ＤＮＡ断片増幅方法、ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置およびその製造方法
反応装置（１０）は、基板（１２）と、基板（１２）上に形成された複数の柱状体（１４）とを含む。基板（１２）および柱状体（１４）の表面には、初期鋳型ＤＮＡ（１８）の両端部の配列と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチド（１６）が付着している。初期鋳型ＤＮＡ（１８）を伸張させた状態で導入することにより、初期鋳型ＤＮＡ（１８）を隣接する柱状体（１４）にまたがって固定することができる。この状態で、ＰＣＲを行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は、比較的長いＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
特定のＤＮＡ断片を増幅する方法としてポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ：Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ Ｃｈａｉｎ Ｒｅａｃｔｉｏｎ）が知られている（たとえば米国特許第４，６８３，１９５号明細書）。通常のＰＣＲ工程において、まず、目的のＤＮＡを熱変性して一本鎖とし、得られた一本鎖のＤＮＡに、そのＤＮＡの端部の塩基配列と相補的な塩基配列を有するプライマーをアニーリングにより結合させる。その後、ＤＮＡポリメラーゼによる相補鎖ＤＮＡの伸長反応を行い、これらのサイクルを繰り返すことにより、指数関数的に目的のＤＮＡを増幅させる。
従来、ＤＮＡ等の鎖状高分子に電界を印加することなく伸張させた状態で走査トンネル顕微鏡を用いた観察を行うために、ＤＮＡの一端を電極に接し、他端を電極と垂直に伸ばした状態で溶液を加熱し、これによって分子を伸張したまま基板に付着させ、固定する技術が開示されている（たとえば日本国特許第３０６４００１号明細書）。
【発明の開示】
しかし、従来のＰＣＲでは、たとえば数十ｋｂ以上の比較的長いＤＮＡ断片を鋳型としてＰＣＲにより増幅させるのは困難であった。
上記の事情に鑑み、本発明は、鋳型のＤＮＡ断片が長い場合であっても、効率よく増幅することのできる技術を提供することを目的とする。
本願の発明者は、たとえば数十ｋｂ以上の比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とするＰＣＲを効率よく行うことができない原因は、鋳型のＤＮＡ断片が長すぎるためにねじれてしまい、そのために相補鎖ＤＮＡの伸長反応が途中で止まってしまうためだと考え、本発明を考案するに至った。最初に鋳型となる長いＤＮＡ断片、たとえば染色体ＤＮＡまたはこれを超音波等で切断したＤＮＡ断片は、増幅対象部分以外の配列を多く含むことから大きいねじれが生じ、ＤＮＡ増幅時の障害となる。このような場合、そのＤＮＡ断片のねじれを防ぐことにより第一次相補鎖の伸長反応を効率よく行うことができると考えられる。
本発明によれば、ＤＮＡ断片の増幅を行う方法であって、ＤＮＡ断片を、基材表面に形成された結合部に結合する工程と、ＤＮＡ断片を基材表面に結合させた状態で、ＤＮＡ断片を鋳型として当該ＤＮＡ断片の相補鎖を合成する工程と、を含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法が提供される。
このようにすれば、ＤＮＡ断片の相補鎖を合成する際に、鋳型となるＤＮＡ断片が基材表面に結合して固定されているので、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とする場合であっても、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分よりも外側に位置するＤＮＡ配列と結合するように構成することができる。
ここで、外側とは、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分以外の部分である。増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側２カ所を基材表面に結合してもよく、片外側１カ所のみを基材表面に結合してもよい。ＤＮＡ断片の片外側１カ所のみを基材表面に結合した場合は、相補鎖の合成時にたとえば反応場に流速を生じさせ、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で相補鎖の合成を行うことが好ましい。このようにすれば、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことができる。
このようにすれば、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と結合部の固定用オリゴヌクレオチドとが水素結合により結合するので、ＤＮＡ断片を結合部に結合することができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側に位置するＤＮＡ配列と相補的な配列を有する２種以上の固定用オリゴヌクレオチドを含むことができる。
このようにすれば、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側２カ所と結合部の固定用オリゴヌクレオチドとが水素結合により結合するので、ＤＮＡ断片を２点で結合部に結合することができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、基材表面に結合することができる。
このようにすれば、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、たとえばせん断応力を利用することにより、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で基板表面に結合することができる。せん断応力としては、反応場に流速を生じさせる方法、また反応場に回転を与える方法が挙げられる。
また、本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、ＤＮＡ断片に低周波電界を印加することによりＤＮＡ断片を伸張させた状態で、基材表面に結合することができる。ここで、低周波電界とは、たとえば１００Ｈｚ以下の電界とすることができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、ＤＮＡ断片に高電界を印加することによりＤＮＡ断片を伸張させた状態で、基材表面に結合することができる。ここで、高電界とは、たとえば５００ｋＨｚ以上の電界とすることができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程の後に、基材表面を伸張する工程をさらに含むことができる。
このようにすれば、ＤＮＡ断片のねじれをさらに低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、相補鎖を合成する工程は、鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する工程を含むことができ、結合する工程においても、分離する工程においてもＤＮＡ断片が結合部から分離しないように、当該ＤＮＡ断片を結合部に固定することができる。
鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する工程では、通常約９５℃の温度が加えられる。本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、このような温度が加えられた場合であっても、ＤＮＡ断片が結合部から分離しないようにＤＮＡ断片を結合部に固定しておくことが好ましい。たとえば、結合部が上述した固定用オリゴヌクレオチドを含む場合、ＤＮＡ断片と結合部とを水素結合で結合しただけでは、鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する工程において、ＤＮＡ断片と結合部との結合もはずれてしまう可能性がある。本発明において、このような場合にもＤＮＡ断片と結合部との結合がはずれないように、ＤＮＡ断片と結合部とをたとえば共有結合で固定する。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、増幅対象のＤＮＡ断片は、１０ｋｂ以上の長さを有することができる。従来の増幅方法では、このような比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とした場合に、ＤＮＡ断片のねじれが発生する可能性があるが、本発明のＤＮＡ断片増幅方法によれば、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とした場合でも、ＤＮＡ断片のねじれを低減して、増幅反応を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の一部と結合するように構成されてよく、相補鎖を合成する工程の途中で、ＤＮＡ断片と結合部との結合を解除する工程をさらに含むことができる。ＤＮＡ断片と結合部との結合を解除する方法としては、約７５℃〜８５℃程度の熱を加えることができる。上述したように、鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する際には約９０℃程度の熱が加えられるが、結合部とＤＮＡ断片との結合は、ＤＮＡ断片と相補鎖との結合に比べて結合するＤＮＡの塩基数が非常に小さい。結合しているＤＮＡの塩基数が少ない方が、ＤＮＡの塩基数が多い場合に比べて二本鎖間の結合力が弱く、約７５℃〜８５℃程度の温度を加えると鋳型ＤＮＡと伸長中の相補鎖とは分離しないが、結合部とＤＮＡ断片との結合を解除することができる。鋳型としたＤＮＡ断片の相補鎖がある程度伸長した段階で鋳型としたＤＮＡ断片と結合部とを分離することにより、結合部分と相補的な配列も合成することができる。これにより、合成された相補鎖も結合部分を含むので、次の増幅工程で、相補鎖をも基材表面に固定することができ、比較的長いＤＮＡ断片の増幅を効率よく行うことができる。
本発明によれば、ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置であって、基材表面と、基材表面に形成され、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部と、を含むことを特徴とする反応装置が提供される。
このように構成された反応装置に増幅対象のＤＮＡ断片を導入すれば、ＤＮＡ断片が結合部に結合して固定されるので、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とする場合であっても、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、ＤＮＡ断片の増幅を良好に行うことができる。
本発明の反応装置において、結合部は、所定の間隔で設けられた複数の領域に形成することができる。ここで、各領域の間隔は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の長さと同等程度とされることが好ましい。このようにして、ＤＮＡ断片の増幅対象部分の外側のＤＮＡ配列を結合部と結合させれば、ＤＮＡ断片をある程度伸張させた状態で基材表面に固定することができるので、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができる。
本発明の反応装置において、結合部は、基材表面に形成された複数の突起部を含むことができる。ここで、突起部は微細加工により形成された柱状体とすることができる。突起部の間隔は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の長さと同等程度とされることが好ましい。このようにして、ＤＮＡ断片の増幅対象部分の外側のＤＮＡ配列を結合部と結合させれば、ＤＮＡ断片をある程度伸張させた状態で基材表面に固定することができるので、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができる。また、結合部が突起部を有することにより、ＤＮＡ断片が突起部にひっかかり、固定をしやすくなる。
本発明の反応装置において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の両外側２点と結合するように構成することができる。このようにすれば、ＤＮＡ断片をある程度伸張させた状態で基材表面に固定することができるので、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができる。
本発明の反応装置において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことができる。
本発明の反応装置において、基材は、伸張可能な材料により構成することができる。基材は、たとえばゴムやプラスチック材料により構成することができる。
また、本発明の反応装置は、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で固定する手段をさらに含むことができる。このような手段としては、低周波電界や高電界を印加する電界付与手段や、反応場にせん断応力を与えるせん断応力付与手段を挙げることができる。せん断応力付与手段としては、反応場に流速を生じさせるたとえば攪拌部や、反応容器を回転させる回転手段等が例示される。
本発明によれば、ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置の製造方法であって、基材表面に、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部を形成する工程と、増幅対象のＤＮＡ断片を結合部に結合する工程と、を含むことを特徴とする反応装置の製造方法が提供される。
本発明の反応装置の製造方法において、結合部を形成する工程では、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを基材表面に固定することができる。
本発明の反応装置の製造方法において、ＤＮＡ断片を結合する工程では、当該ＤＮＡ断片を、伸張させた状態で基材表面に結合することができる。
本発明の反応装置の製造方法において、ＤＮＡ断片を結合する工程の後に、基材表面を伸張する工程をさらに含むことができる。
本発明によれば、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型として用いた場合であっても、良好にＤＮＡを増幅することができる。
【図面の簡単な説明】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
図１は、本発明の実施の形態におけるＰＣＲ法の手順を示すフローチャートである。
図２は、本発明の実施の形態における反応装置の製造工程を示す斜視図である。
図３は、本発明の実施の形態で用いられる初期鋳型ＤＮＡの一例を示す図である。
図４は、本発明の実施の形態における反応装置の柱状体の形成方法を示す図である。
図５は、本発明の実施の形態における反応装置の柱状体の形成方法を示す図である。
図６は、本発明の実施の形態における反応装置の柱状体の形成方法を示す図である。
図７は、本発明の実施の形態における反応装置の製造工程を示す図である。
図８は、本発明の実施の形態における反応装置の構成を示す図である。
図９は、本発明の実施の形態における反応装置の製造工程を示す図である。
図１０は、本発明の実施の形態における初期鋳型ＤＮＡの固定方法を示す図である。
図１１は、本発明の実施の形態における反応装置を示す図である。
