ガス流複合汚染物質制御システムおよび方法
いくつかの実施形態において、本発明は、排ガス流を水溶液と接触させる工程、二酸化炭素および／または追加の成分を排ガス流から除去する工程、および、二酸化炭素および／または追加の成分を１種以上の形態で、組成物中に含有させる工程を含む、排ガス流の二酸化炭素および／または追加の成分を除去するためのシステムおよび方法を提供する。いくつかの実施形態において、組成物は、炭酸塩、重炭酸塩、または、炭酸塩および重炭酸塩を含む沈殿物質である。いくつかの実施形態において、組成物は、ＳＯｘ、ＮＯｘ、粒状物質および／または一定の金属の共処理からもたらされる炭酸塩および／または重炭酸塩共生成物をさらに含む。液体、固体または多相性廃棄物流などの追加の廃棄物流もまた処理され得る。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
産業廃ガスを処理する方法であって、前記ガスは、二酸化炭素と、
（ａ）ＳＯｘ；
（ｂ）ＮＯｘ；
（ｃ）金属；
（ｄ）非二酸化炭素酸性ガス；
（ｅ）有機物；および
（ｆ）粒状物質
からなる群から選択される少なくとも１種の他の成分とを含み、前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくともいくらかが前記ガスを出て液体に入るよう適応された条件下で、前記ガスを前記液体と接触させる工程を含み、単一の処理装置で実施される方法。
【請求項２】
前記ガスが、前記二酸化炭素のいくらかまたはすべて、または、前記他の成分のいずれかを除去するために前記処理装置に入る前に前処理されない、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガスが、粒状物質を除去するために前記処理装置に入る前に前処理される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ガスが少なくとも２種の他の成分を含み、前記２種の他の成分が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび金属である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記金属が重金属を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記金属が、アンチモン、砒素、バリウム、ベリリウム、ホウ素、カドミウム、クロム、コバルト、銅、鉛、マンガン、水銀、モリブデン、ニッケル、ラジウム、セレニウム、銀、ストロンチウム、タリウム、バナジウム、および、亜鉛からなる群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記金属が水銀である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび非二酸化炭素酸性ガスである、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記２種の他の成分が金属および非二酸化炭素酸性ガスである、請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび粒状物質である、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記ガスが、前記二酸化炭素のいくらかまたはすべて、または、前記他の成分のいずれかを除去するために前記処理装置に入る前に前処理されない、請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
前記液体が水溶液を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記水溶液が二価カチオンを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記水溶液を処理して、炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせ、および前記他の成分もしくはその誘導体、または前記他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する工程であって、前記炭酸塩、重炭酸塩または前記これらの組み合わせが少なくとも部分的に前記二酸化炭素から誘導される工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記組成物が、固体および上澄を含むスラリーを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記固体が、炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記固体が、前記他の成分もしくはその誘導体、または前記他の成分および／もしくはその誘導体をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記固体を前記上澄から分離する工程をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記固体が、基本的に、
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する、請求項１７または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満の砒素を含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記浸出プロセスが、１００ｍｇ／Ｌ未満のバリウムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記浸出プロセスが、１．０ｍｇ／Ｌ未満のカドミウムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満のクロムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満の鉛を含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】
前記浸出プロセスが、１．０ｍｇ／Ｌ未満のセレニウムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２７】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満の銀を含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２８】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項１７または１９に記載の方法。
【請求項２９】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
前記接触させる工程が、前記二酸化炭素の少なくとも５０％および前記他の成分の少なくとも５０％が前記ガスを出て、前記液体に入るよう適応された条件下で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
（ｉ）ガス流を水溶液と接触させる工程であって、前記ガス流は、二酸化炭素と、
（ａ）ＳＯｘ；
（ｂ）ＮＯｘ；
（ｃ）金属；
（ｄ）非二酸化炭素酸性ガス；
（ｅ）有機物；および
（ｆ）粒状物質
からなる群から選択される少なくとも１種の他の成分とを含み、前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくともいくらかが前記ガス流を出て前記水溶液に入るよう適応された条件下で成される工程；ならびに
