足置きローラ
【課題】着座姿勢において、歩行運動と同様の運動を創り出し、足の血行を良好にして、身体の硬直化を防止し、腰痛等を防止することができる。
【解決手段】足置きローラ１１は、両端部に断面円形の大径部１３，１３が形成され中間部に大径部１３，１３より細い足乗せ部１２が形成された軸状のローラであって、足乗せ部１２は外周に足裏をマッサージする円弧部２２を複数有し、転がり部１３によって床Ｇを転動可能になっている。また、足置きローラ１１は、全体が転がりやすい不安定な状態を創り出すので、足を乗せただけで、歩行の要素を取り入れた足の運動を創り出す。
【解決手段】足置きローラ１１は、両端部に断面円形の大径部１３，１３が形成され中間部に大径部１３，１３より細い足乗せ部１２が形成された軸状のローラであって、足乗せ部１２は外周に足裏をマッサージする円弧部２２を複数有し、転がり部１３によって床Ｇを転動可能になっている。また、足置きローラ１１は、全体が転がりやすい不安定な状態を創り出すので、足を乗せただけで、歩行の要素を取り入れた足の運動を創り出す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着座姿勢で足の裏を乗せるだけで足元の運動を創り出すことができる足置きローラに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、身体の疲労回復、健康維持に使用される健康器具としての足裏マッサージローラが提案されている（例えば、特許文献１参照）。この足裏マッサージローラは、略円柱状に形成されていて、外周には多数の突起が設けられている。ユーザは、足裏マッサージローラを床面に置いて足の裏を乗せた状態で、足を前後方向に移動させて足裏マッサージローラを回転させる。これにより、突起が足裏に刺激を与えて、足裏をマッサージするようになっている。
【０００３】
ところで、椅子に座って長時間のデスクワークを行うと、足元の血流が停滞気味となり、身体が硬直化して、腰痛や肩こりの原因となる。腰痛に対しては、運動のなかでも歩行運動が特に効果的であることが、大学機関などでの研究により実証されている。歩行運動は、部分的，局部的な運動ではなく、全身運動であり、また、身体全体の調和、骨格や筋肉のバランスを整える運動である。もちろん、歩行運動は、立って行う運動であり、デスクワーク等の着座姿勢では行うことができない。
【０００４】
本出願人は、デスクワーク等の着座姿勢の中に、なんとか歩行運動の要素を取り入れられないかと考え続け、足元を不安定にさせるという画期的な発想に至った。
足元を不安定にさせて、足元が運動しやすいような環境を創り出し、血流の活性化を促進する。これにより、着座姿勢における全身の硬直を防ぎ、さらに、良い姿勢（楽な姿勢でもある）を採るための一助にもなる。
このような足元の運動を創り出すために、上述の特許文献１に開示されている足裏マッサージローラを使用することが可能である。着座姿勢を採った後、足の裏を足裏マッサージローラの上に乗せる。これにより、無意識のうちに自然と足裏マッサージローラを転がすことになる。これにより、足元に運動が発生する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３５３２０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の特許文献１のものは、足裏のマッサージを主眼に構成されているため、ローラ表面に多数の突起があって、これがローラの回転を阻害する。さらに、全体の形状が略円柱状に形成されているために、足裏を乗せての使用中に、無意識に足がローラから外れてしまうおそれがある。これにより、足元の運動が十分に行えない。
そこで、本発明は、着座姿勢における足元の運動を円滑に行うことができるとともに、足の脱落を防止するようにして、足元の十分な運動を可能にした足置きローラを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、足の裏を乗せて転がして使用する足置きローラにおいて、中心軸を基準とした回転体形状に形成されて、足の裏が乗せられる足乗せ部と、前記中心軸に沿っての、前記足乗せ部の一方の端部と他方の端部とにそれぞれ設けられて足の脱落を防止する大径部と、を備える、ことを特徴とする。
上記構成によれば、大径部によって足の脱落を防止しつつ、円滑な回転を実現することができるので、足元の十分な運動が可能となる。
【０００８】
上記構成において、前記足乗せ部は、足裏のアーチに倣って前記中心軸から離れる方向に凸状となるように緩やかに湾曲する曲面で構成された膨出部を有するようにしてもよい。この構成によれば、膨出部に自然な形で、足の裏を乗せることができる。
【０００９】
上記構成において、前記膨出部は、前記中心軸に沿っての略中央部に最大直径部を有し、前記最大直径部の直径が前記大径部の直径よりも大きく設定するようにしてもよい。この構成によれば、足元の不安定な状態をさらに助長することができる。すなわち、足置きローラは、前後方向に回転するのに加えて、左右方向に傾斜することも可能となり、いわゆる３次元的な運動が可能になる。
【００１０】
上記構成において、載置面に載置した際に、前記膨出部の一部と前記大径部の一部とが接触することで、前記中心軸の傾斜角度が決定されるようにしてもよい。この構成によれば、大径部の一部が載置面に接触するまで、足置きローラ（の中心軸）は傾斜することができ、そして、接触することで傾斜が停止される。つまり、大径部は傾斜角度を規制するストッパとして作用する。
【００１１】
上記構成において、前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部と前記他方の端部の大径部とで直径が異なるようにしてもよい。この構成によれば、中心軸の最大傾斜角度が、一方の端部側と他方の端部側とで異なる。
【００１２】
上記構成において、前記最大直径部から、前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部までの距離と前記他方の端部の大径部までの距離とが異なるようにしてもよい。この構成によれば、中心軸の最大傾斜角度が、一方の端部側と他方の端部側とで異なる。
【００１３】
上記構成において、前記大径部の外周に、載置面との摩擦を増大させる高摩擦部材が取り付けられているようにしてもよい。この構成によれば、不要な滑りが発生しにくく、安定して回転する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、大径部によって足の脱落を防止しつつ、円滑な回転を実現することができるので、足元の十分な運動が可能となる。すなわち、着座姿勢において、足乗せ部に足の裏を乗せるだけで、足元の運動が自然に円滑に行うことができるようになり、さらに、大径部により、足が脱落しないようにすることができる。これにより、着座姿勢において、歩行運動と同様の運動を創り出し、足の血行を良好にして、身体の硬直化を防止し、腰痛等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施形態１における足置きローラ１１の外形図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は右側面図である。
【図２】図１（Ｂ）中のＸ−Ｘ線矢視断面図である。
【図３】図１（Ａ）中のＹ−Ｙ線矢視断面図である。
【図４】足置きローラ１１の使用動作を説明する図であり、（Ａ）はユーザＭが足置きローラ１１を使用しているときの正面図、（Ｂ）は左側面図、（Ｃ）は平面図である。