図１２は、本発明の実施の形態における反応装置の他の例を示す図である。
図１３は、本発明の実施の形態における初期鋳型ＤＮＡの増幅方法を示す図である。
図１４は、本発明の実施の形態におけるＤＮＡ鎖の固定方法を示す概念図である。
図１５は、本発明の実施の形態における基板の作製方法を示す工程図である。
【発明を実施するための最良の形態】
図１は、本発明の実施の形態におけるＰＣＲ法の手順を示すフローチャートである。
まず、増幅対象部分を含む染色体ＤＮＡを超音波等で切断して初期鋳型ＤＮＡを得る（Ｓ１０）。このとき、染色体ＤＮＡはランダムに切断されるが、一部の断片が増幅対象部分と、当該増幅対象部分の両外側に位置する固定用部分とを含むように切断される。この一部の断片が初期鋳型ＤＮＡとして機能する。本実施の形態において、初期鋳型ＤＮＡを鋳型として初期鋳型ＤＮＡの増幅対象部分の第一次相補鎖が合成され、その後は合成された相補鎖を鋳型として順次対応する相補鎖が合成される。初期鋳型ＤＮＡはランダムに切断されたものなので、増幅対象部分以外の塩基配列をも含み、長い構造となっている。そのため、初期鋳型ＤＮＡはそのままの状態だと鋳型として機能させるのは困難である。本実施の形態において、初期鋳型ＤＮＡを固定して相補鎖を合成した後は、その相補鎖は増幅対象部分だけで構成されているので、固定しなくても対応する相補鎖を効率よく合成することができる。これにより、初期鋳型ＤＮＡの増幅対象部分を準指数関数的に増幅することができる。
次に、アルカリまたは熱により初期鋳型ＤＮＡ断片を変性させ、二本鎖の初期鋳型ＤＮＡ断片を一本鎖にする（Ｓ１２）。一方、初期鋳型ＤＮＡ断片を固定させるための固定表面を形成しておく（Ｓ１４）。固定表面には、初期鋳型ＤＮＡ断片と化学結合を形成する固定用オリゴヌクレオチドを固定しておく。固定用オリゴヌクレオチドは、初期鋳型ＤＮＡの固定用部分と相補的な配列を有する。固定表面の形成方法については各実施の形態において後述する。
つづいて、一本鎖にした初期鋳型ＤＮＡ断片を固定表面の固定用オリゴヌクレオチドに化学結合により付着させる（Ｓ１８）。ここでは、固定用オリゴヌクレオチドは初期鋳型ＤＮＡ断片の固定用部分と相補的な配列を有するため、初期鋳型ＤＮＡ断片と固定用オリゴヌクレオチドとが水素結合を形成する。次いで、この後のＰＣＲ工程において、熱が加えられても初期鋳型ＤＮＡ断片と固定用オリゴヌクレオチドとの結合が切断されないように、初期鋳型ＤＮＡ断片を固定表面に固定する（Ｓ２０）。ここで、たとえばプソラレン等のクロスリンカーを用いて、初期鋳型ＤＮＡ断片と固定用オリゴヌクレオチドとを共有結合で結合することができる。
このとき、初期鋳型ＤＮＡは、伸張させた状態で固定用オリゴヌクレオチドに付着させるか（Ｓ１６）、または固定用オリゴヌクレオチドに固定した後に初期鋳型ＤＮＡを伸張させる等して、初期鋳型ＤＮＡを伸張させた状態で以下のＰＣＲ工程を行う。
まず、固定表面を、ＰＣＲ用の反応容器に導入する。次いで、ＰＣＲ用バッファ溶液、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼ、デオキシリボヌクレオチド三リン酸（ｄＮＴＰ：ｄＡＴＰ、ｄＧＴＰ、ｄＣＴＰ、ｄＴＴＰの混合物）を所定量ずつ混合した反応溶液を調整して反応容器に導入する。つづいて、プライマーとなるオリゴヌクレオチドの融解温度に応じ、たとえば約５０℃〜７０℃の温度を加え、プライマーを初期鋳型ＤＮＡ断片にアニーリングして結合させる（Ｓ２２）。次いで、使用する耐熱性ＤＮＡポリメラーゼの最適反応温度に応じ、たとえば約７０℃で反応させ、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼにより初期鋳型ＤＮＡ断片の相補鎖ＤＮＡを合成する（Ｓ２４）。
この後、たとえば約９５℃の温度を加え、合成された初期鋳型ＤＮＡ断片および相補鎖ＤＮＡを変性させ、一本鎖とし、アニーリング、相補鎖伸長、変性の通常のＰＣＲ工程を繰り返す。また、使用する耐熱性ＤＮＡポリメラーゼの性質に応じ、２温度反応系を利用することもできる。
本発明の実施の形態において、初期鋳型ＤＮＡ断片を伸張させた状態で固定表面に固定してＰＣＲ工程を行うため、初期鋳型ＤＮＡ断片が長い場合であっても、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、良好にＤＮＡの増幅を行うことができる。
（第一の実施の形態）
図２は、本実施の形態における反応装置１０の製造工程を示す斜視図である。
反応装置１０は、基板１２と、基板１２上に形成された複数の柱状体１４とを含む（図２（ａ））。なお、ここでは基板１２を平面として示しているが、基板１２の柱状体１４が形成された領域は、くぼみ状に形成することもでき、基板１２に種々の試薬を導入可能に構成することもできる。また、基板１２を反応容器に導入した状態で、反応容器内に種々の試薬を導入することもできる。
ここで、柱状体１４は、円柱として示されているが、楕円柱等、擬円柱形状；円錐、楕円錐、三角錐、四角錐等の錐体；三角柱、四角柱等の角柱のほか、ストライプ状の突起等、初期鋳型ＤＮＡ断片を固定可能な突起部が形成されていればどのような形状とすることもできる。各柱状体１４の間隔ｄは、初期鋳型ＤＮＡを伸張させた状態で、初期鋳型ＤＮＡの増幅対象部分の両外側に設けられた固定用部分間の距離と同等、または固定用部分間の距離よりもわずかに短い長さとすることができる。初期鋳型ＤＮＡの長さは、たとえば、２〜１００ｋｂとすることができる。ＤＮＡの長さは１ｂｐで約０．３３ｎｍであるので、各柱状体１４の間隔ｄは、たとえば、約６００ｎｍ〜３５μｍとすることができる。
基板１２は、シリコン、ガラス、石英、各種プラスチック材料、またはゴム等の弾性材料により構成される。プラスチック材料としては、成形加工が容易な材料が好ましく用いられ、たとえばＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等のプラスチック材料が例示される。基板１２および柱状体１４表面は、金（Ａｕ）等の金属により被覆することもできる。基板１２および柱状体１４表面は、清浄な状態に保たれることが好ましい。基板１２をシリコンにより構成した場合、基板１２および柱状体１４表面はシリコン酸化膜（ＳｉＯ２）により被覆された状態とすることもできる。
以上のように構成された基板１２および柱状体１４表面に、初期鋳型ＤＮＡの固定用部分と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチド１６を付着させる（図２（ｂ））。基板１２をガラスにより構成した場合、基板１２および柱状体１４表面をシリコン酸化膜により被覆した場合、または金属により被覆した場合、基板１２および柱状体１４表面を清浄な状態としておくことにより、固定用オリゴヌクレオチド１６を基板１２および柱状体１４表面に吸着させることができる。
以下、基板１２がシリコンにより構成される場合を例として説明する。この場合、固定用オリゴヌクレオチド１６としては、たとえば５’末端にチオール基を付けたものを用いることができる。この場合、基板１２および柱状体１４表面には、予めチオールと結合する化合物を固定しておく。このような化合物の固定方法について説明する。まず、基板１２をたとえば１：１の濃ＨＣｌ：ＣＨ３ＯＨで約３０分間浸し、蒸留水で洗浄した後濃Ｈ２ＳＯ４に約３０分間浸し、蒸留水で洗浄した後、脱イオン水中で数分間煮沸させる。つづいて、たとえば１％蒸留トリメトキシシリルプロピルジエチレントリアミン（ＤＥＴＡ）溶液またはＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＥＤＡ）（１ｍＭ酢酸水溶液中）等のアミノシランを基板１２に導入し、室温で約２０分間反応させる。これにより、基板１２表面にＤＥＴＡまたはＥＤＡが固定される。この後、蒸留水で残さを洗浄し、不活性ガス雰囲気下で約１２０℃で３〜４分加熱して乾燥させる。つづいて、１％のｍ，ｐ−（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン（ＰＥＤＡ）溶液（９５：５のＣＨ３ＯＨ：１ｍＭ酢酸水溶液中）を室温で約２０分間基板１２に作用させ、次いでＣＨ３ＯＨで洗浄する。その後、不活性ガス雰囲気下で約１２０℃で３〜４分加熱して乾燥させる。
つづいて、１ｍＭのスクシンイミジル４−［マレイミドフェニル］ブチレート（ＳＭＰＢ）溶液等の二官能性のクロスリンカーを準備し、少量のＤＭＳＯに溶解後、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、またはＤＭＳＯとＣ２Ｈ５ＯＨ、ＤＭＳＯとＣＨ３ＯＨとの混合溶媒で希釈する。基板１２をこの希釈溶液に室温で約２時間浸し、希釈溶媒で洗浄した後不活性ガス雰囲気下で乾燥する。
これにより、ＳＭＰＢのエステル基がＥＤＡ等のアミノ基と反応し、基板１２および柱状体１４表面にマレイミドが露出した状態となる。このような状態で、反応装置１０にチオール基が付いた固定用オリゴヌクレオチド１６を導入すると、固定用オリゴヌクレオチド１６のチオール基と基板１２および柱状体１４表面のマレイミドとが反応し、固定用オリゴヌクレオチド１６が基板１２および柱状体１４表面に固定される（たとえばＣｈｒｉｓｅｙら、Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，１９９６，Ｖｏｌ．２４，Ｎｏ．１５，３０３１頁〜３０３９頁）。これにより、基板１２および柱状体１４表面に固定用オリゴヌクレオチド１６を固定することができる。
その後、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態で、基板１２および柱状体１４表面に初期鋳型ＤＮＡ１８を付着させる（図２（ｃ））。初期鋳型ＤＮＡ１８は、上述したように、通常のＰＣＲの初期鋳型ＤＮＡと同様の手法で準備することができる。たとえば染色体ＤＮＡのように巨大なＤＮＡを用いる場合、まず、超音波等で切断してＤＮＡ断片とし、つづいてアルカリまたは熱によりＤＮＡ断片を変性させて一本鎖にする。このようにして一本鎖としたＤＮＡ断片を基板１２および柱状体１４表面に作用させると、基板１２および柱状体１４表面には固定用オリゴヌクレオチド１６が固定されているので、初期鋳型ＤＮＡ１８の固定用部分は固定用オリゴヌクレオチド１６と相補的な結合を形成する。このとき、図示したように、初期鋳型ＤＮＡ１８の一部は、収縮した状態や丸まった状態で付着する可能性があるが、少なくとも一部が複数の柱状体１４間にまたがって付着していれば、その初期鋳型ＤＮＡ１８を鋳型としてこの後のＰＣＲをスムーズに進行させることができる。
初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させるために、たとえば、基板１２に低周波電界を印加した状態で基板１２に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入する。ここで、低周波電界とは、たとえば１００Ｈｚ以下の電界とすることができる。これにより、ランダムコイル状の初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させることができる。また、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させるために、たとえば、基板１２に高電界を印加した状態で基板１２に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入することもできる。ここで、高電界とは、たとえば５００ｋＨｚ以上の電界とすることができる。これにより、誘電泳動が生じ、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させることができる。
さらに、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させるために、せん断応力を利用することもできる。たとえば、スプレーで初期鋳型ＤＮＡ１８を噴霧して基板１２および柱状体１４表面に付着させる方法、反応場に流速を生じ、その中に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入して基板１２および柱状体１４表面に付着させる方法等がある。流速を生じさせるための方法の一つとして、たとえば基板１２を回転させながら反応場に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入して基板１２および柱状体１４表面に付着させることができる。
つづいて、初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６に固定する（図２（ｄ））。初期鋳型ＤＮＡ１８と固定用オリゴヌクレオチド１６との固定には、たとえば４，５’，８−トリメチルプソラレン等のプソラレン２０を用いる。プソラレン２０は、ＤＮＡの二本鎖配列の間にインターカレートし、３２０ｎｍ〜４００ｎｍ程度の光を照射することにより、隣接するピリミジン塩基と結合して二本鎖間を強力に結合する。この工程の後、基板１２および柱状体１４表面に固定されなかった初期鋳型ＤＮＡ１８をたとえばバッファ等で洗い流して除去することができる。
このようにして基板１２および柱状体１４表面に初期鋳型ＤＮＡ１８が固定された反応装置１０に、ＰＣＲ用バッファ溶液、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼ、デオキシリボヌクレオチド三リン酸（ｄＮＴＰ：ｄＡＴＰ、ｄＧＴＰ、ｄＣＴＰ、ｄＴＴＰの混合物）を所定量ずつ混合した反応溶液を調整して導入する。
この後、反応場の温度を適宜調整することにより、ブライマーの初期鋳型ＤＮＡ１８へのアニーリング、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼによる初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖ＤＮＡの伸長を行う。初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖が形成された後、今度はこれらの相補鎖をも鋳型として変性、アニーリング、相補鎖伸張の通常のＰＣＲ工程を所定回数行う。初期鋳型ＤＮＡ１８を鋳型として形成された相補鎖は、固定しなくても鋳型として機能し得る長さなので、この後は効率よく相補鎖の伸張を行うことができる。これにより、初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖を準指数関数的に増幅させることができる。
図３は、本実施の形態で用いられる初期鋳型ＤＮＡの一例を模式的に示す図である。
図３（ａ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡは、５’末端側からＤＮＡ配列Ａ’、Ｄ’、Ｂ’を有する初期鋳型ＤＮＡ１８ａと、５’末端側からＤＮＡ配列Ｂ、Ｃ’、Ａを有する初期鋳型ＤＮＡ１８ｂとの二本鎖を分解したものである。ここで、ＤＮＡ配列Ａ’、Ｂ’、Ａ、およびＢは、固定用部分として機能する。また、ＤＮＡ配列Ｄ’およびＣ’は、増幅対象部分の開始点で、プライマーが結合する部分として機能する。ここで、ＡはＡ’と相補的な配列、ＢはＢ’と相補的な配列、ＣはＣ’と相補的な配列、ＤはＤ’と相補的な配列を示す。
図３（ｂ）は、基板１２に付着した固定用オリゴヌクレオチド１６ａおよび１６ｂを示す図である。固定用オリゴヌクレオチド１６ａは、初期鋳型ＤＮＡ１８ａを基板１２に付着させるために、初期鋳型ＤＮＡ１８ａの固定用部分のＤＮＡ配列Ａ’およびＢ’と相補的なＤＮＡ配列ＡおよびＢを有する。固定用オリゴヌクレオチド１６ｂは、初期鋳型ＤＮＡ１８ｂを基板１２に付着させるために、初期鋳型ＤＮＡ１８Ｂの固定用部分のＤＮＡ配列ＡおよびＢと相補的なＤＮＡ配列Ａ’およびＢ’を有する。
