｎ−アルコキシエチル変性させたナイロンを用いてもよい。使用可能な別の種類のバインダー樹脂は、フェノール系樹脂またはポリビニルブチラール樹脂である。
【０１５３】
バインダー樹脂、顆粒状粒子、針状粒子を溶媒に分散させ、遮断層のコーティング溶液を作成し、このコーティング溶液を用いて伝導支持板をコーティングし、これを乾燥させることによって、電荷遮断層を作成する。溶媒中の分散性を高め、時間経過にともなってコーティング溶液がゲル化することを防ぐように、溶媒を選択する。さらに、コーティング溶液の組成物が、時間経過にともなって変化するのを防ぐために共沸溶媒を用いてもよく、これによって、コーティング溶液の貯蔵安定性が向上し、コーティング溶液が再生してもよい。
【０１５４】
「ｎ型」は、優先的に電子を移動させる材料を指す。典型的なｎ型材料としては、ジブロモアントアントロン、ベンズイミダゾールペリレン、酸化亜鉛、酸化チタン、アゾ化合物（例えば、クロロジアンＢｌｕｅ）およびビスアゾ顔料、置換された２，４−ジブロモトリアジン、多核芳香族キノン、硫化亜鉛などが挙げられる。
【０１５５】
「ｐ型」は、正孔を移動させる材料を指す。典型的なｐ型有機顔料としては、金属を含まないフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、銅フタロシアニンなどが挙げられる。
【０１５６】
接着を促進するために、遮断層と電荷発生層の間に中間層５を与えてもよい。または、浸漬コーティングされたアルミニウムドラムを、接着層を用いることなく利用してもよい。
【０１５７】
さらに、必要な場合、任意の隣接する層を確実に接着させるために、感光体中の任意の層の間に接着層を与えてもよい。これに代えて、またはこれに加え、接着すべきそれぞれの層の片側または両側に接着性材料を組み込んでもよい。このような任意要素の接着層は、厚みが約０．００１μｍ〜約０．２μｍであってもよい。接着材料を適切な溶媒に溶解し、手で塗布するか、噴霧、浸漬コーティング、引き抜き棒によるコーティング、グラビアコーティング、シルクスクリーン、エアナイフによるコーティング、真空蒸着、化学処理、ロールコーティング、ワイヤー巻き上げ棒によるコーティングなどで塗布し、乾燥させて溶媒を除去することによって、このような接着層を塗布してもよい。適切な接着剤としては、膜形成ポリマー、例えば、ポリエステル、ｄｕｐｏｎｔ ４９，０００（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．から入手可能）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００（Ｇｏｏｄｙｅａｒ Ｔｉｒｅ ａｎｄ Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏ．から入手可能）、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリメタクリル酸メチルなどが挙げられる。接着層は、Ｍｗが約５０，０００〜約１００，０００、または約７０，０００、Ｍｎが約３５，０００のポリエステルで構成されていてもよい。
【０１５８】
画像形成層は、電荷発生材料、電荷移動材料、または電荷発生材料と電荷移動材料の両方を含む１つ以上の層を指す。
【０１５９】
ｎ型またはｐ型の電荷発生材料を本発明の感光体で使用してもよい。
【０１６０】
電荷発生材料および電荷移動材料が、異なる層（電荷発生層および電荷移動層）である場合、電荷移動層は、ＳＯＦを含んでいてもよい。さらに、電荷発生材料および電荷移動材料が同じ層である場合、この層は、ＳＯＦを含んでいてもよい。
【０１６１】
具体的な有機光伝導性電荷発生材料としては、Ｓｕｄａｎ Ｒｅｄ、Ｄｉａｎ Ｂｌｕｅ、Ｊａｎｕｓ Ｇｒｅｅｎ Ｂなどのようなアゾ顔料；Ａｌｇｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ、Ｐｙｒｅｎｅ Ｑｕｉｎｏｎｅ、Ｉｎｄａｎｔｈｒｅｎｅ Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＲＰなどのようなキノン顔料；キノシアニン顔料；ベンズイミダゾールペリレンのようなペリレン顔料；インジゴ、チオインジゴなどのようなインジゴ顔料；Ｉｎｄｏｆａｓｔ Ｏｒａｎｇｅなどのようなビスベンゾイミダゾール顔料；銅フタロシアニン、アルミノクロロ−フタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニンなどのようなフタロシアニン顔料；キナクリドン顔料；またはアズレン化合物が挙げられる。適切な無機光伝導性電荷発生材料としては、硫化カドミウム、カドミウムスルホセレニド、セレン化カドミウム、結晶性セレンおよびアモルファスセレン、酸化鉛および他のカルコゲニドが挙げられる。適切なセレンアロイとしては、セレン−ヒ素、セレン−テルル−ヒ素、セレン−テルルが挙げられる。
【０１６２】
任意の適切な不活性樹脂バインダー材料を、電荷発生層で用いてもよい。典型的な有機樹脂系バインダーとしては、ポリカーボネート、アクリレートポリマー、メタクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ、ポリビニルアセタールなどが挙げられる。
【０１６３】
コーティング組成物として有用な分散物を作成するために、溶媒を電荷発生材料とともに用いる。溶媒は、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸アルキル、およびこれらの混合物であってもよい。酢酸アルキル（酢酸ブチルおよび酢酸アミルのような）は、アルキル基に炭素原子を３〜５個有していてもよい。組成物中の溶媒の量は、組成物の重量を基準として、約７０重量％〜約９８重量％であってもよい。
【０１６４】
組成物中の電荷発生材料の量は、溶媒を含む組成物の重量を基準として、約０．５重量％〜約３０重量％の範囲である。乾燥した光伝導性コーティングに分散させた光伝導性粒子（すなわち、電荷発生材料）の量は、選択される特定の光伝導性顔料粒子に応じて、ある程度まで変動する。チタニルフタロシアニンおよび金属を含まないフタロシアニンのようなフタロシアニン有機顔料を利用した場合、乾燥した光伝導性コーティングが、乾燥した光伝導性コーティングの総重量を基準として、すべてのフタロシアニン顔料を約３０重量％〜約９０重量％含む場合に、満足のいく結果が得られる。光伝導特性が、１平方センチメートルあたりコーティングされた顔料の相対量に影響を与えるため、乾燥させた光伝導性コーティング層が厚い場合には、顔料保持量が低いものを利用してもよい。逆に、乾燥させた光伝導層が薄い場合には、顔料保持量が高いことが望ましい。
【０１６５】
一般的に、光伝導剤の平均粒径が、約０．６μｍであり、光伝導性コーティングが浸漬コーティングによって塗布される場合に満足のいく結果が得られる。光伝導剤の平均粒径は、約０．４μｍ未満であってもよい。また、光伝導剤の粒径は、分散させた乾燥した光伝導性コーティングの厚みよりも小さい。
【０１６６】
電荷発生層では、電荷発生材料（「ＣＧＭ」）と、バインダーとの重量比は、３０（ＣＧＭ）：７０（バインダー）〜７０（ＣＧＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【０１６７】
電荷発生層（本明細書で、光伝導層とも呼ばれる）と電荷移動層とを備える多層感光体の場合、厚みが、約０．１μｍ〜約１０μｍの乾燥させた光伝導層コーティングを用いると、満足のいく結果が得られる場合がある。光伝導層の厚みは、約０．２μｍ〜約４μｍである。しかし、これらの厚みは、顔料の保持量によっても変わる。したがって、顔料の保持量が多いと、光伝導コーティングの厚みを薄くすることができる。
【０１６８】
コーティング組成物のバインダーおよび溶媒に光伝導性粒子を分散させるために、任意の適切な技術を利用してもよい。典型的な分散技術としては、ボールミル、ロールミル、垂直磨砕機による混合、サンドミルなどを用いた技術が挙げられる。ボールロールミルを用いた典型的な混合時間は、約４〜約６日間である。
【０１６９】
電荷移動材料としては、有機ポリマー、非ポリマー系材料、または光によって励起された正孔の注入を補佐することが可能であるか、または光伝導性材料から電子を移動させ、これらの正孔または電子を、有機層を介して表面電荷を選択的に散逸させることが可能なＳＯＦが挙げられる。
【０１７０】
具体的な電荷移動材料としては、主鎖または側鎖に多環芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素を含有するヘテロ環（例えば、インドール化合物、カルバゾール化合物、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、チアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、トリアゾール化合物、ヒドラゾン化合物）を含む化合物のような正孔移動材料が挙げられる。
【０１７１】
任意の適切な不活性樹脂バインダーを電荷移動層で使用してもよい。塩化メチレンに可溶性の典型的な不活性樹脂バインダーとしては、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルホンなどが挙げられる。分子量は、約２０，０００〜約１，５００，０００までさまざまであってもよい。
【０１７２】
電荷移動層では、電荷移動材料（「ＣＴＭ」）と、バインダーとの重量比は、３０（ＣＴＭ）：７０（バインダー）〜７０（ＣＴＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【０１７３】
電荷移動層と電荷発生層とを基板に塗布するために、任意の適切な技術を用いてもよい。典型的なコーティング技術としては、浸漬コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、回転式アトマイザーなどを挙げることができる。コーティング技術は、さまざまな範囲の固体に使用することができる。固体含有量は、分散物の総重量を基準として、約２重量％〜約３０重量％である。「固体」は、電荷移動コーティング分散物の電荷移動粒子およびバインダー成分を指す。これらの固体の濃縮物は、浸漬コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティングなどで有用である。一般的に、ロールコーティングには、もっと濃度の高いコーティング分散物を用いてもよい。堆積したコーティングの乾燥は、オーブンによる乾燥、赤外線照射による乾燥、風乾などの任意の適切な従来技術によって行われてもよい。一般的に、移動層の厚みは、約５μｍ〜約１００μｍであるが、これらの範囲から外れた厚みを用いてもよい。一般的に、電荷移動層の厚みと、電荷発生層の厚みとの比率は、約２：１〜約２００：１に維持され、ある場合には、約４００：１の大きさである。
【０１７４】
代表的な電荷移動性ＳＯＦとしては、多環芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素を含有するヘテロ環（例えば、インドール化合物、カルバゾール化合物、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、チアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、トリアゾール化合物、ヒドラゾン化合物）を含むセグメントを有する化合物から選択される正孔移動材料が挙げられる。典型的な正孔移動性ＳＯＦセグメントとしては、カルバゾール；Ｎ−エチルカルバゾール；Ｎ−イソプロピルカルバゾール；Ｎ−フェニルカルバゾール；テトラフェニルピレン；１−メチルピレン；；ペリレン；クリセン；アントラセン；テトラフェン；２−フェニルナフタレン；アゾピレン；１−エチルピレン；アセチルピレン；２，３−ベンゾクリセン；２，４−ベンゾピレン；１，４−ブロモピレンのような電子供与材料が挙げられる。適切な電子移動性ＳＯＦセグメントとしては、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン；２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン；ジニトロアントラセン；ジニトロアクリデン；テトラシアノピレン；ジニトロアントラキノン；ブチルカルボニルフルオレンマロノニトリルのような電子受容体が挙げられる（米国特許第４，９２１，７６９号を参照）。他の正孔移動性ＳＯＦセグメントとしては、米国特許第４，２６５，９９０号に記載されているアリールアミン、または、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンが挙げられ、ここで、アルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群から選択される。他の既知の電荷移動性ＳＯＦセグメントが選択されてもよい（米国特許第４，９２１，７７３号および第４，４６４，４５０号を参照）。
【０１７５】
ＳＯＦ電荷移動層は、
（ａ）それぞれセグメントと複数のＦｇとを含む、電荷移動性に偏った特性を有する複数の分子ビルディングブロックを含む液体を含有する反応混合物を調製することと；
（ｂ）この反応混合物を濡れた膜として堆積させることと；
（ｃ）分子ビルディングブロックを含む濡れた膜が、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格として整列したものを含むＳＯＦを含む乾燥膜へと変化することを促進させることとによって調製されてもよく、巨視的なレベルで、この共有結合による有機骨格が膜である。
【０１７６】
この保持量は、反応混合物の合計重量を基準として、約２〜約５０重量％である。「保持量」は、電荷移動性を有するＳＯＦ反応混合物の分子ビルディングブロック成分を指す。これらの保持量は、浸漬コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティングなどで有用である。一般的に、ロールコーティングには、もっと濃度の高いコーティング分散物を用いてもよい。堆積したコーティングの乾燥は、オーブンによる乾燥、赤外線照射による乾燥、風乾などの任意の適切な従来技術によって行われてもよい。一般的に、電荷移動性のＳＯＦ層の厚みは、約５μｍ〜約１００μｍ、約１０μｍ〜約７０μｍ、または約１０μｍ〜約４０μｍである。一般的に、電荷発生層の厚みを基準とした、電荷移動層の厚みの比率は、約２：１〜２００：１に維持されてもよく、４００：１程度の大きさに維持されてもよい。
【０１７７】
本明細書に記載の材料および手順を用い、バインダ、電荷発生材料および電荷移動材料を含む１つの画像形成層を有する感光体を製造してもよい。１個の画像形成層のための分散物の固体含有量は、分散物の重量を基準として、約２重量％〜約３０重量％の範囲であってもよい。
【０１７８】
画像形成層が、電荷発生層と電荷移動層の機能を組み合わせた単一層である場合、この層に含まれる成分の具体的な量は、電荷発生材料（約５重量％から約４０重量％まで）と、電荷移動材料（約２０重量％〜約６０重量％）と、バインダー（画像形成層の残り）である。
【０１７９】
本明細書に記載の材料および手順を用い、電荷生成材料および電荷移動性のＳＯＦを含む１つの画像形成層を有する感光体を製造してもよい。１個の画像形成層のための分散物の固体含有量は、分散物の重量を基準として、約２重量％〜約３０重量％の範囲であってもよい。
【０１８０】
画像形成層が、電荷発生層と電荷移動層の機能を組み合わせた単一層である場合、この層に含まれる成分の具体的な量は、電荷生成材料（約２重量％から約４０重量％まで）と、加えられる機能として電荷移動性を有する分子ビルディングブロック（約２０重量％〜約７５重量％）である。
【０１８１】
１つ以上のオーバーコート層８を用いてもよく、この層を利用する場合、電荷発生層または電荷移動層の上に配置される。この層は、電気的に絶縁性であるか、またはわずかに半導体性を有するＳＯＦを含む。
【０１８２】
このような保護性のオーバーコート層は、場合により、電荷移動性セグメントを含む複数の分子ビルディングブロックを含む、ＳＯＦを形成する反応混合物を含む。
【０１８３】
添加剤は、オーバーコート層中に、オーバーコート層の約０．５〜約４０重量％の範囲で存在してもよい。添加剤としては、耐摩耗性をさらに高め、および／または電荷緩和特性を付与することが可能な有機粒子および無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、テフロン粉末、カーボンブラック、グラファイト粒子が挙げられる。無機粒子としては、絶縁性および半導体性の金属酸化物粒子、例えば、シリカ、酸化亜鉛、酸化スズなどが挙げられる。別の半導体性添加剤は、酸化されたオリゴマー塩であってもよく（米国特許第５，８５３，９０６号を参照）が挙げられる。オリゴマー塩は、酸化されたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン塩であってもよい。
【０１８４】
ＳＯＦオーバーコート層は、
（ａ）それぞれセグメントと複数のＦｇとを含む、電荷移動性に偏った特性を有する複数の分子ビルディングブロックを含む液体を含有する反応混合物を調製することと；
（ｂ）この反応混合物を濡れた膜として堆積させることと；
（ｃ）分子ビルディングブロックを含む濡れた膜が、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格として整列したものを含むＳＯＦを含む乾燥膜へと変化することを促進させることとによって調製されてもよく、巨視的なレベルで、この共有結合による有機骨格が膜である。
【０１８５】
約２μｍ〜約１５μｍ、または約３μｍ〜約８μｍのオーバーコート層は、耐ひっかき性および耐摩耗性を付与することに加え、電荷移動による分子の浸出、結晶化、電荷移動層の割れを防ぐのに有効である。
【０１８６】
アース片９は、膜形成バインダーと、電気伝導性粒子とを含んでいてもよい。伝導性粒子を分散させるために、セルロースを用いてもよい。電気伝導性アース層８に、任意の適切な電気伝導性粒子を使用してもよい。アース片８は、米国特許第４，６６４，９９５号に列挙されているものを含む材料を含んでいてもよい。典型的な電気伝導性粒子としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、銅、銀、金、ニッケル、タンタル、クロム、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、インジウムスズオキシドなどが挙げられる。
【０１８７】
電気伝導性粒子は、任意の適切な形状であってもよい。典型的な形状としては、不規則な形、顆粒、球状、楕円形、立方体、フレーク、フィラメント状などが挙げられる。電気伝導性粒子は、電気伝導性アース層が、過剰に不規則な外側表面を有さないようにするために、電気伝導性アース層の厚みよりも小さな粒径を有していてもよい。平均粒径が約１０μｍより小さいと、一般的に、乾燥したアース層の外側表面で、電気伝導性粒子の過剰な突出部を避けることができ、乾燥させたアース層のマトリックスを通って、粒子を比較的均一に分散させることができる。アース片で使用すべき伝導性粒子の濃度は、利用する特定の伝導性材料の導電性のような因子によって変わる。
【０１８８】
アース層は、厚みが、約７μｍ〜約４２μｍ、または約１４μｍ〜約２７μｍであってもよい。
【０１８９】
画像保持体から液体トナー画像を受け入れるための、スライドしない転写融着アセンブリを有する、液浸現像（ＬＩＤ）による再生機が提供される。この転写融着アセンブリは、ベルトループを形成し、内側表面と、トナー画像を保有する外側表面とを備える、連続した中間転写ベルトを備えていてもよく、ＳＯＦと；第１の直径を有し、ベルトループと画像保持体との間に、トナー画像を受け入れるニップを形成するための、ベルトループの内側表面と接触するように取り付けられた第１の裏当てローラーと；第１の裏当てローラーと反対側に取り付けられ、ベルトループと外側ローラーとの間に転写ニップを形成するために、ベルトループの内側表面と接触する第２の裏当てローラーとを備えていてもよい。第２の裏当てローラーは、ベルトのための大きな駆動ドラムを備えていてもよく、ベルトがスライドしたり、滑ったりするのを防ぐことによって、高品質の転写融着したトナー画像を生成し、比較的小さな直径の駆動ロールから得られる結果とは異なる画像が保証されるように、第１の裏当てローラーの第１の直径よりも何倍も大きい第２の直径を有している。
【０１９０】
液浸現像（ＬＩＤ）再生機の特徴の詳細は、米国特許第６，００２，９０７号に記載されている。
【０１９１】
ＬＩＤ再生機は、高固体含有量（ＨＳＣ）の画像供与現像装置を組み込んでいてもよく、多色ＬＩＤ機であってもよく、単色ＬＩＤ機であってもよい。カラー複写プロセスは、一般的に、コンピューターで作成したカラー画像を画像処理ユニットに入力するか、または、透明な平板表面に複写するカラードキュメントを置くことによって開始される。光源、ハロゲンランプまたはタングステンランプ、そこからの光を含むスキャンアセンブリを、カラードキュメントにあてる。カラードキュメントから反射した光は、一連のレンズを通り、二色プリズムを通って１番目、２番目、３番目の鏡で反射し、電荷結合素子（ＣＣＤ）に向かい、ここで、情報が読み取られる。反射した光を、二色プリズムおよび／またはＣＣＤで三原色に分けてもよい。
【０１９２】
それぞれのＣＣＤは、入射光の強度に比例するアナログ電圧を出力してもよい。それぞれのＣＣＤから得られるアナログ信号を、アナログ／デジタル変換器によって、各ピクセル（画素）について８ビットデジタル信号に変換してもよい。それぞれのデジタル信号を、画像処理ユニットに入れてもよい。青色、緑色、赤色の強度信号を表していてもよいデジタル信号を、画像処理ユニットで、イエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の４種類のビットマップに変換してもよい。このビットマップは、各ピクセルについて、露光値をあらわしており、色成分および色の分離をあらわしている。画像処理ユニットは、シェーディング補正ユニット、下色除去ユニット（ＵＣＲ）、マスキングユニット、ディザリングユニット、灰色レベル処理ユニット、当該技術分野で既知の他の画像処理サブシステムを含んでいてもよい。画像処理ユニットは、その後の画像のビットマップ情報を格納していてもよく、リアルタイムモードで操作することもできる。
【０１９３】
ＬＩＤ機は、光伝導性画像形成体または光伝導性感光体を備えており、これらは、ＳＯＦを含んでいてもよく、多層であってもよく、基板と、伝導層と、場合により接着層と、場合により正孔遮断層と、電荷発生層と、電荷移動層と、光伝導性表面または画像形成表面と、場合により、屈曲防止裏当て層とを備えていてもよい。感光体は移動可能であってもよい。移動性感光体を、まず、帯電ユニットによって帯電させてもよい。次いで、画像処理ユニットによって制御されるラスタ出力スキャナー（ＲＯＳ）デバイスは、帯電した感光体上にある電荷を選択的に消去することによって、第１の相補性カラー画像のビットマップ情報を書きだしてもよい。ＲＯＳは、ラインスクリーン登録モードでのピクセルによって、画像情報のピクセルを書きだしてもよい。帯電していない部分が現像される反転現像（ＤＡＤ）を用いてもよく、帯電している部分がトナーで現像される正現像（ＣＡＤ）を用いてもよいことを注記しておくべきである。
【０１９４】
第１の静電潜像が記録された後、感光体は、静電潜像を現像ステーションに進める。現像ステーションでは、第１の潜像を帯電したトナー粒子で現像するための第１の高固体含有量の供与現像装置が与えられてもよい。この高固体含有量の供与現像装置は、回転可能な供与体と、液体現像材料の低固体含有量（ＬＳＣ）の層（例えば、ブラックトナー現像材料）を、ある供給源から、現像ゾーンまたはニップへと進めるために、ある方向に回転するベルトまたはローラーとを備えている。高固体含有量の供与現像装置は、低固体含有量（ＬＳＣ）現像材料源を含み、ＬＳＣ現像材料を含むハウジングを備えている。上述の低固体含有量の液体現像材料は、典型的には、潜像を、通常は感光体上で現像するために、特定の色の微細な固体粒子状トナー材料を約２重量％含み、これが炭化水素液体キャリアのようなキャリアに分散した材料である。
【０１９５】
すべての比率は、他の意味であると示されていない限り、重量による。「パターン化」は、セグメントが連結している順序を指す。したがって、パターン化されたＳＯＦは、セグメントＡがセグメントＢにのみ接続した組成物を包含し、逆に、セグメントＢがセグメントＡにのみ接続した組成物を含有する。さらに、たった１個のセグメント（いわゆるセグメントＡ）が存在するシステムが使用される場合、ＡはＡとのみ反応することが意図されるため、これもパターン化されたものであろう。
【実施例】
【０１９６】
実施例１は、２個のビルディングブロック間をエーテル化によって接続する化学を促進するように成分を組み合わせた２型ＳＯＦの合成について記載している。酸触媒および加熱作用が存在する状態で、実施例１に記載した方法でＳＯＦを得る。
【０１９７】
（実施例１）
（作業Ａ）液体を含む反応混合物の調製。以下のものを混合した。ビルディングブロックであるベンゼン−１，４−ジメタノール［セグメント＝ｐ−キシリル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．４７ｇ、３．４ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（１．１２ｇ、１．７ｍｍｏｌ）］、１７．９ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．３１ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。
【０１９８】
（作業Ｂ）反応混合物を濡れた膜として堆積。８ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。
【０１９９】
（作業Ｃ）濡れた膜を乾燥ＳＯＦに変化させるのを促進すること。濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約３〜６μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立型ＳＯＦとして剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。このＳＯＦの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図４に示している。
ＳＯＦ内でパターン化された、用いられる分子ビルディングブロックからのセグメントを含むことを示すために、３つのコントロール実験が行われた。すなわち、実施例１の作業Ａと同じ手順を用いて３つの液体反応混合物が調製された。ただし、これら３つの配合物は下記のように修飾された。
・（コントロール反応混合物１；実施例２）ビルディングブロックであるベンゼン−１，４−ジメタノールを含まなかった。
・（コントロール反応混合物２；実施例３）ビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミンを含まなかった。
