【課題】樹脂製モールドの劣化を抑制することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板と凹凸パターンが形成されたモールドとで光硬化性成分を含有する液状の被転写材層を挟み込んで成形した後、前記被転写材層を露光して光硬化層とし、該光硬化層から前記モールドを離型するパターン形成方法であって、前記モールドが有機高分子化合物からなり、前記被転写材層に含有される成分全体の数平均分子量が３５０以上であり、かつ、前記被転写材層中の全成分のうち、分子量３００未満の成分が５０質量％未満である。 （もっと読む）

【課題】薄膜部の厚さが制御され所望のパターン形状を有する光硬化物複合体及び該光硬化物複合体を形成するための光硬化性組成物並びに光硬化物複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１と、該基板１上に形成され薄膜部２及び該薄膜部２から突出した突出部３からなる光硬化物７とを具備する光硬化物複合体であって、前記薄膜部２は、該薄膜部２の厚さ方向に重ならない粒子６を含有し、前記薄膜部２の厚さは前記粒子６によって規定されている。 （もっと読む）

【課題】残膜の厚さを容易に制御することができるインプリントリソグラフィによるパターン形成方法の提供。
【解決手段】基板１上に薄膜部２と該薄膜部から突出した突出部３とからなるパターンを形成するパターン形成方法において、前記基板１と凹凸パターンが形成されたモールド４とで被転写材層７を挟みこんで前記モールド４の凹凸パターンに前記被転写材層７を充填して成形する成形工程と、該被転写材層７から前記モールド４を離型してパターンを形成する離型工程とを具備し、前記成形工程の前に、前記モールド４の凹凸パターンの凸部の前記薄膜部２を形成する薄膜部形成面５、及び、前記基板１の前記薄膜部形成面５に対向する領域の少なくとも一方にスペーサー部６を設けるスペーサー部形成工程を有す。 （もっと読む）

【課題】高いプロトンの運動性を発現することができるプロトン伝導性電解質と共に、このようなプロトン伝導性電解質を適用した電気化学セル及び燃料電池を提供すること。
【解決手段】プロトン伝導性電解質を、塩と、プロトンドナー性又はプロトンアクセプター性を有する分子を含むものとし、水素結合ドナー性の官能基と、水素結合アクセプター性の官能基をそれぞれ１つ以上備えたアニオンによって上記塩を構成する。 （もっと読む）

【課題】光硬化後に基板等から容易に除去することができ、かつ、光硬化物の強度や感度が良好な光インプリントリソグラフィによる樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の少なくとも１種からなる光重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを含有し、前記光硬化性組成物中に含まれる光重合性化合物の総量に対する前記光重合性化合物（Ａ）の割合が９９質量％以上であり、かつ下記式（１）により算出したガラス転移温度Ｔｇが３１３Ｋ以上である樹脂パターン形成用光硬化性組成物とする。
【数１】


Ｔｇ_ｉ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物ｉのホモポリマーのガラス転移温度（Ｋ）
Ｗ_ｉ；光重合性化合物ｉの光重合性化合物（Ａ）に対する質量分率（％）
ｎ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の種類の数であり、１以上の整数 （もっと読む）

【課題】パターン形成能、ドライエッチング耐性及びウェットプロセス耐性と、無機基板等の無機層への接着性とを兼ね備えたインプリントリソグラフィによるパターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】１分子中に水酸基を１個のみ有しカルボキシル基を有さない光重合性化合物（ａ1）及び１分子中にカルボキシル基を１個のみ有し水酸基を有さない光重合性化合物（ａ2）から選択された１種以上からなる光重合性化合物（Ａ）と、水酸基及びカルボキシル基のいずれも有さない光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含有し、光硬化性成分の水酸基及びカルボキシル基の総量が、該光硬化性成分の総量１グラムあたり８×１０^−５〜１×１０^−３ｍｏｌであるパターン形成用光硬化性組成物とする。 （もっと読む）

【課題】光インプリントリソグラフィにより、基板と光硬化層とからなり耐光性を有し着色が少ない複合体を少ない工程で製造する方法を提供する。
【解決手段】凹凸のパターンが形成されたモールド及び可視光に対して実質的に透明で３７０ｎｍ未満の波長領域の全領域における各波長の光の透過率が１０％以下である基板を用いて光インプリントリソグラフィにより基板と光硬化層とからなる複合体を製造する方法であって、前記基板又は前記モールド上に、少なくとも１つの光重合性基を有する化合物と、３７０ｎｍ以上の波長領域の光に感光して前記光重合性基を有する化合物の重合開始剤として作用すると共に構造が変化して可視光領域にある吸収強度が減少する特性を有する光重合開始剤とを含有する液状の光硬化性組成物からなる光硬化性組成物層を形成する工程と、前記基板及びモールドで前記光硬化性組成物層を挟み込む工程と、前記基板及び前記モールドで挟み込まれた状態のままの前記光硬化性組成物層を前記基板側から３７０ｎｍ以上の波長領域を含む光で露光して光硬化層とする工程と、この光硬化層から前記モールドを離型する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】パターン欠陥が皆無又は皆無に近い良好なパターンを密閉空間内で行うことなく大気圧環境下でも形成することができる光インプリントリソグラフィによるパターン形成方法。
【解決手段】活性光に対して実質的に透明である、基板１及び凹凸のパターンが形成されたモールド３を用いて、前記基板又は前記モールドのいずれか一方の部材に第１の光重合性基を有する化合物及び光重合開始剤を含有する液状の第１の組成物からなる第１の組成物層を形成すると共に、他方の部材の前記第１の組成物層に対向する領域の少なくとも一部に前記第１の光重合性基を有する化合物と同一又は異なる第２の光重合性基を有する化合物を含む液状の第２の組成物からなる第２の組成物層４を形成。両層が互いに接触するように挟み込み一体化して光硬化性組成物層５とする。挟み込まれた状態のままの活性光で露光して光硬化層６とし光硬化層から前記モールドを離型する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】１つの原盤から複数のモールドを製造することが可能であり、鋳型からの剥離性が良好なモールドの製造方法の提供。
【解決手段】基板１又は凹凸のパターンが形成された原盤３上に、少なくとも１つの光重合性基を有する化合物と光重合開始剤とを含有する液状の光硬化性組成物からなる光硬化性組成物層２を形成する工程と、前記基板及び前記原盤で前記光硬化性組成物層を挟み込む工程と、前記基板及び前記原盤で挟み込まれた状態のままの前記光硬化性組成物層を活性光で露光して光硬化層４とする工程と、この光硬化層から前記原盤を離型する工程と、前記光硬化層を鋳型として湿式めっきを行い前記光硬化層上にめっき堆積物層５を形成する工程と、前記光硬化層をアルカリ溶液に浸漬することにより溶解させて前記光硬化層を前記めっき堆積物層から剥離する工程。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤とフォトレジスト組成物の主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、光酸発生剤としての機能を有するスルホン酸誘導体を提供する。
【解決手段】例えばトリフェニルスルホニウム４−ビニロキシエトキシフェニルスルホン酸塩、トリ（tert−ブチルベンゼン）スルホニル４−ビニロキシエトキシフェニルスルホン酸塩及びトリフェニルスルホニウム４−ビニロキシオクトキシフェニルスルホン酸塩のようなスルホン酸誘導体。 （もっと読む）