近赤外線吸収フィルター
【課題】他の近赤外線吸収色素と混合しても吸収極大がシフトしない近赤外線吸収フィルターを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の基である。Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。）で表される化合物を少なくとも一種類以上含有する。
【解決手段】下記一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の基である。Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。）で表される化合物を少なくとも一種類以上含有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は近赤外線吸収フィルター、特に可視光線領域の透過率が高く、近赤外線を有効に遮断する近赤外線吸収フィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、近赤外線吸収色素を含有した樹脂からなるプラスチック性近赤外線吸収フィルターはよく知られており、その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車、電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、ＰＤＰ用フィルターとしても８００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線を吸収する赤外線吸収色素を含有したフィルターの要求がある。
【０００３】
上述のような近赤外線吸収フィルターとしては、銅や鉄などの金属イオンを含有させたもの、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、ジチオール系金属錯体化合物、アミノチオフェノール系金属錯体化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物等の近赤外線吸収色素を含有させたものなど各種検討がなされているが、実際に用いられているものは、限定されたジチオール系金属錯体化合物、フタロシアニン化合物及びジインモニウム系化合物の一部にすぎない。
【０００４】
特に、電子ディスプレイ用に用いるためには、耐熱性、耐光性に優れていること、溶媒に対する溶解性が高いこと、８００〜１０００ｎｍ付近に吸収極大をもちつつ、可視光領域に大きな吸収がないことが必須となる。特許文献１には、下記構造を持つ化合物が、近赤外色素としてＰＤＰフィルターに用いられている。
【特許文献１】特開２００３−２６２７１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のジチオール金属錯体は、他のニッケル金属錯体系近赤外色素と混合して、８００−１０００ｎｍの吸収をカットしようとすると、配位子交換がおこり別の化合物が生成し、吸収極大がシフトすることが明らかとなった。すなわち、近赤外線吸収フィルターを設計する際に、所定の吸収特性を有する２種以上の近赤外線吸収色素を混合すると、極大吸収が変化してしまい、目的とする近赤外線吸収フィルターが得られないという問題がある。
【０００６】
以上のことから、本発明においては、目的とする８００−１０００ｎｍ付近に吸収極大を有し、かつ、他の近赤外線吸収色素、特に、ニッケル金属錯体系近赤外色素と混合しても、配位子交換が起こらず吸収極大がシフトしない化合物群を設計、合成し、耐光性、耐熱性等に優れ、かつ、溶媒に対する溶解性を向上させた近赤外線吸収フィルター、特には電子ディスプレイ用近赤外線吸収フィルターを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、一般式（１）で示されるジチオレート金属錯体中のアリール基のオルト位に立体的に嵩高い官能基を導入し、硫黄原子への分子間置換反応を阻止することで、配位子交換を抑えることができるジチオレート金属錯体群を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は下記一般式（１）
【０００８】
【化１】
【０００９】
（一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の基である。
Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。
Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10はそれぞれ独立に１価の基であって、隣り合う基が連結基を介
して結合してもよい。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を少なくとも一種類以
上含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルターに存する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、他の金属錯体と混合しても配位子交換を起こさないジチオレート金属錯体と他の近赤外線吸収色素とを組み合わせることで、耐光性、耐熱性、耐湿熱性に優れ、かつ、７５０−１０５０ｎｍ付近の近赤外線領域を広範囲にカットする近赤外線吸収フィルターが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明の実施の形態は以下の形態に制限されるものではない。
１．一般式（１）で表される化合物；
前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の置換基である。
１価の置換基としては、水素原子、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いカルボニル基、置換されていても良い炭化水素チオ基、置換されていても良いシリル基、置換されていても良い炭化水素アミノ基、置換されていても良い炭化水素オキシ基、シアノ基またはハロゲン原子が挙げられる。
【００１２】
上記炭化水素基としては、１）脂肪族炭化水素基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基；２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２，４−ペンタジエニル基等のアルケニル基；エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下のアルキル基である。２）アリール基；フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アズレニル基、メタロセン環基などが挙げられる。このうち好ましくは炭素数１２以下の単環又は縮合２環式アリール基である。更に好ましくは、炭素数１２以下の単環かつアリール基のオルト位に置換基を有さないアリール基である。
３）複素環基；チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、チアゾリル基、ピラジニル基などがあげられる。このうち好ましくは、炭素数１２以下の単環又は２環式５員環複素環基である。
【００１３】
上記カルボニル基としては、アシル基（−ＣＯＲ）、カルバモイル基（−ＣＯＮＲＲ’）、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基があげられ、各々さらに具体的には、アシル基（−ＣＯＲ）のＲ、及び、カルバモイル基（−ＣＯＮＲＲ’）のＲ、Ｒ’は、先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられ、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）のＲは、先にあげた脂肪族炭化水素基の具体例と同様のものがあげられ、アリールオキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）のＲは、先にあげたアリール基の具体例と同様のものがあげられ、複素環オキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）のＲは、先にあげた複素環基の具体例と同様のものがあげられ、または、アルデヒド基があげられる。
【００１４】
上記炭化水素チオ基としては、１）アルキルチオ基；ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、２−メチルプロピルチオ基、２−メチルブチルチオ基、３−メチルブチルチオ基、シクロヘキシルメチルチオ基、ネオペンチルチオ基、２−エチルブチルチオ基、イソプロピルチオ基、２−ブチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、３−ペンチルチオ基、１，１−ジメチルプロピルチオ基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数１０以下のアルキルチオ基、特に好ましくは、炭素数１０以下の分岐鎖のアルキルチオ基である。２）アルケニルチオ基；プロペニルチオ基、ビニルチオ基、イソプロペニルチオ基、スチリルチオ基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数１２以下のアルケニルチオ基である。３）アルキニルチオ基；エチニルチオ基、１−ペンテニルチオ基、フェネチニルチオ基、ｔ−ブチルエチニル基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数１２以下のアルキニルチオ基である。４）アリールチオ基；フェニルチオ基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルチオ基、ｏ−トリルチオ基、メシチルチオ基、キシリルチオ基、クメニルチオ基、ナフチルチオ基などがあげられ、好ましくは炭素数１２以下の単環又は２員環からなるアリールチオ基である。５）複素環チオ基；チエニルチオ基、フリルチオ基、ピラゾリルチオ基、ピロリイルチオ基、イソオキサゾリルチオ基、ピリジルチオ基、インドールイルチオ基などがあげられ好ましくは炭素数１０以下の５員環からなる複素環チオ基である。
【００１５】
上記シリル基としては、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｎ−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基などが挙げられ、好ましくは炭素数１８以下のシリル基である。
上記炭化水素オキシ基（−ＯＲ）のＲとしては、先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられ、または、水酸基があげられる。
【００１６】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素があげられるが、特に好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
これらの基のうち、置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
【００１７】
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド基；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基などが挙げられる。
【００１８】
Ｒ1およびＲ2として特に好ましくは、総炭素数１０以下の、置換基を有しても良いアルキル基又はハロアルキル基、総炭素数１０以下の、置換基を有しても良いアルキルチオ基、総炭素数１２以下の、置換基を有しても良い単環アリール基、総炭素数１２以下置換基を有しても良い単環アリールチオ基、総炭素数１０以下の、置換基を有していても良い５員環複素環基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、もしくは水素原子である。
【００１９】
Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。
Ｘ1およびＸ6としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子のうち少なくとも１種類の原子が鎖状に３以上連結した基が好ましい。ここで、鎖状に３以上連結した基とは、ベンゼン環に結合した原子から数えて３以上の原子を含む鎖状の基、またはベンゼン環に結合した原子を含めて４以上の原子を含む環状の基を意味する。
【００２０】
このような基としては、例えば脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基、オキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、置換基を有するアミノ基、および置換基を有するシリル基等が挙げられる。
上記脂肪族炭化水素基としては、ｎ−プロピル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ブチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２−エチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の脂肪族炭化水素基、より好ましくは、炭素数３〜１０程度の直鎖状、分岐鎖状脂肪族炭化水素基が挙げられる。
【００２１】
上記アリール基としては、フェニル基、ｐ−トリル基、ベンジル基、フェニルエチル基、３，４−キシリル基、２−エチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等のアリール基、より好ましくは、炭素数６〜１２程度の単環式アリール基が挙げられる。
上記複素環基としては、チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基などの複素環基、より好ましくは、炭素数５〜１０程度の単環式複素環基が挙げられる。
【００２２】
上記脂肪族炭化水素オキシ基としては、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、２−ブトキシ基、アミルオキシ基、ｔ−ブトキシ基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の脂肪族炭化水素オキシ基、より好ましくは、炭素数２〜１０程度の直鎖状、分岐鎖状脂肪族炭化水素オキシ基が挙げられる。
【００２３】
上記アリールオキシ基としては、（−ＯＲ）のＲが先にあげたアリール基の具体例と同様のものがあげられる。
上記複素環オキシ基としては、（−ＯＲ）のＲが先にあげた複素環基の具体例と同様のものがあげられる。
上記置換基を有するアミノ基としては、（−ＮＲＲ’）のＲ、Ｒ’が先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられる。
【００２４】
上記置換基を有するシリル基としては、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｎ−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基などのシリル基が挙げられ、好ましくは炭素数２〜１８程度のシリル基があげられる。
これらの中でも特に好ましくは、総炭素数３〜１０程度の置換基を有していても良いアルキル基、又は、総炭素数６〜１２程度の置換基を有しても良い単環アリール基、又は、総炭素数２〜１０程度の置換基を有しても良いアルコキシ基、総炭素数６〜１２程度の置換基を有しても良いアリールオキシ基である。
【００２５】
Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10はそれぞれ独立に１価の基であり、隣り合う基が連結基を介して結合してもよい。
該１価の基としては、金属錯体の安定性に悪影響を及ぼさない基であれば特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
【００２６】
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド基；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基などが挙げられる。
【００２７】
