【課題】 酸含有媒体中で安定である高反応性硼酸塩光開始剤化合物、これらの化合物よりなる光重合性組成物、および光重合のための開始剤としての該化合物の使用方法を提供する。
【解決手段】次式（Ｉ）で表される化合物により課題が解決される。
【化１】


（Ｒ₁ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ ：２，６−ジフルオロフェニル基、Ｒ₂ ：ブチル基、Ｇ：陽イオンを形成し得る基、また芳香族基Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ についての置換基のハメットσ値（Σσ）の合計は＋０．７２である） （もっと読む）

【目的】 顔料混合物の新規製造法を提供する。
【構成】 溶剤可溶性基を導入した複数の粉体状の顔料化合物を溶剤に溶解し、その溶液を混合し、その混合液を熱処理、光分解処理又は化学処理する事によって顔料を析出する。
【効果】 従来の方法によって製造された同じ顔料混合物に比較して、本方法によって製造された顔料混合物は着色力ならびに堅牢性などの性能が優れている。 （もっと読む）

【目的】新規の有機材料用安定剤を提供する
【構成】式Ｉ又はII：
【化１】


〔式中、例えば、Ｒ¹ はアルキルオキシ、シクロアルキルオキシ又はアルキル基を表し、Ａ¹ とＡ² はフェニル、アルキル又はアルケニル置換フェニル、アルキル又はアルケニル基を表しそしてｍとｎは１ないし３の範囲からの数を表す。〕のエステル又はフェノールエーテル。上記化合物は、光、酸素及び／又は熱の損傷影響に対して有機材料、特に合成ポリマーを安定化するのに適している。 （もっと読む）

【目的】 ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤を用いるエチレン性不飽和重合性化合物の硬化方法及び前記光開始剤含む硬化組成物を提供する。
【構成】 ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤、例えばビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）（２−メチルプロプ−１−イル）ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドをエチレン性不飽和重合性化合物に添加し、次いでこの様にして得られた混合物を日光を用いて又は日光と等価な光源を用いて照射することからなるエチレン性不飽和重合性化合物の硬化方法。
【効果】 低強度の光源である日光を用いて又は日光と等価な光源を用いて、エチレン性不飽和重合性化合物を容易に硬化させることができる。 （もっと読む）

【構成】 一般式（Ｉ）で表わされるスルホン化ジケトピロロピロール化合物の少なくとも２つの異なる化合物の混晶及び当該液晶を用いて着色された高分子量の有機材料。


〔式中、Ａ，Ｂは独立した一価、二価または三価の金属イオン、あるいはテトラアルキルアンモニウムイオン等の陽イオンであり、Ｒは水素、Ｃ_１−４アルキルまたはＣ_１−４アルコキシでありｍは０または１である〕
【効果】 この混晶は、高分子有機材料を着色するための顔料として使用することができ、優れた顔料特性、特に分散性、耐熱性、耐光性に優れている。 （もっと読む）

【構成】一般式Ｉ、II等のシクロヘキシル基含有グリシジルエーテル。一般式Ｉの化合物の具体例には式７３のものがある。


【効果】本化合物は低塩素分と低粘度に特徴があり、エポキシ樹脂配合物における反応性希釈剤、柔軟剤または粘着向上剤として使用でき、またそれ自体重合できかつ被覆樹脂または注型樹脂として使用できる。製品はごく僅かな水分吸収性と良好な耐候性を有する。 （もっと読む）

【構成】式Ｉまたは式IIのピリミジン配位子を含む無フッ素チタノセン化合物およびその組成物、並びに塗料、印刷インク、印刷板、歯科用組成物、レジスト材料の製造のためにまた特にホログラフィ記録のための像−記録材料としての使用法。Ｒ₁ ：シクロペンタジエニル^- 基、Ｑ：ピリミジニル基等、Ｒ₄ ：Ｃl 、Ｂr 、Ｉ等、Ｒ₅ ：Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂アルコキシ基、酸素中断のＣ₂ 〜Ｃ₁₂アルコキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、テトラヒドロフルフリルオキシ基、Ｃ₂〜Ｃ₆ アルケニルオキシ基等、Ｙ：Ｃl 、Ｂr 、Ｉ、ＣＮ、ＳＣＮ、−Ｏ−ＳＯ₂-ＣＨ₃ 、Ｘ：−Ｏ−、−Ｓ−、メチレン基、エチレン基等、Ａ：Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂アルキレン基、又は−Ｘ−Ａ−Ｘ−：直接結合。
【効果】安定でかつ効果的な光重合開始剤であり、とりわけフッ素を含有しないため、取り扱い、製造および廃棄において有利である。
【化１】


【化２】 （もっと読む）

【目的】 光の作用に対して、イメージ染料およびカラーカップラーを保護する特性を有する紫外線吸収剤を含む写真材料を提供すること。
【構成】 基材上に、青色−感光性、緑色−感光性、および／または赤色−感光性のハロゲン化銀の乳剤層、及び所望により保護層を含み、紫外線吸収剤を含む層が最上のハロゲン化銀の乳剤層と保護層の間、または最上のハロゲン化銀の乳剤層の上に配置されている写真材料において、該紫外線吸収剤が次式
【化１】


〔ｎは１または２を表わし、Ｒ₁₇及びＲ₁₈は互いに独立して、ＨまたはＣ１〜４のアルキル基を表わす〕で表わされる写真材料。 （もっと読む）