【図５】実施形態２の足置きローラ３１を説明する図であって、（Ａ）は左半部が正面図、右半部が点Ｐ及び中心軸Ｃを含む平面で切った断面図を示しており、（Ｂ）は右側面図を示している。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき詳述する。なお、各図面において、同じ符号を付した部材等は、同じ構成のものであり、これらについての重複説明は適宜省略するものとする。また、各図面においては、説明に不要な部材等は適宜、図示を省略している。
＜実施形態１＞
【００１７】
以下、図１〜図４を参照して、本発明を適用した実施形態１の足置きローラ１１について説明する。
図１〜図４のうち、図１は、足置きローラ１１の外形を説明する図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は右側面図である。また、図２は、図１（Ｂ）中のＸ−Ｘ線矢視断面図である。また、図３は、図１（Ａ）中のＹ−Ｙ線矢視断面図である。また、図４は、ユーザＭが椅子ＣＨに座って足置きローラ１１を使用している状態を説明する図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）はユーザＭの左側の側面図、（Ｃ）は平面図である。
【００１８】
図１に示すように、足置きローラ１１は、中心軸Ｃを基準とした回転体形状に形成されている。足置きローラ１１は、略円筒状に形成されていて、中心軸Ｃに直交する平面で切った断面は、中心軸Ｃに沿ったいずれの位置においても円形となる。
【００１９】
図４に示すように、足置きローラ１１は、床面（載置面）Ｇに置かれて、ユーザＭが足乗せ部１２に足Ｆを置いて前後動させると、大径部１３，１３で床面ＦＬを往復転動して、足元の運動を行うとともに、足乗せ部１２で足Ｆの裏（足裏）に刺激を与えて、足裏をマッサージするようになっている。足置きローラ１１は、外観上、あるいは使い易い重さからして、木製であることが好ましいが、プラスチック製であってもよい。
図１、図２に示すように、足置きローラ１１は、中心軸Ｃに沿っての両端部分に断面円形の大径部１３，１３が形成され、これら大径部１３，１３の間（中間部分）に大径部１３，１３よりも小径の足乗せ部１２が形成された円柱状のローラである。足乗せ部１２は、外周に、軸方向に沿ってくびれ部２１と隆起部としての円弧部２２とを交互に複数有している。円弧部２２は、中心軸Ｃを含む断面で切ったときの断面形状が円弧状に形成されて足裏をマッサージする部分である。
【００２０】
本実施形態の足置きローラ１１は、図４に示すように、足乗せ部１２にユーザＭの片足が置けるようになっているが、足乗せ部１２を長くして両足を置けるようにしてもよい。このため、本実施形態では、くびれ部２１が４つ、円弧部２２が３つ形成されているが、足乗せ部１２の長さや足乗せ部１２の径に応じて数は、変更してもよく限定されるものではない。なお、くびれ部２１の数は偶数、円弧部２２の数は奇数であった方が、足乗せ部１２の両端に円弧部２２を形成することができて、足乗せ部１２の長さを有効に使用することができる。
【００２１】
なお、隆起部の形状は、円弧状に限定されるものではない。中心軸Ｃを含む平面で切った断面形状が、楕円形、台形、三角形等の形状であってもよい。さらには、隆起部は、多数の突起であってもよい。しかし、いずれの形状であっても、隆起部の先端が床面ＦＬに接触しないようになっている必要があり、足乗せ部１２は大径部１３，１３より細く形成されていればよい。
【００２２】
大径部１３は、外周に高摩擦部材としての断面円形のゴムリング（Ｏリング）２３を有している。ゴムリング２３は、大径部１３，１３の外周に形成された断面半円状の溝２４に、交換できるように着脱自在に装着さている。なお、断面円形のゴムリング２３の代わりに帯状のゴムリングが装着されていてもよい。また、高摩擦部材は、ゴムリングに限定されるものではなく、ゴムのように摩擦係数の高い樹脂リングであってもよい。
【００２３】
なお、ゴムリング２３は、必ずしも必要としない。また、足置きローラ１１全体、あるいは、大径部１３，１３の部分だけを、ゴム製あるいはゴムと同等の摩擦係数を備えた樹脂製である場合にも、ゴムリング２３を必要としない。
【００２４】
以上のように、本実施形態の足置きローラ１１は、両端部分に大径部１３，１３が形成され、中間部分に大径部１３，１３より細い足乗せ部１２が形成された軸状のローラであり、大径部１３，１３と足乗せ部１２とが別々に形成されているので、大径部１３，１３で床面ＦＬを円滑に転動することができて、足乗せ部１２の隆起部で足裏に刺激を与えて、確実にマッサージすることができるとともに、足の円滑な運動を行うことができる。この場合、図４に示すように、足置きローラ１１は、大径部１３，１３によって床面ＦＬを転動できるため、真っ直ぐに矢印Ｅ方向に往復転動することができて、ユーザＭの使い勝手を向上させることができる。さらに、床面ＦＬが平坦でなくでこぼこであっても、転動することができる。
【００２５】
なお、足置きローラ１１は、図４では、ユーザＭが椅子ＣＨに座って使用しているが、立って、片足を足置きローラ１１に乗せて、片足立ちの状態で使用することも可能である。
また、足置きローラ１１は、大径部１３，１３にゴムリング２３が装着されているので、ゴムリング２３の摩擦によって、床面ＦＬの上を滑ることなく確実に転動することができて、足裏のマッサージ、運動を確実に行うことができる。
【００２６】
さらに、ユーザＭが、足を、多少、左右方向にずれながら足を前後動させることがあっても、足置きローラ１１は、ゴムリング２３の摩擦によって、横滑り止めされて、直線的に往復転動することができる。このため、ユーザＭは、足置きローラ１１を使用しやすく、足裏マッサージを容易に行うことができる。
しかも、足置きローラ１１は、ゴムリング２３によって、床面ＦＬの上を、転がり音を発生することなく転動することができて、室内の雰囲気を阻害するようなことがない。
【００２７】
また、足置きローラ１１は、ゴムリング２３によって床面ＦＬの上を転がるため、床面ＦＬに傷を付けることなく転動することができる。
【００２８】
なお、足置きローラ１１が、足置きローラ１１全体、あるいは、大径部１３，１３の部分だけをゴム製あるいはゴムと同等の摩擦係数を備えた樹脂製である場合、ゴムリング２３を必要としないが、上記と同じような効果を奏する。
【００２９】
さらに、足置きローラ１１は、足を置くことができる程度の大きさであるため、携帯に便利であり、長時間のデスクワークのとき足元に置いて使用できるだけでなく、飛行機、電車、自動車等による長時間の移動の際にも携帯して使用することもできて、何時でも何処でも使用することができる。
【００３０】
本実施形態に係る足置きローラ１１にあっては、ユーザＭは、例えば長時間のデスクワーク中には、椅子ＣＨに着座して足Ｆを足乗せ部１２に乗せるだけで、特に意識することなく足Ｆの運動を行うことができる。すなわち、足置きローラ１１の足乗せ部１２に足を乗せると、足置きローラ１１は、前後方向（中心軸Ｃに直交する方向：図４（Ｂ）（Ｃ）中の矢印Ｅ方向）に回転しながら簡単に移動する。つまり、ユーザＭの足Ｆにとっては、前後方向に円滑に移動する不安定な状態が創り出されるので、ユーザＭの足Ｆは、デスクワーク中に特に意識することなく、前後方向に歩行運動の要素を取り入れた運度を行うことになる。また、この際、大径部１３，１３があるので、足Ｆが足置きローラ１１から脱落することが有効に防止される。
＜実施形態２＞
【００３１】
図５を参照して、本発明を適用した実施形態２の足置きローラ３１について説明する。
【００３２】
図５（Ａ）は本実施形態の足置きローラ３１を説明する図であり、左半分は正面図、右半分は中心軸Ｃを通って床面ＦＬに垂直な断面図であり、（Ｂ）は右側面図である。