隣り合う基が連結基を介して結合した結果形成される基としては、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ２−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）−ＣＨ2−等で置換されていても良いアルキレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−等の、置換されていても良いアルケニレン基；−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−等が好ましく挙げられる。
【００２８】
これらの中でも、Ｘ2および／またはＸ4、ならびにＸ7および／またはＸ10が、炭素原子、酸素原子、窒素原子、およびケイ素原子のうち少なくとも１種類以上の原子を合計２以上有する基であるのが好ましい。
これらは、ベンゼン環上を立体的にかさ高くすることで、配位子交換反応を起こりにくくすると同時に、有機溶媒への溶解性を向上させることを可能にする基である。
【００２９】
なかでも該原子を合計３以上有する基であるのがより好ましい。具体的には、Ｘ1およびＸ6であげた基が挙げられる。
特に好ましくは、総炭素数２〜１０程度の置換基を有していても良いアルキル基、又は、総炭素数１０以下の置換基を有しても良いアルコキシ基である。
上記Ｘ3及びＸ8として特に好ましくは、総炭素数１０以下の置換基を有しても良いアルキル基、又は、ハロアルキル基、総炭素数１０以下の置換基を有しても良いアルキルチオ基、又は、総炭素数１２以下置換基を有しても良い単環アリール基、又は、総炭素数１２以下置換基を有しても良い単環アリールチオ基、又は、総炭素数１０以下の置換基を有していても良い５員環複素環基、又は、シアノ基、又は、フッ素原子、又は、塩素原子、又は、水素原子である。
【００３０】
Ｘ1〜Ｘ10の中で、置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
【００３１】
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド基；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基などが挙げられる。
【００３２】
また、上記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2、Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10のうち、特には、それぞれ同一でも異なっていても良いが、同一である方がより好ましい。
Ｍ1は、４配位の形態をとりうる金属原子であれば特に限定されないが、好ましくはＮｉ、Ｐｄ又はＰｔの１０族金属原子；Ｃｏ；Ｆｅ；Ｃｕ；Ａｕ；Ｃｒ又はＭｎが挙げられ、より好ましくは１０族金属原子であり、特に好ましくはＮｉ又はＰｄである。
【００３３】
ここで、上記一般式（１）の、リガンド部分の分子量は通常１０００以下、好ましくは６００以下である。また、モル吸光係数は、通常８０００以上、好ましくは１００００以上の物である。
加えて、上記一般式（１）で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常０．１％以上、好ましくは０．５％以上である。
【００３４】
本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる化合物の好ましい具体例としては、例えば、以下に例示されるものが挙げられる。ただし、以下の化合物に限定されるものではない。
【００３５】
【化２】
【００３６】
【化３】
【００３７】
【化４】
【００３８】
【化５】
【００３９】
【化６】
【００４０】
このような一般式（１）で表される化合物は、例えば、Mol. Cryst. Liq. Crst.(Lett), 56巻、249頁（１９８０年）記載の公知の方法などで１，３−ジチオール−２−オン誘導体を得た後、含金属化し、対称型金属錯体を得ることができる。また、その吸収極大波長が７５０ｎｍ〜９８０ｎｍ程度のものである。
２．一般式（２）〜（９）で表される近赤外線吸収化合物）
本発明の近赤外線吸収フィルターには、さらに下記一般式（２）〜（９）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を少なくとも１種類以上含有することにより、７５０〜１０５０ｎｍの範囲の近赤外線領域を幅広く吸収できるため、特に電子ディスプレイ用フィルターに用いる場合には好ましい。
【００４１】
特に（５）、（６）および（８）の色素と混合するときに従来の色素に対して配位子交換しづらいので好ましい。
【００４２】
【化７】
【００４３】
【化８】
【００４４】
前記一般式（２）において、Ａ及びＡ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ5とＲ6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ2は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００４５】
上記Ａ及びＡ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のような単環又は２員環式アリール基である。
【００４６】
上記Ａ及びＡ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００４７】
また、Ａ及びＡ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ5とＲ6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の１級又は２級アルキル基、特に好ましくは炭素数１０以下の１級アルキル基である。
上記Ｒ5とＲ6のアルキル基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、特に好ましくは，無置換、ハロゲン原子（特に好ましくはフッ素原子）、シアノ基、アルコキシ基及びアリール基である。
上記Ｒ5とＲ6のアリール基及びヘテロアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等の５員又は６員単環若しくはそれらの縮合環が挙げられる。このうち好ましくは、置換基を有していても良いアリール基、より好ましくは、置換基を有していても良いフェニル基である。
【００４８】
【化９】
【００４９】
さらに、置換基を有しても良いフェニル基のうち、特に好ましくは、上記Ｒ5及びＲ6が結合している窒素原子と結合する炭素原子に隣接する炭素原子が、置換基Ｒ43及びＲ44を有する場合である。Ｒ43及びＲ44は、１価の置換基を示す。上記Ｒ43及びＲ44としては、色素の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、より好ましくは、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良いアリールオキシ基、置換基を有しても良い複素環基、置換基を有しても良い複素環オキシ基、置換されていても良いアルキルチオ基、置換されていても良いアリールチオ基及び置換されていても良い複素環チオ基からなる群より選ばれる置換基のように立体障害性の高い基であるか、または、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数sｍが０．００＜sｍ＜０．９０となるような電子吸引性基が挙げられる。
上記電子吸引性基としては、例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１６，１２０７（１９７３）やＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２０，３０４（１９７７）に記載されているようなものが挙げられるが、より具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、ハロアリールスルホニル基等が挙げられる。
【００５０】
Ｒ5及びＲ6が芳香環の場合、芳香環上の置換基同士は、隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
【００５１】
一般式（２）で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が上げられる。
【００５２】
【化１０】
【００５３】
【化１１】
【００５４】
【化１２】
【００５５】
前記一般式（３）において、Ｂ及びＢ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ7とＲ8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ3は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００５６】
上記Ｂ及びＢ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００５７】
上記Ｂ及びＢ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００５８】
また、Ｂ及びＢ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ7及びＲ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては、先のＲ5及びＲ6のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記Ｒ7及びＲ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
【００５９】
Ｒ7及びＲ8は、直接、あるいは、連結基を介して互いに結ばれていても良いが、特に下図のような場合が好ましい。
【００６０】
【化１３】
【００６１】
Ｒ45〜Ｒ54として好ましい具体例としては、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などのアルキル基で置換されていても良い炭素数６〜１０のアリールオキシ基が挙げられる。Ｒ45〜Ｒ54の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００６２】
このうち好ましくは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基等の電子吸引性基、もしくは、水素原子が挙げられ、Ｒ45〜Ｒ54の中で、少なくともひとつは水素原子でないものである。さらにはＲ45〜Ｒ54の少なくとも１つがフッ素原子、塩素原子またはシアノ基であり、残りは水素原子であるのが好ましい。
【００６３】
Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００６４】
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式（３）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００６５】
【化１４】
【００６６】
【化１５】
【００６７】
前記一般式（４）において、Ｃ及びＣ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ3とＲ4、及び、Ｒ9とＲ10は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ4は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００６８】
上記Ｃ及びＣ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００６９】
上記Ｃ及びＣ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００７０】
また、Ｃ及びＣ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては
、先のＸ3及びＸ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
【００７１】
また、式（４）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００７２】
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式（４）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００７３】
【化１６】
【００７４】
前記一般式（５）において、Ｄ及びＤ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。
Ｍ5は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記Ｄ及びＤ’のアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基が挙げられる。より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００７５】
上記Ｄ及びＤ’のアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００７６】
また、Ｄ及びＤ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式（５）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００７７】
一般式（５）は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式（５）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００７８】
【化１７】
【００７９】
前記一般式（６）において、Ｒ11〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、置換されていても良いカルボニル基、置換されていても良いアルキル基、置換されていても良いアリール基、又は、置換されていてもよいヘテロアリール基である。特に好ましくは、水素原子、置換されていても良いアリール基である。Ｍ6は、上記Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００８０】
上記アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及びカルボニル基の置換基としては、上記Ｘ3及びＸ8で記載したのと同様の基が挙げられる。
また、上記Ｒ11〜Ｒ14の脂肪族炭化水素基及びアリール基及びヘテロアリール基の置換基が、一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００８１】
また、式（６）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００８２】
一般式（６）は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式（６）で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が挙げられる。
【００８３】
【化１８】
【００８４】
一般式（７）において、Ｒ15〜Ｒ30は、任意の置換基を表し、本発明の化合物の基本的性能を損なわない限り特に制限は無いが、例えば、Ｒ15〜Ｒ30の置換基としてあげたものと同様の基があげられる。
上記一般式（７）におけるＭ7は、フタロシアニン骨格と錯体を形成出来る元素であれ
ば、特に限定されないが、好ましくは銅原子、バナジウムオキシ基又は塩化スズ基が挙げられる。
【００８５】
上記一般式（７）で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平１０−７８５０９号公報、特開平１１−１１６８２６号公報、特開平１１−６５４６３号公報及び特開２０００−２６７４８号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、下記に記載したような含フッ素フタロシアニン系化合物が好ましい。
【００８６】
【化１９】
【００８７】
【化２０】
【００８８】