・（コントロール反応混合物３；実施例４）触媒であるｐ−トルエンスルホン酸を含まなかった。
【０２００】
実施例２〜４は、膜が得られなかった。その代わり、ビルディングブロックの沈殿した粒子が、基板に堆積した。
【０２０１】
それぞれの３種類のコントロール反応混合物について、実施例１に概略を説明した作業ＢおよびＣを行った。しかし、すべての場合において、ＳＯＦは生成せず、単に、基板にビルディングブロックが析出した。これらの結果から、ビルディングブロックは、上に述べた処理条件ではビルディングブロック自体と反応することはできず、プロモーター（ｐ−トルエンスルホン酸）が存在しない状態では、ビルディングブロックが反応することもできないという結果が得られた。したがって、実施例１に記載した活性は、ビルディングブロック（ベンゼン−１，４−ジメタノールおよびＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン）が、互いに反応するように促進された場合にのみ反応することが可能な活性である。パターン化されたＳＯＦは、セグメントであるｐ−キシリルおよびＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンが互いに接続した場合にのみ生じる。フーリエ変換赤外スペクトルを、ＳＯＦのコントロール実験の生成物（図５）と比較すると、出発物質のＦｇが存在しない（特に、ベンゼン−１，４−ジメタノールに由来するヒドロキシルバンドが存在しない）ことが示され、さらに、上述のようにセグメント間の接続性の進行をさらに支持するものである。また、ＳＯＦのスペクトルにヒドロキシルバンドがまったく存在しないことは、非常に高い割合でパターン化されていることを示している。
【０２０２】
実施例６（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである１，６−ｎ−ヘキサンジオール［セグメント＝ｎ−ヘキシル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．２１ｇ、１．８ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（０．５８ｇ、０．８７ｍｍｏｌ）］、８．９５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．１６ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）２０ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約４〜５μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立型ＳＯＦとして剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。このＳＯＦの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図６に示している。
【０２０３】
実施例９：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’−（シクロヘキサン１，１−ジイル）ジフェノール［セグメント＝４，４’−（シクロヘキサン１，１−ジイル）ジフェニル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．９７ｇ、６ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（１．２１ｇ、１．８ｍｍｏｌ）］、７．５１ｇの１，４−ジオキサン。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１，４−ジオキサン溶液０．２２ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）１０ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約１２〜２０μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。このＳＯＦの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図７に示している。
【０２０４】
（実施例２６）
（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメタノール［セグメント＝（４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメチル）；Ｆｇ＝アルコール（−ＯＨ）；（１．４８ｇ、４．４ｍｍｏｌ）］、８．３ｇの１，４−ジオキサン。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１，４−ジオキサン溶液０．１５ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）１５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約６〜１５μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図８に示している。二次元Ｘ線散乱データを図１４に示しており、バックグラウンドより上のシグナルは存在せず、このことは、任意の検出可能な周期を有する規則的な分子が存在しないことを示している。
【０２０５】
実施例３０：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるテレフタルアルデヒド［セグメント＝ベンゼン；Ｆｇ＝アルデヒド（−ＣＨＯ）；（０．１８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるトリス（４−アミノフェニル）アミン［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝アミン（−ＮＨ２）；（０．２６ｇ、０．８９ｍｍｏｌ）］、２．５ｇのテトラヒドロフラン。均一溶液が得られるまで、混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−テトラヒドロフラン溶液０．０４５ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１２０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約６μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は赤色から橙色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図９に示している。
【０２０６】
実施例３１：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’，４’’−ニトリロトリベンズアルデヒド［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝アルデヒド（−ＣＨＯ）；（０．１６ｇ、０．４ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるトリス（４−アミノフェニル）アミン［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝アミン（−ＮＨ２）；（０．１４ｇ、０．４ ｍｍｏｌ）］、１．９ｇのテトラヒドロフラン。均一溶液が得られるまで、混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１２０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約６μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は赤色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図１０に示している。
【０２０７】
実施例３６：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．１２ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（５５ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ３７００（２１０ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２６７ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１３．２７ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが約６．９μｍのＳＯＦを得た。図１１は、このＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。
【０２０８】
実施例３７：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；４．６５ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（４９ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００（２０５ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２５４ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１２．２５ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。ポリエチレンワックス分散物（平均粒径＝５．５マイクロメートル、ｉ−プロピルアルコール中、固形分４０％、６１３ｍｇ）を反応混合物に加え、これを１０分間超音波処理し、回転機で３０分間混合した。（作業Ｂ）この反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、ＳＯＦにワックス粒子が均一に組み込まれた、厚みが約６．９μｍの膜を得た。図１２は、このＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。
【０２０９】
実施例３８：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；３．３６ｇ］、ビルディングブロックであるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ）；５．５６ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（４８０ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００（３８３ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（４８０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（３３．２４ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度４８５ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが６．０〜６．２μｍの膜を得た。図１３は、このＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。
【０２１０】
実施例４９：（作業Ａ）反応混合物を含む液体を調製する試み。以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．１２ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（５５ｍｇ）、Ｓｉｌｃｌｅａｎ ３７００（２１０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１３．２７ｇ）。分子ビルディングブロックを完全に溶解する試みにおいて、この混合物を６５分かけて５５℃まで加熱した。しかし、完全には溶解しなかった。触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２６７ｍｇ）を加え、不均一な混合物をローリングウェーブ式回転機でさらに１０分間混合した。この例では、加熱工程の後に触媒を加えた。溶解していない分子ビルディングブロックの量があるため、コーティング前に溶液を濾過しなかった。（作業Ｂ）濡れた膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた膜から乾燥膜への変化を促進。濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、均一な膜は得られなかった。粒子を含む不均一な膜が生成した領域と、まったく膜を形成しない他の領域とが存在していた。
【０２１１】
実施例５０：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるｔｒｉｓ−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．１２ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（５５ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００（２１０ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２６７ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１３．２７ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。反応混合物の粘度が、加熱工程後に増加した（加熱前後の溶液の粘度は測定していなかった）ことを注記しておく。（作業Ｂ）反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが約６．９μｍのＳＯＦを得た。
【０２１２】
実施例５１：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン ［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；１．８４ｇ］、ビルディングブロックである３，３’−（４，４’−（ビフェニル−４−イルアザンジイル）ビス（４，１−フェニレン））ジプロパン−１−オール［セグメント＝３，３’−（４，４’−（ビフェニル−４−イルアザンジイル）ビス（４，１−フェニレン））ジプロピル；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；（２．４１ｇ）、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（１０ｗｔ％ドワノール溶液、４６０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１６．９ｇ−５０ｐｐｍのＤＣ５１０を含有）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で５分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、７０℃で３０分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、Ｈｉｒａｎｏウェブコーターを用いて製品をコーティングしたウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度：４．５ｍＬ／分。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に１．５ｍ／分の速度で２分間供給した。これらの作業によって、厚みが２．１マイクロメートルのＳＯＦオーバーコート層を感光体の上に与えた。
【０２１３】
実施例５２：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．０ｇ］、ビルディングブロックであるベンゼンジメタノール［セグメント＝ｐ−キシリル；Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ）；２．３２ｇ］、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（１０ｗｔ％ドワノール溶液、７２０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（２２．５ｇ−５０ｐｐｍのＤＣ５１０を含有）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で５分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、４０℃で５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、Ｈｉｒａｎｏウェブコーターを用いて製品をコーティングした製品ウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度：５ｍＬ／分。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に１．５ｍ／分の速度で２分間供給した。これらの作業によって、厚みが２．２マイクロメートルのＳＯＦオーバーコート層を感光体の上に与えた。
【０２１４】
実施例５３：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．０ｇ］、ビルディングブロックであるベンゼンジメタノール［セグメント＝ｐ−キシリル；Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ）；２．３２ｇ］、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（１０ｗｔ％ドワノール溶液、７２０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（２２．５ｇ−５０ｐｐｍのＤＣ５１０を含有）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で５分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、４０℃で５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、Ｈｉｒａｎｏウェブコーターを用いて製品をコーティングした製品ウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度：１０ｍＬ／分。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に１．５ｍ／分の速度で２分間供給した。これらの作業によって、厚みが４．３マイクロメートルのＳＯＦオーバーコート層を感光体の上に与えた。
【０２１５】
ＳＯＦでオーバーコートされた感光体サンプルは、アイソパーＣ、Ｇ、またはＭに２４時間接触させた後にも、観察可能な損傷はみられなかった。さらに、ＣＴＬからのビルディングブロックまたはセグメントの結晶化は観察されなかった。以前のオーバーコート層を用いて観察した場合にも、アイソパーＣ、Ｇ、またはＭに２４時間接触させた後に結晶化せず、測定可能な損傷は、なんらみられなかった。
【０２１６】
実施例５４：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメタノール［セグメント＝（４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメチル）；Ｆｇ＝アルコール（−ＯＨ）；（１．４８ｇ、４．４ｍｍｏｌ）］、水０．５ｇ、１，４−ジオキサン７．８ｇ。この混合物を振り混ぜ、均一な溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１，４−ジオキサン溶液０．１５ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）１５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約４〜１０μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。二次元Ｘ線散乱データを図１４に示している。図１４からわかるように、２θは、約１７．８であり、ｄは約４．９７オングストロームであり、このことは、ＳＯＦが、約０．５ｎｍの周期を有する規則的な分子を有することを示す。
【０２１７】
実施例５５：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４−ヒドロキシベンジルアルコール［セグメント＝トルエン；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．０２７２ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（０．０７２８ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）］、０．８８ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、シルクリーンの１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇ。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、５５℃まで加熱する。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、アルミニウム基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えているアルミニウム基板を、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。
【０２１８】
実施例５６：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４−（ヒドロキシメチル）安息香酸［セグメント＝４−メチルベンズアルデヒド；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．０３１４ｇ、０．２０６ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（０．０６８６ｇ、０．１０３ｍｍｏｌ）］、０．８８ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、シルクリーンの１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇ。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、５５℃まで加熱する。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、アルミニウム基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えているアルミニウム基板支持体を、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。
【０２１９】
実施例５７：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである１，４−ジアミノベンゼン［セグメント＝ベンゼン；Ｆｇ＝アミン（−ＮＨ２）；（０．１４ｇ、１．３ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックである１，３，５−トリホルミルベンゼン［セグメント＝ベンゼン；Ｆｇ＝アルデヒド（−ＣＨＯ）；（０．１４４ｇ、０．８９ｍｍｏｌ）］、２．８ｇのＮＭＰ。均一溶液が得られるまで、この混合物を振り混ぜる。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の２．５ｗｔ％ＮＭＰ０．０２ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）反応混合物を、速度を変えることが可能なスピンコーターの回転ユニットに取り付けた石英プレートに、１００ＲＰＭで３０分間回転させ、塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている石英プレートを、あらかじめ１８０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、１２０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが４００ｎｍの黄色の膜が得られ、これを水に浸し、基板から剥離することができる。
【０２２０】
実施例５８：実施例１に記載したプロセスおよびビルディングブロックに関し、コンポジットＳＯＦを調製した。これらの場合、使用した溶媒はジオキサンであった。すべてのＳＯＦを調製し、２０ｍｉｌのバードバーを用い、濡れた層を堆積させ、この濡れた層の変化を１３０℃で４０分間促進させることによって、金属化したＭＹＬＡＲ基板に、反応混合物中の合計固形保持率３０％、第２の成分からの固形保持率が１０％になるように塗布した。濡れた層からＳＯＦを形成する変化を促進させる前に、第２の成分を反応混合物に含ませることによって、第２の成分を導入した。６種類の異なるコンポジットＳＯＦを製造し、それぞれ異なる第２の成分を含んでいた：コンポジットＳＯＦ１は、正孔移動分子（Ｎ４，Ｎ４’−ジフェニル−Ｎ４，Ｎ４’−ジ−ｍ−トリル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン）を含み、コンポジットＳＯＦ２は、ポリマー（ポリスチレン）を含み、コンポジットＳＯＦ３は、ナノ粒子（Ｃ６０ Ｂｕｃｋｍｉｎｓｔｅｒフラーレン）を含み、コンポジットＳＯＦ４は、有機低分子（ビフェニル）を含み、コンポジットＳＯＦ５は、金属粒子（銅微粉末）を含み、コンポジットＳＯＦ６は、電子受容体（キノン）を含む。いくつかの第２の成分は、反応混合物に可溶性であり、いくつかは反応混合物に分散した（可溶性ではなかった）。製造した６種類のコンポジットＳＯＦは、実質的にピンホールのないＳＯＦであり、コンポジット材料がＳＯＦに組み込まれていた。いくつかの場合（例えば、銅微粉末コンポジットＳＯＦ）の場合、第２の成分（ドーパント）の分散物は、目でみて明らかであった。これらのＳＯＦの厚みは、１５〜２５マイクロメートルの範囲であった。
【０２２１】