図３（ｃ）は、初期鋳型ＤＮＡ１８ａが固定用オリゴヌクレオチド１６ａに付着した状態を示す。この後、プソラレン２０で補強することにより、図３（ｄ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８ａを固定用オリゴヌクレオチド１６ａに固定することができる。つづいて、図３（ｅ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８ａのＤＮＡ配列Ｄ’と相補的なＤＮＡ配列Ｄを有するプライマーを導入し、ＰＣＲを開始する。初期鋳型ＤＮＡ１８ａの相補的な配列を有する初期鋳型ＤＮＡ１８ｂについても、図３（ｆ）に示すように、固定用オリゴヌクレオチド１６ｂに固定され、ＤＮＡ配列Ｃ’と相補的な配列Ｃを有するプライマーを導入することにより、ＰＣＲを開始することができる。
次に、基板１２における柱状体１４の形成方法を説明する。まず、基板１２をシリコンにより構成した場合の柱状体１４の形成方法について、図４、図５、および図６を参照して説明する。基板１２上への柱状体１４の形成は、基板１２を所定のパターン形状にエッチング等を行うことができるが、その形成方法には特に制限はない。
ここで、各分図において、中央が上面図であり、左右の図が断面図となっている。この方法では、フォトレジストを用いたリソグラフィ技術を利用して柱状体１４を形成する。
ここでは、基板１２として面方位が（１００）のシリコン基板を用いる。まず、図４（ａ）に示すように、基板１２上にシリコン酸化膜１８５、スミレジストＮＥＢ（住友化学製）１８３をこの順で形成する。シリコン酸化膜１８５、スミレジストＮＥＢ１８３の膜厚は、それぞれ３００ｎｍ、４００ｎｍとする。次に、柱状体１４となる領域を露光する。現像はキシレンを用いて行い、イソプロピルアルコールによりリンスする。この工程により、図４（ｂ）に示すように、スミレジストＮＥＢ１８３がパターニングされる。
つづいて全面にポジフォトレジスト１５５を塗布する（図４（ｃ））。膜厚は１．８μｍとする。その後、反応容器１１２となる領域が露光するようにマスク露光をし、現像を行う（図５（ａ））。
次に、シリコン酸化膜１８５をＣＦ４、ＣＨＦ３の混合ガスを用いてＲＩＥエッチングする。エッチング後の膜厚を３００ｎｍとする（図５（ｂ））。スミレジストＮＥＢ１８３をアセトン、アルコール、水の混合液を用いた有機洗浄により除去した後、酸化プラズマ処理をする（図５（ｃ））。つづいて、基板１２をＨＢｒガスを用いてＥＣＲエッチングする。エッチング後のシリコン基板の段差（あるいは柱状体の高さ）を３μｍとする（図６（ａ））。つづいてＢＨＦバッファードフッ酸でウエットエッチングを行い、シリコン酸化膜を除去する（図６（ｂ））。以上により、基板１２上に柱状体１４が形成される。
なお、基板１２にプラスチック材料を用いる場合、柱状体１４は、エッチングやエンボス成形等の金型を用いたプレス成形、射出成形、光硬化による形成等、基板１２の材料の種類に適した公知の方法で行うことができる。
基板１２をプラスチック材料により構成した場合、機械加工あるいはエッチング法によりマスタを製作し、このマスタを電気鋳造反転して製作した金型を用いて、射出成形または射出圧縮成形により柱状体１４が形成された基板１２を形成することができる。また、柱状体１４は、金型を用いたプレス加工により形成することもできる。さらに、光硬化性樹脂を用いた光造形法により、柱状体１４が形成された基板１２を形成することもできる。
（第二の実施の形態）
図７は、本発明の第二の実施の形態における反応装置１０の製造工程を示す図である。本実施の形態において、基板１２上に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入した後、基板１２を押し伸ばすことにより柱状体１４に付着した初期鋳型ＤＮＡ１８をさらに伸張させる。本実施の形態において、基板１２は、伸縮性を有する各種プラスチック材料、またはゴム等の弾性材料により構成される。このような材料としてたとえばポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）がある。
上述したように、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態で基板１２および柱状体１４表面に付着させ固定した場合でも、図７（ａ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８の一部が収縮したままのことがある。これらをさらに伸張させて、より効率よくＰＣＲを行うために、本実施の形態では、図７（ｂ）に示すように、押圧体２２により基板１２の裏面側から基板１２を押圧し、図７（ｃ）に示すように、基板１２を伸張させる。これにより、柱状体１４間の間隔も広がり、隣接する柱状体１４間に一端と他端が固定された初期鋳型ＤＮＡ１８も伸張した状態となる。
また、本実施の形態において、図８に示すように、基板１２に凹部を設けておき、凹部内に柱状体１４を形成した状態で初期鋳型ＤＮＡ１８を導入し（図８（ａ））、初期鋳型ＤＮＡ１８導入後に基板１２の凹部を反転させて（図８（ｂ））基板１２の柱状体１４が形成された面を伸張させることもできる。
（第三の実施の形態）
図９は、本実施の形態における反応装置１０の製造工程を示す図である。本実施の形態において、基板１２に柱状体１４を形成しない点で第一および第二の実施の形態と異なる。
まず、基板１２表面に固定用オリゴヌクレオチド１６を付着させる（図９（ａ））。固定用オリゴヌクレオチド１６を基板１２表面に付着させる方法は第一の実施の形態と同様である。つづいて、基板１２に初期鋳型ＤＮＡ１８を固定する（図９（ｂ））。ここでも、第一の実施の形態と同様、たとえば、低周波をかける、高電界をかける、せん断応力を利用する等の方法で初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態で基板１２表面に付着させる。その後、第一の実施の形態で説明したのと同様に、クロスリンカーを用いて初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６に固定する。本実施の形態において、第一の実施の形態と同様、この状態でＰＣＲを行ってもよいが、以下のように基板１２を伸張させた後にＰＣＲを行うこともできる。
図９（ｃ）に示すように、基板１２の側方に均等な力を加えて基板１２を伸張させる。これにより、基板１２が伸び、基板１２表面に固定されていた初期鋳型ＤＮＡ１８も伸張する（図９（ｄ））。基板１２をこのように伸張させる場合、基板１２は、均一に伸張するとともに伸張後に収縮しないような材料により構成されるのが好ましい。このような材料として、たとえばＰＤＭＳを用いることができる。
このようにすれば、簡易な方法で初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態でＰＣＲを行うことができる。
（第四の実施の形態）
本実施の形態において、基板１２表面ではなく、ビーズ表面に固定用オリゴヌクレオチド１６を付着し、初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６に固定した後にビーズを動かすことにより、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させる点で第一〜第三の実施の形態と異なる。本実施の形態において、ビーズを動かす手段として、光ピンセットを用いる。
図１０は、本実施の形態における初期鋳型ＤＮＡ１８の固定方法を示す図である。まず、標識ビーズ３０に固定用オリゴヌクレオチド１６ａ（ＤＮＡ配列ＡおよびＢ）を固定したものを反応装置１０に導入する（図１０（ａ））。標識ビーズ３０としては、たとえばポリスチレンビーズ、金コロイド、ラテックスビーズ、シリカ等の微小粒子を用いることができる。
つづいて、標識ビーズ３０に初期鋳型ＤＮＡ１８ａを導入する。これにより、標識ビーズ３０に固定された固定用オリゴヌクレオチド１６ａと初期鋳型ＤＮＡ１８ａの固定用部分（ＤＮＡ配列Ａ’およびＢ’）が相補的な結合を形成する（図１０（ｂ））。その後、第一の実施の形態で説明したのと同様に、固定用オリゴヌクレオチド１６ａと初期鋳型ＤＮＡ１８ａの固定用部分とを固定する。このとき、導入された初期鋳型ＤＮＡ１８ａのうちの少なくとも一部は、図示したように２つの標識ビーズ３０にまたがって結合する。
つづいて、光ピンセット３２を用いて標識ビーズ３０を移動する（図１０（ｃ））。光ピンセットとは、開口数の大きなレンズで集光したレーザ光によって、非接触的、非侵襲的に水中の微小物体を捕捉する方法である。したがって、上記標識ビーズ３０としては、水の波長よりも大きな直径を有し、水より大きい屈折率を有する透明な粒子を用いるのが好ましい。また、標識ビーズ３０としては、水の波長より小さい金属微粒子を用いることもできる。これにより、レーザ光で標識ビーズ３０を捕らえることができる。これらの標識ビーズ３０は、光学顕微鏡を用いて可視化することができ、標識ビーズ３０間隔が、たとえば初期鋳型ＤＮＡ１８の増幅対象部分よりも少しだけ短い距離となるように標識ビーズ３０を移動する。これにより、２つの標識ビーズ３０にまたがって結合した初期鋳型ＤＮＡ１８ａを伸張することができる（図１０（ｄ））。
（第五の実施の形態）
図１１は、本発明の第五の実施の形態における反応装置１０を示す図である。ここで、反応装置１０としては、内部に固定用オリゴヌクレオチド（不図示）が固定された試験管３４を用いることができる。試験管３４内にたとえばバッファを導入して試験管３４を回転させ、その状態で初期鋳型ＤＮＡ１８をバッファに溶解して調整した溶液を試験管３４に導入する（図１１（ａ））。ここで、試験管３４を回転させているので、導入された初期鋳型ＤＮＡ１８にはせん断応力が働き、初期鋳型ＤＮＡ１８は伸張した状態で試験管３４の側壁に付着する（図１１（ｂ））。この後、バッファを真空除去等により除去することにより、試験管３４の側壁に初期鋳型ＤＮＡ１８が固定された反応装置１０を得ることができる（図１１（ｃ））。
図１２は、本実施の形態における反応装置１０の他の例を示す図である。ここで、初期鋳型ＤＮＡ１８は、基板１２に形成されたウェル３６内に導入することができる（図１２（ａ））。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）のＡ−Ａ’断面図である。この場合も、基板１２を回転させながら初期鋳型ＤＮＡ溶液をウェル３６に導入する。これにより、ウェル３６の側壁に初期鋳型ＤＮＡが固定された反応装置１０を得ることができる。
（第六の実施の形態）
以上の第一〜第五の実施の形態においては、初期鋳型ＤＮＡ１８は増幅対象部分と、増幅対象部分よりも外側に位置する固定用部分とを含み、固定用部分が固定された状態で増幅対象部分を鋳型として相補鎖を合成する例を説明したが、初期鋳型ＤＮＡ１８の固定用部分をも増幅対象として相補鎖を合成することもできる。このようにすれば、初期鋳型ＤＮＡ１８を鋳型として合成された相補鎖も固定用部分を有するため、合成された相補鎖をも基板１２表面に固定することができ、長いＤＮＡ鎖を効率よく増幅させることができる。
図１３は、本実施の形態における初期鋳型ＤＮＡ１８の増幅方法を示す図である。図１３（ａ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８は、配列ａ’ａ’ａ’および配列ｂ’ｂ’ｂ’を有する。基板１２には、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’と相補的な配列ａａａを有する固定用オリゴヌクレオチド１６が固定されている。ここで、配列ａ’ａ’ａ’および配列ｂ’ｂ’ｂ’は、初期鋳型ＤＮＡ１８の増幅対象部分の端部に位置する。このような状態で、配列ｂ’ｂ’ｂ’と相補的な配列ｂｂｂを有するプライマーを導入し、ＰＣＲを開始する。
図１３（ｂ）に示すように、配列ｂｂｂを有するプライマーは、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ｂ’ｂ’ｂ’との間で水素結合を形成し、ＰＣＲにより初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖が合成される。ＰＣＲの相補鎖の合成は、たとえば約７０℃で行われる。つづいて、ＰＣＲ工程がある程度進んだところで反応容器内の温度を約７５〜８５℃程度に上昇すると、配列ａａａを有する固定用オリゴヌクレオチド１６と初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’との結合が外れ、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’の相補鎖も合成され、初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖である二次鋳型ＤＮＡ１８’が得られる（図１３（ｃ））。初期鋳型ＤＮＡ１８および二次鋳型ＤＮＡ１８’は、数ｋｂ以上の長いＤＮＡ鎖であるが、固定用オリゴヌクレオチド１６は数十〜数百ｂ程度と初期鋳型ＤＮＡ１８の長さと比すと非常に短いＤＮＡ鎖である。ＤＮＡ鎖が短い方がＤＮＡ鎖が長いものよりも二本鎖間の結合力が弱いため、加熱した際に生じる分子エネルギーの影響で二本鎖の結合が外れやすくなる。そのため、本実施の形態において、ＰＣＲ工程で初期鋳型ＤＮＡ１８と合成された二次鋳型ＤＮＡ１８’とを分離する変性工程の前に、変性工程で印加する温度よりも低い温度を加えることにより、初期鋳型ＤＮＡ１８と二次鋳型ＤＮＡ１８’とを結合させた状態で二次鋳型ＤＮＡ１８’を伸長させつつ、初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６から外して二次鋳型ＤＮＡ１８’を合成することができる。
つづいて、反応容器内の温度を約９０〜９８℃程度に上昇して初期鋳型ＤＮＡ１８と二次鋳型ＤＮＡ１８’とを変性させて一本鎖にする（図１３（ｄ））。ここで、第一の実施の形態において説明したように、低周波電界や高電界を印加する電界付与手段や、反応場にせん断応力を与えるせん断応力付与手段により、初期鋳型ＤＮＡ１８および二次鋳型ＤＮＡ１８’を伸張させる。
二次鋳型ＤＮＡ１８’は、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’と相補的な配列ａａａを含むように合成されているので、図１３（ｅ）に示すように、基板１２に、配列ａ’ａ’ａ’を有する固定用オリゴヌクレオチド１６を固定しておくことにより、合成された二次鋳型ＤＮＡ１８’をも伸張させた状態で基板１２に固定することができる。つづいて、配列ｂｂｂを有するプライマーおよび配列ｂ’ｂ’ｂ’を有するプライマーを導入することにより、初期鋳型ＤＮＡ１８および二次鋳型ＤＮＡ１８’を鋳型としてそれぞれ相補鎖を合成することができる。
以上の工程を繰り返すことにより、初期鋳型ＤＮＡ１８を順次増幅することができる。本実施の形態においては、合成されたＤＮＡ鎖が基板１２に固定されるので、比較的長いＤＮＡ鎖であっても効率よく指数関数的に合成することができる。
（第七の実施の形態）
また、以上の実施の形態で説明した鋳型ＤＮＡの伸張方法および基板への固定方法は、ＤＮＡ鎖を特定の部位で切断する切断する技術に応用することができる。本実施の形態では、ＤＮＡ鎖の切断したい部位がデオキシリボヌクレアーゼ（ＤＮａｓｅ）と接触してその部位が特異的に切断される確率を高めるように、ＤＮＡ鎖を基板に固定する方法を説明する。
図１４は、本実施の形態におけるＤＮＡ鎖の固定方法を示す概念図である。ここで、図示したように、切断対象の被切断ＤＮＡ４８は、固定用部分である配列ａ’ａ’ａ’および配列ｂ’ｂ’ｂ’を含む。基板４０には配列ａａａを有する固定用オリゴヌクレオチド４２および配列ｂｂｂを有する固定用オリゴヌクレオチド４４が固定されている。配列ａａａは配列ａ’ａ’ａ’と相補的、配列ｂｂｂは配列ｂ’ｂ’ｂ’と相補的である。基板４０において、固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４の間には、切断対象の被切断ＤＮＡ４８が伸張した状態で固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４に固定されたときに、被切断ＤＮＡ４８の切断すべき被切断部位ｃに対応する位置に切断酵素４６が固定されている。基板４０をこのように構成することにより、被切断ＤＮＡ４８を基板４０に固定させたときに、被切断部位ｃが切断酵素４６と接触する確率が高くなり、特定の部位を効率よく切断することができる。切断酵素４６は、ＤＮａｓｅである。