前記一般式（８）において、Ｒ31とＲ32、及び、Ｒ33とＲ34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は、置換されていても良いヘテロアリール基を示す。Ｍ8は、Ｍ1で記載したものと同様の金属を用いることができる。上記Ｒ31〜Ｒ34の脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基としては、Ｘ3及びＸ8であげたものと同様のものがあげられるが、より具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基；２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２，４−ペンタジエニル基等のアルケニル基；エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の１級又は２級アルキル基である。上記アリール基としては、フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。上記へテロアリール基としては、チエニル基、フリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基などがあげられる。
該Ｒ31〜Ｒ34の脂肪族炭化水素基及びアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8であげたものと同様のものがあげられる。
【００８９】
また、上記Ｒ31とＲ32、及び、Ｒ33とＲ34が一体となって−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ２−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）−ＣＨ2−等の置換されていても良いアルキレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−等の置換されていても良いアルケニレン基；−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い。
【００９０】
上記Ｒ31及びＲ32、Ｒ33及びＲ34として好ましくは無置換のアルキル基、または、置換基を有していても良いアルキル基、特に好ましくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子（特に好ましくはフッ素原子）、シアノ基、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基を有していても良いアルキル基である。
また、式（８）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００９１】
一般式（８）は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。一般式（８）で表される色素の好ましい具体例として、下記で表されるものがあげられる。
【００９２】
【化２１】
【００９３】
【化２２】
【００９４】
【化２３】
【００９５】
【化２４】
【００９６】
一般式（９）において、Ｒ35〜Ｒ42は、それぞれ独立に置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示し、ここで、Ｒ35〜Ｒ42は隣り合う２つの置換基同士が連結基を介して結合で結ばれていても良い。Ｒ35〜Ｒ42の置換基として、具体的には、一般式（１）のＸ3及びＸ8の説明で述べたものと同様の基が選ばれる。
【００９７】
また、Ｒ35〜Ｒ42は隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Ｘは陰イオンを示し、具体的には、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、過塩素酸アニオン、６フッ化アンチモン酸イオン、硝酸アニオン、ヘキサフルオロフォスフェイトアニオン、テトラフルオロボレートアニオンで表される１価の陰イオンを示す。
【００９８】
上記一般式（９）で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平１０−１８０９２号公報、特開平１１−１７０７００号公報、特開２０００−８００７１号公報、特開２０００−８１５１１号公報及び特開２００１−１７４６２６号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、日本化薬社製「ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ０２２」及び「ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ０２３」として市販されているような色素、並びに、日本カーリット社製「ＣＩＲ１０８０」、「ＣＩＲ１０８１」、「ＣＩＲ１０８３」及び「ＣＩＲ１０８５」として市販されているような色素が好ましい。
【００９９】
ここで、上記一般式（２）〜（６）、（８）で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常８００以下、好ましくは５００以下の物である。
また、上記一般式（２）〜（６）、（８）で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常５０００以上、好ましくは８０００以上の物である。
一般式（７）に記載のフタロシアニン化合物としては、分子量９００〜３０００、好ましくは、１０００〜２５００のものである。
【０１００】
また、上記一般式（７）で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常５０００以上、好ましくは８０００以上の物である。
一般式（９）に記載のジインモニウム化合物としては、分子量６００〜３０００、好ましくは、９００〜２１００のものである。
また、上記一般式（９）で表される化合物のモル吸光係数は、通常７００００以上、好ましくは９００００以上の物である。
【０１０１】
加えて、上記一般式（２）〜（９）で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常０．１％以上、好ましくは０．５％以上である。
尚、上記化合物（２）は、例えば、Russ. J. Gen. Chem., ６６巻、１８４２頁（１９９６年）に記載の方法で合成でき、上記化合物（３）は、例えば、特開２００１−８９４９２号公報に記載の方法で合成でき、化合物（４）は例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８８卷、５２０１頁（１９６６年）により合成でき、化合物（５）は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８８卷、４３頁及び４８７０頁（１９６６年）に記載の方法で合成でき、化合物（６）は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８７卷、１４８３頁（１９６５年）に記載の方法で合成でき、化合物（７）は、例えば、Ｔｈｅ Ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（２００３）に記載の方法で合成でき、化合物（８）は、例えば、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，１８６１頁（１９９４）に記載の合成方法で合成でき、化合物（９）は、例えば、特開昭６１−２４６３９１号公報に記載の方法で合成できる。
【０１０２】
（近赤外線吸収フィルター）
本願の近赤外線吸収フィルターは、上記一般式（１）で表される化合物を用いることにより、８００〜９８０ｎｍ付近に極大吸収を有し、さらに、上記（２）〜（１１）で表される化合物と組み合わせて用いることにより、７５０〜１０５０ｎｍの波長域をカバーする近赤外線吸収フィルターを効率的に得ることができる。
【０１０３】
加えて、プラズマディスプレイパネルにおいては、８２０〜８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ近辺の近赤外線発光が特に強いため、この部分の光線透過率が１５％以下とするのが好ましい。
また、可視光透過率が、特には４００〜４５０ｎｍにおける平均透過率が４５％以上であり、加えて、５５０〜６００ｎｍにおける透過率が６０％以上、好ましくは７０％以上であるため、車窓ガラスに用いた場合の景色の色再現性（明るさ）やディスプレイの画面の明るさ等を確保することもできるものである。
【０１０４】
本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐熱性も優れたものであり、８０℃の恒温槽での５００時間耐熱試験後に可視光領域に新たなピークが出ることもない。
本願フィルターとして好ましくは、上記耐熱試験での色素残存率が６０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上となるものである。ここで、色素残存率は、７５０〜１０５０ｎｍの領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。
【０１０５】
さらに、本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐光性富士フィルム（株）社製ＵＶカットフィルターを装着した状態でのキセノンランプによる２８０時間耐光性試験後の色素残存率も優れたものであり、好ましくは色素残存率が７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるものである。
（フィルターの製造方法）
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液をコーティングする方法、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂と溶融混錬してフィルム状に成形する方法などが挙られるが、近赤外線吸収色素に対する負荷を低減するため、塗工液をコーティングする方法の方が好ましい。
【０１０６】
以下に、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について詳細に説明する。
（基板）
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基材であればよく、特に制限はない。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
【０１０７】
これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合することができる。
透明基板は、これらの樹脂を、射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などなどの成形方法を用い、フィルム状に成形したものが用いられる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い。
【０１０８】
透明基板の厚みは、目的に応じて通常１０μｍ〜５ｍｍの範囲から選択される。
更に、透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
（近赤外線吸収色素層）
近赤外線吸収色素を含む塗工液は、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解又は分散させることにより、調製することができる。また、分散させる場合、近赤外線吸収色素を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常０．１〜３μｍに微粒子化し、バインダーとともに、溶剤に分散させて調製することもできる。
【０１０９】
このとき溶剤に溶解又は分散される近赤外線吸収色素、分散剤、およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常５〜５０重量％である。また、全固形分に対する金属錯体の濃度は、近赤吸収色素トータルとして通常０．１〜５０重量％、好ましくは０．２〜３０重量％である。また、一般式（１）で表される化合物の他に一般式（２）〜（１１）で表される化合物を併用する場合においては、同一層に併存させても良いし、別層として積層させても良いが、一般式（１）で表される化合物に対する一般式（２）〜（１１）で表される化合物の総量の比としては、１：０．１〜１：１０、好ましくは、１：０．２〜１：５である。
【０１１０】
尚、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収剤の濃度としては、当然のことながら、近赤外線吸収フィルターの膜厚にも依存するため、溶融混練してフィルム状に成形するような場合には、上述の色濃度よりは低くなる。
分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、通常０〜１００重量％、好ましくは０〜７０重量％である。
【０１１１】
バインダーとしては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。その使用量は、バインダーに対して金属錯体化合物が、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である。
溶媒としては、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【０１１２】
また、近赤外線吸収色素を含む塗工液には、必要に応じて、上記以外の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。
【０１１３】
金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように塗布される。
【０１１４】
（紫外線カット層）
本発明の赤外線吸収フィルターは、さらに紫外線カット層を設けることにより、金属錯体との相乗効果によって、赤外線吸収フィルターの耐光性を著しく向上させることができる。紫外線カット層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よくカットできるものであり、３５０ｎｍの波長の光を７０％以上吸収できることが好ましい。紫外線カット層の種類については、特に制限されないが、好ましくは紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム（紫外線カットフィルム）が好ましい。
【０１１５】
紫外線カット層に用いられる紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等が挙げられるが、無機系紫外線吸収剤の場合は紫外線カット層中で微粒子状態で存在しているため、赤外線吸収フィルターの効率を損なう恐れがあることから、有機系紫外線吸収剤が好ましい。
【０１１６】
このような紫外線吸収剤としては、例えば、チバガイギー（株）のチヌビンＰ、チヌビン１２０、２１３、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、３８４、４００、５７１、住友化学（株）のスミソーブ２５０、３００、５７７、共同薬品（株）バイオソーブ５８２、５５０、５９１、城北化学（株）のＪＦー８６、７９、７８、８０、旭電化（株）のアデカスタブＬＡ−３２，ＬＡ−３６，ＬＡ−３４、シプロ化成（株）のシーソルブ１００、１０１、１０１Ｓ、１０２、１０３、５０１、２０１、２０２、６１２ＮＨ、大塚化学（株）のRUVA９３、３０Ｍ、３０Ｓ、ＢＡＳＦ（株）のユービナール３０３９等が挙げられる。
【０１１７】
これらの紫外線吸収剤は、単独で用いても良いが、数種類組み合わせても良い。また、紫外線を吸収して可視領域に波長変換するチバガイギー（株）のユービテックスＯＢ，ＯＢ−Ｐ等の蛍光増白剤も利用できる。
また、紫外線カットフィルムは、市販のＵＶカットフィルターを使用することもでき、例えば、富士フィルム（株）のＳＣ−３８、ＳＣ−３９、ＳＣ−４２、三菱レーヨン（株）のアクリプレン等が挙げられる。上記のＵＶカットフィルター、ＳＣ−３９、アクリプレンは、ともに３５０ｎｍの波長を９９％以上吸収する紫外線カットフィルムである。
【０１１８】
このように紫外線吸収槽を設けた本発明の近赤外線吸収フィルターは、Ｘｅランプを２００時間照射することによる耐光性試験後の色素残存率が８０％以上、好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上となり、可視光領域に新たな吸収ピークが出てくることもない。ここで、色素残存率は、８００〜１１００ｎｍ領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。
【０１１９】
上記近赤外線吸収フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いてもよい。
