記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び情報記録再生装置
【課題】小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び情報記録再生装置を提供する。
【解決手段】近接場光発生素子２６は、レーザ光Ｌを反射させながらディスクの方向に導くコア２３と、コア２３を内部に閉じ込めるクラッド２４と、を有し、コア２３におけるレーザ光の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さＴ１，Ｔ２が、コア２３に入射するレーザ光の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成されていることを特徴とする。
【解決手段】近接場光発生素子２６は、レーザ光Ｌを反射させながらディスクの方向に導くコア２３と、コア２３を内部に閉じ込めるクラッド２４と、を有し、コア２３におけるレーザ光の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さＴ１，Ｔ２が、コア２３に入射するレーザ光の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を集光したスポット光、若しくは、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を記録する記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び情報記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の磁気記録媒体（以下、ディスクという）は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものがディスクとして採用され始めている。そのため、ディスクに情報を記録することが困難になっていた。
【０００３】
そこで、上述した不具合を解消するために、光を集光したスポット光、若しくは、光を集光した近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間にディスクへの書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置が提供されている。
特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることができる。
【０００４】
ハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして近接場光を利用して加熱を行う記録ヘッドが知られている（特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の記録ヘッドは、スライダと、スライダ上に配置された主磁極及び補助磁極を有する記録素子と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる近接場光発生素子と、レーザ光源から発せられたレーザ光を近接場光発生素子まで導く光導波路と、を主に備えている。
【０００５】
近接場光発生素子は、レーザ光を反射させながら伝播させるコア、及びコアに密着してコアを封止するクラッドを有する光束伝播素子と、コア及びクラッド間に配置されてレーザ光から近接場光を発生させる金属膜と、を有している。コアは、一端側から他端側に向かう長手方向（レーザ光の伝播方向）に直交する断面が三角形状に形成されるとともに、その断面積が長手方向に沿って漸次縮小するように絞り形成されている。
【０００６】
このように構成された記録ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、ディスクに各種の情報を記録している。具体的に、近接場光発生素子では、レーザ光源から照射されたレーザ光が光導波路を通ってコアの一端側からコアの内部に入射する。そして、コアに入射したレーザ光は、一端側から他端側に向かって集光しながら伝播し、コアの他端側においてレーザ光が金属膜によって近接場光に変換され、その近接場光によってディスクが加熱される。その結果、ディスクの磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。また、レーザ光の照射と同時に、記録素子に駆動電流を供給することで、主磁極に近接するディスクの磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。
これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光の熱アシストと磁場との協働により、ディスクへの記録を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２１７９６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、近時では、上述した記録ヘッドにおいて、例えばレーザ光源をスライダに直接搭載し、レーザ光源から出射されるレーザ光を近接場光発生素子のコア内に直接入射させる構成が検討されている。
【０００９】
しかしながら、上述した構成を採用するにあたって、以下のような問題が発生する。
すなわち、スライダに搭載するレーザ光源としては、例えば薄膜の半導体レーザチップ（以下、半導体レーザという）等を用いることが考えられる。この場合、半導体レーザから出射されるレーザ光のスポット形状は、楕円形状の拡散光線であるため、半導体レーザから出射されるレーザ光を全てコア内に入射させるには、コアの入射側端面の断面積を大型化しなければならない。
一方で、記録ヘッドの小型化を図るためには、コアの断面積を可能な限り小さくすることが好ましい。ところが、この場合にはレーザ光がコアに全て入射しきらず、レーザ光の損失が大きくなるため、十分な光量を得られないという問題がある。その結果、近接場光の発生効率が低下する。
【００１０】
そこで、本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び情報記録再生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述した課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る記録ヘッドは、一定方向に回転する磁気記録媒体の表面に対向配置されるスライダと、前記スライダに保持され、光源から出射された光束を前記磁気記録媒体の表面に向けて集光しながら伝播させる光束伝播素子と、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子と、を備えた記録ヘッドにおいて、前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記磁気記録媒体の方向に導くコアと、前記コアを内部に閉じ込めるクラッドと、を有し、前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さが、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成されていることを特徴としている。
【００１２】
この構成によれば、例えば半導体レーザ等、スポット形状が楕円形状の光束を導入させる場合であっても、光源から出射される光束を漏れなく導入できる。また、従来のコア形状（例えば、三角形状等）から相似形状で単に大きくする場合と異なり、コアの入射側端面における長手方向及び短手方向の長さを可能な限り小さくすることができる。
その結果、光束伝播素子の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
【００１３】
また、前記光源は、前記スライダに直接搭載されていることを特徴としている。
この構成によれば、スライダに直接光源を搭載することで、例えば光源から出射される光束を直接光束伝播素子に導入することができる。これにより、例えば光源を記録ヘッドの外部に設置した場合に比べて、光束を光束伝播素子まで導くための光導波路等を用いる必要がないので、光導波路等における光束の損失を考慮することがない。したがって、より十分な光量を光束電波素子に導入させることができる。
また、光導波路を設ける分のコスト及び製造工数を削減できる。
【００１４】
また、前記コアの前記入射側端面の形状は、多角形状に形成されていることを特徴としている。
また、前記コアの前記入射側端面の形状は、台形状に形成されていることを特徴としている。
また、前記コアの前記入射側端面の形状は台形状に形成される一方、出射側端面の形状は三角形状に形成されていることを特徴としている。
また、前記コアの前記入射側端面は、湾曲部を有していることを特徴としている。
この構成によれば、コアの入射側端面の形状を単に大きくする場合と異なり、小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
【００１５】
また、本発明に係る記録ヘッドの製造方法は、上記本発明の記録ヘッドの製造方法であって、前記スライダ上に前記クラッドのうち、第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、前記第１クラッド上に前記コアの母材を形成するコア形成工程と、前記コアの母材をパターニングするパターニング工程と、前記第１クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記クラッドのうち、第２クラッドを形成する第２クラッド形成工程と、を有し、前記パターニング工程では、前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さを、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合せてパターニングすることを特徴としている。
【００１６】
この構成によれば、コアにおける入射側端面の長手方向及び短手方向の長さを、光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成することで、光源から出射される光束を漏れなく導入できる。また、従来のコア形状（例えば、三角形状等）から相似形状で単に大きくする場合と異なり、コアの入射側端面における長手方向及び短手方向の長さを可能な限り小さくすることができる。
その結果、光束伝播素子の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
【００１７】
また、本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明の記録ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを先端側で支持するサスペンションと、前記サスペンションの基端側を支持するとともに、前記サスペンションを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、前記記録素子及び前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明の記録ヘッドを備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、記録ヘッド自体の書き込みの信頼性を高めることができ、高品質化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る記録ヘッド、及びその製造方法によれば、光束伝播素子の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
本発明に係る情報記録再生装置によれば、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態における情報記録再生装置の構成図である。
【図２】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。
【図３】図２に示すジンバルの平面図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図５】記録再生ヘッドの拡大断面図である。
【図６】記録再生ヘッドの流出端側（前側）の側面を拡大した断面図である。
【図７】図６の断面図であり、（ａ）はＢ−Ｂ線、（ｂ）はＣ−Ｃ線、（ｃ）はＤ−Ｄ線に沿う断面図である。
【図８】図８はコアの斜視図である。
【図９】情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図６に相当する拡大断面図である。
【図１０】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１１】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１２】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１３】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１４】第２実施形態における記録再生ヘッドの流出端側（前側）を拡大した断面図である。
【図１５】第３実施形態における記録再生ヘッドの流出端側（前側）を拡大した断面図である。
【図１６】図１５のＥ矢視図である。
【図１７】第４実施形態における記録再生ヘッドの流出端側（前側）を拡大した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
次に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、垂直記録層ｄ２を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、近接場光Ｒと記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式によりディスクＤに記録再生を行う装置である（図５参照）。
【００２１】
（第１実施形態）
（情報記録再生装置）
図１は情報記録再生装置の構成図である。
本実施形態の情報記録再生装置１は、図１に示すように、キャリッジ１１と、キャリッジ１１の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）１２と、ヘッドジンバルアセンブリ１２をディスク面Ｄ１（ディスクＤの表面）に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ５と、ディスクＤを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ６と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ１２の記録再生ヘッド（記録ヘッド）２に対して供給する制御部８と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。
【００２２】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されているとともに、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、スピンドルモータ６が取り付けられ、スピンドルモータ６に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。
【００２３】
凹部９ａの隅角部には、アクチュエータ５が取り付けられている。このアクチュエータ５には、ピボット軸１０を介してキャリッジ１１が取り付けられている。キャリッジ１１は、基端部から先端部に向けてディスク面Ｄ１に沿って延設されたアーム部１４と、基端部を介してアーム部１４を片持ち状に支持する基部１５とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部１５は、直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸１０まわりを回動可能に支持されている。つまり、基部１５はピボット軸１０を介してアクチュエータ５に連結されており、このピボット軸１０がキャリッジ１１の回転中心となっている。
【００２４】
アーム部１４は、基部１５におけるアクチュエータ５が取り付けられた側面１５ａと反対側の側面（隅角部の反対側の側面）１５ｂにおいて、基部１５の上面の面方向（ＸＹ方向）と平行に延出する平板状のものであり、基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３枚延出している。具体的には、アーム部１４は、基端部から先端部に向かうにつれ先細るテーパ形状に形成され、各アーム部１４間に、ディスクＤが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部１４とディスクＤとが、互い違いになるように配されており、アクチュエータ５の駆動によってアーム部１４がディスクＤの表面に平行な方向（ＸＹ方向）に移動可能とされている。なお、キャリッジ１１及びヘッドジンバルアセンブリ１２は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ５の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。
