説明

タテホ化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】本発明は、駆動電圧の低減と、アドレス放電遅れの低減を両立させるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】表示電極12、13を誘電体層14で被覆した前面板10が、放電空間を挟んで背面板20と対向して封着されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層上に形成され、主成分が酸化マグネシウム又は酸化カルシウムである少なくとも1種類以上の微粒子15aが配設された微粒子層15と、
該微粒子層上に形成された酸化カルシウムを含む保護層16と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】分散性に優れ、平均粒子径が小さく、粒子径が均一で、微小サイズの粒子を含まない酸化マグネシウム粉末を得る。
【解決手段】BET比表面積が5m/g以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による累積50%粒子径(D50)が0.3〜1.5μm、レーザ回折散乱式粒度分布測定による累積10%粒子径(D10)と累積90%粒子径(D90)との比D90/D10が5以下、及びD10が0.1μm以上の粒子である、酸化マグネシウム粉末である。 (もっと読む)


【課題】寸法精度に優れたセラミック焼結体を得る。
【解決手段】平均粒子径及び/又はBET比表面積の異なる2種類以上のセラミック粉末、分散剤及び溶媒を混合することにより、スラリーを調製する工程(a)と、スラリーを鋳型に挿入し、脱型して、成形体を得る工程(b)と、成形体を焼成し、セラミック焼結体を得る工程(c)とを含む、セラミック焼結体の製造方法である (もっと読む)


【課題】医療用、食品添加物、樹脂充填剤及び電子デバイス材料等の用途に用いることのできる、高純度水酸化カルシウム粉末、高純度炭酸カルシウム粉末及び高純度酸化カルシウム粉末並びにその製造方法を得る。
【解決手段】純度が99.9質量%以上、特定重金属(Pb、Hg、Bi、Cd、Sn及びCu)の合計含有量が、1質量ppm以下、及び特定元素A(Ba、Bi、Cd、Pb、Tl、Zr及びP)の合計含有量が0.1質量ppm以下である、高純度水酸化カルシウム粉末である。 (もっと読む)


【課題】酸化マグネシウム焼結体を蒸着材として用いて成膜する際に成膜速度が高く、かつ成膜時のスプラッシュ発生の抑止が可能であるとともに、得られた蒸着膜をPDP用の保護膜として使用した時に放電開始電圧を低くすることができる酸化マグネシウム焼結体を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム、マグネシウム以外の周期表第2A族元素の酸化物9〜50質量%、及び、周期表第3B族、第3A族又は第4A族元素の酸化物1〜10000ppmを含むことを特徴とする酸化マグネシウム焼結体。 (もっと読む)


【課題】PDPの保護膜上又は背面板上に配置することで放電速度を向上するため紫外線領域でフォトルミネッセンス発光を示しながらも、駆動電圧を低減することが可能な酸化マグネシウム粒子を提供する。
【解決手段】波長260〜330nmの範囲にフォトルミネッセンス発光ピークを有し、周期表第IIB族元素を酸化物換算で1〜45モル%の含量で固溶していることを特徴とする酸化マグネシウム固溶体粒子。 (もっと読む)


【課題】酸化マグネシウム焼結体を蒸着材として成膜する際にエネルギー効率が高く、かつ成膜時のスプラッシュ発生を抑止することが可能な酸化マグネシウム焼結体を提供する。
【解決手段】水銀圧入式細孔分布測定により計測した見掛け密度と細孔容積が、下記a1〜e1点を順に結ぶ範囲内にあることを特徴とする酸化マグネシウム焼結体。当該焼結体はプラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材として好適に利用できる。
a1点:見掛け密度3.26g/cm3,細孔容積0.00cm3/g
b1点:見掛け密度3.58g/cm3,細孔容積0.04cm3/g
c1点:見掛け密度3.58g/cm3,細孔容積0.05cm3/g
d1点:見掛け密度1.80g/cm3,細孔容積0.05cm3/g
e1点:見掛け密度1.80g/cm3,細孔容積0.00cm3/g (もっと読む)


【課題】耐湿性に優れ、酸化ストロンチウムと酸化カルシウムとを主成分とする高密度の焼結体およびその製造方法を得る。
【解決手段】酸化ストロンチウムと酸化カルシウムとを主成分とする焼結体の製造方法であって、平均粒径0.01〜15μmの炭酸ストロンチウム粉末と、平均粒径0.01〜15μmの炭酸カルシウム粉末および/または水酸化カルシウム粉末とを混合し、加圧し、相対密度50%以上の成型体を形成する工程と、成型体を、1200〜2400℃の温度範囲で焼結することにより焼結体を形成する工程とを含む、焼結体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】不純物である鉛の含有量が十分に低い水酸化マグネシウム粉末及び酸化マグネシウム粉末を提供すること。
【解決手段】純度が99.9質量%以上であり、Pbの含量が0.1ppm未満である、水酸化マグネシウム粉末又は酸化マグネシウム粉末にも関する。Pbの含量は0.01ppm以下が好ましい。 (もっと読む)


【課題】発光効率を高める為、放電ガス中のXe濃度を10%以上に高めたPDPの放電電圧を低減し、且つ、取り扱いが容易な保護膜用蒸着材、及び、保護膜を提供する。
【解決手段】Mgに対して希土類元素を0.3〜0.65mol%含有し、MgO純度が99mol%以上である事を特徴とする、放電ガス中のXe濃度が10%以上のプラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材。希土類元素を0.7〜1.6mol%含有するMgOからなる事を特徴とする、放電ガス中のXe濃度が10%以上のプラズマディスプレイパネル用保護膜。希土類元素としてはCeが好適である。 (もっと読む)


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