また、本発明により得られる近赤外線吸収フィルターは、本発明のディスプレイパネル用フィルター以外にも、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
【０１２０】
３．電子ディスプレイ用フィルター
さらに、本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止層（ノングレア層）、色調補正層を設け、電子ディスプレイ用、より好ましくはプラズマディスプレイパネル用フィルターとして使用することができる。
【０１２１】
本発明の電子ディスプレイ用フィルターは、上記近赤外線吸収フィルターを用いている他は、通常、用いられる構成や製造方法等を任意にとることができ、特に限定されるものではないが、以下にプラズマディスプレイパネル用フィルターとして用いる場合を代表例として説明する。
（電磁波カット層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる電磁波カット層としては、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
【０１２２】
（反射防止層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる反射防止層としては、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【０１２３】
（色調補正層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる色調補正層としては、プラズマディスプレイから発せられる５９０〜６００ｎｍの波長域のネオンオレンジ光をカットできれば特に限定されず、公知のスクアリリウム系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、ピロメテン系化合物、ジピロメテン系化合物等の化合物を含有させる。また、消光時のディスプレイの色がニュートラルグレーになるようにその他の色素を添加することもある。
【０１２４】
（ノングレア層）
また、上述の各層の他にぎらつき防止層（ノングレア層）も設けてもよい。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
【実施例】
【０１２５】
以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
実施例１
下式に示す化合物（Ａ）（３４．３ｍｇ）をトルエン０．８０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）３．２ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１２６】
【化２５】
【０１２７】
このフィルターのλｍａｘは８５１ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５１ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれ、８５．６％及び９８．９％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１２８】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３９）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８５１ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射後の強度÷照射前の強度×１００）は９６．６％と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１２９】
実施例２
実施例１において、化合物（Ａ）にかえて下式に示す化合物（Ｂ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１３０】
【化２６】
【０１３１】
このフィルターのλｍａｘは８５５ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５５ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれこのフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３、９７．４％及び１００．０％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。９）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８５５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射後の強度÷照射前の強度×１００）は９５．１％と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１３２】
実施例３
下記に示す化合物（Ｃ）（３４．３ｍｇ）をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＴＨＦ溶液（樹脂濃度３０重量％）３．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１３３】
【化２７】
【０１３４】
このフィルターのλｍａｘは８５６ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５６ｎｍにおける耐久試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれ、９６．２％及び９９．０％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１３５】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３９）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８５６ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射後の強度÷照射前の強度×１００）は９６．７％と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１３６】
以下の実施例および比較例は、２種の近赤外線吸収色素を混合した近赤外線吸収フィルターを製造するものであるが、近赤外線吸収フィルターの８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下になるように近赤外線吸収色素の量を調節して製造した。
【０１３７】
実施例４
下式に示す化合物（Ａ）（０．０９９ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０６８４ｇ）をトルエン２．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）８．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１３８】
【化２８】
【０１３９】
この近赤外線吸収フィルターは、８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下であり、ＰＤＰ本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図１（耐熱性結果）、図２（耐湿熱性結果）と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１４０】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図３に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１４１】
実施例５
化合物（Ａ）に変えて下式に示す化合物（Ｂ）を用いた以外は実施例４と同様の方法により、下式に示す化合物（Ｂ）および下式（Ｄ）に示す化合物（０．０６８４ｇ）を含有する近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１４２】
【化２９】
【０１４３】
この近赤外線吸収フィルターは、８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下であり、ＰＤＰ本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図４（耐熱性結果）、図５（耐湿熱性結果）と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１４４】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図６に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１４５】
実施例６
下式に示す化合物（Ｃ）（０．０９９ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０６８４ｇ）をＴＨＦ３．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＴＨＦ（樹脂濃度３０重量％）８．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１４６】
【化３０】
【０１４７】
この近赤外線吸収フィルターは、８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下であり、ＰＤＰ本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図７（耐熱性結果）、図８（耐湿熱性結果）と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１４８】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図９に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
以下の表１〜３に、実施例４〜６の近赤外線吸収フィルター耐熱性、耐湿熱性、および耐光性試験前後（試験前に対する試験後）の８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍにおける透過率の変化を、図１〜９に試験前後の透過スペクトルを示す。
【０１４９】
【表１】
【０１５０】
【表２】
【０１５１】
【表３】
【０１５２】
実施例１〜６により、本発明の近赤外線吸収フィルターは耐熱性、耐湿熱性、および耐光性に優れていることが明らかである。
【０１５３】
実施例７
実施例４と同様の方法で調製したインク液を７日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。（図１０）
実施例８
実施例５と同様の方法で調製したインク液を７日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。（図１１）
実施例９
実施例６と同様の方法で調製したインク液を７日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。（図１２）
以下の表４に、実施例７〜９のインク液を７日間室温で、放置する前後（放置前に対する放置後）の８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍにおける透過率の変化を示す。
【０１５４】
【表４】
【０１５５】
比較例１
下式に示す化合物（Ｅ）（０．０６８６ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０７４０ｇ）をトルエン１．６ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）６．４を添加し、超音波をかけて溶解させ塗工液を調製した。
【０１５６】
【化３１】
【０１５７】
この塗工液を室温で、７日間放置し、その前後の透過スペクトルを観察したところ、スペクトル形状に顕著な変化があり、この塗工液は、不安定であった。（図１３）
比較例２
下式に示す化合物（Ｆ）（０．０６８６ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０７４０ｇ）をＴＨＦ２．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＴＨＦ溶液（樹脂濃度３０重量％）８．０を添加し、超音波をかけて溶解させ塗工液を調製し、塗工液をろ過した。
【０１５８】
【化３２】
【０１５９】
この塗工液を室温で、７日間放置し、その前後の透過スペクトルを観察したところ、スペクトル形状に顕著な変化があり、この塗工液は、不安定であった。（図１４）
実施例７〜９と、比較例１および２とを対比することにより、本発明の近赤外線吸収フィルターは、他の近赤外線吸収色素と混合した場合に、従来のジチオレート系色素と対比して経時的なスペクトルの変化が非常に少なく、安定した近赤外線吸収フィルターであることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】実施例４における、耐熱性試験結果を示す図である。
【図２】実施例４における、耐湿熱性試験結果を示す図である。
【図３】実施例４における、耐光性試験結果を示す図である。
【図４】実施例５における、耐熱性試験結果を示す図である。
【図５】実施例５における、耐湿熱性試験結果を示す図である。
【図６】実施例５における、耐光性試験結果を示す図である。
【図７】実施例６における、耐熱性試験結果を示す図である。
【図８】実施例６における、耐湿熱性試験結果を示す図である。
【図９】実施例６における、耐光性試験結果を示す図である。
【図１０】実施例７における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１１】実施例８における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１２】実施例９における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１３】比較例１における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１４】比較例２における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は近赤外線吸収フィルター、特に可視光線領域の透過率が高く、近赤外線を有効に遮断する近赤外線吸収フィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、近赤外線吸収色素を含有した樹脂からなるプラスチック性近赤外線吸収フィルターはよく知られており、その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車、電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、ＰＤＰ用フィルターとしても８００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線を吸収する赤外線吸収色素を含有したフィルターの要求がある。
【０００３】
上述のような近赤外線吸収フィルターとしては、銅や鉄などの金属イオンを含有させたもの、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、ジチオール系金属錯体化合物、アミノチオフェノール系金属錯体化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物等の近赤外線吸収色素を含有させたものなど各種検討がなされているが、実際に用いられているものは、限定されたジチオール系金属錯体化合物、フタロシアニン化合物及びジインモニウム系化合物の一部にすぎない。
【０００４】
特に、電子ディスプレイ用に用いるためには、耐熱性、耐光性に優れていること、溶媒に対する溶解性が高いこと、８００〜１０００ｎｍ付近に吸収極大をもちつつ、可視光領域に大きな吸収がないことが必須となる。特許文献１には、下記構造を持つ化合物が、近赤外色素としてＰＤＰフィルターに用いられている。
【特許文献１】特開２００３−２６２７１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のジチオール金属錯体は、他のニッケル金属錯体系近赤外色素と混合して、８００−１０００ｎｍの吸収をカットしようとすると、配位子交換がおこり別の化合物が生成し、吸収極大がシフトすることが明らかとなった。すなわち、近赤外線吸収フィルターを設計する際に、所定の吸収特性を有する２種以上の近赤外線吸収色素を混合すると、極大吸収が変化してしまい、目的とする近赤外線吸収フィルターが得られないという問題がある。