【００３３】
本実施形態の足置きローラ３１は、実施形態１の足置きローラ１１とは異なり、長手方向の両端の大径部３３，３４の間の足乗せ部３２が、大径部３３，３４よりも太い膨出部３５を有している。これにより、足置きローラ３１は、足Ｆを乗せた際の不安定さが増長され、足Ｆの多彩で円滑な運動を創り出すことが可能となっている。
【００３４】
以下、本実施形態に係る足置きローラ３１について詳述する。
【００３５】
図１に示すように、足置きローラ３１全体は、中心軸Ｃを基準とした回転体形状であり、中心軸Ｃに沿って長く形成されている。足置きローラ３１の重心をＧとすると、足置きローラ３１は、この重心Ｇを境として、一方の大径部３３側と他方の大径部３４側とが同形に形成されていて、重心Ｇから、一方の大径部３３の端部までの距離Ｌ１と他方の大径部３４の端部までの距離Ｌ２とが同じとなっている。また、一方の大径部３３の直径ｄ１と他方の大径部３４の直径ｄ２とが同じとなっている。
【００３６】
足置きローラ３１は、一方の大径部３３と他方の大径部３４との間の中間部に足乗せ部３２を有していて、この足乗せ部３２の、長手方向の中央には、膨出部３５が設けられている。膨出部３５は、楕円を回転させて形成される回転体の一部によって構成されている。すなわち、二点鎖線で示す長径ａ，短径ｂの楕円を、その長径ａを中心軸Ｃに一致させ、短径ｂが重心Ｇを通るようにした状態で、長径ａを基準に回転させてできた立体の一部によって構成されている。膨出部３５の最大直径Ｄｍａｘは、短径ｂの長さと一致していて、大径部３３，３４の直径ｄ１，ｄ２よりも大きく設定されている。この膨出部３５は、足の裏のアーチ（凹部）に倣った（合った）形状となっていて、ユーザＭが足の裏を乗せた際に、足の裏にフィットする。足乗せ部３２は、膨出部３５よりも大径部３３及び大径部３４側の部分は、これらの近づくほど直径が細くなり、大径部３３，３４の近傍で最も直径が細くなった後、徐々に太くなって大径部３３，３４に至っている。
【００３７】
足置きローラ３１は、その中心軸Ｃが床面ＦＬと平行になるようにして床面ＦＬに置いた状態（以下、適宜「ホームポジション」という。）では、膨出部３５の１つの点Ｐ１で床面ＦＬに点接触する。この点Ｐ１は、膨出部３５のうちの最大直径Ｄｍａｘを与える円周上に位置している。つまり、中心軸Ｃを床面ＦＬと平行にした状態で、足置きローラ３１を回転させると、点Ｐ１を含む円周上の点が次々と床面ＦＬに点接触するようになる。
【００３８】
足置きローラ３１は、重心Ｇ近傍を中心として上下方向に傾斜可能（揺動可能）である。足置きローラ３１は、図１（Ａ）の右半部に示すように、膨出部３５の下端と大径部３４の下端とを通る接線Ｓを引くと、この接線Ｓは、膨出部３５における点Ｐ２で接触し、かつ大径部３４の端部の下端の点Ｐ３を通り、中心軸Ｃと点Ｐ４で交差する。この接線Ｓと中心軸Ｃとがなす角度は、足置きローラ３１の最大傾斜角度θとなる。つまり、足置きローラ３１は、中心軸Ｃが床面ＦＬと平行なホームポジションから、右側の大径部３４側が徐々に下方に下がって大径部３４の点Ｐ３が床面ＦＬに接触するまで傾斜することが可能である。言い換えると、ホームポジションにあった足置きローラ３１は、その傾斜角度が、ストッパとして作用する大径部３４によって規制され、最大傾斜角度θｍａｘを超えないようになっている。これにより、不必要に（不自然に）傾斜角度が大きくなるのを防止して、足置きローラ３１に乗せた足の足首が不要に曲がることを防止している。
【００３９】
足置きローラ３１は、最大傾斜角度θｍａｘだけ傾斜して、図５（Ａ）中の膨出部３５の点Ｐ２と、大径部３４の点Ｐ３を接触させた状態で回転させると、転動しながら（転がりながら）、床面ＦＬ上にドーナツ状の軌跡を描く。大径部３４よりも外側の点Ｐ４を中心として床面ＦＬ上を回転しながら移動する。すなわち、点Ｐ２を含んで中心軸Ｃに直交する平面と膨出部３５の外周面とが交差することで形成される大きな円周と、大径部３４の端部に形成される直径ｄ２の小さな円周とを、床面ＦＬに接触させながら、点Ｐ４を中心として回転することになる。
【００４０】
また、足置きローラ３１は、床面ＦＬにおいた自然状態においては、その中心軸Ｃを床面ＦＬに対して平行に維持したホームポジションで安定する。足置きローラ３１を最大傾斜角度θｍａｘに至らない範囲で傾斜させると、膨出部３５と床面ＦＬとの接地点が、大径部３４側に移動するが、このとき重心Ｇは、接地点に対して、大径部３４とは反対側に位置する。このため、重心Ｇに作用するモーメントは、傾斜状態の足置きローラ３１をホームポジションに戻す方向に作用する。
【００４１】
以上では、足置きローラ３１について、図５（Ａ）中の大径部３４側（右側）について説明したが、同様なことは、左側の大径部３３側についてもあてはまる。すなわち、例えば、大径部３３側を下方に下げて傾斜させていくと、大径部３３は、床面ＦＬに当接する。このときの最大傾斜角度θｍａｘは、上述の大径部３４側と同じとなる。
【００４２】
上述構成の足置きローラ３１は、例えば、ユーザＭがデスクワーク中にその足Ｆを足乗せ部３２に乗せた際に、不安定な状態を創り出して、足Ｆの種々な運動を創り出す。この種々な運動は、意識的な場合も、無意識的な場合もあるが、いずれの場合も、直立歩行の要素を取り入れた運動となる。以下、ユーザＭが着座姿勢で、足置きローラ３１に右足Ｆを乗せた場合を例に、種々の運動について説明する。なお、以下の説明では、ユーザＭが足置きローラ３１に右足Ｆを乗せた状態を、上方から見た状態を基準に説明する。
【００４３】
まず、床面ＦＬに足置きローラ３１を置くと、足置きローラ３１は、中心軸Ｃを床面ＦＬに対して平行に配置するホームポジションをとる。膨出部３５に右足Ｆを乗せると、膨出部３５はなだらかな凸状に形成されているので、足裏の凹状のアーチによくフィットする。足置きローラ３１は、この状態では、中心軸Ｃが左右方向を向く。また、膨出部３５の点Ｐ１がこの１点だけで床面ＦＬに点接触する。この状態は、極めて不安定な状他である。すなわち、
（１）足置きローラ３１は、上から見た状態において、床面ＦＬとの接点である点Ｐ１を基準として、３６０度、左回り又は右回りに回転することが可能である。
（２）また、前回転しながら前方に、あるいは後回転しながら後方に移動することが可能である。
（３）さらに、最大傾斜角度θｍａｘに至らない範囲において、大径部３３が下方に、あるいは大径部３４側が下方に傾斜可能であり、この場合も床面ＦＬに対して膨出部３５の１点で接触する点接触であるためて不安定である。
以上の足置きローラ３１の動作（１）〜（３）を、ユーザＭの右足Ｆを基準に説明すると次のようになる。
（１）に対応して、右足Ｆは、上から見た状態において、左回り又は右回りに足首を３６０度、捩じることが可能である。
（２）に対応して、右足Ｆを、足置きローラ３１の前回転に伴って右足を前に移動させ、あるいは後回転に伴って後に移動させることができる。
（３）に対応して、足置きローラ３１の左の大径部３３側を下げる左下がりの傾斜に伴って、右足Ｆのうちの、左端部近傍を下方に下げ、あるいは逆に、足置きローラ３１の右の大径部３４側を下げる右下がりの傾斜に伴って、右足Ｆのうちの、右端部近傍を下方に下げることが可能になる。
【００４４】
さらに、（３）の傾斜をさらに進めて、左下がりに最大傾斜角度θｍａｘで傾斜させて左の大径部３３を床面ＦＬに当接させた場合には、この状態で、足置きローラ３１を前回転させると、前回転しながら、床面ＦＬに対しては左回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に前進することになる。一方、同様な状態で後回転させると、後回転しながら床面ＦＬに対しては右回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に後退することになる。