【００２５】
（ヘッドジンバルアセンブリ）
ヘッドジンバルアセンブリ１２は、後述する近接場光発生素子（光束伝播素子）２６を有する近接場光ヘッドである記録再生ヘッド２を支持するものである。
【００２６】
図２は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でサスペンションを記録再生ヘッド側から見た斜視図である。図３は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でジンバルを見た平面図である。図４は図３のＡ−Ａ’線に沿う断面図であり、図５は記録再生ヘッドの拡大断面図である。
図２〜図５に示すように、本実施形態のヘッドジンバルアセンブリ１２は、上述した記録再生ヘッド２をディスクＤから浮上させる機能を有しており、記録再生ヘッド２と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面Ｄ１に平行なＸＹ方向に移動可能なサスペンション３と、記録再生ヘッド２を、ディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態、すなわち２軸を中心として捻れることができるようにサスペンション３の下面に固定させるジンバル手段１６と、を備えている。
【００２７】
（サスペンション）
図２〜図４に示すように、上述したサスペンション３は、上面視略四角状に形成されたベースプレート５１と、ベースプレート５１の先端側にヒンジ板５２を介して連結された平面視略三角状のロードビーム５３と、で構成されている。
【００２８】
ベースプレート５１は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口５１ａが形成されている。そして、この開口５１ａを介してベースプレート５１がアーム部１４の先端に固定されている。
ベースプレート５１の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状のヒンジ板５２が配置されている。このヒンジ板５２は、ベースプレート５１の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート５１の先端からベースプレート５１の長手方向に沿って延出する延出部５２ａとして形成されている。この延出部５２ａは、ヒンジ板５２の幅方向両端部から２本延出しており、その先端部分にロードビーム５３が連結されている。
【００２９】
ロードビーム５３は、ベースプレート５１と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート５１の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板５２に連結されている。
これにより、サスペンション３は、ベースプレート５１とロードビーム５３との間を中心に屈曲して、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓み易くなっている。
【００３０】
また、サスペンション３上には、フレクシャ５４が設けられている。
このフレクシャ５４は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ５４は、ロードビーム５３の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル１７と、ジンバル１７より幅狭に形成され、ジンバル１７の基端からサスペンション３上に沿って延在する支持体１８とで構成されている。
【００３１】
ジンバル１７は、中間付近から先端にかけてディスク面Ｄ１に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム５３に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム５３に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル１７の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部５９が形成され、この切欠部５９に囲まれた部分には連結部１７ａによって片持ち状に支持されたパッド部１７ｂが形成されている。
つまり、このパッド部１７ｂは、連結部１７ａによってジンバル１７の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部５９を備えている。
【００３２】
これにより、パッド部１７ｂはジンバル１７の厚さ方向に撓みやすくなっており、このパッド部１７ｂのみがサスペンション３の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部１７ｂ上に上述した記録再生ヘッド２が載置固定されている。つまり、記録再生ヘッド２は、パッド部１７ｂを介してロードビーム５３にぶら下がった状態となっている。
【００３３】
また、図３，図４に示すように、ロードビーム５３の先端には、パッド部１７ｂ及び記録再生ヘッド２の略中心に向かって突出する突起部１９が形成されている。この突起部１９の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部１９は、記録再生ヘッド２がディスクＤから受ける風圧によりロードビーム５３側に浮上したときに、パッド部１７ｂの表面（上面）に点接触するようになっている。
つまり、突起部１９は、ジンバル１７のパッド部１７ｂを介して、記録再生ヘッド２を支持するとともに、ディスク面Ｄ１に向けて（Ｚ方向に向けて）記録再生ヘッド２に荷重を付与するようになっている。
なお、これら突起部１９とパッド部１７ｂを有するジンバル１７とが、ジンバル手段１６を構成している。
【００３４】
図２に示す支持体１８は、ジンバル１７に一体形成されたシート状のものであり、サスペンション３上をアーム部１４に向かって延設されている。つまり、支持体１８は、サスペンション３が変形した際にサスペンション３の変形に追従するように構成されている。また、この支持体１８は、アーム部１４上から側面に回りこんで、キャリッジ１１の基部１５に至るまで引き回されている。
【００３５】
（記録再生ヘッド）
図６は記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。
記録再生ヘッド２は、ディスクＤとサスペンション３との間に配置された状態で、サスペンション３の下面に後述するジンバル１７を挟んで支持されている。
具体的に、記録再生ヘッド２は、図５，図６に示すように、レーザ光Ｌから生成した近接場光Ｒを利用して回転するディスクＤに各種の情報を記録再生するヘッドである。記録再生ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態でディスクＤに対向配置されたスライダ２０と、ディスクＤに情報を記録する記録素子２１と、ディスクＤに記録されている情報を再生する再生素子２２と、レーザ光Ｌを集光しながら伝播するとともに、近接場光Ｒに生成した後に外部に発する近接場光発生素子２６と、近接場光発生素子２６に向けてレーザ光Ｌを出射するレーザ光源２９と、を備えている。
【００３６】
スライダ２０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。このスライダ２０は、ディスクＤに対向する対向面２０ａを有しており、後述するレーザマウント４３を介して上述したパッド部１７ｂに支持されている。
【００３７】
また対向面２０ａには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸条部２０ｂが形成されている。この凸条部２０ｂは、長手方向（Ｘ方向）に沿って延びるように形成されており、レール状に並ぶように間隔を空けて左右（Ｙ方向）に２つ形成されている。但し、凸条部２０ｂはこの場合に限定されるものではなく、スライダ２０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧と、スライダ２０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧と、を調整して、スライダ２０を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸条部２０ｂの表面はＡＢＳ（ＡＩＲ ＢＥＡＲＩＮＧ ＳＵＲＦＡＣＥ）２０ｃと呼ばれている。
【００３８】
そしてスライダ２０は、この２つの凸条部２０ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けている。一方、サスペンション３はディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に撓むようになっており、スライダ２０の浮上力を吸収している。つまり、スライダ２０は、浮上した際にサスペンション３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。よってスライダ２０は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈ離間した状態で浮上するようになっている。しかもスライダ２０は、ジンバル手段１６によってＸ軸回り及びＹ軸回りに回動するようになっているので、常に姿勢が安定した状態で浮上するようになっている。
なお、ディスクＤの回転に伴って生じる空気流は、スライダ２０の流入端側（サスペンション３のＸ方向基端側）から流入した後、ＡＢＳ２０ｃに沿って流れ、スライダ２０の流出端側（サスペンション３のＸ方向先端側）から抜けている。
以下、スライダ２０の流入端側（リーディングエッジ側）、つまり図５におけるＸ方向右側を「後方」とし、スライダ２０の流出端側（トレイリングエッジ側）、つまり図５におけるＸ方向左側を「前方」とする。また、記録再生ヘッド２に対してディスク面Ｄ１側、つまり図５におけるＺ方向下側を「下方」とし、その反対側、つまり図５におけるＺ方向上側を「上方」とする。
【００３９】
記録素子２１は、図５に示すディスク面Ｄ１に対向する対向面２１ａから記録磁界を発生させ、その記録磁界をディスクＤに作用させて情報を記録する素子であり、図６に示すように、スライダ２０の前方の端部に保持されている。この記録素子２１には、スライダ２０の前方の端面（前端面）に固定された補助磁極３１と、補助磁極３１の前方に配設されて磁気回路３２を介して補助磁極３１に接続された主磁極３３と、磁気回路３２を中心として磁気回路３２の周囲を螺旋状に巻回するコイル３４と、が備えられている。
つまり、スライダ２０の前端面から前方に向かって、補助磁極３１、磁気回路３２及びコイル３４、主磁極３３の順で並べて配置されている。
【００４０】
両磁極３１，３３及び磁気回路３２は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル３４は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路３２との間、両磁極３１，３３との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁体３５によってモールドされている。そして、コイル３４は、情報に応じて変調された電流が制御部８（図１参照）から供給されるようになっている。すなわち、磁気回路３２及びコイル３４は、全体として電磁石を構成している。また、上述した主磁極３３、補助磁極３１及び絶縁体３５のディスク面Ｄ１に対向する各対向面３３ａ，３１ａ，３５ａ（Ｚ方向端面）は、スライダ２０のＡＢＳ２０ｃとそれぞれ面一に形成されている。上述した構成の記録素子２１では、コイル３４に電流が供給されることで、磁力線が主磁極３３の対向面３３ａから出て補助磁極３１の対向面３１ａに入る記録磁界が発生する。
【００４１】
図５，図６に示すように、近接場光発生素子２６は、ディスク面Ｄ１に対向する対向面２６ａから近接場光Ｒを発生させる素子であり、記録素子２１の前方（図６に示す主磁極３３に対する補助磁極３１側の反対側）に配設されている。この近接場光発生素子２６は、先端をディスク面Ｄ１に向けて上下に延設されたコア２３と、コア２３の下端部における主磁極３３側の側面（側面２３ｇ）に密着して配置された金属膜２５と、コア２３の下端部を被覆する遮光膜２７と、コア２３の側面に密着してコア２３を封止するクラッド２４と、を備えている。
【００４２】
図７は図６の断面図であり、（ａ）はＢ−Ｂ線、（ｂ）はＣ−Ｃ線、（ｃ）はＤ−Ｄ線に沿う断面図である。また、図８はコアの斜視図である。
図７，図８に示すように、コア２３は、上端側（基端側）から入射されたレーザ光Ｌを下端側（先端側）に向けて集光しながら伝播させる光束伝播部材である。このコア２３は、上端側から下端側にかけて漸次絞り成形され、レーザ光Ｌを内部で徐々に集光させながら伝播させることができるようになっている。具体的に説明すると、コア２３は、上側から光束集光部２３ａと、近接場光生成部２３ｂと、を有している。
【００４３】
光束集光部２３ａは、上端側から下端側に向かうＺ方向に直交する断面積（ＸＹ方向の断面積）が漸次減少するように絞り成形された部分であり、導入されたレーザ光Ｌを集光させながら下方に向けて伝播させている。つまり、光束集光部２３ａに導入されたレーザ光Ｌのスポットサイズを、徐々に小さいサイズに絞ることができるようになっている。具体的に、光束集光部２３ａは、上端側においてＺ方向から見た断面形状（入射側端面）が台形状に形成された台形部４１（図７（ｃ）参照）と、台形部４１の下端部に一体的に連結されＺ方向から見た断面形状が三角形状に形成された三角形部４２（図７（ｂ）参照）と、で構成されている。
【００４４】
図７（ｃ），図８に示すように、台形部４１は、左右方向を長手方向（Ｙ方向）、前後方向（Ｘ方向）を短手方向とした扁平形状に形成されている。具体的に、台形部４１は、後側の側面２３ｇと、側面２３ｇの左右両端（Ｙ方向両端）から再生素子２２に向かって先細るように延在する一対の側面２３ｋと、側面２３ｇと平行に延在するとともに、一対の側面２３ｋ同士を掛け渡す側面２３ｊと、で構成されている。台形部４１は、下端側に向けて両底面（後側の側面２３ｇ及び前側の側面２３ｊ）の長さ（Ｙ方向における幅）が漸次減少するように形成されている。また、台形部４１の上端面４１ａ（コア２３の上端面）は、スライダ２０の上面と面一に形成され、外部に向けて露出している。
【００４５】
図７（ｂ），図８に示すように、三角形部４２は、底面及び一対の斜面が上述した側面２３ｇ及び側面２３ｋにより構成されている。三角形部４２は、下端側に向けて底面（側面２３ｇ）の長さ、及び斜面（側面２３ｋ）の長さが漸次減少するように形成されている。
【００４６】
図７（ａ），図８に示すように、近接場光生成部２３ｂは、光束集光部２３ａにおける三角形部４２の下端部から下方に向けてさらに絞り成形された部分である。近接場光生成部２３ｂはＺ方向から見た断面形状（出射側端面）が三角形状に形成されている。具体的に、近接場光生成部２３ｂは、底面が側面２３ｇにより構成され、この側面２３ｇが主磁極３３に対向配置されている。近接場光生成部２３ｂは、側面２３ｇの両端（Ｙ方向両端）から再生素子２２に向かって（Ｘ方向に向かって）一対の側面２３ｄが形成されている。側面２３ｄは、レーザ光Ｌの光軸（Ｚ方向）に対して傾斜した状態で延在しており、これにより近接場光生成部２３ｂは下端側が尖形した状態となっている。また、近接場光生成部２３ｂの下端側で外部に露出する端面２３ｅが三角形状に形成されている。この端面２３ｅは記録素子２１の対向面２１ａ（主磁極３３、補助磁極３１及び絶縁体３５の各対向面３３ａ，３１ａ，３５ａ）や、スライダ２０のＡＢＳ２０ｃと面一に形成されている。すなわち、コア２３において、台形部４１の上端面４１ａがレーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌの入射側端面を、近接場光生成部２３ｂの端面２３ｅがレーザ光Ｌの出射側端面を構成している。
【００４７】
クラッド２４は、図６，図７に示すように、コア２３よりも屈折率が低い材料で形成され、側面２３ｄ，２３ｇ，２３ｊ，２３ｋに密着する一方、コア２３の上下両端面４１ａ，２３ｅを外部に露出させた状態でコア２３を封止するモールド部材である。具体的に、クラッド２４は、コア２３と記録素子２１（主磁極３３）との間でコア２３を後側から覆うように形成された第１クラッド２４ａと、コア２３と再生素子２２との間でコア２３を前側から覆うように形成された第２クラッド２４ｂと、を備えている。このように、第１クラッド２４ａ及び第２クラッド２４ｂがコア２３の側面２３ｄ，２３ｇ，２３ｊ，２３ｋに密着しているので、コア２３とクラッド２４との間に隙間が生じないようになっている。
【００４８】
なお、クラッド２４及びコア２３として使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英（ＳｉＯ2）でコア２３を形成し、フッ素をドープした石英でクラッド２４を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、レーザ光Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コア２３の屈折率が１．４７となり、クラッド２４の屈折率が１．４７未満となるので好ましい組み合わせである。