（ｉｉ）前記水溶液を処理して、炭酸塩、重炭酸塩あるいは炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせならびに前記他の成分もしくはその誘導体または前記他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する工程であって、前記炭酸塩、重炭酸塩または前記炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせは少なくとも部分的に前記二酸化炭素から誘導される工程
を含む方法。
【請求項３２】
前記他の成分が、ＳＯｘ、金属、非二酸化炭素酸性ガス、および、有機物からなる群から選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記他の成分が、ＳＯｘおよび金属からなる群から選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】
前記ガス流が少なくとも２種の他の成分を含み、前記処理する工程が、炭酸塩、重炭酸塩あるいは炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせならびに前記２種の他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する、請求項３１に記載の方法。
【請求項３５】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび金属である、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記金属が重金属を含む、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記金属が、アンチモン、砒素、バリウム、ベリリウム、ホウ素、カドミウム、クロム、コバルト、銅、鉛、マンガン、水銀、モリブデン、ニッケル、ラジウム、セレニウム、銀、ストロンチウム、タリウム、バナジウム、および、亜鉛からなる群から選択される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】
前記金属が水銀または水銀誘導体を含む、請求項３５に記載の方法。
【請求項３９】
前記ガス流が少なくとも３種の他の成分を含み、前記処理する工程が、炭酸塩、重炭酸塩あるいは炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせならびに前記３種の他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する、請求項３１に記載の方法。
【請求項４０】
前記３種の他の成分が、ＳＯｘ、金属、および、非二酸化炭素酸性ガスである、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
前記金属が水銀または水銀誘導体を含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記非二酸化炭素酸性ガスが、塩化水素、フッ化水素、および、ＳＯ３からなる群から選択される、請求項４０または４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記３種の他の成分が、ＳＯｘ、金属、および、有機物である、請求項３９に記載の方法。
【請求項４４】
前記金属が水銀または水銀誘導体を含む、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記組成物が溶液を含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項４６】
前記組成物が、溶液および固体を含むスラリーを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項４７】
前記固体を前記溶液から分離する工程をさらに含む、請求項４６に記載の方法。
【請求項４８】
前記固体が、基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項４７または４８に記載の方法。
【請求項５０】
前記ガス流が産業プロセスにおいて生成されたガスを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項５１】
前記ガス流が排ガス流である、請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】
前記排ガス流が、発電プラント、化学処理プラント、機械加工プラント、精製所、セメントプラント、または、鉄鋼プラントで生成される、請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記ガス流が、前記水溶液に入る前に二酸化炭素または前記他の成分を除去するために処理されない、請求項３１に記載の方法。
【請求項５４】
前記ガス流が金属または金属誘導体を含み、前記ガス流は処理されて、前記金属または金属誘導体が前記水溶液によってより容易に取り込まれる形態に転化される、請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
前記非二酸化炭素酸性ガスが、塩化水素、フッ化水素、および、ＳＯ３からなる群から選択されるガスを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項５６】
前記二酸化炭素の少なくとも５０％および前記他の成分の少なくとも５０％が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項３１に記載の方法。
【請求項５７】
前記二酸化炭素の少なくとも５０％および前記他の成分の少なくとも８０％が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項３１に記載の方法。
【請求項５８】
前記二酸化炭素の少なくとも７０％および前記他の成分の少なくとも７０％が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項３１に記載の方法。
【請求項５９】
前記接触させる工程および処理する工程が順番に実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項６０】
前記接触させる工程および処理する工程が同時に実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項６１】
前記接触させる工程および処理する工程が前記同一のユニットで実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項６２】
請求項１〜６１のいずれかの方法により生成される組成物。
【請求項６３】
炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせおよび硫黄含有化合物を含む組成物であって、前記炭酸塩、重炭酸塩またはこれらの組み合わせは−５．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有し、および、基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、２．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する組成物。
【請求項６４】