【００４５】
これに対し、右下がりに最大傾斜角度θｍａｘで傾斜させて、右の大径部３４を床面ＦＬに当接させた場合には、この状態で、足置きローラ３１を前回転させると、前回転しながら、床面ＦＬに対しては右回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に前進することになる。一方、同様な状態で後回転させると、後回転しながら床面ＦＬに対しては左回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に後退することになる。
【００４６】
以上のように、本実施形態に係る足置きローラ３１は、着座姿勢で足Ｆを乗せるだけで、足Ｆの極めて不安定な状態を創り出して、種々の運動を可能にする。
【００４７】
しかも、足Ｆは、不安定な状態であるにもかかわらず、足置きローラ３１の両端部に大径部３３，３４が形成されているので、足Ｆが足置きローラ３１から脱落するおそれはほとんどない。
【００４８】
さらに、足置きローラ３１は、不安定は状態を創り出すといっても、不必要な不安定な状態を創り出すものではない。ここで、最も不安定な状態を創り出すものの代表として、球体（不図示）を例に挙げて比較する。球体に右足を乗せた場合、球体は、前回転，後回転，左回転，右回転はもちろん、斜め方向にも回転するため、極めて不安定な状態となる。このため、前後方向に長い右足Ｆは、たとえ、前回転，後回転には対応できたとしても、左回転，右回転等に対しては十分に対応できず、球体から脱落してしまうおそれがある。
本実施形態に係る足置きローラ３１はこの点を踏まえて、足置きローラ３１の傾斜角度を大径部３３，３４で規制して、傾斜角度が不要に大きくならないようにしている。これにより、不安定でありながら、かつ、足Ｆの自然な運動以上のものが行われないようにしている。
【００４９】
本実施形態の変形例として、足置きローラ３１の最大傾斜角度を、左側の大径部３３側と右側の大径部３４側とで変えるようにすることも可能である。例えば、足置きローラ３１に右足Ｆを乗せた場合を考えると、右足Ｆの自然な動きとして、左側（大径部３３側）よりも右側（大径部３４側）が大きく傾斜することが可能である。これに合わせて、足置きローラ３１の最大傾斜角度を左側よりも右側を大きくする。
【００５０】
例えば、図５（Ａ）に示す例において、左側の大径部３３の直径ｄ１よりも右側の大径部の直径ｄ２を小さくする。これにより、右側の最大傾斜角度を左側のそれよりも大きくして、右側により多く傾斜するようにすることができる。
【００５１】
他の構成としては、重心Ｇから、左の大径部３３の端部までの距離Ｌ１よりも、右の大径部３４の端部までの距離Ｌ２を短く設定することで、右側の最大傾斜角度を左側のそれよりも大きくして、右側により多く傾斜するようにすることもできる。
【００５２】
本実施形態においては、ホームポジションにある足置きローラ３１は、床面ＦＬに対して、点Ｐ１で点接触するように構成されているが、これに代えて、ある幅Ｗ（図５（Ａ）の二点鎖線参照）を持って線接触するようにしてもよい。つまり、最大直径Ｄｍａｘに対応する円周に代えて、幅Ｗの平坦部３６を全周にわたって設けるようにしてもよい。この構成によれば、ホームポジションにおける足置きローラ３１の不安定感がわずかに減少して、安定感がわずかに増加する。さらに、膨出部３５における平坦部３６とこれ以外の部分との境界が、滑らかに連続しなくなるので、ユーザＭは、足置きローラ３１を傾斜させた際に、境界を超える感覚を足裏で感じ取ることができ、これを契機として、ホームポジションを知ることができる。
【００５３】
以上では、右足Ｆを乗せる足置きローラ３１について説明したが、左足Ｆを乗せる足置きローラについても同形に形成すればよい。
【００５４】
本実施形態においても、足置きローラ３１は、中心軸Ｃに沿って長さを長く形成して、大径部３３と大径部３４との間の足乗せ部３２の左右の足Ｆを乗せられるようにしてもよい。この場合、例えば、左足Ｆを膨出部３５と左の大径部３３との間に乗せ、右足Ｆを膨出部３５と右の大径部３４との間の乗せるようにする。
【００５５】
さらに、長さをもっと長くして、右足Ｆを膨出部３５に乗せて、左足Ｆを膨出部３５と左の大径部３３との間に乗せ、あるいは左足Ｆを膨出部３５に乗せて、右足Ｆを膨出部３５と右の大径部３４との間に乗せるようにしてもよい。
【００５６】
このように、１本の足置きローラ３１に両足を乗せる場合には、例えば、一方の足Ｆによって動かされた足置きローラ３１によって、他方の足Ｆが動かされる、といったように、左右の足Ｆの間に連動関係が発生するので、一方の足Ｆのみを乗せる場合とはさらに異なる運動を実現することができる。もちろん、両足用の足置きローラ３１を片足ように使用することも可能である。
なお、本実施形態においても、大径部３３，３４に、実施形態１と同様の高摩擦部材を取り付けるようにしてもよい。取り付けた場合には同等の効果を奏することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１１ 実施形態１の足置きローラ
１２ 足乗せ部
１３ 大径部
２１ くびれ部
２２ 円弧部（隆起部）
２３ ゴムリング（高摩擦部材）
２４ 溝
３１ 実施形態２の足置きローラ
３２ 足乗せ部
３３ 左の大径部
３４ 右の大径部
３５ 膨出部
３６ 平坦部
Ｃ 中心軸
ＣＨ 椅子
ｄ１，ｄ２ 大径部の直径
Ｄｍａｘ 膨出部の最大直径
Ｆ 足
ＦＬ 床面（載置面）
Ｇ 重心
Ｍ ユーザ
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４ 点
θｍａｘ 最大傾斜角度
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着座姿勢で足の裏を乗せるだけで足元の運動を創り出すことができる足置きローラに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、身体の疲労回復、健康維持に使用される健康器具としての足裏マッサージローラが提案されている（例えば、特許文献１参照）。この足裏マッサージローラは、略円柱状に形成されていて、外周には多数の突起が設けられている。ユーザは、足裏マッサージローラを床面に置いて足の裏を乗せた状態で、足を前後方向に移動させて足裏マッサージローラを回転させる。これにより、突起が足裏に刺激を与えて、足裏をマッサージするようになっている。
【０００３】
ところで、椅子に座って長時間のデスクワークを行うと、足元の血流が停滞気味となり、身体が硬直化して、腰痛や肩こりの原因となる。腰痛に対しては、運動のなかでも歩行運動が特に効果的であることが、大学機関などでの研究により実証されている。歩行運動は、部分的，局部的な運動ではなく、全身運動であり、また、身体全体の調和、骨格や筋肉のバランスを整える運動である。もちろん、歩行運動は、立って行う運動であり、デスクワーク等の着座姿勢では行うことができない。
【０００４】
本出願人は、デスクワーク等の着座姿勢の中に、なんとか歩行運動の要素を取り入れられないかと考え続け、足元を不安定にさせるという画期的な発想に至った。
足元を不安定にさせて、足元が運動しやすいような環境を創り出し、血流の活性化を促進する。これにより、着座姿勢における全身の硬直を防ぎ、さらに、良い姿勢（楽な姿勢でもある）を採るための一助にもなる。