実施例５９：（作業Ａ）液体を含む反応混合物の調製：以下のものを混合した。ＳＯＦビルディングブロックであるトリス−（４−ヒドロキシメチル）トリフェニルアミン［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；０．２００ｇ］；フォトクロミック分子１〜５（以下を参照）（０．０２ｇ）、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（０．０１ｇ）；１−メトキシ−２−プロパノール（０．７６０ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で５分間加熱した。この溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）反応混合物を濡れた膜として堆積：５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、３ｍｉｌＭＹＬＡＲ基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた膜から乾燥ＳＯＦへの変化を促進。濡れた層を支えているＭｙｌａｒシートを、あらかじめ１２０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、５分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが３〜５μｍの膜を得た。以下のフォトクロミック分子をＳＯＦに組み込んだ。
【０２２２】
【化１５】
【０２２３】
すべての配合物は、実質的にピンホールのない膜を形成したが、表２（以下）からわかるように、フォトクロミック分子（４）および（５）が最もよい性能を発揮した。
【表２】
【０２２４】
分子（４）および（５）を用いたフォトクロミックＳＯＦのＵＶ−可視光スペクトルは、明らかに、フォトクロミックＳＯＦ膜の着色能（ＵＶＡで書き込んだ後、約６００ｎｍに中心がある広範囲の吸収が存在）、および消去能を示している（可視光で消去すると、約６００ｎｍの吸収が消失）。フォトクロミック応答は、書き込み／消去速度および画像のコントラストという観点で、ポリマーマトリックス系と匹敵するものであった。このことは、ＳＯＦ膜が、これらのＤＴＥ型のフォトクロミック材料の性能に影響を与えないことを示している。
【０２２５】
化学薬品／環境／機械力に対する安定性を試験するために、フォトクロミックＳＯＦをアセトン中に１５分間置いた。実験による観察結果を以下の表（表３）に詳細に示す。分子（５）を含むフォトクロミックＳＯＦは、膜の一体性およびフォトクロミック挙動を完全に保存している。分子（４）を含むフォトクロミックＳＯＦは、フォトクロミック成分がしみ出し、その結果、フォトクロミック活性が失われる。
【表３】
【０２２６】
分子（５）を含むフォトクロミックＳＯＦをアセトンに入れ、５分間超音波処理した。これは、ポリマーフォトクロミック系は耐えられないであろう厳しい試験である。溶媒を除去した後、分子（５）を含むフォトクロミックＳＯＦは、本質的に、ＳＯＦの完全性を保っており、ＵＶ ＬＥＤデバイスにさらされた場合とほぼ同じレベル書き込んでいる（すなわち、フォトクロミック活性は保存されている）。ＳＯＦ構造に化学結合しているフォトクロミック分子（５）から誘導されるフォトクロミックＳＯＦは、ＳＯＦからしみ出さず、厳しい化学薬品（アセトン溶媒）に耐えることができ、機械的（超音波）によるストレスにも耐えることができる。
【０２２７】
実施例６０：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；表４に列挙した量で］、表４に示されているようなキャッピングユニット；添加剤であるＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７およびドワノール。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、６５℃で６０分間加熱した。この混合物を回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）反応混合物をアルミニウム基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えているアルミニウム基板を、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、４〜１０μｍの厚みを有する膜を得た。
【表４−１】
【表４−２】
【表４−３】
【０２２８】
上述のすべての配合物は、眼で観察して、ピンホールのないＳＯＦが得られていた。ＳＯＦのＦＴ−ＩＲ分光法は、膜で検出された−ＯＨ基が、大きく弱まっているか、または完全に失われているため、ＴＨＭ−ＴＢＤビルディングブロックとキャッピングユニットとの結合はうまくいっており、効率的であることを示していた。
【０２２９】
キャッピングされたＳＯＦの熱安定性は、キャッピングユニットを含まないＴＨＭ−ＴＢＤ ＳＯＦに匹敵していた。４００℃までは分解はみられず、このことは、高度に結合した材料であるという指標である。
【０２３０】
膜の機械特性は、キャッピング基を導入することによって大きく影響を受けた。自立型の膜で、応力−ひずみデータを集めることによって、キャッピングされたＳＯＦ膜の機械特性を評価した。一般的に、キャッピングユニットを含むＳＯＦ膜は、靱性が大きく、ＴＨＭ−ＴＢＤのみから構築された純粋なＳＯＦ膜よりも線形応力−ひずみ曲線が小さかった。この機械データは、キャッピングユニットをＳＯＦに入れることによって得られる微視的なレベルでの変化が、膜の巨視的なレベルに直接影響を及ぼしていることを明らかに示している。
【０２３１】
実施例６１：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；表５〜８に列挙した量で］、キャッピングユニット、添加剤であるＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７、ドワノール（表３〜６に示されるように）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、６５℃で６０分間加熱した。この混合物を回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度４８５ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが６〜７μｍの膜が得られた。
【０２３２】
【表５】
【０２３３】
【表６】
【０２３４】
【表７】
【０２３５】
【表８】
【０２３６】
上述のすべての配合物は、眼で観察して、ピンホールのないＳＯＦが得られていた。ＳＯＦのＦＴ−ＩＲ分光法は、膜で検出された−ＯＨ基が、大きく弱まっているか、または完全に失われているため、ＴＨＭ−ＴＢＤビルディングブロックとキャッピングユニットとの結合はうまくいっており、効率的であることを示していた。図１５は、このキャッピングされたＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。このデバイスの電気特性は優れている（低Ｖｒおよびサイクルアップなし）。それぞれ、図１５および図１６のＰＩＤＣおよび繰り返しデータを参照。
【０２３７】
キャッピングされたＳＯＦ ＯＣＬのＢＣＲ摩耗データは、（両方の種類のキャッピングユニットについて）キャッピングユニットの保持量という観点で、最も大きな摩耗率を示す。高保持量と低保持量とで、摩耗の程度および違いは小さく、このことは、キャッピングユニット保持量をさらに増やすことによって摩耗率が大きくなることにはかなりの自由度が存在することを示しており、また、必要なＨＴＭの量（費用）を下げるだろう。
【０２３８】
印刷試験には、印刷品質の問題はなんら存在せず、オーバーコーティングされていないＰ／Ｒデバイスと本質的に同じである。
【発明の概要】
【０００１】
本明細書には、基板と；電荷発生層と；電荷移動層と；場合により、オーバーコート層とを備え、最も外側の層が、複数のセグメントと、複数のリンカーとが共有結合による有機骨格（ＣＯＦ）として整列したものを含む、耐溶媒性の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成表面である、液体トナーをゼログラフィー方式で印刷するための画像形成体が記載されている。
【図面の簡単な説明】
【０００２】
【図１】図１は、ＳＯＦが組み込まれた感光体の側面図をあらわす。
【図２】図２は、ＳＯＦが組み込まれた感光体の単純化された側面図をあらわす。
【図３】図３は、ＳＯＦが組み込まれた感光体の単純化された側面図をあらわす。
【図４】図４は、コントロール実験の混合物の生成物のＦＴ−ＩＲスペクトルを比較したグラフであり、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミンのみを液体反応混合物に加えたもの（上）、ベンゼン−１，４−ジメタノールのみを液体反応混合物に加えたもの（中央）、ＳＯＦを形成するのに必要な成分を液体反応混合物に加えたもの（下）である。
【図５】図５は、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、ｐ−キシリルセグメントと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図６】図６は、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、ｎ−ヘキシルセグメントと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図７】図７は、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、４，４’−（シクロヘキサン１，１−ジイル）ジフェニルと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図８】図８は、トリフェニルアミンセグメントと、エーテルリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図９】図９は、トリフェニルアミンセグメントと、ベンゼンセグメントと、イミンリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図１０】図１０は、トリフェニルアミンセグメントと、イミンリンカーとを含むＳＯＦのＦＴ−ＩＲスペクトルをあらわすグラフである。
【図１１】図１１は、ＳＯＦオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１２】図１２は、ワックス添加剤を含有するＳＯＦオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１３】図１３は、ＳＯＦオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１４】図１４は、実施例２６および５４で製造されたＳＯＦの二次元Ｘ線散乱データをあらわすグラフである。
【図１５】図１５は、種々のオーバーコート層の光伝導性を示す、ＰＩＤＣをあらわすグラフである。
【図１６】図１６は、種々のＳＯＦオーバーコート層について得られた繰り返しデータをあらわすグラフである。
【０００３】
本開示は、一般的に、液体ゼログラフィー用途のための、「耐溶媒性」の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成体、感光体、光伝導体などに関する。
【０００４】
「耐溶媒性」は、（１）ＳＯＦおよび／またはＳＯＦ組成物の一部分であった任意の原子および／または分子が染み出すこと、および／または、（２）ＳＯＦおよび／またはＳＯＦ組成物の一部分であった任意の分子がなんらかの形態で相分離し、ＳＯＦが組み込まれている層が、溶媒／応力によって欠けたり、分解したりしやすくなることが実質的に存在しないことを指す。用語「実質的に存在しない」は、ＳＯＦを含む画像形成体（またはＳＯＦ画像形成層）が、約２４時間以上（約４８時間、または約７２時間）の期間、液体現像剤または溶媒に連続的にさらされるか、または浸された後に、ＳＯＦの原子および／または分子が染み出す量が約０．５％未満であることを指すか、または、ＳＯＦを含む画像形成体（またはＳＯＦ画像形成層）が、約２４時間以上（約４８時間、または約７２時間）の期間、液体現像剤または溶媒にさらされるか、または浸された後に、ＳＯＦの原子および／または分子が染み出す量が約０．１％未満であることを指すか、または、ＳＯＦを含む画像形成体（またはＳＯＦ画像形成層）が、約２４時間以上（約４８時間、または約７２時間）の期間、液体現像剤または溶媒にさらされるか、または浸された後に、ＳＯＦの原子および／または分子が染み出す量が約０．０１％未満であることを指す。
【０００５】
「有機キャリア液」は、液体現像剤および／またはインクで使用される有機液体または溶媒を指し、アルケン、直鎖脂肪族炭化水素、分枝鎖脂肪族炭化水素が挙げられ、ここで、直鎖または分枝鎖の脂肪族炭化水素は、約１〜約３０個の炭素原子を有していてもよく、または、約４〜約２０個の炭素を有していてもよく；また、トルエン、キシレン（またはｏ−、ｍ−、ｐ−キシレン）のような芳香族、および／またはこれらの混合物；アイソパー溶媒またはイソパラフィン系炭化水素、またはＩＳＯＰＡＲ商標シリーズのような非極性液体（アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭを含む（Ｅｘｘｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎによって製造され、これらの炭化水素液体は、イソパラフィン系炭化水素フラクションの範囲の狭い一部であると考えられる））、ＮＯＲＰＡＲ商標シリーズの液体（Ｅｘｘｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なｎ−パラフィン組成物である）、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＳＯＬＴＲＯＬ商標シリーズの液体、Ｓｈｅｌｌ Ｏｉｌ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＳＨＥＬＬＳＯＬ商標シリーズの液体、炭素原子が約１０〜約１８個のイソパラフィン系炭化水素溶媒、またはこれらの混合物が挙げられる。有機キャリア液は、所望な場合、１種類以上の溶媒の混合物（すなわち、溶媒系）であってもよい。それに加え、所望な場合、もっと極性の高い溶媒を用いてもよい。もっと極性の高い使用可能な溶媒の例としては、ハロゲン化溶媒および非ハロゲン化溶媒（テトラヒドロフラン、トリクロロエタンおよびテトラクロロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、アセトン、メタノール、エタノール、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルアセトアミドなどが挙げられる。溶媒は、１種類、２種類、３種類またはそれ以上の異なる溶媒で構成されていてもよく、および／または、上述の溶媒の他の種々の混合物で構成されていてもよい。
【０００６】
より特定的には、本開示は、剛性またはドラム型の光伝導体に関し、単一層または複数層の可とう性ベルト型画像形成体、または基板のような任意要素の支持媒体と、光発生層と、電荷移動層と、ポリマーコーティング層と、任意要素の接着層と、任意要素の正孔遮断層またはアンダーコート層とで構成され、画像形成体の最も外側の層としてＳＯＦを備えていてもよいデバイスに関する。本明細書に示されている画像形成体、感光体、光伝導体は、耐摩耗性に優れ、寿命が長く、画像形成体で１つ以上の表面層に、最終的に作られる印刷物で目視できるような傷を生じ、望ましくない印刷結果を与えてしまうような傷がつくことがなくなるか、または最小限になり、優れた電気特性を可能にし、長い間電気的に動かした後のサイクルアップが最小限になり、駆動時の消失に対する耐性が増し、耐溶媒性、機械的なロバスト性が向上している。さらに、本明細書に開示されている画像形成体または光伝導体は、多くの場合に、優れた低いＶｒ（残留電位）を有し、適切な場合には、Ｖｒのサイクルアップを実質的に防ぎ、感度が高く、ゴースト画像が発生する性質が許容可能なレベルで低く、望ましいトナー洗浄性を示す。
【０００７】
ロバスト性および電気特性（ＰＩＤＣ）に優れた、耐溶媒性のＳＯＦ感光体オーバーコート層（ＯＣＬ）組成物を開示する。種々の分子ビルディングブロックから誘導したＳＯＦオーバーコート層組成物を用い、感光体に対してアイソパー適合性試験（液体トナーの代用試験材料として、Ｉｓｏｐａｒ Ｃ、ＧおよびＭを選択した）を行なったが、感光体の損傷はみられなかった。液体ゼログラフィーのための、ＳＯＦ層を備える画像形成体は、優れた光放電特性を維持しつつ、ＳＯＦの特に高い耐溶媒性を利用するものである。
【０００８】
画像形成体は、デジタル装置を含むゼログラフィー方式の装置で有用な、（耐溶媒性ＳＯＦ、または以下「ＳＯＦ」を最も外側の層として有する）中間転写ベルト、シート、ローラー、またはフィルムであってもよい。「耐溶媒性」ＳＯＦを含む本明細書の画像形成体は、多くの異なるプロセスおよび構成要素（例えば、感光体、定着体、転写固着体、バイアス転写体、バイアス帯電体、現像体、画像保持体、搬送部材、クリーニング部材）、および接触型の静電印刷用途、ゼログラフィー用途（デジタルなどを含む）のための他の部材のための、ベルト、ローラー、ドレルト（ｄｒｅｌｔ）（ドラムとベルトのハイブリッド）などとして有用な場合がある。さらに、本明細書の画像形成体は、液体および乾燥粉末を用いるゼログラフィーアーキテクチャに用いることができる。
【０００９】
画像形成体は、液体現像インクまたはこれらの混合物で使用される水系キャリア液または有機キャリア液（例えば、イソパラフィン系炭化水素、例えば、アイソパー）のいずれかと接触することによって引き起こされる、欠け、ひび割れ、活性化合物の結晶化、活性化合物の相分離、活性化合物の抽出に対し、優れた耐性を示す。したがって、画像形成体は、ＳＯＦを用いない画像形成体に比べ、優れた機械的一体性や、電気特性を有している。アリールアミンを含有する化合物をＳＯＦに組み込んでもよく、それにより、液体現像剤の有機キャリア液が、アリールアミンを含有する化合物のような活性な低分子を染み出させる傾向が増すという状況を防ぐことができる。
【００１０】
活性な低分子、例えば、典型的には、電荷移動層で使用される分子（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン；ビス−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−フェニルメタン；２，５−ビス−（４’−ジメチルアミノフェニル）−１，３，４，−オキサジアゾール；１−フェニル−３−（４’−ジエチルアミノスチリル）−５−（４”−ジエチルアミノフェニル）−ピラゾリン；１，１−ビス−（４−（ジ−Ｎ，Ｎ’−ｐ−メチルフェニル）−アミノフェニル）−シクロヘキサン；４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン；１，１−ジフェニル−２（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノフェニル）−エチレン；Ｎ−エチルカルバゾール−３−カルボキサアルデヒド−１−メチル−１−フェニルヒドラゾン）が画像形成体表面に結晶化し、次いで、液体現像インクにアリールアミンが移動することは、ＳＯＦを用いることによって避けることができる。それに加え、画像形成体のＳＯＦは、インクビヒクル（例えば、Ｃ１０〜Ｃ１４の分枝鎖炭化水素）を、画像形成体表面に、欠けやひび割れ（例えば、眼で見て検出される欠けおよびひび割れ）が生成しないように使用することができるように選択されてもよい。それにより、複写の欠陥を防ぎ、画像形成体の寿命が短くなることが避けられる。画像形成体または感光体が分解すると、画像形成体が物理的に完全に破壊されてしまう前に、バックグラウンドが高くなったり、他の印刷欠陥が生じたりという現象があらわれる。
【００１１】
また、本明細書に示す画像形成体を用い、画像形成し、印刷する液体ゼログラフィー法も、本開示の範囲に含まれる。
【００１２】
「ＳＯＦ」は、一般的に巨視的なレベルで膜である、共有結合による有機骨格（ＣＯＦ）を指す。「巨視的なレベル」は、ＳＯＦの肉眼での見た目を指す。ＣＯＦは、「微視的なレベル」または「分子レベル」では（強力な拡大装置の使用を必要とするか、または分散方法を用いて評価した場合）網目であるが、本発明のＳＯＦは、この膜が、例えば、微視的なレベルのＣＯＦ網目よりも何桁も大きな範囲を覆っているため、基本的に「巨視的なレベル」では異なっている。本明細書に記載の実施形態で使用可能な、本明細書に記載のＳＯＦは、耐溶媒性であり、すでに合成されている典型的なＣＯＦとはかなり異なる巨視的な形態を有している。
【００１３】
さらに、キャッピングユニットがＳＯＦに導入されると、ＳＯＦの骨格は、キャッピングユニットが存在する箇所で局所的に「中断される」。これらのＳＯＦ組成物は、外来分子が、キャッピングユニットが存在する箇所でＳＯＦ骨格に結合しているため、「共有結合によってドープされて」いる。キャッピングされたＳＯＦ組成物は、構成要素であるビルディングブロックを変えることなく、ＳＯＦの特性を変えることができる。
【００１４】
ＳＯＦは、１ミリメートル〜数メートル、または数百メートルよりもかなり大きな長さにわたって延ばすことが可能な、連続的な共有結合による有機骨格を有する、実質的にピンホールを含まないＳＯＦであってもよく、またはピンホールを含まないＳＯＦであってもよい。ＳＯＦは、大きなアスペクト比を有する傾向があり、典型的には、ＳＯＦの２方向の寸法が、第３の寸法よりもかなり大きい。ＳＯＦは、ＣＯＦ粒子の集合体よりも、巨視的な縁や、不連続の外側表面が顕著に少ない。
【００１５】
「実質的にピンホールを含まないＳＯＦ」または「ピンホールを含まないＳＯＦ」は、その下にある基板表面に堆積した反応混合物から生成する。「実質的にピンホールを含まないＳＯＦ」は、生成したＳＯＦの下にある基板から取り外されてもよく、取り外されなくてもよいＳＯＦを指し、１平方センチメートルあたり、２個の隣接するセグメントのコア間の距離よりも大きなピンホール、孔またはギャップを実質的に含んでいないか、または、１ｃｍ２あたり、直径が約２５０ナノメートルより大きなピンホール、孔またはギャップが１０個未満であるか、または、１ｃｍ２あたり、直径約１００ナノメートルよりも大きなピンホール、孔またはギャップが５個未満である。「ピンホールを含まないＳＯＦ」は、１平方マイクロメートルあたり、２個の隣接するセグメントのコア間の距離よりも大きなピンホール、孔またはギャップを含まないか、または、１平方マイクロメートルあたり、直径が約５００Å、約２５０Åまたは約１００Åよりも大きなピンホール、孔またはギャップを含まないＳＯＦを指す。
【００１６】
ＳＯＦは、炭素以外の元素の原子のうち、少なくとも１個、または、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子を含んでいてもよい。ＳＯＦは、ボロキシン、ボラジン、ボロシリケート、ボロン酸エステルを含まないＳＯＦであってもよい。
【００１７】
ＳＯＦは、セグメント（Ｓ）と、官能基（Ｆｇ）とを有する分子ビルディングブロックを含んでいてもよい。分子ビルディングブロックには、少なくとも２個のＦｇ（ｘ≧２）が必要であり、１種類のＦｇを含んでいてもよいし、または２種類以上のＦｇを含んでいてもよい。Ｆｇは、分子ビルディングブロックの反応性化学部分であり、ＳＯＦ形成プロセス中、セグメントを接続する化学反応に関与する。セグメントは、分子ビルディングブロックの一部分であり、Ｆｇを支え、Ｆｇとは関連しないすべての原子を含む。分子ビルディングブロックのセグメントの組成は、ＳＯＦを形成した後も変わらない。
【００１８】
Ｆｇは、分子ビルディングブロックの反応性化学部分であり、ＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する化学反応に関与してもよい。Ｆｇは、１個の原子で構成されていてもよく、Ｆｇは、２個以上の原子で構成されていてもよい。Ｆｇの例としては、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カーボネート、アミン、アミド、イミン、尿素、アルデヒド、イソシアネート、トシレート、アルケン、アルキンが挙げられる。
【００１９】
分子ビルディングブロックは、複数の化学部分を含有しているが、これらの化学部分の部分集合のみが、ＳＯＦ形成プロセス中にＦｇであることを意図している。ある化学部分が、官能基とみなされるかどうかは、ＳＯＦ形成プロセスで選ばれる反応条件によって変わる。Ｆｇは、反応性部分（ＳＯＦ形成プロセス中の官能基）である化学部分を示す。
【００２０】
ＳＯＦ形成プロセスにおいて、官能基の組成は、原子が失われるか、または原子が付け加えられるか、またはその両者によって変わる場合があり、または、官能基が完全に失われる場合もある。ＳＯＦにおいて、以前はＦｇに属していた原子が、セグメントを接続する化学部分であるリンカー基に属するようになる。分子ビルディングブロックの一部である原子または原子群が、ＳＯＦのリンカー基内にとどまっていてもよい。
【００２１】
キャッピングユニットは、ＳＯＦに通常存在する共有結合したビルディングブロックの規則的な網目を「中断する」分子である。キャッピングされたＳＯＦ組成物は、導入されるキャッピングユニットの種類および量によって特性を変えることが可能な、調整可能な材料である。キャッピングユニットは、１種類または２種類以上のＦｇおよび／または化学部分を含んでいてもよい。
【００２２】
キャッピングユニットは、ＳＯＦに加えられ、最終的にＳＯＦとなるいずれかの分子ビルディングブロックの構造に無関係な構造を有していてもよい。
【００２３】
キャッピングユニットは、分子ビルディングブロックの１つの構造に実質的に対応しているが、１つ以上のＦｇが失われているか、またはＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する化学反応（最初に存在するビルディングブロックの官能基との反応）に関与しない異なる化学部分または官能基と置き換わっているような構造を有していてもよい。
【００２４】
キャッピングユニットは、キャッピングユニットの混合物、または、第１、第２、第３、第４のキャッピングユニットなどの組み合わせを含んでいてもよく、この場合、キャッピングユニットの構造はさまざまである。キャッピングユニットまたは複数のキャッピングユニットの組み合わせの構造は、ＳＯＦの化学的特性および物理的特性を高めるか、または弱めるように選択されてもよく、または、ＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する化学反応に関与するのに適していないか、または補助的でもないような化学部分または官能基の属性を変え、キャッピングユニットの混合物を生成してもよい。このように、ＳＯＦ骨格に導入されるキャッピングユニットの種類は、ＳＯＦに望ましい特性を導入するか、またはＳＯＦの望ましい特性を調整するように選択されてもよい。
