説明

株式会社 建創により出願された特許

1 - 4 / 4


【課題】
廃棄物処理の過程において、廃棄物の処理が不均一で不完全な処理が発生すること、また、処理効率が期待値よりも低いことを改善することを解決課題とする。
【解決手段】
廃棄物が投入される6面体状の密閉容器2と、この上部に設けられて内部の発生ガスを排気する排気口3と、密閉容器に設けられてその内部に微量空気を送り込む給気口4と、この給気口を挟むように設けられて、給気通路を横切る磁場を形成する一対の磁石5とを備えた廃棄物処理炉1であって、前記排気口が、密閉容器の上壁6で、第1の側壁7aに近接して設けられ、給気口が第1の側壁7aと対向する第2の側壁7bの下部両側にそれぞれ設けられ、それぞれの給気口が、第2の側壁の下縁Aおよび各側縁Bと、これらの各縁から内側に200mmの間隔で設けられる仮想平行線X・Yとで囲まれる領域G内に設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
廃棄物処理の過程において、廃棄物の処理が不均一で不完全な処理が発生すること、また、処理効率が期待値よりも低いことを改善することを解決課題とする。
【解決手段】
廃棄物が投入される密閉容器2と、この密閉容器の上部に設けられて、この密閉容器内の発生ガスを排気する排気路4と、前記密閉容器に設けられて、この密閉容器内に微量空気を送り込む給気路3と、この給気路を挟むように設けられて、この給気通路を横切る磁場を形成する一対の磁石20とを備えた廃棄物処理炉1であって、前記給気路の下流側が分岐管17を介して上下方向に分岐されて前記密閉容器に接続されているとともに、この分岐管の分岐点よりも上流側に前記一対の磁石が配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
廃棄物処理の過程において、廃棄物の処理が不均一で不完全な処理が発生すること、また、処理効率が期待値よりも低いことを改善することを解決課題とする。
【解決手段】
廃棄物が投入される密閉容器2と、密閉容器内の発生ガスを排気する排気路4と、密閉容器内に微量空気を送り込む給気路3と、給気路を挟むように設けられて、給気通路を横切る磁場を形成する一対の磁石20と、給気路の途中に設けられて、密閉容器内に送り込む空気量を調整する流量調整手段18を備えた廃棄物処理炉であって、給気路の途中に、非磁性体によって形成されたケーシング19が設けられており、ケーシングに給気路の一部を構成する給気路形成孔19aが形成されているとともに、給気路形成孔を挟むようにして一対の磁石が配設され、かつ、給気路形成孔には下流側が漸次狭くなる絞り部19cが形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
廃棄物処理の過程において、廃棄物の処理が不均一で不完全な処理が発生すること、また、処理効率が期待値よりも低いことを改善することを解決課題とする。
【解決手段】
廃棄物が投入される密閉容器2と、この密閉容器の上部に設けられて、この密閉容器内の発生ガスを排気する排気路4と、前記密閉容器に設けられて、この密閉容器内に微量空気を送り込む給気路3と、この給気路を挟むように設けられて、この給気通路を横切る磁場を形成する一対の磁石20とを備えた廃棄物処理炉1であって、前記給気路と前記密閉容器の底部との距離をLとした場合、L≦200mmとしたことを特徴とする。 (もっと読む)


1 - 4 / 4