このような足元の運動を創り出すために、上述の特許文献１に開示されている足裏マッサージローラを使用することが可能である。着座姿勢を採った後、足の裏を足裏マッサージローラの上に乗せる。これにより、無意識のうちに自然と足裏マッサージローラを転がすことになる。これにより、足元に運動が発生する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３５３２０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の特許文献１のものは、足裏のマッサージを主眼に構成されているため、ローラ表面に多数の突起があって、これがローラの回転を阻害する。さらに、全体の形状が略円柱状に形成されているために、足裏を乗せての使用中に、無意識に足がローラから外れてしまうおそれがある。これにより、足元の運動が十分に行えない。
そこで、本発明は、着座姿勢における足元の運動を円滑に行うことができるとともに、足の脱落を防止するようにして、足元の十分な運動を可能にした足置きローラを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、足の裏を乗せて転がして使用する足置きローラにおいて、中心軸を基準とした回転体形状に形成されて、足の裏が乗せられる足乗せ部と、前記中心軸に沿っての、前記足乗せ部の一方の端部と他方の端部とにそれぞれ設けられて足の脱落を防止する大径部と、を備える、ことを特徴とする。
上記構成によれば、大径部によって足の脱落を防止しつつ、円滑な回転を実現することができるので、足元の十分な運動が可能となる。
【０００８】
上記構成において、前記足乗せ部は、足裏のアーチに倣って前記中心軸から離れる方向に凸状となるように緩やかに湾曲する曲面で構成された膨出部を有するようにしてもよい。この構成によれば、膨出部に自然な形で、足の裏を乗せることができる。
【０００９】
上記構成において、前記膨出部は、前記中心軸に沿っての略中央部に最大直径部を有し、前記最大直径部の直径が前記大径部の直径よりも大きく設定するようにしてもよい。この構成によれば、足元の不安定な状態をさらに助長することができる。すなわち、足置きローラは、前後方向に回転するのに加えて、左右方向に傾斜することも可能となり、いわゆる３次元的な運動が可能になる。
【００１０】
上記構成において、載置面に載置した際に、前記膨出部の一部と前記大径部の一部とが接触することで、前記中心軸の傾斜角度が決定されるようにしてもよい。この構成によれば、大径部の一部が載置面に接触するまで、足置きローラ（の中心軸）は傾斜することができ、そして、接触することで傾斜が停止される。つまり、大径部は傾斜角度を規制するストッパとして作用する。
【００１１】
上記構成において、前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部と前記他方の端部の大径部とで直径が異なるようにしてもよい。この構成によれば、中心軸の最大傾斜角度が、一方の端部側と他方の端部側とで異なる。
【００１２】
上記構成において、前記最大直径部から、前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部までの距離と前記他方の端部の大径部までの距離とが異なるようにしてもよい。この構成によれば、中心軸の最大傾斜角度が、一方の端部側と他方の端部側とで異なる。
【００１３】
上記構成において、前記大径部の外周に、載置面との摩擦を増大させる高摩擦部材が取り付けられているようにしてもよい。この構成によれば、不要な滑りが発生しにくく、安定して回転する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、大径部によって足の脱落を防止しつつ、円滑な回転を実現することができるので、足元の十分な運動が可能となる。すなわち、着座姿勢において、足乗せ部に足の裏を乗せるだけで、足元の運動が自然に円滑に行うことができるようになり、さらに、大径部により、足が脱落しないようにすることができる。これにより、着座姿勢において、歩行運動と同様の運動を創り出し、足の血行を良好にして、身体の硬直化を防止し、腰痛等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施形態１における足置きローラ１１の外形図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は右側面図である。
【図２】図１（Ｂ）中のＸ−Ｘ線矢視断面図である。
【図３】図１（Ａ）中のＹ−Ｙ線矢視断面図である。
【図４】足置きローラ１１の使用動作を説明する図であり、（Ａ）はユーザＭが足置きローラ１１を使用しているときの正面図、（Ｂ）は左側面図、（Ｃ）は平面図である。
【図５】実施形態２の足置きローラ３１を説明する図であって、（Ａ）は左半部が正面図、右半部が点Ｐ及び中心軸Ｃを含む平面で切った断面図を示しており、（Ｂ）は右側面図を示している。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき詳述する。なお、各図面において、同じ符号を付した部材等は、同じ構成のものであり、これらについての重複説明は適宜省略するものとする。また、各図面においては、説明に不要な部材等は適宜、図示を省略している。
＜実施形態１＞
【００１７】
以下、図１〜図４を参照して、本発明を適用した実施形態１の足置きローラ１１について説明する。
図１〜図４のうち、図１は、足置きローラ１１の外形を説明する図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は右側面図である。また、図２は、図１（Ｂ）中のＸ−Ｘ線矢視断面図である。また、図３は、図１（Ａ）中のＹ−Ｙ線矢視断面図である。また、図４は、ユーザＭが椅子ＣＨに座って足置きローラ１１を使用している状態を説明する図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）はユーザＭの左側の側面図、（Ｃ）は平面図である。
【００１８】
図１に示すように、足置きローラ１１は、中心軸Ｃを基準とした回転体形状に形成されている。足置きローラ１１は、略円筒状に形成されていて、中心軸Ｃに直交する平面で切った断面は、中心軸Ｃに沿ったいずれの位置においても円形となる。
【００１９】
図４に示すように、足置きローラ１１は、床面（載置面）Ｇに置かれて、ユーザＭが足乗せ部１２に足Ｆを置いて前後動させると、大径部１３，１３で床面ＦＬを往復転動して、足元の運動を行うとともに、足乗せ部１２で足Ｆの裏（足裏）に刺激を与えて、足裏をマッサージするようになっている。足置きローラ１１は、外観上、あるいは使い易い重さからして、木製であることが好ましいが、プラスチック製であってもよい。
図１、図２に示すように、足置きローラ１１は、中心軸Ｃに沿っての両端部分に断面円形の大径部１３，１３が形成され、これら大径部１３，１３の間（中間部分）に大径部１３，１３よりも小径の足乗せ部１２が形成された円柱状のローラである。足乗せ部１２は、外周に、軸方向に沿ってくびれ部２１と隆起部としての円弧部２２とを交互に複数有している。円弧部２２は、中心軸Ｃを含む断面で切ったときの断面形状が円弧状に形成されて足裏をマッサージする部分である。
【００２０】
本実施形態の足置きローラ１１は、図４に示すように、足乗せ部１２にユーザＭの片足が置けるようになっているが、足乗せ部１２を長くして両足を置けるようにしてもよい。このため、本実施形態では、くびれ部２１が４つ、円弧部２２が３つ形成されているが、足乗せ部１２の長さや足乗せ部１２の径に応じて数は、変更してもよく限定されるものではない。なお、くびれ部２１の数は偶数、円弧部２２の数は奇数であった方が、足乗せ部１２の両端に円弧部２２を形成することができて、足乗せ部１２の長さを有効に使用することができる。