【００２５】
ＳＯＦは、ＳＯＦの縁に位置していないセグメントを含有していてもよく、このセグメントが、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。２型および３型のＳＯＦは、ＳＯＦの縁に位置していないセグメントを少なくとも１個有しており、このセグメントが、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。ＳＯＦは、理想的な三角形のビルディングブロック、ひずみのある三角形のビルディングブロック、理想的な四面体のビルディングブロック、ひずみのある四面体のビルディングブロック、理想的な四角形のビルディングブロック、ひずみのある四角形のビルディングブロックからなる群から選択される少なくとも１つの対称形のビルディングブロックを含んでいてもよい。
【００２６】
ＳＯＦは、すべてのセグメントが同一の構造を有している複数のセグメントと、同一の構造であってもよく、同一の構造でなくてもよい複数のリンカーとを含んでいてもよく、ＳＯＦの縁にないセグメントは、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。ＳＯＦは、構造が異なる少なくとも第１および第２のセグメントを含む複数のセグメントを含んでいてもよく、第１のセグメントは、ＳＯＦの縁にない場合には、リンカーによって、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続している。
【００２７】
ＳＯＦは、構造が異なる少なくとも第１および第２のリンカーを含む複数のリンカーと、構造が異なる少なくとも第１および第２のセグメントを含む複数のセグメントとを含んでいてもよく、第１のセグメントは、ＳＯＦの縁にない場合には、少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続しており、この接続のうち、少なくとも１つは第１のリンカーを介しており、この接続のうち、少なくとも１つは第２のリンカーを介しているか、または、すべてのセグメントが同一の構造を有しているセグメントを含んでおり、ＳＯＦの縁にないセグメントは、リンカーによって少なくとも３個の他のセグメントおよび／またはキャッピング基と接続しており、この接続のうち、少なくとも１つは第１のリンカーを介しており、この接続のうち、少なくとも１つは第２のリンカーを介している。
【００２８】
セグメントは、分子ビルディングブロックの一部分であり、Ｆｇを支え、Ｆｇとは関連しないすべての原子を含む。さらに、分子ビルディングブロックのセグメントの組成は、ＳＯＦを形成した後も変わらない。ＳＯＦは、第２のセグメントと構造が同じであるか、または異なる第１のセグメントを含んでいてもよい。第１のセグメントおよび／または第２のセグメントの構造は、第３のセグメント、第４のセグメント、第５のセグメントなどと同じであってもよく、異なっていてもよい。また、セグメントは、ある偏った特性を与えることが可能な分子ビルディングブロックの一部分でもある。
【００２９】
ＳＯＦの例示的なセグメントは、炭素以外の元素の原子のうち、少なくとも１個（水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子）を含む。
【００３０】
リンカーは、分子ビルディングブロックおよび／またはキャッピングユニットに存在するＦｇ間で化学反応が起こると、ＳＯＦ中に出現する化学部分である。
【００３１】
リンカーは、共有結合、１個の原子、または共有結合した原子群を含んでいてもよい。共有結合リンカーは、１個の共有結合であってもよく、２個の共有結合であってもよく、すべての関与するビルディングブロック上のＦｇが完全に失われると出現する。化学部分リンカーは、１個の共有結合、２個の共有結合またはこれら二者の組み合わせによって結合した１個以上の原子を有する。化学部分リンカーは、エステル、ケトン、アミド、イミン、エーテル、ウレタン、カーボネートなど、またはこれらの誘導体のような化学基であってもよい。
【００３２】
２個のヒドロキシルＦｇを用い、酸素原子を介してＳＯＦ中のセグメントを接続する場合、リンカーは、酸素原子である（エーテルリンカー）。ＳＯＦは、第２のリンカーと構造が同じであるか、または異なる第１のリンカーを含んでいてもよい。第１のリンカーおよび／または第２のリンカーの構造は、第３のリンカーなどと同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００３３】
キャッピングユニットは、全体的なＳＯＦ骨格が十分に維持されるならば、任意の望ましい量でＳＯＦ中に結合していてもよい。キャッピングユニットは、すべてのリンカーのうち、少なくとも０．１％に結合していてもよいが、ＳＯＦ中に存在するすべてのリンカーの約４０％を超えるリンカーには結合しておらず、または、約０．５％〜約３０％、または約２％〜約２０％に結合していてもよい。実質的にすべてのセグメントが、少なくとも１つのキャッピングユニットに結合していてもよく、ここで、用語「実質的にすべての」は、ＳＯＦのセグメントのうち、約９５％を超えるか、または約９９％を超えることを指す。
【００３４】
例示的なリンカーは、炭素以外の元素の原子のうち、少なくとも１個（水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子）を含んでいてもよい。
【００３５】
ＳＯＦは、任意の適切なアスペクト比を有しており、例えば、約３０：１より大きいか、または約５０：１より大きいか、または約７０：１より大きいか、または約１００：１より大きいか、または約１０００：１より大きい。ＳＯＦのアスペクト比は、平均厚み（最も短い寸法）に対する、ＳＯＦの平均幅または平均直径（厚みに対して二番目に大きな寸法）の比率であると定義される。ＳＯＦの最も長い寸法は長さであり、ＳＯＦのアスペクト比の計算には考慮されない。
【００３６】
一般的に、ＳＯＦは、約５００μｍ、または約１０ｍｍ、または約３０ｍｍよりも大きな幅、長さまたは直径を有する。ＳＯＦは、以下の厚みを有する：セグメント１個分の厚みをもつ層の場合、約１０Å〜約２５０Å、または約２０Å〜約２００Å、複数個のセグメントの厚みをもつ層の場合、約２０ｎｍ〜約５ｍｍ、約５０ｎｍ〜約１０ｍｍ。
【００３７】
ＳＯＦは、単一層であってもよく、複数の層を含んでいてもよい。複数の層で構成されるＳＯＦは、物理的に接続されていてもよく（例えば、双極子による結合および水素結合）、化学的に接続されていてもよい。物理的に結合している層は、層間の相互作用または接着性が弱いという特徴があり、したがって、物理的に結合している層は、互いに剥離しやすい場合がある。化学的に結合している層は、化学結合（例えば、共有結合またはイオン結合）を有しているか、または隣接する層を強く接続する、多くの物理的なエンタングルメントまたは分子間（高分子）エンタングルメントを有していると予想される。
【００３８】
ＳＯＦは、単一層であってもよく（セグメント１個分または複数個分の厚み）、または複数の層であってもよい（それぞれの層が、セグメント１個分または複数個分の厚みである）。「厚み」は、例えば、膜の最も小さな寸法を指す。また、膜の厚みは、膜の断面を観察する場合には、その膜の軸に沿って計測されるセグメントの数で定義されてもよい。「単一層」のＳＯＦは、セグメント１個分の厚みをもつ膜である。この軸に沿って２個以上のセグメントが存在するＳＯＦは、「複数個のセグメント」の厚みをもつＳＯＦである。
【００３９】
物理的に結合している複数層のＳＯＦを調製する例示的な方法は、（１）第１の硬化サイクルで硬化してもよい、基板となるＳＯＦ層を作成することと、（２）この基板層に、第２の反応性の濡れた層を作成した後、第２の硬化サイクルを行い、望ましい場合、この第２の工程を繰り返し、第３の層、第４の層などを作成することとを含む。物理的に積み重ねられた複数層のＳＯＦは、約２０Åを超える厚みを有していてもよく、または、約２０Å〜約１０ｃｍ、約１ｎｍ〜約１０ｍｍ、または約０．１ｍｍ〜約５ｍｍの厚みを有していてもよい。
【００４０】
化学的に結合している複数層のＳＯＦを調製する方法は、（１）第１の反応性の濡れた層から、表面にＦｇが存在する（ぶら下がっているＦｇを有する）基板となるＳＯＦ層を作成することと、（２）この基板層に、基板のＳＯＦ層の表面にぶら下がっているＦｇと反応することが可能なＦｇを有する分子ビルディングブロックを含む第２の反応性の濡れた層から、第２のＳＯＦ層を作成することとを含む。キャッピングされたＳＯＦは、基板層の役目を果たしてもよく、基板層のＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを接続する特定の化学反応に関与するのに適切でもなく、または補助的でもなかったＦｇを第２の層の分子ビルディングブロックと反応するのに利用し、化学的に結合した複数層のＳＯＦを作成してもよい。第２のＳＯＦ層を作成するのに用いられる配合物は、基板層のＦｇと反応可能であり、また、第２の層に化学的に結合している第３の層に存在し得るさらなるＦｇとも反応可能な分子ビルディングブロックを含んでいるべきである。化学的に積み重ねられた複数層のＳＯＦは、約２０Åを超える厚みを有していてもよく、または、約２０Å〜約１０ｃｍ、約１ｎｍ〜約１０ｍｍ、または約０．１ｍｍ〜約５ｍｍの厚みを有していてもよい。このプロセスでは、原理的に、物理的または化学的に積み重ねることが可能な層の数に制限はない。
【００４１】
ＳＯＦまたはキャッピングされたＳＯＦの表面に存在する、ぶら下がっているＦｇまたは化学部分は、特定の種類の分子または個々の分子が、基板層または任意のさらなる基板層またはＳＯＦ層に共有結合する傾向が高まるように（または、共有結合しにくくなるように）改変されてもよい。反応性のぶら下がっているＦｇを含んでいてもよい基板層（例えば、ＳＯＦ層）の表面は、キャッピング化学基で表面処理することによって反応性が抑えられてもよい。ぶら下がっているヒドロキシアルコール基を有するＳＯＦ層は、塩化トリメチルシリルで処理され、ヒドロキシル基が安定なトリメチルシリルエーテルとしてキャッピングされることによって反応性が抑えられてもよい。または、基板層の表面を非化学的な結合剤で処理し、ぶら下がっているＦｇが次の層と反応しないようにしてもよい。
【００４２】
分子ビルディングブロックの対称性は、分子ビルディングブロックのセグメント周囲にある官能基（Ｆｇ）の位置に関連する。対称的な分子ビルディングブロックは、Ｆｇの位置が、規則的な幾何学形状の棒状部分の端、頂点と関連するようなＦｇであってもよく、ひずみのある棒状部分またはひずみのある幾何学形状の頂点と関連するようなＦｇであってもよい。例えば、４個のＦｇを含む分子ビルディングブロックのうち、最も対称形の選択肢は、Ｆｇが四角形の端点または四面体の頂点と重なるものである。
【００４３】
対称形ビルディングブロックは、以下の２つの理由で用いられる。（１）分子ビルディングブロックのパターン化は、規則的な形状の接続が、網状物質の化学においてよりよく理解されたプロセスであるため、良好であると予想されると思われるため、（２）対称性の低いビルディングブロックのずれた構造／配向は、ＳＯＦ内に多くの可能な接続欠陥が起こるように適合し得るため、分子ビルディングブロック間の完全な反応が起こりやすいため。ＳＯＦは、理想的な三角形のビルディングブロック、ひずみのある三角形のビルディングブロック、理想的な四面体のビルディングブロック、ひずみのある四面体のビルディングブロック、理想的な四角形のビルディングブロック、ひずみのある四角形のビルディングブロックからなる群から選択される少なくとも１つの対称形のビルディングブロックを含んでいてもよい。
【００４４】
化学物質の接続は、Ｆｇ間の反応によって、膜生成プロセス中、または膜生成プロセス後にＳＯＦからほとんどを蒸発させるか、または取り去ることが可能な揮発性副生成物を生じるか、または複製生物が生成しないように行ってもよい。化学物質を接続する反応としては、エステル、イミン、エーテル、カーボネート、ウレタン、アミド、アセタール、シリルエーテルを生成するような縮合反応、付加／脱離反応、付加反応が挙げられる。
【００４５】
官能基間の反応によって、膜生成プロセスの後に、ほとんどがＳＯＦ内に組み込まれたままであるような、非揮発性の副生成物が生成する。化学物質を接続する反応としては、炭素−炭素結合を生成するような置換反応、メタセシス反応、金属触媒によるカップリング反応が挙げられる。
【００４６】
また、ＳＯＦは、高い熱安定性を有し（典型的には、大気条件で、４００度よりも高い）、有機溶媒への溶解性が低く（化学薬品安定性）、多孔性であってもよい（可逆的にゲストを取り込むことができる）。
【００４７】
加えられる機能性は、従来のＣＯＦに固有ではない特性を示し、分子組成物が、得られたＳＯＦに上述の加えられる機能性を与えるような分子ビルディングブロックを選択することによって行ってもよい。加えられる機能性によって、加えられる機能性に「偏った特性」を有する分子ビルディングブロックの集合体を生じてもよい。また、加えられる機能性によって、この加えられる機能性に「偏った特性」を有さない分子ビルディングブロックの集合体を生じるが、得られたＳＯＦが、ＳＯＦ内へのセグメント（Ｓ）とリンカーとの接続の結果として、この加えられる機能性を有していてもよい。さらに、加えられる機能性の発生は、この加えられる機能性に「偏った特性」を有する分子ビルディングブロックを用いる効果と組み合わせることによって生じてもよく、この偏った特性は、セグメントおよびリンカーがＳＯＦに接続すると、改変されるか、または高まる。
【００４８】
分子ビルディングブロックの「偏った特性」との用語は、特定の分子組成物について存在することが知られている特性、またはセグメントの分子組成物を観察すれば、当業者ならば合理的に特定可能な特性を指す。用語「偏った特性」および「加えられる機能性」は、同じ一般的な特性（例えば、疎水性、電気活性など）を指すが、「偏った特性」は、分子ビルディングブロックの観点で用いられ、「加えられる機能性」は、ＳＯＦの観点で用いられる。
【００４９】
ＳＯＦの疎水性（超疎水性）、親水性、疎油性（超疎油性）、脂溶性、光発色性および／または電気活性（導体、半導体、電荷移動材料）といった性質は、ＳＯＦの「加えられる機能性」をあらわし得る特性の例である。
【００５０】
疎水性（超疎水性）は、水または他の極性種をはじく特性、（１）水を吸収し、および／またはその結果膨潤することができないこと、（２）水または他の水素結合種と強い水素結合を形成することができないことを指す。
【００５１】
親水性は、水または他の極性種、またはこのような種に簡単に濡れる表面を引きよせ、吸着するか、または吸収する特性を指す。また、親水性とは、水または他の水素結合種と強い水素結合を形成するか、または多くの水素結合を形成することが可能なことを意味する。
【００５２】
疎油性（油分をはじく性質）は、油または他の非極性種をはじく特性を指す。
【００５３】
脂溶性（油分に溶ける性質）は、油または他の非極性種を引きつける特性を指す。
【００５４】
光発色性は、電磁放射線に露光すると、可逆的な色変化を示す能力を指す。光発色性分子を含むＳＯＦ組成物を調製し、電磁放射線に露光し、可逆的な色変化を示してもよい。
【００５５】
電気活性は、電荷（電子および／または正孔）を移動する特性を指す。電気活性材料としては、導体、半導体、電荷移動材料が挙げられる。導体は、電位差がある状態で、容易に電荷を移動させる材料であると定義される。半導体は、本質的に電気伝導性ではないが、電位差がある状態や、刺激（電場、電磁波、熱など）を加えると電気伝導性になる材料であると定義される。電荷移動材料は、電位差がある状態で、別の材料（例えば、染料、顔料または金属）から電荷が注入されると、その電荷を移動させることができる材料であると定義される。
【００５６】
導体は、電位差計を用い、約０．１〜約１０７Ｓ／ｃｍのシグナルが得られる材料である。
【００５７】
半導体は、さらに、刺激が加えられた状態で、電位差計を用い、約１０−６〜約１０４Ｓ／ｃｍのシグナルが得られる材料であると定義されてもよい。または、半導体は、刺激にさらされた場合に、飛行時間技術を用いて測定すると、１０−１０〜約１０６ｃｍ２Ｖ−１ｓ−１の範囲の電子移動性および／または正孔移動性を有する材料であると定義されてもよい。
【００５８】
さらに、電荷移動材料は、飛行時間技術を用いて測定すると、１０−１０〜約１０６ｃｍ２Ｖ−１ｓ−１の範囲の電子移動性および／または正孔移動性を有する材料であると定義されてもよい。ある状況下で、電荷移動材料も半導体に分類される場合があることを注記しておかねばならない。
【００５９】
加えられる機能として疎水性を有するＳＯＦは、疎水性に偏った特性を有し、および／またはマイクロメートル未満からマイクロメートル程度のスケールで、硬く、ざらつきがあるか、または多孔性の表面を有するような分子ビルディングブロックを用いて調製されてもよい。疎水性であり、マイクロメートル未満からマイクロメートル程度のスケールで、硬く、ざらつきがあるか、または多孔性の表面を有するような材料について記載した論文は、著者がＣａｓｓｉｅおよびＢａｘｔｅｒのもの（Ｃａｓｓｉｅ，Ａ．Ｂ．Ｄ．；Ｂａｘｔｅｒ，Ｓ．Ｔｒａｎｓ．Ｆａｒａｄａｙ Ｓｏｃ．，１９４４，４０，５４６）に記載されている。
【００６０】
高度にフッ素化されたセグメント（加えられる機能として疎水性を有するＳＯＦを導いてもよい）は、セグメントに存在するフッ素原子の数を、セグメントに存在する水素原子の数で割った値が１より大きいセグメントである。
【００６１】
このようなフッ素化されたセグメントとしては、テトラフルオロヒドロキノン、ペルフルオロアジピン酸水和物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノールが挙げられる。
【００６２】
マイクロメートル未満からマイクロメートル程度のスケールで、硬く、ざらつきがあるか、または多孔性の表面を有するＳＯＦも疎水性であってもよい。硬く、ざらつきがあるか、または多孔性のＳＯＦ表面によって、膜表面にぶら下がっているＦｇが存在するか、またはＳＯＦの構造からぶら下がっているＦｇを有していてもよい。パターンの種類およびパターン化の程度は、分子ビルディングブロックの幾何形状および接続する化学の効率に依存して変わる。表面の粗さまたはざらつきをもたらす特徴の大きさは、約１００ｎｍ〜約１０μｍ、または約５００ｎｍ〜約５μｍである。
【００６３】
極性置換基を有するセグメントは、偏った特性として親水性を有しており、加えられる機能として親水性を有するＳＯＦを生じてもよい。極性置換基は、水と水素結合を生成することが可能な置換基を指し、ヒドロキシル、アミノ、アンモニウム、カルボニル（ケトン、カルボン酸、エステル、アミド、カーボネート、尿素）が挙げられる。
【００６４】
加えられる機能として電気活性を有するＳＯＦは、偏った特性として電気活性を有する分子ビルディングブロックによって調製されてもよく、および／または、セグメントおよびリンカーを組み合わせた集合体から電気活性が生じてもよい。
【００６５】
加えられる機能として正孔移動性を有するＳＯＦは、トリアリールアミン、ヒドラゾンを含むセグメントコアを選択することによって得られてもよく（米国特許第７，２０２，００２号）、エナミンを含むセグメントコアを選択することによって得られてもよい（米国特許第７，４１６，８２４号）。
【化１】
トリアリールアミンを含むセグメントコア：
【化２】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、Ａｒ５は、それぞれ独立して、置換されているか、または置換されていないアリール基をあらわし、または、Ａｒ５は、独立して、置換されているか、または置換されていないアリーレン基をあらわし、ｋは、０または１をあらわし、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、Ａｒ５のうち、少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義したもの）を含む。Ａｒ５は、置換されたフェニル環、置換された／置換されていないフェニレン、置換された／置換されていない一価の結合した芳香族環（例えば、ビフェニル、ターフェニルなど）、または置換された／置換されていない縮合した芳香族環（ナフチル、アントラニル、フェナントリルなど）であってもよい。
【００６６】
加えられる機能として正孔移動性を有する、アリールアミンを含むセグメントコアとしては、アリールアミン：トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン；ヒドラゾン：Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾン、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾン；オキサジアゾール：２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール、スチルベンなどが挙げられる。
【００６７】
正孔移動性に偏った、トリアリールアミンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化３】
【００６８】
ヒドラゾンを含むセグメントコア：
【化４】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は、それぞれ独立して、場合により１個以上の置換基を含むアリール基をあらわし、Ｒは、水素原子、アリール基またはアルキル基をあらわし、場合により置換基を含んでいてもよく；Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３のうち、少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義したもの）を含む；および関連するオキサジアゾール：
【化５】
式中、Ａｒ、Ａｒ１は、それぞれ独立して、Ｆｇ（上に定義したもの）を含むアリール基をあらわす。
【００６９】
正孔移動性に偏った、ヒドラゾンコアおよびオキサジアゾールコアを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化６】
【００７０】
エナミンを含むセグメントコア：
【化７】
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４は、それぞれ独立して、場合により１個以上の置換基を含むアリール基、または場合により１個以上の置換基を含むヘテロ環基をあらわし、Ｒは、水素原子、アリール基またはアルキル基をあらわし、場合により置換基を含んでいてもよく；Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４のうち、少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義したもの）を含む。
【００７１】
正孔移動性に偏った、エナミンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化８】
【００７２】
加えられる機能として電子移動性を有するＳＯＦは、以下の一般構造を有するニトロフルオレノン、９−フルオレニリデンマロニトリル、ジフェノキノン、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドを含むセグメントコアを選択することによって得てもよい。
【化９】
なお、ジフェニルキノンのカルボニル基は、ＳＯＦ形成プロセス中にＦｇとしても作用可能であることを注記しておく。
【００７３】
加えられる機能として半導体性を有するＳＯＦは、以下の一般構造を有するアセン、チオフェン／オリゴチオフェン／縮合チオフェン、ペリレンビスイミド、またはテトラチオフルバレン、およびこれらの誘導体を含むセグメントコアを選択することによって得てもよい。
【化１０】
【００７４】
ＳＯＦは、ｐ型半導体であってもよく、ｎ型半導体であってもよく、アンバイポーラ型半導体であってもよい。ＳＯＦ半導体の種類は、分子ビルディングブロックの性質に依存する。電子供与性を有する分子ビルディングブロックとしては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基が挙げられ、これらがＳＯＦに存在すると、ＳＯＦをｐ型半導体にする場合がある。電子求引性を有する分子ビルディングブロックとしては、シアノ基、ニトロ基、フルオロ基、フッ素化アルキル基、フッ素化アリール基が挙げられ、これらは、ＳＯＦをｎ型の半導体にする場合がある。
【００７５】
半導体性に偏った、アセンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化１１】
【００７６】
半導体性に偏った、チオフェン／オリゴチオフェン／縮合チオフェンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化１２】
【００７７】
半導体性に偏った、ペリレンビスイミドコアセグメントを含む分子ビルディングブロックの例は、以下の化学構造から誘導されてもよい。
【化１３】
【００７８】
半導体性に偏った、テトラチオフルバレンコアセグメントを含む分子ビルディングブロックは、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
【化１４】
【００７９】
式中、Ａｒは、それぞれ独立して、場合により１個以上の置換基を含むアリール基、または場合により１個以上の置換基を含むヘテロ環基をあらわす。ＳＯＦまたは耐溶媒性ＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、複数の作業または工程を含んでおり、これらの作業または工程を任意の適切な順序で行ってもよく、または、２つ以上の作業を同時に行ってもよく、非常に近い時間に行ってもよい。
【００８０】
キャッピングされたＳＯＦおよび／またはコンポジットＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、キャッピングされていないＳＯＦを製造するために用いられるのと同じ数の作業または工程を含む。得られるＳＯＦ中の望ましいキャッピングユニットの分布に依存して、工程ａ、ｂまたはｃのいずれかの間にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を加えてもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分の分布が、得られたＳＯＦ全体に実質的に均一であることが望ましい場合、キャッピングユニットは、工程ａの間に加えてもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分の分布がもっと不均一であることが望ましい場合、工程ｂおよびｃの間にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を加えてもよい。
【００８１】
上述の作業または工程は、大気圧、大気圧を超える圧力、または大気圧より低い圧力で行ってもよい。約０．１ａｔｍ〜約２ａｔｍ、または約０．５ａｔｍ〜約１．５ａｔｍ、または約０．８ａｔｍ〜約１．２ａｔｍの圧力を利用してもよい。