また、ゲルマニウムをドープした石英でコア２３を形成し、石英（ＳｉＯ2）でクラッド２４を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、レーザ光Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コア２３の屈折率が１．４７より大きくなり、クラッド２４の屈折率が１．４７となるのでやはり好ましい組み合わせである。
特に、コア２３とクラッド２４との屈折率差が大きいほど、コア２３内にレーザ光Ｌを閉じ込める力が大きくなるので、コア２３に酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5：波長が５５０ｎｍのときに屈折率が２．１６）を用い、クラッド２４に石英やアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域のレーザ光Ｌを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン（Ｓｉ：屈折率が約４）でコア２３を形成することも有効である。
【００４９】
金属膜２５は、図６，図７（ａ）に示すように、コア２３内を伝播してきたレーザ光Ｌから近接場光Ｒ（図９参照）を発生させ、近接場光Ｒを近接場光発生素子２６の対向面２６ａ（図５参照）と図５に示すディスク面Ｄ１との間に局在化させるものであり、例えば金（Ａｕ）や白金（Ｐｔ）等により構成されている。金属膜２５は、コア２３における下端側（近接場光生成部２３ｂ）の側面２３ｇ上に配置され、第１クラッド２４ａ及び第１クラッド２４ａから露出する主磁極３３の先端部分３３ｂに接している。
【００５０】
遮光膜２７は、外部から近接場光生成部２３ｂに入射される光を遮断するためのものであり、アルミニウム（Ａｌ）等の高反射率の材料からなる。この遮光膜２７は、近接場光生成部２３ｂの側面２３ｄを覆うように形成されている。すなわち、近接場光生成部２３ｂは、側面２３ｇが金属膜２５に覆われ、側面２３ｄが遮光膜２７に覆われている。なお、本実施形態において、遮光膜２７は、Ｚ方向における金属膜２５よりも広範囲に亘って形成されているが、Ｚ方向において金属膜２５と同等以上の範囲で形成されていれば構わない。
【００５１】
再生素子２２は、ディスクＤの垂直記録層ｄ２（図５参照）から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜であり、近接場光発生素子２６を間に挟んで記録素子２１とは反対側のクラッド２４（第２クラッド２４ｂ）の前端面に形成されている。この再生素子２２には、後述する電気配線５６を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。
【００５２】
上述した記録再生ヘッド２のスライダ２０には、レーザ光源２９が搭載されている。レーザ光源２９は、スライダ２０の上面に固定されたレーザマウント４３と、レーザマウント４３の前端面４３ａに固定された半導体レーザチップ４４と、を有している。
【００５３】
レーザマウント４３は、例えばスライダ２０と同一材料により構成され、ＸＹ方向における外形がスライダ２０と同等に形成された板状の部材であり、上面側がジンバル１７の後述するパッド部１７ｂに固定されている。すなわち、スライダ２０は、パッド部１７ｂとの間にレーザマウント４３を挟持した状態でパッド部１７ｂに固定されている。なお、図示しないがレーザマウント４３には、後述する電気配線５６（図５参照）が固定されており、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された図示しない電極パッドに電気的に接続されている。
【００５４】
半導体レーザチップ４４は、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された図示しない電極パッド上に実装されている。この場合、半導体レーザチップ４４は、レーザ光Ｌの出射側端面４４ａを下方に向けた状態で、かつコア２３の台形部４１の上端面４１ａに対向するように配置されている。なお、本実施形態の半導体レーザチップ４４は、スポット形状がＸ方向を短軸方向、Ｙ方向を長軸方向とした楕円形状のレーザ光Ｌを出射する。また、半導体レーザチップ４４の出射側端面４４ａと、台形部４１の上端面４１ａとの間に間隔Ｋを有しているが、この間隔Ｋ内にコア２３と同等の屈折率を有するオイル等を介在させても構わない。
【００５５】
ここで、上述した台形部４１の上端面４１ａの形状は、半導体レーザチップ４４から出射されて上端面４１ａに入射する時点のレーザ光Ｌのスポット形状に合わせて形成されている。本実施形態では、図７（ｃ）に示すように、上端面４１ａの短手方向（前後方向）の長さＴ１（側面２３ｇ、２３ｈ間の長さ）がレーザ光Ｌの短軸方向の長さ以上に形成され、前後方向中央部における長手方向（左右方向）の幅Ｔ２がレーザ光Ｌの長軸方向の長さ以上に形成されている。
【００５６】
なお、本実施形態のディスクＤは、図５に示すように、ディスク面Ｄ１に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層ｄ２と、高透磁率材料からなる軟磁性層ｄ３との少なくとも２層で構成される垂直２層膜ディスクＤを使用する。このようなディスクＤとしては、例えば、基板ｄ１上に、軟磁性層ｄ３と、中間層ｄ４と、垂直記録層ｄ２と、保護層ｄ５と、潤滑層ｄ６とを順に成膜したものを使用する。
基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層ｄ３は、高透磁率層である。中間層ｄ４は、垂直記録層ｄ２の結晶制御層である。垂直記録層ｄ２は、垂直異方性磁性層となっており、例えばＣｏＣｒＰｔ系合金が使用される。保護層ｄ５は、垂直記録層ｄ２を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ６は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００５７】
ところで、図１に示すように、キャリッジ１１の基部１５における側面１５ｃには、ターミナル基板５５が配置されている。このターミナル基板５５は、ハウジング９に設けられた制御部８と記録再生ヘッド２とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路（不図示）が形成されている。
制御部８とターミナル基板５５とは、可撓性を有するフラットケーブル４により電気的に接続されている一方、ターミナル基板５５と記録再生ヘッド２とは、電気配線５６により接続されている。この電気配線５６は、各キャリッジ１１毎に設けられた記録再生ヘッド２に対応して３組設けられており、フラットケーブル４を介して制御部８から出力された信号に情報に応じて変調した電流が、電気配線５６を介して記録再生ヘッド２に供給されるようになっている。
【００５８】
電気配線５６は、ターミナル基板５５の表面からアーム部１４の側面を通って、アーム部１４上に引き回されている。具体的には、図２〜図４に示すように、電気配線５６は、アーム部１４及びサスペンション３上において、フレクシャ５４の支持体１８上に配置されており、支持体１８を間に挟んだ状態でサスペンション３の先端まで引き回されている。
【００５９】
そして、電気配線５６は、サスペンション３の先端（ジンバル１７の中間位置）において再生素子２２及び記録素子２１に電流を供給するための第１電気配線５７と、レーザ光源２９に電流を供給するための第２電気配線５８と、に分岐している。
具体的に、第１電気配線５７は、電気配線５６の先端側における分岐地点において、ジンバル１７の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル１７の外周部分（切欠部５９の外側）から引き回されている。そして、切欠部５９の外側から引き回された第１電気配線５７は、連結部１７ａ上を通って記録再生ヘッド２の前端面側に接続されている。すなわち、第１電気配線５７は、スライダ２０の前端面側に設けられた再生素子２２と記録素子２１とのそれぞれに対して、記録再生ヘッド２の外部から直接接続されている。
【００６０】
一方、第２電気配線５８は、上述した分岐地点からジンバル１７の長手方向（Ｘ方向）に沿って延在しており、ジンバル１７の切欠部５９を跨いで記録再生ヘッド２の後端面側から、レーザマウント４３に直接接続されている。そして、第２電気配線５８は、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された電極パッドに接続され、この電極パッドを介して半導体レーザチップ４４に電流を供給するようになっている。また、第２電気配線５８は、分岐地点においてジンバル１７の下面から離間されており、分岐地点から記録再生ヘッド２の前端面側に向かうにつれ、パッド部１７ｂとジンバル１７との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。つまり、ジンバル１７の下面において、第２電気配線５８は略直線的（曲率半径が略無限大）に延在した状態で、記録再生ヘッド２の幅方向（Ｙ方向）中央部から記録再生ヘッド２の後側に引き回されている。
【００６１】
（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
まず、図１に示すように、スピンドルモータ６を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ５を作動させて、キャリッジ１１を介してサスペンション３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、ディスクＤ上の所望する位置に記録再生ヘッド２を位置させることができる。この際、記録再生ヘッド２は、スライダ２０の対向面２０ａに形成された２つの凸条部２０ｂによって浮上する力を受けるとともに、サスペンション３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。記録再生ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００６２】
また、記録再生ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、サスペンション３によってＺ方向の変位が吸収されるとともに、ジンバル１７によってＸＹ軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、記録再生ヘッド２を安定した状態で浮上させることができる。
【００６３】
図９は情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図６に相当する拡大断面図である。
ここで、情報の記録を行う場合、図９に示すように、制御部８はレーザ光源２９を作動させてレーザ光Ｌを出射させるとともに、情報に応じて変調した電流をコイル３４に供給して記録素子２１を作動させる。
まず、レーザ光源２９からレーザ光Ｌを出射し、このレーザ光Ｌをコア２３の上端面４１ａからコア２３の光束集光部２３ａ内に入射させる。光束集光部２３ａを伝播するレーザ光Ｌは、ディスクＤ側に位置する下端側に向かってコア２３とクラッド２４との間で全反射を繰り返しながら伝播する。特に、コア２３の側面２３ｋ，２３ｄにはクラッド２４が密着しているので、コア２３の外部に光が漏れることはない。よって、導入されたレーザ光Ｌを無駄にすることなく絞りながら下端側に伝播させて、近接場光生成部２３ｂに入射させることができる。
この際、コア２３は、Ｚ方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形されている。そのため、レーザ光Ｌは光束集光部２３ａ内を伝播するにしたがって徐々に絞り込まれてスポットサイズが小さくなる。
【００６４】
スポットサイズが小さくなったレーザ光Ｌは、続いて、近接場光生成部２３ｂに入射する。この近接場光生成部２３ｂは、下端側に向けてさらに絞り成形されており、端面２３ｅが光の波長以下のサイズとされている。この場合、近接場光生成部２３ｂの２つの側面２３ｄは、遮光膜２７によって遮光されている。よって、近接場光生成部２３ｂに入射したレーザ光Ｌは、第２クラッド２４ｂ側に漏れることなく、遮光膜２７と近接場光生成部２３ｂとの界面で反射されながら伝播する。そして、近接場光生成部２３ｂを伝播するレーザ光Ｌが金属膜２５に入射すると、金属膜２５には表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、共鳴効果によって増強されながら金属膜２５とコア２３（近接場光生成部２３ｂ）との界面に沿いながら、コア２３の下端側に向かって伝播する。そして、下端側に達した時点で、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。つまり、近接場光発生素子２６の下端側とディスクＤとの間に近接場光Ｒを局在化させることができる。するとディスクＤは、この近接場光Ｒによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００６５】
一方、制御部８によってコイル３４に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路３２内に磁界を発生させるので、主磁極３３と補助磁極３１との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、主磁極３３側から発生した磁束が、ディスクＤの垂直記録層ｄ２を真直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ３に達する。これによって、垂直記録層ｄ２の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層ｄ３に達した磁束は、軟磁性層ｄ３を経由して補助磁極３１に戻る。この際、補助磁極３１に戻るときには磁化の方向に影響を与えることはない。これは、ディスク面Ｄ１に対向する補助磁極３１の面積が、主磁極３３よりも大きいので磁束密度が大きく磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極３３側でのみ記録を行うことができる。
【００６６】
その結果、近接場光Ｒと両磁極３１，３３で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００６７】
また、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、ディスクＤの保磁力が一時的に低下している時に、再生素子２２がディスクＤの垂直記録層ｄ２から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子２２の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、ディスクＤに記録されている情報の再生を行うことができる。
【００６８】
（記録再生ヘッドの製造方法）
次に、上述した近接場光発生素子２６を有する記録再生ヘッド２の製造方法について説明する。図１０〜図１３は図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。なお、図１０〜図１３において、（ａ）は図７（ｃ）に相当し、（ｂ）は図７（ａ）に相当している。また、以下の説明では、記録再生ヘッド２の製造工程のうち、主として近接場光発生素子の製造工程について具体的に説明する。
本実施形態では、スライダ２０となる基板１２０（例えば、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等）上に記録素子２１、近接場光発生素子２６、及び再生素子２２を順に形成した後、ダイシングすることで、記録再生ヘッド２を製造する。
【００６９】
まず図１０に示すように、基板１２０上に記録素子２１（図６参照）を形成し、絶縁体３５でモールドする。その後、絶縁体３５上に近接場光発生素子２６及び金属膜２５の母材を成膜する（第１クラッド形成工程、及びコア形成工程）。具体的には、基板１２０（絶縁体３５）上に第１クラッド２４ａ、金属膜２５（例えば、２０ｎｍ程度）、コア２３（数μｍ程度）の順で母材（第１クラッド母材１２４ａ、金属膜母材１２５、及びコア母材１２３）を成膜する。なお、各母材１２４ａ，１２５，１２３の成膜後には、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ)等でそれぞれの表面を研磨して、平坦面とする。
【００７０】
なお、金属膜母材１２５は、第１クラッド母材１２４ａ上の全面に成膜した後、所定の領域のみ残存するように予めパターニングしておくことが好ましい。本実施形態では、少なくともＺ方向において、コア母材１２３における近接場光生成部２３ｂ（図６参照）に相当する領域に残存するように（光束集光部２３ａ（図６参照）に相当する領域の金属膜母材１２５を除去するように）金属膜母材１２５をパターニングしている。この場合、図１０（ｂ）に示すように、近接場光生成部２３ｂに相当する領域では、コア母材１２３と第１クラッド母材１２４ａとの間に金属膜母材１２５が挟持され、図１０（ａ）に示すように、それ以外の領域では、コア母材１２３と第１クラッド母材１２４ａとが密着することになる。
【００７１】