図１５は、本実施の形態における基板１２の作製方法を示す工程図である。
まず、図１５（ａ）に示すように、基板４０上に固定用オリゴヌクレオチド４２を帯状に付着させる。つづいて、図１５（ｂ）に示すように、固定用オリゴヌクレオチド４２と所定の間隔を隔てて固定用オリゴヌクレオチド４４を帯状に付着させる。固定用オリゴヌクレオチド４２と固定用オリゴヌクレオチド４４との間隔は、被切断ＤＮＡ４８の固定用部分の間隔と同等またはそれよりも少し狭い間隔とされることが好ましい。その後、図１５（ｃ）に示すように、被切断ＤＮＡ４８を伸張させて固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４に固定したときに、被切断部位が位置する箇所に切断酵素４６を帯状に付着させる。このようにして形成された基板４０に被切断ＤＮＡ４８を導入することにより、被切断ＤＮＡ４８の固定用部分が固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４と結合して被切断ＤＮＡ４８が基板４０に固定される。このとき、被切断ＤＮＡ４８の被切断部位は基板４０の切断酵素４６の近傍に配置されるので、被切断ＤＮＡ４８の被切断部位が切断酵素４６により効率よく切断される。
固定用オリゴヌクレオチド４２、固定用オリゴヌクレオチド４４、および切断酵素４６の基板４０への固定は種々の方法で行うことができるが、いくつかの方法を例示する。一例として、基板４０をシリコンにより構成した場合、第一の実施の形態で説明したのと同様のアミノシラン等のシランカップリング剤を介して固定用オリゴヌクレオチド４２、固定用オリゴヌクレオチド４４、および切断酵素４６を基板４０に固定することができる。まず、基板４０表面の固定用オリゴヌクレオチド４２を固定すべき箇所にシランカップリング剤を選択的に導入し、シランカップリング剤を介して固定用オリゴヌクレオチド４２を基板４０に固定させる。つづいて、基板４０表面の固定用オリゴヌクレオチド４４を固定すべき箇所に同様のシランカップリング剤を選択的に導入し、シランカップリング剤を介して固定用オリゴヌクレオチド４４を基板４０に固定させる。その後、基板４０表面の切断酵素４６を固定すべき箇所に同様のシランカップリング剤を選択的に導入し、シランカップリング剤を介して切断酵素４６を基板４０に固定させる。
また、他の例として、基板４０表面に疎水性領域を形成し、疎水性領域以外の領域に固定用オリゴヌクレオチド４２、固定用オリゴヌクレオチド４４、および切断酵素４６を順次付着させることもできる。この場合、基板４０をたとえばガラスにより構成するか、基板４０表面をシリコン酸化膜により被覆するか、または金属により被覆する。この状態で、基板４０表面を清浄な状態として、基板４０の固定用オリゴヌクレオチド４２を固定すべき領域以外の領域を疎水性にする。基板４０表面を疎水性にする処理は、スタンプやインクジェットなどの印刷技術を用いて行うことができる。スタンプによる方法では、ＰＤＭＳ樹脂を用いる。ＰＤＭＳ樹脂はシリコーンオイルを重合して樹脂化するが、樹脂化した後も分子間隙にシリコーンオイルが充填された状態となっている。そのため、ＰＤＭＳ樹脂を親水性の表面、例えば、ガラス表面に接触させると、接触した部分が強い疎水性となり水をはじく。これを利用して、固定用オリゴヌクレオチド４２を形成すべき領域に対応した凹部を形成したＰＤＭＳブロックをスタンプとして、親水性の基板４０に接触させることにより、固定用オリゴヌクレオチド４２を形成すべき領域以外の領域を疎水性にすることができる。
インクジェットプリントによる方法では、粘稠性が低いタイプのシリコーンオイルをインクジェットプリントのインクとして用い、基板４０表面の固定用オリゴヌクレオチド４２を形成する領域以外の領域にシリコーンオイルが付着するようなパターンに印刷する。
固定用オリゴヌクレオチド４２を基板４０表面に付着させた後、有機溶剤を用いて基板４０表面に塗布されたシリコーンオイル等を洗い流し、固定用オリゴヌクレオチド４２を基板４０表面に付着させたのと同様の方法で固定用オリゴヌクレオチド４４を基板４０表面に付着させる。その後、再び有機溶剤を用いて基板４０表面に塗布されたシリコーンオイル等を洗い流す。
つづいて、インクジェットプリントのインクとして切断酵素４６を含む溶液を用い、基板４０表面の該当個所に切断酵素４６を付着させる。
なお、固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４を含む溶液をそれぞれインクとして固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４をもインクジェットプリントにより基板４０表面に付着させることもできる。インクジェットプリントのインクは、切断酵素４６、固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４等の変性を防ぐための防腐剤を含むことが好ましい。
また、本実施の形態においても、第一の実施の形態で説明したのと同様に柱状体等の突起部を形成して突起部に被切断ＤＮＡ４８が固定されるようにすることもできる。
また、第一の実施の形態においても、第七の実施の形態で説明したのと同様に、インクジェットプリントの技術を用い、柱状体１４の代わりに所定の間隔で固定用オリゴヌクレオチドをパターニングすることもできる。また、以上の第一〜第七の実施の形態において、固定用オリゴヌクレオチドの基板への固定は、上述した方法の他に、光リソグラフィー等種々の既知の技術を用いて行うことができる。
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
本実施例において、初期鋳型ＤＮＡ１８としては、線虫（Ｃ．エレガンス：Ｃ．ｅｌｅｇａｎｓ）のゲノムＤＮＡを用いた。線虫には、１６０００−１９０００の遺伝子があるが、本実施例では、これらの遺伝子の中の４番染色体上にあるｔｐａ−１遺伝子からｄａｆ−１までを含む領域（図３（ａ）における９０ｋ−１４０ｋ周辺）の５０ｋｂを増幅させた。ここで、初期鋳型ＤＮＡ１８の固定用部分は、８０ｋと１５０ｋ周辺の２カ所とした。
本実施例において、固定用オリゴヌクレオチド１６としては以下の配列ＡおよびＢを用いた。また、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）としては、以下の配列ＣおよびＤを用いた。
【実施例１】
第一の実施の形態で説明した方法で基板１２表面に柱状体１４が形成された反応装置１０を製造した。ここで、基板１２は、（１００）面を主面とするシリコン基板により構成した。柱状体１４は、図４〜図６を用いて説明した方法で形成した。ここで、柱状体１４の間隔ｄが約２０μｍとなるようにした。次に、第一の実施の形態で説明した方法で、基板１２および柱状体１４表面にＥＤＡを固定し、次いで、ＳＭＰＢをＥＤＡに固定した。この後、上記配列ＡおよびＢの固定用オリゴヌクレオチドを導入することにより、配列Ａおよび配列Ｂの固定用オリゴヌクレオチドを基板１２および柱状体１４に固定した。
基板１２に約１０Ｈｚの低周波電界を印加した状態で基板１２および柱状体１４上に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入した。
つづいて、反応装置１０にＴＥＮバッファ（１０ｍＭトリス（ｐＨ７．６）、１ｍＭＥＤＴＡ溶液、５０ｍＭＮａＣｌ）を導入した後、反応装置１０に４，５’，８−トリメチルプソラレンのエタノール溶液を導入し、約２分間インターカレートさせた後、ＵＶ装置（ＵＶＰ社製）を用いて約３６５ｎｍの光を約２０分間照射した。その後、基板１２表面をバッファで洗浄して基板１２または柱状体１４表面に固定されなかった初期鋳型ＤＮＡを除去した。
つづいて、ＴａＫａＲａ ＬＡ ＰＣＲＴＭ法によりＰＣＲ反応を行った。前記の通り初期鋳型ＤＮＡの固定された約３ｍｍ角の反応装置１０を微小遠心管に適宜数入れた。ここへ、１０×ＬＡ ＰＣＲ バッファＩＩ（Ｍｇ２＋Ｆｒｅｅ）１０μｌ、２５ｍＭ−ＭｇＣｌ２１０μｌ、ｄＮＴＰ混合物（各２．５ｍＭ）１６μｌ、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）それぞれ１μｌ（１００ｐｍｏｌ／μｌ）、ＴａＫａＲａ ＬＡ Ｔａｑ１μｌ、を入れた後、滅菌蒸留水を入れて総量を１００μｌとした。この後、サーマルサイクラーを用い、９４℃で１分の変性反応後、９８℃で２０秒（変性）および６８℃で２０分（プライマーのアニーリングおよび相補鎖ＤＮＡの伸長）の反応サイクルを１４サイクル、９８℃で２０秒（変性）および６８℃で２０分１５秒（プライマーのアニーリングおよび相補鎖ＤＮＡの伸長）の反応サイクルを１６サイクル行い、最後に７２℃で１０分反応させた。
以上の反応後の生成物を０．４％の高強度タイプアガロースゲル上で電気泳動させたところ、５０ｋｂｐ付近に増幅されたバンドが観察された。
【実施例２】
第三の実施の形態で説明した方法で、反応装置１０を製造した。ここでは、基板１２表面に柱状体１４が形成されていない点で実施例１と異なる。基板１２は、実施例１と同様、（１００）面を主面とするシリコン基板により構成した。実施例１と同様に基板１２表面に初期鋳型ＤＮＡを固定し、ＰＣＲを行った。その結果、本実施例においても、反応後の生成物を０．４％の高強度タイプアガロースゲル上で電気泳動させたところ、５０ｋｂｐ付近に増幅されたバンドが観察された。
【配列表】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【技術分野】
本発明は、比較的長いＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
特定のＤＮＡ断片を増幅する方法としてポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ：Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ Ｃｈａｉｎ Ｒｅａｃｔｉｏｎ）が知られている（たとえば米国特許第４，６８３，１９５号明細書）。通常のＰＣＲ工程において、まず、目的のＤＮＡを熱変性して一本鎖とし、得られた一本鎖のＤＮＡに、そのＤＮＡの端部の塩基配列と相補的な塩基配列を有するプライマーをアニーリングにより結合させる。その後、ＤＮＡポリメラーゼによる相補鎖ＤＮＡの伸長反応を行い、これらのサイクルを繰り返すことにより、指数関数的に目的のＤＮＡを増幅させる。
従来、ＤＮＡ等の鎖状高分子に電界を印加することなく伸張させた状態で走査トンネル顕微鏡を用いた観察を行うために、ＤＮＡの一端を電極に接し、他端を電極と垂直に伸ばした状態で溶液を加熱し、これによって分子を伸張したまま基板に付着させ、固定する技術が開示されている（たとえば日本国特許第３０６４００１号明細書）。
【発明の開示】
しかし、従来のＰＣＲでは、たとえば数十ｋｂ以上の比較的長いＤＮＡ断片を鋳型としてＰＣＲにより増幅させるのは困難であった。
上記の事情に鑑み、本発明は、鋳型のＤＮＡ断片が長い場合であっても、効率よく増幅することのできる技術を提供することを目的とする。
本願の発明者は、たとえば数十ｋｂ以上の比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とするＰＣＲを効率よく行うことができない原因は、鋳型のＤＮＡ断片が長すぎるためにねじれてしまい、そのために相補鎖ＤＮＡの伸長反応が途中で止まってしまうためだと考え、本発明を考案するに至った。最初に鋳型となる長いＤＮＡ断片、たとえば染色体ＤＮＡまたはこれを超音波等で切断したＤＮＡ断片は、増幅対象部分以外の配列を多く含むことから大きいねじれが生じ、ＤＮＡ増幅時の障害となる。このような場合、そのＤＮＡ断片のねじれを防ぐことにより第一次相補鎖の伸長反応を効率よく行うことができると考えられる。
本発明によれば、ＤＮＡ断片の増幅を行う方法であって、ＤＮＡ断片を、基材表面に形成された結合部に結合する工程と、ＤＮＡ断片を基材表面に結合させた状態で、ＤＮＡ断片を鋳型として当該ＤＮＡ断片の相補鎖を合成する工程と、を含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法が提供される。
このようにすれば、ＤＮＡ断片の相補鎖を合成する際に、鋳型となるＤＮＡ断片が基材表面に結合して固定されているので、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とする場合であっても、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分よりも外側に位置するＤＮＡ配列と結合するように構成することができる。
ここで、外側とは、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分以外の部分である。増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側２カ所を基材表面に結合してもよく、片外側１カ所のみを基材表面に結合してもよい。ＤＮＡ断片の片外側１カ所のみを基材表面に結合した場合は、相補鎖の合成時にたとえば反応場に流速を生じさせ、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で相補鎖の合成を行うことが好ましい。このようにすれば、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことができる。
このようにすれば、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と結合部の固定用オリゴヌクレオチドとが水素結合により結合するので、ＤＮＡ断片を結合部に結合することができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側に位置するＤＮＡ配列と相補的な配列を有する２種以上の固定用オリゴヌクレオチドを含むことができる。
このようにすれば、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側２カ所と結合部の固定用オリゴヌクレオチドとが水素結合により結合するので、ＤＮＡ断片を２点で結合部に結合することができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、基材表面に結合することができる。
このようにすれば、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、たとえばせん断応力を利用することにより、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で基板表面に結合することができる。せん断応力としては、反応場に流速を生じさせる方法、また反応場に回転を与える方法が挙げられる。
また、本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、ＤＮＡ断片に低周波電界を印加することによりＤＮＡ断片を伸張させた状態で、基材表面に結合することができる。ここで、低周波電界とは、たとえば１００Ｈｚ以下の電界とすることができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程では、ＤＮＡ断片に高電界を印加することによりＤＮＡ断片を伸張させた状態で、基材表面に結合することができる。ここで、高電界とは、たとえば５００ｋＨｚ以上の電界とすることができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合する工程の後に、基材表面を伸張する工程をさらに含むことができる。