前記浸出溶液が、１．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６３に記載の組成物。
【請求項６５】
前記浸出溶液が、１．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６４に記載の組成物。
【請求項６６】
前記浸出溶液が、０．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６５に記載の組成物。
【請求項６７】
前記浸出溶液が、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６６に記載の組成物。
【請求項６８】
前記浸出溶液が、０．０５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６７に記載の組成物。
【請求項６９】
前記組成物が、水銀、水銀誘導体、または、これらの組み合わせを含む、請求項６３に記載の組成物。
【請求項７０】
前記炭素同位体相対組成値が１０．００‰未満である、請求項６９に記載の組成物。
【請求項７１】
前記組成物が、−１５．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有する、請求項７０に記載の組成物。
【請求項７２】
前記組成物が、−２０．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有する、請求項７１に記載の組成物。
【請求項７３】
前記組成物が少なくとも９０％炭酸塩を含む、請求項６３に記載の組成物。
【請求項７４】
前記組成物が５：１のカルシウム：マグネシウム比を含む、請求項７３に記載の組成物。
【請求項７５】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項６３に記載の組成物。
【請求項７６】
炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせ、および、水銀、水銀誘導体、または、これらの組み合わせを含む組成物であって、前記炭酸塩、重炭酸塩または前記これらの組み合わせは−５．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有し、および、基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程
からなる浸出プロセスに供された場合に、２．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する前記組成物。
【請求項７７】
前記浸出溶液が、１．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７６に記載の組成物。
【請求項７８】
前記浸出溶液が、１．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７７に記載の組成物。
【請求項７９】
前記浸出溶液が、０．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７８に記載の組成物。
【請求項８０】
前記浸出溶液が、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７９に記載の組成物。
【請求項８１】
前記浸出溶液が、０．０５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項８０に記載の組成物。
【請求項８２】
前記組成物が、基本的に、
粉末化組成物の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記組成物を粉末化する工程、ならびに
前記粉末化組成物を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬する工程、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの組成物当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項７６に記載の組成物。
【請求項８３】
炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせ、水銀、水銀誘導体、または、これらの組み合わせ、および、硫黄含有化合物を含む組成物であって、
（ｉ）基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成し；ならびに
（ｉｉ）基本的に
粉末化組成物の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記組成物を粉末化する工程、および
前記粉末化組成物を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬する工程、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの組成物当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する組成物。
【請求項８４】
（ｉ）以下の処理装置に作動可能に接続されている産業排ガスの供給源
（ｉｉ）
（ａ）前記ガスを処理して、二酸化炭素を前記ガスから少なくとも部分的に除去すると共に少なくとも１種の他の成分を前記ガスから少なくとも部分的に除去し、前記他の成分は、ＳＯｘ、ＮＯｘ、金属、粒状物質、非二酸化炭素酸性ガスおよび有機物からなる群から選択され、ならびに
（ｂ）前記二酸化炭素またはその１種以上の誘導体の少なくとも一部を、前記他の成分またはその１種以上の誘導体の少なくとも一部と組み合わせて含む生成物を含む組成物を生成する（前記組成物は環境中への導入に好適である）
よう構成された処理装置
を備えるシステム。
【請求項８５】
前記組成物が、炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせを含む、請求項８４に記載のシステム。
【請求項８６】
前記他の成分が、ＳＯｘ、あるいは、アンチモン、砒素、バリウム、ベリリウム、ホウ素、カドミウム、クロム、コバルト、銅、鉛、マンガン、水銀、モリブデン、ニッケル、ラジウム、セレニウム、銀、ストロンチウム、タリウム、トリウム、ウラニウム バナジウム、および亜鉛からなる群から選択される金属；粒状物質；または、これらの組み合わせである、請求項８４または８５に記載のシステム。
【請求項８７】
前記組成物が、Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｔｅｓｔ、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ Ｗａｓｔｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｌｉｍｉｔ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、または、これらの組み合わせに従った環境中への導入に好適である、請求項８６に記載のシステム。
【請求項８８】
前記組成物が、Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅに従った環境中への導入に好適である、請求項８７に記載のシステム。
【請求項８９】
前記組成物の少なくとも一部の廃棄用の組成物移送手段をさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９０】