【００８２】
プロセスの作業Ａ：液体コーティング反応混合物の調製：反応混合物は、液体に溶解するか、懸濁するか、または混合するような複数の分子ビルディングブロックを含む。複数の分子ビルディングブロックは、１種類であってもよく、または２種類以上を含んでいてもよい。１種類以上の分子ビルディングブロックが液体である場合、さらなる液体の使用は任意である。場合により、プレＳＯＦの形成を可能にし、および／または上述の作業Ｃの間のＳＯＦ形成速度を変えるために、反応混合物に触媒を加えてもよい。用語「プレＳＯＦ」は、互いに反応し、出発原料である分子ビルディングブロックよりも高い分子量を有し、他のビルディングブロックまたはプレＳＯＦとさらに反応してＳＯＦを得ることが可能なような複数のＦｇを含有するような、少なくとも２種類の分子ビルディングブロックを指していてもよく、実質的に欠陥がないＳＯＦ、または欠陥がないＳＯＦであってもよく、および／または、分子ビルディングブロックのＦｇの「活性化」によって、膜形成プロセスの反応性が高まったり、変わったりする。活性化としては、官能基部分の解離、触媒の事前の会合、溶媒分子、液体、第２の溶媒、第２の液体、第２の成分、または官能基の反応性を変える任意の部分との会合が挙げられる。プレＳＯＦの形成は、分子ビルディングブロック間の反応、または分子ビルディングブロックのＦｇの「活性化」を含んでいてもよく、これら両方を含んでいてもよい。「プレＳＯＦ」の配合は、複数の様式で達成されてもよく、例えば、反応混合物を加熱すること、反応混合物にＵＶを照射すること、または分子ビルディングブロックを部分的に反応させる任意の他の手段、および／または濡れた層を基板に堆積させる前に、反応混合物中のＦｇを活性化させることを含んでいてもよい。場合により、反応混合物に添加剤または第２の成分を加え、得られるＳＯＦの物理的特性を変えてもよい。
【００８３】
反応混合物の成分（分子ビルディングブロック、場合により、液体、場合により、触媒、場合により、添加剤）を容器内で混合する。反応混合物の成分を加える順序は、さまざまであってもよいが、典型的には、ＳＯＦを調製するプロセスが、プレＳＯＦを含むか、またはプレＳＯＦの形成を含む場合、触媒を、存在する場合には、反応混合物を濡れた膜として堆積させる前に、反応混合物に加えてもよい。プレＳＯＦを得るための触媒が存在する条件、または存在しない条件で、化学線、熱、化学薬品によって、または任意の他の手段によって、分子ビルディングブロックを反応させてもよい。触媒が存在しない状態で作成したプレＳＯＦおよび分子ビルディングブロックを、分子ビルディングブロックおよびプレＳＯＦを溶解しやすくする触媒が存在しない状態で、液体中で加熱してもよい。分子ビルディングブロックおよびプレＳＯＦを溶解しやすくするために、触媒が存在する状態で作成したプレＳＯＦおよび分子ビルディングブロックを、分子ビルディングブロックおよび／またはプレＳＯＦがさらに顕著な量反応しないような温度で加熱してもよい。また、反応混合物を混合し、攪拌し、粉砕などを行い、反応混合物を濡れた膜として堆積させる前に、配合物成分を均一に分散させてもよい。
【００８４】
反応混合物を濡れた膜として堆積させる前に加熱してもよい。これにより、１つ以上の分子ビルディングブロックを溶解しやすくしてもよく、および／または、濡れた層を堆積させてプレＳＯＦを作成する前に、反応混合物を部分的に反応させることによって、反応混合物の粘度を高くしてもよい。あらかじめ反応させておいた分子ビルディングブロックのプレＳＯＦに組み込まれた反応混合物中の分子ビルディングブロックの重量％は、２０％未満であってもよく、約１５％〜約１％、約１０％〜約５％であってもよい。９５％のプレＳＯＦ分子の分子量は、５，０００ダルトンであるか、２，５００ダルトンであるか、または１，０００ダルトンである。プレＳＯＦを調製し、反応混合物中の分子ビルディングブロックの保持量を増やしてもよい。
【００８５】
官能基の活性化によってプレＳＯＦを作成する場合には、活性化されるＦｇのモル％は、５０％未満であってもよく、約３０％〜約１０％、または約１０％〜約５％であってもよい。
【００８６】
プレＳＯＦを作成する２つの方法（分子ビルディングブロック間の反応による、プレＳＯＦの作成、または、分子ビルディングブロックのＦｇを“活性化”させることによる、プレＳＯＦの作成）を組み合わせて行ってもよく、プレＳＯＦの構造に組み込まれた分子ビルディングブロックは、活性化されたＦｇを含んでいてもよい。また、分子ビルディングブロック間の反応による、プレＳＯＦの作成、および、分子ビルディングブロックのＦｇを“活性化”させることによる、プレＳＯＦの作成を同時に行ってもよい。
【００８７】
プレＳＯＦを作成する時間は、約１０秒〜約４８時間、または約３０秒〜約１２時間、または約１分〜約６時間続いてもよい。
【００８８】
反応混合物は、堆積した濡れた層を支えるような粘度を有することが必要である。反応混合物の粘度は、約１０〜約５０，０００ｃｐｓ、約２５〜約２５，０００ｃｐｓ、または約５０〜約１０００ｃｐｓの範囲である。
【００８９】
分子ビルディングブロックおよびキャッピングユニットを保持すること、または反応混合物中の「保持量」は、分子ビルディングブロックと、場合により、キャッピングユニットおよび触媒との合計重量を、反応混合物の合計重量で割ったものであると定義される。ビルディングブロックの保持量は、約３〜１００％、約５〜約５０％、または約１５〜約４０％の範囲であってもよい。液体の分子ビルディングブロックが反応混合物の唯一の液体成分として用いられる場合、ビルディングブロックの保持量は、約１００％であろう。キャッピングユニットが反応混合物にいつ加えられるかによって、キャッピングユニットの保持量は、約３〜約８０％、約５〜約５０％、または約１５〜約４０重量％の範囲であってもよい。
【００９０】
キャッピングユニット保持量の理論的な上限値は、液体ＳＯＦ配合物中、分子ビルディングブロックあたり、利用可能な接続基の数を２まで減らすキャッピングユニットのモル数である。このような保持量では、実質的に、分子ビルディングブロックあたり、利用可能な接続可能なＦｇの数を（それぞれのキャッピング基と反応させることによって）使いつくすことによって、ＳＯＦの形成が有効に抑えられるであろう。（キャッピングユニットの保持量が、液体ＳＯＦ配合物中の分子ビルディングブロックあたり、利用可能な接続基が２モルよりも過剰にならないようにするのに十分な量である）このような場合、キャッピングユニットで完全にキャッピングされたオリゴマー、線形ポリマー、分子ビルディングブロックが、ＳＯＦの代わりに優先的に生成するだろう。
【００９１】
プレＳＯＦは、１つ以上の加えられる機能を有するビルディングブロックから作られてもよい。分子ビルディングブロックの偏った特性は、プレＳＯＦに加えられる機能と同じであってもよい。または、ＳＯＦの加えられる機能は、分子ビルディングブロックの偏った特性とは違っていてもよい。
【００９２】
反応混合物中で用いられる液体は、純粋な液体であってもよく、および／または溶媒混合物であってもよい。適切な液体は、沸点が約３０〜約３００℃、約６５℃〜約２５０℃、または約１００℃〜約１８０℃であってもよい。
【００９３】
液体としては、アルカン；芳香族化合物；エーテル；エステル；ケトン；アミン；アミド；アルコール；ニトリル；ハロゲン化芳香族；ハロゲン化アルカン；水が挙げられる。
【００９４】
また、第１の溶媒、第２の溶媒、第３の溶媒などを含む混合した液体を、反応混合物中で用いてもよい。第１の溶媒は、沸点が第２の溶媒より高くてもよい。
【００９５】
「実質的に除去する」は、それぞれの溶媒を少なくとも９０％、または約９５％除去することを指す。「実質的に残っている」は、それぞれの溶媒が、２％を超えない量で除去されるか、または１％を超えない量で除去されることを指す。
【００９６】
ＳＯＦの特性を操作するために、濡れた層がＳＯＦに変換する速度を遅くするか、または速くするために、混合した液体を用いてもよい。縮合および付加／脱離によって化学物質を接続する場合、水、１級アルコール、２級アルコールまたは３級アルコールを含む液体を用いてもよい。
【００９７】
場合により、濡れた層を乾燥したＳＯＦにすることを促進するために、反応混合物中に触媒が存在していてもよい。触媒は、均一系であってもよく、不均一系であってもよく、ブレンステッド酸；ルイス酸；ブレンステッド塩基；ルイス塩基；金属；金属塩；金属錯体であってもよい。典型的な触媒の保持量は、反応混合物中の分子ビルディングブロックの保持量の約０．０１％〜約２５％、または約０．１％〜約５％の範囲である。触媒は、最終的なＳＯＦ組成物中に存在していてもよく、存在していなくてもよい。
【００９８】
場合により、添加剤または第２の成分（ドーパント）が、反応混合物および濡れた層に存在していてもよい。また、このような添加剤または第２の成分を、乾燥ＳＯＦに組み込んでもよい。「添加剤」または「第２の成分」は、ＳＯＦに共有結合していないが、組成物にランダムに分布している原子または分子を指す。第２の成分（例えば、従来の添加剤）の既知の特性を利用するために、その成分を用いてもよい。このような添加剤を用い、電気特性（電気伝導性、半導体性、電子移動性、正孔移動性）、表面エネルギー（疎水性、親水性）、引張強度、熱伝導性といった、ＳＯＦの物理特性を変えてもよく、このような添加剤は、衝撃改質剤、強化繊維、滑沢剤、帯電防止剤、カップリング剤、湿潤剤、かぶり防止剤、難燃剤、紫外線安定化剤、酸化防止剤、殺生物剤、染料、顔料、臭気物質、脱臭剤、核形成剤などであってもよい。
【００９９】
ＳＯＦは、ＳＯＦが酸化しないように保護するために、酸化防止剤を第２の成分として任意の望ましい量または有効な量で含有していてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約１０重量％、約１重量％〜約５重量％の量で含有していてもよい。
【０１００】
ＳＯＦは、任意の適切なポリマー系材料を、総固形分の重量％として、ＳＯＦの約１〜約５０重量％、または約２〜約１０重量％の量で、さらに含んでいてもよい。総固形分は、第２の成分およびＳＯＦの量を含む。
【０１０１】
第２の成分は、ＳＯＦに均一に分布していてもよく、不均一に分布していてもよく、線形または非線形の勾配をもって分布していてもよい。ＳＯＦは、カーボンナノチューブ、またはナノチューブの微視的な粒子構造であるナノファイバー凝集物をさらに含んでいてもよい。
【０１０２】
ＳＯＦは、金属粒子を第２の成分としてさらに含んでいてもよく、このような金属粒子としては、貴金属、非貴金属、およびこれらのアロイが挙げられる。ＳＯＦは、酸化物および硫化物を、任意の望ましい量または有効な量でさらに含んでいてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約２０重量％、または約１重量％〜約１５重量％の量で含んでいてもよい。ＳＯＦは、半金属または金属に似た元素を、任意の望ましい量または有効な量でさらに含んでいてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約１０重量％、または約１重量％〜約５重量％の量で含んでいてもよい。
【０１０３】
ＳＯＦは、第２の成分として正孔移動性分子または電子受容体をさらに含んでいてもよく、このような電荷移動性分子としては、主鎖または側鎖に多環芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素を含有するヘテロ環（例えば、インドール化合物、カルバゾール化合物、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、チアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、トリアゾール化合物、ヒドラゾン化合物）を含む化合物から選択される正孔移動材料が挙げられる。典型的な正孔移動材料としては、電子供与材料が挙げられ、例えば、カルバゾール；Ｎ−エチルカルバゾール；Ｎ−イソプロピルカルバゾール；Ｎ−フェニルカルバゾール；テトラフェニルピレン；１−メチルピレン；；ペリレン；クリセン；アントラセン；テトラフェン；２−フェニルナフタレン；アゾピレン；１−エチルピレン；アセチルピレン；２，３−ベンゾクリセン；２，４−ベンゾピレン；１，４−ブロモピレン；ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）；ポリ（ビニルピレン）；ポリ（ビニルテトラフェン）；ポリ（ビニルテトラセン）、ポリ（ビニルペリレン）が挙げられる。適切な電子移動材料としては、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン；２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン；ジニトロアントラセン；ジニトロアクリデン；テトラシアノピレン；ジニトロアントラキノン；ブチルカルボニルフルオレンマロノニトリル（米国特許第４，９２１，７６９号を参照）のような電子受容体；正孔移動材料が挙げられる（米国特許第４，２６５，９９０号、米国特許第４，３０６，００８号；第４，３０４，８２９号；第４，２３３，３８４号；第４，１１５，１１６号；第４，２９９，８９７号；第４，０８１，２７４号、第５，１３９，９１０号、第４，９２１，７７３号、第４，４６４，４５０号を参照）。正孔移動材料または電子受容体は、ＳＯＦコンポジット中に任意の望ましい量または有効な量で存在していてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約５０重量％、または約１重量％〜約２０重量％の量で存在していてもよい。
【０１０４】
ＳＯＦは、ＳＯＦの約０．１〜約１．０重量％の量で殺生物剤をさらに含んでいてもよい。
【０１０５】
ＳＯＦは、有機低分子を、任意の望ましい量または有効な量でさらに含んでいてもよく、または、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約５０重量％、または約１重量％〜約１０重量％の量で含んでいてもよい。
【０１０６】
第２の成分は、濡れた膜を作成するために使用される液体配合物に入れられてもよく、これにより、ＳＯＦを作成する変化が促進される。第２の成分（ドーパント、添加剤など）は、反応混合物に溶解していてもよく、溶解していなくても（懸濁していても）よい。第２の成分は、膜の網目に結合していない。第２の成分を、セグメントに４個のメトキシ基（−ＯＭｅ）を有する複数のビルディングブロック（例えば、Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン）を含有する反応混合物に加えてもよく、濡れた膜で変化が促進されると、ｐ−キシリルセグメントを含むビルディングブロックの２個のアルコール（−ＯＨ）基（例えば、１，４−ベンゼンジメタノール）と排他的に反応する。ビルディングブロックを連結するために起こる化学は、酸触媒によるエステル交換反応である。−ＯＨ基は、−ＯＭｅとしか反応せず（その逆に、−ＯＭｅ基は、−ＯＨとしか反応せず）、第２の成分とは反応しないため、これらの物質分子ビルディングブロックは、１つの経路でのみ反応することができる。したがって、ＳＯＦは、ＳＯＦ構造に組み込まれた第２の成分および／またはＳＯＦの周囲にある第２の成分を残すような様式で、分子を規則的に並べるようにプログラミングされている。このように分子をパターン化させ、第２の成分を組み込む能力によって、従来のポリマーおよび利用可能な代替品と比較して、優れた性能を与え、特性を今までに例のないレベルで制御することができる。
【０１０７】
第２の成分は、反応混合物と濡れた層に存在していてもよい。このような添加剤、ドーパント、または第２の成分も、乾燥ＳＯＦに組み込まれてもよい。第２の成分は、反応混合物の中、濡れた層の中、または乾燥ＳＯＦの中で均一であってもよく、不均一であってもよい。キャッピングユニットとは対称的に、用語「添加剤」または「第２の成分」は、ＳＯＦに共有結合しておらず、組成物中にランダムに分布する原子または分子を指す。
【０１０８】
第２の成分は、標的とする性能を満たすようにするために、キャッピングされたＳＯＦの目的とする特性を強めるか、または組み合わせるために、同様の特性または別個の特性（相乗効果、または改良した効果、キャッピングされたＳＯＦの固有の特性または偏った特性を強める能力）を有していてもよい。例えば、キャッピングされたＳＯＦに酸化防止剤化合物をドープすると、化学分解経路を防ぐことによって、キャッピングされたＳＯＦの寿命が延びるだろう。さらに、反応混合物からキャッピングされたＳＯＦを作成するという変化を促進している間に起こる反応をうまく調節することによって、キャッピングされたＳＯＦの形態学的性質を高めるために、添加剤を加えてもよい。
【０１０９】
プロセスの作業Ｂ：反応混合物を濡れた膜として堆積：多くの液体堆積技術を用い、種々の基板に、反応混合物を濡れた膜として塗布してもよい。
【０１１０】
基板としては、ポリマー、紙、金属、金属アロイ、周期律表のＩＩＩ族〜ＶＩ族の元素がドープされた形態およびドープされていない形態、金属酸化物、金属カルコゲニド、あらかじめ調製しておいたＳＯＦまたはキャッピングされたＳＯＦが挙げられる。基板の厚みは、ほぼ１０マイクロメートル〜１０ミリメートルまでであってもよく、例示的な厚みは、約５０〜約１００マイクロメートルである。
【０１１１】
多くの液体堆積技術を用い（例えば、スピンコーティング、ブレードコーティング、ウェブコーティング、浸漬コーティング、カップコーティング、ロッドコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、スプレーコーティング、スタンピングなどを含む）、反応混合物を基板に塗布してもよい。濡れた層の厚みは、約１０ｎｍ〜約５ｍｍ、約１００ｎｍ〜約１ｍｍ、または約１μｍ〜約５００μｍの範囲であってもよい。
【０１１２】
上述のプロセスＢの作業を終えた後に、キャッピングユニットおよび／または第２の成分を導入してもよい。この様式でキャッピングユニットおよび／または第２の成分を組み込むことは、キャッピングユニットおよび／または第２の成分を均一に、または不均一に、または濡れた膜の上に特定の模様として分散させる任意の手段によって達成してもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分を導入した後、プロセスＣの作業を再開しつつ、次のプロセスの作業を行ってもよい。
【０１１３】
反応混合物を基板に塗布した後、キャッピングユニットおよび／または第２の成分を任意の適切な方法によって濡れた層に加えてもよく、濡れた層の上面にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を分布させることによって、濡れた層に加えてもよい。生成した濡れた層にキャッピングユニットおよび／または第２の成分を、均一な様式または不均一な様式で（種々のパターンを含む）塗布してもよく、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の濃度または密度は、濡れた層の上に、所与の幅でキャッピングユニットおよび／または第２の成分の濃度が高い部分と低い部分が交互に並ぶ帯状のパターンを形成するように、特定の領域では小さい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分を濡れた層の上面に塗布すると、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の一部分が濡れた層に拡散するか、沈み、それによって、ＳＯＦの厚み内でキャッピングユニットおよび／または第２の成分が不均一に分散し、その結果、濡れた層を乾燥ＳＯＦに変化するのを促進した後に得られるＳＯＦに、線形または非線形の濃度勾配が得られてもよい。キャッピングユニットおよび／または第２の成分を、堆積した濡れた層の上側表面に加えてもよく、濡れた層の変化を促進すると、キャッピングユニットおよび／または第２の成分が乾燥ＳＯＦで不均一に分散したＳＯＦが得られる。濡れた膜の密度、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の密度に依存して、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の大部分が、乾燥ＳＯＦの上側半分（基板と反対側）に残ってもよく、または、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の大部分が、乾燥ＳＯＦの下側半分（基板に隣接する側）に残ってもよい。
【０１１４】
プロセスの作業Ｃ：濡れた膜から乾燥ＳＯＦへの変化を促進：「促進する」は、分子ビルディングブロックおよび／またはプレＳＯＦの反応を容易にする任意の適切な技術を指す。また、「促進する」は、乾燥膜を形成するために、任意の液体を除去することも指す。分子ビルディングブロックおよび／またはプレＳＯＦの反応、液体の除去は、連続して行われてもよく、同時に行われてもよい。「乾燥ＳＯＦ」は、液体の含有量がＳＯＦの約５％未満、または約２％未満の、実質的に乾燥したＳＯＦを指す。
【０１１５】
乾燥ＳＯＦまたは乾燥ＳＯＦの所与の領域（例えば、表面から、ＳＯＦの厚みの約１０％に等しい深さまで、または、ＳＯＦの厚みの約５％に等しい深さまで、ＳＯＦ中の上側４分の１）では、キャッピングユニットとセグメントとのモル比が、約１：１００〜約１：１、または約１：５０〜約１：２、または約１：２０〜１：４であってもよい。
【０１１６】
濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進することは、任意の適切な技術によって行われてもよい。濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進することは、典型的には、オーブンでの乾燥、赤外線（ＩＲ）などを用いた、温度が４０〜３５０℃、６０〜２００℃、８５〜１６０℃での熱処理を含む。合計加熱時間は、約４秒〜約２４時間、または１分〜１２０分、または３分〜６０分の範囲であってもよい。
【０１１７】
第２の成分が存在する場合、第２の成分の分子の大きさは、濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進させている間に、第２の成分がＳＯＦの骨格に取り込まれ、その結果、取り込まれた第２の成分が、液体トナーまたは溶媒にさらされている間にＳＯＦから漏れ出さないように選択されてもよい。
【０１１８】
種々の種類のＩＲエミッタを用いてもよく、炭素ＩＲエミッタまたは短波ＩＲエミッタに関する例示的な情報を以下の表にまとめている（表１）。
【表１】
【０１１９】
濡れた層の堆積物を支えるために、接着性の低い適切な基板を用いる場合、自立型のＳＯＦを得ることができる。
【０１２０】
場合により、自立型ＳＯＦ、または可とう性基板によって支持されるＳＯＦを、ロールに加工してもよい。ＳＯＦを切断し、つなぎ合わせる方法は、米国特許第５，４５５，１３６号に記載したのと同様の方法である。ＳＯＦベルトを、１つのＳＯＦから、多層ＳＯＦから、またはウェブから得たＳＯＦシートから加工してもよい。このようなシートは、所望な場合、長方形の形状であってもよく、任意の特定の形状であってもよい。ＳＯＦのすべての側面が同じ長さであってもよく、一対の平行な側面が、他方の一対の平行な側面よりも長くてもよい。ＳＯＦを、ある形状に加工してもよく、またはＳＯＦシートの反対側の縁部を重ねてつなぎ合わせることによって、ベルトに加工してもよい。つなぎ目は、典型的には、接合点で縁部を重ねてつなぎ合わせる作られる。接続は、任意の適切な手段によって行われてもよい。典型的な接続技術としては、溶接（超音波による溶接を含む）、のり付け、テープによる接着、圧力と熱による融着などが挙げられる。例えば、超音波溶接のような方法は、その速度、きれいさ（溶媒を使わない）、薄くて狭いつなぎ目が得られるという点で、可とう性シートを接続するのに望ましい一般的な方法である。
【０１２１】
ＳＯＦ形成プロセス中、ＳＯＦを基板として用い、多層ＳＯＦを得てもよい。多層ＳＯＦの層は、化学的に結合していてもよく、物理的に接触していてもよい。化学的に結合した多層ＳＯＦは、基板ＳＯＦ表面に存在するＦｇを、第２のＳＯＦ層を作成するのに必要な、堆積した濡れた層中に存在する分子ビルディングブロックと反応させることが可能な場合に、生成する。物理的に接触している多層ＳＯＦは、互いに化学的に結合していなくてもよい。
【０１２２】
場合により、ＳＯＦ基板は、第２のＳＯＦ層が化学的に結合して多層ＳＯＦを形成できる、または、多層ＳＯＦの形成を促進するように、濡れた層を堆積する前に化学的に処理してもよい。
【０１２３】
または、ＳＯＦ基板は、第２のＳＯＦ層が化学的に結合しないように、濡れた層を堆積する前に化学的に処理し（表面の反応性を抑え）、物理的に接触した多層ＳＯＦを作成してもよい。
【０１２４】
その他の方法（例えば、２つ以上のＳＯＦの積層）を利用し、物理的に接触する多層ＳＯＦを調製してもよい。
【０１２５】
電子写真式画像形成体（例えば、感光体）の代表的な構造を図１〜３に示す。これらの画像形成体は、屈曲防止層１、支持基板２、電気伝導性接地板３、電荷遮断層４、接着層５、電荷発生層６、電荷移動層７、オーバーコート層８、アース片９とを備えた状態で提供される。図３において、画像形成層１０（電荷発生材料と電荷移動材料の両方を含む）は、別個の電荷発生層６および電荷移動層７の代わりに配置されている。
【０１２６】
図からわかるように、感光体の加工では、電荷発生材料（ＣＧＭ）および電荷移動材料（ＣＴＭ）を、ＣＧＭおよびＣＴＭが異なる層であるような積層型構造で、基板表面に堆積させてもよく（例えば、図１および図２）、または、ＣＧＭおよびＣＴＭが同じ層であるような単一相の構造で堆積させてもよい（例えば、図３）。感光体は、電気伝導層の上に、電荷発生層６を塗布し、場合により、電荷移動層７を塗布することによって調製されてもよい。電荷発生層と、存在する場合、電荷移動層とを、任意の順序で塗布してもよい。
【０１２７】
いくつかの用途では、電気絶縁性であるか、わずかに半導体性であるような、膜を形成する有機ポリマーまたは無機ポリマーを含んでいる、任意要素の屈曲防止層１を与えてもよい。屈曲防止層は、平坦性および／または耐摩耗性を付与する。
【０１２８】
屈曲防止層１を、基板２の背面（画像形成層とは反対側）に形成してもよい。屈曲防止層は、膜形成樹脂に加え、接着を促進するポリエステル添加剤を含んでいてもよい。屈曲防止層として有用な膜形成樹脂の例としては、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニルカーボネート）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニルカーボネート）、これらの混合物などが挙げられる。
【０１２９】
添加剤は、屈曲防止層中に、屈曲防止層の約０．５〜約４０重量％の範囲で存在してもよい。添加剤としては、耐摩耗性をさらに高め、および／または電荷緩和特性を付与することが可能な有機粒子および無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、テフロン粉末、カーボンブラック、グラファイト粒子が挙げられる。無機粒子としては、絶縁性および半導体性の金属酸化物粒子、例えば、シリカ、酸化亜鉛、酸化スズなどが挙げられる。別の半導体性添加剤は、酸化されたオリゴマー塩であってもよい（米国特許第５，８５３，９０６号を参照）。オリゴマー塩は、酸化されたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン塩である。
