【課題】撮像領域内に局所的に高輝度又は低輝度の部位が存在しても、画像全体として鮮明な２次元画像及び３次元画像を撮像できる共焦点顕微鏡を実現する。
【解決手段】本発明による共焦点顕微鏡は、フレーム画像信号を高ゲイン及び低ゲインで交互に増幅する増幅手段（３２，３３）と、一連の高ゲイン増幅画像及び低ゲイン増幅画像から全焦点画像をそれぞれ形成する手段（３６，３７，３８，３９）を有する。２つの全焦点画像から適正輝度範囲の画素を抽出して画素合成を行う（４３）。増幅手段のゲイン情報と画素合成手段（４３）からの出力信号とに基づいて、増幅率補正された全焦点画像を形成し（４４）、増幅補正された全焦点画像についてγ補正等の輝度補正を行い（４５）、全ての画素が適正輝度範囲内の２次元画像情報を出力する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された透明膜の界面のナノスケールの粗さを光学的に非破壊・非接触で測定すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる粗さ測定装置１００は、基板４１上に形成された透明膜４２の界面の二乗平均平方根粗さを測定するものであり、透明膜４２が形成された基板４１の透明膜形成面及び参照ミラー１９に干渉性を有する第１波長の光を照射する光源１１と、透明膜形成面で反射された測定光と、参照面で反射された参照光とを合成した干渉光を受光する光検出器２３と、光検出器２３で受光された干渉光の強度変化に基づいて、測定光と参照光との位相差から、透明膜形成面の二乗平均平方根粗さを算出し、透明膜４２の界面の二乗平均平方根粗さを決定する粗さ算出部３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比のビィアホールを高分解能で測定できる深さ測定装置及び方法を実現する。
【解決手段】深さ測定装置は白色光の光ビーム発生手段１、光ビームを測定ビームと参照ビームとに分割するビームスプリッタ１０、測定ビームを試料に投射する対物レンズ１６、参照ビームを反射させる参照ミラー１４、前記測定ビームと参照ビームの相対的な光路長差を変化させるフリンジスキャン手段１４，１５、試料からの反射光と参照ミラーからの反射光とを合成して干渉ビームを発生するビーム合成手段１０、対物レンズと試料間の相対距離を変化させる駆動機構２０、対物レンズと試料間の相対位置を検出する位置検出手段２１、干渉ビームを受光してフリンジスキャン信号を出力する光検出手段２２、フリンジスキャン信号に基づく変位情報と前記位置検出手段から出力される相対位置情報とに基づいて凹部の深さ情報を出力する信号処理回路を具える。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍ近傍で効率よく発光し、２００ｋＨｚ以上の高い繰返し数でパルス発光できる点光源ランプを提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る１９３ｎｍ点光源ランプ１００は、アルゴンガスとフッ素ガスを含むＡｒＦ混合ガスを噴出するノズル１０２と、ノズル１０２の噴出口の近傍に配置された一対の電極１０３ａ、１０３ｂと、一対の電極１０３ａ、１０３ｂに直流電圧を印加するための直流電源１１１とを有する。一対の電極１０３ａ、１０３ｂ間には、繰返しパルス状に初期電子を供給する初期電子発生器１３０が設けられる。 （もっと読む）

【課題】試料に対する走査光の選択性を向上させる。
【解決手段】表面形状測定装置１００は、共焦点光学系と非共焦点光学系とを切換え可能であって、試料１０１を照明する照明光の波長を切替える波長切替手段１７と、非共焦点光学系に切換えられた状態で、照明光から参照光を生成すると共に、照明光を試料に照射させ、その反射光と参照光を合成して干渉光を生成する干渉光学系（干渉型対物レンズ１３）と、干渉光学系からの干渉光を受光する光センサ（ＣＣＤカメラ３６）と、共焦点光学系に切換えた状態において、試料１０１と共焦点光学系の光学的な距離を変化させる距離変化手段（顕微鏡ステージ１）と、光センサが干渉光を受光したときの測定結果と、距離変化手段によって光学的な距離を変化させたときの測定結果とに基づいて、試料の表面形状を算出する演算処理部（コンピュータ６）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】正確に表面形状を測定することができる表面形状測定装置、及び表面形状測定方法を提供する。