前記組成物移送手段が、前記組成物の少なくとも一部を地下に廃棄するよう構成される、請求項８９に記載のシステム。
【請求項９１】
前記処理装置が、気体−液体接触器、気体−液体−固体接触器、反応器、沈降タンク、または、これらの組み合わせを備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９２】
前記処理装置が、処理済排ガス流を生成するようさらに構成される、請求項９１に記載のシステム。
【請求項９３】
前記処理済排ガス流が、Ｒｅａｓｏｎａｂｌｙ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｂｅｓｔ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｍａｘｉｍｕｍ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｌｏｗｅｓｔ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ、または、これらの組み合わせに従った環境中への導入に好適である、請求項９２に記載のシステム。
【請求項９４】
前記システムが、処理システムをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９５】
前記処理システムが、前記組成物の少なくとも一部を濃縮して、濃縮組成物および上澄を生成する液体−固体分離器を備える、請求項９４に記載のシステム。
【請求項９６】
前記上澄が環境への導入に好適である、請求項９５に記載のシステム。
【請求項９７】
前記処理システムが、前記上澄の少なくとも一部を前記処理装置に再循環させるよう構成される、請求項９５に記載のシステム。
【請求項９８】
前記濃縮組成物が、Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｔｅｓｔ、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ Ｗａｓｔｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｌｉｍｉｔ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、または、これらの組み合わせに従った環境中への導入に好適である、請求項９５に記載のシステム。
【請求項９９】
前記システムが、前記濃縮組成物の少なくとも一部から建築材料を製造する製造システムをさらに備える、請求項９５に記載のシステム。
【請求項１００】
前記製造システムが、セメント、補助セメント材、微小骨材、モルタル、粗大骨材、コンクリート、ポゾラン、または、これらの組み合わせを前記濃縮組成物から製造するよう構成される、請求項９９に記載のシステム。
【請求項１０１】
前記システムが、前記濃縮組成物の少なくとも一部を廃棄するための濃縮組成物移送手段をさらに備える、請求項９５に記載のシステム。
【請求項１０２】
前記濃縮組成物移送手段が、前記濃縮組成物を地下に廃棄するよう構成される、請求項１０１に記載のシステム。
【請求項１０３】
前記システムが、前記処理装置で前記ガスを処理するために水酸化物を生成する電気化学システムをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０４】
前記電気化学システムが陽極および陰極を備える、請求項１０３に記載のシステム。
【請求項１０５】
前記水酸化物が前記陰極で生成される、請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１０６】
塩素が前記陽極で形成されない、請求項１０５に記載のシステム。
【請求項１０７】
酸素が前記陽極で形成されない、請求項１０５に記載のシステム。
【請求項１０８】
前記処理装置が、発電プラント、化学処理プラント、機械加工プラント、精製所、セメントプラント、または、鉄鋼プラントを含む産業プラントに作動可能に接続される、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０９】
ガス移送手段が、前記処理装置を前記産業プラントに作動可能に接続している、請求項１０８に記載のシステム。
【請求項１１０】
前記システムが、前記産業プラントにおける需要が高い期間の最中に停止されるよう構成される、請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１１】
前記システム、前記産業プラント、または、前記システムおよび前記産業プラントの組み合わせが、Ｒｅａｓｏｎａｂｌｙ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｂｅｓｔ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｍａｘｉｍｕｍ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｌｏｗｅｓｔ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ、または、これらの組み合わせに準拠しているままである、請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１２】
（ｉ）二酸化炭素と、ＳＯｘ、ＮＯｘ、金属、非二酸化炭素酸性ガス、有機物および粒状物質からなる群から選択される１種以上の他の成分とを含む産業排ガスの供給源；
（ｉｉ）前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくとも一部を前記ガスから単一の処理ユニットで除去するよう構成された処理装置；ならびに
（ｉｉｉ）前記産業排ガスの供給源と前記処理装置とを作動可能に接続する流路であって、前記産業排ガスの少なくとも一部を前記処理装置に向かわせるよう構成されている前記流路
を備えるシステム。
【請求項１１３】
前記システムが、前記産業排ガスの前記供給源と前記処理装置との間に前処理装置を備えず、前記前処理装置は、前記ガスの前記他の成分の１種以上を、前記ガスが前記処理装置に通される前に除去するよう構成される、請求項１１２に記載のシステム。
【請求項１１４】
前記ガスが、前記他の成分の少なくとも２種を含み、および、前記処理装置が、前記ガスからの前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくとも一部を単一の処理ユニットで除去するよう構成される、請求項１１２に記載のシステム。
【請求項１】
産業廃ガスを処理する方法であって、前記ガスは、二酸化炭素と、
（ａ）ＳＯｘ；
（ｂ）ＮＯｘ；
（ｃ）金属；
（ｄ）非二酸化炭素酸性ガス；
（ｅ）有機物；および
（ｆ）粒状物質
からなる群から選択される少なくとも１種の他の成分とを含み、前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくともいくらかが前記ガスを出て液体に入るよう適応された条件下で、前記ガスを前記液体と接触させる工程を含み、単一の処理装置で実施される方法。
【請求項２】