続いて、図１１に示すように、コア母材１２３上にフォトリソグラフィ技術を用いてコア母材１２３を除去すべき領域が開口したマスクパターン（不図示）を形成し、このマスクパターンを介して反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行う（第１パターニング工程）。これにより、マスクパターンが開口した領域のコア母材１２３が垂直にエッチングされ、Ｚ方向から見て矩形状のコア母材１２３が形成される。また、コア母材１２３は、Ｘ方向から見て上端側から下端側にかけて先細る台形状に形成される。
【００７２】
次に、図１２に示すように、アルゴン（Ａｒ）等のプラズマ中でコア母材１２３及び金属膜母材１２５をスパッタエッチングする（第２パターニング工程）。第２パターニング工程において、断面矩形状のコア母材１２３をスパッタエッチングすると、コア母材１２３の各角部が選択的にエッチングされて斜面が形成される。そして、この状態でさらにエッチングを続けると、斜面が底面（図７中側面２３ｇに相当）に対して一定の角度を保ちながらエッチングされる。
その後、さらにエッチングを続けると、コア母材１２３は相似形を保ちながら幅（Ｙ方向における幅）、及び高さ（Ｘ方向における高さ）が縮小する。
【００７３】
なお、この状態でさらにエッチングを続けると、コア２３は相似形を保ったままエッチングされるとともに、金属膜母材１２５がエッチングされる。これにより、コア２３の側面２３ｇと同一の幅を有する金属膜２５が形成される。
このように、第１パターニング工程で矩形状に形成したコア母材１２３に対してスパッタエッチングを行うことで、Ｚ方向から見て任意の幅や高さにコア２３を形成することができる。この際、図１２（ａ）に示すように、コア母材１２３において、光束集光部２３ａの上端部に相当する領域で頂面（側面２３ｊ）を残存させることで、コア２３の上端側をＺ方向から見た断面形状が台形状に形成された台形部４１を形成できる。
【００７４】
次に、図１３に示すように、コア２３を覆うように遮光膜２７を形成する（遮光膜形成工程）。具体的には、コア２３の側面２３ｄにおける近接場光生成部２３ｂに相当する領域に、遮光膜２７が残存するようにパターニングする。
そして、コア２３及び遮光膜２７を覆うように、第２クラッド２４ｂを形成する（第２クラッド形成工程）。その後、ＣＭＰ等で第２クラッド２４ｂの表面を研磨して、平坦面に形成する。そして、第２クラッド２４ｂ上に再生素子２２を形成する。これにより、基板１２０上に記録素子２１、近接場光発生素子２６、及び再生素子２２が形成される。
【００７５】
続いて、基板１２０を短冊状にダイシングして、一方向（Ｙ方向）に沿って複数のスライダ２０が連なった状態のバー（不図示）を形成する。その後、ダイシングしたバーの側面（切断面）を研磨する（研磨工程）。
【００７６】
その後、各スライダ２０ごとの大きさになるようにバーを切断する（スライダ工程）。
最後に、スライダ２０の上面にレーザ光源２９を搭載する。具体的には、半導体レーザチップ４４が、レーザ光Ｌの出射側端面を下方に向けた状態で、かつコア２３の台形部４１の上端面４１ａに対向するように配置する。
以上により、上述した近接場光発生素子２６を有する記録再生ヘッド２が完成する。
【００７７】
このように、本実施形態では、コア２３の上端面４１ａの長手方向及び短手方向の長さを、コア２３に入射するレーザ光Ｌの長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成する構成とした。
この構成によれば、例えば半導体レーザ等、スポット形状が楕円形状のレーザ光Ｌを導入させる場合であっても、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを漏れなく導入できる。また、単に従来のコア形状（例えば、三角形状等）を大きくする場合と異なり、コア２３の上端面４１ａにおける長手方向及び短手方向の長さを可能な限り小さくすることができる。
その結果、コア２３の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができ、近接場光Ｒの発生効率を向上させることができる
【００７８】
また、スライダ２０に直接レーザ光源２９を搭載することで、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを直接コア２３に導入することができる。これにより、例えばレーザ光源を記録再生ヘッドの外部に設置した場合と異なり、レーザ光Ｌをコア２３まで導くための光導波路等を用いる必要がないので、光導波路等におけるレーザ光の損失を考慮することがない。したがって、より十分な光量をコア２３に導入させることができる。また、光導波路を設ける分のコスト及び製造工数を削減できる。
【００７９】
そして、本発明の情報記録再生装置１は、上述した記録再生ヘッド２を備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、情報の記録再生を正確且つ高密度に行うことができ、高品質化を図ることができる。
【００８０】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図１４は、第２実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図である。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明は省略する。本実施形態では、コア２３の下端側を２層構造とした点で上述した第１実施形態と相違している。
図１４に示すように、本実施形態の記録再生ヘッド２は、スライダ２０の前端面上にＸ方向に沿って近接場光発生素子２６、記録素子２１、及び再生素子２２が順に配置されている。
【００８１】
近接場光発生素子２６のコア２３の下端側は、Ｚ方向から見て三角形状の第１コア６４と、第１コア６４を覆うように形成された第２コア６５と、で構成されている。この場合、第１コア６４は、Ｚ方向において、スライダ２０の前端面の全域に形成され、コア２３の全体（上述した光束集光部２３ａから近接場光生成部２３ｂ）を構成している。一方、第２コア６５は、Ｚ方向において、第１コア６４の下端側を覆うように形成され、光束集光部２３ａの下端側から近接場光生成部２３ｂを構成している。なお、第２コア６５の形成領域は、上述した範囲に限られず、第１コア６４全体を覆うように形成しても構わない。
【００８２】
また、記録素子２１は、第２クラッド２４ｂ内にモールドされるとともに、主磁極３３の先端部分３３ｂは、コア２３の側面２３ｄ（図７（ａ）参照）を覆うように配置されている。すなわち、本実施形態の主磁極３３の先端部分３３ｂは、上述した遮光膜２７（図７参照）と同様の役割も兼ねている。
【００８３】
この構成によれば、スライダ２０の側面上において、ディスクＤの回転方向に沿って近接場光発生素子２６、記録素子２１、及び再生素子２２が配置されることになる。この場合、ディスクＤは、先に近接場光発生素子２６から発生した近接場光Ｒにより加熱された後、保持力が確実に低下した状態で、記録素子２１の下方を通過するため、ディスクＤへの記録をスムーズ、かつ高精度に行うことができる。
【００８４】
特に、本実施形態では、第１コア６４を覆うように第２コア６５を形成することで、第１コア６４に合わせて形成される金属膜２５の幅がコア２３全体（第１コア６４及び第２コア６５）の側面２３ｇの幅に比べて狭く形成されることになる。そのため、コア２３内を伝播するレーザ光Ｌの伝播効率の低下を抑制した上で、近接場光Ｒのスポットサイズの縮小化を図ることができる。これにより、光量を確保した上で、近接場光Ｒのスポットサイズを縮小できるので、ディスクＤをより局所的に加熱することができる。
【００８５】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図１５は、第３実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図であり、図１６は図１５のＥ矢視図である。
図１５，図１６に示すように、本実施形態の記録再生ヘッド２は、記録素子２１におけるコイル３４と主磁極３３との間に近接場光発生素子２６が配置されている。本実施形態における記録素子２１は、第１クラッド２４ａ内にモールドされた補助磁極３１及びコイル３４と、第２クラッド２４ｂ内にモールドされた主磁極３３と、補助磁極３１及び主磁極３３の間に配置されたヨーク１３５と、を備えている。
【００８６】
補助磁極３１は、再生素子２２上に配置されるとともに、Ｘ方向に沿って延在するヨーク１３５の一端側が接続されている。コイル３４は、ヨーク１３５を中心としてヨーク１３５の周囲に螺旋状に形成されている。また、ヨーク１３５には、Ｚ方向に貫通する貫通孔１３５ａが形成され、この貫通孔１３５ａ内を貫通するようにコア２３が配置されている。そして、ヨーク１３５の下端（コア２３を間に挟んで補助磁極３１の反対側）には、主磁極３３が接続されている。
【００８７】
ところで、上述したようにディスクＤの回転時において、記録再生ヘッド２が凸条部２０ｂによって浮上する力を受けると、ディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する（図２参照）。このとき、浮上時のスライダ２０の姿勢についてより詳細に説明すると、スライダ２０はディスク面Ｄ１に対して水平ではなく、僅かに傾いている。具体的には、スライダ２０の流出端側がディスクＤに最も接近した状態で、ディスク面Ｄ１とスライダ２０のＡＢＳ２０ｃとのなす角度が微小角度を保つように傾いている。
【００８８】
そこで、本実施形態によれば、スライダ２０における最も前端側に、近接場光発生素子２６と主磁極３３とを配置できるので、近接場光発生素子２６による近接場光Ｒと、主磁極３３による磁界をディスクＤに最も接近した状態で発生させることができる。これにより、ディスクＤへの記録をスムーズ、かつ高精度に行うことができる。
【００８９】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について説明する。図１７は、第４実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図である。上述した各実施形態では半導体レーザチップ４４から下方に向けてレーザ光Ｌを出射する構成について説明したが、本実施形態では、レーザ光Ｌを前方に向けて出射する構成について説明する。
図１７に示すように、本実施形態のレーザ光源１２９は、スライダ２０の上面に搭載された半導体レーザチップ１４４を備えている。半導体レーザチップ１４４は、レーザ光Ｌの出射側端面を前方に向けた状態で配置されている。なお、本実施形態の半導体レーザチップ１４４は、スポット形状がＹ方向を長軸方向、Ｚ方向を短軸方向とした楕円形状のレーザ光Ｌを出射する。
【００９０】
また、半導体レーザチップ４４の出射端面側には、マイクロミラー１５０が設けられている。そのため、半導体レーザチップ４４から出射されたレーザ光Ｌは、マイクロミラー１５０で９０度反射されてコア２３内に導入されるようになっている。この場合、上端面４１ａの短手方向（前後方向）の長さＴ１（側面２３ｇ、２３ｈ間の長さ）がスポット形状の短軸方向の長さ以上に形成され、前後方向中央部における長手方向の幅Ｔ２がスポット形状の長軸方向の長さ以上に形成されている（図７（ｃ）参照）。
【００９１】
このように、半導体レーザチップ４４から出射されるレーザ光Ｌの出射方向を前方に向けることで、従来のように出射方向を下方に向けて配置する場合に比べ記録再生ヘッド２の上下方向（Ｚ方向）の幅を縮小できる。
【００９２】
なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、上述した実施形態で挙げた構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上述の実施形態では、記録再生ヘッドを浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面に対向配置されていればディスクと記録再生ヘッドとが接触していても構わない。つまり、本発明の記録再生ヘッドは、コンタクトスライダタイプの記録再生ヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
また、各実施形態を適宜組み合わせても構わない。
【００９３】
また、上述した実施形態では、本発明の記録再生ヘッド２をディスクＤに対して垂直な記録磁界を与える垂直磁気記録方式に採用する場合について説明したが、これに限らず、ディスクＤに対して水平な記録磁界を与える面内記録方式に採用しても構わない。
【００９４】
また、上述した実施形態では、第１パターニング工程においてコア母材１２３に対して垂直エッチングを行い、第２パターニング工程においてコア母材１２３の角部を除去する傾斜エッチングを行うことで、本実施形態のコア２３を形成した。しかしながら、これに限らず基板１２０上に形成されたコア母材１２３に対して一回のエッチングでコア２３を形成しても構わない。
【００９５】
さらに、金属膜２５と第１クラッド２４ａとの間にも遮光膜２７を形成しても構わない。すなわち、コア２３の全周に亘って遮光膜２７を形成しても構わない。この場合には、金属膜２５でプラズモン共鳴を起こさずに、金属膜２５を透過してしまったレーザ光Ｌを反射させてコア２３内に戻すことで、再び金属膜２５に入射させることができる。これにより、近接場光Ｒの発生効率をより向上できる。
【００９６】
また、本実施形態のコア２３（台形部４１）の上端面４１ａの形状は、レーザ光Ｌのスポット径に合わせて適宜設計変更が可能である。さらに、上端面４１ａの形成は、台形状に限らず、矩形状や五角形状、六角形状等の多角形状、若しくは円形状や楕円形状、扇形状等の湾曲部を有する形状等、適宜設計変更が可能である。
また、スライダ２０の上面側にレーザ光源２９を直接搭載せずに、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを光導波路を介して近接場光発生素子２６する構成にしても構わない。
【符号の説明】
【００９７】
１…情報記録再生装置 ２…記録再生ヘッド（記録ヘッド） ３…サスペンション ５…アクチュエータ ６…スピンドルモータ（回転駆動部） ８…制御部 ２０…スライダ ２１…記録素子 ２３…コア ２４…クラッド ２４ａ…第１クラッド ２４ｂ…第２クラッド ２６…近接場光発生素子（光束伝播素子） ４３…レーザ光源（光源） Ｄ…ディスク（磁気記録媒体） １２３…コア母材 １２４ａ…第１クラッド母材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を集光したスポット光、若しくは、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を記録する記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び情報記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の磁気記録媒体（以下、ディスクという）は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものがディスクとして採用され始めている。そのため、ディスクに情報を記録することが困難になっていた。
【０００３】
そこで、上述した不具合を解消するために、光を集光したスポット光、若しくは、光を集光した近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間にディスクへの書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置が提供されている。
特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることができる。
【０００４】
ハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして近接場光を利用して加熱を行う記録ヘッドが知られている（特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の記録ヘッドは、スライダと、スライダ上に配置された主磁極及び補助磁極を有する記録素子と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる近接場光発生素子と、レーザ光源から発せられたレーザ光を近接場光発生素子まで導く光導波路と、を主に備えている。
【０００５】
近接場光発生素子は、レーザ光を反射させながら伝播させるコア、及びコアに密着してコアを封止するクラッドを有する光束伝播素子と、コア及びクラッド間に配置されてレーザ光から近接場光を発生させる金属膜と、を有している。コアは、一端側から他端側に向かう長手方向（レーザ光の伝播方向）に直交する断面が三角形状に形成されるとともに、その断面積が長手方向に沿って漸次縮小するように絞り形成されている。
【０００６】
このように構成された記録ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、ディスクに各種の情報を記録している。具体的に、近接場光発生素子では、レーザ光源から照射されたレーザ光が光導波路を通ってコアの一端側からコアの内部に入射する。そして、コアに入射したレーザ光は、一端側から他端側に向かって集光しながら伝播し、コアの他端側においてレーザ光が金属膜によって近接場光に変換され、その近接場光によってディスクが加熱される。その結果、ディスクの磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。また、レーザ光の照射と同時に、記録素子に駆動電流を供給することで、主磁極に近接するディスクの磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。
これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光の熱アシストと磁場との協働により、ディスクへの記録を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２１７９６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、近時では、上述した記録ヘッドにおいて、例えばレーザ光源をスライダに直接搭載し、レーザ光源から出射されるレーザ光を近接場光発生素子のコア内に直接入射させる構成が検討されている。
【０００９】
しかしながら、上述した構成を採用するにあたって、以下のような問題が発生する。
すなわち、スライダに搭載するレーザ光源としては、例えば薄膜の半導体レーザチップ（以下、半導体レーザという）等を用いることが考えられる。この場合、半導体レーザから出射されるレーザ光のスポット形状は、楕円形状の拡散光線であるため、半導体レーザから出射されるレーザ光を全てコア内に入射させるには、コアの入射側端面の断面積を大型化しなければならない。
一方で、記録ヘッドの小型化を図るためには、コアの断面積を可能な限り小さくすることが好ましい。ところが、この場合にはレーザ光がコアに全て入射しきらず、レーザ光の損失が大きくなるため、十分な光量を得られないという問題がある。その結果、近接場光の発生効率が低下する。
【００１０】
そこで、本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び情報記録再生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述した課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る記録ヘッドは、一定方向に回転する磁気記録媒体の表面に対向配置されるスライダと、前記スライダに保持され、光源から出射された光束を前記磁気記録媒体の表面に向けて集光しながら伝播させる光束伝播素子と、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子と、を備えた記録ヘッドにおいて、前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記磁気記録媒体の方向に導くコアと、前記コアを内部に閉じ込めるクラッドと、を有し、前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さが、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成されていることを特徴としている。
【００１２】
この構成によれば、例えば半導体レーザ等、スポット形状が楕円形状の光束を導入させる場合であっても、光源から出射される光束を漏れなく導入できる。また、従来のコア形状（例えば、三角形状等）から相似形状で単に大きくする場合と異なり、コアの入射側端面における長手方向及び短手方向の長さを可能な限り小さくすることができる。
その結果、光束伝播素子の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
【００１３】
また、前記光源は、前記スライダに直接搭載されていることを特徴としている。
この構成によれば、スライダに直接光源を搭載することで、例えば光源から出射される光束を直接光束伝播素子に導入することができる。これにより、例えば光源を記録ヘッドの外部に設置した場合に比べて、光束を光束伝播素子まで導くための光導波路等を用いる必要がないので、光導波路等における光束の損失を考慮することがない。したがって、より十分な光量を光束電波素子に導入させることができる。
また、光導波路を設ける分のコスト及び製造工数を削減できる。
【００１４】
また、前記コアの前記入射側端面の形状は、多角形状に形成されていることを特徴としている。
また、前記コアの前記入射側端面の形状は、台形状に形成されていることを特徴としている。
また、前記コアの前記入射側端面の形状は台形状に形成される一方、出射側端面の形状は三角形状に形成されていることを特徴としている。
また、前記コアの前記入射側端面は、湾曲部を有していることを特徴としている。
この構成によれば、コアの入射側端面の形状を単に大きくする場合と異なり、小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
【００１５】
また、本発明に係る記録ヘッドの製造方法は、上記本発明の記録ヘッドの製造方法であって、前記スライダ上に前記クラッドのうち、第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、前記第１クラッド上に前記コアの母材を形成するコア形成工程と、前記コアの母材をパターニングするパターニング工程と、前記第１クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記クラッドのうち、第２クラッドを形成する第２クラッド形成工程と、を有し、前記パターニング工程では、前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さを、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合せてパターニングすることを特徴としている。
【００１６】
この構成によれば、コアにおける入射側端面の長手方向及び短手方向の長さを、光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成することで、光源から出射される光束を漏れなく導入できる。また、従来のコア形状（例えば、三角形状等）から相似形状で単に大きくする場合と異なり、コアの入射側端面における長手方向及び短手方向の長さを可能な限り小さくすることができる。
その結果、光束伝播素子の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
【００１７】
また、本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明の記録ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを先端側で支持するサスペンションと、前記サスペンションの基端側を支持するとともに、前記サスペンションを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、前記記録素子及び前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明の記録ヘッドを備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、記録ヘッド自体の書き込みの信頼性を高めることができ、高品質化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る記録ヘッド、及びその製造方法によれば、光束伝播素子の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができる。
本発明に係る情報記録再生装置によれば、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態における情報記録再生装置の構成図である。
【図２】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。
【図３】図２に示すジンバルの平面図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図５】記録再生ヘッドの拡大断面図である。
【図６】記録再生ヘッドの流出端側（前側）の側面を拡大した断面図である。
【図７】図６の断面図であり、（ａ）はＢ−Ｂ線、（ｂ）はＣ−Ｃ線、（ｃ）はＤ−Ｄ線に沿う断面図である。
【図８】図８はコアの斜視図である。
【図９】情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図６に相当する拡大断面図である。
【図１０】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１１】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１２】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１３】図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図１４】第２実施形態における記録再生ヘッドの流出端側（前側）を拡大した断面図である。
【図１５】第３実施形態における記録再生ヘッドの流出端側（前側）を拡大した断面図である。
【図１６】図１５のＥ矢視図である。
【図１７】第４実施形態における記録再生ヘッドの流出端側（前側）を拡大した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
次に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、垂直記録層ｄ２を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、近接場光Ｒと記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式によりディスクＤに記録再生を行う装置である（図５参照）。
【００２１】
（第１実施形態）
（情報記録再生装置）
図１は情報記録再生装置の構成図である。
本実施形態の情報記録再生装置１は、図１に示すように、キャリッジ１１と、キャリッジ１１の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）１２と、ヘッドジンバルアセンブリ１２をディスク面Ｄ１（ディスクＤの表面）に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ５と、ディスクＤを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ６と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ１２の記録再生ヘッド（記録ヘッド）２に対して供給する制御部８と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。
【００２２】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されているとともに、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、スピンドルモータ６が取り付けられ、スピンドルモータ６に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。
【００２３】
凹部９ａの隅角部には、アクチュエータ５が取り付けられている。このアクチュエータ５には、ピボット軸１０を介してキャリッジ１１が取り付けられている。キャリッジ１１は、基端部から先端部に向けてディスク面Ｄ１に沿って延設されたアーム部１４と、基端部を介してアーム部１４を片持ち状に支持する基部１５とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部１５は、直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸１０まわりを回動可能に支持されている。つまり、基部１５はピボット軸１０を介してアクチュエータ５に連結されており、このピボット軸１０がキャリッジ１１の回転中心となっている。
【００２４】
アーム部１４は、基部１５におけるアクチュエータ５が取り付けられた側面１５ａと反対側の側面（隅角部の反対側の側面）１５ｂにおいて、基部１５の上面の面方向（ＸＹ方向）と平行に延出する平板状のものであり、基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３枚延出している。具体的には、アーム部１４は、基端部から先端部に向かうにつれ先細るテーパ形状に形成され、各アーム部１４間に、ディスクＤが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部１４とディスクＤとが、互い違いになるように配されており、アクチュエータ５の駆動によってアーム部１４がディスクＤの表面に平行な方向（ＸＹ方向）に移動可能とされている。なお、キャリッジ１１及びヘッドジンバルアセンブリ１２は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ５の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。
【００２５】
（ヘッドジンバルアセンブリ）
ヘッドジンバルアセンブリ１２は、後述する近接場光発生素子（光束伝播素子）２６を有する近接場光ヘッドである記録再生ヘッド２を支持するものである。
【００２６】
図２は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でサスペンションを記録再生ヘッド側から見た斜視図である。図３は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でジンバルを見た平面図である。図４は図３のＡ−Ａ’線に沿う断面図であり、図５は記録再生ヘッドの拡大断面図である。
図２〜図５に示すように、本実施形態のヘッドジンバルアセンブリ１２は、上述した記録再生ヘッド２をディスクＤから浮上させる機能を有しており、記録再生ヘッド２と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面Ｄ１に平行なＸＹ方向に移動可能なサスペンション３と、記録再生ヘッド２を、ディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態、すなわち２軸を中心として捻れることができるようにサスペンション３の下面に固定させるジンバル手段１６と、を備えている。
【００２７】
（サスペンション）
図２〜図４に示すように、上述したサスペンション３は、上面視略四角状に形成されたベースプレート５１と、ベースプレート５１の先端側にヒンジ板５２を介して連結された平面視略三角状のロードビーム５３と、で構成されている。
【００２８】
ベースプレート５１は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口５１ａが形成されている。そして、この開口５１ａを介してベースプレート５１がアーム部１４の先端に固定されている。
ベースプレート５１の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状のヒンジ板５２が配置されている。このヒンジ板５２は、ベースプレート５１の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート５１の先端からベースプレート５１の長手方向に沿って延出する延出部５２ａとして形成されている。この延出部５２ａは、ヒンジ板５２の幅方向両端部から２本延出しており、その先端部分にロードビーム５３が連結されている。
【００２９】
ロードビーム５３は、ベースプレート５１と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート５１の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板５２に連結されている。
これにより、サスペンション３は、ベースプレート５１とロードビーム５３との間を中心に屈曲して、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓み易くなっている。
【００３０】
また、サスペンション３上には、フレクシャ５４が設けられている。
このフレクシャ５４は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ５４は、ロードビーム５３の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル１７と、ジンバル１７より幅狭に形成され、ジンバル１７の基端からサスペンション３上に沿って延在する支持体１８とで構成されている。
【００３１】
ジンバル１７は、中間付近から先端にかけてディスク面Ｄ１に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム５３に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム５３に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル１７の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部５９が形成され、この切欠部５９に囲まれた部分には連結部１７ａによって片持ち状に支持されたパッド部１７ｂが形成されている。