【０００６】
以上のことから、本発明においては、目的とする８００−１０００ｎｍ付近に吸収極大を有し、かつ、他の近赤外線吸収色素、特に、ニッケル金属錯体系近赤外色素と混合しても、配位子交換が起こらず吸収極大がシフトしない化合物群を設計、合成し、耐光性、耐熱性等に優れ、かつ、溶媒に対する溶解性を向上させた近赤外線吸収フィルター、特には電子ディスプレイ用近赤外線吸収フィルターを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、一般式（１）で示されるジチオレート金属錯体中のアリール基のオルト位に立体的に嵩高い官能基を導入し、硫黄原子への分子間置換反応を阻止することで、配位子交換を抑えることができるジチオレート金属錯体群を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は下記一般式（１）
【０００８】
【化１】
【０００９】
（一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の基である。
Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。
Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10はそれぞれ独立に１価の基であって、隣り合う基が連結基を介
して結合してもよい。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を少なくとも一種類以
上含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルターに存する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、他の金属錯体と混合しても配位子交換を起こさないジチオレート金属錯体と他の近赤外線吸収色素とを組み合わせることで、耐光性、耐熱性、耐湿熱性に優れ、かつ、７５０−１０５０ｎｍ付近の近赤外線領域を広範囲にカットする近赤外線吸収フィルターが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明の実施の形態は以下の形態に制限されるものではない。
１．一般式（１）で表される化合物；
前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の置換基である。
１価の置換基としては、水素原子、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いカルボニル基、置換されていても良い炭化水素チオ基、置換されていても良いシリル基、置換されていても良い炭化水素アミノ基、置換されていても良い炭化水素オキシ基、シアノ基またはハロゲン原子が挙げられる。
【００１２】
上記炭化水素基としては、１）脂肪族炭化水素基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基；２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２，４−ペンタジエニル基等のアルケニル基；エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下のアルキル基である。２）アリール基；フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アズレニル基、メタロセン環基などが挙げられる。このうち好ましくは炭素数１２以下の単環又は縮合２環式アリール基である。更に好ましくは、炭素数１２以下の単環かつアリール基のオルト位に置換基を有さないアリール基である。
３）複素環基；チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、チアゾリル基、ピラジニル基などがあげられる。このうち好ましくは、炭素数１２以下の単環又は２環式５員環複素環基である。
【００１３】
上記カルボニル基としては、アシル基（−ＣＯＲ）、カルバモイル基（−ＣＯＮＲＲ’）、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基があげられ、各々さらに具体的には、アシル基（−ＣＯＲ）のＲ、及び、カルバモイル基（−ＣＯＮＲＲ’）のＲ、Ｒ’は、先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられ、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）のＲは、先にあげた脂肪族炭化水素基の具体例と同様のものがあげられ、アリールオキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）のＲは、先にあげたアリール基の具体例と同様のものがあげられ、複素環オキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）のＲは、先にあげた複素環基の具体例と同様のものがあげられ、または、アルデヒド基があげられる。
【００１４】
上記炭化水素チオ基としては、１）アルキルチオ基；ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、２−メチルプロピルチオ基、２−メチルブチルチオ基、３−メチルブチルチオ基、シクロヘキシルメチルチオ基、ネオペンチルチオ基、２−エチルブチルチオ基、イソプロピルチオ基、２−ブチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、３−ペンチルチオ基、１，１−ジメチルプロピルチオ基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数１０以下のアルキルチオ基、特に好ましくは、炭素数１０以下の分岐鎖のアルキルチオ基である。２）アルケニルチオ基；プロペニルチオ基、ビニルチオ基、イソプロペニルチオ基、スチリルチオ基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数１２以下のアルケニルチオ基である。３）アルキニルチオ基；エチニルチオ基、１−ペンテニルチオ基、フェネチニルチオ基、ｔ−ブチルエチニル基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数１２以下のアルキニルチオ基である。４）アリールチオ基；フェニルチオ基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルチオ基、ｏ−トリルチオ基、メシチルチオ基、キシリルチオ基、クメニルチオ基、ナフチルチオ基などがあげられ、好ましくは炭素数１２以下の単環又は２員環からなるアリールチオ基である。５）複素環チオ基；チエニルチオ基、フリルチオ基、ピラゾリルチオ基、ピロリイルチオ基、イソオキサゾリルチオ基、ピリジルチオ基、インドールイルチオ基などがあげられ好ましくは炭素数１０以下の５員環からなる複素環チオ基である。
【００１５】
上記シリル基としては、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｎ−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基などが挙げられ、好ましくは炭素数１８以下のシリル基である。
上記炭化水素オキシ基（−ＯＲ）のＲとしては、先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられ、または、水酸基があげられる。
【００１６】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素があげられるが、特に好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
これらの基のうち、置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
【００１７】
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド基；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基などが挙げられる。
【００１８】
Ｒ1およびＲ2として特に好ましくは、総炭素数１０以下の、置換基を有しても良いアルキル基又はハロアルキル基、総炭素数１０以下の、置換基を有しても良いアルキルチオ基、総炭素数１２以下の、置換基を有しても良い単環アリール基、総炭素数１２以下置換基を有しても良い単環アリールチオ基、総炭素数１０以下の、置換基を有していても良い５員環複素環基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、もしくは水素原子である。
【００１９】
Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。
Ｘ1およびＸ6としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子のうち少なくとも１種類の原子が鎖状に３以上連結した基が好ましい。ここで、鎖状に３以上連結した基とは、ベンゼン環に結合した原子から数えて３以上の原子を含む鎖状の基、またはベンゼン環に結合した原子を含めて４以上の原子を含む環状の基を意味する。
【００２０】
このような基としては、例えば脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基、オキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、置換基を有するアミノ基、および置換基を有するシリル基等が挙げられる。
上記脂肪族炭化水素基としては、ｎ−プロピル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ブチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２−エチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の脂肪族炭化水素基、より好ましくは、炭素数３〜１０程度の直鎖状、分岐鎖状脂肪族炭化水素基が挙げられる。
【００２１】
上記アリール基としては、フェニル基、ｐ−トリル基、ベンジル基、フェニルエチル基、３，４−キシリル基、２−エチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等のアリール基、より好ましくは、炭素数６〜１２程度の単環式アリール基が挙げられる。
上記複素環基としては、チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基などの複素環基、より好ましくは、炭素数５〜１０程度の単環式複素環基が挙げられる。
【００２２】
上記脂肪族炭化水素オキシ基としては、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、２−ブトキシ基、アミルオキシ基、ｔ−ブトキシ基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の脂肪族炭化水素オキシ基、より好ましくは、炭素数２〜１０程度の直鎖状、分岐鎖状脂肪族炭化水素オキシ基が挙げられる。
【００２３】
上記アリールオキシ基としては、（−ＯＲ）のＲが先にあげたアリール基の具体例と同様のものがあげられる。
上記複素環オキシ基としては、（−ＯＲ）のＲが先にあげた複素環基の具体例と同様のものがあげられる。
上記置換基を有するアミノ基としては、（−ＮＲＲ’）のＲ、Ｒ’が先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられる。
【００２４】
上記置換基を有するシリル基としては、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｎ−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基などのシリル基が挙げられ、好ましくは炭素数２〜１８程度のシリル基があげられる。
これらの中でも特に好ましくは、総炭素数３〜１０程度の置換基を有していても良いアルキル基、又は、総炭素数６〜１２程度の置換基を有しても良い単環アリール基、又は、総炭素数２〜１０程度の置換基を有しても良いアルコキシ基、総炭素数６〜１２程度の置換基を有しても良いアリールオキシ基である。
【００２５】
Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10はそれぞれ独立に１価の基であり、隣り合う基が連結基を介して結合してもよい。
該１価の基としては、金属錯体の安定性に悪影響を及ぼさない基であれば特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
【００２６】
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド基；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基などが挙げられる。
【００２７】
隣り合う基が連結基を介して結合した結果形成される基としては、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ２−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）−ＣＨ2−等で置換されていても良いアルキレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−等の、置換されていても良いアルケニレン基；−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−等が好ましく挙げられる。
【００２８】
これらの中でも、Ｘ2および／またはＸ4、ならびにＸ7および／またはＸ10が、炭素原子、酸素原子、窒素原子、およびケイ素原子のうち少なくとも１種類以上の原子を合計２以上有する基であるのが好ましい。
これらは、ベンゼン環上を立体的にかさ高くすることで、配位子交換反応を起こりにくくすると同時に、有機溶媒への溶解性を向上させることを可能にする基である。
【００２９】
なかでも該原子を合計３以上有する基であるのがより好ましい。具体的には、Ｘ1およびＸ6であげた基が挙げられる。
特に好ましくは、総炭素数２〜１０程度の置換基を有していても良いアルキル基、又は、総炭素数１０以下の置換基を有しても良いアルコキシ基である。
上記Ｘ3及びＸ8として特に好ましくは、総炭素数１０以下の置換基を有しても良いアルキル基、又は、ハロアルキル基、総炭素数１０以下の置換基を有しても良いアルキルチオ基、又は、総炭素数１２以下置換基を有しても良い単環アリール基、又は、総炭素数１２以下置換基を有しても良い単環アリールチオ基、又は、総炭素数１０以下の置換基を有していても良い５員環複素環基、又は、シアノ基、又は、フッ素原子、又は、塩素原子、又は、水素原子である。
【００３０】
Ｘ1〜Ｘ10の中で、置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
【００３１】
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド基；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基などが挙げられる。
【００３２】
また、上記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2、Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10のうち、特には、それぞれ同一でも異なっていても良いが、同一である方がより好ましい。
Ｍ1は、４配位の形態をとりうる金属原子であれば特に限定されないが、好ましくはＮｉ、Ｐｄ又はＰｔの１０族金属原子；Ｃｏ；Ｆｅ；Ｃｕ；Ａｕ；Ｃｒ又はＭｎが挙げられ、より好ましくは１０族金属原子であり、特に好ましくはＮｉ又はＰｄである。
【００３３】
ここで、上記一般式（１）の、リガンド部分の分子量は通常１０００以下、好ましくは６００以下である。また、モル吸光係数は、通常８０００以上、好ましくは１００００以上の物である。
加えて、上記一般式（１）で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常０．１％以上、好ましくは０．５％以上である。
