【課題】 電子ビーム蒸着法等により蒸着した際に、成膜速度を低減することなくスプラッシュの発生を防止しうる酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単結晶蒸着材を得るためのＭｇＯ単結晶、並びに、例えば超伝導特性に優れた超伝導体薄膜を形成しうるＭｇＯ単結晶基板を得るためのＭｇＯ単結晶を提供すること。
【解決手段】 カルシウム含有量が１５０×１０^-6〜１０００×１０^-6kg/kg、ケイ素含有量が、１０×１０^-6kg/kg以下のＭｇＯ単結晶であって、ＭｇＯ単結晶の研磨面をＴＯＦ−ＳＩＭＳにより分析したときのカルシウムフラグメントイオン検出量の変動がＣＶ値で３０％以下であるＭｇＯ単結晶である。また、このＭｇＯ単結晶から得られるＭｇＯ単結晶蒸着材及び薄膜形成用ＭｇＯ単結晶基板である。 （もっと読む）

【課題】 各種水槽、クーリングタワーの貯水槽等において、藻類、アオコ等の発生を長期にわたり防止し、かつ、生物に対して安全な防藻組成物を提供すること。
【解決手段】 亜鉛化合物と有機酸との混合物を含む成形体よりなる防藻組成物である。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ蒸着材であって、蒸着時の成膜速度を低減することなく、スプラッシュの発生を防止し、優れた膜特性例えばＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。
【解決手段】 酸化マグネシウム単結晶よりなる蒸着材であって、前記蒸着材の最大投影面の円相当径をＤ（ｍ）、前記最大投影面に垂直方向の厚みをｔ（ｍ）、蒸着材の体積をＶ（ｍ^３）としたときに、Ｄ／ｔが４以上、ｔが０．４×１０^−３ｍ以上、Ｖが５×１０^−９ｍ^３以上であり、かつ、前記最大投影面の合計面積の９０％以上が、（１００）面、（１１０）面、及び（１１１）面の少なくとも１種で構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ蒸着材であって、蒸着時の成膜速度を低減することなく、スプラッシュの発生を防止し、優れた膜特性例えばＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。
【解決手段】 酸化マグネシウム（２００）面のロッキングカーブの半価幅が、０．００５〜０．０２５ｄｅｇｒｅｅである酸化マグネシウム単結晶蒸着材、及び、酸化マグネシウム単結晶を解砕する工程を含む酸化マグネシウム単結晶蒸着材の製造方法であって、前記解砕工程が、酸化マグネシウム（１００）面方位に対し、−５〜＋５ｄｅｇｒｅｅの範囲内の角度で刃形状の衝撃体を衝突させることにより劈開する工程を含む方法。 （もっと読む）

【課題】特にアーク電融法を使用して製造されたＭｇＯ単結晶の基板上に形成された超伝導体薄膜の超伝導特性を向上させることが可能な結晶性制御ＭｇＯ単結晶の製造方法及びその基板を提供する。
【解決手段】亜粒界を有し、且つ、同一亜粒界における逆格子マップ測定による回折線位置の変動幅が、Δω座標の変動幅として、１×１０^−３〜２×１０^−２ｄｅｇｒｅｅ、且つ、２θ座標の変動幅として４×１０^−４〜５×１０^−３ｄｅｇｒｅｅであることを特徴とする結晶性制御酸化マグネシウム単結晶を製造した後、２６１３Ｋ以上の温度まで昇温加熱した後、直ちに、もしくは、その温度で所定時間保持した後、５０〜３００Ｋ／ｈｒの冷却速度で２４７３Ｋまで冷却する工程を含み、更に昇温と冷却に要した時間を含め、２６１３Ｋ以上の温度範囲に保持する合計時間を１０８００秒以下とする熱処理を行うことを特徴とする結晶性制御酸化マグネシウム単結晶の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 非常に優れた耐水性を有するリン含有被覆ＭｇＯ粉末およびその製造方法を提供すること。また、そのリン含有被覆ＭｇＯ粉末を含む、耐水性に優れた樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 表面に複酸化物よりなる被覆層を有する被覆酸化マグネシウム粉末の、前記表面の少なくとも一部に、リン酸マグネシウム系化合物よりなる被覆層をさらに有し、かつ、前記被覆酸化マグネシウム粉末に対する前記リン酸マグネシウム系化合物の含有量が、リンに換算して全体の０．１〜１０質量％であることを特徴とするリン含有被覆酸化マグネシウム粉末、及び、表面に複酸化物の被覆層を有する被覆酸化マグネシウム粉末を、リン化合物で処理したのち、３００℃以上で焼成することにより前記被覆酸化マグネシウム粉末の表面の少なくとも一部にリン酸マグネシウム系化合物を形成することを特徴とする、リン含有被覆酸化マグネシウム粉末の製造方法、並びに、その粉末を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性例えばＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体の製造方法、ならびに、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 ＭｇＯに対するＳｉ及びＣａの含有率が、ＳｉＯ_２及びＣａＯ換算でそれぞれ０．０１〜３．０質量％であり、かつ、Ｍｇ１００質量部に対する前記Ｓｉの含有量をｘ質量部、前記Ｃａの含有量をｙ質量部としたときに、０．０１≦ｙ／ｘ≦１．５であることを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性例えばＰＤＰ保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体の製造方法、ならびに、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ保護膜を提供することである。
【解決手段】 焼結体の相対密度が５０％以上９０％未満であり、酸化マグネシウム純度が９７質量％以上であり、かつ、粒径２００μｍ以上の粗大粒子を含むことを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】樹脂に混練等した際の流動性や加工性等を向上させた金属水酸化物固溶体および金属酸化物固溶体を提供する。
【解決手段】下記の式（１）を満足し、かつ、結晶外形が、平行な上下２面の基底面と外周６面の角錐面とからなり上記角錐面が上向き傾斜面と下向き傾斜面とが交互に配設された８面体形状を呈し、基底面の長軸径と上下の基底面間の厚みとの比率（長軸径／厚み）が１〜９となるようにした。
Ｍｇ_1-x Ｍ²⁺_x （ＯＨ）₂ …（１）
（式中Ｍ²⁺は、Ｍｎ²⁺，Ｆｅ²⁺，Ｃｏ²⁺，Ｎｉ²⁺，Ｃｕ²⁺およびＺｎ²⁺から選ばれた少なくとも一種の二価金属イオンを示し、ｘは０．０１≦ｘ＜０．５の範囲の数を示す） （もっと読む）