つまり、このパッド部１７ｂは、連結部１７ａによってジンバル１７の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部５９を備えている。
【００３２】
これにより、パッド部１７ｂはジンバル１７の厚さ方向に撓みやすくなっており、このパッド部１７ｂのみがサスペンション３の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部１７ｂ上に上述した記録再生ヘッド２が載置固定されている。つまり、記録再生ヘッド２は、パッド部１７ｂを介してロードビーム５３にぶら下がった状態となっている。
【００３３】
また、図３，図４に示すように、ロードビーム５３の先端には、パッド部１７ｂ及び記録再生ヘッド２の略中心に向かって突出する突起部１９が形成されている。この突起部１９の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部１９は、記録再生ヘッド２がディスクＤから受ける風圧によりロードビーム５３側に浮上したときに、パッド部１７ｂの表面（上面）に点接触するようになっている。
つまり、突起部１９は、ジンバル１７のパッド部１７ｂを介して、記録再生ヘッド２を支持するとともに、ディスク面Ｄ１に向けて（Ｚ方向に向けて）記録再生ヘッド２に荷重を付与するようになっている。
なお、これら突起部１９とパッド部１７ｂを有するジンバル１７とが、ジンバル手段１６を構成している。
【００３４】
図２に示す支持体１８は、ジンバル１７に一体形成されたシート状のものであり、サスペンション３上をアーム部１４に向かって延設されている。つまり、支持体１８は、サスペンション３が変形した際にサスペンション３の変形に追従するように構成されている。また、この支持体１８は、アーム部１４上から側面に回りこんで、キャリッジ１１の基部１５に至るまで引き回されている。
【００３５】
（記録再生ヘッド）
図６は記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。
記録再生ヘッド２は、ディスクＤとサスペンション３との間に配置された状態で、サスペンション３の下面に後述するジンバル１７を挟んで支持されている。
具体的に、記録再生ヘッド２は、図５，図６に示すように、レーザ光Ｌから生成した近接場光Ｒを利用して回転するディスクＤに各種の情報を記録再生するヘッドである。記録再生ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態でディスクＤに対向配置されたスライダ２０と、ディスクＤに情報を記録する記録素子２１と、ディスクＤに記録されている情報を再生する再生素子２２と、レーザ光Ｌを集光しながら伝播するとともに、近接場光Ｒに生成した後に外部に発する近接場光発生素子２６と、近接場光発生素子２６に向けてレーザ光Ｌを出射するレーザ光源２９と、を備えている。
【００３６】
スライダ２０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。このスライダ２０は、ディスクＤに対向する対向面２０ａを有しており、後述するレーザマウント４３を介して上述したパッド部１７ｂに支持されている。
【００３７】
また対向面２０ａには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸条部２０ｂが形成されている。この凸条部２０ｂは、長手方向（Ｘ方向）に沿って延びるように形成されており、レール状に並ぶように間隔を空けて左右（Ｙ方向）に２つ形成されている。但し、凸条部２０ｂはこの場合に限定されるものではなく、スライダ２０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧と、スライダ２０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧と、を調整して、スライダ２０を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸条部２０ｂの表面はＡＢＳ（ＡＩＲ ＢＥＡＲＩＮＧ ＳＵＲＦＡＣＥ）２０ｃと呼ばれている。
【００３８】
そしてスライダ２０は、この２つの凸条部２０ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けている。一方、サスペンション３はディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に撓むようになっており、スライダ２０の浮上力を吸収している。つまり、スライダ２０は、浮上した際にサスペンション３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。よってスライダ２０は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈ離間した状態で浮上するようになっている。しかもスライダ２０は、ジンバル手段１６によってＸ軸回り及びＹ軸回りに回動するようになっているので、常に姿勢が安定した状態で浮上するようになっている。
なお、ディスクＤの回転に伴って生じる空気流は、スライダ２０の流入端側（サスペンション３のＸ方向基端側）から流入した後、ＡＢＳ２０ｃに沿って流れ、スライダ２０の流出端側（サスペンション３のＸ方向先端側）から抜けている。
以下、スライダ２０の流入端側（リーディングエッジ側）、つまり図５におけるＸ方向右側を「後方」とし、スライダ２０の流出端側（トレイリングエッジ側）、つまり図５におけるＸ方向左側を「前方」とする。また、記録再生ヘッド２に対してディスク面Ｄ１側、つまり図５におけるＺ方向下側を「下方」とし、その反対側、つまり図５におけるＺ方向上側を「上方」とする。
【００３９】
記録素子２１は、図５に示すディスク面Ｄ１に対向する対向面２１ａから記録磁界を発生させ、その記録磁界をディスクＤに作用させて情報を記録する素子であり、図６に示すように、スライダ２０の前方の端部に保持されている。この記録素子２１には、スライダ２０の前方の端面（前端面）に固定された補助磁極３１と、補助磁極３１の前方に配設されて磁気回路３２を介して補助磁極３１に接続された主磁極３３と、磁気回路３２を中心として磁気回路３２の周囲を螺旋状に巻回するコイル３４と、が備えられている。
つまり、スライダ２０の前端面から前方に向かって、補助磁極３１、磁気回路３２及びコイル３４、主磁極３３の順で並べて配置されている。
【００４０】
両磁極３１，３３及び磁気回路３２は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル３４は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路３２との間、両磁極３１，３３との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁体３５によってモールドされている。そして、コイル３４は、情報に応じて変調された電流が制御部８（図１参照）から供給されるようになっている。すなわち、磁気回路３２及びコイル３４は、全体として電磁石を構成している。また、上述した主磁極３３、補助磁極３１及び絶縁体３５のディスク面Ｄ１に対向する各対向面３３ａ，３１ａ，３５ａ（Ｚ方向端面）は、スライダ２０のＡＢＳ２０ｃとそれぞれ面一に形成されている。上述した構成の記録素子２１では、コイル３４に電流が供給されることで、磁力線が主磁極３３の対向面３３ａから出て補助磁極３１の対向面３１ａに入る記録磁界が発生する。
【００４１】
図５，図６に示すように、近接場光発生素子２６は、ディスク面Ｄ１に対向する対向面２６ａから近接場光Ｒを発生させる素子であり、記録素子２１の前方（図６に示す主磁極３３に対する補助磁極３１側の反対側）に配設されている。この近接場光発生素子２６は、先端をディスク面Ｄ１に向けて上下に延設されたコア２３と、コア２３の下端部における主磁極３３側の側面（側面２３ｇ）に密着して配置された金属膜２５と、コア２３の下端部を被覆する遮光膜２７と、コア２３の側面に密着してコア２３を封止するクラッド２４と、を備えている。
【００４２】
図７は図６の断面図であり、（ａ）はＢ−Ｂ線、（ｂ）はＣ−Ｃ線、（ｃ）はＤ−Ｄ線に沿う断面図である。また、図８はコアの斜視図である。
図７，図８に示すように、コア２３は、上端側（基端側）から入射されたレーザ光Ｌを下端側（先端側）に向けて集光しながら伝播させる光束伝播部材である。このコア２３は、上端側から下端側にかけて漸次絞り成形され、レーザ光Ｌを内部で徐々に集光させながら伝播させることができるようになっている。具体的に説明すると、コア２３は、上側から光束集光部２３ａと、近接場光生成部２３ｂと、を有している。
【００４３】
光束集光部２３ａは、上端側から下端側に向かうＺ方向に直交する断面積（ＸＹ方向の断面積）が漸次減少するように絞り成形された部分であり、導入されたレーザ光Ｌを集光させながら下方に向けて伝播させている。つまり、光束集光部２３ａに導入されたレーザ光Ｌのスポットサイズを、徐々に小さいサイズに絞ることができるようになっている。具体的に、光束集光部２３ａは、上端側においてＺ方向から見た断面形状（入射側端面）が台形状に形成された台形部４１（図７（ｃ）参照）と、台形部４１の下端部に一体的に連結されＺ方向から見た断面形状が三角形状に形成された三角形部４２（図７（ｂ）参照）と、で構成されている。
【００４４】
図７（ｃ），図８に示すように、台形部４１は、左右方向を長手方向（Ｙ方向）、前後方向（Ｘ方向）を短手方向とした扁平形状に形成されている。具体的に、台形部４１は、後側の側面２３ｇと、側面２３ｇの左右両端（Ｙ方向両端）から再生素子２２に向かって先細るように延在する一対の側面２３ｋと、側面２３ｇと平行に延在するとともに、一対の側面２３ｋ同士を掛け渡す側面２３ｊと、で構成されている。台形部４１は、下端側に向けて両底面（後側の側面２３ｇ及び前側の側面２３ｊ）の長さ（Ｙ方向における幅）が漸次減少するように形成されている。また、台形部４１の上端面４１ａ（コア２３の上端面）は、スライダ２０の上面と面一に形成され、外部に向けて露出している。
【００４５】
図７（ｂ），図８に示すように、三角形部４２は、底面及び一対の斜面が上述した側面２３ｇ及び側面２３ｋにより構成されている。三角形部４２は、下端側に向けて底面（側面２３ｇ）の長さ、及び斜面（側面２３ｋ）の長さが漸次減少するように形成されている。
【００４６】
図７（ａ），図８に示すように、近接場光生成部２３ｂは、光束集光部２３ａにおける三角形部４２の下端部から下方に向けてさらに絞り成形された部分である。近接場光生成部２３ｂはＺ方向から見た断面形状（出射側端面）が三角形状に形成されている。具体的に、近接場光生成部２３ｂは、底面が側面２３ｇにより構成され、この側面２３ｇが主磁極３３に対向配置されている。近接場光生成部２３ｂは、側面２３ｇの両端（Ｙ方向両端）から再生素子２２に向かって（Ｘ方向に向かって）一対の側面２３ｄが形成されている。側面２３ｄは、レーザ光Ｌの光軸（Ｚ方向）に対して傾斜した状態で延在しており、これにより近接場光生成部２３ｂは下端側が尖形した状態となっている。また、近接場光生成部２３ｂの下端側で外部に露出する端面２３ｅが三角形状に形成されている。この端面２３ｅは記録素子２１の対向面２１ａ（主磁極３３、補助磁極３１及び絶縁体３５の各対向面３３ａ，３１ａ，３５ａ）や、スライダ２０のＡＢＳ２０ｃと面一に形成されている。すなわち、コア２３において、台形部４１の上端面４１ａがレーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌの入射側端面を、近接場光生成部２３ｂの端面２３ｅがレーザ光Ｌの出射側端面を構成している。
【００４７】
クラッド２４は、図６，図７に示すように、コア２３よりも屈折率が低い材料で形成され、側面２３ｄ，２３ｇ，２３ｊ，２３ｋに密着する一方、コア２３の上下両端面４１ａ，２３ｅを外部に露出させた状態でコア２３を封止するモールド部材である。具体的に、クラッド２４は、コア２３と記録素子２１（主磁極３３）との間でコア２３を後側から覆うように形成された第１クラッド２４ａと、コア２３と再生素子２２との間でコア２３を前側から覆うように形成された第２クラッド２４ｂと、を備えている。このように、第１クラッド２４ａ及び第２クラッド２４ｂがコア２３の側面２３ｄ，２３ｇ，２３ｊ，２３ｋに密着しているので、コア２３とクラッド２４との間に隙間が生じないようになっている。
【００４８】
なお、クラッド２４及びコア２３として使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英（ＳｉＯ2）でコア２３を形成し、フッ素をドープした石英でクラッド２４を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、レーザ光Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コア２３の屈折率が１．４７となり、クラッド２４の屈折率が１．４７未満となるので好ましい組み合わせである。
また、ゲルマニウムをドープした石英でコア２３を形成し、石英（ＳｉＯ2）でクラッド２４を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、レーザ光Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コア２３の屈折率が１．４７より大きくなり、クラッド２４の屈折率が１．４７となるのでやはり好ましい組み合わせである。
特に、コア２３とクラッド２４との屈折率差が大きいほど、コア２３内にレーザ光Ｌを閉じ込める力が大きくなるので、コア２３に酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5：波長が５５０ｎｍのときに屈折率が２．１６）を用い、クラッド２４に石英やアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域のレーザ光Ｌを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン（Ｓｉ：屈折率が約４）でコア２３を形成することも有効である。
【００４９】
金属膜２５は、図６，図７（ａ）に示すように、コア２３内を伝播してきたレーザ光Ｌから近接場光Ｒ（図９参照）を発生させ、近接場光Ｒを近接場光発生素子２６の対向面２６ａ（図５参照）と図５に示すディスク面Ｄ１との間に局在化させるものであり、例えば金（Ａｕ）や白金（Ｐｔ）等により構成されている。金属膜２５は、コア２３における下端側（近接場光生成部２３ｂ）の側面２３ｇ上に配置され、第１クラッド２４ａ及び第１クラッド２４ａから露出する主磁極３３の先端部分３３ｂに接している。
【００５０】
遮光膜２７は、外部から近接場光生成部２３ｂに入射される光を遮断するためのものであり、アルミニウム（Ａｌ）等の高反射率の材料からなる。この遮光膜２７は、近接場光生成部２３ｂの側面２３ｄを覆うように形成されている。すなわち、近接場光生成部２３ｂは、側面２３ｇが金属膜２５に覆われ、側面２３ｄが遮光膜２７に覆われている。なお、本実施形態において、遮光膜２７は、Ｚ方向における金属膜２５よりも広範囲に亘って形成されているが、Ｚ方向において金属膜２５と同等以上の範囲で形成されていれば構わない。
【００５１】
再生素子２２は、ディスクＤの垂直記録層ｄ２（図５参照）から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜であり、近接場光発生素子２６を間に挟んで記録素子２１とは反対側のクラッド２４（第２クラッド２４ｂ）の前端面に形成されている。この再生素子２２には、後述する電気配線５６を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。
【００５２】
上述した記録再生ヘッド２のスライダ２０には、レーザ光源２９が搭載されている。レーザ光源２９は、スライダ２０の上面に固定されたレーザマウント４３と、レーザマウント４３の前端面４３ａに固定された半導体レーザチップ４４と、を有している。
【００５３】
レーザマウント４３は、例えばスライダ２０と同一材料により構成され、ＸＹ方向における外形がスライダ２０と同等に形成された板状の部材であり、上面側がジンバル１７の後述するパッド部１７ｂに固定されている。すなわち、スライダ２０は、パッド部１７ｂとの間にレーザマウント４３を挟持した状態でパッド部１７ｂに固定されている。なお、図示しないがレーザマウント４３には、後述する電気配線５６（図５参照）が固定されており、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された図示しない電極パッドに電気的に接続されている。
【００５４】
半導体レーザチップ４４は、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された図示しない電極パッド上に実装されている。この場合、半導体レーザチップ４４は、レーザ光Ｌの出射側端面４４ａを下方に向けた状態で、かつコア２３の台形部４１の上端面４１ａに対向するように配置されている。なお、本実施形態の半導体レーザチップ４４は、スポット形状がＸ方向を短軸方向、Ｙ方向を長軸方向とした楕円形状のレーザ光Ｌを出射する。また、半導体レーザチップ４４の出射側端面４４ａと、台形部４１の上端面４１ａとの間に間隔Ｋを有しているが、この間隔Ｋ内にコア２３と同等の屈折率を有するオイル等を介在させても構わない。
【００５５】