【００３４】
本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる化合物の好ましい具体例としては、例えば、以下に例示されるものが挙げられる。ただし、以下の化合物に限定されるものではない。
【００３５】
【化２】
【００３６】
【化３】
【００３７】
【化４】
【００３８】
【化５】
【００３９】
【化６】
【００４０】
このような一般式（１）で表される化合物は、例えば、Mol. Cryst. Liq. Crst.(Lett), 56巻、249頁（１９８０年）記載の公知の方法などで１，３−ジチオール−２−オン誘導体を得た後、含金属化し、対称型金属錯体を得ることができる。また、その吸収極大波長が７５０ｎｍ〜９８０ｎｍ程度のものである。
２．一般式（２）〜（９）で表される近赤外線吸収化合物）
本発明の近赤外線吸収フィルターには、さらに下記一般式（２）〜（９）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を少なくとも１種類以上含有することにより、７５０〜１０５０ｎｍの範囲の近赤外線領域を幅広く吸収できるため、特に電子ディスプレイ用フィルターに用いる場合には好ましい。
【００４１】
特に（５）、（６）および（８）の色素と混合するときに従来の色素に対して配位子交換しづらいので好ましい。
【００４２】
【化７】
【００４３】
【化８】
【００４４】
前記一般式（２）において、Ａ及びＡ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ5とＲ6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ2は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００４５】
上記Ａ及びＡ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のような単環又は２員環式アリール基である。
【００４６】
上記Ａ及びＡ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００４７】
また、Ａ及びＡ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ5とＲ6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の１級又は２級アルキル基、特に好ましくは炭素数１０以下の１級アルキル基である。
上記Ｒ5とＲ6のアルキル基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、特に好ましくは，無置換、ハロゲン原子（特に好ましくはフッ素原子）、シアノ基、アルコキシ基及びアリール基である。
上記Ｒ5とＲ6のアリール基及びヘテロアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等の５員又は６員単環若しくはそれらの縮合環が挙げられる。このうち好ましくは、置換基を有していても良いアリール基、より好ましくは、置換基を有していても良いフェニル基である。
【００４８】
【化９】
【００４９】
さらに、置換基を有しても良いフェニル基のうち、特に好ましくは、上記Ｒ5及びＲ6が結合している窒素原子と結合する炭素原子に隣接する炭素原子が、置換基Ｒ43及びＲ44を有する場合である。Ｒ43及びＲ44は、１価の置換基を示す。上記Ｒ43及びＲ44としては、色素の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、より好ましくは、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良いアリールオキシ基、置換基を有しても良い複素環基、置換基を有しても良い複素環オキシ基、置換されていても良いアルキルチオ基、置換されていても良いアリールチオ基及び置換されていても良い複素環チオ基からなる群より選ばれる置換基のように立体障害性の高い基であるか、または、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数sｍが０．００＜sｍ＜０．９０となるような電子吸引性基が挙げられる。
上記電子吸引性基としては、例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１６，１２０７（１９７３）やＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２０，３０４（１９７７）に記載されているようなものが挙げられるが、より具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、ハロアリールスルホニル基等が挙げられる。
【００５０】
Ｒ5及びＲ6が芳香環の場合、芳香環上の置換基同士は、隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
【００５１】
一般式（２）で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が上げられる。
【００５２】
【化１０】
【００５３】
【化１１】
【００５４】
【化１２】
【００５５】
前記一般式（３）において、Ｂ及びＢ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ7とＲ8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ3は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００５６】
上記Ｂ及びＢ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００５７】
上記Ｂ及びＢ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００５８】
また、Ｂ及びＢ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ7及びＲ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては、先のＲ5及びＲ6のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記Ｒ7及びＲ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
【００５９】
Ｒ7及びＲ8は、直接、あるいは、連結基を介して互いに結ばれていても良いが、特に下図のような場合が好ましい。
【００６０】
【化１３】
【００６１】
Ｒ45〜Ｒ54として好ましい具体例としては、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などのアルキル基で置換されていても良い炭素数６〜１０のアリールオキシ基が挙げられる。Ｒ45〜Ｒ54の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００６２】
このうち好ましくは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基等の電子吸引性基、もしくは、水素原子が挙げられ、Ｒ45〜Ｒ54の中で、少なくともひとつは水素原子でないものである。さらにはＲ45〜Ｒ54の少なくとも１つがフッ素原子、塩素原子またはシアノ基であり、残りは水素原子であるのが好ましい。
【００６３】
Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００６４】
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式（３）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００６５】
【化１４】
【００６６】
【化１５】
【００６７】
前記一般式（４）において、Ｃ及びＣ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ3とＲ4、及び、Ｒ9とＲ10は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ4は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００６８】
上記Ｃ及びＣ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００６９】
上記Ｃ及びＣ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００７０】
また、Ｃ及びＣ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては
、先のＸ3及びＸ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
【００７１】
また、式（４）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００７２】
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式（４）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００７３】
【化１６】
【００７４】
前記一般式（５）において、Ｄ及びＤ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。
Ｍ5は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記Ｄ及びＤ’のアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基が挙げられる。より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００７５】
上記Ｄ及びＤ’のアリール基の置換基としては、先のＸ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００７６】
また、Ｄ及びＤ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式（５）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００７７】
一般式（５）は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式（５）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００７８】
【化１７】
【００７９】
前記一般式（６）において、Ｒ11〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、置換されていても良いカルボニル基、置換されていても良いアルキル基、置換されていても良いアリール基、又は、置換されていてもよいヘテロアリール基である。特に好ましくは、水素原子、置換されていても良いアリール基である。Ｍ6は、上記Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００８０】
上記アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及びカルボニル基の置換基としては、上記Ｘ3及びＸ8で記載したのと同様の基が挙げられる。
また、上記Ｒ11〜Ｒ14の脂肪族炭化水素基及びアリール基及びヘテロアリール基の置換基が、一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００８１】
また、式（６）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００８２】
一般式（６）は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式（６）で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が挙げられる。
【００８３】
【化１８】
【００８４】
一般式（７）において、Ｒ15〜Ｒ30は、任意の置換基を表し、本発明の化合物の基本的性能を損なわない限り特に制限は無いが、例えば、Ｒ15〜Ｒ30の置換基としてあげたものと同様の基があげられる。
上記一般式（７）におけるＭ7は、フタロシアニン骨格と錯体を形成出来る元素であれ
ば、特に限定されないが、好ましくは銅原子、バナジウムオキシ基又は塩化スズ基が挙げられる。
【００８５】
上記一般式（７）で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平１０−７８５０９号公報、特開平１１−１１６８２６号公報、特開平１１−６５４６３号公報及び特開２０００−２６７４８号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、下記に記載したような含フッ素フタロシアニン系化合物が好ましい。
【００８６】
【化１９】
【００８７】
【化２０】
【００８８】
前記一般式（８）において、Ｒ31とＲ32、及び、Ｒ33とＲ34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は、置換されていても良いヘテロアリール基を示す。Ｍ8は、Ｍ1で記載したものと同様の金属を用いることができる。上記Ｒ31〜Ｒ34の脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基としては、Ｘ3及びＸ8であげたものと同様のものがあげられるが、より具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基；２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２，４−ペンタジエニル基等のアルケニル基；エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の１級又は２級アルキル基である。上記アリール基としては、フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。上記へテロアリール基としては、チエニル基、フリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基などがあげられる。
該Ｒ31〜Ｒ34の脂肪族炭化水素基及びアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8であげたものと同様のものがあげられる。
【００８９】
また、上記Ｒ31とＲ32、及び、Ｒ33とＲ34が一体となって−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ２−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）−ＣＨ2−等の置換されていても良いアルキレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−等の置換されていても良いアルケニレン基；−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い。
【００９０】
上記Ｒ31及びＲ32、Ｒ33及びＲ34として好ましくは無置換のアルキル基、または、置換基を有していても良いアルキル基、特に好ましくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子（特に好ましくはフッ素原子）、シアノ基、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基を有していても良いアルキル基である。
また、式（８）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｘ3及びＸ8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ’、Ｒ''、Ｒ''’、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００９１】
一般式（８）は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。一般式（８）で表される色素の好ましい具体例として、下記で表されるものがあげられる。
【００９２】
【化２１】
【００９３】
【化２２】
【００９４】
【化２３】
【００９５】
【化２４】