このようにすれば、ＤＮＡ断片のねじれをさらに低減することができ、相補鎖の合成を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、相補鎖を合成する工程は、鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する工程を含むことができ、結合する工程においても、分離する工程においてもＤＮＡ断片が結合部から分離しないように、当該ＤＮＡ断片を結合部に固定することができる。
鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する工程では、通常約９５℃の温度が加えられる。本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、このような温度が加えられた場合であっても、ＤＮＡ断片が結合部から分離しないようにＤＮＡ断片を結合部に固定しておくことが好ましい。たとえば、結合部が上述した固定用オリゴヌクレオチドを含む場合、ＤＮＡ断片と結合部とを水素結合で結合しただけでは、鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する工程において、ＤＮＡ断片と結合部との結合もはずれてしまう可能性がある。本発明において、このような場合にもＤＮＡ断片と結合部との結合がはずれないように、ＤＮＡ断片と結合部とをたとえば共有結合で固定する。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、増幅対象のＤＮＡ断片は、１０ｋｂ以上の長さを有することができる。従来の増幅方法では、このような比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とした場合に、ＤＮＡ断片のねじれが発生する可能性があるが、本発明のＤＮＡ断片増幅方法によれば、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とした場合でも、ＤＮＡ断片のねじれを低減して、増幅反応を良好に行うことができる。
本発明のＤＮＡ断片増幅方法において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の一部と結合するように構成されてよく、相補鎖を合成する工程の途中で、ＤＮＡ断片と結合部との結合を解除する工程をさらに含むことができる。ＤＮＡ断片と結合部との結合を解除する方法としては、約７５℃〜８５℃程度の熱を加えることができる。上述したように、鋳型としたＤＮＡ断片と相補鎖とを変性させて分離する際には約９０℃程度の熱が加えられるが、結合部とＤＮＡ断片との結合は、ＤＮＡ断片と相補鎖との結合に比べて結合するＤＮＡの塩基数が非常に小さい。結合しているＤＮＡの塩基数が少ない方が、ＤＮＡの塩基数が多い場合に比べて二本鎖間の結合力が弱く、約７５℃〜８５℃程度の温度を加えると鋳型ＤＮＡと伸長中の相補鎖とは分離しないが、結合部とＤＮＡ断片との結合を解除することができる。鋳型としたＤＮＡ断片の相補鎖がある程度伸長した段階で鋳型としたＤＮＡ断片と結合部とを分離することにより、結合部分と相補的な配列も合成することができる。これにより、合成された相補鎖も結合部分を含むので、次の増幅工程で、相補鎖をも基材表面に固定することができ、比較的長いＤＮＡ断片の増幅を効率よく行うことができる。
本発明によれば、ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置であって、基材表面と、基材表面に形成され、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部と、を含むことを特徴とする反応装置が提供される。
このように構成された反応装置に増幅対象のＤＮＡ断片を導入すれば、ＤＮＡ断片が結合部に結合して固定されるので、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型とする場合であっても、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、ＤＮＡ断片の増幅を良好に行うことができる。
本発明の反応装置において、結合部は、所定の間隔で設けられた複数の領域に形成することができる。ここで、各領域の間隔は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の長さと同等程度とされることが好ましい。このようにして、ＤＮＡ断片の増幅対象部分の外側のＤＮＡ配列を結合部と結合させれば、ＤＮＡ断片をある程度伸張させた状態で基材表面に固定することができるので、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができる。
本発明の反応装置において、結合部は、基材表面に形成された複数の突起部を含むことができる。ここで、突起部は微細加工により形成された柱状体とすることができる。突起部の間隔は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の長さと同等程度とされることが好ましい。このようにして、ＤＮＡ断片の増幅対象部分の外側のＤＮＡ配列を結合部と結合させれば、ＤＮＡ断片をある程度伸張させた状態で基材表面に固定することができるので、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができる。また、結合部が突起部を有することにより、ＤＮＡ断片が突起部にひっかかり、固定をしやすくなる。
本発明の反応装置において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の両外側２点と結合するように構成することができる。このようにすれば、ＤＮＡ断片をある程度伸張させた状態で基材表面に固定することができるので、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができる。
本発明の反応装置において、結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことができる。
本発明の反応装置において、基材は、伸張可能な材料により構成することができる。基材は、たとえばゴムやプラスチック材料により構成することができる。
また、本発明の反応装置は、ＤＮＡ断片を伸張させた状態で固定する手段をさらに含むことができる。このような手段としては、低周波電界や高電界を印加する電界付与手段や、反応場にせん断応力を与えるせん断応力付与手段を挙げることができる。せん断応力付与手段としては、反応場に流速を生じさせるたとえば攪拌部や、反応容器を回転させる回転手段等が例示される。
本発明によれば、ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置の製造方法であって、基材表面に、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部を形成する工程と、増幅対象のＤＮＡ断片を結合部に結合する工程と、を含むことを特徴とする反応装置の製造方法が提供される。
本発明の反応装置の製造方法において、結合部を形成する工程では、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを基材表面に固定することができる。
本発明の反応装置の製造方法において、ＤＮＡ断片を結合する工程では、当該ＤＮＡ断片を、伸張させた状態で基材表面に結合することができる。
本発明の反応装置の製造方法において、ＤＮＡ断片を結合する工程の後に、基材表面を伸張する工程をさらに含むことができる。
本発明によれば、比較的長いＤＮＡ断片を鋳型として用いた場合であっても、良好にＤＮＡを増幅することができる。
【図面の簡単な説明】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
図１は、本発明の実施の形態におけるＰＣＲ法の手順を示すフローチャートである。
図２は、本発明の実施の形態における反応装置の製造工程を示す斜視図である。
図３は、本発明の実施の形態で用いられる初期鋳型ＤＮＡの一例を示す図である。
図４は、本発明の実施の形態における反応装置の柱状体の形成方法を示す図である。
図５は、本発明の実施の形態における反応装置の柱状体の形成方法を示す図である。
図６は、本発明の実施の形態における反応装置の柱状体の形成方法を示す図である。
図７は、本発明の実施の形態における反応装置の製造工程を示す図である。
図８は、本発明の実施の形態における反応装置の構成を示す図である。
図９は、本発明の実施の形態における反応装置の製造工程を示す図である。
図１０は、本発明の実施の形態における初期鋳型ＤＮＡの固定方法を示す図である。
図１１は、本発明の実施の形態における反応装置を示す図である。
図１２は、本発明の実施の形態における反応装置の他の例を示す図である。
図１３は、本発明の実施の形態における初期鋳型ＤＮＡの増幅方法を示す図である。
図１４は、本発明の実施の形態におけるＤＮＡ鎖の固定方法を示す概念図である。
図１５は、本発明の実施の形態における基板の作製方法を示す工程図である。
【発明を実施するための最良の形態】
図１は、本発明の実施の形態におけるＰＣＲ法の手順を示すフローチャートである。
まず、増幅対象部分を含む染色体ＤＮＡを超音波等で切断して初期鋳型ＤＮＡを得る（Ｓ１０）。このとき、染色体ＤＮＡはランダムに切断されるが、一部の断片が増幅対象部分と、当該増幅対象部分の両外側に位置する固定用部分とを含むように切断される。この一部の断片が初期鋳型ＤＮＡとして機能する。本実施の形態において、初期鋳型ＤＮＡを鋳型として初期鋳型ＤＮＡの増幅対象部分の第一次相補鎖が合成され、その後は合成された相補鎖を鋳型として順次対応する相補鎖が合成される。初期鋳型ＤＮＡはランダムに切断されたものなので、増幅対象部分以外の塩基配列をも含み、長い構造となっている。そのため、初期鋳型ＤＮＡはそのままの状態だと鋳型として機能させるのは困難である。本実施の形態において、初期鋳型ＤＮＡを固定して相補鎖を合成した後は、その相補鎖は増幅対象部分だけで構成されているので、固定しなくても対応する相補鎖を効率よく合成することができる。これにより、初期鋳型ＤＮＡの増幅対象部分を準指数関数的に増幅することができる。
次に、アルカリまたは熱により初期鋳型ＤＮＡ断片を変性させ、二本鎖の初期鋳型ＤＮＡ断片を一本鎖にする（Ｓ１２）。一方、初期鋳型ＤＮＡ断片を固定させるための固定表面を形成しておく（Ｓ１４）。固定表面には、初期鋳型ＤＮＡ断片と化学結合を形成する固定用オリゴヌクレオチドを固定しておく。固定用オリゴヌクレオチドは、初期鋳型ＤＮＡの固定用部分と相補的な配列を有する。固定表面の形成方法については各実施の形態において後述する。
つづいて、一本鎖にした初期鋳型ＤＮＡ断片を固定表面の固定用オリゴヌクレオチドに化学結合により付着させる（Ｓ１８）。ここでは、固定用オリゴヌクレオチドは初期鋳型ＤＮＡ断片の固定用部分と相補的な配列を有するため、初期鋳型ＤＮＡ断片と固定用オリゴヌクレオチドとが水素結合を形成する。次いで、この後のＰＣＲ工程において、熱が加えられても初期鋳型ＤＮＡ断片と固定用オリゴヌクレオチドとの結合が切断されないように、初期鋳型ＤＮＡ断片を固定表面に固定する（Ｓ２０）。ここで、たとえばプソラレン等のクロスリンカーを用いて、初期鋳型ＤＮＡ断片と固定用オリゴヌクレオチドとを共有結合で結合することができる。
このとき、初期鋳型ＤＮＡは、伸張させた状態で固定用オリゴヌクレオチドに付着させるか（Ｓ１６）、または固定用オリゴヌクレオチドに固定した後に初期鋳型ＤＮＡを伸張させる等して、初期鋳型ＤＮＡを伸張させた状態で以下のＰＣＲ工程を行う。
まず、固定表面を、ＰＣＲ用の反応容器に導入する。次いで、ＰＣＲ用バッファ溶液、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼ、デオキシリボヌクレオチド三リン酸（ｄＮＴＰ：ｄＡＴＰ、ｄＧＴＰ、ｄＣＴＰ、ｄＴＴＰの混合物）を所定量ずつ混合した反応溶液を調整して反応容器に導入する。つづいて、プライマーとなるオリゴヌクレオチドの融解温度に応じ、たとえば約５０℃〜７０℃の温度を加え、プライマーを初期鋳型ＤＮＡ断片にアニーリングして結合させる（Ｓ２２）。次いで、使用する耐熱性ＤＮＡポリメラーゼの最適反応温度に応じ、たとえば約７０℃で反応させ、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼにより初期鋳型ＤＮＡ断片の相補鎖ＤＮＡを合成する（Ｓ２４）。
この後、たとえば約９５℃の温度を加え、合成された初期鋳型ＤＮＡ断片および相補鎖ＤＮＡを変性させ、一本鎖とし、アニーリング、相補鎖伸長、変性の通常のＰＣＲ工程を繰り返す。また、使用する耐熱性ＤＮＡポリメラーゼの性質に応じ、２温度反応系を利用することもできる。
本発明の実施の形態において、初期鋳型ＤＮＡ断片を伸張させた状態で固定表面に固定してＰＣＲ工程を行うため、初期鋳型ＤＮＡ断片が長い場合であっても、ＤＮＡ断片のねじれを低減することができ、良好にＤＮＡの増幅を行うことができる。
（第一の実施の形態）
図２は、本実施の形態における反応装置１０の製造工程を示す斜視図である。
反応装置１０は、基板１２と、基板１２上に形成された複数の柱状体１４とを含む（図２（ａ））。なお、ここでは基板１２を平面として示しているが、基板１２の柱状体１４が形成された領域は、くぼみ状に形成することもでき、基板１２に種々の試薬を導入可能に構成することもできる。また、基板１２を反応容器に導入した状態で、反応容器内に種々の試薬を導入することもできる。
ここで、柱状体１４は、円柱として示されているが、楕円柱等、擬円柱形状；円錐、楕円錐、三角錐、四角錐等の錐体；三角柱、四角柱等の角柱のほか、ストライプ状の突起等、初期鋳型ＤＮＡ断片を固定可能な突起部が形成されていればどのような形状とすることもできる。各柱状体１４の間隔ｄは、初期鋳型ＤＮＡを伸張させた状態で、初期鋳型ＤＮＡの増幅対象部分の両外側に設けられた固定用部分間の距離と同等、または固定用部分間の距離よりもわずかに短い長さとすることができる。初期鋳型ＤＮＡの長さは、たとえば、２〜１００ｋｂとすることができる。ＤＮＡの長さは１ｂｐで約０．３３ｎｍであるので、各柱状体１４の間隔ｄは、たとえば、約６００ｎｍ〜３５μｍとすることができる。
基板１２は、シリコン、ガラス、石英、各種プラスチック材料、またはゴム等の弾性材料により構成される。プラスチック材料としては、成形加工が容易な材料が好ましく用いられ、たとえばＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等のプラスチック材料が例示される。基板１２および柱状体１４表面は、金（Ａｕ）等の金属により被覆することもできる。基板１２および柱状体１４表面は、清浄な状態に保たれることが好ましい。基板１２をシリコンにより構成した場合、基板１２および柱状体１４表面はシリコン酸化膜（ＳｉＯ２）により被覆された状態とすることもできる。
以上のように構成された基板１２および柱状体１４表面に、初期鋳型ＤＮＡの固定用部分と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチド１６を付着させる（図２（ｂ））。基板１２をガラスにより構成した場合、基板１２および柱状体１４表面をシリコン酸化膜により被覆した場合、または金属により被覆した場合、基板１２および柱状体１４表面を清浄な状態としておくことにより、固定用オリゴヌクレオチド１６を基板１２および柱状体１４表面に吸着させることができる。