ここで、上述した台形部４１の上端面４１ａの形状は、半導体レーザチップ４４から出射されて上端面４１ａに入射する時点のレーザ光Ｌのスポット形状に合わせて形成されている。本実施形態では、図７（ｃ）に示すように、上端面４１ａの短手方向（前後方向）の長さＴ１（側面２３ｇ、２３ｈ間の長さ）がレーザ光Ｌの短軸方向の長さ以上に形成され、前後方向中央部における長手方向（左右方向）の幅Ｔ２がレーザ光Ｌの長軸方向の長さ以上に形成されている。
【００５６】
なお、本実施形態のディスクＤは、図５に示すように、ディスク面Ｄ１に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層ｄ２と、高透磁率材料からなる軟磁性層ｄ３との少なくとも２層で構成される垂直２層膜ディスクＤを使用する。このようなディスクＤとしては、例えば、基板ｄ１上に、軟磁性層ｄ３と、中間層ｄ４と、垂直記録層ｄ２と、保護層ｄ５と、潤滑層ｄ６とを順に成膜したものを使用する。
基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層ｄ３は、高透磁率層である。中間層ｄ４は、垂直記録層ｄ２の結晶制御層である。垂直記録層ｄ２は、垂直異方性磁性層となっており、例えばＣｏＣｒＰｔ系合金が使用される。保護層ｄ５は、垂直記録層ｄ２を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ６は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００５７】
ところで、図１に示すように、キャリッジ１１の基部１５における側面１５ｃには、ターミナル基板５５が配置されている。このターミナル基板５５は、ハウジング９に設けられた制御部８と記録再生ヘッド２とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路（不図示）が形成されている。
制御部８とターミナル基板５５とは、可撓性を有するフラットケーブル４により電気的に接続されている一方、ターミナル基板５５と記録再生ヘッド２とは、電気配線５６により接続されている。この電気配線５６は、各キャリッジ１１毎に設けられた記録再生ヘッド２に対応して３組設けられており、フラットケーブル４を介して制御部８から出力された信号に情報に応じて変調した電流が、電気配線５６を介して記録再生ヘッド２に供給されるようになっている。
【００５８】
電気配線５６は、ターミナル基板５５の表面からアーム部１４の側面を通って、アーム部１４上に引き回されている。具体的には、図２〜図４に示すように、電気配線５６は、アーム部１４及びサスペンション３上において、フレクシャ５４の支持体１８上に配置されており、支持体１８を間に挟んだ状態でサスペンション３の先端まで引き回されている。
【００５９】
そして、電気配線５６は、サスペンション３の先端（ジンバル１７の中間位置）において再生素子２２及び記録素子２１に電流を供給するための第１電気配線５７と、レーザ光源２９に電流を供給するための第２電気配線５８と、に分岐している。
具体的に、第１電気配線５７は、電気配線５６の先端側における分岐地点において、ジンバル１７の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル１７の外周部分（切欠部５９の外側）から引き回されている。そして、切欠部５９の外側から引き回された第１電気配線５７は、連結部１７ａ上を通って記録再生ヘッド２の前端面側に接続されている。すなわち、第１電気配線５７は、スライダ２０の前端面側に設けられた再生素子２２と記録素子２１とのそれぞれに対して、記録再生ヘッド２の外部から直接接続されている。
【００６０】
一方、第２電気配線５８は、上述した分岐地点からジンバル１７の長手方向（Ｘ方向）に沿って延在しており、ジンバル１７の切欠部５９を跨いで記録再生ヘッド２の後端面側から、レーザマウント４３に直接接続されている。そして、第２電気配線５８は、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された電極パッドに接続され、この電極パッドを介して半導体レーザチップ４４に電流を供給するようになっている。また、第２電気配線５８は、分岐地点においてジンバル１７の下面から離間されており、分岐地点から記録再生ヘッド２の前端面側に向かうにつれ、パッド部１７ｂとジンバル１７との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。つまり、ジンバル１７の下面において、第２電気配線５８は略直線的（曲率半径が略無限大）に延在した状態で、記録再生ヘッド２の幅方向（Ｙ方向）中央部から記録再生ヘッド２の後側に引き回されている。
【００６１】
（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
まず、図１に示すように、スピンドルモータ６を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ５を作動させて、キャリッジ１１を介してサスペンション３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、ディスクＤ上の所望する位置に記録再生ヘッド２を位置させることができる。この際、記録再生ヘッド２は、スライダ２０の対向面２０ａに形成された２つの凸条部２０ｂによって浮上する力を受けるとともに、サスペンション３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。記録再生ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００６２】
また、記録再生ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、サスペンション３によってＺ方向の変位が吸収されるとともに、ジンバル１７によってＸＹ軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、記録再生ヘッド２を安定した状態で浮上させることができる。
【００６３】
図９は情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図６に相当する拡大断面図である。
ここで、情報の記録を行う場合、図９に示すように、制御部８はレーザ光源２９を作動させてレーザ光Ｌを出射させるとともに、情報に応じて変調した電流をコイル３４に供給して記録素子２１を作動させる。
まず、レーザ光源２９からレーザ光Ｌを出射し、このレーザ光Ｌをコア２３の上端面４１ａからコア２３の光束集光部２３ａ内に入射させる。光束集光部２３ａを伝播するレーザ光Ｌは、ディスクＤ側に位置する下端側に向かってコア２３とクラッド２４との間で全反射を繰り返しながら伝播する。特に、コア２３の側面２３ｋ，２３ｄにはクラッド２４が密着しているので、コア２３の外部に光が漏れることはない。よって、導入されたレーザ光Ｌを無駄にすることなく絞りながら下端側に伝播させて、近接場光生成部２３ｂに入射させることができる。
この際、コア２３は、Ｚ方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形されている。そのため、レーザ光Ｌは光束集光部２３ａ内を伝播するにしたがって徐々に絞り込まれてスポットサイズが小さくなる。
【００６４】
スポットサイズが小さくなったレーザ光Ｌは、続いて、近接場光生成部２３ｂに入射する。この近接場光生成部２３ｂは、下端側に向けてさらに絞り成形されており、端面２３ｅが光の波長以下のサイズとされている。この場合、近接場光生成部２３ｂの２つの側面２３ｄは、遮光膜２７によって遮光されている。よって、近接場光生成部２３ｂに入射したレーザ光Ｌは、第２クラッド２４ｂ側に漏れることなく、遮光膜２７と近接場光生成部２３ｂとの界面で反射されながら伝播する。そして、近接場光生成部２３ｂを伝播するレーザ光Ｌが金属膜２５に入射すると、金属膜２５には表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、共鳴効果によって増強されながら金属膜２５とコア２３（近接場光生成部２３ｂ）との界面に沿いながら、コア２３の下端側に向かって伝播する。そして、下端側に達した時点で、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。つまり、近接場光発生素子２６の下端側とディスクＤとの間に近接場光Ｒを局在化させることができる。するとディスクＤは、この近接場光Ｒによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００６５】
一方、制御部８によってコイル３４に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路３２内に磁界を発生させるので、主磁極３３と補助磁極３１との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、主磁極３３側から発生した磁束が、ディスクＤの垂直記録層ｄ２を真直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ３に達する。これによって、垂直記録層ｄ２の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層ｄ３に達した磁束は、軟磁性層ｄ３を経由して補助磁極３１に戻る。この際、補助磁極３１に戻るときには磁化の方向に影響を与えることはない。これは、ディスク面Ｄ１に対向する補助磁極３１の面積が、主磁極３３よりも大きいので磁束密度が大きく磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極３３側でのみ記録を行うことができる。
【００６６】
その結果、近接場光Ｒと両磁極３１，３３で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００６７】
また、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、ディスクＤの保磁力が一時的に低下している時に、再生素子２２がディスクＤの垂直記録層ｄ２から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子２２の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、ディスクＤに記録されている情報の再生を行うことができる。
【００６８】
（記録再生ヘッドの製造方法）
次に、上述した近接場光発生素子２６を有する記録再生ヘッド２の製造方法について説明する。図１０〜図１３は図７に相当する図であって、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。なお、図１０〜図１３において、（ａ）は図７（ｃ）に相当し、（ｂ）は図７（ａ）に相当している。また、以下の説明では、記録再生ヘッド２の製造工程のうち、主として近接場光発生素子の製造工程について具体的に説明する。
本実施形態では、スライダ２０となる基板１２０（例えば、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等）上に記録素子２１、近接場光発生素子２６、及び再生素子２２を順に形成した後、ダイシングすることで、記録再生ヘッド２を製造する。
【００６９】
まず図１０に示すように、基板１２０上に記録素子２１（図６参照）を形成し、絶縁体３５でモールドする。その後、絶縁体３５上に近接場光発生素子２６及び金属膜２５の母材を成膜する（第１クラッド形成工程、及びコア形成工程）。具体的には、基板１２０（絶縁体３５）上に第１クラッド２４ａ、金属膜２５（例えば、２０ｎｍ程度）、コア２３（数μｍ程度）の順で母材（第１クラッド母材１２４ａ、金属膜母材１２５、及びコア母材１２３）を成膜する。なお、各母材１２４ａ，１２５，１２３の成膜後には、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ)等でそれぞれの表面を研磨して、平坦面とする。
【００７０】
なお、金属膜母材１２５は、第１クラッド母材１２４ａ上の全面に成膜した後、所定の領域のみ残存するように予めパターニングしておくことが好ましい。本実施形態では、少なくともＺ方向において、コア母材１２３における近接場光生成部２３ｂ（図６参照）に相当する領域に残存するように（光束集光部２３ａ（図６参照）に相当する領域の金属膜母材１２５を除去するように）金属膜母材１２５をパターニングしている。この場合、図１０（ｂ）に示すように、近接場光生成部２３ｂに相当する領域では、コア母材１２３と第１クラッド母材１２４ａとの間に金属膜母材１２５が挟持され、図１０（ａ）に示すように、それ以外の領域では、コア母材１２３と第１クラッド母材１２４ａとが密着することになる。
【００７１】
続いて、図１１に示すように、コア母材１２３上にフォトリソグラフィ技術を用いてコア母材１２３を除去すべき領域が開口したマスクパターン（不図示）を形成し、このマスクパターンを介して反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行う（第１パターニング工程）。これにより、マスクパターンが開口した領域のコア母材１２３が垂直にエッチングされ、Ｚ方向から見て矩形状のコア母材１２３が形成される。また、コア母材１２３は、Ｘ方向から見て上端側から下端側にかけて先細る台形状に形成される。
【００７２】
次に、図１２に示すように、アルゴン（Ａｒ）等のプラズマ中でコア母材１２３及び金属膜母材１２５をスパッタエッチングする（第２パターニング工程）。第２パターニング工程において、断面矩形状のコア母材１２３をスパッタエッチングすると、コア母材１２３の各角部が選択的にエッチングされて斜面が形成される。そして、この状態でさらにエッチングを続けると、斜面が底面（図７中側面２３ｇに相当）に対して一定の角度を保ちながらエッチングされる。
その後、さらにエッチングを続けると、コア母材１２３は相似形を保ちながら幅（Ｙ方向における幅）、及び高さ（Ｘ方向における高さ）が縮小する。
【００７３】
なお、この状態でさらにエッチングを続けると、コア２３は相似形を保ったままエッチングされるとともに、金属膜母材１２５がエッチングされる。これにより、コア２３の側面２３ｇと同一の幅を有する金属膜２５が形成される。
このように、第１パターニング工程で矩形状に形成したコア母材１２３に対してスパッタエッチングを行うことで、Ｚ方向から見て任意の幅や高さにコア２３を形成することができる。この際、図１２（ａ）に示すように、コア母材１２３において、光束集光部２３ａの上端部に相当する領域で頂面（側面２３ｊ）を残存させることで、コア２３の上端側をＺ方向から見た断面形状が台形状に形成された台形部４１を形成できる。
【００７４】
次に、図１３に示すように、コア２３を覆うように遮光膜２７を形成する（遮光膜形成工程）。具体的には、コア２３の側面２３ｄにおける近接場光生成部２３ｂに相当する領域に、遮光膜２７が残存するようにパターニングする。
そして、コア２３及び遮光膜２７を覆うように、第２クラッド２４ｂを形成する（第２クラッド形成工程）。その後、ＣＭＰ等で第２クラッド２４ｂの表面を研磨して、平坦面に形成する。そして、第２クラッド２４ｂ上に再生素子２２を形成する。これにより、基板１２０上に記録素子２１、近接場光発生素子２６、及び再生素子２２が形成される。
【００７５】
続いて、基板１２０を短冊状にダイシングして、一方向（Ｙ方向）に沿って複数のスライダ２０が連なった状態のバー（不図示）を形成する。その後、ダイシングしたバーの側面（切断面）を研磨する（研磨工程）。
【００７６】
その後、各スライダ２０ごとの大きさになるようにバーを切断する（スライダ工程）。
最後に、スライダ２０の上面にレーザ光源２９を搭載する。具体的には、半導体レーザチップ４４が、レーザ光Ｌの出射側端面を下方に向けた状態で、かつコア２３の台形部４１の上端面４１ａに対向するように配置する。
以上により、上述した近接場光発生素子２６を有する記録再生ヘッド２が完成する。
【００７７】
このように、本実施形態では、コア２３の上端面４１ａの長手方向及び短手方向の長さを、コア２３に入射するレーザ光Ｌの長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成する構成とした。
この構成によれば、例えば半導体レーザ等、スポット形状が楕円形状のレーザ光Ｌを導入させる場合であっても、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを漏れなく導入できる。また、単に従来のコア形状（例えば、三角形状等）を大きくする場合と異なり、コア２３の上端面４１ａにおける長手方向及び短手方向の長さを可能な限り小さくすることができる。
その結果、コア２３の小型化を図った上で、十分な光量を確保することができ、近接場光Ｒの発生効率を向上させることができる
【００７８】
また、スライダ２０に直接レーザ光源２９を搭載することで、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを直接コア２３に導入することができる。これにより、例えばレーザ光源を記録再生ヘッドの外部に設置した場合と異なり、レーザ光Ｌをコア２３まで導くための光導波路等を用いる必要がないので、光導波路等におけるレーザ光の損失を考慮することがない。したがって、より十分な光量をコア２３に導入させることができる。また、光導波路を設ける分のコスト及び製造工数を削減できる。