前記ガスが、前記二酸化炭素のいくらかまたはすべて、または、前記他の成分のいずれかを除去するために前記処理装置に入る前に前処理されない、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガスが、粒状物質を除去するために前記処理装置に入る前に前処理される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ガスが少なくとも２種の他の成分を含み、前記２種の他の成分が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび金属である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記金属が重金属を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記金属が、アンチモン、砒素、バリウム、ベリリウム、ホウ素、カドミウム、クロム、コバルト、銅、鉛、マンガン、水銀、モリブデン、ニッケル、ラジウム、セレニウム、銀、ストロンチウム、タリウム、バナジウム、および、亜鉛からなる群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記金属が水銀である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび非二酸化炭素酸性ガスである、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記２種の他の成分が金属および非二酸化炭素酸性ガスである、請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび粒状物質である、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記ガスが、前記二酸化炭素のいくらかまたはすべて、または、前記他の成分のいずれかを除去するために前記処理装置に入る前に前処理されない、請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
前記液体が水溶液を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記水溶液が二価カチオンを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記水溶液を処理して、炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせ、および前記他の成分もしくはその誘導体、または前記他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する工程であって、前記炭酸塩、重炭酸塩または前記これらの組み合わせが少なくとも部分的に前記二酸化炭素から誘導される工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記組成物が、固体および上澄を含むスラリーを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記固体が、炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記固体が、前記他の成分もしくはその誘導体、または前記他の成分および／もしくはその誘導体をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記固体を前記上澄から分離する工程をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記固体が、基本的に、
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する、請求項１７または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満の砒素を含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記浸出プロセスが、１００ｍｇ／Ｌ未満のバリウムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記浸出プロセスが、１．０ｍｇ／Ｌ未満のカドミウムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満のクロムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満の鉛を含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】
前記浸出プロセスが、１．０ｍｇ／Ｌ未満のセレニウムを含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２７】
前記浸出プロセスが、５．０ｍｇ／Ｌ未満の銀を含む浸出溶液をもたらす、請求項２０に記載の方法。
【請求項２８】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項１７または１９に記載の方法。
【請求項２９】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
前記接触させる工程が、前記二酸化炭素の少なくとも５０％および前記他の成分の少なくとも５０％が前記ガスを出て、前記液体に入るよう適応された条件下で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
（ｉ）ガス流を水溶液と接触させる工程であって、前記ガス流は、二酸化炭素と、
（ａ）ＳＯｘ；
（ｂ）ＮＯｘ；
（ｃ）金属；
（ｄ）非二酸化炭素酸性ガス；
（ｅ）有機物；および
（ｆ）粒状物質
からなる群から選択される少なくとも１種の他の成分とを含み、前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくともいくらかが前記ガス流を出て前記水溶液に入るよう適応された条件下で成される工程；ならびに
（ｉｉ）前記水溶液を処理して、炭酸塩、重炭酸塩あるいは炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせならびに前記他の成分もしくはその誘導体または前記他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する工程であって、前記炭酸塩、重炭酸塩または前記炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせは少なくとも部分的に前記二酸化炭素から誘導される工程
を含む方法。
【請求項３２】
前記他の成分が、ＳＯｘ、金属、非二酸化炭素酸性ガス、および、有機物からなる群から選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記他の成分が、ＳＯｘおよび金属からなる群から選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】
前記ガス流が少なくとも２種の他の成分を含み、前記処理する工程が、炭酸塩、重炭酸塩あるいは炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせならびに前記２種の他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する、請求項３１に記載の方法。
【請求項３５】
前記２種の他の成分がＳＯｘおよび金属である、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記金属が重金属を含む、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記金属が、アンチモン、砒素、バリウム、ベリリウム、ホウ素、カドミウム、クロム、コバルト、銅、鉛、マンガン、水銀、モリブデン、ニッケル、ラジウム、セレニウム、銀、ストロンチウム、タリウム、バナジウム、および、亜鉛からなる群から選択される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】