以下、基板１２がシリコンにより構成される場合を例として説明する。この場合、固定用オリゴヌクレオチド１６としては、たとえば５’末端にチオール基を付けたものを用いることができる。この場合、基板１２および柱状体１４表面には、予めチオールと結合する化合物を固定しておく。このような化合物の固定方法について説明する。まず、基板１２をたとえば１：１の濃ＨＣｌ：ＣＨ３ＯＨで約３０分間浸し、蒸留水で洗浄した後濃Ｈ２ＳＯ４に約３０分間浸し、蒸留水で洗浄した後、脱イオン水中で数分間煮沸させる。つづいて、たとえば１％蒸留トリメトキシシリルプロピルジエチレントリアミン（ＤＥＴＡ）溶液またはＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＥＤＡ）（１ｍＭ酢酸水溶液中）等のアミノシランを基板１２に導入し、室温で約２０分間反応させる。これにより、基板１２表面にＤＥＴＡまたはＥＤＡが固定される。この後、蒸留水で残さを洗浄し、不活性ガス雰囲気下で約１２０℃で３〜４分加熱して乾燥させる。つづいて、１％のｍ，ｐ−（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン（ＰＥＤＡ）溶液（９５：５のＣＨ３ＯＨ：１ｍＭ酢酸水溶液中）を室温で約２０分間基板１２に作用させ、次いでＣＨ３ＯＨで洗浄する。その後、不活性ガス雰囲気下で約１２０℃で３〜４分加熱して乾燥させる。
つづいて、１ｍＭのスクシンイミジル４−［マレイミドフェニル］ブチレート（ＳＭＰＢ）溶液等の二官能性のクロスリンカーを準備し、少量のＤＭＳＯに溶解後、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、またはＤＭＳＯとＣ２Ｈ５ＯＨ、ＤＭＳＯとＣＨ３ＯＨとの混合溶媒で希釈する。基板１２をこの希釈溶液に室温で約２時間浸し、希釈溶媒で洗浄した後不活性ガス雰囲気下で乾燥する。
これにより、ＳＭＰＢのエステル基がＥＤＡ等のアミノ基と反応し、基板１２および柱状体１４表面にマレイミドが露出した状態となる。このような状態で、反応装置１０にチオール基が付いた固定用オリゴヌクレオチド１６を導入すると、固定用オリゴヌクレオチド１６のチオール基と基板１２および柱状体１４表面のマレイミドとが反応し、固定用オリゴヌクレオチド１６が基板１２および柱状体１４表面に固定される（たとえばＣｈｒｉｓｅｙら、Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，１９９６，Ｖｏｌ．２４，Ｎｏ．１５，３０３１頁〜３０３９頁）。これにより、基板１２および柱状体１４表面に固定用オリゴヌクレオチド１６を固定することができる。
その後、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態で、基板１２および柱状体１４表面に初期鋳型ＤＮＡ１８を付着させる（図２（ｃ））。初期鋳型ＤＮＡ１８は、上述したように、通常のＰＣＲの初期鋳型ＤＮＡと同様の手法で準備することができる。たとえば染色体ＤＮＡのように巨大なＤＮＡを用いる場合、まず、超音波等で切断してＤＮＡ断片とし、つづいてアルカリまたは熱によりＤＮＡ断片を変性させて一本鎖にする。このようにして一本鎖としたＤＮＡ断片を基板１２および柱状体１４表面に作用させると、基板１２および柱状体１４表面には固定用オリゴヌクレオチド１６が固定されているので、初期鋳型ＤＮＡ１８の固定用部分は固定用オリゴヌクレオチド１６と相補的な結合を形成する。このとき、図示したように、初期鋳型ＤＮＡ１８の一部は、収縮した状態や丸まった状態で付着する可能性があるが、少なくとも一部が複数の柱状体１４間にまたがって付着していれば、その初期鋳型ＤＮＡ１８を鋳型としてこの後のＰＣＲをスムーズに進行させることができる。
初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させるために、たとえば、基板１２に低周波電界を印加した状態で基板１２に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入する。ここで、低周波電界とは、たとえば１００Ｈｚ以下の電界とすることができる。これにより、ランダムコイル状の初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させることができる。また、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させるために、たとえば、基板１２に高電界を印加した状態で基板１２に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入することもできる。ここで、高電界とは、たとえば５００ｋＨｚ以上の電界とすることができる。これにより、誘電泳動が生じ、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させることができる。
さらに、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させるために、せん断応力を利用することもできる。たとえば、スプレーで初期鋳型ＤＮＡ１８を噴霧して基板１２および柱状体１４表面に付着させる方法、反応場に流速を生じ、その中に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入して基板１２および柱状体１４表面に付着させる方法等がある。流速を生じさせるための方法の一つとして、たとえば基板１２を回転させながら反応場に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入して基板１２および柱状体１４表面に付着させることができる。
つづいて、初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６に固定する（図２（ｄ））。初期鋳型ＤＮＡ１８と固定用オリゴヌクレオチド１６との固定には、たとえば４，５’，８−トリメチルプソラレン等のプソラレン２０を用いる。プソラレン２０は、ＤＮＡの二本鎖配列の間にインターカレートし、３２０ｎｍ〜４００ｎｍ程度の光を照射することにより、隣接するピリミジン塩基と結合して二本鎖間を強力に結合する。この工程の後、基板１２および柱状体１４表面に固定されなかった初期鋳型ＤＮＡ１８をたとえばバッファ等で洗い流して除去することができる。
このようにして基板１２および柱状体１４表面に初期鋳型ＤＮＡ１８が固定された反応装置１０に、ＰＣＲ用バッファ溶液、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼ、デオキシリボヌクレオチド三リン酸（ｄＮＴＰ：ｄＡＴＰ、ｄＧＴＰ、ｄＣＴＰ、ｄＴＴＰの混合物）を所定量ずつ混合した反応溶液を調整して導入する。
この後、反応場の温度を適宜調整することにより、ブライマーの初期鋳型ＤＮＡ１８へのアニーリング、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼによる初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖ＤＮＡの伸長を行う。初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖が形成された後、今度はこれらの相補鎖をも鋳型として変性、アニーリング、相補鎖伸張の通常のＰＣＲ工程を所定回数行う。初期鋳型ＤＮＡ１８を鋳型として形成された相補鎖は、固定しなくても鋳型として機能し得る長さなので、この後は効率よく相補鎖の伸張を行うことができる。これにより、初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖を準指数関数的に増幅させることができる。
図３は、本実施の形態で用いられる初期鋳型ＤＮＡの一例を模式的に示す図である。
図３（ａ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡは、５’末端側からＤＮＡ配列Ａ’、Ｄ’、Ｂ’を有する初期鋳型ＤＮＡ１８ａと、５’末端側からＤＮＡ配列Ｂ、Ｃ’、Ａを有する初期鋳型ＤＮＡ１８ｂとの二本鎖を分解したものである。ここで、ＤＮＡ配列Ａ’、Ｂ’、Ａ、およびＢは、固定用部分として機能する。また、ＤＮＡ配列Ｄ’およびＣ’は、増幅対象部分の開始点で、プライマーが結合する部分として機能する。ここで、ＡはＡ’と相補的な配列、ＢはＢ’と相補的な配列、ＣはＣ’と相補的な配列、ＤはＤ’と相補的な配列を示す。
図３（ｂ）は、基板１２に付着した固定用オリゴヌクレオチド１６ａおよび１６ｂを示す図である。固定用オリゴヌクレオチド１６ａは、初期鋳型ＤＮＡ１８ａを基板１２に付着させるために、初期鋳型ＤＮＡ１８ａの固定用部分のＤＮＡ配列Ａ’およびＢ’と相補的なＤＮＡ配列ＡおよびＢを有する。固定用オリゴヌクレオチド１６ｂは、初期鋳型ＤＮＡ１８ｂを基板１２に付着させるために、初期鋳型ＤＮＡ１８Ｂの固定用部分のＤＮＡ配列ＡおよびＢと相補的なＤＮＡ配列Ａ’およびＢ’を有する。
図３（ｃ）は、初期鋳型ＤＮＡ１８ａが固定用オリゴヌクレオチド１６ａに付着した状態を示す。この後、プソラレン２０で補強することにより、図３（ｄ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８ａを固定用オリゴヌクレオチド１６ａに固定することができる。つづいて、図３（ｅ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８ａのＤＮＡ配列Ｄ’と相補的なＤＮＡ配列Ｄを有するプライマーを導入し、ＰＣＲを開始する。初期鋳型ＤＮＡ１８ａの相補的な配列を有する初期鋳型ＤＮＡ１８ｂについても、図３（ｆ）に示すように、固定用オリゴヌクレオチド１６ｂに固定され、ＤＮＡ配列Ｃ’と相補的な配列Ｃを有するプライマーを導入することにより、ＰＣＲを開始することができる。
次に、基板１２における柱状体１４の形成方法を説明する。まず、基板１２をシリコンにより構成した場合の柱状体１４の形成方法について、図４、図５、および図６を参照して説明する。基板１２上への柱状体１４の形成は、基板１２を所定のパターン形状にエッチング等を行うことができるが、その形成方法には特に制限はない。
ここで、各分図において、中央が上面図であり、左右の図が断面図となっている。この方法では、フォトレジストを用いたリソグラフィ技術を利用して柱状体１４を形成する。
ここでは、基板１２として面方位が（１００）のシリコン基板を用いる。まず、図４（ａ）に示すように、基板１２上にシリコン酸化膜１８５、スミレジストＮＥＢ（住友化学製）１８３をこの順で形成する。シリコン酸化膜１８５、スミレジストＮＥＢ１８３の膜厚は、それぞれ３００ｎｍ、４００ｎｍとする。次に、柱状体１４となる領域を露光する。現像はキシレンを用いて行い、イソプロピルアルコールによりリンスする。この工程により、図４（ｂ）に示すように、スミレジストＮＥＢ１８３がパターニングされる。
つづいて全面にポジフォトレジスト１５５を塗布する（図４（ｃ））。膜厚は１．８μｍとする。その後、反応容器１１２となる領域が露光するようにマスク露光をし、現像を行う（図５（ａ））。
次に、シリコン酸化膜１８５をＣＦ４、ＣＨＦ３の混合ガスを用いてＲＩＥエッチングする。エッチング後の膜厚を３００ｎｍとする（図５（ｂ））。スミレジストＮＥＢ１８３をアセトン、アルコール、水の混合液を用いた有機洗浄により除去した後、酸化プラズマ処理をする（図５（ｃ））。つづいて、基板１２をＨＢｒガスを用いてＥＣＲエッチングする。エッチング後のシリコン基板の段差（あるいは柱状体の高さ）を３μｍとする（図６（ａ））。つづいてＢＨＦバッファードフッ酸でウエットエッチングを行い、シリコン酸化膜を除去する（図６（ｂ））。以上により、基板１２上に柱状体１４が形成される。
なお、基板１２にプラスチック材料を用いる場合、柱状体１４は、エッチングやエンボス成形等の金型を用いたプレス成形、射出成形、光硬化による形成等、基板１２の材料の種類に適した公知の方法で行うことができる。
基板１２をプラスチック材料により構成した場合、機械加工あるいはエッチング法によりマスタを製作し、このマスタを電気鋳造反転して製作した金型を用いて、射出成形または射出圧縮成形により柱状体１４が形成された基板１２を形成することができる。また、柱状体１４は、金型を用いたプレス加工により形成することもできる。さらに、光硬化性樹脂を用いた光造形法により、柱状体１４が形成された基板１２を形成することもできる。
（第二の実施の形態）
図７は、本発明の第二の実施の形態における反応装置１０の製造工程を示す図である。本実施の形態において、基板１２上に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入した後、基板１２を押し伸ばすことにより柱状体１４に付着した初期鋳型ＤＮＡ１８をさらに伸張させる。本実施の形態において、基板１２は、伸縮性を有する各種プラスチック材料、またはゴム等の弾性材料により構成される。このような材料としてたとえばポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）がある。
上述したように、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態で基板１２および柱状体１４表面に付着させ固定した場合でも、図７（ａ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８の一部が収縮したままのことがある。これらをさらに伸張させて、より効率よくＰＣＲを行うために、本実施の形態では、図７（ｂ）に示すように、押圧体２２により基板１２の裏面側から基板１２を押圧し、図７（ｃ）に示すように、基板１２を伸張させる。これにより、柱状体１４間の間隔も広がり、隣接する柱状体１４間に一端と他端が固定された初期鋳型ＤＮＡ１８も伸張した状態となる。
また、本実施の形態において、図８に示すように、基板１２に凹部を設けておき、凹部内に柱状体１４を形成した状態で初期鋳型ＤＮＡ１８を導入し（図８（ａ））、初期鋳型ＤＮＡ１８導入後に基板１２の凹部を反転させて（図８（ｂ））基板１２の柱状体１４が形成された面を伸張させることもできる。
（第三の実施の形態）
図９は、本実施の形態における反応装置１０の製造工程を示す図である。本実施の形態において、基板１２に柱状体１４を形成しない点で第一および第二の実施の形態と異なる。
まず、基板１２表面に固定用オリゴヌクレオチド１６を付着させる（図９（ａ））。固定用オリゴヌクレオチド１６を基板１２表面に付着させる方法は第一の実施の形態と同様である。つづいて、基板１２に初期鋳型ＤＮＡ１８を固定する（図９（ｂ））。ここでも、第一の実施の形態と同様、たとえば、低周波をかける、高電界をかける、せん断応力を利用する等の方法で初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態で基板１２表面に付着させる。その後、第一の実施の形態で説明したのと同様に、クロスリンカーを用いて初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６に固定する。本実施の形態において、第一の実施の形態と同様、この状態でＰＣＲを行ってもよいが、以下のように基板１２を伸張させた後にＰＣＲを行うこともできる。
図９（ｃ）に示すように、基板１２の側方に均等な力を加えて基板１２を伸張させる。これにより、基板１２が伸び、基板１２表面に固定されていた初期鋳型ＤＮＡ１８も伸張する（図９（ｄ））。基板１２をこのように伸張させる場合、基板１２は、均一に伸張するとともに伸張後に収縮しないような材料により構成されるのが好ましい。このような材料として、たとえばＰＤＭＳを用いることができる。
このようにすれば、簡易な方法で初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させた状態でＰＣＲを行うことができる。
（第四の実施の形態）
本実施の形態において、基板１２表面ではなく、ビーズ表面に固定用オリゴヌクレオチド１６を付着し、初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６に固定した後にビーズを動かすことにより、初期鋳型ＤＮＡ１８を伸張させる点で第一〜第三の実施の形態と異なる。本実施の形態において、ビーズを動かす手段として、光ピンセットを用いる。
