【課題】本発明はレジスト膜の除去力が優れており、薬液疲労度が少ないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】本発明はレジスト除去用組成物に関し、より詳しくは酸素二重結合を有する環状化合物、グリコール系化合物、及びカーボネート系化合物で構成される群より選択される化合物を利用するレジスト除去用組成物に関する。本発明のレジスト除去用組成物はラクトン系化合物、アミン又は有機酸、酸化剤、又はこれらの混合物をさらに含むことができる。本発明のレジスト除去用組成物は電子回路又は表示素子の金属配線をパターンするレジスト除去に使用されて、パターン化された金属膜の上部に残留するレジストを除去する除去力が優れており、高温で揮発に応じた組成変化及び薬液疲労度が微細で、パターン化された金属膜の腐食を最少化できる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、液晶表示装置回路、半導体集積回路などの微細回路の製造に使用されるフォトレジスト組成物に関する。本発明によるフォトレジスト組成物は、流動性向上剤及び感度増進剤を使用することによって、強い減圧乾燥によるパターンの変形を防止し、パターン均一度を向上させて、感光速度、残膜率、現像コントラスト、解像度、高分子樹脂の溶解性、基板との接着力、及び回路線幅均一度が同時に優れている長所がある。
【解決手段】
本発明によるフォトレジスト組成物は、（ａ）ノボラック樹脂、（ｂ）ジアジド系感光性化合物、（ｃ）流動性向上剤、（ｄ）感度増進剤、及び（ｅ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物及び前記フォトレジスト組成物を用いる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物はフェノール系重合体を含むバインダ樹脂１０〜７０重量％、光酸発生剤０．５〜１０重量％、架橋結合剤１〜２０重量％、染料０．１〜５重量％及び溶媒１０〜８０重量％を含む。前記フォトレジスト組成物は４枚マスクを用いた薄膜トランジスタ基板の製造工程に適用される。前記フォトレジスト組成物は薄膜トランジスタ基板の製造工程の際フォトレジスト層を形成し前記フォトレジスト層はスリット露光によって安定的にハーフトーンを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物を用いたパターンの形成方法、薄膜トランジスタ表示板の製造方法に関し、チャンネル領域に残っているフォトレジストの量を均一にして、半導体層の末端の突出を減少させる。
【解決手段】基板上にゲート線を形成する段階、前記ゲート線上にゲート絶縁膜及び半導体層を形成する段階、前記半導体層上にデータ層を形成する段階、前記データ層上にアルカリ可溶性樹脂及びｐ−クレゾールの４核体からなる感光性化合物を含むレジスト膜を形成する段階、前記レジスト膜をパターニングし、このレジストパターンをエッチングマスクとして利用して前記データ層を１次エッチングする段階、このデータ層をエッチングマスクとして半導体層をエッチングする段階、前記レジストパターンをリフローする段階、このレジストパターンをエッチングマスクとして利用して前記データ層を２次エッチングする段階を含む、薄膜トランジスタ表示板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置において、山構造を有する有機膜パターンの裾部を含む表面における凹凸の発生を防止できるような、感光性樹脂組成物と、これを用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び共通電極基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 感光性樹脂組成物が、（Ａ）イソボニルカルボキシレート系化合物５〜６０重量％と、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物１０〜４０重量％と、エポキシ基含有不飽和化合物２０〜４０重量％と、オレフィン系不飽和化合物２０〜４０重量％と、を共重合させて得られたアクリル系共重合体１００重量部、及び（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む。 （もっと読む）

【課題】 従来の感光性樹脂組成物に比べて光に対する感度が優れていて、レーザーによる直接露光でマスクなく高解像度のパターン形成が可能なフォトレジスト用感光性組成物、その製造方法及びそれを含むドライフィルムレジストを提供する。
【解決手段】 本発明は感光性樹脂組成物、その製造方法及びこれを含むドライフィルムレジストに関し、より詳しくは、a）アルカリ可溶性アクリレート樹脂、b）少なくとも２つのエチレン性二重結合を持つ架橋性モノマー、及びc）ホスフィンオキシド系光重合開始剤及びアクリドン系光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物、その製造方法及びそれを含むドライフィルムレジストに関する。 （もっと読む）

【課題】 無機物と有機物に対する接着力に優れた感光性組成物を提供し、前記感光性組成物を含む隔壁形成用感光性ペースト組成物を提供する。また、前記感光性組成物を利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性組成物、これを含む隔壁形成用感光性ペースト組成物、及びこれを利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関し、より詳しくは２つ以上のエチレン性二重結合を有する架橋性単量体と、光重合開始剤と、有機溶媒を含む感光性組成物、これを含む隔壁形成用感光性ペースト組成物、及びこれを利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット方式、特にピエゾ方式のインクジェット印刷でヘッドの汚染を減らしてノズル詰り現象がなく、顔料との分散性に優れたインク組成物及びこのインク組成物を利用して優れた色純度及び均一なパターン形成が可能なカラーフィルターを提供する。
【解決手段】 本発明は硬化性バインダー、モノマー、重合開始剤、顔料及びジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（DPMA）を含有する溶剤を含み、顔料との分散性が優れていてインクジェット印刷時にヘッドの汚染が少ないためにノズル詰り現象がないピエゾ方式のインクジェットインク組成物を提供し、また、前記インク組成物を利用して優れた色純度及び均一なパターン形成が可能なカラーフィルターを提供する。 （もっと読む）

【課題】 環状アミンの活性化を促進して剥離力を向上することができるフォトレジスト剥離液組成物を提供する。また、環状アミンの活性化を促進して剥離力を向上させ、同時に金属配線に対する腐蝕影響性を最少化するフォトレジスト除去用剥離液組成物を提供する。
【解決手段】 本発明はフォトレジスト剥離液組成物に関し、環状アミン、溶剤及び剥離促進剤を含むフォトレジスト剥離液組成物を提供する。また、本発明は環状アミン、溶剤、腐蝕防止剤及び剥離促進剤を含むフォトレジスト剥離液組成物を提供する。
本発明のフォトレジスト剥離液組成物は現在ＬＣＤモジュール製作でイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）リンスを適用する一般的な工程だけでなく、ＩＰＡリンス工程を省略する最近の工程に適用する時、金属配線に対する追加的な腐蝕影響がなく、特に剥離力を大きく向上させることができる。 （もっと読む）