前記金属が水銀または水銀誘導体を含む、請求項３５に記載の方法。
【請求項３９】
前記ガス流が少なくとも３種の他の成分を含み、前記処理する工程が、炭酸塩、重炭酸塩あるいは炭酸塩と重炭酸塩との組み合わせならびに前記３種の他の成分および／もしくはその誘導体を含む組成物を生成する、請求項３１に記載の方法。
【請求項４０】
前記３種の他の成分が、ＳＯｘ、金属、および、非二酸化炭素酸性ガスである、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
前記金属が水銀または水銀誘導体を含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記非二酸化炭素酸性ガスが、塩化水素、フッ化水素、および、ＳＯ３からなる群から選択される、請求項４０または４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記３種の他の成分が、ＳＯｘ、金属、および、有機物である、請求項３９に記載の方法。
【請求項４４】
前記金属が水銀または水銀誘導体を含む、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記組成物が溶液を含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項４６】
前記組成物が、溶液および固体を含むスラリーを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項４７】
前記固体を前記溶液から分離する工程をさらに含む、請求項４６に記載の方法。
【請求項４８】
前記固体が、基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項４７または４８に記載の方法。
【請求項５０】
前記ガス流が産業プロセスにおいて生成されたガスを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項５１】
前記ガス流が排ガス流である、請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】
前記排ガス流が、発電プラント、化学処理プラント、機械加工プラント、精製所、セメントプラント、または、鉄鋼プラントで生成される、請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記ガス流が、前記水溶液に入る前に二酸化炭素または前記他の成分を除去するために処理されない、請求項３１に記載の方法。
【請求項５４】
前記ガス流が金属または金属誘導体を含み、前記ガス流は処理されて、前記金属または金属誘導体が前記水溶液によってより容易に取り込まれる形態に転化される、請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
前記非二酸化炭素酸性ガスが、塩化水素、フッ化水素、および、ＳＯ３からなる群から選択されるガスを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項５６】
前記二酸化炭素の少なくとも５０％および前記他の成分の少なくとも５０％が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項３１に記載の方法。
【請求項５７】
前記二酸化炭素の少なくとも５０％および前記他の成分の少なくとも８０％が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項３１に記載の方法。
【請求項５８】
前記二酸化炭素の少なくとも７０％および前記他の成分の少なくとも７０％が前記ガスを出て、前記液体に入る、請求項３１に記載の方法。
【請求項５９】
前記接触させる工程および処理する工程が順番に実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項６０】
前記接触させる工程および処理する工程が同時に実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項６１】
前記接触させる工程および処理する工程が前記同一のユニットで実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項６２】
請求項１〜６１のいずれかの方法により生成される組成物。
【請求項６３】
炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせおよび硫黄含有化合物を含む組成物であって、前記炭酸塩、重炭酸塩またはこれらの組み合わせは−５．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有し、および、基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、２．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する組成物。
【請求項６４】
前記浸出溶液が、１．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６３に記載の組成物。
【請求項６５】
前記浸出溶液が、１．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６４に記載の組成物。
【請求項６６】
前記浸出溶液が、０．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６５に記載の組成物。
【請求項６７】
前記浸出溶液が、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６６に記載の組成物。
【請求項６８】
前記浸出溶液が、０．０５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項６７に記載の組成物。
【請求項６９】
前記組成物が、水銀、水銀誘導体、または、これらの組み合わせを含む、請求項６３に記載の組成物。
【請求項７０】
前記炭素同位体相対組成値が１０．００‰未満である、請求項６９に記載の組成物。
【請求項７１】
前記組成物が、−１５．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有する、請求項７０に記載の組成物。
【請求項７２】
前記組成物が、−２０．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有する、請求項７１に記載の組成物。
【請求項７３】
前記組成物が少なくとも９０％炭酸塩を含む、請求項６３に記載の組成物。
【請求項７４】
前記組成物が５：１のカルシウム：マグネシウム比を含む、請求項７３に記載の組成物。
【請求項７５】
前記固体が、基本的に、
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程と、
前記固体を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬させる工程と、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの固体当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項６３に記載の組成物。
【請求項７６】
炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせ、および、水銀、水銀誘導体、または、これらの組み合わせを含む組成物であって、前記炭酸塩、重炭酸塩または前記これらの組み合わせは−５．００‰未満の炭素同位体相対組成（δ１３Ｃ）値を有し、および、基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程
からなる浸出プロセスに供された場合に、２．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成する前記組成物。
【請求項７７】
前記浸出溶液が、１．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７６に記載の組成物。
【請求項７８】
前記浸出溶液が、１．０ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７７に記載の組成物。
【請求項７９】
前記浸出溶液が、０．５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７８に記載の組成物。
【請求項８０】
前記浸出溶液が、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項７９に記載の組成物。
【請求項８１】
前記浸出溶液が、０．０５ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む、請求項８０に記載の組成物。
【請求項８２】
前記組成物が、基本的に、
粉末化組成物の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記組成物を粉末化する工程、ならびに
前記粉末化組成物を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬する工程、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの組成物当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する、請求項７６に記載の組成物。
【請求項８３】
炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせ、水銀、水銀誘導体、または、これらの組み合わせ、および、硫黄含有化合物を含む組成物であって、
（ｉ）基本的に
酢酸の水溶液から基本的に構成される２×１Ｌの抽出流体を調製する工程であって、１Ｌの前記抽出流体の各々は基本的に脱イオン水中の５．７ｍＬ酢酸から構成されている工程；
粉末化固体の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記固体を粉末化する工程；
１００ｇの前記粉末化固体を２Ｌの前記抽出流体と一緒に抽出容器に入れて抽出組成物を生成する工程；
転倒型の前記抽出容器を室温で１８±２時間回転させる工程；
前記抽出組成物を０．６μｍ〜０．８μｍの孔径を有するホウケイ酸ガラス繊維でろ過して浸出溶液を生成する工程；および
前記浸出溶液のｐＨを１Ｎ硝酸でｐＨ２またはｐＨ２未満のｐＨに調節する工程、
からなる浸出プロセスに供された場合に、０．２ｍｇ／Ｌ未満の水銀を含む浸出溶液を生成し；ならびに
（ｉｉ）基本的に
粉末化組成物の粒子の最狭寸法が既に１ｃｍ未満でない場合、前記粒子の前記最狭寸法が１ｃｍ未満であるよう、前記組成物を粉末化する工程、および
前記粉末化組成物を、ｐＨ４．８〜ｐＨ５．２のｐＨおよび６０〜８０℃の温度を有する溶液中に４８時間浸漬する工程、
からなる二酸化炭素放出プロトコルに供された場合に、１００グラムの組成物当たり５グラム以下の二酸化炭素を生成する組成物。
【請求項８４】
（ｉ）以下の処理装置に作動可能に接続されている産業排ガスの供給源
（ｉｉ）
（ａ）前記ガスを処理して、二酸化炭素を前記ガスから少なくとも部分的に除去すると共に少なくとも１種の他の成分を前記ガスから少なくとも部分的に除去し、前記他の成分は、ＳＯｘ、ＮＯｘ、金属、粒状物質、非二酸化炭素酸性ガスおよび有機物からなる群から選択され、ならびに
（ｂ）前記二酸化炭素またはその１種以上の誘導体の少なくとも一部を、前記他の成分またはその１種以上の誘導体の少なくとも一部と組み合わせて含む生成物を含む組成物を生成する（前記組成物は環境中への導入に好適である）
よう構成された処理装置
を備えるシステム。
【請求項８５】
前記組成物が、炭酸塩、重炭酸塩あるいはこれらの組み合わせを含む、請求項８４に記載のシステム。
【請求項８６】
前記他の成分が、ＳＯｘ、あるいは、アンチモン、砒素、バリウム、ベリリウム、ホウ素、カドミウム、クロム、コバルト、銅、鉛、マンガン、水銀、モリブデン、ニッケル、ラジウム、セレニウム、銀、ストロンチウム、タリウム、トリウム、ウラニウム バナジウム、および亜鉛からなる群から選択される金属；粒状物質；または、これらの組み合わせである、請求項８４または８５に記載のシステム。
【請求項８７】
前記組成物が、Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｔｅｓｔ、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ Ｗａｓｔｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｌｉｍｉｔ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、または、これらの組み合わせに従った環境中への導入に好適である、請求項８６に記載のシステム。
【請求項８８】
前記組成物が、Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅに従った環境中への導入に好適である、請求項８７に記載のシステム。
【請求項８９】
前記組成物の少なくとも一部の廃棄用の組成物移送手段をさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９０】
前記組成物移送手段が、前記組成物の少なくとも一部を地下に廃棄するよう構成される、請求項８９に記載のシステム。
【請求項９１】
前記処理装置が、気体−液体接触器、気体−液体−固体接触器、反応器、沈降タンク、または、これらの組み合わせを備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９２】
前記処理装置が、処理済排ガス流を生成するようさらに構成される、請求項９１に記載のシステム。
【請求項９３】
前記処理済排ガス流が、Ｒｅａｓｏｎａｂｌｙ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｂｅｓｔ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｍａｘｉｍｕｍ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｌｏｗｅｓｔ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ、または、これらの組み合わせに従った環境中への導入に好適である、請求項９２に記載のシステム。
【請求項９４】
前記システムが、処理システムをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９５】
前記処理システムが、前記組成物の少なくとも一部を濃縮して、濃縮組成物および上澄を生成する液体−固体分離器を備える、請求項９４に記載のシステム。
【請求項９６】