【解決手段】。
本実施の形態にかかる平坦度評価方法は、処理が行われる処理面を有する試料１１の平坦度を評価する平坦度評価方法であって、処理が行なわれる前の処理面１１ｄ、及び裏面１１ｅの形状を測定するステップ（Ｓ１０１、Ｓ１０２）と、処理面１１ｄ、及び裏面１１ｅの形状が測定された試料１１の処理面に対して処理を行うステップ（Ｓ１０３）と、処理が行われた基板の裏面１１ｅの形状を測定するステップ（Ｓ１０４）と、処理前の処理面１１ｄの形状、処理前の裏面１１ｅの形状、及び処理後の裏面１１ｅの形状に基づいて、処理後の試料１１の平坦度を評価するステップ（Ｓ１０６）と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】安定した測定を簡便に行うことができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】本実施の形態にかかる基板保持装置は、試料５０の端部が載置される載置台１２と、載置台１２に設けられ、試料５０を吸着する第１及び第２の吸着部１３ａ、１３ｂと、試料５０の下側において移動可能に設けられ、試料５０に対して気体を噴出する噴出口４６を有する吸着台１８と、を備え、第１及び第２の吸着部１３ａ、１３ｂのＯＮ／ＯＦＦを切換える切換部１５ａ、１５ｂと、を備え、切換部１５ａ、１５ｂが、試料５０に対する吸着台１８の位置に応じて、第１及び第２の吸着部１３ａ、１３ｂの一方をＯＮし、他方をＯＦＦするものである。 （もっと読む）

【課題】光源の波長が同じでも、より高い検出感度を有するマスク検査装置を実現することである。
【解決手段】本発明の一態様にかかるマスク検査装置１００は、マスク基板１０６ａに形成されたパターンを観察して、マスク１０６を検査するものであって、マスク基板１０６ａのパターン面１０６ｄと反対側に配置され、パターン面１０６ｄの一部分である観察領域１２０を観察するための対物レンズ１０８と、観察領域１２０に対して略円偏光を照射する照明手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】
安定した測定を簡便に行うことができる光学測定装置、及び基板保持装置を提供する。
【解決手段】。
本実施の形態にかかる光学測定装置は、試料を透過した透過光を用いて測定を行う光学測定装置であって、試料５０の端部が載置される載置台１２と、試料５０の下側においてＹ方向に移動可能に設けられ、試料を吸着する吸着口を有する吸着台１８と、吸着台１８に設けられ、前記試料を下側から照明光を出射する照明光源４１と、照明光源４１から試料を透過した透過光を試料５０の上側で受光する測定ヘッド２２と、試料５０の下側に設けられ、載置台１２よりも内側において試料５０を支持する複数の支持部材１６と、吸着台１８に設けられ、支持部材１６と当接することによって一部の支持部材１６の上端を試料５０から離間させる当接部４８と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】高速で試料表面を検査することができる３次元測定装置及び検査装置を実現する。
【解決手段】本発明による３次元測定装置は、光源装置（１，２，３）からライン状の照明ビームを発生する。照明光学系（４，５）を介して試料表面（６）を走査する。試料から出射したライン状の反射ビームは、結像光学系（８，９）を介してその結像面上にスリット像を形成する。結像光学系の結像面に、２個のラインセンサ（１０，１１）により構成される光検出手段を配置する。光検出手段からの出力信号に基づいて試料表面の高さ方向の変位情報及び試料表面の２次元画像情報を出力する信号処理回路とを具える。信号処理回路は、２つのラインセンサの対応する受光素子の出力信号間の差分信号を出力する手段（３３）及び加算信号を出力する手段（３４）を有し、差分信号に基づいて試料表面の高さ方向の変位情報を出力し、前記加算信号に基づいて試料表面の２次元画像情報を出力する。 （もっと読む）