【課題】 高い安定性と工程マージンを保障し、銅を含む金属層を均等にテーパエッチングすることができる優れたエッチング液を提供する。
【解決手段】 本発明は液晶表示装置の回路パターンに使用される銅配線をエッチングするエッチング液組成物に関するものである。本発明のエッチング液組成物は過硫酸アンモニウムとアゾール系化合物を含む。本発明のエッチング液組成物は過酸化水素を含有しないので安定性と工程上マージンを確保することができ、優れたテーパエッチングプロファイルを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト除去用組成物及びこれを使用したレジストの除去及び分解方法に関し、より詳細には、カーバメート系化合物を含むレジスト除去用組成物に関する。本発明のレジスト除去用組成物は、オゾンによる工程中にレジストの除去によって発生するレジスト残留物を選択的に分解して、処理枚数を飛躍的に向上させて、金属配線または酸化膜の腐食を防止する効果がある。
【解決手段】（ａ）環状ラクトン系化合物及び（ｂ）アミド系化合物、カーバメート系化合物、またはこれらの混合物を含むレジスト除去用組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電子回路または表示素子をパターニングするレジスト除去用組成物のうち、配線金属の腐蝕を防止することができるレジスト除去用組成物に関する。本発明によるレジスト除去用組成物は、フォトレジストを除去する工程時間に配線金属を腐蝕させず、除去力が非常に優れている。
【解決手段】本発明は、ａ）ジアミン化合物を１〜２０重量％、及びｂ）グリコールエーテル化合物を残部で含むレジスト除去用組成物を提供する。前記組成物は極性溶媒をさらに含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。
【解決手段】液晶表示装置回路、半導体集積回路などの微細回路の製造に使用されるフォトレジスト組成物に関し、より詳しくはａ）下記の化学式で示されるノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系感光性化合物、及びｃ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物に関するものである。
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【課題】フォトレジスト膜の感光速度、残膜率、現像コントラスト、解像度、高分子樹脂の溶解性、基板との接着力及び回路線幅均一度を向上させることができるフォトレジスト組成物。前記フォトレジスト組成物を利用して製造される液晶表示装置または半導体素子。
【解決手段】ａ）下記化学式で示されるノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系感光性化合物、及びｃ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物。


（Ｒは水素、-ＯＨまたは-ＣＨ_３であり、ｎは３乃至２０の整数である。） （もっと読む）

【課題】感光速度、残膜率、現像コントラスト、解像度、高分子樹脂の溶解性、基板との接着力及び回路線幅均一度の優れたフォトレジスト組成物。前記フォトレジスト組成物を利用して製造される液晶表示装置または半導体素子。
【解決手段】ａ）下記化学式で示されるノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系感光性化合物、及びｃ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物。


（Ｒは水素、-ＯＨまたは-ＣＨ_３であり、ｎは３乃至２０の整数である。） （もっと読む）

本発明は分子内ビス（フェニルカルバゾール）基を有するシリコン系化合物及びこれを利用した有機発光素子の有機薄膜層形成方法に関するものであって、特に本発明の化合物は、青色発光特性及びホール伝達特性に優れ、同時に青色発光材料として使用したり赤色、緑色、青色、白色などのような多様な燐光または蛍光ドーパントに対してホストとして使用できるだけでなく、電気化学的蒸着方法を通して有機発光素子への適用が可能であり、高効率発光が可能で、低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる分子内ビス（フェニルカルバゾール）基を有するシリコン系化合物及びこれを利用した有機発光素子の有機薄膜層形成方法に関するものである。
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本発明は、（ａ）アクリレート高分子樹脂５〜３０重量％；（ｂ）架橋性オリゴマー５〜３０重量％；（ｃ）光重合開始剤０．１〜５重量％；および（ｄ）金属粉末５０〜８５重量％を含む印刷用ペースト組成物を提供する。本発明による印刷用ペースト組成物は、微細パターンを直接形成することができるグラビアオフセット印刷に特に適し、従来のフォトリソグラフィ方法を利用したプラズマディスプレイパネルの電極パターンや電磁波遮蔽用微細電極の製造時に発生する材料の再処理問題点を根本的に解決することができ、同時に適切なオフセット印刷特性の発揮のためにそれぞれの印刷工程に要求されるペースト組成物の多様な要求物性を充足させることができる。 （もっと読む）

本発明は、電気化学的蒸着による有機発光素子の有機薄膜層製造方法を提供し、特にアノードとカソードの間に一つ以上の有機薄膜層を含む有機発光素子の有機薄膜層形成方法において、前記有機薄膜層を分子内にビス（フェニルカルバゾール）（Bis（phenylcarbazol））基を有する化合物の電気化学的蒸着によって形成することを特徴とする。本発明による有機発光素子の有機薄膜層製造方法は、購入及び製造が容易な単分子化合物を利用して、工程が簡単で生産性が高く、形成される薄膜層の厚さ調節が容易であり、基板との接着性に優れているだけでなく、特にＯＬＥＤ素子に２つ以上の有機薄膜層を製造する時、後の有機薄膜層形成過程で、先に形成された有機薄膜層に発生する浸食（erosion）現象を根本的に改善し、形態安定性に優れている有機発光素子の有機薄膜層製造方法を提供する。
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【課題】 本発明は、フィルターの前に浮遊物を除去できる表示装置の製造システムに関するものである。
【解決手段】 表示装置の製造システムは、作業流体を利用して、表示パネルに形成される被作業部材のうちの不要な部位を除去する作業チャンバー、作業チャンバーから排出される作業流体に暴露されて、作業流体に含まれている被作業部材の破砕成分である浮遊物を濾過する浮遊物濾過ユニット、浮遊物濾過ユニットから排出される作業流体に暴露されて、作業流体に含まれている被作業部材の成分を濾過するフィルター、そして、フィルターで被作業部材成分が濾過された作業流体を貯蔵する流体貯蔵槽を含む。 （もっと読む）