【課題】 ガス源を低電圧の部分に設けることを可能にするとともに、イオンビーム装置のダウンタイムを短くすることができ、しかも絶縁管の放電の可能性を小さくすることの可能な絶縁配管部材を提供する。併せて、そのような絶縁配管部材を含むガス供給装置およびイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】 絶縁配管部材１０は、接地部より高電圧部にプロセスガスを供給する配管系に使用する。プロセスガスの経路となる絶縁管１１と、当該絶縁管１１を収容する絶縁性のパージボックス１２とを組み合わせ、パージボックス１２に、無害のパージガスの供給部および排出部を設ける。 （もっと読む）

【課題】 大口径あるいは大電流のビームを発散させることなくスキャンさせるとともに、実用的でコンパクトな偏向走査装置を実現する。
【解決手段】 本発明によるビーム偏向走査装置は、真空空間中で一定軌道を有する荷電粒子ビームに偏向走査を行なうことにより荷電粒子ビームの軌道を周期的に変更する。本ビーム偏向走査装置（２０）は対向配置した二極式偏向電極（２１、２２）により構成され、該二極式偏向電極はその対向方向の内面にビーム軸方向に延びる溝（２１Ａ、２２Ａ）を持つ左右対称形の凹状対向電極とした。 （もっと読む）

【課題】 より広い範囲のビームの条件に対応でき、用途の広いイオンビーム／荷電粒子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 後段エネルギー分析装置を備えるイオンビーム／荷電粒子ビーム照射装置において、後段エネルギー分析装置を、偏向電極２４及び偏向磁石２２により構成し、これらを切り換えて使用できるようにする。偏向磁石は略四角形状で，その中央に空間部を有する。偏向電極は、偏向磁石の空間部内に配置された真空チャンバー２３内に、サプレッション電極３１とともに設置される。偏向電極は偏向磁石に対して、磁場によるビームの偏向軌道と、電場によるビームの偏向軌道とが重なるように設置される。 （もっと読む）

【課題】 ビーム空間電荷を中和してイオンビームの発散を抑え、ビーム輸送効率を向上させてビーム電流を増大させることができるようなビーム空間電荷中和装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、イオンビームをウエハに照射して処理するイオン注入装置におけるビーム経路の途中に設けられて電場、磁場のうち少なくとも磁場によってイオンビームから必要なエネルギー種のイオンのみを選択するＡＥＦ（角度エネルギーフィルター）に適用される。ＡＥＦチャンバーにビーム空間電荷中和用のプラズマシャワーを設ける。プラズマシャワーは、そのアークチャンバー引出孔の位置がイオンビーム進行方向に直交するＡＥＦ磁場の磁力線上にあり、しかもそのフィラメント中心軸及びアークチャンバー引出孔の軸方向をＡＥＦ磁場の向きと一致させるように設置されている。 （もっと読む）

【課題】 ビーム照射装置におけるビーム照射精度を向上させること。
【解決手段】 イオン源１からのビームを、質量分析電磁石装置３ならびにビーム整形装置を通過させ、ビームを横方向にスキャンする偏向走査装置７ならびにビーム平行化装置、加速／減速装置を経て後段の角度エネルギーフィルターによりエネルギー分析を行なった後、ウエハ２３に照射するよう構成したビーム照射装置において、前記ビーム整形装置に上下方向集束用のシンクロナイズド四極電磁石（ｓｙＱＤ）８と横方向集束用のシンクロナイズド四極電磁石（ｓｙＱＦ）９とを備えることにより、前記偏向走査装置によるスキャン後の中心軌道と外側軌道との間のビーム発散角のずれ、ビームサイズのずれの少なくとも一方を補正する。 （もっと読む）