【００９６】
一般式（９）において、Ｒ35〜Ｒ42は、それぞれ独立に置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示し、ここで、Ｒ35〜Ｒ42は隣り合う２つの置換基同士が連結基を介して結合で結ばれていても良い。Ｒ35〜Ｒ42の置換基として、具体的には、一般式（１）のＸ3及びＸ8の説明で述べたものと同様の基が選ばれる。
【００９７】
また、Ｒ35〜Ｒ42は隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Ｘは陰イオンを示し、具体的には、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、過塩素酸アニオン、６フッ化アンチモン酸イオン、硝酸アニオン、ヘキサフルオロフォスフェイトアニオン、テトラフルオロボレートアニオンで表される１価の陰イオンを示す。
【００９８】
上記一般式（９）で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平１０−１８０９２号公報、特開平１１−１７０７００号公報、特開２０００−８００７１号公報、特開２０００−８１５１１号公報及び特開２００１−１７４６２６号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、日本化薬社製「ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ０２２」及び「ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ０２３」として市販されているような色素、並びに、日本カーリット社製「ＣＩＲ１０８０」、「ＣＩＲ１０８１」、「ＣＩＲ１０８３」及び「ＣＩＲ１０８５」として市販されているような色素が好ましい。
【００９９】
ここで、上記一般式（２）〜（６）、（８）で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常８００以下、好ましくは５００以下の物である。
また、上記一般式（２）〜（６）、（８）で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常５０００以上、好ましくは８０００以上の物である。
一般式（７）に記載のフタロシアニン化合物としては、分子量９００〜３０００、好ましくは、１０００〜２５００のものである。
【０１００】
また、上記一般式（７）で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常５０００以上、好ましくは８０００以上の物である。
一般式（９）に記載のジインモニウム化合物としては、分子量６００〜３０００、好ましくは、９００〜２１００のものである。
また、上記一般式（９）で表される化合物のモル吸光係数は、通常７００００以上、好ましくは９００００以上の物である。
【０１０１】
加えて、上記一般式（２）〜（９）で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常０．１％以上、好ましくは０．５％以上である。
尚、上記化合物（２）は、例えば、Russ. J. Gen. Chem., ６６巻、１８４２頁（１９９６年）に記載の方法で合成でき、上記化合物（３）は、例えば、特開２００１−８９４９２号公報に記載の方法で合成でき、化合物（４）は例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８８卷、５２０１頁（１９６６年）により合成でき、化合物（５）は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８８卷、４３頁及び４８７０頁（１９６６年）に記載の方法で合成でき、化合物（６）は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８７卷、１４８３頁（１９６５年）に記載の方法で合成でき、化合物（７）は、例えば、Ｔｈｅ Ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（２００３）に記載の方法で合成でき、化合物（８）は、例えば、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，１８６１頁（１９９４）に記載の合成方法で合成でき、化合物（９）は、例えば、特開昭６１−２４６３９１号公報に記載の方法で合成できる。
【０１０２】
（近赤外線吸収フィルター）
本願の近赤外線吸収フィルターは、上記一般式（１）で表される化合物を用いることにより、８００〜９８０ｎｍ付近に極大吸収を有し、さらに、上記（２）〜（１１）で表される化合物と組み合わせて用いることにより、７５０〜１０５０ｎｍの波長域をカバーする近赤外線吸収フィルターを効率的に得ることができる。
【０１０３】
加えて、プラズマディスプレイパネルにおいては、８２０〜８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ近辺の近赤外線発光が特に強いため、この部分の光線透過率が１５％以下とするのが好ましい。
また、可視光透過率が、特には４００〜４５０ｎｍにおける平均透過率が４５％以上であり、加えて、５５０〜６００ｎｍにおける透過率が６０％以上、好ましくは７０％以上であるため、車窓ガラスに用いた場合の景色の色再現性（明るさ）やディスプレイの画面の明るさ等を確保することもできるものである。
【０１０４】
本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐熱性も優れたものであり、８０℃の恒温槽での５００時間耐熱試験後に可視光領域に新たなピークが出ることもない。
本願フィルターとして好ましくは、上記耐熱試験での色素残存率が６０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上となるものである。ここで、色素残存率は、７５０〜１０５０ｎｍの領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。
【０１０５】
さらに、本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐光性富士フィルム（株）社製ＵＶカットフィルターを装着した状態でのキセノンランプによる２８０時間耐光性試験後の色素残存率も優れたものであり、好ましくは色素残存率が７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるものである。
（フィルターの製造方法）
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液をコーティングする方法、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂と溶融混錬してフィルム状に成形する方法などが挙られるが、近赤外線吸収色素に対する負荷を低減するため、塗工液をコーティングする方法の方が好ましい。
【０１０６】
以下に、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について詳細に説明する。
（基板）
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基材であればよく、特に制限はない。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
【０１０７】
これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合することができる。
透明基板は、これらの樹脂を、射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などなどの成形方法を用い、フィルム状に成形したものが用いられる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い。
【０１０８】
透明基板の厚みは、目的に応じて通常１０μｍ〜５ｍｍの範囲から選択される。
更に、透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
（近赤外線吸収色素層）
近赤外線吸収色素を含む塗工液は、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解又は分散させることにより、調製することができる。また、分散させる場合、近赤外線吸収色素を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常０．１〜３μｍに微粒子化し、バインダーとともに、溶剤に分散させて調製することもできる。
【０１０９】
このとき溶剤に溶解又は分散される近赤外線吸収色素、分散剤、およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常５〜５０重量％である。また、全固形分に対する金属錯体の濃度は、近赤吸収色素トータルとして通常０．１〜５０重量％、好ましくは０．２〜３０重量％である。また、一般式（１）で表される化合物の他に一般式（２）〜（１１）で表される化合物を併用する場合においては、同一層に併存させても良いし、別層として積層させても良いが、一般式（１）で表される化合物に対する一般式（２）〜（１１）で表される化合物の総量の比としては、１：０．１〜１：１０、好ましくは、１：０．２〜１：５である。
【０１１０】
尚、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収剤の濃度としては、当然のことながら、近赤外線吸収フィルターの膜厚にも依存するため、溶融混練してフィルム状に成形するような場合には、上述の色濃度よりは低くなる。
分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、通常０〜１００重量％、好ましくは０〜７０重量％である。
【０１１１】
バインダーとしては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。その使用量は、バインダーに対して金属錯体化合物が、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である。
溶媒としては、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【０１１２】
また、近赤外線吸収色素を含む塗工液には、必要に応じて、上記以外の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。
【０１１３】
金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように塗布される。
【０１１４】
（紫外線カット層）
本発明の赤外線吸収フィルターは、さらに紫外線カット層を設けることにより、金属錯体との相乗効果によって、赤外線吸収フィルターの耐光性を著しく向上させることができる。紫外線カット層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よくカットできるものであり、３５０ｎｍの波長の光を７０％以上吸収できることが好ましい。紫外線カット層の種類については、特に制限されないが、好ましくは紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム（紫外線カットフィルム）が好ましい。
【０１１５】
紫外線カット層に用いられる紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等が挙げられるが、無機系紫外線吸収剤の場合は紫外線カット層中で微粒子状態で存在しているため、赤外線吸収フィルターの効率を損なう恐れがあることから、有機系紫外線吸収剤が好ましい。
【０１１６】
このような紫外線吸収剤としては、例えば、チバガイギー（株）のチヌビンＰ、チヌビン１２０、２１３、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、３８４、４００、５７１、住友化学（株）のスミソーブ２５０、３００、５７７、共同薬品（株）バイオソーブ５８２、５５０、５９１、城北化学（株）のＪＦー８６、７９、７８、８０、旭電化（株）のアデカスタブＬＡ−３２，ＬＡ−３６，ＬＡ−３４、シプロ化成（株）のシーソルブ１００、１０１、１０１Ｓ、１０２、１０３、５０１、２０１、２０２、６１２ＮＨ、大塚化学（株）のRUVA９３、３０Ｍ、３０Ｓ、ＢＡＳＦ（株）のユービナール３０３９等が挙げられる。
【０１１７】
これらの紫外線吸収剤は、単独で用いても良いが、数種類組み合わせても良い。また、紫外線を吸収して可視領域に波長変換するチバガイギー（株）のユービテックスＯＢ，ＯＢ−Ｐ等の蛍光増白剤も利用できる。
また、紫外線カットフィルムは、市販のＵＶカットフィルターを使用することもでき、例えば、富士フィルム（株）のＳＣ−３８、ＳＣ−３９、ＳＣ−４２、三菱レーヨン（株）のアクリプレン等が挙げられる。上記のＵＶカットフィルター、ＳＣ−３９、アクリプレンは、ともに３５０ｎｍの波長を９９％以上吸収する紫外線カットフィルムである。
【０１１８】
このように紫外線吸収槽を設けた本発明の近赤外線吸収フィルターは、Ｘｅランプを２００時間照射することによる耐光性試験後の色素残存率が８０％以上、好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上となり、可視光領域に新たな吸収ピークが出てくることもない。ここで、色素残存率は、８００〜１１００ｎｍ領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。
【０１１９】
上記近赤外線吸収フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いてもよい。
また、本発明により得られる近赤外線吸収フィルターは、本発明のディスプレイパネル用フィルター以外にも、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
【０１２０】
３．電子ディスプレイ用フィルター
さらに、本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止層（ノングレア層）、色調補正層を設け、電子ディスプレイ用、より好ましくはプラズマディスプレイパネル用フィルターとして使用することができる。
【０１２１】
本発明の電子ディスプレイ用フィルターは、上記近赤外線吸収フィルターを用いている他は、通常、用いられる構成や製造方法等を任意にとることができ、特に限定されるものではないが、以下にプラズマディスプレイパネル用フィルターとして用いる場合を代表例として説明する。
（電磁波カット層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる電磁波カット層としては、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
【０１２２】
（反射防止層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる反射防止層としては、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【０１２３】
（色調補正層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる色調補正層としては、プラズマディスプレイから発せられる５９０〜６００ｎｍの波長域のネオンオレンジ光をカットできれば特に限定されず、公知のスクアリリウム系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、ピロメテン系化合物、ジピロメテン系化合物等の化合物を含有させる。また、消光時のディスプレイの色がニュートラルグレーになるようにその他の色素を添加することもある。
【０１２４】
（ノングレア層）
また、上述の各層の他にぎらつき防止層（ノングレア層）も設けてもよい。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
【実施例】
【０１２５】
以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
実施例１
下式に示す化合物（Ａ）（３４．３ｍｇ）をトルエン０．８０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）３．２ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１２６】
【化２５】
【０１２７】
