【課題】各種半導体製造プロセス前後の半導体ウェハの物理量の変化を計測することができるプロセスモニタ方法を提供する。
【解決手段】モニタリングに際し、処理されるウェハの質量を計測する質量計が組み込まれている計測用カセットを用意し、第１のロードポート２ａ〜２ｃに装着する。半導体ウェハを収容したウェハ搬送容器３ａ，３ｃを隣接する第２のロードポート２ａ〜２ｃに装着する。ウェハ搬送容器内に収容されている半導体ウェハを計測用カセット内に移送し、その質量を測定し、第１の測定データをカセットの外部に配置されている信号処理手段６に送信する。プロセスが終了した後、処理されたウェハを前記カセット内に収容する。質量計によりプロセス処理後のウェハの質量を計測し、計測された第２の測定データを信号処理手段６に送信する。第１の測定データと第２の測定データとを用いて、処理前後におけるウェハの物理量の変化を算出する。 （もっと読む）

【課題】マスク検査に利用できる準連続発振の第５高調波発生による紫外レーザ光源を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る紫外レーザ装置１０は、５０ｐｓｅｃ以下のパルス幅の基本波を出力するモードロックレーザ装置１と、基本波が入射され、第２高調波を発生する第２高調波発生用結晶２と、第２高調波発生用結晶２から出射する第２高調波と残存基本波とを分離するビームスプリッタＢＳ１と、第２高調波が入射され、第４高調波を発生する第４高調波発生用結晶３と、第４高調波発生用結晶３から出射する第４高調波と、第２高調波発生用結晶２からの残存基本波とを同軸とするビームコンバイナーＢＳ２と、同軸の第４高調波と残存基本波とを和周波混合して第５高調波を発生する第５高調波発生用結晶４とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ確実に汚染物質に対する処理を行うことができる処理装置、処理方法、並びにパターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ペリクルフレーム１１を介してペリクル膜１２が装着されたマスク１０上の汚染物質１５に対して処理を行う処理装置であって、前記マスクを載置するステージ２１と、前記ステージに載置された前記マスクに前記ペリクル膜を介して赤外光を照射する光源２３と、を備えるものである。また、マスクを冷却する冷却手段２７を設け、マスクのパターン面に水を凝集してもよい。 （もっと読む）

【課題】確実に異物を除去することができる異物除去装置、異物除去方法、並びにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】異物除去装置は、ペリクルフレーム１１を介してペリクル膜１２が装着されたマスク１０の異物を除去する異物除去装置であって、ペリクル膜１２側からマスク１０に対して超音波を照射して、マスク１０のペリクル膜１２側に節を有する定在波を発生させる超音波トランスデューサ２２と、マスク１０の異物１５が付着した箇所に光を照射して、異物１５をマスク１０から離脱させる光源２３と、を備え、マスク１０から離脱した異物を、定在波の節の方向に移動させて、ペリクル膜１２又はペリクルフレーム１１に付着させるものである。 （もっと読む）

【課題】ＣＤエラーやピッチエラーであるムラを可視画像（コントラスト画像）として検出する。
【解決手段】周期性パターンが形成された試料１に向けて平行光束のレーザビームを投射する。試料から出射した回折光は集光レンズ４により集光されＣＣＤカメラ５に入射する。周期性パターン中に局所的にパターン間隔が異なるパターン部分が存在すると、当該パターン部分から回折角の異なる回折光が出射する。当該回折光は、撮像装置の瞳により遮光される。このため、撮像される画像上において当該パターン部分は光量が少なく、周囲の輝度よりも低い低輝度画像として検出される。特に、レーザ光は干渉距離が長いため、多数のパターンから出射した回折光同士の相互干渉が発生する。ＣＤエラーやピッチエラーであるムラはある方向に連続的複数のパターンにわたって発生するため、レーザ光の干渉距離が長い特性と相まって、ムラによる回折効果が画像上明瞭に撮像される。 （もっと読む）

【課題】簡便に、精度の高い加工を行うことができる加工装置、加工方法、欠陥修正装置、及び欠陥修正方法それを用いたパターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】一態様にかかる加工装置は、対象物体３上に研磨ヘッド２１を配置して、対象物体３に対して加工を行う加工装置であって、研磨ヘッド２１に設けられたホルダ１０６と、ホルダ１０６に設けられ、対象物体３に対して気体を噴出する複数の噴出口と、研磨ヘッド用センサからの測定信号に基づいて、昇降機構を制御する処理装置と、複数の噴出口の間において、ホルダ１０６の下側に配置された研磨チップ１０２と、噴出口から噴出される気体によって対象物体３に対する研磨チップ１０２の傾きが変化するように、ホルダ１０６に対してチップを回転自在に取り付けるジョイント１０７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】長さ方向に均一な密度の励起状態を実現し、連続発振できるエキシマレーザ装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係るエキシマレーザ装置１００は、スラブ型炭酸ガスレーザ発振器１０と、光軸上にエキシマガスを満たしたレーザ共振器と、光軸に略直交する方向から、該光軸に沿うように、スラブ型炭酸ガスレーザ１０からのレーザ光を線状に集光させるシリンドリカルレンズ１１とを備える。また、エキシマガスを、光軸とスラブ型炭酸ガスレーザ発振器１０からのレーザ光とに対して、略直交する方向に流す。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのような薄板を保持する際、一定以上の押圧力が保持すべき薄板に作用しないようにしつつ、保持すべき薄板の位置ずれを吸収することが可能な薄板の保持装置及び該装置を有するフォトマスクの保持システム並びに搬送方法を提供する。
【解決手段】一対の薄板保持部２８を有する薄板の保持装置１６であって、当接部は、基部と、前記駆動部による移動方向に沿って相対移動可能な形態で該基部に対して係合する当接本体とを有し、前記当接本体と前記基部との間には、間隔を狭める向きに前記当接本体を付勢する第１付勢手段が設けられ、前記基部には、係止部が設けられ、それにより、薄板を保持する際、前記一対の薄板保持部２８のいずれか、或いは両方において、前記当接本体と前記係止部との間にクリアランスが生じることにより、位置ずれ吸収手段と、押圧力制限手段とが形成される。 （もっと読む）

【課題】確実に欠陥を修正することができるパターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法を提供する。
【解決手段】画素境界部に転写される転写層を有し、基板６上に対向配置される転写フィルム１８と、転写フィルム１８から転写層が転写された画素境界部と接する画素を当該画素に対応する修正液２９で修正する塗布針２７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】効率良くレーザ発振できるマイクロ波励起ガスレーザ装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係るマイクロ波励起ガスレーザ装置１００は、略直線状の貫通孔１０ａを有する誘電体からなるマイクロ波共振器１０と、貫通孔１０ａ上に光軸を配置したレーザ共振器と、貫通孔１０ａ中に満たされたレーザガスとを備える。また、マイクロ波共振器１０は円筒状であり、貫通孔１０ａは、マイクロ波共振器１０の中心軸上に形成されている。 （もっと読む）