【課題】 コンタミネーションを低減できるビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 イオン源１からのビームを、質量分析電磁石装置３ならびにビーム整形装置を通過させた後、ビームを横方向にスキャンする偏向走査装置７ならびにビーム平行化装置、加速／減速装置を経て後段のエネルギー分析装置によりエネルギー分析を行なった後、ウエハ２３に照射するよう構成したビーム照射装置において、前記エネルギー分析装置として、静電、電磁の両機能を持つハイブリッド型の角度エネルギーフィルター１８を設け、前記角度エネルギーフィルターの下流側には、照射されるべきイオン種に対応して切替えられる複数のエネルギースリットを持つマルチサーフェスエネルギースリット１９を設置することにより、低エネルギーから高エネルギーまでの高電流ビームを、中性粒子、異種ドーパント、金属、パーティクル等のコンタミネーションが極めて少ない状態で、選択的に照射できるようにした。 （もっと読む）

【課題】 磁場の広がりを制御し、ビーム進行方向への漏洩磁場を抑え、一様な磁場分布を生成してビーム全体を一様に屈曲させることができるエネルギー分析装置を備えたイオンビーム／荷電粒子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】
イオンビーム／荷電粒子ビームを、後段エネルギー分析装置によりエネルギー分析を行った後、基板に照射されるよう構成したイオンビーム／荷電粒子ビーム照射装置において、前記後段エネルギー分析装置を、偏向磁石の磁場分布の広がりを制御しつつ、前記イオンビーム／荷電粒子ビームを前記一方向において全体に屈曲させるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームのスキャン位置によらず、ビームポテンシャルによって自律的に電子を引き出すことができるような帯電抑制装置により、イオン注入によるウエハへの正帯電を抑制できるようにする。
【解決手段】 本帯電抑制装置３０は、イオンビームを特定範囲にわたって往復スキャンさせながらウエハに照射して処理を行うに際し、ウエハへの帯電を抑制するためのものである。帯電抑制装置は、第１引出孔３３を有する第１アーク室３４と、第１引出孔と連通し、イオンビームのスキャン範囲に望ませた第２引出孔３６を有する第２アーク室３５とを備える。第１アーク室に第１アーク電圧を印加して第１アーク室にプラズマを生成し、そこから電子を引き出して第２のアーク室に導入し、第２アーク室で再びプラズマを生成してイオンビームとの間にプラズマブリッジを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ処理能力を向上させることのできるウエハ処理装置を提供する。
【解決手段】 プラテン装置を備えた真空処理室に隣接して、ロードロック台を有する２つのロードロック室を真空中間室を介して設けるとともに前記真空処理室と前記真空中間室との間に連絡開口を設ける。前記プラテン装置と前記真空中間室との間には前記２つのロードロック室に対応させて２つのウエハ保持アームを配設し、該２つのウエハ保持アームは、対応するロードロック台と前記プラテン装置との間を、前記連絡開口を通過するとともに上下で立体交差しながら往復動作可能に構成する。一方のウエハ保持アームで処理前ウエハを保持し、他方のウエハ保持アームで処理済ウエハを保持することにより、一方のロードロック台から前記プラテン装置への処理前ウエハの搬入と、前記プラテン装置から他方のロードロック台への処理済ウエハの搬出とを並行させることができるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】 低エネルギーでのビームの発散を抑制できるビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 イオン源１からのビームを、質量分析電磁石装置３、ビーム整形装置を通過させた後、ビームを横方向にスキャンする偏向走査装置７ならびにビーム平行化装置、加速／減速装置を経て後段の角度エネルギーフィルター１８によりエネルギー分析を行なった後、ウエハ２３に照射するビーム照射装置において、前記ビーム平行化装置を静電式の減速パラレルレンズ１０で構成し、前記加速／減速装置を独立に高電圧を印加できる第１、第２のＡ／Ｄコラム電極１１、１２で構成し、前記減速パラレルレンズと前記第１、第２のＡ／Ｄコラム電極とを組み合わせることによって、低エネルギーでもビームの発散を抑え、前記偏向走査装置で横方向にスキャンされたビームの平行度を良好に維持できるようにした。 （もっと読む）