このフィルターのλｍａｘは８５１ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５１ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれ、８５．６％及び９８．９％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１２８】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３９）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８５１ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射後の強度÷照射前の強度×１００）は９６．６％と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１２９】
実施例２
実施例１において、化合物（Ａ）にかえて下式に示す化合物（Ｂ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１３０】
【化２６】
【０１３１】
このフィルターのλｍａｘは８５５ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５５ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれこのフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３、９７．４％及び１００．０％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。９）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８５５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射後の強度÷照射前の強度×１００）は９５．１％と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１３２】
実施例３
下記に示す化合物（Ｃ）（３４．３ｍｇ）をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＴＨＦ溶液（樹脂濃度３０重量％）３．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１３３】
【化２７】
【０１３４】
このフィルターのλｍａｘは８５６ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５６ｎｍにおける耐久試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれ、９６．２％及び９９．０％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１３５】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３９）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８５６ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射後の強度÷照射前の強度×１００）は９６．７％と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１３６】
以下の実施例および比較例は、２種の近赤外線吸収色素を混合した近赤外線吸収フィルターを製造するものであるが、近赤外線吸収フィルターの８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下になるように近赤外線吸収色素の量を調節して製造した。
【０１３７】
実施例４
下式に示す化合物（Ａ）（０．０９９ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０６８４ｇ）をトルエン２．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）８．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１３８】
【化２８】
【０１３９】
この近赤外線吸収フィルターは、８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下であり、ＰＤＰ本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図１（耐熱性結果）、図２（耐湿熱性結果）と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１４０】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図３に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１４１】
実施例５
化合物（Ａ）に変えて下式に示す化合物（Ｂ）を用いた以外は実施例４と同様の方法により、下式に示す化合物（Ｂ）および下式（Ｄ）に示す化合物（０．０６８４ｇ）を含有する近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１４２】
【化２９】
【０１４３】
この近赤外線吸収フィルターは、８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下であり、ＰＤＰ本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図４（耐熱性結果）、図５（耐湿熱性結果）と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１４４】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図６に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
【０１４５】
実施例６
下式に示す化合物（Ｃ）（０．０９９ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０６８４ｇ）をＴＨＦ３．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＴＨＦ（樹脂濃度３０重量％）８．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１４６】
【化３０】
【０１４７】
この近赤外線吸収フィルターは、８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍでの透過率が２０％以下であり、ＰＤＰ本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図７（耐熱性結果）、図８（耐湿熱性結果）と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１４８】
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図９に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
以下の表１〜３に、実施例４〜６の近赤外線吸収フィルター耐熱性、耐湿熱性、および耐光性試験前後（試験前に対する試験後）の８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍにおける透過率の変化を、図１〜９に試験前後の透過スペクトルを示す。
【０１４９】
【表１】
【０１５０】
【表２】
【０１５１】
【表３】
【０１５２】
実施例１〜６により、本発明の近赤外線吸収フィルターは耐熱性、耐湿熱性、および耐光性に優れていることが明らかである。
【０１５３】
実施例７
実施例４と同様の方法で調製したインク液を７日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。（図１０）
実施例８
実施例５と同様の方法で調製したインク液を７日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。（図１１）
実施例９
実施例６と同様の方法で調製したインク液を７日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。（図１２）
以下の表４に、実施例７〜９のインク液を７日間室温で、放置する前後（放置前に対する放置後）の８２５ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍにおける透過率の変化を示す。
【０１５４】
【表４】
【０１５５】
比較例１
下式に示す化合物（Ｅ）（０．０６８６ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０７４０ｇ）をトルエン１．６ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）６．４を添加し、超音波をかけて溶解させ塗工液を調製した。
【０１５６】
【化３１】
【０１５７】
この塗工液を室温で、７日間放置し、その前後の透過スペクトルを観察したところ、スペクトル形状に顕著な変化があり、この塗工液は、不安定であった。（図１３）
比較例２
下式に示す化合物（Ｆ）（０．０６８６ｇ）、下式（Ｄ）に示す化合物（０．０７４０ｇ）をＴＨＦ２．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＴＨＦ溶液（樹脂濃度３０重量％）８．０を添加し、超音波をかけて溶解させ塗工液を調製し、塗工液をろ過した。
【０１５８】
【化３２】
【０１５９】
この塗工液を室温で、７日間放置し、その前後の透過スペクトルを観察したところ、スペクトル形状に顕著な変化があり、この塗工液は、不安定であった。（図１４）
実施例７〜９と、比較例１および２とを対比することにより、本発明の近赤外線吸収フィルターは、他の近赤外線吸収色素と混合した場合に、従来のジチオレート系色素と対比して経時的なスペクトルの変化が非常に少なく、安定した近赤外線吸収フィルターであることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】実施例４における、耐熱性試験結果を示す図である。
【図２】実施例４における、耐湿熱性試験結果を示す図である。
【図３】実施例４における、耐光性試験結果を示す図である。
【図４】実施例５における、耐熱性試験結果を示す図である。
【図５】実施例５における、耐湿熱性試験結果を示す図である。
【図６】実施例５における、耐光性試験結果を示す図である。
【図７】実施例６における、耐熱性試験結果を示す図である。
【図８】実施例６における、耐湿熱性試験結果を示す図である。
【図９】実施例６における、耐光性試験結果を示す図である。
【図１０】実施例７における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１１】実施例８における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１２】実施例９における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１３】比較例１における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【図１４】比較例２における透過スペクトルの形状変化を示す図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
（一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の基である。
Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。
Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10はそれぞれ独立に１価の基であって、隣り合う基が連結基を介して結合してもよい。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を少なくとも一種類以上含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルター。
【請求項２】
Ｘ1ならびにＸ6が、炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子のうち少なくとも１種類の原子が鎖状に３以上連結した基である、請求項１に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項３】
Ｘ2および／またはＸ4、ならびにＸ7および／またはＸ9が炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計２以上有する基である請求項１または２に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項４】
さらに紫外線カット層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項５】
請求項１〜４に記載の近赤外線吸収フィルターを用いた電子ディスプレイ用フィルター。
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
（一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に１価の基である。
Ｘ1およびＸ6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計３以上有する１価の基である。
Ｘ2〜Ｘ5及びＸ7〜Ｘ10はそれぞれ独立に１価の基であって、隣り合う基が連結基を介して結合してもよい。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を少なくとも一種類以上含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルター。
【請求項２】
Ｘ1ならびにＸ6が、炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子のうち少なくとも１種類の原子が鎖状に３以上連結した基である、請求項１に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項３】
Ｘ2および／またはＸ4、ならびにＸ7および／またはＸ9が炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種類の原子を合計２以上有する基である請求項１または２に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項４】
さらに紫外線カット層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項５】
請求項１〜４に記載の近赤外線吸収フィルターを用いた電子ディスプレイ用フィルター。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２０１１−１８０４８（Ｐ２０１１−１８０４８Ａ）
【公開日】平成２３年１月２７日（２０１１．１．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１５７６９４（Ｐ２０１０−１５７６９４）
【出願日】平成２２年７月１２日（２０１０．７．１２）
【分割の表示】特願２００５−２０６２０（Ｐ２００５−２０６２０）の分割
【原出願日】平成１７年１月２８日（２００５．１．２８）
【出願人】（３９６０２０４６４）株式会社エーピーアイ コーポレーション (39)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１月２７日（２０１１．１．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月１２日（２０１０．７．１２）
【分割の表示】特願２００５−２０６２０（Ｐ２００５−２０６２０）の分割
【原出願日】平成１７年１月２８日（２００５．１．２８）
【出願人】（３９６０２０４６４）株式会社エーピーアイ コーポレーション (39)
【Ｆターム（参考）】
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