【０１３０】
添加剤として有用な、典型的な接着促進剤としては、ｄｕＰｏｎｔ ４９，０００（ｄｕＰｏｎｔ）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−２００、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−３０７（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）、これらの混合物などが挙げられる。膜形成樹脂を添加するために、膜形成樹脂の重量に基づいて、通常は、約１〜約１５重量％の接着促進剤が選択される。
【０１３１】
屈曲防止層の厚みは、典型的には、約３μｍ〜約３５μｍ、または約１０μｍ〜約２０μｍ、または約１４μｍである。
【０１３２】
屈曲防止性コーティングを、膜形成樹脂および接着促進剤を溶媒（例えば、塩化メチレン）に溶解することによって調製した溶液として塗布してもよい。この溶液を、ウェブコーティングによって、または当該技術分野で既知の他の方法によって、感光体デバイスの支持基板の裏面（画像形成層の反対側）に塗布してもよい。オーバーコート層および屈曲防止層のコーティングは、電荷移動層と、電荷発生層と、接着層と、遮断層と、接地板と、基板とを備える多層感光体にウェブコーティングすることによって同時に行われてもよい。次いで、濡れた膜コーティングを乾燥させ、屈曲防止層１を得る。
【０１３３】
まず、基板２（すなわち、支持板）を与えることによって、感光体を調製する。基板は、不透明であってもよく、または実質的に透明であってもよく、例えば、米国特許第４，４５７，９９４号；第４，８７１，６３４号；第５，７０２，８５４号；第５，９７６，７４４号；第７，３８４，７１７号に記載されるような、所与の必要な機械特性を有する任意のさらなる適切な材料を含んでいてもよい。
【０１３４】
基板は、無機組成物または有機組成物のような、非電気伝導性材料の層、または電気伝導性の層を含んでいてもよい。非電導性材料を用いる場合、このような非電導性材料の上に電気伝導性接地板を与えることが必要な場合がある。電導性材料を基板として用いる場合、別個の接地層は必要としない場合がある。
【０１３５】
基板は、可とう性であってもよく、剛性であってもよく、シート、巻物、終端のない可とう性ベルト、ウェブ、円筒形等を含む、任意の多くの異なる形状を有していてもよい。感光体を、剛性で、不透明の伝導性基板（例えば、アルミニウムドラム）にコーティングしてもよい。
【０１３６】
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタンなどを含む種々の樹脂を非電気伝導性材料として用いてもよい。このような基板は、Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．から入手可能なＭＹＬＡＲ商標、ＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａｓ Ｉｎｃ．から入手可能なＭＥＬＩＮＥＸ商標、またはＡｍｅｒｉｃａｎ Ｈｏｅｃｈｓｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なＨＯＳＴＡＰＨＡＮ商標として知られる市販の二軸配向のポリエステルを含んでいてもよい。基板に含まれてもよい他の材料としては、ＴＥＤＬＡＲ商標としてＥ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．から入手可能なフッ化ポリビニル、ＭＡＲＬＥＸ商標としてＰｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なポリエチレンおよびポリプロピレン、ＲＹＴＯＮ商標としてＰｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なポリフェニレンスルフィド、ＫＡＰＴＯＮ商標としてＥ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏから入手可能なポリイミドのようなポリマー系材料が挙げられる。また、上述のように、あらかじめ表面に伝導性接地板をコーティングしておいた絶縁性プラスチックドラムに、感光体をコーティングしてもよい。このような基板は、つなぎ目があってもよく、つなぎ目がなくてもよい。
【０１３７】
伝導性基板を使用する場合、任意の適切な伝導性材料を用いてもよい。伝導性材料としては、限定されないが、金属酸化物、硫化物、ケイ化物、四級アンモニウム塩組成物、ポリアセチレンまたはその熱分解生成物および分子がドープされた生成物のような伝導性ポリマー、電荷移動複合体、ポリフェニルシラン、およびポリフェニルシランから得られる、分子がドープされた生成物を含むバインダー樹脂に含まれる、金属フレーク、粉末または繊維、またはアルミニウム、チタン、ニッケル、クロム、真ちゅう、金、ステンレス鋼、カーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。また、伝導性プラスチックドラムだけではなく、アルミニウムのような金属から作られる伝導性金属ドラムを用いてもよい。
【０１３８】
基板の厚みは、必要な機械的性能および経済的な考慮事項を含め、多くの因子に依存する。基板の厚みは、典型的には、直径の小さなローラー（例えば、直径が１９ｍｍのローラー）の周囲を回転させる場合、最適な可とう性、誘発される表面曲げ応力を最小限にするには、約６５μｍ〜約１５０μｍ、または約７５μｍ〜約１２５μｍの範囲にある。可とう性ベルト用基板は、最終的な光伝導性デバイスに悪影響を与えない限り、かなりの（２００μｍを超える）厚みを有していてもよく、最低限の厚み（５０μｍ未満）を有していてもよい。ドラムを用いる場合、厚みは、必要な剛性を得るのに十分なものであるべきであり、約１ｍｍから約６ｍｍであってもよい。
【０１３９】
層が塗布されるべき基板表面を、層への接着性を高めるために洗浄してもよい。洗浄は、基板層表面に対し、プラズマ放電、イオン衝撃などを行うことによって、または溶媒による洗浄によって行ってもよい。
【０１４０】
金属層を作成するために使用される任意の技術にかかわらず、一般的に、空気にさらされると、ほとんどの金属の外側表面に金属酸化物の薄層が生成する。したがって、金属層の下にある他の層が「連続した」層であると特徴づけられる場合に、これらの下にある連続した層が、実際には、酸化性金属層の外側表面に形成された金属酸化物の層と接触している可能性があることを意図している。
【０１４１】
調製した感光体は、電気伝導性または非電気伝導性の基板を含んでいる。非電気伝導性基板を用いる場合、電気伝導性接地板３を使用しなければならず、この接地板が伝導性基板として作用する。伝導性基板を用いる場合、基板が伝導層として作用する場合があるが、さらに伝導性接地板を与えてもよい。
【０１４２】
電気伝導性接地板を用いる場合、基板の上に配置される。電気伝導性接地板に適した材料としては、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレス鋼、クロム、タングステン、モリブデン、銅など、およびこれらの混合物およびアロイが挙げられる。
【０１４３】
溶液コーティング、蒸着、スパッタリングのような既知のコーティング技術によって、接地板を塗布してもよい。電気伝導性接地板を塗布する方法は、減圧蒸着による方法である。
【０１４４】
接地板の厚みは、電気伝導体に望ましい光学的な透明度および可とう性に依存し、かなり広範囲にわたって変わってもよい。可とう性光応答性画像形成デバイスの場合、伝導層の厚みは、約２０Å〜約７５０Åであってもよく、または、電気伝導性、可とう性、光透過度を最適に組み合わせるためには、約５０Åから約２００Åであってもよい。しかし、接地板は、所望な場合、不透明であってもよい。
【０１４５】
任意の電気伝導性接地板層を堆積させた後、この層に電荷遮断層４を塗布してもよい。正に帯電した感光体のための電子遮断層によって、正孔が、感光体の画像形成表面から伝導性層に移動することができる。負に帯電した感光体の場合、正孔が伝導層から反対側の光伝導層に移動するのを防ぐ障壁を形成することが可能な任意の適切な正孔遮断層を利用してもよい。
【０１４６】
遮断層を用いる場合、遮断層は、電気伝導層の上に配置されていてもよい。「〜の上」は、多くの異なる種類の層と組み合わせて本明細書で使用される場合、層が連続的である場合に限定されないことが理解されるべきである。むしろ、用語「〜の上」は、層の相対的な位置を指すものであり、特定されていない中間層を含むことを包含する。
【０１４７】
遮断層４としては、米国特許第４，３３８，３８７号；第４，２８６，０３３号；第４，２９１，１１０号に開示されているような、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタンなどのようなポリマー；窒素を含有するシロキサンまたは窒素を含有するチタン化合物、またはトリメトキシシリルプロピルエチレンジアミン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、イソプロピル４−アミノベンゼンスルホニルチタネート、ジ（ドデシルベンゼンスルホニル）チタネート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル−エチルアミノ）チタネート、チタン−４−アミノベンゼンスルホネートオキシアセテート、チタン４−アミノベンゾエートイソステアレートオキシアセテート、γ−アミノブチルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。
【０１４８】
遮断層は、連続した層であってもよく、厚みは、約０．０１〜約１０μｍ、または約０．０５〜約５μｍであってもよい。
【０１４９】
遮断層４を、噴霧、浸漬コーティング、引き抜き棒によるコーティング、グラビアコーティング、シルクスクリーン、エアナイフによるコーティング、逆回転ロールコーティング、真空蒸着、化学処理などのような任意の適切な技術によって塗布してもよい。薄層を得る際に簡便になるように、遮断層を希釈溶液の形態で塗布してもよく、コーティングを蒸着させた後、溶媒を従来の技術（減圧、加熱など）で除去する。一般的に、遮断層材料と溶媒との重量比が、約０．５：１００〜約３０：１００、または約５：１００〜約２０：１００であることが、スプレーコーティングおよび浸漬コーティングの条件を満たしている。
【０１５０】
顆粒状粒子、針状粒子、バインダー樹脂および有機溶媒で構成されるコーティング溶液を用い、電荷遮断層が形成された電子写真式感光体を作成する方法が提供される。
【０１５１】
有機溶媒は、Ｃ１〜３低級アルコールの共沸混合物と、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロプロパン、トルエン、テトラヒドロフランからなる群から選択される別の有機溶媒の混合物であってもよい。上述の共沸混合物は、液相の組成と、気相の組成が、特定の圧力で、一定の沸点を有する混合物を与えるために互いに一致しているような混合物の溶液である。３５重量部のメタノールと、６５重量部の１，２−ジクロロエタンからなる混合物は、共沸溶液である。共沸組成物が存在すると、均一に蒸発し、それによって、コーティングの欠陥がなく、電荷遮断コーティング溶液の貯蔵安定性が向上した、均一な電荷遮断層が生成する。
【０１５２】
遮断層に含まれるバインダー樹脂は、単一の樹脂層として作られる遮断層と同じ材料から作られていてもよい。特に、（ｉ）ポリアミド樹脂が、遮断層の上に画像形成層を作成するのに使用する溶液に溶解せず、膨潤もしないこと、（ｉｉ）ポリアミド樹脂が、伝導性支持材と優れた接着性を有し、可とう性を有すること、というバインダー樹脂に必要な種々の条件を満足するために、ポリアミド樹脂を用いてもよい。ポリアミド樹脂では、アルコール可溶性のナイロン樹脂を用いてもよく（６−ナイロン、６，６−ナイロン、６１０−ナイロン、１１−ナイロン、１２−ナイロンなどと重合させたナイロンコポリマー）；化学変性させたナイロン、例えば、Ｎ−アルコキシメチル変性させたナイロン、Ｎ−アルコキシエチル変性させたナイロンを用いてもよい。使用可能な別の種類のバインダー樹脂は、フェノール系樹脂またはポリビニルブチラール樹脂である。
【０１５３】
バインダー樹脂、顆粒状粒子、針状粒子を溶媒に分散させ、遮断層のコーティング溶液を作成し、このコーティング溶液を用いて伝導支持板をコーティングし、これを乾燥させることによって、電荷遮断層を作成する。溶媒中の分散性を高め、時間経過にともなってコーティング溶液がゲル化することを防ぐように、溶媒を選択する。さらに、コーティング溶液の組成物が、時間経過にともなって変化するのを防ぐために共沸溶媒を用いてもよく、これによって、コーティング溶液の貯蔵安定性が向上し、コーティング溶液が再生してもよい。
【０１５４】
「ｎ型」は、優先的に電子を移動させる材料を指す。典型的なｎ型材料としては、ジブロモアントアントロン、ベンズイミダゾールペリレン、酸化亜鉛、酸化チタン、アゾ化合物（例えば、クロロジアンＢｌｕｅ）およびビスアゾ顔料、置換された２，４−ジブロモトリアジン、多核芳香族キノン、硫化亜鉛などが挙げられる。
【０１５５】
「ｐ型」は、正孔を移動させる材料を指す。典型的なｐ型有機顔料としては、金属を含まないフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、銅フタロシアニンなどが挙げられる。
【０１５６】
接着を促進するために、遮断層と電荷発生層の間に中間層５を与えてもよい。または、浸漬コーティングされたアルミニウムドラムを、接着層を用いることなく利用してもよい。
【０１５７】
さらに、必要な場合、任意の隣接する層を確実に接着させるために、感光体中の任意の層の間に接着層を与えてもよい。これに代えて、またはこれに加え、接着すべきそれぞれの層の片側または両側に接着性材料を組み込んでもよい。このような任意要素の接着層は、厚みが約０．００１μｍ〜約０．２μｍであってもよい。接着材料を適切な溶媒に溶解し、手で塗布するか、噴霧、浸漬コーティング、引き抜き棒によるコーティング、グラビアコーティング、シルクスクリーン、エアナイフによるコーティング、真空蒸着、化学処理、ロールコーティング、ワイヤー巻き上げ棒によるコーティングなどで塗布し、乾燥させて溶媒を除去することによって、このような接着層を塗布してもよい。適切な接着剤としては、膜形成ポリマー、例えば、ポリエステル、ｄｕｐｏｎｔ ４９，０００（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．から入手可能）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００（Ｇｏｏｄｙｅａｒ Ｔｉｒｅ ａｎｄ Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏ．から入手可能）、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリメタクリル酸メチルなどが挙げられる。接着層は、Ｍｗが約５０，０００〜約１００，０００、または約７０，０００、Ｍｎが約３５，０００のポリエステルで構成されていてもよい。
【０１５８】
画像形成層は、電荷発生材料、電荷移動材料、または電荷発生材料と電荷移動材料の両方を含む１つ以上の層を指す。
【０１５９】
ｎ型またはｐ型の電荷発生材料を本発明の感光体で使用してもよい。
【０１６０】
電荷発生材料および電荷移動材料が、異なる層（電荷発生層および電荷移動層）である場合、電荷移動層は、ＳＯＦを含んでいてもよい。さらに、電荷発生材料および電荷移動材料が同じ層である場合、この層は、ＳＯＦを含んでいてもよい。
【０１６１】
具体的な有機光伝導性電荷発生材料としては、Ｓｕｄａｎ Ｒｅｄ、Ｄｉａｎ Ｂｌｕｅ、Ｊａｎｕｓ Ｇｒｅｅｎ Ｂなどのようなアゾ顔料；Ａｌｇｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ、Ｐｙｒｅｎｅ Ｑｕｉｎｏｎｅ、Ｉｎｄａｎｔｈｒｅｎｅ Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＲＰなどのようなキノン顔料；キノシアニン顔料；ベンズイミダゾールペリレンのようなペリレン顔料；インジゴ、チオインジゴなどのようなインジゴ顔料；Ｉｎｄｏｆａｓｔ Ｏｒａｎｇｅなどのようなビスベンゾイミダゾール顔料；銅フタロシアニン、アルミノクロロ−フタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニンなどのようなフタロシアニン顔料；キナクリドン顔料；またはアズレン化合物が挙げられる。適切な無機光伝導性電荷発生材料としては、硫化カドミウム、カドミウムスルホセレニド、セレン化カドミウム、結晶性セレンおよびアモルファスセレン、酸化鉛および他のカルコゲニドが挙げられる。適切なセレンアロイとしては、セレン−ヒ素、セレン−テルル−ヒ素、セレン−テルルが挙げられる。
【０１６２】
任意の適切な不活性樹脂バインダー材料を、電荷発生層で用いてもよい。典型的な有機樹脂系バインダーとしては、ポリカーボネート、アクリレートポリマー、メタクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ、ポリビニルアセタールなどが挙げられる。
【０１６３】
コーティング組成物として有用な分散物を作成するために、溶媒を電荷発生材料とともに用いる。溶媒は、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸アルキル、およびこれらの混合物であってもよい。酢酸アルキル（酢酸ブチルおよび酢酸アミルのような）は、アルキル基に炭素原子を３〜５個有していてもよい。組成物中の溶媒の量は、組成物の重量を基準として、約７０重量％〜約９８重量％であってもよい。
【０１６４】
組成物中の電荷発生材料の量は、溶媒を含む組成物の重量を基準として、約０．５重量％〜約３０重量％の範囲である。乾燥した光伝導性コーティングに分散させた光伝導性粒子（すなわち、電荷発生材料）の量は、選択される特定の光伝導性顔料粒子に応じて、ある程度まで変動する。チタニルフタロシアニンおよび金属を含まないフタロシアニンのようなフタロシアニン有機顔料を利用した場合、乾燥した光伝導性コーティングが、乾燥した光伝導性コーティングの総重量を基準として、すべてのフタロシアニン顔料を約３０重量％〜約９０重量％含む場合に、満足のいく結果が得られる。光伝導特性が、１平方センチメートルあたりコーティングされた顔料の相対量に影響を与えるため、乾燥させた光伝導性コーティング層が厚い場合には、顔料保持量が低いものを利用してもよい。逆に、乾燥させた光伝導層が薄い場合には、顔料保持量が高いことが望ましい。
【０１６５】
一般的に、光伝導剤の平均粒径が、約０．６μｍであり、光伝導性コーティングが浸漬コーティングによって塗布される場合に満足のいく結果が得られる。光伝導剤の平均粒径は、約０．４μｍ未満であってもよい。また、光伝導剤の粒径は、分散させた乾燥した光伝導性コーティングの厚みよりも小さい。
【０１６６】
電荷発生層では、電荷発生材料（「ＣＧＭ」）と、バインダーとの重量比は、３０（ＣＧＭ）：７０（バインダー）〜７０（ＣＧＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【０１６７】
電荷発生層（本明細書で、光伝導層とも呼ばれる）と電荷移動層とを備える多層感光体の場合、厚みが、約０．１μｍ〜約１０μｍの乾燥させた光伝導層コーティングを用いると、満足のいく結果が得られる場合がある。光伝導層の厚みは、約０．２μｍ〜約４μｍである。しかし、これらの厚みは、顔料の保持量によっても変わる。したがって、顔料の保持量が多いと、光伝導コーティングの厚みを薄くすることができる。
【０１６８】
コーティング組成物のバインダーおよび溶媒に光伝導性粒子を分散させるために、任意の適切な技術を利用してもよい。典型的な分散技術としては、ボールミル、ロールミル、垂直磨砕機による混合、サンドミルなどを用いた技術が挙げられる。ボールロールミルを用いた典型的な混合時間は、約４〜約６日間である。
【０１６９】
電荷移動材料としては、有機ポリマー、非ポリマー系材料、または光によって励起された正孔の注入を補佐することが可能であるか、または光伝導性材料から電子を移動させ、これらの正孔または電子を、有機層を介して表面電荷を選択的に散逸させることが可能なＳＯＦが挙げられる。
【０１７０】
具体的な電荷移動材料としては、主鎖または側鎖に多環芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素を含有するヘテロ環（例えば、インドール化合物、カルバゾール化合物、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、チアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、トリアゾール化合物、ヒドラゾン化合物）を含む化合物のような正孔移動材料が挙げられる。
【０１７１】
任意の適切な不活性樹脂バインダーを電荷移動層で使用してもよい。塩化メチレンに可溶性の典型的な不活性樹脂バインダーとしては、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルホンなどが挙げられる。分子量は、約２０，０００〜約１，５００，０００までさまざまであってもよい。
【０１７２】
電荷移動層では、電荷移動材料（「ＣＴＭ」）と、バインダーとの重量比は、３０（ＣＴＭ）：７０（バインダー）〜７０（ＣＴＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【０１７３】
電荷移動層と電荷発生層とを基板に塗布するために、任意の適切な技術を用いてもよい。典型的なコーティング技術としては、浸漬コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、回転式アトマイザーなどを挙げることができる。コーティング技術は、さまざまな範囲の固体に使用することができる。固体含有量は、分散物の総重量を基準として、約２重量％〜約３０重量％である。「固体」は、電荷移動コーティング分散物の電荷移動粒子およびバインダー成分を指す。これらの固体の濃縮物は、浸漬コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティングなどで有用である。一般的に、ロールコーティングには、もっと濃度の高いコーティング分散物を用いてもよい。堆積したコーティングの乾燥は、オーブンによる乾燥、赤外線照射による乾燥、風乾などの任意の適切な従来技術によって行われてもよい。一般的に、移動層の厚みは、約５μｍ〜約１００μｍであるが、これらの範囲から外れた厚みを用いてもよい。一般的に、電荷移動層の厚みと、電荷発生層の厚みとの比率は、約２：１〜約２００：１に維持され、ある場合には、約４００：１の大きさである。
【０１７４】
代表的な電荷移動性ＳＯＦとしては、多環芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素を含有するヘテロ環（例えば、インドール化合物、カルバゾール化合物、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、チアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、トリアゾール化合物、ヒドラゾン化合物）を含むセグメントを有する化合物から選択される正孔移動材料が挙げられる。典型的な正孔移動性ＳＯＦセグメントとしては、カルバゾール；Ｎ−エチルカルバゾール；Ｎ−イソプロピルカルバゾール；Ｎ−フェニルカルバゾール；テトラフェニルピレン；１−メチルピレン；；ペリレン；クリセン；アントラセン；テトラフェン；２−フェニルナフタレン；アゾピレン；１−エチルピレン；アセチルピレン；２，３−ベンゾクリセン；２，４−ベンゾピレン；１，４−ブロモピレンのような電子供与材料が挙げられる。適切な電子移動性ＳＯＦセグメントとしては、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン；２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン；ジニトロアントラセン；ジニトロアクリデン；テトラシアノピレン；ジニトロアントラキノン；ブチルカルボニルフルオレンマロノニトリルのような電子受容体が挙げられる（米国特許第４，９２１，７６９号を参照）。他の正孔移動性ＳＯＦセグメントとしては、米国特許第４，２６５，９９０号に記載されているアリールアミン、または、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンが挙げられ、ここで、アルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群から選択される。他の既知の電荷移動性ＳＯＦセグメントが選択されてもよい（米国特許第４，９２１，７７３号および第４，４６４，４５０号を参照）。
【０１７５】
ＳＯＦ電荷移動層は、
（ａ）それぞれセグメントと複数のＦｇとを含む、電荷移動性に偏った特性を有する複数の分子ビルディングブロックを含む液体を含有する反応混合物を調製することと；
（ｂ）この反応混合物を濡れた膜として堆積させることと；
（ｃ）分子ビルディングブロックを含む濡れた膜が、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格として整列したものを含むＳＯＦを含む乾燥膜へと変化することを促進させることとによって調製されてもよく、巨視的なレベルで、この共有結合による有機骨格が膜である。
【０１７６】
この保持量は、反応混合物の合計重量を基準として、約２〜約５０重量％である。「保持量」は、電荷移動性を有するＳＯＦ反応混合物の分子ビルディングブロック成分を指す。これらの保持量は、浸漬コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティングなどで有用である。一般的に、ロールコーティングには、もっと濃度の高いコーティング分散物を用いてもよい。堆積したコーティングの乾燥は、オーブンによる乾燥、赤外線照射による乾燥、風乾などの任意の適切な従来技術によって行われてもよい。一般的に、電荷移動性のＳＯＦ層の厚みは、約５μｍ〜約１００μｍ、約１０μｍ〜約７０μｍ、または約１０μｍ〜約４０μｍである。一般的に、電荷発生層の厚みを基準とした、電荷移動層の厚みの比率は、約２：１〜２００：１に維持されてもよく、４００：１程度の大きさに維持されてもよい。
【０１７７】
本明細書に記載の材料および手順を用い、バインダ、電荷発生材料および電荷移動材料を含む１つの画像形成層を有する感光体を製造してもよい。１個の画像形成層のための分散物の固体含有量は、分散物の重量を基準として、約２重量％〜約３０重量％の範囲であってもよい。
