【課題】 半導体ウェハ等の被照射物に対するビームの入射角について偏差の発生をできるだけ小さくし、さらには、多方向からのビームの照射を能率的に行えるようにする。
【解決手段】 回転ディスク１における回転中心以外の箇所に半導体ウェハ３の保持をなすペデスタル２を取り付け、回転ディスク１の回転にともなって回転するペデスタル２上のウェハ３の移動経路のうち特定の照射位置でウェハ３にビームを照射する照射手段を設けるとともに、上記照射位置での照射の間、ウェハ３の絶対姿勢を一定に保つための手段を付設している。 （もっと読む）