【００２１】
なお、隆起部の形状は、円弧状に限定されるものではない。中心軸Ｃを含む平面で切った断面形状が、楕円形、台形、三角形等の形状であってもよい。さらには、隆起部は、多数の突起であってもよい。しかし、いずれの形状であっても、隆起部の先端が床面ＦＬに接触しないようになっている必要があり、足乗せ部１２は大径部１３，１３より細く形成されていればよい。
【００２２】
大径部１３は、外周に高摩擦部材としての断面円形のゴムリング（Ｏリング）２３を有している。ゴムリング２３は、大径部１３，１３の外周に形成された断面半円状の溝２４に、交換できるように着脱自在に装着さている。なお、断面円形のゴムリング２３の代わりに帯状のゴムリングが装着されていてもよい。また、高摩擦部材は、ゴムリングに限定されるものではなく、ゴムのように摩擦係数の高い樹脂リングであってもよい。
【００２３】
なお、ゴムリング２３は、必ずしも必要としない。また、足置きローラ１１全体、あるいは、大径部１３，１３の部分だけを、ゴム製あるいはゴムと同等の摩擦係数を備えた樹脂製である場合にも、ゴムリング２３を必要としない。
【００２４】
以上のように、本実施形態の足置きローラ１１は、両端部分に大径部１３，１３が形成され、中間部分に大径部１３，１３より細い足乗せ部１２が形成された軸状のローラであり、大径部１３，１３と足乗せ部１２とが別々に形成されているので、大径部１３，１３で床面ＦＬを円滑に転動することができて、足乗せ部１２の隆起部で足裏に刺激を与えて、確実にマッサージすることができるとともに、足の円滑な運動を行うことができる。この場合、図４に示すように、足置きローラ１１は、大径部１３，１３によって床面ＦＬを転動できるため、真っ直ぐに矢印Ｅ方向に往復転動することができて、ユーザＭの使い勝手を向上させることができる。さらに、床面ＦＬが平坦でなくでこぼこであっても、転動することができる。
【００２５】
なお、足置きローラ１１は、図４では、ユーザＭが椅子ＣＨに座って使用しているが、立って、片足を足置きローラ１１に乗せて、片足立ちの状態で使用することも可能である。
また、足置きローラ１１は、大径部１３，１３にゴムリング２３が装着されているので、ゴムリング２３の摩擦によって、床面ＦＬの上を滑ることなく確実に転動することができて、足裏のマッサージ、運動を確実に行うことができる。
【００２６】
さらに、ユーザＭが、足を、多少、左右方向にずれながら足を前後動させることがあっても、足置きローラ１１は、ゴムリング２３の摩擦によって、横滑り止めされて、直線的に往復転動することができる。このため、ユーザＭは、足置きローラ１１を使用しやすく、足裏マッサージを容易に行うことができる。
しかも、足置きローラ１１は、ゴムリング２３によって、床面ＦＬの上を、転がり音を発生することなく転動することができて、室内の雰囲気を阻害するようなことがない。
【００２７】
また、足置きローラ１１は、ゴムリング２３によって床面ＦＬの上を転がるため、床面ＦＬに傷を付けることなく転動することができる。
【００２８】
なお、足置きローラ１１が、足置きローラ１１全体、あるいは、大径部１３，１３の部分だけをゴム製あるいはゴムと同等の摩擦係数を備えた樹脂製である場合、ゴムリング２３を必要としないが、上記と同じような効果を奏する。
【００２９】
さらに、足置きローラ１１は、足を置くことができる程度の大きさであるため、携帯に便利であり、長時間のデスクワークのとき足元に置いて使用できるだけでなく、飛行機、電車、自動車等による長時間の移動の際にも携帯して使用することもできて、何時でも何処でも使用することができる。
【００３０】
本実施形態に係る足置きローラ１１にあっては、ユーザＭは、例えば長時間のデスクワーク中には、椅子ＣＨに着座して足Ｆを足乗せ部１２に乗せるだけで、特に意識することなく足Ｆの運動を行うことができる。すなわち、足置きローラ１１の足乗せ部１２に足を乗せると、足置きローラ１１は、前後方向（中心軸Ｃに直交する方向：図４（Ｂ）（Ｃ）中の矢印Ｅ方向）に回転しながら簡単に移動する。つまり、ユーザＭの足Ｆにとっては、前後方向に円滑に移動する不安定な状態が創り出されるので、ユーザＭの足Ｆは、デスクワーク中に特に意識することなく、前後方向に歩行運動の要素を取り入れた運度を行うことになる。また、この際、大径部１３，１３があるので、足Ｆが足置きローラ１１から脱落することが有効に防止される。
＜実施形態２＞
【００３１】
図５を参照して、本発明を適用した実施形態２の足置きローラ３１について説明する。
【００３２】
図５（Ａ）は本実施形態の足置きローラ３１を説明する図であり、左半分は正面図、右半分は中心軸Ｃを通って床面ＦＬに垂直な断面図であり、（Ｂ）は右側面図である。
【００３３】
本実施形態の足置きローラ３１は、実施形態１の足置きローラ１１とは異なり、長手方向の両端の大径部３３，３４の間の足乗せ部３２が、大径部３３，３４よりも太い膨出部３５を有している。これにより、足置きローラ３１は、足Ｆを乗せた際の不安定さが増長され、足Ｆの多彩で円滑な運動を創り出すことが可能となっている。
【００３４】
以下、本実施形態に係る足置きローラ３１について詳述する。
【００３５】
図１に示すように、足置きローラ３１全体は、中心軸Ｃを基準とした回転体形状であり、中心軸Ｃに沿って長く形成されている。足置きローラ３１の重心をＧとすると、足置きローラ３１は、この重心Ｇを境として、一方の大径部３３側と他方の大径部３４側とが同形に形成されていて、重心Ｇから、一方の大径部３３の端部までの距離Ｌ１と他方の大径部３４の端部までの距離Ｌ２とが同じとなっている。また、一方の大径部３３の直径ｄ１と他方の大径部３４の直径ｄ２とが同じとなっている。
【００３６】
足置きローラ３１は、一方の大径部３３と他方の大径部３４との間の中間部に足乗せ部３２を有していて、この足乗せ部３２の、長手方向の中央には、膨出部３５が設けられている。膨出部３５は、楕円を回転させて形成される回転体の一部によって構成されている。すなわち、二点鎖線で示す長径ａ，短径ｂの楕円を、その長径ａを中心軸Ｃに一致させ、短径ｂが重心Ｇを通るようにした状態で、長径ａを基準に回転させてできた立体の一部によって構成されている。膨出部３５の最大直径Ｄｍａｘは、短径ｂの長さと一致していて、大径部３３，３４の直径ｄ１，ｄ２よりも大きく設定されている。この膨出部３５は、足の裏のアーチ（凹部）に倣った（合った）形状となっていて、ユーザＭが足の裏を乗せた際に、足の裏にフィットする。足乗せ部３２は、膨出部３５よりも大径部３３及び大径部３４側の部分は、これらの近づくほど直径が細くなり、大径部３３，３４の近傍で最も直径が細くなった後、徐々に太くなって大径部３３，３４に至っている。
【００３７】
足置きローラ３１は、その中心軸Ｃが床面ＦＬと平行になるようにして床面ＦＬに置いた状態（以下、適宜「ホームポジション」という。）では、膨出部３５の１つの点Ｐ１で床面ＦＬに点接触する。この点Ｐ１は、膨出部３５のうちの最大直径Ｄｍａｘを与える円周上に位置している。つまり、中心軸Ｃを床面ＦＬと平行にした状態で、足置きローラ３１を回転させると、点Ｐ１を含む円周上の点が次々と床面ＦＬに点接触するようになる。
【００３８】