【０１７８】
画像形成層が、電荷発生層と電荷移動層の機能を組み合わせた単一層である場合、この層に含まれる成分の具体的な量は、電荷発生材料（約５重量％から約４０重量％まで）と、電荷移動材料（約２０重量％〜約６０重量％）と、バインダー（画像形成層の残り）である。
【０１７９】
本明細書に記載の材料および手順を用い、電荷生成材料および電荷移動性のＳＯＦを含む１つの画像形成層を有する感光体を製造してもよい。１個の画像形成層のための分散物の固体含有量は、分散物の重量を基準として、約２重量％〜約３０重量％の範囲であってもよい。
【０１８０】
画像形成層が、電荷発生層と電荷移動層の機能を組み合わせた単一層である場合、この層に含まれる成分の具体的な量は、電荷生成材料（約２重量％から約４０重量％まで）と、加えられる機能として電荷移動性を有する分子ビルディングブロック（約２０重量％〜約７５重量％）である。
【０１８１】
１つ以上のオーバーコート層８を用いてもよく、この層を利用する場合、電荷発生層または電荷移動層の上に配置される。この層は、電気的に絶縁性であるか、またはわずかに半導体性を有するＳＯＦを含む。
【０１８２】
このような保護性のオーバーコート層は、場合により、電荷移動性セグメントを含む複数の分子ビルディングブロックを含む、ＳＯＦを形成する反応混合物を含む。
【０１８３】
添加剤は、オーバーコート層中に、オーバーコート層の約０．５〜約４０重量％の範囲で存在してもよい。添加剤としては、耐摩耗性をさらに高め、および／または電荷緩和特性を付与することが可能な有機粒子および無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、テフロン粉末、カーボンブラック、グラファイト粒子が挙げられる。無機粒子としては、絶縁性および半導体性の金属酸化物粒子、例えば、シリカ、酸化亜鉛、酸化スズなどが挙げられる。別の半導体性添加剤は、酸化されたオリゴマー塩であってもよく（米国特許第５，８５３，９０６号を参照）が挙げられる。オリゴマー塩は、酸化されたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン塩であってもよい。
【０１８４】
ＳＯＦオーバーコート層は、
（ａ）それぞれセグメントと複数のＦｇとを含む、電荷移動性に偏った特性を有する複数の分子ビルディングブロックを含む液体を含有する反応混合物を調製することと；
（ｂ）この反応混合物を濡れた膜として堆積させることと；
（ｃ）分子ビルディングブロックを含む濡れた膜が、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格として整列したものを含むＳＯＦを含む乾燥膜へと変化することを促進させることとによって調製されてもよく、巨視的なレベルで、この共有結合による有機骨格が膜である。
【０１８５】
約２μｍ〜約１５μｍ、または約３μｍ〜約８μｍのオーバーコート層は、耐ひっかき性および耐摩耗性を付与することに加え、電荷移動による分子の浸出、結晶化、電荷移動層の割れを防ぐのに有効である。
【０１８６】
アース片９は、膜形成バインダーと、電気伝導性粒子とを含んでいてもよい。伝導性粒子を分散させるために、セルロースを用いてもよい。電気伝導性アース層８に、任意の適切な電気伝導性粒子を使用してもよい。アース片８は、米国特許第４，６６４，９９５号に列挙されているものを含む材料を含んでいてもよい。典型的な電気伝導性粒子としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、銅、銀、金、ニッケル、タンタル、クロム、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、インジウムスズオキシドなどが挙げられる。
【０１８７】
電気伝導性粒子は、任意の適切な形状であってもよい。典型的な形状としては、不規則な形、顆粒、球状、楕円形、立方体、フレーク、フィラメント状などが挙げられる。電気伝導性粒子は、電気伝導性アース層が、過剰に不規則な外側表面を有さないようにするために、電気伝導性アース層の厚みよりも小さな粒径を有していてもよい。平均粒径が約１０μｍより小さいと、一般的に、乾燥したアース層の外側表面で、電気伝導性粒子の過剰な突出部を避けることができ、乾燥させたアース層のマトリックスを通って、粒子を比較的均一に分散させることができる。アース片で使用すべき伝導性粒子の濃度は、利用する特定の伝導性材料の導電性のような因子によって変わる。
【０１８８】
アース層は、厚みが、約７μｍ〜約４２μｍ、または約１４μｍ〜約２７μｍであってもよい。
【０１８９】
画像保持体から液体トナー画像を受け入れるための、スライドしない転写融着アセンブリを有する、液浸現像（ＬＩＤ）による再生機が提供される。この転写融着アセンブリは、ベルトループを形成し、内側表面と、トナー画像を保有する外側表面とを備える、連続した中間転写ベルトを備えていてもよく、ＳＯＦと；第１の直径を有し、ベルトループと画像保持体との間に、トナー画像を受け入れるニップを形成するための、ベルトループの内側表面と接触するように取り付けられた第１の裏当てローラーと；第１の裏当てローラーと反対側に取り付けられ、ベルトループと外側ローラーとの間に転写ニップを形成するために、ベルトループの内側表面と接触する第２の裏当てローラーとを備えていてもよい。第２の裏当てローラーは、ベルトのための大きな駆動ドラムを備えていてもよく、ベルトがスライドしたり、滑ったりするのを防ぐことによって、高品質の転写融着したトナー画像を生成し、比較的小さな直径の駆動ロールから得られる結果とは異なる画像が保証されるように、第１の裏当てローラーの第１の直径よりも何倍も大きい第２の直径を有している。
【０１９０】
液浸現像（ＬＩＤ）再生機の特徴の詳細は、米国特許第６，００２，９０７号に記載されている。
【０１９１】
ＬＩＤ再生機は、高固体含有量（ＨＳＣ）の画像供与現像装置を組み込んでいてもよく、多色ＬＩＤ機であってもよく、単色ＬＩＤ機であってもよい。カラー複写プロセスは、一般的に、コンピューターで作成したカラー画像を画像処理ユニットに入力するか、または、透明な平板表面に複写するカラードキュメントを置くことによって開始される。光源、ハロゲンランプまたはタングステンランプ、そこからの光を含むスキャンアセンブリを、カラードキュメントにあてる。カラードキュメントから反射した光は、一連のレンズを通り、二色プリズムを通って１番目、２番目、３番目の鏡で反射し、電荷結合素子（ＣＣＤ）に向かい、ここで、情報が読み取られる。反射した光を、二色プリズムおよび／またはＣＣＤで三原色に分けてもよい。
【０１９２】
それぞれのＣＣＤは、入射光の強度に比例するアナログ電圧を出力してもよい。それぞれのＣＣＤから得られるアナログ信号を、アナログ／デジタル変換器によって、各ピクセル（画素）について８ビットデジタル信号に変換してもよい。それぞれのデジタル信号を、画像処理ユニットに入れてもよい。青色、緑色、赤色の強度信号を表していてもよいデジタル信号を、画像処理ユニットで、イエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の４種類のビットマップに変換してもよい。このビットマップは、各ピクセルについて、露光値をあらわしており、色成分および色の分離をあらわしている。画像処理ユニットは、シェーディング補正ユニット、下色除去ユニット（ＵＣＲ）、マスキングユニット、ディザリングユニット、灰色レベル処理ユニット、当該技術分野で既知の他の画像処理サブシステムを含んでいてもよい。画像処理ユニットは、その後の画像のビットマップ情報を格納していてもよく、リアルタイムモードで操作することもできる。
【０１９３】
ＬＩＤ機は、光伝導性画像形成体または光伝導性感光体を備えており、これらは、ＳＯＦを含んでいてもよく、多層であってもよく、基板と、伝導層と、場合により接着層と、場合により正孔遮断層と、電荷発生層と、電荷移動層と、光伝導性表面または画像形成表面と、場合により、屈曲防止裏当て層とを備えていてもよい。感光体は移動可能であってもよい。移動性感光体を、まず、帯電ユニットによって帯電させてもよい。次いで、画像処理ユニットによって制御されるラスタ出力スキャナー（ＲＯＳ）デバイスは、帯電した感光体上にある電荷を選択的に消去することによって、第１の相補性カラー画像のビットマップ情報を書きだしてもよい。ＲＯＳは、ラインスクリーン登録モードでのピクセルによって、画像情報のピクセルを書きだしてもよい。帯電していない部分が現像される反転現像（ＤＡＤ）を用いてもよく、帯電している部分がトナーで現像される正現像（ＣＡＤ）を用いてもよいことを注記しておくべきである。
【０１９４】
第１の静電潜像が記録された後、感光体は、静電潜像を現像ステーションに進める。現像ステーションでは、第１の潜像を帯電したトナー粒子で現像するための第１の高固体含有量の供与現像装置が与えられてもよい。この高固体含有量の供与現像装置は、回転可能な供与体と、液体現像材料の低固体含有量（ＬＳＣ）の層（例えば、ブラックトナー現像材料）を、ある供給源から、現像ゾーンまたはニップへと進めるために、ある方向に回転するベルトまたはローラーとを備えている。高固体含有量の供与現像装置は、低固体含有量（ＬＳＣ）現像材料源を含み、ＬＳＣ現像材料を含むハウジングを備えている。上述の低固体含有量の液体現像材料は、典型的には、潜像を、通常は感光体上で現像するために、特定の色の微細な固体粒子状トナー材料を約２重量％含み、これが炭化水素液体キャリアのようなキャリアに分散した材料である。
【０１９５】
すべての比率は、他の意味であると示されていない限り、重量による。「パターン化」は、セグメントが連結している順序を指す。したがって、パターン化されたＳＯＦは、セグメントＡがセグメントＢにのみ接続した組成物を包含し、逆に、セグメントＢがセグメントＡにのみ接続した組成物を含有する。さらに、たった１個のセグメント（いわゆるセグメントＡ）が存在するシステムが使用される場合、ＡはＡとのみ反応することが意図されるため、これもパターン化されたものであろう。
【実施例】
【０１９６】
実施例１は、２個のビルディングブロック間をエーテル化によって接続する化学を促進するように成分を組み合わせた２型ＳＯＦの合成について記載している。酸触媒および加熱作用が存在する状態で、実施例１に記載した方法でＳＯＦを得る。
【０１９７】
（実施例１）
（作業Ａ）液体を含む反応混合物の調製。以下のものを混合した。ビルディングブロックであるベンゼン−１，４−ジメタノール［セグメント＝ｐ−キシリル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．４７ｇ、３．４ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（１．１２ｇ、１．７ｍｍｏｌ）］、１７．９ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．３１ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。
【０１９８】
（作業Ｂ）反応混合物を濡れた膜として堆積。８ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。
【０１９９】
（作業Ｃ）濡れた膜を乾燥ＳＯＦに変化させるのを促進すること。濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約３〜６μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立型ＳＯＦとして剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。このＳＯＦの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図４に示している。
ＳＯＦ内でパターン化された、用いられる分子ビルディングブロックからのセグメントを含むことを示すために、３つのコントロール実験が行われた。すなわち、実施例１の作業Ａと同じ手順を用いて３つの液体反応混合物が調製された。ただし、これら３つの配合物は下記のように修飾された。
・（コントロール反応混合物１；実施例２）ビルディングブロックであるベンゼン−１，４−ジメタノールを含まなかった。
・（コントロール反応混合物２；実施例３）ビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミンを含まなかった。
・（コントロール反応混合物３；実施例４）触媒であるｐ−トルエンスルホン酸を含まなかった。
【０２００】
実施例２〜４は、膜が得られなかった。その代わり、ビルディングブロックの沈殿した粒子が、基板に堆積した。
【０２０１】
それぞれの３種類のコントロール反応混合物について、実施例１に概略を説明した作業ＢおよびＣを行った。しかし、すべての場合において、ＳＯＦは生成せず、単に、基板にビルディングブロックが析出した。これらの結果から、ビルディングブロックは、上に述べた処理条件ではビルディングブロック自体と反応することはできず、プロモーター（ｐ−トルエンスルホン酸）が存在しない状態では、ビルディングブロックが反応することもできないという結果が得られた。したがって、実施例１に記載した活性は、ビルディングブロック（ベンゼン−１，４−ジメタノールおよびＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン）が、互いに反応するように促進された場合にのみ反応することが可能な活性である。パターン化されたＳＯＦは、セグメントであるｐ−キシリルおよびＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミンが互いに接続した場合にのみ生じる。フーリエ変換赤外スペクトルを、ＳＯＦのコントロール実験の生成物（図５）と比較すると、出発物質のＦｇが存在しない（特に、ベンゼン−１，４−ジメタノールに由来するヒドロキシルバンドが存在しない）ことが示され、さらに、上述のようにセグメント間の接続性の進行をさらに支持するものである。また、ＳＯＦのスペクトルにヒドロキシルバンドがまったく存在しないことは、非常に高い割合でパターン化されていることを示している。
【０２０２】
実施例６（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである１，６−ｎ−ヘキサンジオール［セグメント＝ｎ−ヘキシル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．２１ｇ、１．８ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（０．５８ｇ、０．８７ｍｍｏｌ）］、８．９５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．１６ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）２０ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約４〜５μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立型ＳＯＦとして剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。このＳＯＦの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図６に示している。
【０２０３】
実施例９：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’−（シクロヘキサン１，１−ジイル）ジフェノール［セグメント＝４，４’−（シクロヘキサン１，１−ジイル）ジフェニル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．９７ｇ、６ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（１．２１ｇ、１．８ｍｍｏｌ）］、７．５１ｇの１，４−ジオキサン。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１，４−ジオキサン溶液０．２２ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）１０ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約１２〜２０μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。このＳＯＦの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図７に示している。
【０２０４】
（実施例２６）
（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメタノール［セグメント＝（４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメチル）；Ｆｇ＝アルコール（−ＯＨ）；（１．４８ｇ、４．４ｍｍｏｌ）］、８．３ｇの１，４−ジオキサン。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１，４−ジオキサン溶液０．１５ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）１５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約６〜１５μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図８に示している。二次元Ｘ線散乱データを図１４に示しており、バックグラウンドより上のシグナルは存在せず、このことは、任意の検出可能な周期を有する規則的な分子が存在しないことを示している。
【０２０５】
実施例３０：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるテレフタルアルデヒド［セグメント＝ベンゼン；Ｆｇ＝アルデヒド（−ＣＨＯ）；（０．１８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるトリス（４−アミノフェニル）アミン［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝アミン（−ＮＨ２）；（０．２６ｇ、０．８９ｍｍｏｌ）］、２．５ｇのテトラヒドロフラン。均一溶液が得られるまで、混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−テトラヒドロフラン溶液０．０４５ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１２０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約６μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は赤色から橙色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図９に示している。
【０２０６】
実施例３１：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’，４’’−ニトリロトリベンズアルデヒド［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝アルデヒド（−ＣＨＯ）；（０．１６ｇ、０．４ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるトリス（４−アミノフェニル）アミン［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝アミン（−ＮＨ２）；（０．１４ｇ、０．４ ｍｍｏｌ）］、１．９ｇのテトラヒドロフラン。均一溶液が得られるまで、混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１２０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約６μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は赤色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図１０に示している。
【０２０７】
実施例３６：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．１２ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（５５ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ３７００（２１０ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２６７ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１３．２７ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが約６．９μｍのＳＯＦを得た。図１１は、このＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。
【０２０８】
実施例３７：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；４．６５ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（４９ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００（２０５ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２５４ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１２．２５ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。ポリエチレンワックス分散物（平均粒径＝５．５マイクロメートル、ｉ−プロピルアルコール中、固形分４０％、６１３ｍｇ）を反応混合物に加え、これを１０分間超音波処理し、回転機で３０分間混合した。（作業Ｂ）この反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、ＳＯＦにワックス粒子が均一に組み込まれた、厚みが約６．９μｍの膜を得た。図１２は、このＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。
【０２０９】
実施例３８：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；３．３６ｇ］、ビルディングブロックであるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ）；５．５６ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（４８０ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００（３８３ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（４８０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（３３．２４ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度４８５ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが６．０〜６．２μｍの膜を得た。図１３は、このＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。
【０２１０】
実施例４９：（作業Ａ）反応混合物を含む液体を調製する試み。以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．１２ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（５５ｍｇ）、Ｓｉｌｃｌｅａｎ ３７００（２１０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１３．２７ｇ）。分子ビルディングブロックを完全に溶解する試みにおいて、この混合物を６５分かけて５５℃まで加熱した。しかし、完全には溶解しなかった。触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２６７ｍｇ）を加え、不均一な混合物をローリングウェーブ式回転機でさらに１０分間混合した。この例では、加熱工程の後に触媒を加えた。溶解していない分子ビルディングブロックの量があるため、コーティング前に溶液を濾過しなかった。（作業Ｂ）濡れた膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた膜から乾燥膜への変化を促進。濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、均一な膜は得られなかった。粒子を含む不均一な膜が生成した領域と、まったく膜を形成しない他の領域とが存在していた。
【０２１１】
実施例５０：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるｔｒｉｓ−［（４−ヒドロキシメチル）−フェニル］−アミン［セグメント＝トリ−（ｐ−トリル）−アミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．１２ｇ］；添加剤であるＣｙｍｅｌ３０３（５５ｍｇ）およびＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００（２１０ｍｇ）、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７（２６７ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１３．２７ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で６５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。反応混合物の粘度が、加熱工程後に増加した（加熱前後の溶液の粘度は測定していなかった）ことを注記しておく。（作業Ｂ）反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度２４０ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが約６．９μｍのＳＯＦを得た。
【０２１２】
