【課題】確実に欠陥を修正することができる欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本欠陥修正装置は、レーザ光を対物レンズ４３を介して、試料の欠陥部分に照射する修正用光学系２０と、試料７０を観察するために、レーザ光と同一波長のレーザ光を対物レンズ４３を介して試料に照射して、照明する照明用光学系５０と、を備えた欠陥修正装置であって、照明用光学系５０が、レーザ光の空間分布を均一化する均一化部６５を有しているものである。 （もっと読む）

【課題】測定時間を短縮することができる光学顕微鏡、及びスペクトル測定方法を提供する。
【解決手段】光学顕微鏡は、光源１１と、試料２１からの光を検出する検出器２７と、光源１１からの光をライン状に集光して試料２１に導く共焦点光学系３０と、スリット２３を通過した光をスリット２３と垂直方向に分散させる回折格子２５と、を備えている。そして、検出器２７が、受光部と、受光部で発生した信号電荷をスリット２３と垂直方向に転送する垂直転送レジスタと、信号電荷を読み出すため、垂直転送レジスタで転送された信号電荷を複数の受光部分蓄積して、まとめて転送する水平転送レジスタとを有しているとを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】短時間で、広い測定レンジにおいて表面形状を測定することができる表面形状測定装置を提供すること
【解決手段】本発明の一態様に係る表面形状測定装置１００は、波長の異なる第１波長の光と第２波長の光とを含む照明光を出射する光源部と、照明光から参照面に照射する参照光を生成するとともに、照明光を試料２０に照射し、その反射光と前記参照光とを合成して干渉光を生成する干渉光学系１３と、試料２０と参照面との光路差を複数回調整する制御部と、制御部による同じ調整状態で光路差を与えたときの干渉光に含まれる第１波長の光による第１干渉光を受光する第１受光部と、第２波長の光による第２干渉光を受光する第２受光部とを備える光検出器１６と、光検出器１６により取得された第１干渉光による第１干渉画像と、前記第２干渉光による第２干渉画像とに基づいて、試料２０の表面形状を求める処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査又は欠陥修正される基板が大型化しても、各種処理を効率よく行うことができる検査修正装置を実現する。
【解決手段】本発明では、平面モータを利用して各種ヘッドの移動制御を行う。平面モータの固定子を構成するステージ（１）を複数の作動領域（１ｂ〜１ｅ）に分割する。各作動領域に対して、可動子である移動体（２ａ〜２ｄ）及びケーブル巻取装置（５ａ〜５ｄ）を割り当てる。各移動体には、欠陥を検出したり、検出した欠陥を修正する欠陥修正ヘッドを連結する。各移動体は、割り当てられた領域内を自在に移動し、検出された欠陥位置に移動する。また、各ケーブル巻取装置は対応する移動に接続されているケーブルを移動体の位置に応じて送り出すと共に巻き取る。この結果、カラーフィルタ等の処理すべき基板が大型化しても、欠陥修正ヘッドの移動範囲は小さくなるので、１個の基板を処理するのに要する時間は短縮され、スループットが改善される。 （もっと読む）

【課題】積層型３次元半導体装置の貫通電極の製造工程において、貫通穴底に形成した薄膜の厚さを非破壊で測定する。
【解決手段】本発明の一態様に係る膜厚測定装置１００は、第１波長の照明光と第２波長の照明光とを切替可能な光源部と、試料３０で反射した反射光を検出して、試料３０の所定の領域における画像を取得する光検出器１９と、光源部からの照明光を試料３０まで導くとともに、試料３０からの反射光を光検出器１９まで導く共焦点光学系と、薄膜の膜厚を算出するために、第１波長の光による第１画像と、第２波長の光による第２画像とに基づいて、第１波長及び第２波長に対する反射率の測定データをそれぞれ求める処理部２０とを備え、処理部２０は、波長と反射率との関係が前記薄膜の膜厚毎にそれぞれ示されている計算データを参照して、測定データから薄膜の膜厚を近似して算出する。 （もっと読む）

【課題】基板を平坦に保持し、安定した加工を行うことができる基板研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る基板研磨装置１００は、基板Ｗが載置されるステージ２と、ステージ２に設けられ、基板Ｗを吸着する第１吸着部及び第２吸着部と、第１吸着部及び第２の吸着部のＯＮ／ＯＦＦを切替える切替部３と、基板Ｗにオペレーションを行うための加工プローブ２０とを備え、切替部３は、加工プローブ２０の位置に応じて第１吸着部と第２吸着部の一方をＯＮし、他方をＯＦＦする。 （もっと読む）

【課題】狭い空間内に組み込むことができ、特定の波長域の検査光を選択的に出射させるコンパクトな構造の集光レンズ系及び照明装置を実現する。
【解決手段】本発明による集光レンズ系は、光源（２ａ）から出射した広帯域の波長光を集光すると共に所定の波長帯域の波長光を集束性光ビームとして選択的に出射させる集光レンズ系である。当該集光レンズ系は、第１の正レンズ（２０）と、特定の波長域の波長光を選択的に透過させる波長選択フィルタ（２１）と、負レンズ（２２）と、第２の正レンズ（２３）とを順次有する。或いは、第１の正レンズと第２の正レンズとの間に２つの負レンズ（３１，３３）を配置し、これら負レンズ間に波長選択フィルタ（３２）を配置する。光源から出射した照明光が波長選択フィルタに斜めに入射して収差が生じても、当該収差は後段の負レンズにより補正される。この結果、光路長の短い集光レンズ系が実現される。 （もっと読む）

【課題】高性能でコンパクトな構成の検査光源装置、及びそれを用いた欠陥検査装置を提供することである。
【解決手段】本発明の一態様に係る欠陥検査装置１は、１μｍ帯の波長のレーザ光を発生するレーザ光源を有し、１μｍ帯の波長のレーザ光の第五高調波を出力し、かつ、１μｍ帯の波長のレーザ光の第四高調波を出力する検査光源１００を備え、第五高調波を検査用照明光として用い、第四高調波をオートフォーカス用レーザ光として用いる。 （もっと読む）

【課題】信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源１と、光を１次元のマルチビームに変換する１次元回折格子と、マルチビームを集束する対物レンズ９と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー６ａと、分離された光ビームを分岐するウェッジ１７を備えている。そして、試料台１１をラスタ走査して試料全面を検査する。ウェッジによって分岐された一方の光ビームを検出する光検出器１９ａともう一方の光ビームを検出する光検出器１９ｂをさらに備えている。この光検出器１９ａ、１９ｂの信号に基づく和信号によってシミ状欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正の作業効率を向上させる欠陥修正装置を提供することを目的とする。
【解決手段】この欠陥修正装置は、基板６に生じた欠陥Ｄに修正材料を塗布することにより、欠陥Ｄを修正する欠陥修正装置であって、異なる修正材料が収容された複数の修正材料タンク２１と、修正材料タンク２１毎に設けられ、修正材料タンク２１の下方に設けられた開口部２１ａから基板６側に突出し、欠陥Ｄに修正材料を塗布する塗布針５と、を備えたものである。 （もっと読む）