【００７９】
そして、本発明の情報記録再生装置１は、上述した記録再生ヘッド２を備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、情報の記録再生を正確且つ高密度に行うことができ、高品質化を図ることができる。
【００８０】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図１４は、第２実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図である。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明は省略する。本実施形態では、コア２３の下端側を２層構造とした点で上述した第１実施形態と相違している。
図１４に示すように、本実施形態の記録再生ヘッド２は、スライダ２０の前端面上にＸ方向に沿って近接場光発生素子２６、記録素子２１、及び再生素子２２が順に配置されている。
【００８１】
近接場光発生素子２６のコア２３の下端側は、Ｚ方向から見て三角形状の第１コア６４と、第１コア６４を覆うように形成された第２コア６５と、で構成されている。この場合、第１コア６４は、Ｚ方向において、スライダ２０の前端面の全域に形成され、コア２３の全体（上述した光束集光部２３ａから近接場光生成部２３ｂ）を構成している。一方、第２コア６５は、Ｚ方向において、第１コア６４の下端側を覆うように形成され、光束集光部２３ａの下端側から近接場光生成部２３ｂを構成している。なお、第２コア６５の形成領域は、上述した範囲に限られず、第１コア６４全体を覆うように形成しても構わない。
【００８２】
また、記録素子２１は、第２クラッド２４ｂ内にモールドされるとともに、主磁極３３の先端部分３３ｂは、コア２３の側面２３ｄ（図７（ａ）参照）を覆うように配置されている。すなわち、本実施形態の主磁極３３の先端部分３３ｂは、上述した遮光膜２７（図７参照）と同様の役割も兼ねている。
【００８３】
この構成によれば、スライダ２０の側面上において、ディスクＤの回転方向に沿って近接場光発生素子２６、記録素子２１、及び再生素子２２が配置されることになる。この場合、ディスクＤは、先に近接場光発生素子２６から発生した近接場光Ｒにより加熱された後、保持力が確実に低下した状態で、記録素子２１の下方を通過するため、ディスクＤへの記録をスムーズ、かつ高精度に行うことができる。
【００８４】
特に、本実施形態では、第１コア６４を覆うように第２コア６５を形成することで、第１コア６４に合わせて形成される金属膜２５の幅がコア２３全体（第１コア６４及び第２コア６５）の側面２３ｇの幅に比べて狭く形成されることになる。そのため、コア２３内を伝播するレーザ光Ｌの伝播効率の低下を抑制した上で、近接場光Ｒのスポットサイズの縮小化を図ることができる。これにより、光量を確保した上で、近接場光Ｒのスポットサイズを縮小できるので、ディスクＤをより局所的に加熱することができる。
【００８５】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図１５は、第３実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図であり、図１６は図１５のＥ矢視図である。
図１５，図１６に示すように、本実施形態の記録再生ヘッド２は、記録素子２１におけるコイル３４と主磁極３３との間に近接場光発生素子２６が配置されている。本実施形態における記録素子２１は、第１クラッド２４ａ内にモールドされた補助磁極３１及びコイル３４と、第２クラッド２４ｂ内にモールドされた主磁極３３と、補助磁極３１及び主磁極３３の間に配置されたヨーク１３５と、を備えている。
【００８６】
補助磁極３１は、再生素子２２上に配置されるとともに、Ｘ方向に沿って延在するヨーク１３５の一端側が接続されている。コイル３４は、ヨーク１３５を中心としてヨーク１３５の周囲に螺旋状に形成されている。また、ヨーク１３５には、Ｚ方向に貫通する貫通孔１３５ａが形成され、この貫通孔１３５ａ内を貫通するようにコア２３が配置されている。そして、ヨーク１３５の下端（コア２３を間に挟んで補助磁極３１の反対側）には、主磁極３３が接続されている。
【００８７】
ところで、上述したようにディスクＤの回転時において、記録再生ヘッド２が凸条部２０ｂによって浮上する力を受けると、ディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する（図２参照）。このとき、浮上時のスライダ２０の姿勢についてより詳細に説明すると、スライダ２０はディスク面Ｄ１に対して水平ではなく、僅かに傾いている。具体的には、スライダ２０の流出端側がディスクＤに最も接近した状態で、ディスク面Ｄ１とスライダ２０のＡＢＳ２０ｃとのなす角度が微小角度を保つように傾いている。
【００８８】
そこで、本実施形態によれば、スライダ２０における最も前端側に、近接場光発生素子２６と主磁極３３とを配置できるので、近接場光発生素子２６による近接場光Ｒと、主磁極３３による磁界をディスクＤに最も接近した状態で発生させることができる。これにより、ディスクＤへの記録をスムーズ、かつ高精度に行うことができる。
【００８９】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について説明する。図１７は、第４実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図である。上述した各実施形態では半導体レーザチップ４４から下方に向けてレーザ光Ｌを出射する構成について説明したが、本実施形態では、レーザ光Ｌを前方に向けて出射する構成について説明する。
図１７に示すように、本実施形態のレーザ光源１２９は、スライダ２０の上面に搭載された半導体レーザチップ１４４を備えている。半導体レーザチップ１４４は、レーザ光Ｌの出射側端面を前方に向けた状態で配置されている。なお、本実施形態の半導体レーザチップ１４４は、スポット形状がＹ方向を長軸方向、Ｚ方向を短軸方向とした楕円形状のレーザ光Ｌを出射する。
【００９０】
また、半導体レーザチップ４４の出射端面側には、マイクロミラー１５０が設けられている。そのため、半導体レーザチップ４４から出射されたレーザ光Ｌは、マイクロミラー１５０で９０度反射されてコア２３内に導入されるようになっている。この場合、上端面４１ａの短手方向（前後方向）の長さＴ１（側面２３ｇ、２３ｈ間の長さ）がスポット形状の短軸方向の長さ以上に形成され、前後方向中央部における長手方向の幅Ｔ２がスポット形状の長軸方向の長さ以上に形成されている（図７（ｃ）参照）。
【００９１】
このように、半導体レーザチップ４４から出射されるレーザ光Ｌの出射方向を前方に向けることで、従来のように出射方向を下方に向けて配置する場合に比べ記録再生ヘッド２の上下方向（Ｚ方向）の幅を縮小できる。
【００９２】
なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、上述した実施形態で挙げた構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上述の実施形態では、記録再生ヘッドを浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面に対向配置されていればディスクと記録再生ヘッドとが接触していても構わない。つまり、本発明の記録再生ヘッドは、コンタクトスライダタイプの記録再生ヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
また、各実施形態を適宜組み合わせても構わない。
【００９３】
また、上述した実施形態では、本発明の記録再生ヘッド２をディスクＤに対して垂直な記録磁界を与える垂直磁気記録方式に採用する場合について説明したが、これに限らず、ディスクＤに対して水平な記録磁界を与える面内記録方式に採用しても構わない。
【００９４】
また、上述した実施形態では、第１パターニング工程においてコア母材１２３に対して垂直エッチングを行い、第２パターニング工程においてコア母材１２３の角部を除去する傾斜エッチングを行うことで、本実施形態のコア２３を形成した。しかしながら、これに限らず基板１２０上に形成されたコア母材１２３に対して一回のエッチングでコア２３を形成しても構わない。
【００９５】
さらに、金属膜２５と第１クラッド２４ａとの間にも遮光膜２７を形成しても構わない。すなわち、コア２３の全周に亘って遮光膜２７を形成しても構わない。この場合には、金属膜２５でプラズモン共鳴を起こさずに、金属膜２５を透過してしまったレーザ光Ｌを反射させてコア２３内に戻すことで、再び金属膜２５に入射させることができる。これにより、近接場光Ｒの発生効率をより向上できる。
【００９６】
また、本実施形態のコア２３（台形部４１）の上端面４１ａの形状は、レーザ光Ｌのスポット径に合わせて適宜設計変更が可能である。さらに、上端面４１ａの形成は、台形状に限らず、矩形状や五角形状、六角形状等の多角形状、若しくは円形状や楕円形状、扇形状等の湾曲部を有する形状等、適宜設計変更が可能である。
また、スライダ２０の上面側にレーザ光源２９を直接搭載せずに、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを光導波路を介して近接場光発生素子２６する構成にしても構わない。
【符号の説明】
【００９７】
１…情報記録再生装置 ２…記録再生ヘッド（記録ヘッド） ３…サスペンション ５…アクチュエータ ６…スピンドルモータ（回転駆動部） ８…制御部 ２０…スライダ ２１…記録素子 ２３…コア ２４…クラッド ２４ａ…第１クラッド ２４ｂ…第２クラッド ２６…近接場光発生素子（光束伝播素子） ４３…レーザ光源（光源） Ｄ…ディスク（磁気記録媒体） １２３…コア母材 １２４ａ…第１クラッド母材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定方向に回転する磁気記録媒体の表面に対向配置されるスライダと、
前記スライダに保持され、光源から出射された光束を前記磁気記録媒体の表面に向けて集光しながら伝播させる光束伝播素子と、
前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子と、を備えた記録ヘッドにおいて、
前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記磁気記録媒体の方向に導くコアと、前記コアを内部に閉じ込めるクラッドと、を有し、
前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さが、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成されていることを特徴とする記録ヘッド。
【請求項２】
前記光源は、前記スライダに直接搭載されていることを特徴とする請求項１記載の記録ヘッド。
【請求項３】
前記コアの前記入射側端面の形状は、多角形状に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の記録ヘッド。
【請求項４】
前記コアの前記入射側端面の形状は、台形状に形成されていることを特徴とする請求項３記載の記録ヘッド。
【請求項５】
前記コアの前記入射側端面の形状は台形状に形成される一方、出射側端面の形状は三角形状に形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の記録ヘッド。
【請求項６】
前記コアの前記入射側端面は、湾曲部を有していることを特徴とする請求項１または請求項２記載の記録ヘッド。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の記録ヘッドの製造方法であって、
前記スライダ上に前記クラッドのうち、第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、
前記第１クラッド上に前記コアの母材を形成するコア形成工程と、
前記コアの母材をパターニングするパターニング工程と、
前記第１クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記クラッドのうち、第２クラッドを形成する第２クラッド形成工程と、を有し、
前記パターニング工程では、
前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さを、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合せてパターニングすることを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の記録ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを先端側で支持するサスペンションと、
前記サスペンションの基端側を支持するとともに、前記サスペンションを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記記録素子及び前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【請求項１】
一定方向に回転する磁気記録媒体の表面に対向配置されるスライダと、
前記スライダに保持され、光源から出射された光束を前記磁気記録媒体の表面に向けて集光しながら伝播させる光束伝播素子と、
前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子と、を備えた記録ヘッドにおいて、
前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記磁気記録媒体の方向に導くコアと、前記コアを内部に閉じ込めるクラッドと、を有し、
前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さが、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合わせて形成されていることを特徴とする記録ヘッド。
【請求項２】
前記光源は、前記スライダに直接搭載されていることを特徴とする請求項１記載の記録ヘッド。
【請求項３】
前記コアの前記入射側端面の形状は、多角形状に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の記録ヘッド。
【請求項４】
前記コアの前記入射側端面の形状は、台形状に形成されていることを特徴とする請求項３記載の記録ヘッド。
【請求項５】
前記コアの前記入射側端面の形状は台形状に形成される一方、出射側端面の形状は三角形状に形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の記録ヘッド。
【請求項６】
前記コアの前記入射側端面は、湾曲部を有していることを特徴とする請求項１または請求項２記載の記録ヘッド。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の記録ヘッドの製造方法であって、
前記スライダ上に前記クラッドのうち、第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、
前記第１クラッド上に前記コアの母材を形成するコア形成工程と、
前記コアの母材をパターニングするパターニング工程と、
前記第１クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記クラッドのうち、第２クラッドを形成する第２クラッド形成工程と、を有し、
前記パターニング工程では、
前記コアにおける前記光束の入射側端面の長手方向及び短手方向の長さを、前記コアに入射する光束の長軸方向及び短軸方向の長さに合せてパターニングすることを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の記録ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを先端側で支持するサスペンションと、
前記サスペンションの基端側を支持するとともに、前記サスペンションを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記記録素子及び前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１２−１０４１７１（Ｐ２０１２−１０４１７１Ａ）
【公開日】平成２４年５月３１日（２０１２．５．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２４９９６４（Ｐ２０１０−２４９９６４）
【出願日】平成２２年１１月８日（２０１０．１１．８）
【出願人】（０００００２３２５）セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月３１日（２０１２．５．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月８日（２０１０．１１．８）
【出願人】（０００００２３２５）セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Ｆターム（参考）】
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