説明

株式会社ダン・タクマにより出願された特許

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【課題】ウエーハなどの保管対象物をより良い条件で保管可能なシステムおよび方法を提供すること。不活性ガスの消費量を削減可能なシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】保管対象物2を密閉状に収納可能で、内部から外部への気体の移動と外部から内部への気体の移動とを許す制御ポート4a,4bを備えた保管容器4と、保管容器4を収納する真空チャンバーCnと、真空チャンバーCnと真空減圧装置P,5とを接続する排気経路Rdnと、真空チャンバーCnと不活性ガス供給手段7とを接続する不活性ガス供給経路Rpnとを備え、真空チャンバーCn内を真空に保持する真空保管モードと、保管容器の出庫に際して、真空チャンバーCnと保管容器4とを不活性ガスで満たすべく対応する不活性ガス供給経路Rpnを開放状態にする出庫準備モードとを有する保管システム。 (もっと読む)


【課題】真空容器に栓開閉装置を設ける必要がなく、気体制御ポートが収納容器のどの箇所に配置されていても確実な気体置換操作を容易に且つ効率的に実施可能な気体置換装置および気体置換方法を提供する。
【解決手段】内部と外部の間の気体の移動を内外の圧力差に基づいて許す気体制御ポート3a,3bを備えた収納容器2、収納容器2を収納可能な密封式の置換操作容器7、置換操作容器7内部を減圧する減圧装置15、置換操作容器7内部に不活性ガスを供給するガス供給装置16を設け、減圧装置15による置換操作容器7内部の減圧によって収納容器2内が気体制御ポート3aを介して減圧化され、ガス供給装置16による不活性ガス供給によって、気体制御ポート3bを介して収納容器2に不活性ガスが満たされる構成にした。 (もっと読む)


【課題】パージガスの消費量を削減可能なシリコンウエーハなどの保管対象物の保管システムを提供する。
【解決手段】保管対象物SWを密封状に収納可能で且つパージ用ガスのための導入口6aおよび排出口6bを備えた密封容器5と、密封容器5を載置可能な保管ユニット1a,3と、密封容器5にパージガスを供給するガス供給経路4a,4bとを備え、保管ユニット1a,3には、密封容器5の保管ユニット1a,3への載置に基づいて、導入口6aをガス供給経路4a,4bと連通接続させ、パージガスの導入を開始させる自動パージ機構8が設けられており、保管ユニット1a,3に新たに載置された密封容器5に第1流量のパージガスを一定期間に渡って導入し、一定期間の経過後に第1流量を下回る第2流量のパージガスを導入開始する制御装置40を有する保管システム50とした。 (もっと読む)


【課題】内部への樹脂由来のガスの放散を抑制できる半導体用ケースを提供する。
【解決手段】少なくとも内側面が樹脂で構成され、レチクルまたはウェハを収容するケース本体と、内側面を被覆すると共に、内側面から樹脂に含まれる気化物質が放散することを防止するダイヤモンドライクカーボン膜とを備えた。 (もっと読む)


【課題】本発明は、クリーンルームの壁面等に簡単に取り付けることができる小型で簡単な構造のシャワールーム装置を提供することを課題とする。
【解決手段】エアーシャワー装置10は、クリーンルームとは別個の移動可能な構造体であり、骨組み構造体11に取り付けられた壁面部材によりエアーシャワー空間17が画成される。第1の入出口は壁面部材に形成された開閉ドアであり、第2の入出口は壁面部材が設けられない面である。骨組み構造体11はパイプ材により構成され、空気通路は骨組み構造体の一部であるパイプ材により形成される。パイプ材に塵埃除去用プレフィルタ15が設けられる。 (もっと読む)


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