図１０は、本実施の形態における初期鋳型ＤＮＡ１８の固定方法を示す図である。まず、標識ビーズ３０に固定用オリゴヌクレオチド１６ａ（ＤＮＡ配列ＡおよびＢ）を固定したものを反応装置１０に導入する（図１０（ａ））。標識ビーズ３０としては、たとえばポリスチレンビーズ、金コロイド、ラテックスビーズ、シリカ等の微小粒子を用いることができる。
つづいて、標識ビーズ３０に初期鋳型ＤＮＡ１８ａを導入する。これにより、標識ビーズ３０に固定された固定用オリゴヌクレオチド１６ａと初期鋳型ＤＮＡ１８ａの固定用部分（ＤＮＡ配列Ａ’およびＢ’）が相補的な結合を形成する（図１０（ｂ））。その後、第一の実施の形態で説明したのと同様に、固定用オリゴヌクレオチド１６ａと初期鋳型ＤＮＡ１８ａの固定用部分とを固定する。このとき、導入された初期鋳型ＤＮＡ１８ａのうちの少なくとも一部は、図示したように２つの標識ビーズ３０にまたがって結合する。
つづいて、光ピンセット３２を用いて標識ビーズ３０を移動する（図１０（ｃ））。光ピンセットとは、開口数の大きなレンズで集光したレーザ光によって、非接触的、非侵襲的に水中の微小物体を捕捉する方法である。したがって、上記標識ビーズ３０としては、水の波長よりも大きな直径を有し、水より大きい屈折率を有する透明な粒子を用いるのが好ましい。また、標識ビーズ３０としては、水の波長より小さい金属微粒子を用いることもできる。これにより、レーザ光で標識ビーズ３０を捕らえることができる。これらの標識ビーズ３０は、光学顕微鏡を用いて可視化することができ、標識ビーズ３０間隔が、たとえば初期鋳型ＤＮＡ１８の増幅対象部分よりも少しだけ短い距離となるように標識ビーズ３０を移動する。これにより、２つの標識ビーズ３０にまたがって結合した初期鋳型ＤＮＡ１８ａを伸張することができる（図１０（ｄ））。
（第五の実施の形態）
図１１は、本発明の第五の実施の形態における反応装置１０を示す図である。ここで、反応装置１０としては、内部に固定用オリゴヌクレオチド（不図示）が固定された試験管３４を用いることができる。試験管３４内にたとえばバッファを導入して試験管３４を回転させ、その状態で初期鋳型ＤＮＡ１８をバッファに溶解して調整した溶液を試験管３４に導入する（図１１（ａ））。ここで、試験管３４を回転させているので、導入された初期鋳型ＤＮＡ１８にはせん断応力が働き、初期鋳型ＤＮＡ１８は伸張した状態で試験管３４の側壁に付着する（図１１（ｂ））。この後、バッファを真空除去等により除去することにより、試験管３４の側壁に初期鋳型ＤＮＡ１８が固定された反応装置１０を得ることができる（図１１（ｃ））。
図１２は、本実施の形態における反応装置１０の他の例を示す図である。ここで、初期鋳型ＤＮＡ１８は、基板１２に形成されたウェル３６内に導入することができる（図１２（ａ））。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）のＡ−Ａ’断面図である。この場合も、基板１２を回転させながら初期鋳型ＤＮＡ溶液をウェル３６に導入する。これにより、ウェル３６の側壁に初期鋳型ＤＮＡが固定された反応装置１０を得ることができる。
（第六の実施の形態）
以上の第一〜第五の実施の形態においては、初期鋳型ＤＮＡ１８は増幅対象部分と、増幅対象部分よりも外側に位置する固定用部分とを含み、固定用部分が固定された状態で増幅対象部分を鋳型として相補鎖を合成する例を説明したが、初期鋳型ＤＮＡ１８の固定用部分をも増幅対象として相補鎖を合成することもできる。このようにすれば、初期鋳型ＤＮＡ１８を鋳型として合成された相補鎖も固定用部分を有するため、合成された相補鎖をも基板１２表面に固定することができ、長いＤＮＡ鎖を効率よく増幅させることができる。
図１３は、本実施の形態における初期鋳型ＤＮＡ１８の増幅方法を示す図である。図１３（ａ）に示すように、初期鋳型ＤＮＡ１８は、配列ａ’ａ’ａ’および配列ｂ’ｂ’ｂ’を有する。基板１２には、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’と相補的な配列ａａａを有する固定用オリゴヌクレオチド１６が固定されている。ここで、配列ａ’ａ’ａ’および配列ｂ’ｂ’ｂ’は、初期鋳型ＤＮＡ１８の増幅対象部分の端部に位置する。このような状態で、配列ｂ’ｂ’ｂ’と相補的な配列ｂｂｂを有するプライマーを導入し、ＰＣＲを開始する。
図１３（ｂ）に示すように、配列ｂｂｂを有するプライマーは、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ｂ’ｂ’ｂ’との間で水素結合を形成し、ＰＣＲにより初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖が合成される。ＰＣＲの相補鎖の合成は、たとえば約７０℃で行われる。つづいて、ＰＣＲ工程がある程度進んだところで反応容器内の温度を約７５〜８５℃程度に上昇すると、配列ａａａを有する固定用オリゴヌクレオチド１６と初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’との結合が外れ、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’の相補鎖も合成され、初期鋳型ＤＮＡ１８の相補鎖である二次鋳型ＤＮＡ１８’が得られる（図１３（ｃ））。初期鋳型ＤＮＡ１８および二次鋳型ＤＮＡ１８’は、数ｋｂ以上の長いＤＮＡ鎖であるが、固定用オリゴヌクレオチド１６は数十〜数百ｂ程度と初期鋳型ＤＮＡ１８の長さと比すと非常に短いＤＮＡ鎖である。ＤＮＡ鎖が短い方がＤＮＡ鎖が長いものよりも二本鎖間の結合力が弱いため、加熱した際に生じる分子エネルギーの影響で二本鎖の結合が外れやすくなる。そのため、本実施の形態において、ＰＣＲ工程で初期鋳型ＤＮＡ１８と合成された二次鋳型ＤＮＡ１８’とを分離する変性工程の前に、変性工程で印加する温度よりも低い温度を加えることにより、初期鋳型ＤＮＡ１８と二次鋳型ＤＮＡ１８’とを結合させた状態で二次鋳型ＤＮＡ１８’を伸長させつつ、初期鋳型ＤＮＡ１８を固定用オリゴヌクレオチド１６から外して二次鋳型ＤＮＡ１８’を合成することができる。
つづいて、反応容器内の温度を約９０〜９８℃程度に上昇して初期鋳型ＤＮＡ１８と二次鋳型ＤＮＡ１８’とを変性させて一本鎖にする（図１３（ｄ））。ここで、第一の実施の形態において説明したように、低周波電界や高電界を印加する電界付与手段や、反応場にせん断応力を与えるせん断応力付与手段により、初期鋳型ＤＮＡ１８および二次鋳型ＤＮＡ１８’を伸張させる。
二次鋳型ＤＮＡ１８’は、初期鋳型ＤＮＡ１８の配列ａ’ａ’ａ’と相補的な配列ａａａを含むように合成されているので、図１３（ｅ）に示すように、基板１２に、配列ａ’ａ’ａ’を有する固定用オリゴヌクレオチド１６を固定しておくことにより、合成された二次鋳型ＤＮＡ１８’をも伸張させた状態で基板１２に固定することができる。つづいて、配列ｂｂｂを有するプライマーおよび配列ｂ’ｂ’ｂ’を有するプライマーを導入することにより、初期鋳型ＤＮＡ１８および二次鋳型ＤＮＡ１８’を鋳型としてそれぞれ相補鎖を合成することができる。
以上の工程を繰り返すことにより、初期鋳型ＤＮＡ１８を順次増幅することができる。本実施の形態においては、合成されたＤＮＡ鎖が基板１２に固定されるので、比較的長いＤＮＡ鎖であっても効率よく指数関数的に合成することができる。
（第七の実施の形態）
また、以上の実施の形態で説明した鋳型ＤＮＡの伸張方法および基板への固定方法は、ＤＮＡ鎖を特定の部位で切断する切断する技術に応用することができる。本実施の形態では、ＤＮＡ鎖の切断したい部位がデオキシリボヌクレアーゼ（ＤＮａｓｅ）と接触してその部位が特異的に切断される確率を高めるように、ＤＮＡ鎖を基板に固定する方法を説明する。
図１４は、本実施の形態におけるＤＮＡ鎖の固定方法を示す概念図である。ここで、図示したように、切断対象の被切断ＤＮＡ４８は、固定用部分である配列ａ’ａ’ａ’および配列ｂ’ｂ’ｂ’を含む。基板４０には配列ａａａを有する固定用オリゴヌクレオチド４２および配列ｂｂｂを有する固定用オリゴヌクレオチド４４が固定されている。配列ａａａは配列ａ’ａ’ａ’と相補的、配列ｂｂｂは配列ｂ’ｂ’ｂ’と相補的である。基板４０において、固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４の間には、切断対象の被切断ＤＮＡ４８が伸張した状態で固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４に固定されたときに、被切断ＤＮＡ４８の切断すべき被切断部位ｃに対応する位置に切断酵素４６が固定されている。基板４０をこのように構成することにより、被切断ＤＮＡ４８を基板４０に固定させたときに、被切断部位ｃが切断酵素４６と接触する確率が高くなり、特定の部位を効率よく切断することができる。切断酵素４６は、ＤＮａｓｅである。
図１５は、本実施の形態における基板１２の作製方法を示す工程図である。
まず、図１５（ａ）に示すように、基板４０上に固定用オリゴヌクレオチド４２を帯状に付着させる。つづいて、図１５（ｂ）に示すように、固定用オリゴヌクレオチド４２と所定の間隔を隔てて固定用オリゴヌクレオチド４４を帯状に付着させる。固定用オリゴヌクレオチド４２と固定用オリゴヌクレオチド４４との間隔は、被切断ＤＮＡ４８の固定用部分の間隔と同等またはそれよりも少し狭い間隔とされることが好ましい。その後、図１５（ｃ）に示すように、被切断ＤＮＡ４８を伸張させて固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４に固定したときに、被切断部位が位置する箇所に切断酵素４６を帯状に付着させる。このようにして形成された基板４０に被切断ＤＮＡ４８を導入することにより、被切断ＤＮＡ４８の固定用部分が固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４と結合して被切断ＤＮＡ４８が基板４０に固定される。このとき、被切断ＤＮＡ４８の被切断部位は基板４０の切断酵素４６の近傍に配置されるので、被切断ＤＮＡ４８の被切断部位が切断酵素４６により効率よく切断される。
固定用オリゴヌクレオチド４２、固定用オリゴヌクレオチド４４、および切断酵素４６の基板４０への固定は種々の方法で行うことができるが、いくつかの方法を例示する。一例として、基板４０をシリコンにより構成した場合、第一の実施の形態で説明したのと同様のアミノシラン等のシランカップリング剤を介して固定用オリゴヌクレオチド４２、固定用オリゴヌクレオチド４４、および切断酵素４６を基板４０に固定することができる。まず、基板４０表面の固定用オリゴヌクレオチド４２を固定すべき箇所にシランカップリング剤を選択的に導入し、シランカップリング剤を介して固定用オリゴヌクレオチド４２を基板４０に固定させる。つづいて、基板４０表面の固定用オリゴヌクレオチド４４を固定すべき箇所に同様のシランカップリング剤を選択的に導入し、シランカップリング剤を介して固定用オリゴヌクレオチド４４を基板４０に固定させる。その後、基板４０表面の切断酵素４６を固定すべき箇所に同様のシランカップリング剤を選択的に導入し、シランカップリング剤を介して切断酵素４６を基板４０に固定させる。
また、他の例として、基板４０表面に疎水性領域を形成し、疎水性領域以外の領域に固定用オリゴヌクレオチド４２、固定用オリゴヌクレオチド４４、および切断酵素４６を順次付着させることもできる。この場合、基板４０をたとえばガラスにより構成するか、基板４０表面をシリコン酸化膜により被覆するか、または金属により被覆する。この状態で、基板４０表面を清浄な状態として、基板４０の固定用オリゴヌクレオチド４２を固定すべき領域以外の領域を疎水性にする。基板４０表面を疎水性にする処理は、スタンプやインクジェットなどの印刷技術を用いて行うことができる。スタンプによる方法では、ＰＤＭＳ樹脂を用いる。ＰＤＭＳ樹脂はシリコーンオイルを重合して樹脂化するが、樹脂化した後も分子間隙にシリコーンオイルが充填された状態となっている。そのため、ＰＤＭＳ樹脂を親水性の表面、例えば、ガラス表面に接触させると、接触した部分が強い疎水性となり水をはじく。これを利用して、固定用オリゴヌクレオチド４２を形成すべき領域に対応した凹部を形成したＰＤＭＳブロックをスタンプとして、親水性の基板４０に接触させることにより、固定用オリゴヌクレオチド４２を形成すべき領域以外の領域を疎水性にすることができる。
インクジェットプリントによる方法では、粘稠性が低いタイプのシリコーンオイルをインクジェットプリントのインクとして用い、基板４０表面の固定用オリゴヌクレオチド４２を形成する領域以外の領域にシリコーンオイルが付着するようなパターンに印刷する。
固定用オリゴヌクレオチド４２を基板４０表面に付着させた後、有機溶剤を用いて基板４０表面に塗布されたシリコーンオイル等を洗い流し、固定用オリゴヌクレオチド４２を基板４０表面に付着させたのと同様の方法で固定用オリゴヌクレオチド４４を基板４０表面に付着させる。その後、再び有機溶剤を用いて基板４０表面に塗布されたシリコーンオイル等を洗い流す。
つづいて、インクジェットプリントのインクとして切断酵素４６を含む溶液を用い、基板４０表面の該当個所に切断酵素４６を付着させる。
なお、固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４を含む溶液をそれぞれインクとして固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４をもインクジェットプリントにより基板４０表面に付着させることもできる。インクジェットプリントのインクは、切断酵素４６、固定用オリゴヌクレオチド４２および固定用オリゴヌクレオチド４４等の変性を防ぐための防腐剤を含むことが好ましい。
また、本実施の形態においても、第一の実施の形態で説明したのと同様に柱状体等の突起部を形成して突起部に被切断ＤＮＡ４８が固定されるようにすることもできる。
また、第一の実施の形態においても、第七の実施の形態で説明したのと同様に、インクジェットプリントの技術を用い、柱状体１４の代わりに所定の間隔で固定用オリゴヌクレオチドをパターニングすることもできる。また、以上の第一〜第七の実施の形態において、固定用オリゴヌクレオチドの基板への固定は、上述した方法の他に、光リソグラフィー等種々の既知の技術を用いて行うことができる。
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
本実施例において、初期鋳型ＤＮＡ１８としては、線虫（Ｃ．エレガンス：Ｃ．ｅｌｅｇａｎｓ）のゲノムＤＮＡを用いた。線虫には、１６０００−１９０００の遺伝子があるが、本実施例では、これらの遺伝子の中の４番染色体上にあるｔｐａ−１遺伝子からｄａｆ−１までを含む領域（図３（ａ）における９０ｋ−１４０ｋ周辺）の５０ｋｂを増幅させた。ここで、初期鋳型ＤＮＡ１８の固定用部分は、８０ｋと１５０ｋ周辺の２カ所とした。
本実施例において、固定用オリゴヌクレオチド１６としては以下の配列ＡおよびＢを用いた。また、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）としては、以下の配列ＣおよびＤを用いた。
【実施例１】
第一の実施の形態で説明した方法で基板１２表面に柱状体１４が形成された反応装置１０を製造した。ここで、基板１２は、（１００）面を主面とするシリコン基板により構成した。柱状体１４は、図４〜図６を用いて説明した方法で形成した。ここで、柱状体１４の間隔ｄが約２０μｍとなるようにした。次に、第一の実施の形態で説明した方法で、基板１２および柱状体１４表面にＥＤＡを固定し、次いで、ＳＭＰＢをＥＤＡに固定した。この後、上記配列ＡおよびＢの固定用オリゴヌクレオチドを導入することにより、配列Ａおよび配列Ｂの固定用オリゴヌクレオチドを基板１２および柱状体１４に固定した。