実施例５１：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン ［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；１．８４ｇ］、ビルディングブロックである３，３’−（４，４’−（ビフェニル−４−イルアザンジイル）ビス（４，１−フェニレン））ジプロパン−１−オール［セグメント＝３，３’−（４，４’−（ビフェニル−４−イルアザンジイル）ビス（４，１−フェニレン））ジプロピル；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；（２．４１ｇ）、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（１０ｗｔ％ドワノール溶液、４６０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１６．９ｇ−５０ｐｐｍのＤＣ５１０を含有）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で５分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、７０℃で３０分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、Ｈｉｒａｎｏウェブコーターを用いて製品をコーティングしたウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度：４．５ｍＬ／分。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に１．５ｍ／分の速度で２分間供給した。これらの作業によって、厚みが２．１マイクロメートルのＳＯＦオーバーコート層を感光体の上に与えた。
【０２１３】
実施例５２：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．０ｇ］、ビルディングブロックであるベンゼンジメタノール［セグメント＝ｐ−キシリル；Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ）；２．３２ｇ］、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（１０ｗｔ％ドワノール溶液、７２０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（２２．５ｇ−５０ｐｐｍのＤＣ５１０を含有）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で５分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、４０℃で５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、Ｈｉｒａｎｏウェブコーターを用いて製品をコーティングした製品ウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度：５ｍＬ／分。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に１．５ｍ／分の速度で２分間供給した。これらの作業によって、厚みが２．２マイクロメートルのＳＯＦオーバーコート層を感光体の上に与えた。
【０２１４】
実施例５３：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；５．０ｇ］、ビルディングブロックであるベンゼンジメタノール［セグメント＝ｐ−キシリル；Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ）；２．３２ｇ］、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（１０ｗｔ％ドワノール溶液、７２０ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（２２．５ｇ−５０ｐｐｍのＤＣ５１０を含有）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で５分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、４０℃で５分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、Ｈｉｒａｎｏウェブコーターを用いて製品をコーティングした製品ウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度：１０ｍＬ／分。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に１．５ｍ／分の速度で２分間供給した。これらの作業によって、厚みが４．３マイクロメートルのＳＯＦオーバーコート層を感光体の上に与えた。
【０２１５】
ＳＯＦでオーバーコートされた感光体サンプルは、アイソパーＣ、Ｇ、またはＭに２４時間接触させた後にも、観察可能な損傷はみられなかった。さらに、ＣＴＬからのビルディングブロックまたはセグメントの結晶化は観察されなかった。以前のオーバーコート層を用いて観察した場合にも、アイソパーＣ、Ｇ、またはＭに２４時間接触させた後に結晶化せず、測定可能な損傷は、なんらみられなかった。
【０２１６】
実施例５４：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメタノール［セグメント＝（４，４’，４’’−ニトリロトリス（ベンゼン−４，１−ジイル）トリメチル）；Ｆｇ＝アルコール（−ＯＨ）；（１．４８ｇ、４．４ｍｍｏｌ）］、水０．５ｇ、１，４−ジオキサン７．８ｇ。この混合物を振り混ぜ、均一な溶液が得られるまで、６０℃まで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１，４−ジオキサン溶液０．１５ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）１５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化した（ＴｉＺｒ）ＭＹＬＡＲ商標基板の反射側に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている金属化したＭＹＬＡＲ商標基板を、あらかじめ１３０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約４〜１０μｍの範囲のＳＯＦを得て、これを基板から１個の自立膜として剥離してもよい。ＳＯＦの色は緑色であった。二次元Ｘ線散乱データを図１４に示している。図１４からわかるように、２θは、約１７．８であり、ｄは約４．９７オングストロームであり、このことは、ＳＯＦが、約０．５ｎｍの周期を有する規則的な分子を有することを示す。
【０２１７】
実施例５５：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４−ヒドロキシベンジルアルコール［セグメント＝トルエン；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．０２７２ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（０．０７２８ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）］、０．８８ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、シルクリーンの１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇ。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、５５℃まで加熱する。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、アルミニウム基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えているアルミニウム基板を、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。
【０２１８】
実施例５６：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである４−（ヒドロキシメチル）安息香酸［セグメント＝４−メチルベンズアルデヒド；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．０３１４ｇ、０．２０６ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックであるＮ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ３）；（０．０６８６ｇ、０．１０３ｍｍｏｌ）］、０．８８ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、シルクリーンの１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇ。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、５５℃まで加熱する。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の１０ｗｔ％１−メトキシ−２−プロパノール溶液０．０１ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、アルミニウム基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えているアルミニウム基板支持体を、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。
【０２１９】
実施例５７：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックである１，４−ジアミノベンゼン［セグメント＝ベンゼン；Ｆｇ＝アミン（−ＮＨ２）；（０．１４ｇ、１．３ｍｍｏｌ）］、第２のビルディングブロックである１，３，５−トリホルミルベンゼン［セグメント＝ベンゼン；Ｆｇ＝アルデヒド（−ＣＨＯ）；（０．１４４ｇ、０．８９ｍｍｏｌ）］、２．８ｇのＮＭＰ。均一溶液が得られるまで、この混合物を振り混ぜる。室温まで冷却したら、溶液を０．４５μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をｐ−トルエンスルホン酸の２．５ｗｔ％ＮＭＰ０．０２ｇとして加え、液体を含む反応混合物を得た。（作業Ｂ）反応混合物を、速度を変えることが可能なスピンコーターの回転ユニットに取り付けた石英プレートに、１００ＲＰＭで３０分間回転させ、塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている石英プレートを、あらかじめ１８０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、１２０分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが４００ｎｍの黄色の膜が得られ、これを水に浸し、基板から剥離することができる。
【０２２０】
実施例５８：実施例１に記載したプロセスおよびビルディングブロックに関し、コンポジットＳＯＦを調製した。これらの場合、使用した溶媒はジオキサンであった。すべてのＳＯＦを調製し、２０ｍｉｌのバードバーを用い、濡れた層を堆積させ、この濡れた層の変化を１３０℃で４０分間促進させることによって、金属化したＭＹＬＡＲ基板に、反応混合物中の合計固形保持率３０％、第２の成分からの固形保持率が１０％になるように塗布した。濡れた層からＳＯＦを形成する変化を促進させる前に、第２の成分を反応混合物に含ませることによって、第２の成分を導入した。６種類の異なるコンポジットＳＯＦを製造し、それぞれ異なる第２の成分を含んでいた：コンポジットＳＯＦ１は、正孔移動分子（Ｎ４，Ｎ４’−ジフェニル−Ｎ４，Ｎ４’−ジ−ｍ−トリル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン）を含み、コンポジットＳＯＦ２は、ポリマー（ポリスチレン）を含み、コンポジットＳＯＦ３は、ナノ粒子（Ｃ６０ Ｂｕｃｋｍｉｎｓｔｅｒフラーレン）を含み、コンポジットＳＯＦ４は、有機低分子（ビフェニル）を含み、コンポジットＳＯＦ５は、金属粒子（銅微粉末）を含み、コンポジットＳＯＦ６は、電子受容体（キノン）を含む。いくつかの第２の成分は、反応混合物に可溶性であり、いくつかは反応混合物に分散した（可溶性ではなかった）。製造した６種類のコンポジットＳＯＦは、実質的にピンホールのないＳＯＦであり、コンポジット材料がＳＯＦに組み込まれていた。いくつかの場合（例えば、銅微粉末コンポジットＳＯＦ）の場合、第２の成分（ドーパント）の分散物は、目でみて明らかであった。これらのＳＯＦの厚みは、１５〜２５マイクロメートルの範囲であった。
【０２２１】
実施例５９：（作業Ａ）液体を含む反応混合物の調製：以下のものを混合した。ＳＯＦビルディングブロックであるトリス−（４−ヒドロキシメチル）トリフェニルアミン［セグメント＝トリフェニルアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；０．２００ｇ］；フォトクロミック分子１〜５（以下を参照）（０．０２ｇ）、触媒であるｐ−トルエンスルホン酸（０．０１ｇ）；１−メトキシ−２−プロパノール（０．７６０ｇ）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、５５℃で５分間加熱した。この溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）反応混合物を濡れた膜として堆積：５ｍｉｌのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、３ｍｉｌＭＹＬＡＲ基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた膜から乾燥ＳＯＦへの変化を促進。濡れた層を支えているＭｙｌａｒシートを、あらかじめ１２０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、５分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが３〜５μｍの膜を得た。以下のフォトクロミック分子をＳＯＦに組み込んだ。
【０２２２】
【化１５】
【０２２３】
すべての配合物は、実質的にピンホールのない膜を形成したが、表２（以下）からわかるように、フォトクロミック分子（４）および（５）が最もよい性能を発揮した。
【表２】
【０２２４】
分子（４）および（５）を用いたフォトクロミックＳＯＦのＵＶ−可視光スペクトルは、明らかに、フォトクロミックＳＯＦ膜の着色能（ＵＶＡで書き込んだ後、約６００ｎｍに中心がある広範囲の吸収が存在）、および消去能を示している（可視光で消去すると、約６００ｎｍの吸収が消失）。フォトクロミック応答は、書き込み／消去速度および画像のコントラストという観点で、ポリマーマトリックス系と匹敵するものであった。このことは、ＳＯＦ膜が、これらのＤＴＥ型のフォトクロミック材料の性能に影響を与えないことを示している。
【０２２５】
化学薬品／環境／機械力に対する安定性を試験するために、フォトクロミックＳＯＦをアセトン中に１５分間置いた。実験による観察結果を以下の表（表３）に詳細に示す。分子（５）を含むフォトクロミックＳＯＦは、膜の一体性およびフォトクロミック挙動を完全に保存している。分子（４）を含むフォトクロミックＳＯＦは、フォトクロミック成分がしみ出し、その結果、フォトクロミック活性が失われる。
【表３】
【０２２６】
分子（５）を含むフォトクロミックＳＯＦをアセトンに入れ、５分間超音波処理した。これは、ポリマーフォトクロミック系は耐えられないであろう厳しい試験である。溶媒を除去した後、分子（５）を含むフォトクロミックＳＯＦは、本質的に、ＳＯＦの完全性を保っており、ＵＶ ＬＥＤデバイスにさらされた場合とほぼ同じレベル書き込んでいる（すなわち、フォトクロミック活性は保存されている）。ＳＯＦ構造に化学結合しているフォトクロミック分子（５）から誘導されるフォトクロミックＳＯＦは、ＳＯＦからしみ出さず、厳しい化学薬品（アセトン溶媒）に耐えることができ、機械的（超音波）によるストレスにも耐えることができる。
【０２２７】
実施例６０：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；表４に列挙した量で］、表４に示されているようなキャッピングユニット；添加剤であるＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７およびドワノール。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、６５℃で６０分間加熱した。この混合物を回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）反応混合物をアルミニウム基板に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えているアルミニウム基板を、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、４〜１０μｍの厚みを有する膜を得た。
【表４−１】
【表４−２】
【表４−３】
【０２２８】
上述のすべての配合物は、眼で観察して、ピンホールのないＳＯＦが得られていた。ＳＯＦのＦＴ−ＩＲ分光法は、膜で検出された−ＯＨ基が、大きく弱まっているか、または完全に失われているため、ＴＨＭ−ＴＢＤビルディングブロックとキャッピングユニットとの結合はうまくいっており、効率的であることを示していた。
【０２２９】
キャッピングされたＳＯＦの熱安定性は、キャッピングユニットを含まないＴＨＭ−ＴＢＤ ＳＯＦに匹敵していた。４００℃までは分解はみられず、このことは、高度に結合した材料であるという指標である。
【０２３０】
膜の機械特性は、キャッピング基を導入することによって大きく影響を受けた。自立型の膜で、応力−ひずみデータを集めることによって、キャッピングされたＳＯＦ膜の機械特性を評価した。一般的に、キャッピングユニットを含むＳＯＦ膜は、靱性が大きく、ＴＨＭ−ＴＢＤのみから構築された純粋なＳＯＦ膜よりも線形応力−ひずみ曲線が小さかった。この機械データは、キャッピングユニットをＳＯＦに入れることによって得られる微視的なレベルでの変化が、膜の巨視的なレベルに直接影響を及ぼしていることを明らかに示している。
【０２３１】
実施例６１：（作業Ａ）以下のものを混合した。ビルディングブロックであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ）；表５〜８に列挙した量で］、キャッピングユニット、添加剤であるＳｉｌｃｌｅａｎ ３７００、触媒であるＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７、ドワノール（表３〜６に示されるように）。この混合物をローリングウェーブ式回転機で１０分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、６５℃で６０分間加熱した。この混合物を回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を１μｍ ＰＴＦＥ膜で濾過した。（作業Ｂ）この反応混合物を、カップコーター（Ｔｓｕｋｉａｇｅ ｃｏａｔｉｎｇ）を用い、引っ張り速度４８５ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。（作業Ｃ）濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ１４０℃まで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、４０分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが６〜７μｍの膜が得られた。
【０２３２】
【表５】
【０２３３】
【表６】
【０２３４】
【表７】
【０２３５】
【表８】
【０２３６】
上述のすべての配合物は、眼で観察して、ピンホールのないＳＯＦが得られていた。ＳＯＦのＦＴ−ＩＲ分光法は、膜で検出された−ＯＨ基が、大きく弱まっているか、または完全に失われているため、ＴＨＭ−ＴＢＤビルディングブロックとキャッピングユニットとの結合はうまくいっており、効率的であることを示していた。図１５は、このキャッピングされたＳＯＦオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線（ＰＩＤＣ）である（７５ｍｓでの電圧（露光して測定する））。このデバイスの電気特性は優れている（低Ｖｒおよびサイクルアップなし）。それぞれ、図１５および図１６のＰＩＤＣおよび繰り返しデータを参照。
【０２３７】
キャッピングされたＳＯＦ ＯＣＬのＢＣＲ摩耗データは、（両方の種類のキャッピングユニットについて）キャッピングユニットの保持量という観点で、最も大きな摩耗率を示す。高保持量と低保持量とで、摩耗の程度および違いは小さく、このことは、キャッピングユニット保持量をさらに増やすことによって摩耗率が大きくなることにはかなりの自由度が存在することを示しており、また、必要なＨＴＭの量（費用）を下げるだろう。
【０２３８】
印刷試験には、印刷品質の問題はなんら存在せず、オーバーコーティングされていないＰ／Ｒデバイスと本質的に同じである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体トナーのゼログラフィー印刷のための画像形成体であって、
基板と；
電荷発生層と；
電荷移動層と；
場合により、オーバーコート層とを備えており；
最も外側の層が、複数のセグメントと、複数のリンカーとが共有結合による有機骨格（ＣＯＦ）として整列したものを含む耐溶媒性の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成表面である、画像形成体。
【請求項２】
前記電荷移動層が前記最も外側の層であり、前記電荷移動層が、約１０〜約４０μｍの厚みである、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項３】
前記電荷発生層と前記電荷移動層とがあわさって、約１０〜約４０μｍの厚みを有する単一層になっている、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項４】
前記単一層が、前記最も外側の層である、請求項３に記載の画像形成体。
【請求項５】
前記電荷発生層が、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの電磁放射線を吸収する、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項６】
前記ＳＯＦがコンポジットＳＯＦである、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項７】
前記ＳＯＦが、加えられる機能として電気活性を有する、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項８】
加えられる機能である前記電気活性が、正孔移動性または電子移動性である、請求項７に記載の画像形成体。
【請求項９】
前記ＳＯＦ骨格が、キャッピングユニットを含む、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項１０】
オーバーコート層を含み、前記最も外側の層が前記オーバーコート層であり、前記オーバーコート層が、約１〜約１０μｍの厚みである、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項１】
液体トナーのゼログラフィー印刷のための画像形成体であって、
基板と；
電荷発生層と；
電荷移動層と；
場合により、オーバーコート層とを備えており；
最も外側の層が、複数のセグメントと、複数のリンカーとが共有結合による有機骨格（ＣＯＦ）として整列したものを含む耐溶媒性の規則的な構造の有機膜（ＳＯＦ）を含む画像形成表面である、画像形成体。
【請求項２】
前記電荷移動層が前記最も外側の層であり、前記電荷移動層が、約１０〜約４０μｍの厚みである、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項３】
前記電荷発生層と前記電荷移動層とがあわさって、約１０〜約４０μｍの厚みを有する単一層になっている、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項４】
前記単一層が、前記最も外側の層である、請求項３に記載の画像形成体。
【請求項５】
前記電荷発生層が、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの電磁放射線を吸収する、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項６】
前記ＳＯＦがコンポジットＳＯＦである、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項７】
前記ＳＯＦが、加えられる機能として電気活性を有する、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項８】
加えられる機能である前記電気活性が、正孔移動性または電子移動性である、請求項７に記載の画像形成体。
【請求項９】
前記ＳＯＦ骨格が、キャッピングユニットを含む、請求項１に記載の画像形成体。
【請求項１０】
オーバーコート層を含み、前記最も外側の層が前記オーバーコート層であり、前記オーバーコート層が、約１〜約１０μｍの厚みである、請求項１に記載の画像形成体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１２−４２９４６（Ｐ２０１２−４２９４６Ａ）
【公開日】平成２４年３月１日（２０１２．３．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６７６９６（Ｐ２０１１−１６７６９６）
【出願日】平成２３年７月２９日（２０１１．７．２９）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月１日（２０１２．３．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月２９日（２０１１．７．２９）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
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