前記上澄が環境への導入に好適である、請求項９５に記載のシステム。
【請求項９７】
前記処理システムが、前記上澄の少なくとも一部を前記処理装置に再循環させるよう構成される、請求項９５に記載のシステム。
【請求項９８】
前記濃縮組成物が、Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｔｅｓｔ、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ Ｌｅａｃｈｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ Ｗａｓｔｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｌｉｍｉｔ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ、Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ、または、これらの組み合わせに従った環境中への導入に好適である、請求項９５に記載のシステム。
【請求項９９】
前記システムが、前記濃縮組成物の少なくとも一部から建築材料を製造する製造システムをさらに備える、請求項９５に記載のシステム。
【請求項１００】
前記製造システムが、セメント、補助セメント材、微小骨材、モルタル、粗大骨材、コンクリート、ポゾラン、または、これらの組み合わせを前記濃縮組成物から製造するよう構成される、請求項９９に記載のシステム。
【請求項１０１】
前記システムが、前記濃縮組成物の少なくとも一部を廃棄するための濃縮組成物移送手段をさらに備える、請求項９５に記載のシステム。
【請求項１０２】
前記濃縮組成物移送手段が、前記濃縮組成物を地下に廃棄するよう構成される、請求項１０１に記載のシステム。
【請求項１０３】
前記システムが、前記処理装置で前記ガスを処理するために水酸化物を生成する電気化学システムをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０４】
前記電気化学システムが陽極および陰極を備える、請求項１０３に記載のシステム。
【請求項１０５】
前記水酸化物が前記陰極で生成される、請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１０６】
塩素が前記陽極で形成されない、請求項１０５に記載のシステム。
【請求項１０７】
酸素が前記陽極で形成されない、請求項１０５に記載のシステム。
【請求項１０８】
前記処理装置が、発電プラント、化学処理プラント、機械加工プラント、精製所、セメントプラント、または、鉄鋼プラントを含む産業プラントに作動可能に接続される、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０９】
ガス移送手段が、前記処理装置を前記産業プラントに作動可能に接続している、請求項１０８に記載のシステム。
【請求項１１０】
前記システムが、前記産業プラントにおける需要が高い期間の最中に停止されるよう構成される、請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１１】
前記システム、前記産業プラント、または、前記システムおよび前記産業プラントの組み合わせが、Ｒｅａｓｏｎａｂｌｙ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｂｅｓｔ Ａｖａｉｌａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｍａｘｉｍｕｍ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；Ｌｏｗｅｓｔ Ａｃｈｉｅｖａｂｌｅ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ、または、これらの組み合わせに準拠しているままである、請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１２】
（ｉ）二酸化炭素と、ＳＯｘ、ＮＯｘ、金属、非二酸化炭素酸性ガス、有機物および粒状物質からなる群から選択される１種以上の他の成分とを含む産業排ガスの供給源；
（ｉｉ）前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくとも一部を前記ガスから単一の処理ユニットで除去するよう構成された処理装置；ならびに
（ｉｉｉ）前記産業排ガスの供給源と前記処理装置とを作動可能に接続する流路であって、前記産業排ガスの少なくとも一部を前記処理装置に向かわせるよう構成されている前記流路
を備えるシステム。
【請求項１１３】
前記システムが、前記産業排ガスの前記供給源と前記処理装置との間に前処理装置を備えず、前記前処理装置は、前記ガスの前記他の成分の１種以上を、前記ガスが前記処理装置に通される前に除去するよう構成される、請求項１１２に記載のシステム。
【請求項１１４】
前記ガスが、前記他の成分の少なくとも２種を含み、および、前記処理装置が、前記ガスからの前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくとも一部を単一の処理ユニットで除去するよう構成される、請求項１１２に記載のシステム。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図１Ｅ】
【図１Ｆ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２Ａ−１２Ｂ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図１Ｅ】
【図１Ｆ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２Ａ−１２Ｂ】
【公表番号】特表２０１２−５１９０７６（Ｐ２０１２−５１９０７６Ａ）
【公表日】平成２４年８月２３日（２０１２．８．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５５３０５５（Ｐ２０１１−５５３０５５）
【出願日】平成２２年３月２日（２０１０．３．２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／０２５９７０
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１０１９５３
【国際公開日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【出願人】（３０９０３２２７８）カレラ コーポレイション (5)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年８月２３日（２０１２．８．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２日（２０１０．３．２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／０２５９７０
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１０１９５３
【国際公開日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【出願人】（３０９０３２２７８）カレラ コーポレイション (5)
【Ｆターム（参考）】
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