基板１２に約１０Ｈｚの低周波電界を印加した状態で基板１２および柱状体１４上に初期鋳型ＤＮＡ１８を導入した。
つづいて、反応装置１０にＴＥＮバッファ（１０ｍＭトリス（ｐＨ７．６）、１ｍＭＥＤＴＡ溶液、５０ｍＭＮａＣｌ）を導入した後、反応装置１０に４，５’，８−トリメチルプソラレンのエタノール溶液を導入し、約２分間インターカレートさせた後、ＵＶ装置（ＵＶＰ社製）を用いて約３６５ｎｍの光を約２０分間照射した。その後、基板１２表面をバッファで洗浄して基板１２または柱状体１４表面に固定されなかった初期鋳型ＤＮＡを除去した。
つづいて、ＴａＫａＲａ ＬＡ ＰＣＲＴＭ法によりＰＣＲ反応を行った。前記の通り初期鋳型ＤＮＡの固定された約３ｍｍ角の反応装置１０を微小遠心管に適宜数入れた。ここへ、１０×ＬＡ ＰＣＲ バッファＩＩ（Ｍｇ２＋Ｆｒｅｅ）１０μｌ、２５ｍＭ−ＭｇＣｌ２１０μｌ、ｄＮＴＰ混合物（各２．５ｍＭ）１６μｌ、プライマー（センスプライマー、アンチセンスプライマー）それぞれ１μｌ（１００ｐｍｏｌ／μｌ）、ＴａＫａＲａ ＬＡ Ｔａｑ１μｌ、を入れた後、滅菌蒸留水を入れて総量を１００μｌとした。この後、サーマルサイクラーを用い、９４℃で１分の変性反応後、９８℃で２０秒（変性）および６８℃で２０分（プライマーのアニーリングおよび相補鎖ＤＮＡの伸長）の反応サイクルを１４サイクル、９８℃で２０秒（変性）および６８℃で２０分１５秒（プライマーのアニーリングおよび相補鎖ＤＮＡの伸長）の反応サイクルを１６サイクル行い、最後に７２℃で１０分反応させた。
以上の反応後の生成物を０．４％の高強度タイプアガロースゲル上で電気泳動させたところ、５０ｋｂｐ付近に増幅されたバンドが観察された。
【実施例２】
第三の実施の形態で説明した方法で、反応装置１０を製造した。ここでは、基板１２表面に柱状体１４が形成されていない点で実施例１と異なる。基板１２は、実施例１と同様、（１００）面を主面とするシリコン基板により構成した。実施例１と同様に基板１２表面に初期鋳型ＤＮＡを固定し、ＰＣＲを行った。その結果、本実施例においても、反応後の生成物を０．４％の高強度タイプアガロースゲル上で電気泳動させたところ、５０ｋｂｐ付近に増幅されたバンドが観察された。
【配列表】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＮＡ断片の増幅を行う方法であって、
前記ＤＮＡ断片を、基材表面に形成された結合部に結合する工程と、
前記ＤＮＡ断片を前記基材表面に結合させた状態で、前記ＤＮＡ断片を鋳型として当該ＤＮＡ断片の相補鎖を合成する工程と、
を含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項２】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分よりも外側に位置するＤＮＡ配列と結合するように構成されていることを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項３】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側に位置するＤＮＡ配列と相補的な配列を有する２種以上の固定用オリゴヌクレオチドを含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項４】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記相補鎖を合成する工程は、鋳型とした前記ＤＮＡ断片と前記相補鎖とを変性させて分離する工程を含み、
前記結合する工程において、前記分離する工程においても前記ＤＮＡ断片が前記結合部から分離しないように、当該ＤＮＡ断片を前記結合部に固定することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項５】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の一部と結合するように構成され、
前記相補鎖を合成する工程の途中で、前記ＤＮＡ断片と前記結合部との結合を解除する工程をさらに含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項６】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項７】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程において、前記ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項８】
請求の範囲７に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程において、前記ＤＮＡ断片に低周波電界を印加することにより前記ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項９】
請求の範囲７に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程において、前記ＤＮＡ断片に高電界を印加することにより前記ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項１０】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程の後に、前記基材表面を伸張する工程をさらに含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項１１】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記増幅対象のＤＮＡ断片は、１０ｋｂ以上の長さを有することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項１２】
ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置であって、
基材表面と、
前記基材表面に形成され、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部と、
を含むことを特徴とする反応装置。
【請求項１３】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、所定の間隔で設けられた複数の領域に形成されていることを特徴とする反応装置。
【請求項１４】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、前記基材表面に形成された複数の突起部を含むことを特徴とする反応装置。
【請求項１５】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことを特徴とする反応装置。
【請求項１６】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両側に位置するＤＮＡ配列と結合するように構成されていることを特徴とする反応装置。
【請求項１７】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記基材は、伸張可能な材料により構成されたことを特徴とする反応装置。
【請求項１８】
ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置の製造方法であって、
基材表面に、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部を形成する工程と、
前記増幅対象のＤＮＡ断片を前記結合部に結合する工程と、
を含むことを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項１９】
請求の範囲１８に記載の反応装置の製造方法において、
前記結合部を形成する工程において、前記増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを前記基材表面に固定することを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項２０】
請求の範囲１９に記載の反応装置の製造方法において、
前記ＤＮＡ断片を結合する工程において、当該ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項２１】
請求の範囲１９に記載の反応装置の製造方法において、
前記ＤＮＡ断片を結合する工程の後に、前記基材表面を伸張する工程をさらに含むことを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項１】
ＤＮＡ断片の増幅を行う方法であって、
前記ＤＮＡ断片を、基材表面に形成された結合部に結合する工程と、
前記ＤＮＡ断片を前記基材表面に結合させた状態で、前記ＤＮＡ断片を鋳型として当該ＤＮＡ断片の相補鎖を合成する工程と、
を含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項２】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分よりも外側に位置するＤＮＡ配列と結合するように構成されていることを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項３】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両外側に位置するＤＮＡ配列と相補的な配列を有する２種以上の固定用オリゴヌクレオチドを含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項４】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記相補鎖を合成する工程は、鋳型とした前記ＤＮＡ断片と前記相補鎖とを変性させて分離する工程を含み、
前記結合する工程において、前記分離する工程においても前記ＤＮＡ断片が前記結合部から分離しないように、当該ＤＮＡ断片を前記結合部に固定することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項５】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の一部と結合するように構成され、
前記相補鎖を合成する工程の途中で、前記ＤＮＡ断片と前記結合部との結合を解除する工程をさらに含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項６】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項７】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程において、前記ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項８】
請求の範囲７に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程において、前記ＤＮＡ断片に低周波電界を印加することにより前記ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項９】
請求の範囲７に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程において、前記ＤＮＡ断片に高電界を印加することにより前記ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項１０】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記結合する工程の後に、前記基材表面を伸張する工程をさらに含むことを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項１１】
請求の範囲１に記載のＤＮＡ断片増幅方法において、
前記増幅対象のＤＮＡ断片は、１０ｋｂ以上の長さを有することを特徴とするＤＮＡ断片増幅方法。
【請求項１２】
ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置であって、
基材表面と、
前記基材表面に形成され、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部と、
を含むことを特徴とする反応装置。
【請求項１３】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、所定の間隔で設けられた複数の領域に形成されていることを特徴とする反応装置。
【請求項１４】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、前記基材表面に形成された複数の突起部を含むことを特徴とする反応装置。
【請求項１５】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを含むことを特徴とする反応装置。
【請求項１６】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記結合部は、増幅対象のＤＮＡ断片の増幅対象部分の両側に位置するＤＮＡ配列と結合するように構成されていることを特徴とする反応装置。
【請求項１７】
請求の範囲１２に記載の反応装置において、
前記基材は、伸張可能な材料により構成されたことを特徴とする反応装置。
【請求項１８】
ＤＮＡ断片の増幅を行う反応装置の製造方法であって、
基材表面に、増幅対象のＤＮＡ断片と結合する結合部を形成する工程と、
前記増幅対象のＤＮＡ断片を前記結合部に結合する工程と、
を含むことを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項１９】
請求の範囲１８に記載の反応装置の製造方法において、
前記結合部を形成する工程において、前記増幅対象のＤＮＡ断片の一部と相補的な配列を有する固定用オリゴヌクレオチドを前記基材表面に固定することを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項２０】
請求の範囲１９に記載の反応装置の製造方法において、
前記ＤＮＡ断片を結合する工程において、当該ＤＮＡ断片を伸張させた状態で、前記基材表面に結合することを特徴とする反応装置の製造方法。
【請求項２１】
請求の範囲１９に記載の反応装置の製造方法において、
前記ＤＮＡ断片を結合する工程の後に、前記基材表面を伸張する工程をさらに含むことを特徴とする反応装置の製造方法。
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０８３４２９
【国際公開日】平成１６年９月３０日（２００４．９．３０）
【発行日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５０３７２０（Ｐ２００５−５０３７２０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００３５７５
【国際出願日】平成１６年３月１７日（２００４．３．１７）
【出願人】（０００００４２３７）日本電気株式会社 (19,353)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１６年９月３０日（２００４．９．３０）
【発行日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００３５７５
【国際出願日】平成１６年３月１７日（２００４．３．１７）
【出願人】（０００００４２３７）日本電気株式会社 (19,353)
【Ｆターム（参考）】
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