ルチル型二酸化チタン顔料を生産するための塩化プロセスで許容される研磨剤の条件に合う破砕強度及び密度にするため、アナターゼ型及びルチル型二酸化チタンのブレンドを焼成する。このようなブレンドを使用することによって、アナターゼ型二酸化チタンの転化は、同じ焼成条件の下でアナターゼ型二酸化チタンのみを焼成して観察される転化よりも多くなり、生成されたルチル型二酸化チタンから研磨剤の分離を必要とせずに、かなり高率で、より費用がかからず、より安価なアナターゼ型二酸化チタンを使用することができて、研磨剤を通常の添加率で使用することができ、混合された使用済みの研磨剤と生産されたルチル型二酸化チタンのルチル型含量を９９重量パーセント又はそれ以上に保つことができる。 （もっと読む）

二酸化チタンを製造するための改善方法であって、二酸化チタン鉱石を塩素と反応させて四塩化チタンを含有する気流を生成する工程と、四塩化チタンを含有する気流から四塩化チタンを凝縮してクロリネーター排ガスを生成する工程と、凝縮された四塩化チタンを気化させる工程と、気化された四塩化チタンを酸素と反応させて二酸化チタン粒子および塩素を含有する気流を生成する工程と、二酸化チタン粒子および塩素を含有する気流から二酸化チタン粒子を分離してバーナー排ガスを生成する工程と、クロリネーター排ガスを塩素について分析して二酸化チタン鉱石を塩素と反応させる工程を制御する工程および／またはバーナー排ガスを酸素について分析して気化された四塩化チタンを酸素と反応させる工程を制御する工程とによる改善方法。この改善は、クロリネーター排ガスに対する残留塩素の分析（および／またはバーナー排ガスに対する酸素の分析）を、オンライン分析装置を用いて行うことにある。 （もっと読む）

通気させた粉末の嵩密度を増加する方法および装置を提供する。粉末をコンテナ内に入れる。次いで、コンテナを密閉し、コンテナ内のガス圧力を、加圧ガスの本質的な部分が粉体内に拡散する前に粉末を圧縮させるのに十分な速度で、大気圧を超えるレベルまで上昇させる。１つの実施形態では、本発明による方法および装置は、例えばパッケージングの統一およびラテックスペイント塗料での分散の容易さを改善するために、通気され流動自在な二酸化チタン顔料の嵩密度を増加するのに利用される。
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二酸化チタンスラリーを製造する改善方法。ミクロナイザーからの生産物を冷却器に通して、蒸気を凝縮させ、二酸化チタンの水性スラリーを形成する。当業界において現状で実施されるように、蒸気からＴｉＯ_２を分離するための装置にミクロナイザー生産物を通す代わりに、スラリーは、次いで、大部分の場合、所望されるようにさらに濃縮するか、さらに濃縮することなく販売するか使用することが可能である。冷却器から得られるスラリーは、さらなる精製において、スラリーから二酸化チタン固体が分離して沈降することを防止するのに役立つ分散剤および沈降防止化合物と一緒に、攪拌式の貯蔵タンクに供給される。蒸気／顔料混合物の凝縮を容易にするために、凝縮スラリーの一部をよりいっそう進んだ精製において、スラリー貯蔵タンクから熱交換器に汲み上げる。次いで、冷却器中の蒸気の凝縮を容易にするために、熱交換器からの生成物を冷却器に供給する。冷却器に向かう冷却された凝縮物の温度および容量（流量）は、蒸気と含有顔料とが実質的にすべて冷却器から収集されるように、蒸気の量およびその温度が調節される。
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新規な、円周状のエアナイフであって、エアナイフの内部壁に沿ってガス流を噴射する。エアナイフは懸濁容器の入口に又は入口近くに配置され、懸濁容器に運搬される固体物質が集まるのを低減する。ガス流はエアナイフの壁（したがって、懸濁容器の入口）に固体物質が集まるのを低減するのに十分な速度で噴射される。空気が円周状のエアナイフは、懸濁容器の入口において吸湿性サイクロンダストの集まりを低減するため、特にTiCl_４の生産方法において有用である。
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【課題】
【解決手段】
式Ｌｉ［Ｌｉ_{（１−２ｘ）／３}Ｍ_ｙＭｎ_{（２−ｘ）３}Ｎｉ_{（ｘ−ｙ）}］Ｏ_２、ここで、０＜ｘ＜０．５、０＜ｙ＜０．２５、ｘ＞ｙであり、ＭはＣａ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｚｎからの１又はそれ以上の２価カチオンである、を有する高電圧、高エネルギリチウム充電式バッテリに特に適した層間カソード材料。この材料の製法も提供されている。 （もっと読む）

四塩化チタンを製造する流動床反応装置（１０）のガス状生成物中の一酸化炭素の二酸化炭素に対する濃度比を決定するための方法。反応装置の熱い流動床を赤外線の供給源として使用する。赤外線（１８）は、反応装置の窓（１５）を経て反応装置の上位部におけるガス状生成物を通過し、赤外分光計（１９）に向かって誘導される。濃度比を使用して、反応装置に導入される冷たい四塩化チタンの量を制御することによって、流動床反応装置（１０）の温度を制御することが可能である。
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