いくつかの実施形態において、本発明は、排ガス流を水溶液と接触させる工程、二酸化炭素および／または追加の成分を排ガス流から除去する工程、および、二酸化炭素および／または追加の成分を１種以上の形態で、組成物中に含有させる工程を含む、排ガス流の二酸化炭素および／または追加の成分を除去するためのシステムおよび方法を提供する。いくつかの実施形態において、組成物は、炭酸塩、重炭酸塩、または、炭酸塩および重炭酸塩を含む沈殿物質である。いくつかの実施形態において、組成物は、ＳＯｘ、ＮＯｘ、粒状物質および／または一定の金属の共処理からもたらされる炭酸塩および／または重炭酸塩共生成物をさらに含む。液体、固体または多相性廃棄物流などの追加の廃棄物流もまた処理され得る。
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プロトンの除去、および／または水酸化物イオン、および炭酸／重炭酸イオンを含む塩基溶液の生成を行い、２つのカソード電解質室間の流体の流動は可能であるが、２つのカソード電解質室間の気体の連絡は制限されるように第１のカソード電解質室と第２のカソード電解質室とに分割されたカソード室中で二酸化炭素を使用する、低電圧で低エネルギーの電気化学システムおよび方法。一方のカソード電解質室中の二酸化炭素ガスを、両方の室中のカソード電解質とともに使用し、電極間に３Ｖ未満の電圧を印加して、塩基溶液が生成される。
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イオンを生成するために従来のアノードとカソードとの間に使用される典型的な３Ｖよりもはるかに少ない値を使用して水酸化物イオンおよび／または重炭酸イオンおよび／または炭酸イオンを生成する低電圧で低エネルギーの電気化学システムおよび方法；その結果、本発明のシステムおよび方法に起因する二酸化炭素の放出が大幅に減少する。一実施形態において、本発明のシステムは：カソードに接触する第１の電解質と；アノードに接触する第２の電解質と；第１のイオン交換膜によって第１の電解質から分離された第３の電解質と；第２のイオン交換膜によって第２の電解質から分離された第４の電解質と；第３および第４の電解質を分離する第３のイオン交換膜と含む。 （もっと読む）

二酸化炭素源、二価カチオン含有溶液、およびプロトン除去剤源からのケイ素ベースの材料（例えば、ポゾラン材料）を含む炭酸塩含有組成物の製造方法が提供される。かかる方法で、二価カチオン含有溶液の二価カチオンは、含金属シリケート材料の温浸によって提供される。ケイ素ベースの材料をほとんどまたは全く含まない炭酸塩含有組成物の製造方法もまた提供される。かかる方法では、ケイ素ベースの材料（例えば、シリカ、未反応のまたは未温浸のシリケート、アルミノシリケートなど）が分離され、炭酸塩含有組成物とは別々に処理される。ケイ素ベースの材料と炭酸塩含有材料とは、ポゾラン材料を製造するために後段階でブレンドされ、ポゾラン材料はさらに処理され、例えば、ポルトランドセメントとブレンドされてもよい。
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炭酸塩を含む組成物を製造するための方法が提供され、その方法には金属酸化物の廃棄物源を利用することが含まれる。二価カチオンの水溶液（その一部または全部が、金属酸化物の廃棄物源から得られる）を、ＣＯ２と接触させ、沈殿条件に置くと、炭酸塩を含む組成物を得ることができる。いくつかの実施態様においては、燃焼アッシュが、二価カチオンを含む水溶液のための金属酸化物の廃棄物源である。いくつかの実施態様においては、燃焼アッシュを使用して、プロトン除去剤の供給源、二価カチオン、シリカ、金属酸化物、もしくはその他所望の構成成分、またはそれらの組合せが提供される。
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