足置きローラ３１は、重心Ｇ近傍を中心として上下方向に傾斜可能（揺動可能）である。足置きローラ３１は、図１（Ａ）の右半部に示すように、膨出部３５の下端と大径部３４の下端とを通る接線Ｓを引くと、この接線Ｓは、膨出部３５における点Ｐ２で接触し、かつ大径部３４の端部の下端の点Ｐ３を通り、中心軸Ｃと点Ｐ４で交差する。この接線Ｓと中心軸Ｃとがなす角度は、足置きローラ３１の最大傾斜角度θとなる。つまり、足置きローラ３１は、中心軸Ｃが床面ＦＬと平行なホームポジションから、右側の大径部３４側が徐々に下方に下がって大径部３４の点Ｐ３が床面ＦＬに接触するまで傾斜することが可能である。言い換えると、ホームポジションにあった足置きローラ３１は、その傾斜角度が、ストッパとして作用する大径部３４によって規制され、最大傾斜角度θｍａｘを超えないようになっている。これにより、不必要に（不自然に）傾斜角度が大きくなるのを防止して、足置きローラ３１に乗せた足の足首が不要に曲がることを防止している。
【００３９】
足置きローラ３１は、最大傾斜角度θｍａｘだけ傾斜して、図５（Ａ）中の膨出部３５の点Ｐ２と、大径部３４の点Ｐ３を接触させた状態で回転させると、転動しながら（転がりながら）、床面ＦＬ上にドーナツ状の軌跡を描く。大径部３４よりも外側の点Ｐ４を中心として床面ＦＬ上を回転しながら移動する。すなわち、点Ｐ２を含んで中心軸Ｃに直交する平面と膨出部３５の外周面とが交差することで形成される大きな円周と、大径部３４の端部に形成される直径ｄ２の小さな円周とを、床面ＦＬに接触させながら、点Ｐ４を中心として回転することになる。
【００４０】
また、足置きローラ３１は、床面ＦＬにおいた自然状態においては、その中心軸Ｃを床面ＦＬに対して平行に維持したホームポジションで安定する。足置きローラ３１を最大傾斜角度θｍａｘに至らない範囲で傾斜させると、膨出部３５と床面ＦＬとの接地点が、大径部３４側に移動するが、このとき重心Ｇは、接地点に対して、大径部３４とは反対側に位置する。このため、重心Ｇに作用するモーメントは、傾斜状態の足置きローラ３１をホームポジションに戻す方向に作用する。
【００４１】
以上では、足置きローラ３１について、図５（Ａ）中の大径部３４側（右側）について説明したが、同様なことは、左側の大径部３３側についてもあてはまる。すなわち、例えば、大径部３３側を下方に下げて傾斜させていくと、大径部３３は、床面ＦＬに当接する。このときの最大傾斜角度θｍａｘは、上述の大径部３４側と同じとなる。
【００４２】
上述構成の足置きローラ３１は、例えば、ユーザＭがデスクワーク中にその足Ｆを足乗せ部３２に乗せた際に、不安定な状態を創り出して、足Ｆの種々な運動を創り出す。この種々な運動は、意識的な場合も、無意識的な場合もあるが、いずれの場合も、直立歩行の要素を取り入れた運動となる。以下、ユーザＭが着座姿勢で、足置きローラ３１に右足Ｆを乗せた場合を例に、種々の運動について説明する。なお、以下の説明では、ユーザＭが足置きローラ３１に右足Ｆを乗せた状態を、上方から見た状態を基準に説明する。
【００４３】
まず、床面ＦＬに足置きローラ３１を置くと、足置きローラ３１は、中心軸Ｃを床面ＦＬに対して平行に配置するホームポジションをとる。膨出部３５に右足Ｆを乗せると、膨出部３５はなだらかな凸状に形成されているので、足裏の凹状のアーチによくフィットする。足置きローラ３１は、この状態では、中心軸Ｃが左右方向を向く。また、膨出部３５の点Ｐ１がこの１点だけで床面ＦＬに点接触する。この状態は、極めて不安定な状他である。すなわち、
（１）足置きローラ３１は、上から見た状態において、床面ＦＬとの接点である点Ｐ１を基準として、３６０度、左回り又は右回りに回転することが可能である。
（２）また、前回転しながら前方に、あるいは後回転しながら後方に移動することが可能である。
（３）さらに、最大傾斜角度θｍａｘに至らない範囲において、大径部３３が下方に、あるいは大径部３４側が下方に傾斜可能であり、この場合も床面ＦＬに対して膨出部３５の１点で接触する点接触であるためて不安定である。
以上の足置きローラ３１の動作（１）〜（３）を、ユーザＭの右足Ｆを基準に説明すると次のようになる。
（１）に対応して、右足Ｆは、上から見た状態において、左回り又は右回りに足首を３６０度、捩じることが可能である。
（２）に対応して、右足Ｆを、足置きローラ３１の前回転に伴って右足を前に移動させ、あるいは後回転に伴って後に移動させることができる。
（３）に対応して、足置きローラ３１の左の大径部３３側を下げる左下がりの傾斜に伴って、右足Ｆのうちの、左端部近傍を下方に下げ、あるいは逆に、足置きローラ３１の右の大径部３４側を下げる右下がりの傾斜に伴って、右足Ｆのうちの、右端部近傍を下方に下げることが可能になる。
【００４４】
さらに、（３）の傾斜をさらに進めて、左下がりに最大傾斜角度θｍａｘで傾斜させて左の大径部３３を床面ＦＬに当接させた場合には、この状態で、足置きローラ３１を前回転させると、前回転しながら、床面ＦＬに対しては左回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に前進することになる。一方、同様な状態で後回転させると、後回転しながら床面ＦＬに対しては右回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に後退することになる。
【００４５】
これに対し、右下がりに最大傾斜角度θｍａｘで傾斜させて、右の大径部３４を床面ＦＬに当接させた場合には、この状態で、足置きローラ３１を前回転させると、前回転しながら、床面ＦＬに対しては右回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に前進することになる。一方、同様な状態で後回転させると、後回転しながら床面ＦＬに対しては左回りのドーナツ状の軌跡を描くことになり、右足Ｆが同様にドーナツ状に後退することになる。
【００４６】
以上のように、本実施形態に係る足置きローラ３１は、着座姿勢で足Ｆを乗せるだけで、足Ｆの極めて不安定な状態を創り出して、種々の運動を可能にする。
【００４７】
しかも、足Ｆは、不安定な状態であるにもかかわらず、足置きローラ３１の両端部に大径部３３，３４が形成されているので、足Ｆが足置きローラ３１から脱落するおそれはほとんどない。
【００４８】
さらに、足置きローラ３１は、不安定は状態を創り出すといっても、不必要な不安定な状態を創り出すものではない。ここで、最も不安定な状態を創り出すものの代表として、球体（不図示）を例に挙げて比較する。球体に右足を乗せた場合、球体は、前回転，後回転，左回転，右回転はもちろん、斜め方向にも回転するため、極めて不安定な状態となる。このため、前後方向に長い右足Ｆは、たとえ、前回転，後回転には対応できたとしても、左回転，右回転等に対しては十分に対応できず、球体から脱落してしまうおそれがある。
本実施形態に係る足置きローラ３１はこの点を踏まえて、足置きローラ３１の傾斜角度を大径部３３，３４で規制して、傾斜角度が不要に大きくならないようにしている。これにより、不安定でありながら、かつ、足Ｆの自然な運動以上のものが行われないようにしている。
【００４９】
本実施形態の変形例として、足置きローラ３１の最大傾斜角度を、左側の大径部３３側と右側の大径部３４側とで変えるようにすることも可能である。例えば、足置きローラ３１に右足Ｆを乗せた場合を考えると、右足Ｆの自然な動きとして、左側（大径部３３側）よりも右側（大径部３４側）が大きく傾斜することが可能である。これに合わせて、足置きローラ３１の最大傾斜角度を左側よりも右側を大きくする。
【００５０】
例えば、図５（Ａ）に示す例において、左側の大径部３３の直径ｄ１よりも右側の大径部の直径ｄ２を小さくする。これにより、右側の最大傾斜角度を左側のそれよりも大きくして、右側により多く傾斜するようにすることができる。
【００５１】
