【課題】３次元構造体に付着した未硬化樹脂液をアルカリ性水溶液により洗浄除去可能であり、20μｍ以上の膜厚で十分な解像度を有し、メッキ液に対する濡れ性と耐メッキ性を示し、基板からの硬化物の剥離性が優れ、光造形時のリコート性及び多段積層性が優れ、数μｍ程度の解像度を要し複雑な形状の３次元構造体を作製しうる微小造形法用の光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)：(a)カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、(b)フェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、及び(c)他のラジカル重合性化合物に由来する構成単位、を含むアルカリ可溶性の共重合体25〜70質量％、（B)：少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物20〜70質量％、（C)：放射線ラジカル重合開始剤0.1〜10質量％（ただし、成分(A)〜（C)の含有率は有機溶剤を除く全成分の合計量中の値である。）を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度および低ノイズを発現する磁性粒子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】磁性粒子は、下記一般式（１）で表される基を含む。
【化１】


・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立して、水酸基、下記一般式（２）で表される基、または下記一般式（３）で表される基であり、Ｒ^１およびＲ^２がいずれも水酸基である場合を除く。）
【化２】


・・・・・（２）
（式中、Ｒ^３は炭素数２〜６の直鎖、分岐、または環状のアルキレン基、あるいはアリーレン基を表す。）
【化３】


・・・・・（３）
（式中、Ｒ^４は水素原子またはアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】スピロ骨格を有するノルボルネン誘導体またはスピロ骨格を有するノルボルネン誘導体の合成原料となり得る環状炭化水素化合物を、効率よく安価に得ることが出来る製造方法を提供すること。
【解決手段】環状炭化水素化合物の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（２−１）等で表される化合物とを炭化水素系溶媒を、塩基としてのアルカリ金属水酸化物の存在下に縮合反応させて、下記一般式（３−１）等で表される化合物を製造する。
［式（１）、（４）中、Ｒ¹〜Ｒ⁸は、水素原子、ハロゲン原子等、Ａは単結合、２価の（置換）炭化水素基等、ａ、ｂ、ｃは０〜２、式（2-2）中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、相互に結合した炭素環または複素環等、ＸおよびＹは、ハロゲン原子、スルホン酸エステル基等。］
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【課題】 大きな基体への適用も容易であり、またコストの低廉化にも資し、さらに、液体原料の浸透力を利用して狭トレンチ基体上への良好な成膜が可能なアルミナ膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）の工程を含むことを特徴とするアルミナ膜形成方法。
（１）基体上に、アミン化合物と水素化アルミニウムとの錯体及び有機溶媒を含有するアルミナ形成用組成物を塗布し、塗膜を形成する工程
（２）工程（１）で形成した塗膜から溶媒を除去する工程
（３）酸化性ガスの存在下、塗膜に加熱および光照射もしくはいずれか一方を行う工程 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、屈折率が低く、しかも優れた耐擦傷性及び耐汚染性を有する硬化膜を与える熱硬化性樹脂組成物及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）〜（Ｃ）：（Ａ）水酸基を含有する単量体由来の構造単位を１０モル％〜５０モル％含有してなり、かつ主鎖中にポリシロキサンセグメントを有するフッ素含有オレフィン系重合体、（Ｂ）中空粒子、及び（Ｃ）架橋性化合物を含有する熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】本発明の積層フィルムの製造方法は、環状オレフィン系樹脂フィルムの表面に、環状オレフィン系樹脂と、融点が１２０℃以上の紫外線吸収剤と、沸点が１１５℃以下の有機溶剤とを含有する塗布液を塗布し、乾燥して紫外線吸収層を形成することを特徴としている。
【効果】本発明によれば、各層の接合性が高く、優れた紫外線吸収効果を有する環状オレフィン系樹脂からなる積層フィルムの製造方法ならびに積層フィルムを提供することができる。本発明に係る積層フィルムは、透明性、耐熱性、耐薬品性などの環状オレフィン系樹脂が本来有する優れた性状を示すとともに、各層の接合性が高く接着剤などを使用することなく製造することができ、十分な紫外線吸収性を示し、しかも位相差発現性にも優れる。 （もっと読む）

【課題】絶縁層を化学機械研磨する際に、絶縁層の物理的性質を変化させずに、材料剥がれやスクラッチなどの表面欠陥が被研磨面に発生することなく精度の高い被研磨面を得ることができる化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに前記化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットを提供すること。
【解決手段】化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）砥粒、（Ｂ）炭素数４以上の脂肪族有機酸、（Ｃ）酸化剤、（Ｄ）下記一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤、および（Ｅ）分散媒を含有する。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】耐擦傷性、塗工性及び耐久性に優れ、かつ、より低屈折率の硬化物を与える硬化性樹脂組成物、硬化膜、及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体、（Ｂ）成分（Ａ）以外の、２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物、（Ｃ）活性エネルギー線の照射により活性種を発生する化合物を含有する硬化性樹脂組成物であって、（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体が、特定の構造単位（ａ）、構造単位（ｂ’）及び構造単位（ｃ）を含有し、（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体中に占める、構造単位（ａ）、（ｂ’）及び（ｃ）の合計量が８０質量％以上であり、かつ、構造単位（ａ）、（ｂ’）及び（ｃ）を、これらの合計１００モル％に対して、（ａ）４０〜５５モル％、（ｂ’）２〜６０モル％、及び（ｃ）１０モル％未満の割合で含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高温条件下においても適切な湿潤状態に維持することができる高分子電解質膜を有し、長期発電運転での性能に優れた電極−膜接合体を提供すること。
【解決手段】本発明に係る電極−膜接合体は、高分子電解質膜と、触媒粒子及び高分子電解質を含むアノード電極触媒層と、触媒粒子、高分子電解質を含むカソード電極触媒層とを有し、アノード側電極触媒層を構成する高分子電解質と、カソード電極触媒層を構成する高分子電解質とが、フッ素含量が異なることによる保水性あるいは撥水性が異なる高分子電解質それぞれに用いることを特徴とする。 （もっと読む）