他の構成としては、重心Ｇから、左の大径部３３の端部までの距離Ｌ１よりも、右の大径部３４の端部までの距離Ｌ２を短く設定することで、右側の最大傾斜角度を左側のそれよりも大きくして、右側により多く傾斜するようにすることもできる。
【００５２】
本実施形態においては、ホームポジションにある足置きローラ３１は、床面ＦＬに対して、点Ｐ１で点接触するように構成されているが、これに代えて、ある幅Ｗ（図５（Ａ）の二点鎖線参照）を持って線接触するようにしてもよい。つまり、最大直径Ｄｍａｘに対応する円周に代えて、幅Ｗの平坦部３６を全周にわたって設けるようにしてもよい。この構成によれば、ホームポジションにおける足置きローラ３１の不安定感がわずかに減少して、安定感がわずかに増加する。さらに、膨出部３５における平坦部３６とこれ以外の部分との境界が、滑らかに連続しなくなるので、ユーザＭは、足置きローラ３１を傾斜させた際に、境界を超える感覚を足裏で感じ取ることができ、これを契機として、ホームポジションを知ることができる。
【００５３】
以上では、右足Ｆを乗せる足置きローラ３１について説明したが、左足Ｆを乗せる足置きローラについても同形に形成すればよい。
【００５４】
本実施形態においても、足置きローラ３１は、中心軸Ｃに沿って長さを長く形成して、大径部３３と大径部３４との間の足乗せ部３２の左右の足Ｆを乗せられるようにしてもよい。この場合、例えば、左足Ｆを膨出部３５と左の大径部３３との間に乗せ、右足Ｆを膨出部３５と右の大径部３４との間の乗せるようにする。
【００５５】
さらに、長さをもっと長くして、右足Ｆを膨出部３５に乗せて、左足Ｆを膨出部３５と左の大径部３３との間に乗せ、あるいは左足Ｆを膨出部３５に乗せて、右足Ｆを膨出部３５と右の大径部３４との間に乗せるようにしてもよい。
【００５６】
このように、１本の足置きローラ３１に両足を乗せる場合には、例えば、一方の足Ｆによって動かされた足置きローラ３１によって、他方の足Ｆが動かされる、といったように、左右の足Ｆの間に連動関係が発生するので、一方の足Ｆのみを乗せる場合とはさらに異なる運動を実現することができる。もちろん、両足用の足置きローラ３１を片足ように使用することも可能である。
なお、本実施形態においても、大径部３３，３４に、実施形態１と同様の高摩擦部材を取り付けるようにしてもよい。取り付けた場合には同等の効果を奏することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１１ 実施形態１の足置きローラ
１２ 足乗せ部
１３ 大径部
２１ くびれ部
２２ 円弧部（隆起部）
２３ ゴムリング（高摩擦部材）
２４ 溝
３１ 実施形態２の足置きローラ
３２ 足乗せ部
３３ 左の大径部
３４ 右の大径部
３５ 膨出部
３６ 平坦部
Ｃ 中心軸
ＣＨ 椅子
ｄ１，ｄ２ 大径部の直径
Ｄｍａｘ 膨出部の最大直径
Ｆ 足
ＦＬ 床面（載置面）
Ｇ 重心
Ｍ ユーザ
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４ 点
θｍａｘ 最大傾斜角度
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足の裏を乗せて転がして使用する足置きローラにおいて、
中心軸を基準とした回転体形状に形成されて、足の裏が乗せられる足乗せ部と、
前記中心軸に沿っての、前記足乗せ部の一方の端部と他方の端部とにそれぞれ設けられて足の脱落を防止する大径部と、を備える、
ことを特徴とする足置きローラ。
【請求項２】
前記足乗せ部は、足裏のアーチに倣って前記中心軸から離れる方向に凸状となるように緩やかに湾曲する曲面で構成された膨出部を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の足置きローラ。
【請求項３】
前記膨出部は、前記中心軸に沿っての略中央部に最大直径部を有し、前記最大直径部の直径が前記大径部の直径よりも大きく設定されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の足置きローラ。
【請求項４】
載置面に載置した際に、前記膨出部の一部と前記大径部の一部とが接触することで、前記中心軸の傾斜角度が決定される、
ことを特徴とする請求項３に記載の足置きローラ。
【請求項５】
前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部と前記他方の端部の大径部とで直径が異なる、
ことを特徴とする請求項４に記載の足置きローラ。
【請求項６】
前記最大直径部から、前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部までの距離と前記他方の端部の大径部までの距離とが異なる、
ことを特徴とする請求項４に記載の足置きローラ。
【請求項７】
前記大径部の外周に、載置面との摩擦を増大させる高摩擦部材が取り付けられている、
ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の足置きローラ。
【請求項１】
足の裏を乗せて転がして使用する足置きローラにおいて、
中心軸を基準とした回転体形状に形成されて、足の裏が乗せられる足乗せ部と、
前記中心軸に沿っての、前記足乗せ部の一方の端部と他方の端部とにそれぞれ設けられて足の脱落を防止する大径部と、を備える、
ことを特徴とする足置きローラ。
【請求項２】
前記足乗せ部は、足裏のアーチに倣って前記中心軸から離れる方向に凸状となるように緩やかに湾曲する曲面で構成された膨出部を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の足置きローラ。
【請求項３】
前記膨出部は、前記中心軸に沿っての略中央部に最大直径部を有し、前記最大直径部の直径が前記大径部の直径よりも大きく設定されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の足置きローラ。
【請求項４】
載置面に載置した際に、前記膨出部の一部と前記大径部の一部とが接触することで、前記中心軸の傾斜角度が決定される、
ことを特徴とする請求項３に記載の足置きローラ。
【請求項５】
前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部と前記他方の端部の大径部とで直径が異なる、
ことを特徴とする請求項４に記載の足置きローラ。
【請求項６】
前記最大直径部から、前記足乗せ部の前記一方の端部の大径部までの距離と前記他方の端部の大径部までの距離とが異なる、
ことを特徴とする請求項４に記載の足置きローラ。
【請求項７】
前記大径部の外周に、載置面との摩擦を増大させる高摩擦部材が取り付けられている、
ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の足置きローラ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１１−１７７４６７（Ｐ２０１１−１７７４６７Ａ）
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４７５９３（Ｐ２０１０−４７５９３）
【出願日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【出願人】（５０３１２９２２４）有限会社まるみつ (2)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【出願人】（５０３１２９２２４）有限会社まるみつ (2)
【Ｆターム（参考）】
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